JP2001352008A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents

半導体装置およびその製造方法

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JP2001352008A JP2000171662A JP2000171662A JP2001352008A JP 2001352008 A JP2001352008 A JP 2001352008A JP 2000171662 A JP2000171662 A JP 2000171662A JP 2000171662 A JP2000171662 A JP 2000171662A JP 2001352008 A JP2001352008 A JP 2001352008A
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pellet
lead frame
sealing body
resin
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Yukihiro Sato
幸弘 佐藤
Kazuo Shimizu
一男 清水
Shinya Koike
信也 小池
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Hitachi Ltd
Hitachi Tohbu Semiconductor Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 HSOP・ICの放熱性能を高める。 【解決手段】 ペレット23が中空部21を有するヒー
トシンク20にボンディングされ、ペレット23の電極
パッド23aがインナリード18にワイヤ24で電気的
に接続され、ヒートシンク20の一部がペレット23、
インナリード18、ワイヤ24と共に樹脂封止体26で
樹脂封止されており、ヒートシンク20の中空部21の
両端が樹脂封止体26の短辺側の両端の外部で開口され
ている。 【効果】 ヒートシンクの中空部に冷媒を開口の一方か
ら導入して他方から導出して流通させることにより、放
熱性能を飛躍的に高めることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の製造
技術、特に、放熱性能の向上技術に関し、例えば、高い
放熱性能が要求される半導体集積回路装置(以下、IC
という。)に利用して有効なものに関する。
【0002】
【従来の技術】ICの多機能化、高集積化、高速化が進
む最近、表面実装形樹脂封止パッケージを備えているI
Cにおいては、熱放散性(放熱性能)の良好な低熱抵抗
形パッケージの開発が要望されている。そこで、低熱抵
抗形パッケージを備えているIC(以下、低熱抵抗形パ
ッケージICという。)として、ヒートシンクに直接的
にボンディングされた半導体ペレット(以下、ペレット
という。)の周囲に複数本のインナリードが配列されて
いるとともに、ペレットの各電極パッドと各インナリー
ドとの間にワイヤがそれぞれ橋絡されており、ヒートシ
ンクの少なくとも一部がペレット、インナリード群およ
びワイヤと共に樹脂封止体によって樹脂封止されている
ものがある。
【0003】なお、低熱抵抗形パッケージICを述べて
ある例としては、株式会社日経BP社1993年5月3
1日発行「VLSIパッケージング技術(下)」P20
0〜P204や特開平8−222662号公報および特
開平9−307040号公報がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記し
た低熱抵抗形パッケージICにおいては、低熱抵抗形パ
ッケージの放熱性能はヒートシンクの熱抵抗に依存する
ため、放熱性能の向上には限界があるという問題点があ
る。
【0005】本発明の目的は、放熱性能を高めることが
できる半導体装置およびその製造方法を提供することに
ある。
【0006】なお、特開平8−222662号公報およ
び特開平9−307040号公報においてヒートシンク
は中空部を有するが、ペレットやインナリード等は樹脂
封止されていない。
【0007】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【0008】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、次の通り
である。
【0009】すなわち、半導体ペレットが中空部を有す
るヒートシンクにボンディングされているとともに複数
本のインナリードに電気的に接続されており、このヒー
トシンクの少なくとも一部がペレット、インナリード群
と共に樹脂封止体によって樹脂封止されており、前記ヒ
ートシンクの中空部の一対の端が前記樹脂封止体の外部
で開口されていることを特徴とする。
【0010】前記した半導体装置によれば、ヒートシン
クの中空部に冷媒を開口の一方から導入して他方から導
出して流通させることができるため、放熱性能を飛躍的
に高めることができる。
【0011】
【発明の実施の形態】図1は本発明の一実施の形態であ
る半導体装置を示しており、(a)は斜視図、(b)は
正面断面図、(c)は一部切断側面図である。図2以降
はその半導体装置の製造方法を説明するための各説明図
である。
【0012】本実施の形態において、本発明に係る半導
体装置は、ヒートシンク付きスモール・アウトライン・
パッケージ(以下、HSOPという。)を備えたICと
して構成されている。すなわち、図1に示されているよ
うに、HSOPを備えたIC(以下、HSOP・ICと
いう。)28は、略正方形の小板形状に形成されたシリ
コン半導体ペレット(以下、ペレットという。)23
と、ペレット23がボンディングされたヒートシンク2
0と、ヒートシンク20の一対の長辺において放射状に
配列された複数本のインナリード18と、ペレット23
の各電極パッド23aと各インナリード18との間にそ
の両端部をそれぞれボンディングされて橋絡されたワイ
ヤ24と、各インナリード18にそれぞれ一体的に連結
されたアウタリード17と、ペレット23、ヒートシン
ク20の一部、インナリード18群およびワイヤ24群
を樹脂封止した樹脂封止体26とを備えている。
【0013】樹脂封止体26は絶縁性を有する樹脂が使
用されてペレット23よりも充分に大きい長方形の平盤
形状に樹脂成形されている。ヒートシンク20は熱伝導
性の良好な材料が使用されて、樹脂封止体26よりも小
さくペレット23よりも大きい長方形の平盤形状の中空
体に形成されており、ヒートシンク20の中空部21の
両端部は樹脂封止体26の短辺側両端においてそれぞれ
開口されている。アウタリード17はガルウイング形状
に屈曲されている。そして、このHSOP・IC28は
次に説明される製造方法によって製造されている。
【0014】以下、本発明の一実施の形態であるHSO
P・ICの製造方法を説明する。この説明により、HS
OP・IC28の構成の詳細が共に明らかにされる。
【0015】本実施の形態に係るHSOP・ICの製造
方法は、図2に示された多連リードフレーム10が準備
されるリードフレーム準備工程を備えている。多連リー
ドフレーム10は銅系材料(銅または銅合金)からなる
異形板材が用いられて、打ち抜きプレス加工またはエッ
チング加工等の適当な手段により一体成形される。多連
リードフレーム10の表面には後述するワイヤボンディ
ングを適正に実施するためのめっき被膜(図示せず)
が、銀(Ag)等を用いためっき加工によって被着され
ている。多連リードフレーム10は複数の単位リードフ
レーム(以下、リードフレームという。)11が一方向
に1列に並設されて構成されている。なお、多連リード
フレーム10は同じパターンが繰り返されるため、説明
および図示は原則として一単位について行われている。
【0016】リードフレーム11は複数本のインナリー
ドおよびアウタリードを保持するためのフレーム(外
枠)12を備えており、フレーム12はトップレール1
3、ボトムレール14、フロントサイドレール15およ
びリアサイドレール16が略正方形の枠形状に組まれて
いる。トップレール13およびボトムレール14の内周
辺にはアウタリード17が複数本ずつ、各辺において等
間隔に配されてそれぞれ直角に突設されている。各アウ
タリード17にはインナリード18がそれぞれ一体的に
連結されており、各インナリード18は放射状にそれぞ
れ配置されているとともに、その内側先端が略一直線状
にそれぞれ揃えられている。隣合うアウタリード17、
17間にはダム・バー19が直角に架設されており、各
ダム・バー19は一列のアウタリード17群において一
直線状に整列された状態になっている。
【0017】フロントサイドレール15とリアサイドレ
ール16との間には中空部21を有するヒートシンク2
0がダム・バー19と平行に一体的に架設されている。
ヒートシンク20は断面形状が長方形であって横長の角
筒形状に形成されており、隣合うリードフレーム11、
11のヒートシンク20、20は一体的に連結された状
態になっている。すなわち、多連リードフレーム10に
おいて複数本のヒートシンク20は一本の角筒(角パイ
プ)形状になっている。
【0018】本実施の形態に係るHSOP・ICの製造
方法は、ペレットボンディング工程およびワイヤボンデ
ィング工程を備えており、図3に示されているように、
ペレットボンディング工程においてリードフレームのヒ
ートシンクの一主面にペレットがボンディングされ、ワ
イヤボンディング工程においてペレットとインナリード
との間にワイヤが橋絡される。
【0019】図3に示されているように、ペレット23
はヒートシンク20よりも小さい略正方形の板形状に形
成されている。ペレット23は半導体装置の製造工程に
おける所謂前工程においてウエハの状態で半導体素子群
や配線回路等からなる集積回路を作り込まれた後に、ダ
イシング工程において所定の形状に分断されて製造され
る。ペレット23はヒートシンク20の一主面(以下、
上面とする。)に相似形に配されて、ヒートシンク20
とペレット23との間に半田層によって形成されたボン
ディング層22によって固着されている。すなわち、ペ
レット23はヒートシンク20の上面に半田箔が置かれ
て加熱された状態で、半田箔にペレット23が擦り付け
られて形成された半田ボンディング層22によってヒー
トシンク20の上にボンディングされている。
【0020】なお、ボンディング層としては、半田層以
外に、金−シリコン共晶層や銀ペースト接着層等々を使
用することができる。但し、形成されたボンディング層
はペレット23からヒートシンク20への熱伝達の障壁
にならないように形成することが望ましい。ちなみに、
半田ボンディング層22は熱伝達率が高いばかりでな
く、柔軟性に富むため、ペレット23とヒートシンク2
0との間に作用する機械的応力を吸収することができ
る。
【0021】その後、ワイヤボンディング工程におい
て、熱圧着式ワイヤボンディング装置や超音波熱圧着式
ワイヤボンディング装置および超音波式ワイヤボンディ
ング装置が使用されてワイヤボンディング作業が実施さ
れる。すなわち、図3に示されているように、ペレット
23とインナリード18とを電気的に接続するためのワ
イヤ24が、その両端部をペレット23の電極パッド2
3aとインナリード18の先端部とにそれぞれボンディ
ングされて両者間に橋絡される。なお、ペレット側のワ
イヤボンディング作業に際して、ワイヤ24の押接に対
する反力はヒートシンク20に求められることになる。
【0022】以上のペレットボンディング作業およびワ
イヤボンディング作業によって、ペレット23に作り込
まれている集積回路は、電極パッド23a、ボンディン
グワイヤ24、インナリード18を介して電気的に外部
に引き出される。
【0023】多連リードフレーム10にペレット23お
よびワイヤ24がボンディングされた図3に示されてい
る組立体(以下、成形ワークという。)25には、樹脂
封止体成形工程において、図4に示されているトランス
ファ成形装置30が使用されて図5に示されている樹脂
封止体26が各リードフレーム11について同時に成形
される。
【0024】図4に示されているトランスファ成形装置
30はシリンダ装置(図示せず)によって互いに型締め
される一対の上型31と下型32とを備えている。上型
31と下型32との合わせ面には上型キャビティー凹部
33aと下型キャビティー凹部33bとが複数組、互い
に協働してキャビティー33を形成するようにそれぞれ
没設されている。但し、図示および説明は多連リードフ
レーム10と同様に一単位について行われている。キャ
ビティー33は成形ワーク25におけるリードフレーム
11のダム・バー19が画成する長方形に対応されてい
る。キャビティー33の全高は成形ワーク25の全高よ
りも僅かに大きく設定されている。上型キャビティー凹
部33aの深さは、成形ワーク25におけるワイヤ24
のリードフレーム11からの上方突出高さよりも僅かに
大きくなるように設定されている。下型キャビティー凹
部33bの深さは成形ワーク25におけるヒートシンク
20の下面から上面迄の高さと等しくなるように設定さ
れている。
【0025】下型32の合わせ面にはポット34が開設
されており、ポット34にはシリンダ装置により進退さ
れるプランジャ35が成形材料としての樹脂(以下、レ
ジンという。)を送給し得るように挿入されている。上
型31の合わせ面にはカル36がポット34との対向位
置に配されて没設されており、カル36とカル36に対
向した上型キャビティー凹部33aとの間にはランナ3
7が両者を互いに連通させるように没設されている。ラ
ンナ37の上型キャビティー凹部33aとの接続部位に
はゲート38が形成されている。上型31の合わせ面に
おける二番目以降の隣合う上型キャビティー凹部33a
と33aとの間にはスルーゲート39が両者を互いに連
通させるように没設されている。ランナ37のゲート3
8およびスルーゲート39は後記するレジンをキャビテ
ィー33内に注入し得るように形成されている。
【0026】下型32の合わせ面にはヒートシンク20
を嵌入するヒートシンク嵌入凹部(以下、嵌入凹部とい
う。)40が下型キャビティー凹部33bの両方の短辺
側の側壁を貫くように一直線状に没設されており、嵌入
凹部40はヒートシンク20の角筒に対応する長溝形状
に形成されている。
【0027】次に、前記構成に係るトランスファ成形装
置30による成形ワーク25への樹脂封止体26の成形
工程について説明する。
【0028】成形ワーク25は下型32に装填される。
この際、ヒートシンク20は嵌入凹部40に嵌入され、
各下型キャビティー凹部33b内をそれぞれ貫通して収
容された状態になる。この収容状態において、ヒートシ
ンク20の下面は下型キャビティー凹部33bの底面に
当接した状態になっており、リードフレーム11の下面
は下型32における上型31との合わせ面に当接した状
態になっている。
【0029】続いて、上型31と下型32とが型締めさ
れる。型締めされると、リードフレーム11のダム・バ
ー19の周りは上型31と下型32の合わせ面間で上下
から挟まれた状態になる。この状態において、上型キャ
ビティー凹部33aと下型キャビティー凹部33bとに
よって形成されたキャビティー33は、実質的に完全に
密封された状態になる。
【0030】次いで、成形材料としてのレジン41がポ
ット34からプランジャ35によりランナ37、ゲート
38およびスルーゲート39を通じてキャビティー33
に送給されて注入される。ランナ37およびスルーゲー
ト39を流通するレジン41はヒートシンク20の上面
に沿って流れ、キャビティー33内に注入される。
【0031】そして、樹脂封止体26はレジン41がキ
ャビティー33に充填されるとともに、レジン41が熱
硬化されることにより樹脂成形される。樹脂封止体26
が樹脂成形された後に、上型31および下型32は型開
きされる。この型開きと同時に、樹脂封止体26は上型
31および下型32に対してエジェクタ・ピン(図示せ
ず)により突き上げられて離型される。この離型に際し
て、エジェクタ・ピンは成形ワーク25のヒートシンク
20の部位も突き上げるように設定することが望まし
い。
【0032】以上のようにして成形ワーク25に樹脂封
止体26が樹脂成形されて離型された状態において、図
5に示されている成形品27が製造された状態になる。
この成形品27におけるペレット23、インナリード1
8、ワイヤ24、ヒートシンク20の一部は、樹脂封止
体26の内部に樹脂封止された状態になっている。すな
わち、ヒートシンク20の下面は樹脂封止体26の下面
から露出し、上面および長辺側の両側面は樹脂封止体2
6の内部に植え込まれた状態になっており、ヒートシン
ク20の短辺側の両側面は樹脂封止体26の短辺側の両
側面の外部に若干突出してそれぞれ開口した状態になっ
ている。
【0033】詳細な説明および図示は省略するが、樹脂
成形時のランナやカルの成形痕、ばり(flash)は
除去工程において適宜除去される。その後、半田めっき
工程において、成形品27は樹脂封止体26からの露出
面全体にわたって半田めっき被膜(図示せず)を被着さ
れる。半田めっき処理の際、成形品27は多連リードフ
レーム10において電気的に全て接続されているため、
電解めっき処理は一括して実施することができる。
【0034】その後、成形品27はリード切断成形工程
において、HSOPを成形される。すなわち、ダム・バ
ー19は隣合うアウタリード17、17間において切り
落とされる。各アウタリード17は各トップレール1
3、ボトムレール14、フロントサイドレール15、リ
アサイドレール16から切り離された後に、ガルウイン
グ形状に屈曲成形される。各ヒートシンク20は樹脂封
止体26との境目から切り離されて、短辺側の両端が樹
脂封止体26の外部においてそれぞれ開口した状態にな
る。
【0035】以上のようにして図1に示されている前記
構成に係るHSOP・IC28が製造されたことにな
る。このHSOP・IC28は図6に示されているよう
にプリント配線基板に実装される。
【0036】図6に示されているプリント配線基板50
は、ガラス含浸エポキシ樹脂等の絶縁性の板材が使用さ
れて形成された本体51を備えている。本体51の一主
面にはアウタリード17の平坦部に対応する長方形の小
平板形状に形成されたマウントパッド52が複数個、実
装対象物となるHSOP・IC28におけるアウタリー
ド17群の列に対応する長方形枠形状にそれぞれ配列さ
れている。
【0037】HSOP・IC28がプリント配線基板5
0に表面実装されるに際して、各マウントパッド52の
上にはクリーム半田等の半田材料(図示せず)がスクリ
ーン印刷法等の適当な手段によって塗布される。次い
で、半田材料が塗布されたマウントパッド52にHSO
P・IC28の各アウタリード17の平坦部がそれぞれ
接着される。この状態で、半田材料はリフロー半田付け
処理によって溶融された後に固化される。リフロー半田
付け処理によって、アウタリード17とマウントパッド
52との間のそれぞれには、各半田付け部53がそれぞ
れ形成される。この状態において、HSOP・IC28
はプリント配線基板50に電気的かつ機械的に接続され
て表面実装された状態になる。
【0038】図6に示されているように、HSOP・I
C28のヒートシンク20の両端部には冷媒としての水
54を中空部21に流通させるための通水パイプ55、
55がそれぞれ接続される。
【0039】この実装状態での稼働中、ペレット23が
発熱すると、ペレット23はヒートシンク20に直接ボ
ンディングされているため、その熱はヒートシンク20
に熱伝導によって伝達される。ヒートシンク20は面積
が大きいため、熱容量がきわめて大きい。したがって、
ペレット23の発熱はきわめて高い効率をもってヒート
シンク20に汲み上げられ、ペレット23はきわめて効
果的に冷却される。そして、ヒートシンク20に伝達さ
れた熱は、ヒートシンク20の両端部に接続された通水
パイプ55、55によって導入され導出されて流通する
冷媒としての水54に熱伝導によって放出される。水5
4はヒートシンク20の中空部21を流通していること
により、その熱交換効率はきわめて高いため、ヒートシ
ンク20によるペレット23の冷却効果はきわめて高く
なる。
【0040】前記実施の形態によれば、次の効果が得ら
れる。
【0041】1) ペレット23がヒートシンク20に直
接的にボンディングされていることにより、ペレット2
3の発熱はヒートシンク20に熱伝導によって伝達され
るため、相対的にペレット23はきわめて効果的に冷却
されることになる。
【0042】2) ヒートシンク20の中空部21に水5
4を流通させることにより、ヒートシンク20が汲み上
げた熱を水54に放出させることができるため、前記1)
の効果を飛躍的に高めることができる。
【0043】3) HSOP・IC28の製造工程におい
て、リードフレーム11とヒートシンク20とを異形板
材によって一体的に形成することにより、HSOP・I
C28の製造工程の増加を抑制することができるため、
製造コストの増加を抑制することができる。
【0044】図7は本発明の他の実施の形態であるHS
OP・ICを示しており、(a)は斜視図、(b)は正
面断面図、(c)は一部切断側面図である。図8は本発
明の他の実施の形態であるHSOP・ICの製造方法に
使用されるリードフレームとヒートシンクの結合体を示
しており、(a)は一部省略平面図、(b)は(a)の
b−b線に沿う断面図である。
【0045】図7に示されている本実施の形態に係るH
SOP・IC28Aが前記実施の形態に係るHSOP・
IC28と異なる点は、図8に示されているリードフレ
ームとヒートシンクの結合体が使用されることにより、
ヒートシンク20Aの高さがリードフレームの厚さの分
だけ薄くなっている点である。
【0046】図8に示されているリードフレームとヒー
トシンクの結合体29は多連リードフレーム10Aとヒ
ートシンク20Aとを備えており、多連リードフレーム
10Aはリードフレーム準備工程において準備され、ヒ
ートシンク20Aはヒートシンク準備工程において準備
される。別々に準備された多連リードフレーム10Aと
ヒートシンク20Aとは結合工程において結合される。
【0047】すなわち、図8に示されているように、リ
ードフレーム11のフロントサイドレール15およびリ
アサイドレール16には小孔20aがそれぞれ一対ずつ
開設されており、平たい角パイプ形状に形成されたヒー
トシンク20Aの両端部にはフランジ20bが張り出さ
れて、各フランジ20bには小孔20aに嵌入する突起
20cがそれぞれ突設されている。各突起20cが各小
孔20aに嵌入された状態で、ヒートシンク20Aは多
連リードフレーム10Aの下面に当接され、各突起20
cが各小孔20aにかしめ加工されることにより固定さ
れる。
【0048】本実施の形態に係るHSOP・IC28A
においても、中空部21を有するヒートシンク20Aが
樹脂封止体26を貫通しているため、前記実施の形態と
同様の作用および効果が奏されることになる。
【0049】以上本発明者によってなされた発明を実施
の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施
の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しな
い範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
【0050】例えば、パッケージはSOPに構成するに
限らず、図9に示されているように、クワッド・フラッ
ト・パッケージ(以下、QFPという。)に構成しても
よい。図9に示されているヒートシンク付きQFPを備
えたIC(以下、HQFP・ICという。)28Bにお
いて、ヒートシンク20Bの両端部は略正方形の平盤形
状に形成された樹脂封止体26Bの四辺の一方の対辺か
らそれぞれ突出した状態になっている。本実施の形態に
係るHQFP・IC28Bにおいても、中空部を有する
ヒートシンク20Bが樹脂封止体26Bを貫通している
ため、前記実施の形態と同様の作用および効果が奏され
ることになる。
【0051】ヒートシンクは樹脂封止体の内部に一部が
埋め込まれるように構成するに限らず、全体が埋め込ま
れるように構成してもよい。ヒートシンクの一部が樹脂
封止体の一主面が露出される場合には、外付けの放熱フ
ィンを付設することができるように構成してもよい。こ
のような場合には、アウタリードはヒートシンクと反対
側の主面の方向に屈曲させてもよい。
【0052】前記実施の形態では、ヒートシンクの中空
部に冷媒として水が流通される場合について説明した
が、冷媒は液体に限らず、空気や窒素ガス等の気体であ
ってもよい。また、中空部を有するヒートシンクは表面
積が大きいため、冷媒を強制的に流通させなくとも充分
な放熱性能を発揮する。
【0053】また、ヒートシンクはグランド端子や給電
端子等のための導電部材と使用してもよい。
【0054】リードフレームは多連構造に構成するに限
らず、単体に構成してヒートシンクを順次組み付けても
よい。
【0055】リードフレームと別体に製造する場合に
は、ヒートシンクを形成する材料としては、銅系材料を
使用するに限らず、アルミニウム系材料(アルミニウム
またはその合金)等の熱伝導性の良好な他の金属材料を
使用することができる。特に、炭化シリコン(SiC)
等のように熱伝導性に優れ、かつ、熱膨張率がペレット
の材料であるシリコンのそれと略等しい材料を使用する
ことが望ましい。
【0056】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるSOP
およびQFPに適用した場合について説明したが、それ
に限定されるものではなく、SOJやSOI、QFJ、
QFI等のパッケージ全般に適用することができ、さら
には、それらのパッケージを備えたICに限らず、パワ
ートランジスタや、その他の半導体装置全般に適用する
ことができる。特に、本発明は、高い放熱性能が要求さ
れる半導体装置に利用して優れた効果が得られる。
【0057】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、次
の通りである。
【0058】ペレットを中空部を有するヒートシンクに
ボンディングすることにより、ヒートシンクの放熱性能
を高めることができるため、ペレットをきわめて効果的
に冷却することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態であるHSOP・ICを
示しており、(a)は斜視図、(b)は正面断面図、
(c)は一部切断側面図である。
【図2】本発明の一実施の形態であるHSOP・ICの
製造方法に使用される多連リードフレームを示してお
り、(a)は一部省略平面図、(b)は(a)のb−b
線に沿う断面図である。
【図3】ペレットおよびワイヤ・ボンディング工程後の
組立体を示しており、(a)は一部省略平面図、(b)
は(a)のb−b線に沿う断面図である。
【図4】樹脂封止体成形工程を示しており、(a)は一
部省略側面断面図、(b)は(a)のb−b線に沿う断
面図である。
【図5】樹脂封止体成形後を示しており、(a)は一部
省略平面図、(b)は(a)のb−b線に沿う断面図で
ある。
【図6】HSOP・ICの実装状態を示しており、
(a)は斜視図、(b)は正面断面図、(c)は側面断
面図である。
【図7】本発明の他の実施の形態であるHSOP・IC
を示しており、(a)は斜視図、(b)は正面断面図、
(c)は一部切断側面図である。
【図8】本発明の他の実施の形態であるHSOP・IC
の製造方法に使用されるリードフレームとヒートシンク
の結合体を示しており、(a)は一部省略平面図、
(b)は(a)のb−b線に沿う断面図である。
【図9】本発明の他の実施の形態であるHQFP・IC
を示しており、(a)は平面図、(b)は正面図であ
る。
【符号の説明】
10、10A…多連リードフレーム、11…単位リード
フレーム(リードフレーム)、12…フレーム、13…
トップレール、14…ボトムレール、15…フロントサ
イドレール、16…リアサイドレール、17…アウタリ
ード、18…インナリード、19…ダム・バー、20、
20A、20B…ヒートシンク、20a…小孔、20b
…フランジ、20c…突起、21…中空部、22…ボン
ディング層、23…ペレット、23a…電極パッド、2
4…ワイヤ、25…多連リードフレームにペレット・ワ
イヤボンディングされた組立体(成形ワーク)、26、
26B…樹脂封止体、27…成形品、28、28A…H
SOP・IC(半導体装置)、28B…HQFP・I
C、29…リードフレームとヒートシンクの結合体、3
0…トランスファ成形装置、31…上型、32…下型、
33…キャビティー、33a…上型キャビティー凹部、
33b…下型キャビティー凹部、34…ポット、35…
プランジャ、36…カル、37…ランナ、38…ゲー
ト、39…スルーゲート、40…ヒートシンク嵌入凹
部、41…レジン、50…プリント配線基板、51…基
板本体、52…マウントパッド、53…半田付け部、5
4…水(冷媒)、55…通水パイプ。
フロントページの続き (72)発明者 清水 一男 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体グループ内 (72)発明者 小池 信也 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体グループ内 Fターム(参考) 4M109 AA01 BA01 CA21 DB03 5F036 AA01 BA03 BA05 BA23 BB08 5F067 AA03 AB02 CA03 CA04 DB01

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体ペレットが中空部を有するヒート
    シンクにボンディングされているとともに複数本のイン
    ナリードに電気的に接続されており、このヒートシンク
    の少なくとも一部がペレット、インナリード群と共に樹
    脂封止体によって樹脂封止されており、前記ヒートシン
    クの中空部の一対の端が前記樹脂封止体の外部で開口さ
    れていることを特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 前記ヒートシンクの中空部に冷媒が前記
    開口の一方から導入され他方から導出されて流通される
    ことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
  3. 【請求項3】 前記複数本のインナリードが前記ヒート
    シンクの両脇にそれぞれ配列されており、前記一対の開
    口の両方がこのインナリードの並び方向の両端にそれぞ
    れ配置されていることを特徴とする請求項1に記載の半
    導体装置。
  4. 【請求項4】 請求項1に記載の半導体装置の製造方法
    は、次の工程を備えていることを特徴とする、(a)
    前記複数本のインナリードが前記ヒートシンクと共に異
    形板材によって一体成形されたリードフレームが準備さ
    れるリードフレーム準備工程、(b) 前記リードフレ
    ームのヒートシンクの一主面に半導体ペレットがボンデ
    ィングされるペレットボンディング工程。
  5. 【請求項5】 請求項1に記載の半導体装置の製造方法
    は、次の工程を備えていることを特徴とする、(a)
    前記複数本のインナリードが複数本のアウタリードと共
    にフレームに保持されたリードフレームが準備されるリ
    ードフレーム準備工程、(b) 前記ヒートシンクが準
    備されるヒートシンク準備工程、(c) 前記ヒートシ
    ンクが前記リードフレームに機械的に結合されて結合体
    が製造される結合工程、(d) 前記結合体の前記ヒー
    トシンクの一主面に半導体ペレットがボンディングされ
    るペレットボンディング工程。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015153932A (ja) * 2014-02-17 2015-08-24 トヨタ自動車株式会社 半導体モジュール
JP2016105523A (ja) * 2016-03-10 2016-06-09 三菱電機株式会社 半導体装置及びその製造方法
WO2022107697A1 (ja) * 2020-11-17 2022-05-27 三菱電機株式会社 パワー半導体モジュール及びその製造方法並びに電力変換装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2015153932A (ja) * 2014-02-17 2015-08-24 トヨタ自動車株式会社 半導体モジュール
JP2016105523A (ja) * 2016-03-10 2016-06-09 三菱電機株式会社 半導体装置及びその製造方法
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