JP2001348598A - 共沸溶剤組成物および洗浄方法 - Google Patents

共沸溶剤組成物および洗浄方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】不燃性であり、溶解力に優れ、幅広い用途に使
用できる新規な共沸溶剤組成物を提供する。 【解決手段】１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−
ペンタフルオロプロパンの９０．３質量％とｎ−ヘキサ
ンの９．７質量％からなる共沸溶剤組成物、および、こ
の組成物を用いて物品に付着した汚れを除去する洗浄方
法。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＩＣ等の電子部
品、精密機械部品、ガラス基板等の物品に付着する油脂
類、塵埃などの汚れを除去するために用いられる共沸溶
剤組成物および洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】各種油脂、塵埃等の除去には、不燃性、
低毒性、安定性に優れる３，３−ジクロロ−１，１，
１，２，２−ペンタフルオロプロパン（以下、Ｒ２２５
ｃａという。）、１，３−ジクロロ−１，１，２，２，
３−ペンタフルオロプロパン（以下、Ｒ２２５ｃｂとい
う。）や、これらの混合物（以下、Ｒ２２５という。）
などが広く使われている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、Ｒ２２５ｃ
ａ、Ｒ２２５ｃｂ、Ｒ２２５（以下、これらを総称して
Ｒ２２５類という。）では除去できない汚れがあり、使
用範囲が制限されることがあった。本発明は、共沸組成
であり、Ｒ２２５類の特長である不燃性を維持したま
ま、汚れの溶解力を高めることにより、さらに広い用途
で使用できる溶剤組成物を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者は鋭意検討の結
果、Ｒ２２５ｃｂとｎ−ヘキサンを特定比率で混合する
ことにより、共沸組成とすることができ、かつ、Ｒ２２
５ｃｂよりも洗浄力を高めることができることを見出し
た。
【０００５】本発明は、１，３−ジクロロ−１，１，
２，２，３−ペンタフルオロプロパン９０．３質量％と
ｎ−ヘキサン９．７質量％とからなる共沸溶剤組成物を
提供する。また、本発明は、前記共沸溶剤組成物を用い
て物品に付着した汚れを除去する洗浄方法を提供する。
【０００６】
【発明の実施の形態】Ｒ２２５ｃｂとｎ−ヘキサンとか
らなる共沸溶剤組成物の混合組成比は、Ｒ２２５ｃｂ／
ｎ−ヘキサン＝９０．３質量％／９．７質量％であり、
この共沸組成物の沸点は、１０１０ｈＰａにおいて５
５．１℃である。
【０００７】米国特許第５１１８４３８号明細書には、
Ｒ２２５ｃｂ／ｎ−ヘキサン＝７６．５〜８８．５／１
１．５〜２３．５（質量％）を含む共沸様組成物が記載
されているが、本発明は、この共沸様組成物の組成範囲
外に共沸組成が存在することを見出したものである。本
発明のＲ２２５ｃｂとｎ−ヘキサンとからなる共沸溶剤
組成物は、従来のＲ２２５ｃｂとｎ−ヘキサンとからな
る共沸様組成物に比べ、組成物を繰り返し蒸発・凝縮さ
せても組成物の組成変化がなく、極めて安定した性能を
維持できる利点がある。
【０００８】本発明の溶剤組成物は、不燃性であるとと
もに共沸組成であるため、蒸気洗浄に用いたり、蒸留等
によりリサイクル使用しても組成の変動がなく、Ｒ２２
５ｃｂと同様の使い方ができ、従来技術の大幅な変更を
要しない等の利点がある。
【０００９】本発明の共沸溶剤組成物は、従来のＲ２２
５類組成物と同様に各種用途に好適に使用できる。具体
的な用途としては、汚れが付着した物品を除去するため
の洗浄剤、種々の化合物の塗布溶剤または抽出剤などの
用途がある。さらに、Ｒ２２５類より溶解力が高いた
め、Ｒ２２５類よりも幅広い汚れの除去、溶剤、抽出剤
として使用できる。
【００１０】上記の物品の材質としては、ガラス、セラ
ミックス、プラスチック、エラストマー、または金属な
どが挙げられる。また、物品の具体例としては、電子・
電気機器、精密機械・器具、光学物品等、およびそれら
の部品であるＩＣ、マイクロモーター、リレー、ベアリ
ング、光学レンズ、ガラス基板などが挙げられる。
【００１１】物品に付着する汚れとしては、物品または
物品を構成する部品を製造する際に使用され、最終的に
除去されなければならない汚れまたは物品の使用時に付
着する汚れが挙げられる。汚れを形成する物質として
は、グリース類、鉱油類、ワックス類、油性インキ類等
の油脂類、塵埃が挙げられる。上記汚れを除去する具体
的手段としては、例えば、手拭き、浸漬、スプレー、揺
動、超音波洗浄、蒸気洗浄またはこれらを組み合わせた
方法等を採用すればよい。
【００１２】
【実施例】［例１］表１に示した組成を有するＲ２２５
ｃｂ（沸点５６．１℃）とｎ−ヘキサン（沸点６８．７
℃）の混合物３００ｇを、オスマー気液平衡蒸留測定装
置に入れ、１０１０ｈＰａで気相と液相の温度が平衡状
態になった時点の温度を測定した。また、温度が平衡状
態になった時点の気相と液相のサンプルを採取し、ガス
クロマトグラフでＲ２２５ｃｂとｎ−ヘキサンの組成を
分析した。その結果を表１に示す。測定の結果、Ｒ２２
５ｃｂが９０．３質量％、ｎ−ヘキサンが９．７質量％
の場合が共沸組成であり、そのときの共沸点は１０１０
ｈＰａにおいて５５．１℃である。
【００１３】
【表１】
【００１４】［例２］Ｒ２２５ｃｂが９０．３質量％、
ｎ−ヘキサンが９．７質量％からなる溶剤組成物２０ｋ
ｇを小型単槽式の開放型洗浄機に入れ、１日当り６時間
で３日間運転した。運転条件は、洗浄槽へ溶剤組成物の
みを仕込み、その組成物が加熱、蒸発、凝縮された後、
水分離器に導かれ、洗浄槽へ戻るまでの１時間当たりの
循環量が仕込んだ組成物の量となるような運転条件とし
た。経時的に洗浄槽・水分離器各々からサンプリング
し、ガスクロマトグラフで分析した結果を表２に示す。
【００１５】
【表２】
【００１６】［例３］Ｒ２２５ｃｂが９０．３質量％、
ｎ−ヘキサンが９．７質量％からなる溶剤組成物を用い
て金属加工油の洗浄試験を行った。すなわち、ＳＵＳ−
３０４のテストピース（２５ｍｍ×３０ｍｍ×２ｍｍ）
を、金属加工油：テンパーオイル（日本グリース社製）
中に浸漬して金属加工油を付着させた。該金属加工油を
付着させたテストピースを、４０℃に保温した該溶剤組
成物中に５分間浸漬して洗浄した。金属加工油の除去度
（◎：良好に除去可、△：微量残存、×：かなり残存）
を判定した結果を表３に示す。
【００１７】［例４（比較例）］溶剤をＲ２２５ｃｂの
みに変更して、例３と同様に試験した結果を表３に示
す。
【００１８】
【表３】
【００１９】［例５］Ｒ２２５ｃｂが９０．３質量％、
ｎ−ヘキサンが９．７質量％からなる溶剤組成物を用
い、クリーブランド開放式引火点測定器およびタグ密閉
式引火点測定器を用い、引火点の有無を測定した。その
結果、いずれの測定方法においても引火点が無いことが
確認された。
【００２０】
【発明の効果】本発明の組成物は、Ｒ２２５ｃｂとｎ−
ヘキサンからなる溶剤組成物であり、共沸組成であるた
め、蒸気洗浄に用いたり、蒸留等によりリサイクル使用
しても組成の変動がなく、洗浄性や各種物性が変化しな
い。このため、従来技術の大幅な変更を要しない。ま
た、Ｒ２２５類の特長である不燃性を維持したまま、汚
れの溶解力が高まるため、Ｒ２２５類より広い用途に使
用できる等の利点がある。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−
    ペンタフルオロプロパン９０．３質量％とｎ−ヘキサン
    ９．７質量％とからなる共沸溶剤組成物。
  2. 【請求項２】請求項１に記載の組成物を用いて物品に付
    着した汚れを除去する洗浄方法。
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