JP2001351275A - 光情報媒体の製造方法および製造装置 - Google Patents
光情報媒体の製造方法および製造装置Info
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- G—PHYSICS
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- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B11/00—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor
- G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
- G11B11/105—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
- G11B11/10582—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 支持基体表面に情報記録面および光透過層を
有し、光透過層を通してレーザー光が照射される光情報
媒体を製造するに際し、製造工程および製造装置の複雑
化を最小限に抑えた上で、光透過層の厚さむらを小さく
する。 【解決手段】 情報記録面を設けた支持基体からなる基
板１００を載置し、回転させるための回転テーブル２
と、基板１００の中心孔を塞ぐための閉塞手段と、樹脂
を含有する塗布液５を吐出するための吐出手段４とを備
え、前記閉塞手段が、前記中心孔を塞ぐための円板部３
１と、この円板部３１の中央に一体化された支持軸３２
とを有し、支持軸３２の外周面に塗布液５が供給される
光情報媒体の製造装置。
有し、光透過層を通してレーザー光が照射される光情報
媒体を製造するに際し、製造工程および製造装置の複雑
化を最小限に抑えた上で、光透過層の厚さむらを小さく
する。 【解決手段】 情報記録面を設けた支持基体からなる基
板１００を載置し、回転させるための回転テーブル２
と、基板１００の中心孔を塞ぐための閉塞手段と、樹脂
を含有する塗布液５を吐出するための吐出手段４とを備
え、前記閉塞手段が、前記中心孔を塞ぐための円板部３
１と、この円板部３１の中央に一体化された支持軸３２
とを有し、支持軸３２の外周面に塗布液５が供給される
光情報媒体の製造装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、再生専用光ディス
ク、光記録ディスク等の光情報媒体を製造する方法と、
この方法に用いる装置とに関する。
ク、光記録ディスク等の光情報媒体を製造する方法と、
この方法に用いる装置とに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、再生専用光ディスクや光記録ディ
スク等の光記録媒体では、動画情報等の膨大な情報を記
録ないし保存するため、記録密度向上による媒体の高容
量化が求められ、これに応えるために、高記録密度化の
ための研究開発が盛んに行われてきた。
スク等の光記録媒体では、動画情報等の膨大な情報を記
録ないし保存するため、記録密度向上による媒体の高容
量化が求められ、これに応えるために、高記録密度化の
ための研究開発が盛んに行われてきた。
【０００３】その中のひとつとして、例えばＤＶＤ（Di
gital Versatile Disk）にみられるように、記録・再生
波長を短くし、かつ、記録・再生光学系の対物レンズの
開口数（ＮＡ）を大きくして、記録・再生時のレーザー
ビームスポット径を小さくすることが提案されている。
ＤＶＤをＣＤと比較すると、記録・再生波長を７８０nm
から６５０nmに変更し、ＮＡを０．４５から０．６に変
更することにより、６〜８倍の記録容量（４．７GB／
面）を達成している。
gital Versatile Disk）にみられるように、記録・再生
波長を短くし、かつ、記録・再生光学系の対物レンズの
開口数（ＮＡ）を大きくして、記録・再生時のレーザー
ビームスポット径を小さくすることが提案されている。
ＤＶＤをＣＤと比較すると、記録・再生波長を７８０nm
から６５０nmに変更し、ＮＡを０．４５から０．６に変
更することにより、６〜８倍の記録容量（４．７GB／
面）を達成している。
【０００４】しかし、このように高ＮＡ化すると、チル
トマージンが小さくなってしまう。チルトマージンは、
光学系に対する光記録媒体の傾きの許容度であり、ＮＡ
によって決定される。記録・再生波長をλ、記録・再生
光が入射する透明基体の厚さをｄとすると、チルトマー
ジンは λ／（ｄ・ＮＡ3） に比例する。また、光記録媒体がレーザービームに対し
て傾くと、すなわちチルトが発生すると、波面収差（コ
マ収差）が発生する。基体の屈折率をｎ、傾き角をθと
すると、波面収差係数は （１／２）・ｄ・｛ｎ2・sinθ・cosθ｝・ＮＡ3／（ｎ
2−sin2θ）-5/2 で表される。これら各式から、チルトマージンを大きく
し、かつコマ収差の発生を抑えるためには、基体の厚さ
ｄを小さくすればよいことがわかる。実際、ＤＶＤで
は、基体の厚さをＣＤ基体の厚さ（１．２mm程度）の約
半分（０．６mm程度）とすることにより、チルトマージ
ンを確保している。
トマージンが小さくなってしまう。チルトマージンは、
光学系に対する光記録媒体の傾きの許容度であり、ＮＡ
によって決定される。記録・再生波長をλ、記録・再生
光が入射する透明基体の厚さをｄとすると、チルトマー
ジンは λ／（ｄ・ＮＡ3） に比例する。また、光記録媒体がレーザービームに対し
て傾くと、すなわちチルトが発生すると、波面収差（コ
マ収差）が発生する。基体の屈折率をｎ、傾き角をθと
すると、波面収差係数は （１／２）・ｄ・｛ｎ2・sinθ・cosθ｝・ＮＡ3／（ｎ
2−sin2θ）-5/2 で表される。これら各式から、チルトマージンを大きく
し、かつコマ収差の発生を抑えるためには、基体の厚さ
ｄを小さくすればよいことがわかる。実際、ＤＶＤで
は、基体の厚さをＣＤ基体の厚さ（１．２mm程度）の約
半分（０．６mm程度）とすることにより、チルトマージ
ンを確保している。
【０００５】ところで、より高品位の動画像を長時間記
録するために、基体をさらに薄くできる構造が提案され
ている。この構造は、通常の厚さの基体を剛性維持のた
めの支持基体として用い、その表面にピットや記録層を
形成し、その上に薄型の基体として厚さ０．１mm程度の
光透過層を設け、この光透過層を通して記録・再生光を
入射させるものである。この構造では、従来に比べ基体
を著しく薄くできるため、高ＮＡ化による高記録密度達
成が可能である。このような構造をもつ媒体は、例えば
特開平１０−３２０８５９号公報および特開平１１−１
２０６１３号公報に記載されている。
録するために、基体をさらに薄くできる構造が提案され
ている。この構造は、通常の厚さの基体を剛性維持のた
めの支持基体として用い、その表面にピットや記録層を
形成し、その上に薄型の基体として厚さ０．１mm程度の
光透過層を設け、この光透過層を通して記録・再生光を
入射させるものである。この構造では、従来に比べ基体
を著しく薄くできるため、高ＮＡ化による高記録密度達
成が可能である。このような構造をもつ媒体は、例えば
特開平１０−３２０８５９号公報および特開平１１−１
２０６１３号公報に記載されている。
【０００６】厚さ０．１mm程度の光透過層を設けること
により、開口数ＮＡの大きい、例えばＮＡが０．８５程
度の対物レンズが使用可能となる。
により、開口数ＮＡの大きい、例えばＮＡが０．８５程
度の対物レンズが使用可能となる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】厚さ０．１mm程度の光
透過層の形成方法としては、例えばスピンコート法が挙
げられる。スピンコート法を用いる場合、回転テーブル
に固定したディスク基板の表面に樹脂を供給し、ディス
ク基板を回転させて、遠心力により樹脂を展延する。デ
ィスク基板には、駆動装置に装填する際に利用する中心
孔が形成されているため、樹脂を回転中心（ディスク基
板の中央）に供給することはできず、回転中心から等距
離に環状に供給することになる。しかし、樹脂供給位置
が回転中心から離れるほど、光透過層の径方向での厚さ
むらが大きくなってしまう。
透過層の形成方法としては、例えばスピンコート法が挙
げられる。スピンコート法を用いる場合、回転テーブル
に固定したディスク基板の表面に樹脂を供給し、ディス
ク基板を回転させて、遠心力により樹脂を展延する。デ
ィスク基板には、駆動装置に装填する際に利用する中心
孔が形成されているため、樹脂を回転中心（ディスク基
板の中央）に供給することはできず、回転中心から等距
離に環状に供給することになる。しかし、樹脂供給位置
が回転中心から離れるほど、光透過層の径方向での厚さ
むらが大きくなってしまう。
【０００８】光透過層の径方向での厚さむらを低減する
ため、ディスク基板の中心孔を、板状部材、円板部、閉
塞板、キャップ等の閉塞手段により塞ぎ、この閉塞手段
の中央付近、すなわち回転中心付近に樹脂を供給する提
案がなされている（特開平１０−３２０８５０号公報、
同１０−２４９２６４号公報、同１０−２８９４８９号
公報、同１１−１９５２５０号公報、同１１−１９５２
５１号公報）。
ため、ディスク基板の中心孔を、板状部材、円板部、閉
塞板、キャップ等の閉塞手段により塞ぎ、この閉塞手段
の中央付近、すなわち回転中心付近に樹脂を供給する提
案がなされている（特開平１０−３２０８５０号公報、
同１０−２４９２６４号公報、同１０−２８９４８９号
公報、同１１−１９５２５０号公報、同１１−１９５２
５１号公報）。
【０００９】しかし、上記特開平１０−３２０８５０号
公報、特開平１０−２４９２６４号公報、特開平１１−
１９５２５０号公報には、閉塞手段である板状部材ない
しキャップをスピンコート後に取り外す方法が記載され
ておらず、工業的に利用することが困難である。
公報、特開平１０−２４９２６４号公報、特開平１１−
１９５２５０号公報には、閉塞手段である板状部材ない
しキャップをスピンコート後に取り外す方法が記載され
ておらず、工業的に利用することが困難である。
【００１０】これに対し上記特開平１０−２８９４８９
号公報には、スピンコート後、閉塞手段である円板部を
打ち抜きまたは電磁石による吸着により取り外すことが
記載されている。しかし、打ち抜きおよび電磁石による
取り外しは工程上煩雑である。また、取り外しの際の閉
塞手段の加速度が大きいため、樹脂塗膜に乱れが生じや
すい。
号公報には、スピンコート後、閉塞手段である円板部を
打ち抜きまたは電磁石による吸着により取り外すことが
記載されている。しかし、打ち抜きおよび電磁石による
取り外しは工程上煩雑である。また、取り外しの際の閉
塞手段の加速度が大きいため、樹脂塗膜に乱れが生じや
すい。
【００１１】また、上記特開平１１−１９５２５１号公
報には、円形状のキャップの中央に支持体を一体化した
構造の閉塞手段が記載されている。同公報には、この支
持体を設けることにより、閉塞手段の着脱や位置合わせ
が容易になる旨が記載されている。この支持体は、少な
くとも１つの孔を有する中空筒状のものであるか、複数
の棒状体である。中空筒の内部または複数の棒状体で包
囲された領域に樹脂を注入した後、ディスク基板と閉塞
手段とを一体的に回転させることにより、ディスク基板
上に樹脂層が形成される。この閉塞手段を用いれば、閉
塞手段の取り外しは容易となる。
報には、円形状のキャップの中央に支持体を一体化した
構造の閉塞手段が記載されている。同公報には、この支
持体を設けることにより、閉塞手段の着脱や位置合わせ
が容易になる旨が記載されている。この支持体は、少な
くとも１つの孔を有する中空筒状のものであるか、複数
の棒状体である。中空筒の内部または複数の棒状体で包
囲された領域に樹脂を注入した後、ディスク基板と閉塞
手段とを一体的に回転させることにより、ディスク基板
上に樹脂層が形成される。この閉塞手段を用いれば、閉
塞手段の取り外しは容易となる。
【００１２】しかし、この閉塞手段では、中空筒に設け
られた孔または隣り合う棒状体の間から樹脂を流出させ
てスピンコートを行う。したがって、支持体の壁（孔以
外の領域）または棒状体に樹脂が堰き止められてしま
う。また、堰き止められた樹脂が、予測できないタイミ
ングで一挙にディスク基板上に流出することがある。そ
のため、塗膜にむらが生じやすい。また、この閉塞手段
は、樹脂と接触する面の形状が複雑であり、かつ、樹脂
と接触する面積が大きいため、閉塞手段の洗浄が困難で
ある。閉塞手段表面に樹脂が残存すると、塗膜にむらが
生じやすい。また、同公報の表１には、中空筒の外径が
４〜１６mmの場合について塗膜の厚さ変動を調べている
が、この結果から、塗膜の厚さむらは中空筒の外径に依
存し、外径が大きいほど厚さむらが大きくなることがわ
かる。すなわち、中空筒の内部に樹脂を供給しても、塗
布開始位置は回転中心とは一致せず、中空筒の外周位置
が塗布開始位置となると考えられる。なお、樹脂の粘度
が比較的高いことを考慮すると、中空筒の外径を４mm未
満とすることは困難であるため、同公報記載の方法で
は、樹脂塗膜の厚さむらを著しく小さくすることは難し
い。
られた孔または隣り合う棒状体の間から樹脂を流出させ
てスピンコートを行う。したがって、支持体の壁（孔以
外の領域）または棒状体に樹脂が堰き止められてしま
う。また、堰き止められた樹脂が、予測できないタイミ
ングで一挙にディスク基板上に流出することがある。そ
のため、塗膜にむらが生じやすい。また、この閉塞手段
は、樹脂と接触する面の形状が複雑であり、かつ、樹脂
と接触する面積が大きいため、閉塞手段の洗浄が困難で
ある。閉塞手段表面に樹脂が残存すると、塗膜にむらが
生じやすい。また、同公報の表１には、中空筒の外径が
４〜１６mmの場合について塗膜の厚さ変動を調べている
が、この結果から、塗膜の厚さむらは中空筒の外径に依
存し、外径が大きいほど厚さむらが大きくなることがわ
かる。すなわち、中空筒の内部に樹脂を供給しても、塗
布開始位置は回転中心とは一致せず、中空筒の外周位置
が塗布開始位置となると考えられる。なお、樹脂の粘度
が比較的高いことを考慮すると、中空筒の外径を４mm未
満とすることは困難であるため、同公報記載の方法で
は、樹脂塗膜の厚さむらを著しく小さくすることは難し
い。
【００１３】本発明の目的は、支持基体表面に情報記録
面を有し、この情報記録面上に光透過層を有し、この光
透過層を通して記録または再生用のレーザー光が照射さ
れる光情報媒体を製造するに際し、製造工程および製造
装置の複雑化を最小限に抑えた上で、光透過層の厚さむ
らを小さくすることである。
面を有し、この情報記録面上に光透過層を有し、この光
透過層を通して記録または再生用のレーザー光が照射さ
れる光情報媒体を製造するに際し、製造工程および製造
装置の複雑化を最小限に抑えた上で、光透過層の厚さむ
らを小さくすることである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（３）の本発明により達成される。 （１） 中心孔を有するディスク状の支持基体上に、情
報記録面を有し、この情報記録面上に、樹脂を含有する
光透過層を有し、この光透過層を通して記録または再生
のためのレーザー光が入射するように使用される光情報
媒体の前記光透過層を形成するための装置であって、前
記情報記録面を設けた前記支持基体を含む基板を載置
し、回転させるための回転テーブルと、前記中心孔を塞
ぐための閉塞手段と、樹脂を含有する塗布液を吐出する
ための吐出手段とを備え、前記閉塞手段が、前記中心孔
を塞ぐための円板部と、この円板部の中央に一体化され
た支持軸とを有し、前記支持軸の外周面に前記塗布液が
供給される光情報媒体の製造装置。 （２） 前記支持軸の少なくとも一部が、前記円板部に
向かって直径が漸減する円錐台状である上記（１）の光
情報媒体の製造装置。 （３） 上記（１）または（２）の光情報媒体の製造装
置を用い、前記回転テーブル上に載置した前記基板の前
記中心孔を、前記円板部で塞いだ状態で、前記吐出手段
から吐出された前記塗布液を前記支持軸に沿って前記円
板部上に供給し、前記基板を前記閉塞手段と共に回転さ
せることにより、前記円板部上に供給された塗布液を前
記基板上に展延して樹脂層を形成する工程と、前記樹脂
層を硬化することにより光透過層とする工程とを有する
光情報媒体の製造方法。
（１）〜（３）の本発明により達成される。 （１） 中心孔を有するディスク状の支持基体上に、情
報記録面を有し、この情報記録面上に、樹脂を含有する
光透過層を有し、この光透過層を通して記録または再生
のためのレーザー光が入射するように使用される光情報
媒体の前記光透過層を形成するための装置であって、前
記情報記録面を設けた前記支持基体を含む基板を載置
し、回転させるための回転テーブルと、前記中心孔を塞
ぐための閉塞手段と、樹脂を含有する塗布液を吐出する
ための吐出手段とを備え、前記閉塞手段が、前記中心孔
を塞ぐための円板部と、この円板部の中央に一体化され
た支持軸とを有し、前記支持軸の外周面に前記塗布液が
供給される光情報媒体の製造装置。 （２） 前記支持軸の少なくとも一部が、前記円板部に
向かって直径が漸減する円錐台状である上記（１）の光
情報媒体の製造装置。 （３） 上記（１）または（２）の光情報媒体の製造装
置を用い、前記回転テーブル上に載置した前記基板の前
記中心孔を、前記円板部で塞いだ状態で、前記吐出手段
から吐出された前記塗布液を前記支持軸に沿って前記円
板部上に供給し、前記基板を前記閉塞手段と共に回転さ
せることにより、前記円板部上に供給された塗布液を前
記基板上に展延して樹脂層を形成する工程と、前記樹脂
層を硬化することにより光透過層とする工程とを有する
光情報媒体の製造方法。
【００１５】
【作用および効果】本発明の製造装置は、図１および図
３に示すように、中心孔１０１を有するディスク基板１
００を載置して回転させるための回転テーブル２と、中
心孔１０１を塞ぐための閉塞手段３と、樹脂を含有する
塗布液５を吐出するための吐出手段（ノズル４）とを備
える。閉塞手段３は、中心孔１０１を塞ぐための円板部
３１と、この円板部３１の中央に一体化された支持軸３
２とを有する。塗布液５は、支持軸３２の外周面に供給
される。
３に示すように、中心孔１０１を有するディスク基板１
００を載置して回転させるための回転テーブル２と、中
心孔１０１を塞ぐための閉塞手段３と、樹脂を含有する
塗布液５を吐出するための吐出手段（ノズル４）とを備
える。閉塞手段３は、中心孔１０１を塞ぐための円板部
３１と、この円板部３１の中央に一体化された支持軸３
２とを有する。塗布液５は、支持軸３２の外周面に供給
される。
【００１６】本発明では、閉塞手段３に支持軸３２を設
けるため、媒体製造工程における閉塞手段３の取り扱い
が容易となり、特に、スピンコート後に閉塞手段３を取
り外すことが容易となる。
けるため、媒体製造工程における閉塞手段３の取り扱い
が容易となり、特に、スピンコート後に閉塞手段３を取
り外すことが容易となる。
【００１７】なお、前述したように特開平１１−１９５
２５１号公報には、中空筒状の支持体または複数の棒状
体からなる支持体を設けた閉塞手段が記載されている
が、これに比べ、本発明で用いる閉塞手段には以下に説
明する利点がある。
２５１号公報には、中空筒状の支持体または複数の棒状
体からなる支持体を設けた閉塞手段が記載されている
が、これに比べ、本発明で用いる閉塞手段には以下に説
明する利点がある。
【００１８】前記特開平１１−１９５２５１号公報で
は、支持体の壁または棒状体により樹脂が堰き止められ
てしまうため、前述したように塗膜にむらが生じやす
い。これに対し本発明では、支持軸の外周面に塗布液を
供給してスピンコートを行うため、塗膜にむらが生じに
くい。また、本発明では、樹脂が付着するのは支持軸の
外周面であるため、同公報記載のものに比べ閉塞手段の
洗浄が容易である。また、同公報では、中空筒状の支持
体の内部に粘度の比較的高い塗布液を供給するので、塗
布液の流動性を確保するために支持体の外径を小さくす
ることができず、そのため、塗布開始位置が回転中心か
ら比較的遠くなってしまう。これに対し本発明では、同
公報に比べ支持軸の外径を著しく小さくできるので、塗
膜の厚さむらを著しく低減できる。
は、支持体の壁または棒状体により樹脂が堰き止められ
てしまうため、前述したように塗膜にむらが生じやす
い。これに対し本発明では、支持軸の外周面に塗布液を
供給してスピンコートを行うため、塗膜にむらが生じに
くい。また、本発明では、樹脂が付着するのは支持軸の
外周面であるため、同公報記載のものに比べ閉塞手段の
洗浄が容易である。また、同公報では、中空筒状の支持
体の内部に粘度の比較的高い塗布液を供給するので、塗
布液の流動性を確保するために支持体の外径を小さくす
ることができず、そのため、塗布開始位置が回転中心か
ら比較的遠くなってしまう。これに対し本発明では、同
公報に比べ支持軸の外径を著しく小さくできるので、塗
膜の厚さむらを著しく低減できる。
【００１９】
【発明の実施の形態】本発明により製造される光情報媒
体の構成例を、図８に示す。この光情報媒体は記録媒体
であり、支持基体１２０上に、情報記録面として記録層
１０４を有し、この記録層１０４上に光透過層１０２を
有する。記録または再生のためのレーザー光は、光透過
層１０２を通して入射する。
体の構成例を、図８に示す。この光情報媒体は記録媒体
であり、支持基体１２０上に、情報記録面として記録層
１０４を有し、この記録層１０４上に光透過層１０２を
有する。記録または再生のためのレーザー光は、光透過
層１０２を通して入射する。
【００２０】本発明は、記録層の種類によらず適用でき
る。すなわち、例えば、相変化型記録媒体であっても、
ピット形成タイプの記録媒体であっても、光磁気記録媒
体であっても適用できる。なお、通常は、記録層の少な
くとも一方の側に、記録層の保護や光学的効果を目的と
して誘電体層や反射層が設けられるが、図８では図示を
省略してある。また、本発明は、図示するような記録可
能タイプに限らず、再生専用タイプにも適用可能であ
る。その場合、支持基体１２０と一体的に形成されるピ
ット列が、情報記録面を構成することになる。
る。すなわち、例えば、相変化型記録媒体であっても、
ピット形成タイプの記録媒体であっても、光磁気記録媒
体であっても適用できる。なお、通常は、記録層の少な
くとも一方の側に、記録層の保護や光学的効果を目的と
して誘電体層や反射層が設けられるが、図８では図示を
省略してある。また、本発明は、図示するような記録可
能タイプに限らず、再生専用タイプにも適用可能であ
る。その場合、支持基体１２０と一体的に形成されるピ
ット列が、情報記録面を構成することになる。
【００２１】次に、光透過層の形成方法を説明する。
【００２２】まず、図１および図２に示すように、回転
テーブル２上にディスク基板１００を載置する。このデ
ィスク基板１００は、情報記録面を設けた支持基体であ
り、中心孔１０１を有する。ディスク基板１００は、中
心孔１０１が回転テーブル２の環状の突起２１に填め込
まれて固定される。なお、これらの図は断面図である
が、断面に現れる端面だけを表示し、奥行き方向の図示
は省略してある。これ以降の断面図においても同様であ
る。
テーブル２上にディスク基板１００を載置する。このデ
ィスク基板１００は、情報記録面を設けた支持基体であ
り、中心孔１０１を有する。ディスク基板１００は、中
心孔１０１が回転テーブル２の環状の突起２１に填め込
まれて固定される。なお、これらの図は断面図である
が、断面に現れる端面だけを表示し、奥行き方向の図示
は省略してある。これ以降の断面図においても同様であ
る。
【００２３】次いで、閉塞手段３により中心孔１０１を
塞ぐ。この閉塞手段３は、中心孔１０１を塞ぐための円
板部３１と、その中央に一体化された支持軸３２と、中
心孔１０１に対向する側において円板部３１に一体化さ
れた凸部３３とを有する。凸部３３を、突起２１の内周
部に嵌合することにより、閉塞手段３は回転テーブル２
に固定されると共に、ディスク基板１００と閉塞手段３
との位置決めを行うことができる。ただし、ディスク基
板１００および閉塞手段３の回転テーブル２への固定方
法は特に限定されず、例えば、ディスク基板１００と閉
塞手段３とが嵌合した状態で、閉塞手段３を回転テーブ
ル２に嵌合させるものであってもよい。
塞ぐ。この閉塞手段３は、中心孔１０１を塞ぐための円
板部３１と、その中央に一体化された支持軸３２と、中
心孔１０１に対向する側において円板部３１に一体化さ
れた凸部３３とを有する。凸部３３を、突起２１の内周
部に嵌合することにより、閉塞手段３は回転テーブル２
に固定されると共に、ディスク基板１００と閉塞手段３
との位置決めを行うことができる。ただし、ディスク基
板１００および閉塞手段３の回転テーブル２への固定方
法は特に限定されず、例えば、ディスク基板１００と閉
塞手段３とが嵌合した状態で、閉塞手段３を回転テーブ
ル２に嵌合させるものであってもよい。
【００２４】次に、図３に示すように、樹脂または樹脂
溶液からなる塗布液５をノズル４から吐出し、支持軸３
２の外周面に塗布液５を供給する。このとき、回転テー
ブル２を比較的低速、好ましくは２０〜１００rpmで回
転させ、円板部３１上に一様に塗布液が行き渡るように
する。本発明で用いる樹脂は特に限定されず、例えば、
エネルギー線硬化型樹脂を用いてもよく、熱硬化性樹脂
を用いてもよいが、好ましくはエネルギー線硬化型樹
脂、特に紫外線硬化型樹脂を用いる。
溶液からなる塗布液５をノズル４から吐出し、支持軸３
２の外周面に塗布液５を供給する。このとき、回転テー
ブル２を比較的低速、好ましくは２０〜１００rpmで回
転させ、円板部３１上に一様に塗布液が行き渡るように
する。本発明で用いる樹脂は特に限定されず、例えば、
エネルギー線硬化型樹脂を用いてもよく、熱硬化性樹脂
を用いてもよいが、好ましくはエネルギー線硬化型樹
脂、特に紫外線硬化型樹脂を用いる。
【００２５】次いで、図４に示すように、回転テーブル
２を比較的高速で回転させることにより塗布液５を展延
する。これにより、ディスク基板１００上に樹脂層５１
が形成される。
２を比較的高速で回転させることにより塗布液５を展延
する。これにより、ディスク基板１００上に樹脂層５１
が形成される。
【００２６】塗布液の展延条件は特に限定されない。ス
ピンコート法において塗布液の粘度以外の条件を同一と
した場合、理論的には、塗膜の厚さは塗布液の粘度の平
方根に比例することが知られている。一方、回転数が大
きいほど、また、回転時間が長いほど塗膜は薄くなる。
したがって、スピンコート時の回転数および回転時間
は、形成する樹脂層５１の厚さおよび塗布液の粘度に応
じて適宜決定すればよい。ただし、後述するように厚さ
３０〜３００μm程度の光透過層を形成する場合には、
塗布液の粘度は１００〜１００，０００cP、回転数は５
００〜６，０００rpm、回転時間は２〜１０秒間の範囲
からそれぞれ選択することが好ましい。
ピンコート法において塗布液の粘度以外の条件を同一と
した場合、理論的には、塗膜の厚さは塗布液の粘度の平
方根に比例することが知られている。一方、回転数が大
きいほど、また、回転時間が長いほど塗膜は薄くなる。
したがって、スピンコート時の回転数および回転時間
は、形成する樹脂層５１の厚さおよび塗布液の粘度に応
じて適宜決定すればよい。ただし、後述するように厚さ
３０〜３００μm程度の光透過層を形成する場合には、
塗布液の粘度は１００〜１００，０００cP、回転数は５
００〜６，０００rpm、回転時間は２〜１０秒間の範囲
からそれぞれ選択することが好ましい。
【００２７】次に、図５に示すように閉塞手段３をディ
スク基板１００から離間する。用いる塗布液が紫外線硬
化型樹脂を含有する場合、図６に示すように紫外線を照
射して樹脂層５１を硬化し、光透過層１０２とする。図
６では、回転テーブル２上で紫外線を照射しているが、
回転テーブルとは別に硬化用ステージを設けて、その上
で硬化してもよい。また、ディスク基板を回転させなが
ら閉塞手段を離間してもよい。
スク基板１００から離間する。用いる塗布液が紫外線硬
化型樹脂を含有する場合、図６に示すように紫外線を照
射して樹脂層５１を硬化し、光透過層１０２とする。図
６では、回転テーブル２上で紫外線を照射しているが、
回転テーブルとは別に硬化用ステージを設けて、その上
で硬化してもよい。また、ディスク基板を回転させなが
ら閉塞手段を離間してもよい。
【００２８】なお、樹脂層５１を硬化した後に、閉塞手
段３をディスク基板１００から取り外してもよい。しか
し、硬化後に閉塞手段３を取り外すと、円板部３上に存
在する樹脂層とディスク基板１００上に存在する樹脂層
との境界付近にバリが生じたり、硬化後の樹脂が破片と
なってディスク基板１００上に飛散したりしやすい。し
たがって、閉塞手段３を取り外した後に樹脂層５１を硬
化することが好ましい。
段３をディスク基板１００から取り外してもよい。しか
し、硬化後に閉塞手段３を取り外すと、円板部３上に存
在する樹脂層とディスク基板１００上に存在する樹脂層
との境界付近にバリが生じたり、硬化後の樹脂が破片と
なってディスク基板１００上に飛散したりしやすい。し
たがって、閉塞手段３を取り外した後に樹脂層５１を硬
化することが好ましい。
【００２９】閉塞手段は、円板部と支持軸とを有するも
のであればよく、そのほかの構成は特に限定されない。
図１に示す閉塞手段３は、円錐台状の円板部３１と、円
柱状の支持軸３２とを有するものであるが、このほか、
例えば図７（Ａ）〜図７（Ｄ）にそれぞれ示す構成の閉
塞手段も使用可能である。
のであればよく、そのほかの構成は特に限定されない。
図１に示す閉塞手段３は、円錐台状の円板部３１と、円
柱状の支持軸３２とを有するものであるが、このほか、
例えば図７（Ａ）〜図７（Ｄ）にそれぞれ示す構成の閉
塞手段も使用可能である。
【００３０】図７（Ａ）に示す閉塞手段は、円錐台状の
円板部３１と、逆円錐台状の支持軸３２とを有する。こ
の閉塞手段を用いると、塗布液の塗布開始位置を円板部
３１の中央により近づけることができるので、塗膜の厚
さむらをさらに低減できる。しかも、支持軸３２の全体
を細くする場合と異なり、支持軸３２の機械的強度の低
下を抑えることができる。また、支持軸３２をチャック
等により把持する場合に、落下しにくくなるので、閉塞
手段の着脱および搬送の際に有利である。なお、支持軸
３２の全体が逆円錐台状である必要はない。すなわち、
支持軸３２の少なくとも一部が円板部３１に向かって直
径が漸減する円錐台状であって、かつ、それより円板部
に近い領域において支持軸の直径が大きくならなければ
よい。
円板部３１と、逆円錐台状の支持軸３２とを有する。こ
の閉塞手段を用いると、塗布液の塗布開始位置を円板部
３１の中央により近づけることができるので、塗膜の厚
さむらをさらに低減できる。しかも、支持軸３２の全体
を細くする場合と異なり、支持軸３２の機械的強度の低
下を抑えることができる。また、支持軸３２をチャック
等により把持する場合に、落下しにくくなるので、閉塞
手段の着脱および搬送の際に有利である。なお、支持軸
３２の全体が逆円錐台状である必要はない。すなわち、
支持軸３２の少なくとも一部が円板部３１に向かって直
径が漸減する円錐台状であって、かつ、それより円板部
に近い領域において支持軸の直径が大きくならなければ
よい。
【００３１】図７（Ｂ）に示す閉塞手段は、円板部３１
の断面形状が図７（Ａ）とは異なる。円板部３１上に塗
布液をむらなく展延するためには、外周部に向かって円
板部３１の厚さが漸減することが好ましい。その場合、
円板部３１の断面において、塗布液が展延される上縁の
形状は、図７（Ａ）に示すように直線状であってもよ
く、図７（Ｂ）に示すように曲線状であってもよい。ま
た、図７（Ｃ）に示すように、円板部３１の外周が垂直
面であってもよい。ただし、図７（Ｃ）において円板部
３１の外周における厚さｔは、好ましくは０．４mm以下
である。厚さｔが大きすぎると、樹脂層をむらなく塗布
することが難しくなる。なお、図７（Ｄ）に示すように
円板部３１の厚さを均一としてもよい。
の断面形状が図７（Ａ）とは異なる。円板部３１上に塗
布液をむらなく展延するためには、外周部に向かって円
板部３１の厚さが漸減することが好ましい。その場合、
円板部３１の断面において、塗布液が展延される上縁の
形状は、図７（Ａ）に示すように直線状であってもよ
く、図７（Ｂ）に示すように曲線状であってもよい。ま
た、図７（Ｃ）に示すように、円板部３１の外周が垂直
面であってもよい。ただし、図７（Ｃ）において円板部
３１の外周における厚さｔは、好ましくは０．４mm以下
である。厚さｔが大きすぎると、樹脂層をむらなく塗布
することが難しくなる。なお、図７（Ｄ）に示すように
円板部３１の厚さを均一としてもよい。
【００３２】本発明で用いる閉塞手段において、円板部
３１近傍における支持軸３２の最小直径は、好ましくは
４mm未満、より好ましくは２mm以下である。円板部３１
近傍における支持軸３２の直径が大きすぎると、塗布開
始位置が円板部３１の中央から離れることになり、樹脂
層５１の径方向における厚さむらが大きくなってしま
う。ただし、円板部３１近傍における支持軸３２の直径
が小さすぎると、支持軸３２の機械的強度が不十分とな
るので、上記最小直径は好ましくは０．５mm以上、より
好ましくは０．７mm以上である。支持軸３２の長さは特
に限定されず、その外周面への塗布液の供給が容易とな
るように、また、把持する際の取り扱いの容易さなどを
考慮して適宜決定すればよいが、好ましくは５〜１００
mm、より好ましくは１０〜３０mmとする。支持軸３２が
短すぎると、外周面への塗布液の供給がしにくくなり、
また、把持もしにくくなる。一方、支持軸３２が長すぎ
ると、取り扱いが面倒になる。
３１近傍における支持軸３２の最小直径は、好ましくは
４mm未満、より好ましくは２mm以下である。円板部３１
近傍における支持軸３２の直径が大きすぎると、塗布開
始位置が円板部３１の中央から離れることになり、樹脂
層５１の径方向における厚さむらが大きくなってしま
う。ただし、円板部３１近傍における支持軸３２の直径
が小さすぎると、支持軸３２の機械的強度が不十分とな
るので、上記最小直径は好ましくは０．５mm以上、より
好ましくは０．７mm以上である。支持軸３２の長さは特
に限定されず、その外周面への塗布液の供給が容易とな
るように、また、把持する際の取り扱いの容易さなどを
考慮して適宜決定すればよいが、好ましくは５〜１００
mm、より好ましくは１０〜３０mmとする。支持軸３２が
短すぎると、外周面への塗布液の供給がしにくくなり、
また、把持もしにくくなる。一方、支持軸３２が長すぎ
ると、取り扱いが面倒になる。
【００３３】円板部３１の直径は、ディスク基板の中心
孔１０１の直径よりも大きく、かつ、ディスク基板が有
する環状の情報記録面の内径よりも小さければよい。た
だし、塗布液５が円板部３１の下面に回り込んで中心孔
１０１の周面（ディスク基板の内周面）を汚染すること
があるので、円板部３１の直径は中心孔１０１の直径よ
りも４mm以上、特に８mm以上大きいことが好ましい。ま
た、円板部３１を取り外す際に、その近傍の樹脂層５１
の形状に乱れが生じやすいので、円板部３１の直径は情
報記録面の内径よりも３mm以上、特に５mm以上小さいこ
とが好ましい。具体的な寸法は、中心孔の直径および情
報記録面の内径によっても異なるが、通常、直径６０〜
１３０mm程度の光ディスクに本発明を適用する場合に
は、円板部３１の直径は２０〜４０mm、特に２５〜３８
mmの範囲内とすることが好ましい。
孔１０１の直径よりも大きく、かつ、ディスク基板が有
する環状の情報記録面の内径よりも小さければよい。た
だし、塗布液５が円板部３１の下面に回り込んで中心孔
１０１の周面（ディスク基板の内周面）を汚染すること
があるので、円板部３１の直径は中心孔１０１の直径よ
りも４mm以上、特に８mm以上大きいことが好ましい。ま
た、円板部３１を取り外す際に、その近傍の樹脂層５１
の形状に乱れが生じやすいので、円板部３１の直径は情
報記録面の内径よりも３mm以上、特に５mm以上小さいこ
とが好ましい。具体的な寸法は、中心孔の直径および情
報記録面の内径によっても異なるが、通常、直径６０〜
１３０mm程度の光ディスクに本発明を適用する場合に
は、円板部３１の直径は２０〜４０mm、特に２５〜３８
mmの範囲内とすることが好ましい。
【００３４】閉塞手段の構成材料は特に限定されず、金
属、樹脂、セラミックス等のいずれであってもよく、こ
れらの２種以上を用いた複合材料であってもよい。ま
た、円板部３１と支持軸３２とを相異なる材料から構成
してもよい。ただし、機械的強度、耐久性、寸法精度が
良好であることから、閉塞手段は金属から構成すること
が好ましい。金属としては、例えばステンレス合金、ア
ルミニウム、アルミニウム合金が好ましい。
属、樹脂、セラミックス等のいずれであってもよく、こ
れらの２種以上を用いた複合材料であってもよい。ま
た、円板部３１と支持軸３２とを相異なる材料から構成
してもよい。ただし、機械的強度、耐久性、寸法精度が
良好であることから、閉塞手段は金属から構成すること
が好ましい。金属としては、例えばステンレス合金、ア
ルミニウム、アルミニウム合金が好ましい。
【００３５】閉塞手段３の表面、特に円板部３１の全表
面は、塗布液よりも表面張力が低いことが好ましい。閉
塞手段３の表面が塗布液に対し濡れにくければ、閉塞手
段の表面に付着した塗布液の洗浄が容易となる。表面張
力の制御は、閉塞手段の構成材料を適宜選択することに
よっても可能であるが、表面張力を低くしたい領域にテ
フロン（登録商標）加工等の撥水・撥油処理を施すこと
が好ましい。
面は、塗布液よりも表面張力が低いことが好ましい。閉
塞手段３の表面が塗布液に対し濡れにくければ、閉塞手
段の表面に付着した塗布液の洗浄が容易となる。表面張
力の制御は、閉塞手段の構成材料を適宜選択することに
よっても可能であるが、表面張力を低くしたい領域にテ
フロン（登録商標）加工等の撥水・撥油処理を施すこと
が好ましい。
【００３６】次に、本発明により製造される媒体各部の
具体的構成を説明する。
具体的構成を説明する。
【００３７】支持基体１２０は、媒体の剛性を維持する
ために設けられる。支持基体１２０の厚さは、通常、
０．２〜１．２mm、好ましくは０．４〜１．２mmとすれ
ばよく、透明であっても不透明であってもよい。支持基
体１２０は、通常の光記録媒体と同様に樹脂から構成す
ればよいが、ガラスから構成してもよい。光記録媒体に
おいて通常設けられるグルーブ（案内溝）１２１は、図
示するように、支持基体１２０に設けた溝を、その上に
形成される各層に転写することにより、形成できる。グ
ルーブ１２１は、記録再生光入射側から見て手前側に存
在する領域であり、隣り合うグルーブ間に存在する凸条
はランドと呼ばれる。
ために設けられる。支持基体１２０の厚さは、通常、
０．２〜１．２mm、好ましくは０．４〜１．２mmとすれ
ばよく、透明であっても不透明であってもよい。支持基
体１２０は、通常の光記録媒体と同様に樹脂から構成す
ればよいが、ガラスから構成してもよい。光記録媒体に
おいて通常設けられるグルーブ（案内溝）１２１は、図
示するように、支持基体１２０に設けた溝を、その上に
形成される各層に転写することにより、形成できる。グ
ルーブ１２１は、記録再生光入射側から見て手前側に存
在する領域であり、隣り合うグルーブ間に存在する凸条
はランドと呼ばれる。
【００３８】光透過層１０２は、レーザー光を透過する
ために透光性を有する。光透過層の厚さは、３０〜３０
０μmの範囲から選択することが好ましい。光透過層が
これより薄いと、光透過層表面に付着した塵埃による光
学的な影響が大きくなる。一方、光透過層が厚すぎる
と、高ＮＡ化による高記録密度達成が難しくなる。
ために透光性を有する。光透過層の厚さは、３０〜３０
０μmの範囲から選択することが好ましい。光透過層が
これより薄いと、光透過層表面に付着した塵埃による光
学的な影響が大きくなる。一方、光透過層が厚すぎる
と、高ＮＡ化による高記録密度達成が難しくなる。
【００３９】
【実施例】実施例１ 以下の手順で、再生専用光ディスクサンプルを作製し
た。
た。
【００４０】情報を保持するピットを形成したディスク
状支持基体｛ポリカーボネート製、外径１２０mm、内径
（中心孔の直径）１５mm、厚さ１．２mm｝の表面に、Ａ
ｌからなる反射層をスパッタ法により形成した。
状支持基体｛ポリカーボネート製、外径１２０mm、内径
（中心孔の直径）１５mm、厚さ１．２mm｝の表面に、Ａ
ｌからなる反射層をスパッタ法により形成した。
【００４１】次いで、閉塞手段を用いる本発明法を利用
して、以下の手順で光透過層を形成した。用いた閉塞手
段は、ステンレス合金から構成され、図１に示す形状を
有するものであり、円板部３１は直径３８mm、支持軸３
２は直径１mm、長さ２０mmである。
して、以下の手順で光透過層を形成した。用いた閉塞手
段は、ステンレス合金から構成され、図１に示す形状を
有するものであり、円板部３１は直径３８mm、支持軸３
２は直径１mm、長さ２０mmである。
【００４２】まず、回転テーブルを６０rpmで回転させ
ながら紫外線硬化型樹脂（大日本インキ化学工業社製の
ＳＤ３０１、粘度５００cP）を支持軸３２の外周面に供
給し、次いで、回転テーブルを８００rpmで５秒間回転
させることにより前記反射層表面に樹脂を展延して樹脂
層を形成した。次いで、閉塞手段をディスク基板から離
間した後、樹脂層を紫外線硬化することにより光透過層
とし、光ディスクサンプルを得た。
ながら紫外線硬化型樹脂（大日本インキ化学工業社製の
ＳＤ３０１、粘度５００cP）を支持軸３２の外周面に供
給し、次いで、回転テーブルを８００rpmで５秒間回転
させることにより前記反射層表面に樹脂を展延して樹脂
層を形成した。次いで、閉塞手段をディスク基板から離
間した後、樹脂層を紫外線硬化することにより光透過層
とし、光ディスクサンプルを得た。
【００４３】このサンプルの情報記録面に相当する半径
２３〜５８mmの領域において、上記光透過層の厚さをレ
ーザーフォーカス変位計により測定した。その結果、光
透過層の厚さは９７±２μmの範囲内に収まり、径方向
の厚さむらが極めて小さいことが確認できた。
２３〜５８mmの領域において、上記光透過層の厚さをレ
ーザーフォーカス変位計により測定した。その結果、光
透過層の厚さは９７±２μmの範囲内に収まり、径方向
の厚さむらが極めて小さいことが確認できた。
【００４４】実施例２ 紫外線硬化樹脂として日本化薬社製のＫ２００９（粘度
２５００cP）を用い、回転数２５００rpmで４秒間スピ
ンコートしたほかは実施例１と同様にして、光ディスク
サンプルを作製した。このサンプルについて実施例１と
同様な測定を行ったところ、光透過層の厚さは７８±２
μmに収まり、径方向の厚さむらが極めて小さいことが
確認できた。
２５００cP）を用い、回転数２５００rpmで４秒間スピ
ンコートしたほかは実施例１と同様にして、光ディスク
サンプルを作製した。このサンプルについて実施例１と
同様な測定を行ったところ、光透過層の厚さは７８±２
μmに収まり、径方向の厚さむらが極めて小さいことが
確認できた。
【００４５】実施例３ 図７（Ａ）に示す閉塞手段を用いたほかは実施例１と同
様にして光ディスクサンプルを作製した。なお、この閉
塞手段において、円板部３１との接合部での支持軸３２
の直径は０．７mmであった。このサンプルについて実施
例１と同様な測定を行ったところ、光透過層の厚さは９
８±１μmに収まり、径方向の厚さむらが実施例１より
も小さくなることが確認できた。
様にして光ディスクサンプルを作製した。なお、この閉
塞手段において、円板部３１との接合部での支持軸３２
の直径は０．７mmであった。このサンプルについて実施
例１と同様な測定を行ったところ、光透過層の厚さは９
８±１μmに収まり、径方向の厚さむらが実施例１より
も小さくなることが確認できた。
【００４６】比較例１ 閉塞手段を使用せず、ディスク基板の半径１９mmの位置
に樹脂を供給したほかは実施例１と同様にして、光ディ
スクサンプルを作製した。このサンプルについて実施例
１と同様な測定を行ったところ、光透過層の厚さは７５
±２０μmであり、内周と外周との厚さの差は４０μmと
極めて大きくなった。
に樹脂を供給したほかは実施例１と同様にして、光ディ
スクサンプルを作製した。このサンプルについて実施例
１と同様な測定を行ったところ、光透過層の厚さは７５
±２０μmであり、内周と外周との厚さの差は４０μmと
極めて大きくなった。
【００４７】比較例２ 回転数８００rpmで３秒間スピンコートしたほかは比較
例１と同様にして、光ディスクサンプルを作製した。こ
のサンプルについて実施例１と同様な測定を行ったとこ
ろ、光透過層の厚さは９６±２５μmであった。すなわ
ち、測定領域内における光透過層の最大厚さと最小厚さ
との平均値は実施例１とほぼ同じにできたが、内周と外
周との厚さの差は５０μmと極めて大きくなった。
例１と同様にして、光ディスクサンプルを作製した。こ
のサンプルについて実施例１と同様な測定を行ったとこ
ろ、光透過層の厚さは９６±２５μmであった。すなわ
ち、測定領域内における光透過層の最大厚さと最小厚さ
との平均値は実施例１とほぼ同じにできたが、内周と外
周との厚さの差は５０μmと極めて大きくなった。
【００４８】比較例３ 閉塞手段を使用せず、ディスク基板の半径１９mmの位置
に樹脂を供給したほかは実施例２と同様にして、光ディ
スクサンプルを作製した。このサンプルについて実施例
１と同様な測定を行ったところ、光透過層の厚さは６０
±１７μmであり、内周と外周との厚さの差は３４μmと
極めて大きくなった。
に樹脂を供給したほかは実施例２と同様にして、光ディ
スクサンプルを作製した。このサンプルについて実施例
１と同様な測定を行ったところ、光透過層の厚さは６０
±１７μmであり、内周と外周との厚さの差は３４μmと
極めて大きくなった。
【図１】光透過層の製造工程を説明する断面図である。
【図２】光透過層の製造工程を説明する断面図である。
【図３】光透過層の製造工程を説明する断面図である。
【図４】光透過層の製造工程を説明する断面図である。
【図５】光透過層の製造工程を説明する断面図である。
【図６】光透過層の製造工程を説明する断面図である。
【図７】（Ａ）〜（Ｄ）は閉塞手段の構成例を示す断面
図である。
図である。
【図８】光情報媒体の構成例を示す部分断面図である。
２ 回転テーブル ２１ 突起 ３ 閉塞手段 ３１ 円板部 ３２ 支持軸 ３３ 凸部 ４ ノズル ５ 塗布液 ５１ 樹脂層 １００ ディスク基板 １０１ 中心孔 １０２ 光透過層 １２０ 支持基体 １２１ グルーブ １０４ 記録層
フロントページの続き (72)発明者 山家 研二 東京都中央区日本橋一丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内 Ｆターム(参考） 4D075 AC64 BB26Z BB42Z CA48 DA08 DC21 EA19 4F042 AA07 EB17 EB19 5D121 AA03 EE22 EE24
Claims (3)
- 【請求項１】 中心孔を有するディスク状の支持基体上
に、情報記録面を有し、この情報記録面上に、樹脂を含
有する光透過層を有し、この光透過層を通して記録また
は再生のためのレーザー光が入射するように使用される
光情報媒体の前記光透過層を形成するための装置であっ
て、 前記情報記録面を設けた前記支持基体を含む基板を載置
し、回転させるための回転テーブルと、 前記中心孔を塞ぐための閉塞手段と、 樹脂を含有する塗布液を吐出するための吐出手段とを備
え、 前記閉塞手段が、前記中心孔を塞ぐための円板部と、こ
の円板部の中央に一体化された支持軸とを有し、 前記支持軸の外周面に前記塗布液が供給される光情報媒
体の製造装置。 - 【請求項２】 前記支持軸の少なくとも一部が、前記円
板部に向かって直径が漸減する円錐台状である請求項１
の光情報媒体の製造装置。 - 【請求項３】 請求項１または２の光情報媒体の製造装
置を用い、 前記回転テーブル上に載置した前記基板の前記中心孔
を、前記円板部で塞いだ状態で、前記吐出手段から吐出
された前記塗布液を前記支持軸に沿って前記円板部上に
供給し、前記基板を前記閉塞手段と共に回転させること
により、前記円板部上に供給された塗布液を前記基板上
に展延して樹脂層を形成する工程と、 前記樹脂層を硬化することにより光透過層とする工程と
を有する光情報媒体の製造方法。
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