JP2001345179A5 - - Google Patents

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【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁体の上方にＴＦＴを形成し、
前記ＴＦＴに電気的に接続される画素電極を形成し、
前記画素電極を囲むように金属膜を含むバンクを形成し、
前記金属膜を負または正に帯電させながら前記バンクで囲まれた部分に発光性材料を含む層を形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項２】
絶縁体の上方にＴＦＴを形成し、
前記ＴＦＴに電気的に接続される画素電極を形成し、
前記画素電極を囲むように絶縁膜および金属膜を積層してなるバンクを形成し、
前記金属膜を負または正に帯電させながら前記バンクで囲まれた部分に発光性材料を含む層を形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、前記金属膜と同じ極性に前記発光性材料を帯電させながら、前記発光性材料を含む層を形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１または請求項２において、前記金属膜と逆の極性に前記画素電極を帯電させ、且つ、前記金属膜と同じ極性に前記発光性材料を帯電させながら、前記発光性材料を含む層を形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項５】
請求項２において、前記バンクを形成する際に、前記金属膜の線幅は前記絶縁膜の線幅よりも狭くなるように形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、前記バンクを形成する際に、前記金属膜がテーパー形状を有するように形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一において、蒸着法、イオンプレーティング法またはインクジェット法により前記発光性材料を含む層を形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項８】
ＴＦＴと、前記ＴＦＴに電気的に接続された画素電極と、前記画素電極を囲むように設けられたバンクと、前記画素電極に対向して設けられた電極と、前記画素電極および前記電極の間に設けられた発光性材料を含む層と、を有し、
前記バンクは一部に金属膜を含むことを特徴とする発光装置。
【請求項９】
ＴＦＴと、前記ＴＦＴに電気的に接続された画素電極と、前記画素電極を囲むように設けられたバンクと、前記画素電極に対向して設けられた電極と、前記画素電極および前記電極の間に設けられた発光性材料を含む層と、を有し、
前記バンクは、絶縁膜と、前記絶縁膜の上方に設けられた金属膜とを含むことを特徴とする発光装置。
【請求項１０】
請求項９において、前記金属膜の線幅は前記絶縁膜の線幅よりも狭いことを特徴とする発光装置。
【請求項１１】
請求項８乃至請求項１０のいずれか一において、前記金属膜はテーパー形状を有することを特徴とする発光装置。



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