JPH04320044A - Semiconductor device, and method and apparatus for testing semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device, and method and apparatus for testing semiconductor device

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JPH04320044A
JPH04320044A JP11689691A JP11689691A JPH04320044A JP H04320044 A JPH04320044 A JP H04320044A JP 11689691 A JP11689691 A JP 11689691A JP 11689691 A JP11689691 A JP 11689691A JP H04320044 A JPH04320044 A JP H04320044A
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Abstract

PURPOSE:To enable a simultaneous test of a plurality of chips on a semiconductor wafer to be conducted with fewer probes by using common lines for supplying source potential, ground potential, and drive signal to different chips. CONSTITUTION:Probes 36-40 of a probe card 31 of a tester are brought into contact with input pads 6-10 of one semiconductor chip 2 on a wafer 1. Source potential, ground potential, and drive signal supplied to the chip are also given to input pads 6-10 of other chips 3-5 on the wafer through nodes 45-49 and common lines 12-16. Test results are obtained at probes 41-43 in contact with the output pads 11 of chips 2-5.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】この発明は、半導体装置,その試
験方法及びその試験装置に関し、特に同一ウエハ上に形
成された複数の半導体装置を同時に一括して試験できる
半導体装置の構成,その試験方法及び試験装置のプロー
ブカードに関するものである。
[Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor device, a testing method thereof, and a testing device thereof, and in particular, a structure of a semiconductor device that can simultaneously test a plurality of semiconductor devices formed on the same wafer, and a testing method thereof. and probe cards for test equipment.

【0002】0002

【従来の技術】一般に、半導体集積回路(IC)の製造
工程では、IC試験のためウエハプローバと称する試験
装置を用いて、半導体ウエハ上に形成された半導体装置
の電気的特性が測定される。図3は、従来のウエハプロ
ーバを理解しやすくするため、これを分解して示した斜
視図であり、特に、同図(a) はテストヘッド、同図
(b)はプローブカード、同図(c) はウエハの一部
を示している。また図4は上記プローブカードをその下
側から見た斜視図であり、図5はウエハ上の電極パッド
に細長い導電針(以下、プローブ針と称する)が接触し
ている状態を示す部分拡大斜視図である。また、図6は
従来のウエハプローバの使用状態を示す断面図である。
2. Description of the Related Art Generally, in the manufacturing process of semiconductor integrated circuits (ICs), electrical characteristics of semiconductor devices formed on a semiconductor wafer are measured using a testing device called a wafer prober for IC testing. Figure 3 is an exploded perspective view of a conventional wafer prober in order to make it easier to understand. In particular, figure (a) shows the test head, figure (b) shows the probe card, and figure 3 (b) shows the test head. c) shows a part of the wafer. Further, FIG. 4 is a perspective view of the probe card seen from below, and FIG. 5 is a partially enlarged perspective view showing a state in which elongated conductive needles (hereinafter referred to as probe needles) are in contact with electrode pads on a wafer. It is a diagram. Further, FIG. 6 is a cross-sectional view showing a state in which a conventional wafer prober is used.

【0003】次に、図3〜図6を参照して、従来のウエ
ハプローバの構成について説明する。図3において、5
3は半導体ウエハで、その表面81に縦横に設けられた
スクライブライン82により多数の所定の回路素子が形
成される半導体チップ領域83と、この半導体チップ領
域83の周囲に位置するダイシング部85に区画されて
おり、ダイシング部85に位置するスクライブライン8
2を切断することにより上記半導体ウエハ53から半導
体チップを切り出すことができる。各半導体チップ領域
83には、LSI(Large  Scale  In
tegration)等の半導体装置が作り込まれてお
り、その半導体装置を構成する回路素子を取り囲むよう
に電源供給,接地及び信号入出力のための電極パッド8
4が多数設けられている。
Next, the structure of a conventional wafer prober will be described with reference to FIGS. 3 to 6. In Figure 3, 5
Reference numeral 3 denotes a semiconductor wafer, which is divided into a semiconductor chip region 83 in which a large number of predetermined circuit elements are formed by scribe lines 82 provided vertically and horizontally on its surface 81, and a dicing section 85 located around this semiconductor chip region 83. The scribe line 8 located in the dicing section 85
By cutting 2, semiconductor chips can be cut out from the semiconductor wafer 53. Each semiconductor chip area 83 includes an LSI (Large Scale In
Electrode pads 8 for power supply, grounding, and signal input/output surround the circuit elements that make up the semiconductor device.
4 are provided in large numbers.

【0004】同図の例では、2個の半導体チップを単位
としてテストできるように、隣接する2個の半導体チッ
プ領域83上にある各電極パッド84に対面するように
、プローブカード52には多数の細長いプローブ針71
が設けられている。このプローブ針71はタングステン
,クロムまたはタングステン−クロム合金等からなり、
図4に示すように、絶縁材料からなるプローブカード5
2の裏面側に樹脂からなるリング部材72で固定され、
さらに、プローブカード52の表面側に設けられた金属
パターン配線73に半田74等により電気的に接続され
ている。
In the example shown in the figure, in order to test two semiconductor chips as a unit, the probe card 52 has a large number of probes facing each electrode pad 84 on two adjacent semiconductor chip areas 83. long and thin probe needle 71
is provided. This probe needle 71 is made of tungsten, chromium, tungsten-chromium alloy, etc.
As shown in FIG. 4, a probe card 5 made of an insulating material
2 with a ring member 72 made of resin,
Further, it is electrically connected to metal pattern wiring 73 provided on the front side of the probe card 52 by solder 74 or the like.

【0005】ここで、上記電極パッド84の表面上にプ
ローブ針71が接触する表面積は約50〜100μmφ
、プローブカード52側に接続されるプローブ針71の
外径は200〜300μmφ程度である。プローブカー
ド52上に形成される金属パターン配線73は、スルー
ホール75を介してプローブ針71が接続される側の表
面と反対側の表面上に形成された金属パターン配線76
に電気的に接続されている。この金属パターン配線76
は、上記反対側の表面に設けられた比較的大きな平面積
を有する金属膜77に電気的に接続されている。
Here, the surface area of the electrode pad 84 that the probe needle 71 contacts is approximately 50 to 100 μmφ.
The outer diameter of the probe needle 71 connected to the probe card 52 side is approximately 200 to 300 μmφ. The metal pattern wiring 73 formed on the probe card 52 includes a metal pattern wiring 76 formed on the surface opposite to the surface to which the probe needle 71 is connected via the through hole 75.
electrically connected to. This metal pattern wiring 76
is electrically connected to a metal film 77 provided on the opposite surface and having a relatively large planar area.

【0006】図3(b) には、スルーホール75,金
属パターン配線76及び金属膜77がそれぞれ4個ずつ
示されているが、これらは各プローブ針71ごとに設け
られているものとする。なお、プローブカード52には
プローブ針71が電極パッド84に接触していることを
目視確認するための開口部78が設けられている。
FIG. 3B shows four through holes 75, four metal pattern wirings 76, and four metal films 77, and it is assumed that these are provided for each probe needle 71. Note that the probe card 52 is provided with an opening 78 for visually confirming that the probe needle 71 is in contact with the electrode pad 84.

【0007】図3(a) に示すテストヘッド51は、
LSI等からなる論理回路が正常に動作するか否かを試
験する機能動作試験や、所定の負荷をかけたとき正常な
出力電圧を維持するか否かを試験するDC試験等により
LSIの良否を判定するための試験装置(以下、ICテ
スタと称す)のヘッドである。テストヘッド51の開口
部61のまわりには、上記プローブカード52の各金属
膜77に対面するようにポゴピン62が設けられるが、
同図では、簡略化のため数本のポゴピン62のみが示さ
れている。ポゴピン62は試験のための信号をLSIに
与え、かつLSIから試験結果の出力信号を受取るため
のものである。
The test head 51 shown in FIG. 3(a) is
The quality of LSIs is determined through functional operation tests that test whether logic circuits made of LSIs etc. operate normally, and DC tests that test whether a normal output voltage is maintained when a specified load is applied. This is the head of a test device (hereinafter referred to as an IC tester) for making a determination. Pogo pins 62 are provided around the opening 61 of the test head 51 so as to face each metal film 77 of the probe card 52.
In the figure, only a few pogo pins 62 are shown for simplicity. The pogo pin 62 is used to provide a test signal to the LSI and to receive a test result output signal from the LSI.

【0008】図6において、ウエハ53はウエハチャッ
ク54上に載置され固定されている。ウエハチャック5
4は移動機構55によって、互いに直交する3方向に移
動可能になっている。プローブカード52はウエハプロ
ーバの基板固定部56に指示固定され、プローブカード
52の金属膜77には、テストヘッド51のポゴピン6
2が圧着接触している。
In FIG. 6, a wafer 53 is placed and fixed on a wafer chuck 54. As shown in FIG. Wafer chuck 5
4 is movable in three mutually orthogonal directions by a moving mechanism 55. The probe card 52 is fixed to the substrate fixing part 56 of the wafer prober, and the pogo pins 6 of the test head 51 are attached to the metal film 77 of the probe card 52.
2 are in crimp contact.

【0009】次に、上述のようなウエハプローバを用い
てウエハ状態のままで半導体装置の電気的特性試験を行
う手順について説明する。ウエハ84は移動機構55を
用いて、ウエハチャック54上に固定されているウエハ
53内のいずれか2つの半導体チップ領域83の各電極
パッド84と、プローブカード52上に固定されている
各プローブ針71とが対向して接触するように位置合わ
せされる。プローブ針71は、ウエハチャック54が図
7に示すA方向に動作することによって、電極パッド8
4の表面上に接触する。
Next, a procedure for testing the electrical characteristics of a semiconductor device in a wafer state using the above-described wafer prober will be described. The wafer 84 is moved using the moving mechanism 55 to move each electrode pad 84 of any two semiconductor chip areas 83 in the wafer 53 fixed on the wafer chuck 54 and each probe needle fixed on the probe card 52. 71 are aligned so that they face each other and are in contact with each other. The probe needle 71 is moved to the electrode pad 8 by moving the wafer chuck 54 in the direction A shown in FIG.
Contact on the surface of 4.

【0010】LSIに与えられる信号波形は、テストヘ
ッド51で形成され、ポゴピン62により出力される。 ポゴピン62は、プローブカード52の金属膜77に圧
着接触されているため、テストヘッド51からの信号は
金属膜77から延びた金属パターン配線76,スルーホ
ール75及び金属パターン配線73を介して、半田付け
されたプローブ針71に伝達され、プローブ針71に圧
着接触している電極パッド84から半導体チップ領域8
3内のLSIに供給される。LSIからの出力信号は上
述とは逆経路でテストヘッド51に与えられ、テストヘ
ッド51からICテスタ(図示せず)に与えられる。こ
のようにして、LSIの電気的特性試験が行われる。
A signal waveform applied to the LSI is formed by the test head 51 and outputted by the pogo pin 62. Since the pogo pin 62 is in pressure contact with the metal film 77 of the probe card 52, the signal from the test head 51 is passed through the metal pattern wiring 76 extending from the metal film 77, the through hole 75, and the metal pattern wiring 73, and soldered. The semiconductor chip area 8 is transmitted from the electrode pad 84 that is in pressure contact with the probe needle 71 to the attached probe needle 71 .
It is supplied to LSI in 3. The output signal from the LSI is applied to the test head 51 through a reverse path to that described above, and from the test head 51 to an IC tester (not shown). In this way, the electrical characteristics test of the LSI is performed.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】従来の半導体装置,そ
の試験方法及びその試験装置は以上のように構成されて
いるので、多数の半導体チップを同時に測定するには、
その半導体チップの数に応じてプローブカードに接続さ
れるプローブ針の本数を増加させる必要があるため、試
験装置よりウエハ上の全ての半導体チップに対して信号
を入力、又はウエハ上の全ての半導体チップから試験装
置へ出力するのが困難となり、同時に試験できる半導体
チップの個数は数個が限度であるという問題があった。
[Problem to be Solved by the Invention] Since the conventional semiconductor device, its testing method, and its testing apparatus are configured as described above, in order to simultaneously measure a large number of semiconductor chips, it is necessary to
Since it is necessary to increase the number of probe needles connected to the probe card according to the number of semiconductor chips, it is necessary to input signals from the test equipment to all semiconductor chips on the wafer, or to connect all the semiconductor chips on the wafer. There is a problem in that it becomes difficult to output from the chip to the test equipment, and the number of semiconductor chips that can be tested at the same time is limited to a few.

【0012】この発明は上記のような問題点を解決する
ためになされたもので、同一ウエハ上に形成されたより
多数の半導体装置を同時に一括して試験できる半導体装
置とその試験方法及び試験装置を得ることを目的とする
The present invention was made in order to solve the above-mentioned problems, and provides a semiconductor device, a test method therefor, and a test apparatus that can simultaneously test a larger number of semiconductor devices formed on the same wafer. The purpose is to obtain.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体装
置は、表面に所定の回路素子が形成された半導体基板と
、半導体基板の表面上に形成され、電源電位及び接地電
位の供給並びに信号の入力及び出力のための複数のパッ
ドと、これらのパッドに対応して上記半導体基板の表面
上に設けられ、対応したパッドと電気的に接続されると
ともに通常使用時に電気的に切断されている複数の配線
とを備えたものである。
[Means for Solving the Problems] A semiconductor device according to the present invention includes a semiconductor substrate having a predetermined circuit element formed on the surface thereof, and a semiconductor device formed on the surface of the semiconductor substrate that supplies a power supply potential and a ground potential as well as a signal. A plurality of pads for input and output, and a plurality of pads provided on the surface of the semiconductor substrate corresponding to these pads, electrically connected to the corresponding pads, and electrically disconnected during normal use. It is equipped with the following wiring.

【0014】またこの発明に係る半導体装置の試験方法
は、表面に所定の回路素子が形成され、かつ表面上に電
源電位及び接地電位の供給並びに信号の入力及び出力の
ための複数のパッドが形成される半導体基板を複数有し
た半導体ウエハにおける少なくとも2以上の上記半導体
基板に形成される対応した電源電位及び接地電位の供給
のためのパッド並びに信号の入力のためのパッド同士を
電気的に接続し、対応したパッド同士が電気的に接続さ
れた複数の半導体基板のうちの1つの半導体基板におけ
る電気的に接続された複数のパッドに対してそれぞれ電
源電位及び接地電位を供給するとともに試験用の駆動信
号を供給し、対応したパッド同士が電気的に接続された
複数の半導体基板の出力のためのパッドそれぞれから試
験結果を検出するものである。
[0014] Furthermore, in the semiconductor device testing method according to the present invention, a predetermined circuit element is formed on the surface, and a plurality of pads for supplying a power supply potential and a ground potential and for inputting and outputting signals are formed on the surface. In a semiconductor wafer having a plurality of semiconductor substrates, pads for supplying corresponding power supply potential and ground potential and pads for inputting signals formed on at least two or more semiconductor substrates are electrically connected to each other. , supplies a power supply potential and a ground potential to each of the electrically connected pads on one semiconductor substrate among the plurality of semiconductor substrates whose corresponding pads are electrically connected to each other, and drives the test drive. A test result is detected from each output pad of a plurality of semiconductor substrates in which a signal is supplied and corresponding pads are electrically connected to each other.

【0015】またこの発明に係る半導体装置の試験装置
は、表面に所定の回路素子が形成され、かつ表面上に電
源電位及び接地電位の供給並びに信号の入力及び出力の
ための複数のパッドが形成される半導体基板を複数有し
、少なくとも2以上の半導体基板に形成される対応した
電源電位及び接地電位の供給のためのパッド並びに信号
の入力のためのパッド同士が電気的に接続された半導体
ウエハにおける対応したパッド同士が電気的に接続され
た複数の半導体基板のうちの1つの半導体基板における
電気的に接続された複数のパッドに対してそれぞれ電源
電位及び接地電位を供給するとともに試験用の駆動信号
を供給するための複数のプローブ針と、対応したパッド
同士が電気的に接続された複数の半導体基板の出力のた
めのパッドそれぞれから試験結果を検出するための複数
のプローブ針とを備えたものである。
Further, in the semiconductor device testing apparatus according to the present invention, a predetermined circuit element is formed on the surface, and a plurality of pads are formed on the surface for supplying a power supply potential and a ground potential, and for inputting and outputting signals. A semiconductor wafer having a plurality of semiconductor substrates formed on at least two or more semiconductor substrates and having corresponding pads for supplying power supply potential and ground potential and pads for inputting signals electrically connected to each other. Supplying a power supply potential and a ground potential to each of the electrically connected pads on one semiconductor substrate of the plurality of semiconductor substrates in which corresponding pads are electrically connected, and driving for testing. Equipped with a plurality of probe needles for supplying signals and a plurality of probe needles for detecting test results from each output pad of a plurality of semiconductor substrates in which corresponding pads are electrically connected to each other. It is something.

【0016】[0016]

【作用】この発明における半導体装置は上記構成とした
ので、同一ウエハ上に複数形成された半導体装置間の電
源電位,接地電位及び駆動信号等を上記配線により共有
することができ、複数の半導体装置を半導体ウエハの状
態で一括して短時間にテストすることができる。
[Operation] Since the semiconductor device according to the present invention has the above structure, the power supply potential, ground potential, drive signal, etc. can be shared between the plurality of semiconductor devices formed on the same wafer through the above wiring, and the plurality of semiconductor devices can be tested all at once on semiconductor wafers in a short time.

【0017】またこの発明における半導体装置の試験方
法は上記構成としたので、複数の半導体基板のうちの1
つの半導体基板上の電気的に接続された複数のパッドに
対して、それぞれ電源電位及び接地電位を供給するとと
もに駆動信号を供給するだけで残りの半導体装置へも同
様に供給され、その試験結果を複数の半導体基板の出力
のためのパッドそれぞれから検出することによって、個
々の半導体チップに切り出す前の半導体ウエハの状態で
複数の半導体装置を一括して短時間にテストすることが
できる。
Furthermore, since the semiconductor device testing method according to the present invention has the above configuration, one of the plurality of semiconductor substrates is
By simply supplying a power supply potential and a ground potential as well as drive signals to multiple electrically connected pads on one semiconductor substrate, the remaining semiconductor devices are similarly supplied, and the test results are transmitted. By detecting from each output pad of a plurality of semiconductor substrates, a plurality of semiconductor devices can be collectively tested in a short time in the state of a semiconductor wafer before being cut into individual semiconductor chips.

【0018】またこの発明における半導体装置の試験装
置は上記構成としたので、複数の半導体基板のうちの1
つの半導体基板上に形成される複数のパッドに対して、
それぞれ電源電位及び接地電位を供給するとともに信号
を供給するための複数のプローブ針と、複数の半導体基
板上の出力のためのパッドから試験結果をそれぞれ検出
するための複数のプローブ針だけで、個々の半導体チッ
プに切り出す前の半導体ウエハの状態で複数の半導体装
置を一括して試験することができる。
Further, since the semiconductor device testing apparatus according to the present invention has the above configuration, one of the plurality of semiconductor substrates is
For multiple pads formed on one semiconductor substrate,
The individual A plurality of semiconductor devices can be tested at once in the state of a semiconductor wafer before being cut into semiconductor chips.

【0019】[0019]

【実施例】図1(a) はこの発明の一実施例による半
導体装置を説明するための図であり、図において1は半
導体ウエハでその上の複数の素子領域2a〜5aには複
数の素子及び入,出力パッド6〜11が形成されている
。これらの入力パッド6〜10へ駆動信号を入力して自
己の領域内に形成された素子を自己試験しその試験結果
を出力パッド11に出力する試験回路を有しているので
、半導体ウエハの状態で各素子領域内の素子を試験でき
るようになっている。また2〜5はこれらの素子領域2
a〜5aとスクライブラインによって切断された素子領
域2a〜5aの周囲に位置するダイシング部30とを個
々の半導体チップに切り出してなる半導体装置である。 そして本実施例において半導体ウエハ1は、その上の複
数の素子領域2a〜5aについて、同一の入力信号を受
ける入力パッド6〜10を相互に接続する複数の共通配
線12〜16を有している。このような構造の半導体ウ
エハ1上の各素子領域2a〜5aの入,出力パッド6〜
11と試験装置のプローブカードのプローブ針とを接触
させて電気的に接続することにより、半導体装置の試験
を行うものである。
[Embodiment] FIG. 1(a) is a diagram for explaining a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. In the figure, 1 is a semiconductor wafer, and a plurality of element regions 2a to 5a on the semiconductor wafer are provided with a plurality of elements. and input and output pads 6 to 11 are formed. Since it has a test circuit that inputs drive signals to these input pads 6 to 10 to self-test the elements formed within its own area and outputs the test results to the output pad 11, it is possible to check the state of the semiconductor wafer. It is now possible to test the elements within each element area. 2 to 5 are these element regions 2
This is a semiconductor device formed by cutting into individual semiconductor chips a to 5a and a dicing section 30 located around the element regions 2a to 5a cut by the scribe line. In this embodiment, the semiconductor wafer 1 has a plurality of common wiring lines 12 to 16 that interconnect input pads 6 to 10 that receive the same input signal for a plurality of element regions 2a to 5a thereon. . The input and output pads 6 to 6 of each element region 2a to 5a on the semiconductor wafer 1 having such a structure
11 and a probe needle of a probe card of a test device are brought into contact and electrically connected, thereby testing a semiconductor device.

【0020】以下、詳しく説明する。半導体装置2〜5
は全て同じ半導体装置で、同一の半導体ウエハ1上に形
成されている。各半導体装置上には入力パッド6〜10
が設けられており、それぞれ連結部45〜49を介して
入力パッド6とダイシング部30に形成された共通配線
12,7と13,8と14,9と15,10と16とが
対応するように接続されている。また同一符号で表され
各半導体装置で対応する入力パッド同士が各共通配線を
介して共通接続されることになり、各半導体装置2〜5
間で電源電位,接地電位及び駆動信号を共有する形にな
っている。このような構成の各半導体装置2〜5におい
て、試験装置のプローブカードのプローブ針を任意の半
導体装置2の入力パッド6〜10に接触させて電源電位
,接地電位,駆動信号等を入力すると、各配線の連結部
45〜49から配線12〜16を経て他の半導体装置3
〜5にも入力され、その試験結果は出力としてそれぞれ
の出力パッド11より検出される。
[0020] This will be explained in detail below. Semiconductor devices 2 to 5
are all the same semiconductor devices and are formed on the same semiconductor wafer 1. There are input pads 6 to 10 on each semiconductor device.
are provided so that the common wirings 12, 7 and 13, 8 and 14, 9 and 15, and 10 and 16 formed in the input pad 6 and the dicing part 30 correspond to each other via the connecting parts 45 to 49, respectively. It is connected to the. In addition, input pads represented by the same reference numerals and corresponding to each other in each semiconductor device are commonly connected to each other via each common wiring, so that each semiconductor device 2 to 5
The power supply potential, ground potential, and drive signal are shared between them. In each of the semiconductor devices 2 to 5 having such a configuration, when the probe needle of the probe card of the test device is brought into contact with the input pads 6 to 10 of any semiconductor device 2 to input the power supply potential, ground potential, drive signal, etc. Connecting parts 45 to 49 of each wiring line to other semiconductor devices 3 via wiring lines 12 to 16.
-5 are also input, and the test results are detected as outputs from the respective output pads 11.

【0021】続く図2は、この発明の一実施例による半
導体装置を示す図で、図1(a) 中の任意の半導体装
置2を拡大したものである。このようなパターンを半導
体ウエハ1上に露光する際には、ステッパを用いてX方
向,Y方向に配列状に露光すれば、各半導体装置間で同
一信号線が共通となる様に形成することができる。図に
おいて、配線12〜16と対応する入力パッド6〜10
との間の連結部45〜49には、レーザー溶断による分
離が可能なようにそれぞれリンク18〜22が設置され
ている。ダイシング後、上記リンク18〜22をレーザ
ーで溶断することによって、単体となった各半導体装置
の配線12〜16が半導体ウエハ1上の他の導電体と分
離されるため、半導体装置の誤動作を防ぐことができる
FIG. 2 is a diagram showing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention, and is an enlarged view of an arbitrary semiconductor device 2 in FIG. 1(a). When exposing such a pattern on the semiconductor wafer 1, by using a stepper to expose the pattern in an array in the X and Y directions, it is possible to form the same signal line in common among each semiconductor device. Can be done. In the figure, input pads 6 to 10 corresponding to wirings 12 to 16
Links 18 to 22 are installed in the connecting parts 45 to 49 between the two, respectively, so that they can be separated by laser fusing. After dicing, by fusing the links 18 to 22 with a laser, the wirings 12 to 16 of each individual semiconductor device are separated from other conductors on the semiconductor wafer 1, thereby preventing malfunction of the semiconductor device. be able to.

【0022】図1(b) は同図(a) に示す半導体
ウエハ1上に作成された半導体装置を一括して試験する
ためのプローブカードを示す。図において、プローブカ
ード31はプローバーに合うもので、半導体ウエハ1上
に形成する半導体装置群を全て一括に試験するためのプ
ローブ針がセットできる大きさでなければならない。ま
た、点線部分50は同図(a) に示す半導体ウエハ1
上の半導体装置2〜5及び配線領域に対応し、プローブ
カード31中のぬき32は同図(a) で示す半導体ウ
エハ1上の素子領域2aに対応する。このぬき32の部
分に、半導体ウエハ1上の半導体装置2の各入力パッド
6〜10に対応するプローブ針36〜40と出力パッド
11に対応するプローブ針41とがセットされており、
このようなプローブ針36〜40を入力パッド6〜10
に接触させて電源電位,接地電位及び駆動信号を半導体
装置2に供給するだけで、同図(a) に示す連結部4
5〜49を経て配線12〜16に伝わりその他の半導体
装置3〜5へも同様に供給される。また、半導体ウエハ
1上の各半導体装置3〜5の出力パッド11部分に対応
したプローブカード31中の他のぬき33〜35部分に
設けられているプローブ針42〜44と32部分のプロ
ーブ針41とを、半導体ウエハ1上の全半導体装置の出
力パッド11に接触させ、試験結果の出力を検出する。
FIG. 1(b) shows a probe card for collectively testing semiconductor devices fabricated on the semiconductor wafer 1 shown in FIG. 1(a). In the figure, a probe card 31 is compatible with a prober, and must be large enough to set probe needles for testing all the semiconductor devices formed on the semiconductor wafer 1 at once. Moreover, the dotted line portion 50 is the semiconductor wafer 1 shown in FIG.
The holes 32 in the probe card 31 correspond to the element areas 2a on the semiconductor wafer 1 shown in FIG. Probe needles 36 to 40 corresponding to the input pads 6 to 10 of the semiconductor device 2 on the semiconductor wafer 1 and probe needles 41 corresponding to the output pad 11 are set in this hole 32,
Such probe needles 36 to 40 are connected to input pads 6 to 10.
By simply contacting the semiconductor device 2 with the power supply potential, ground potential, and drive signal, the connecting portion 4 shown in FIG.
The signal is transmitted to the wirings 12 to 16 via lines 5 to 49, and is similarly supplied to the other semiconductor devices 3 to 5. In addition, the probe needles 42 to 44 provided in other slots 33 to 35 in the probe card 31 corresponding to the output pad 11 portion of each semiconductor device 3 to 5 on the semiconductor wafer 1 and the probe needle 41 in the 32 portion is brought into contact with the output pads 11 of all the semiconductor devices on the semiconductor wafer 1, and the output of the test result is detected.

【0023】本実施例では上述のように、半導体装置が
回路素子が形成された半導体基板と、入力パッド6〜1
0及び出力パッド11並びに、対応する入力パッド6〜
10が連結部45〜49を介して接続されている配線1
2〜16とを備えているので、このような半導体装置を
半導体ウエハ1上に複数形成した場合、各半導体装置間
で対応する入力パッド同士が配線12〜16を通して共
通接続され、電源電位,接地電位,駆動信号等は共有さ
れるので、試験時に、複数の半導体装置2〜5のうち任
意の半導体装置2の入力パッド6〜11に電源電位,接
地電位,駆動信号等を入力すれば、他の半導体装置3〜
5にも同様に入力されるため、個々の半導体チップに切
り出す前の半導体ウエハの状態で複数の半導体装置を一
括してテストできる。また、配線12〜16と対応する
入力パッド6〜10との間の連結部45〜49に設置さ
れたリンク18〜22をレーザーで溶断することによっ
て、ダイシング後単体となった半導体装置の配線12〜
16を半導体ウエハ1上の他の導電体と分離でき、通常
使用時に誤操作が生じるのを防ぐことができる。なお、
各半導体装置間で対応する入力パッド同士を共通接続す
る配線12〜16は、例えばダイシング部30上のよう
な各半導体装置の素子領域外の部分に形成されるので、
各半導体装置のチップ面積が増大することはない。
In this embodiment, as described above, the semiconductor device includes a semiconductor substrate on which circuit elements are formed, and input pads 6 to 1.
0 and output pad 11 and corresponding input pad 6~
Wiring 1 to which 10 is connected via connecting parts 45 to 49
2 to 16, so when a plurality of such semiconductor devices are formed on the semiconductor wafer 1, the corresponding input pads of each semiconductor device are commonly connected through the wirings 12 to 16, and the power supply potential and ground Since potentials, drive signals, etc. are shared, during testing, by inputting the power supply potential, ground potential, drive signals, etc. to the input pads 6 to 11 of any semiconductor device 2 among the plurality of semiconductor devices 2 to 5, other semiconductor devices can be used. Semiconductor device 3~
5 as well, it is possible to test a plurality of semiconductor devices at once in the state of a semiconductor wafer before it is cut into individual semiconductor chips. In addition, by cutting the links 18 to 22 installed at the connecting portions 45 to 49 between the wirings 12 to 16 and the corresponding input pads 6 to 10 with a laser, the wiring 12 of the semiconductor device that has become a single unit after dicing is removed. ~
16 can be separated from other conductors on the semiconductor wafer 1, and erroneous operations can be prevented during normal use. In addition,
Since the wirings 12 to 16 that commonly connect the corresponding input pads of each semiconductor device are formed in a portion outside the element area of each semiconductor device, such as on the dicing section 30,
The chip area of each semiconductor device does not increase.

【0024】また、上記構成の半導体装置の試験を、対
応する入力パッド同士が電気的に接続された複数の半導
体装置2〜5のうち、任意の半導体装置2上の複数の入
力パッドに対して、それぞれ電源電位及び接地電位を供
給するとともに駆動信号を供給し、各半導体装置の出力
パッド11それぞれから試験結果を検出することによっ
て行うようにしたので、半導体装置2の入力パッド6〜
10に電源電位,接地電位,駆動信号等を入力するだけ
で、配線12〜16を通じて残りの半導体装置へも同様
に供給でき、その試験結果は各半導体装置の出力パッド
11から同時に検出できるため、個々の半導体チップに
切り出す前の半導体ウエハの状態で複数の半導体装置を
一括してテストできる。従って、複数の半導体装置の試
験に要する時間を大幅に短縮することができる。
Furthermore, testing of the semiconductor device having the above configuration is performed on a plurality of input pads on any semiconductor device 2 among the plurality of semiconductor devices 2 to 5 in which corresponding input pads are electrically connected to each other. , by supplying a power supply potential and a ground potential, as well as supplying a drive signal, and detecting the test results from each output pad 11 of each semiconductor device.
By simply inputting the power supply potential, ground potential, drive signal, etc. to 10, the same can be supplied to the remaining semiconductor devices through the wirings 12 to 16, and the test results can be detected simultaneously from the output pads 11 of each semiconductor device. Multiple semiconductor devices can be tested at once on a semiconductor wafer before it is cut into individual semiconductor chips. Therefore, the time required to test a plurality of semiconductor devices can be significantly reduced.

【0025】また本実施例においては上述のように、半
導体ウエハ1上に形成され電極パッド同士が共通接続さ
れている複数の半導体装置をテストする試験装置におい
て、この試験装置のプローブカード31に設けられた、
任意の半導体装置2上の入力パッド6〜10にそれぞれ
電源電位及び接地電位を供給するとともに駆動信号を供
給するためのプローブ針36〜40と、複数の半導体ウ
エハ上の出力のためのパッドからその試験結果をそれぞ
れ検出するための出力パッドと同数のプローブ針41〜
44を有するので、入力プローブ針36〜40を任意の
半導体装置2上の入力パッド6〜10へ接触させて電源
電位,接地電位及び駆動信号を供給するだけで、半導体
装置2上の入力パッドと対応する入力パッド同士が共通
接続されている同一ウエハ1上の他の半導体装置全てに
も同様に供給することができ、その試験結果は各半導体
装置の出力パッド11を介してプローブ針41〜44よ
り検出することができ、少ない数のプローブ針で、同一
ウエハ1上の複数の半導体装置を一括して試験すること
ができる。
Further, in this embodiment, as described above, in a test device for testing a plurality of semiconductor devices formed on a semiconductor wafer 1 and having electrode pads commonly connected to each other, a probe card 31 of the test device is provided with a probe card 31 of the test device. was given,
Probe needles 36 to 40 for supplying power supply potential and ground potential as well as drive signals to input pads 6 to 10 on any semiconductor device 2, respectively, and probe needles 36 to 40 for supplying drive signals to input pads 6 to 10 on any semiconductor device 2, and probe needles 36 to 40 for supplying drive signals to input pads 6 to 10 on an arbitrary semiconductor device 2; The same number of probe needles 41 as the output pads for detecting test results, respectively.
44, the input probe needles 36 to 40 can be connected to input pads 6 to 10 on any semiconductor device 2 by simply contacting them and supplying the power supply potential, ground potential, and drive signal. It can be similarly supplied to all other semiconductor devices on the same wafer 1 whose corresponding input pads are commonly connected, and the test results are sent to the probe needles 41 to 44 via the output pad 11 of each semiconductor device. It is possible to detect a plurality of semiconductor devices on the same wafer 1 at once with a small number of probe needles.

【0026】なお本実施例においては、同一ウエハ上に
形成された複数の半導体装置のうち任意の半導体装置2
を選び、その上に設けられた入力パッド6〜11にそれ
ぞれ電源電位,接地電位及び駆動信号を供給する構成と
したが、半導体ウエハ1上の素子領域2a〜5a以外の
任意の場所に、対応する入力パッド同士を共通接続させ
ている共通配線12〜16を引き出して、各入力パッド
と共通接続された入力パッドを新たに設け、そこから電
源電位,接地電位及び駆動信号を供給するようにしても
よい。これにより、任意の半導体装置2に入力用のプロ
ーブ針36〜40を接触させることなく電源電位,接地
電位及び駆動信号を供給できるため、半導体ウエハ1と
プローブカード31との位置合わせが容易となり、また
プローブカード31の半導体装置2〜5対応部分50に
設けるべきプローブ針は試験結果検出用のみでよい。
Note that in this embodiment, any semiconductor device 2 out of a plurality of semiconductor devices formed on the same wafer is
The input pads 6 to 11 provided thereon are supplied with a power supply potential, a ground potential, and a drive signal, respectively. The common wires 12 to 16 that commonly connect the input pads to be connected to each other are drawn out, and a new input pad is provided that is commonly connected to each input pad, and the power supply potential, ground potential, and drive signal are supplied from there. Good too. As a result, the power supply potential, the ground potential, and the drive signal can be supplied to any semiconductor device 2 without contacting the input probe needles 36 to 40, so that the alignment between the semiconductor wafer 1 and the probe card 31 is facilitated. Further, the probe needles to be provided in the portion 50 corresponding to the semiconductor devices 2 to 5 of the probe card 31 may be used only for detecting test results.

【0027】また本実施例においては、各半導体装置上
の電極パッドと接続される配線は、半導体装置の素子領
域における配線と電気的に接続されない部分ならば半導
体ウエハ1上のどこに形成されてもよく、また少なくと
も一部がダイシング部30に位置するものでもよく、図
1(a) においては各半導体装置間の素子領域の周囲
に存在するダイシング部30上に形成されている。また
配線12〜16と入力パッド6〜10との間の連結部4
5〜49にそれぞれリンク18〜22を設けたが、レー
ザー溶断による分離が可能な材質及び大きさの部分であ
ればどんなものでもよい。また、配線12〜16と半導
体ウエハ1上の他の導電体とを分離する方法として、レ
ーザーによるリンク溶断の代わりにプログラム等の手段
を用いて電気的に切断するようにしてもよい。
Further, in this embodiment, the wiring connected to the electrode pad on each semiconductor device can be formed anywhere on the semiconductor wafer 1 as long as it is not electrically connected to the wiring in the element region of the semiconductor device. Alternatively, at least a portion thereof may be located on the dicing portion 30, and in FIG. 1(a), it is formed on the dicing portion 30 existing around the element region between each semiconductor device. Also, the connecting portion 4 between the wirings 12 to 16 and the input pads 6 to 10
Although the links 18 to 22 are respectively provided in the links 5 to 49, any material and size may be used as long as the parts can be separated by laser fusing. Further, as a method of separating the wirings 12 to 16 from other conductors on the semiconductor wafer 1, instead of link fusing using a laser, electrical cutting may be used using a program or the like.

【0028】更に上記実施例においては、半導体ウエハ
1上に形成する半導体装置の数を4個としたが、任意の
数でよく、また図1(a) ,図2において半導体装置
中の電極パッドの数は6個としたが、これも任意の数で
よく、その場合も同様の効果を奏する。さらに図1(b
) において、プローブカード31からの電源電位,接
地電位,駆動信号を供給する任意の半導体装置として半
導体装置2を示したが、他の半導体装置3,4,5のど
れでも良く、その場合も同様の効果を奏する。
Furthermore, in the above embodiment, the number of semiconductor devices formed on the semiconductor wafer 1 was four, but any number may be used. Although the number is six, any number may be used, and the same effect can be achieved in that case as well. Furthermore, Figure 1(b)
), the semiconductor device 2 is shown as an arbitrary semiconductor device that supplies the power supply potential, ground potential, and drive signal from the probe card 31, but any of the other semiconductor devices 3, 4, and 5 may be used, and the same applies in that case. It has the effect of

【0029】[0029]

【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、表面に
所定の回路素子が形成された半導体基板と、半導体基板
の表面上に形成され、電源電位及び接地電位の供給並び
に信号の入力及び出力のための複数のパッドと、これら
のパッドに対応して半導体基板の表面上に設けられ、対
応したパッドと電気的に接続されるとともに通常使用時
に電気的に切断されている複数の配線とを備えたので、
半導体ウエハ上に形成された複数の半導体装置は対応す
る入力パッド同士が配線で共通接続され、任意の半導体
装置に電源電位,接地電位,駆動信号等を供給すれば、
上記配線より他の半導体装置全てにも同様に供給され、
個々の半導体チップに切り出す前の半導体ウエハの状態
で複数の半導体装置を一括してテストできる効果がある
As described above, according to the present invention, there is provided a semiconductor substrate having a predetermined circuit element formed on the surface thereof, and a semiconductor substrate formed on the surface of the semiconductor substrate for supplying power supply potential and ground potential, inputting signals, and A plurality of pads for output and a plurality of wiring lines provided on the surface of a semiconductor substrate corresponding to these pads, electrically connected to the corresponding pads, and electrically disconnected during normal use. Since we have
In a plurality of semiconductor devices formed on a semiconductor wafer, corresponding input pads are commonly connected by wiring, and if power supply potential, ground potential, drive signal, etc. are supplied to any semiconductor device,
The wiring is also supplied to all other semiconductor devices in the same way,
This has the effect of allowing multiple semiconductor devices to be tested at once on a semiconductor wafer before it is cut into individual semiconductor chips.

【0030】またこの発明によれば、対応する入力パッ
ド同士を共通接続した複数の半導体装置のうちの任意の
半導体装置上の入力パッドにのみ電源電位,接地電位,
駆動信号を供給し、全半導体装置の出力パッドよりその
試験結果を検出するようにしたから、個々の半導体チッ
プに切り出す前の半導体ウエハの状態で複数の半導体装
置を一括してテストできる効果がある。
Further, according to the present invention, the power supply potential, ground potential,
Since the drive signal is supplied and the test results are detected from the output pads of all semiconductor devices, it is possible to test multiple semiconductor devices at once on a semiconductor wafer before cutting into individual semiconductor chips. .

【0031】またこの発明によれば、試験装置のプロー
ブカードは任意の半導体装置上の入力パッドにそれぞれ
電源電位,接地電位及び駆動信号を供給するためのプロ
ーブ針と、半導体ウエハ上の複数の出力のためのパッド
からその試験結果をそれぞれ検出するための出力パッド
と同数のプローブ針とを有する構成としたので、少ない
プローブ針で、同一ウエハ上の複数の半導体装置を一括
して試験することができる効果がある。
Further, according to the present invention, the probe card of the test equipment has probe needles for supplying power supply potential, ground potential, and drive signals to input pads on any semiconductor device, and a plurality of outputs on the semiconductor wafer. Since the configuration has the same number of probe needles as the output pads for detecting the test results from the respective pads, it is possible to test multiple semiconductor devices on the same wafer at once with a small number of probe needles. There is an effect that can be done.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】この発明の一実施例による半導体ウエハ上での
半導体装置及びそのウエハテストのためのプローブカー
ドを示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a semiconductor device on a semiconductor wafer and a probe card for testing the wafer according to an embodiment of the present invention.

【図2】この発明の一実施例による半導体ウエハ上に形
成された半導体装置の電極パッド及び配線を示す図であ
る。
FIG. 2 is a diagram showing electrode pads and wiring of a semiconductor device formed on a semiconductor wafer according to an embodiment of the present invention.

【図3】従来のウエハプローバ及び被試験半導体装置を
示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a conventional wafer prober and a semiconductor device under test.

【図4】従来のウエハプローバのプローブカードを下方
から見た場合の斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view of a probe card of a conventional wafer prober seen from below.

【図5】従来のウエハプローバのプローブ針がウエハ上
の電極パッドに接触している状態を示す部分拡大図であ
る。
FIG. 5 is a partially enlarged view showing a state in which a probe needle of a conventional wafer prober is in contact with an electrode pad on a wafer.

【図6】従来のウエハプローバの使用状態を示す断面図
である。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing how a conventional wafer prober is used.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1          半導体ウエハ 2〜5      半導体装置 2a〜5a  半導体ウエハ上の素子領域6〜10  
  入力パッド 11        出力パッド 12〜16  配線 18〜22  リンク 30        ダイシング部 31        プローブカード 32        プローブカード中での素子領域対
応部分33〜35  プローブカード中での半導体装置
の出力パッド対応部分 36〜44  プローブ針 45〜49  連結部
1 Semiconductor wafers 2 to 5 Semiconductor devices 2a to 5a Element regions 6 to 10 on the semiconductor wafer
Input pad 11 Output pads 12-16 Wiring 18-22 Link 30 Dicing section 31 Probe card 32 Portion corresponding to element area in probe card 33-35 Portion corresponding to output pad of semiconductor device in probe card 36-44 Probe needle 45 ~49 Connecting part

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  表面に所定の回路素子が形成された半
導体基板と、該半導体基板の表面上に形成され、電源電
位及び接地電位の供給並びに信号の入力及び出力のため
の複数のパッドと、該電源電位及び接地電位の供給並び
に信号の入力のためのパッドに対応して上記半導体基板
の表面上に設けられ、対応したパッドと電気的に接続さ
れるとともに通常使用時に電気的に切断されている複数
の配線とを備えたことを特徴とする半導体装置。
1. A semiconductor substrate on which a predetermined circuit element is formed; a plurality of pads formed on the surface of the semiconductor substrate for supplying a power supply potential and a ground potential, and for inputting and outputting signals; Provided on the surface of the semiconductor substrate in correspondence with pads for supplying the power supply potential and ground potential and inputting signals, and electrically connected to the corresponding pads and electrically disconnected during normal use. What is claimed is: 1. A semiconductor device comprising: a plurality of wiring lines;
【請求項2】  表面に所定の回路素子が形成され、か
つ表面上に電源電位及び接地電位の供給並びに信号の入
力及び出力のための複数のパッドが形成される半導体基
板を複数有した半導体ウエハにおける少なくとも2以上
の上記半導体基板に形成される対応した電源電位及び接
地電位の供給のためのパッド並びに信号の入力のための
パッド同士を電気的に接続し、該対応したパッド同士が
電気的に接続された複数の半導体基板のうちの1つの半
導体基板における電気的に接続された複数のパッドに対
してそれぞれ電源電位及び接地電位を供給するとともに
試験用の駆動信号を供給し、対応したパッド同士が電気
的に接続された複数の半導体基板の出力のためのパッド
それぞれから試験結果を検出することを特徴とする半導
体装置の試験方法。
2. A semiconductor wafer having a plurality of semiconductor substrates on which predetermined circuit elements are formed, and on which a plurality of pads are formed for supplying a power supply potential and a ground potential, and for inputting and outputting signals. At least two or more corresponding pads for supplying power supply potential and ground potential and pads for inputting signals formed on at least two of the semiconductor substrates are electrically connected to each other, and the corresponding pads are electrically connected to each other. A power supply potential and a ground potential are respectively supplied to a plurality of electrically connected pads on one semiconductor substrate among a plurality of connected semiconductor substrates, and a driving signal for testing is also supplied, and the corresponding pads are connected to each other. 1. A method for testing a semiconductor device, comprising detecting a test result from each output pad of a plurality of semiconductor substrates electrically connected to each other.
【請求項3】  表面に所定の回路素子が形成され、か
つ表面上に電源電位及び接地電位の供給並びに信号の入
力及び出力のための複数のパッドが形成される半導体基
板を複数有し、少なくとも2以上の半導体基板に形成さ
れる対応した電源電位及び接地電位の供給のためのパッ
ド並びに信号の入力のためのパッド同士が電気的に接続
された半導体ウエハにおける対応したパッド同士が電気
的に接続された複数の半導体基板のうちの1つの半導体
基板における電気的に接続された複数のパッドに対して
それぞれ電源電位及び接地電位を供給するとともに試験
用の駆動信号を供給するための複数のプローブ針と、対
応したパッド同士が電気的に接続された複数の半導体基
板の出力のためのパッドそれぞれから試験結果を検出す
るための複数のプローブ針とを備えたことを特徴とする
半導体装置の試験装置。
3. A semiconductor substrate having a plurality of semiconductor substrates each having a predetermined circuit element formed thereon and a plurality of pads formed thereon for supplying a power supply potential and a ground potential and for inputting and outputting signals, and at least Corresponding pads formed on two or more semiconductor substrates for supplying power supply potential and ground potential and pads for inputting signals are electrically connected to each other, and corresponding pads on a semiconductor wafer are electrically connected to each other. a plurality of probe needles for supplying a power supply potential and a ground potential, respectively, to a plurality of electrically connected pads on one of the plurality of semiconductor substrates, and supplying drive signals for testing; and a plurality of probe needles for detecting test results from each of the output pads of a plurality of semiconductor substrates whose corresponding pads are electrically connected to each other. .
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5862147A (en) * 1996-04-22 1999-01-19 Nec Corporation Semiconductor device on semiconductor wafer having simple wirings for test and capable of being tested in a short time
KR100328408B1 (en) * 1995-09-27 2002-07-06 니시무로 타이죠 Probing test method for probe card and semiconductor integrated circuit
JP2007132950A (en) * 1994-11-15 2007-05-31 Formfactor Inc Probe card assembly and kit, and method using them

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007132950A (en) * 1994-11-15 2007-05-31 Formfactor Inc Probe card assembly and kit, and method using them
JP4588721B2 (en) * 1994-11-15 2010-12-01 フォームファクター, インコーポレイテッド Probe card assembly and kit, and method of using them
KR100328408B1 (en) * 1995-09-27 2002-07-06 니시무로 타이죠 Probing test method for probe card and semiconductor integrated circuit
US5862147A (en) * 1996-04-22 1999-01-19 Nec Corporation Semiconductor device on semiconductor wafer having simple wirings for test and capable of being tested in a short time

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