JP2001343504A

JP2001343504A - 防眩性反射防止フィルムおよび画像表示装置

Info

Publication number: JP2001343504A
Application number: JP2000333483A
Authority: JP
Inventors: Tadahiro Matsunaga; 直裕松永; Kazuhiro Nakamura; 和浩中村; Yosuke Nishiura; 陽介西浦
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2000-03-30
Filing date: 2000-10-31
Publication date: 2001-12-14

Abstract

(57)【要約】【課題】透明支持体上に少なくとも一層の防眩性ハー
ドコート層と低屈折率層を形成するのみによって、簡便
かつ安価にして十分な反射防止性、防眩性、高精細性を
有した防眩性反射防止フィルム、これを用いた偏光板、
画像表示装置を提供する。【解決手段】透明支持体（１）上に、粒子（４）を含
有させた少なくとも一層の防眩性ハードコート層（２）
と、該防眩性ハードコート層上に屈折率１．３８以上
１．４９以下の低屈折率層（３）を有した、全ヘイズが
３．０％以上２０．０％以下である防眩性反射防止フィ
ルムであって、１．５７ＭＰａの印加荷重条件で、波長
０．５μｍでの光学接触率の値が１５％以上６５％以下
である防眩性反射防止フィルムと、それを用いた偏光板
及び画像表示装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、防眩性を有する反
射防止フィルムおよびそれを用いた画像表示装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】一般に、ＣＲＴ、ＰＤＰ、ＬＣＤのよう
な画像表示装置において、防眩性反射防止フィルムは外
光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止
することを目的としてディスプレイの最表面に配置され
る。一方、画像表示装置においてはできるだけ画素サイ
ズを小さくし表示品位を向上させる（高精細化）ことが
望まれてきており、これに十分対応した防眩性反射防止
フィルムの開発も必要な状況になってきた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、透明
支持体上に少なくとも一層の防眩性ハードコート層と低
屈折率層を形成するのみによって、簡便かつ安価にして
十分な反射防止性、防眩性、高精細性を有した防眩性反
射防止フィルム、これを用いた偏光板、画像表示装置を
提供することである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は以下のよ
うに達成された。（１）透明支持体上に、少なくとも一層の防眩性ハード
コート層と、該防眩性ハードコート層上に屈折率１．３
８以上１．４９以下の低屈折率層を有した、全ヘイズが
３．０％以上２０．０％以下である防眩性反射防止フィ
ルムであって、１．５７ＭＰａの印加荷重条件で、波長
０．５μｍでの光学接触率の値が１５％以上６５％以下
であることを特徴とする防眩性反射防止フィルム。（２）該透明支持体がトリアセチルセルロースまたはポ
リエチレンテレフタレートまたはポリエチレンナフタレ
ートであることを特徴とする（１）項記載の防眩性反射
防止フィルム。（３）該防眩性ハードコート層が電離放射線により架橋
されたものであることを特徴とする（１）又は（２）項
記載の防眩性反射防止フィルム。（４）該防眩性ハードコート層に平均粒径０．３μｍ以
上１０．０μｍ以下の粒子が含有されていることが特徴
である（１）〜（３）項のいずれか１項に記載の防眩性
反射防止フィルム。（５）（４）項記載の、該防眩性ハードコート層にされ
る粒子が、球形有機高分子粒子であることを特徴とする
（１）〜（４）項のいずれか１項に記載の防眩性反射防
止フィルム。（６）該防眩性ハードコート層の屈折率が１．５７以上
２．００以下であることを特徴とする（１）〜（５）項
のいずれか１項に記載の防眩性反射防止フィルム。（７）該防眩性ハードコート層が、２以上のエチレン性
不飽和基を有するモノマーと、粒径０．１μｍ以下のチ
タン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモ
ン、ジルコニウムの内より選ばれる少なくとも一種類の
酸化物を含有することを特徴とする（１）〜（６）項の
いずれか１項に記載の防眩性反射防止フィルム。（８）該低屈折率層が、熱または電離放射線により架橋
する含フッ素化合物、および無機微粒子を含んでなり、
該防眩性反射防止フィルムの４５０ｎｍから６５０ｎｍ
の平均反射率が１．８％以下であることを特徴とする
（１）〜（７）項のいずれか１項に記載の防眩性反射防
止フィルム。（９）該低屈折率層が含有する無機微粒子の平均粒径が
０．００１μｍ以上０．１μｍ以下であることを特徴と
する（１）〜（８）項のいずれか１項に記載の防眩性反
射防止フィルム。（１０）該低屈折率層が含有する無機微粒子がシリカで
あることを特徴とする（１）〜（９）項のいずれか１項
に記載の防眩性反射防止フィルム。（１１）該低屈折率層が含有する含フッ素化合物が、含
フッ素ビニルモノマーを重合して得られるポリマーであ
ることを特徴とする（１）〜（１０）項のいずれか１項
に記載の防眩性反射防止フィルム。（１２）該透明支持体が、トリアセチルセルロースフィ
ルムであり、トリアセチルセルロースを溶剤に溶解する
ことで調製されたトリアセチルセルロースドープを単層
流延、複数層共流延もしくは複数層逐次流延の何れかの
流延方法により流延することにより作製されたことを特
徴とする（１）〜（１１）項のいずれか１項に記載の防
眩性反射防止フィルム。（１３）該トリアセチルセルロースドープが、トリアセ
チルセルロースを冷却溶解法あるいは高温溶解法によっ
て、ジクロロメタンを実質的に含まない溶剤に溶解する
ことで調製されたトリアセチルセルロースドープである
ことを特徴とする（１２）項に記載の防眩性反射防止フ
ィルム。（１４）（１）〜（１３）項のいずれか１項に記載の該
防眩性反射防止フィルムを、偏光板における偏光層の２
枚の保護フィルムのうちの少なくとも一方に用いたこと
を特徴とする偏光板。（１５）（１）〜（１３）項のいずれか１項に記載の防
眩性反射防止フィルムまたは（１４）項に記載の防眩性
反射防止偏光板をディスプレイの最表層に用いたことを
特徴とする画像表示装置。

【０００５】

【発明の実施の形態】本発明の防眩性反射防止フィルム
の基本的な構成を図面を引用しながら説明する。図１に
示す態様は本発明の防眩性反射防止フィルムの一例であ
り、透明支持体１、防眩性ハードコート層２、そして低
屈折率層３の順序の層構成を有する。４は粒子であり、
防眩性ハードコート層の粒子以外の部分の素材の屈折率
が１．５７以上２．００が好ましく、低屈折率層の屈折
率は１．３８以上１．４９以下である。図示しないが、
防眩性ハードコート層２と透明支持体１との間には別の
１層以上のハードコート層を設けてもよい。この別のハ
ードコート層は通常、粒子を含有しても、しなくても良
い。反射防止膜では、低屈折率層が下記式（Ｉ）をそれ
ぞれ満足することが好ましい。

【０００６】ｍλ／４×０．７＜ｎ_１ｄ_１＜ｍλ／４×１．３（Ｉ）式中、ｍは正の奇数（一般に１）であり、ｎ_１は低屈折
率層の屈折率であり、そして、ｄ_１は低屈折率層の膜厚
（ｎｍ）である。λは光の波長を示す。

【０００７】本発明において粒子を含有させたハードコ
ート層の屈折率は１つの値で記述されず、ハードコート
層を形成する素材中に粒子が分散している屈折率不均一
層である。ハードコート層を形成する素材の屈折率は
１．５７以上２．００以下であることが好ましい。高屈
折率素材が２以上のエチレン性不飽和基を有するモノマ
ーとチタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、ア
ンチモン、ジルコニウムのうちより選ばれる少なくとも
一つの酸化物からなる粒径１００ｎｍ以下の微粒子とか
らなる場合、微粒子の粒径が光の波長よりも十分小さい
ために散乱が生じず、光学的には均一な物質として振舞
うことが、特開平８−１１０４０１号等に記載されてい
る。

【０００８】このようなハードコート層は、高屈折率素
材中に分散する微粒子によって内部散乱が生じるため
に、ハードコート層での光学干渉の影響を生じないので
好ましい。微粒子を有しない高屈折率ハードコート層で
は、ハードコート層と支持体との屈折率差による光学干
渉のために、反射率の波長依存性において反射率の大き
な振幅が見られ、結果として反射防止効果が悪化し、同
時に色むらが発生してしまう不利な点がある。

【０００９】透明支持体としては、プラスチックフィル
ムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムを形
成するポリマーとしては、セルロースエステル（例、ト
リアセチルセルロース、ジアセチルセルロース）、ポリ
アミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、
ポリスチレン、ポリオレフィンなどが挙げられる。この
うちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレンナフタレートが好ましい。本発明の
防眩性反射防止フィルムを例えば液晶表示装置に用いる
場合、片面に粘着層を設ける等してディスプレイの最表
面に配置する。該透明支持体がトリアセチルセルロース
の場合は偏光板の偏光層を保護する保護フィルムとして
トリアセチルセルロースが用いられるため、本発明の防
眩性反射防止フィルムをそのまま保護フィルムに用いる
ことがコストの上では好ましい。

【００１０】本発明の防眩性反射防止フィルムの透明支
持体としては、トリアセチルセルロースを溶剤に溶解す
ることで調製されたトリアセチルセルロースドープを単
層流延、複数層共流延若しくは複数層逐次流延の何れか
の流延方法により流延することにより作成されたトリア
セチルセルロースフィルムを用いることが好ましい。特
に、環境保全の観点から、トリアセチルセルロースを冷
却溶解法あるいは高温溶解法によってジクロロメタンを
実質的に含まない溶剤に溶解することで調製されたトリ
アセチルセルロースドープを用いて作成されたトリアセ
チルセルロースフィルムが好ましい。

【００１１】トリアセチルセルロースの単層流延は、特
開平７−１１０５５号等で開示されているドラム流延、
あるいはバンド流延等が挙げられ、後者の複数の層から
なるトリアセチルセルロースの共流延は、特開昭６１−
９４７２５号、特公昭６２−４３８４６号等で開示され
ている。逐次流延は、単層流延を繰り返すことで行われ
る。それぞれの流延は、原料フレークをハロゲン化炭化
水素類（ジクロロメタン等、アルコール類（メタノー
ル、エタノール、ブタノール等）、エステル類（蟻酸メ
チル、酢酸メチル等）、エーテル類（ジオキサン、ジオ
キソラン、ジエチルエーテル等）等の溶剤にて溶解し、
これに必要に応じて可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止
剤、滑り剤、剥離促進剤等の各種の添加剤を加えた溶液
（ドープと称する）を、水平式のエンドレスの金属ベル
トまたは回転するドラムからなる支持体の上に、ドープ
供給手段（ダイと称する）により流延する際、単層なら
ば単一のドープを単層流延し、複数の層ならば高濃度の
セルロースエステルドープの両側に低濃度ドープを共流
延し、支持体上である程度乾燥して剛性が付与されたフ
ィルムを支持体から剥離し、次いで各種の搬送手段によ
り乾燥部を通過させて溶剤を除去することからなる方法
である。

【００１２】上記のような、トリアセチルセルロースを
溶解するための溶剤としては、ジクロロメタンが代表的
である。しかしながら、技術的には、ジクロロメタンの
ようなハロゲン化炭化水素は問題なく使用できるが、ジ
クロロメタンを実質的に含む溶剤に溶解することで調製
されたトリアセチルセルロースドープを単層流延法によ
って製造すると、その製造過程でジクロロメタンが大気
中に放出されるため、環境保全や作業環境の観点から、
ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含ま
ないことが好ましい。「実質的に含まない」とは、有機
溶剤中のハロゲン化炭化水素の割合が５質量％未満（好
ましくは２質量％未満）であることを意味する。共流延
法の場合には、ジクロロメタンを実質的に含む溶剤を用
いたドープを複数層共流延法によって流延しても、外側
の流延層と比較してトリアセチルセルロース濃度の高い
ドープを内側の流延層に用いることができるため、結果
として大気中に放出されるジクロロメタンの量が減少で
きる。また、流延速度も高くすることが可能であり、生
産性にも優れる。勿論、共流延法の場合であってもジク
ロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まない
ことが好ましい。ジクロロメタン等を実質的に含まない
溶剤を用いてトリアセチルセルロースのドープを調製す
る場合には、後述するような特殊な溶解法が必須とな
る。

【００１３】第一の溶解法は、冷却溶解法と称され、以
下に説明する。まず室温近辺の温度（−１０〜４０℃）
で溶剤中にトリアセチルセルロースを撹拌しながら徐々
に添加する。次に、混合物は−１００〜−１０℃（好ま
しくは−８０〜−１０℃、さらに好ましくは−５０〜−
２０℃、最も好ましくは−５０〜−３０℃）に冷却す
る。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴（−
７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０
〜−２０℃）中で実施できる。このように冷却すると、
トリアセチルセルロースと溶剤の混合物は固化する。さ
らに、これを０〜２００℃（好ましくは０〜１５０℃、
さらに好ましくは０〜１２０℃、最も好ましくは０〜５
０℃）に加温すると、溶剤中にトリアセチルセルロース
が流動する溶液となる。昇温は、室温中に放置するだけ
でもよし、温浴中で加温してもよい。

【００１４】第二の方法は、高温溶解法と称され、以下
に説明する。まず室温近辺の温度（−１０〜４０℃）で
溶剤中にトリアセチルセルロースを撹拌しながら徐々に
添加される。本発明のトリアセチルセルロース溶液は、
各種溶剤を含有する混合溶剤中にトリアセチルセルロー
スを添加し予め膨潤させることが好ましい。本法におい
て、トリアセチルセルロースの溶解濃度は３０質量％以
下が好ましいが、フィルム製膜時の乾燥効率の点から、
なるべく高濃度であることが好ましい。次に有機溶剤混
合液は、０．２ＭＰａ〜３０ＭＰａの加圧下で７０〜２
４０℃に加熱される（好ましくは８０〜２２０℃、更に
好ましくは１００〜２００℃、最も好ましくは１００〜
１９０℃）。次にこれらの加熱溶液はそのままでは塗布
できないため、使用された溶剤の最も低い沸点以下に冷
却する必要がある。その場合、−１０〜５０℃に冷却し
て常圧に戻すことが一般的である。冷却はトリアセチル
セルロース溶液が内蔵されている高圧高温容器やライン
を、室温に放置するだけでもよく、更に好ましくは冷却
水などの冷媒を用いて該装置を冷却してもよい。

【００１５】ハードコート層に用いる化合物は、飽和炭
化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマー
であることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有す
るポリマーであることがさらに好ましい。バインダーポ
リマーは架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を
主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマ
ーの重合反応により得ることが好ましい。架橋している
バインダーポリマーを得るためには、２以上のエチレン
性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。
高屈折率にするためには、このモノマーの構造中に芳香
族環、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄、リン、窒素の
原子から選ばれた少なくとも１つを含むことが好まし
い。

【００１６】２以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸と
のエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタ
エリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロ
ールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロー
ルエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリ
トールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリ
トールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリト
ールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロ
ヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアク
リレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベ
ンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼ
ン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエス
テル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルス
ルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド
（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリル
アミドが含まれる。高屈折率モノマーの例には、ビス
（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニ
ルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタク
リロキシフェニル−４’−メトキシフェニルチオエーテ
ル等が含まれる。ポリエーテルを主鎖として有するポリ
マーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により合
成することが好ましい。これらのエチレン性不飽和基を
有するモノマーは、塗布後電離放射線または熱による重
合反応により硬化させる必要がある。

【００１７】２以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応によ
り、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ
基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カ
ルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロー
ル基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン
酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、
エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テト
ラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構
造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロッ
クイソシアナート基のように、分解反応の結果として架
橋性を示す官能基を用いてもよい。また、本発明におい
て架橋基とは、上記化合物に限らず上記官能基が分解し
た結果反応性を示すものであってもよい。これら架橋基
を有する化合物は塗布後熱などによって架橋させる必要
がある。

【００１８】ハードコート層には、ハードコート層を形
成する素材の屈折率を高めるために、チタン、アルミニ
ウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモン、ジルコニウ
ムのうちより選ばれる少なくとも一つの酸化物からなる
粒径１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下の微粒子
を含有することが好ましい。微粒子の例としては、Ｔｉ
Ｏ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＺｎＯ、ＳｎＯ_２、Ｓ
ｂ_２Ｏ_３、ＩＴＯ（インジウム・チタニウム・オキサイ
ド）、ＺｒＯ_２等が挙げられる。無機微粒子の添加量
は、ハードコート層の全質量の１０乃至９０質量％であ
ることが好ましく、２０乃至８０質量％であると更に好
ましく、３０乃至６０質量％が特に好ましい。

【００１９】ハードコート層には、防眩性付与とハード
コート層の干渉による反射率悪化防止、色むら防止の目
的で、無機化合物または有機高分子の粒子が用いられ、
例えば、シリカ粒子、ＴｉＯ_２粒子、Ａｌ_２Ｏ_３粒子、
架橋アクリル粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒
子、ベンゾグアナミン樹脂粒子、架橋シロキサン粒子な
どが好ましく用いられる。製造時における、防眩性ハー
ドコート層塗布液中の粒子の良好な分散安定性（バイン
ダーとの親和性がよいため）や良好な沈降安定性（比重
が小さいため）などの点から有機高分子粒子がより好ま
しい。平均粒径は０．３μｍ以上１０．０μｍ以下が好
ましく、０．５μｍ以上５．０μｍ以下がより好まし
く、１．０μｍ以上３．０μｍ以下が更に好ましい。ま
た、粒子の形状としては、球形、不定形、のいずれも使
用できるが、安定な防眩性を得る為には球形が好まし
い。異なる２種以上の粒子を併用して用いてもよい。ま
た、防眩性ハードコート層には膜厚の３分の１よりも大
きい粒径となる粒子を用いることが好ましい。粒度分布
はコールターカウンター法や遠心沈降法等により測定で
きるが、分布は粒子数分布に換算して考える。ハードコ
ート層膜厚は２μｍ以上１０μｍが好ましく、３以上６
μｍ以下がより好ましい。

【００２０】低屈折率層には、動摩擦係数０．０３以上
０．１５以下、水に対する接触角９０°以上１２０°以
下となる、熱または電離放射線により架橋する含フッ素
化合物および無機微粒子が用いられる。低屈折率層に用
いられる架橋性のフッ素高分子化合物としてはパーフル
オロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカ
フルオロ−１，１，２，２−テトラデシル）トリエトキ
シシラン）等の他、含フッ素モノマーと架橋性基付与の
ためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が挙
げられる。含フッ素モノマー単位の具体例としては、例
えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、
ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘ
キサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パ
ーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール
等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化ア
ルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大
阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完
全または部分フッ素化ビニルエーテル類等である。架橋
性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリ
レートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有す
る（メタ）アクリレートモノマーの他、カルボキシル基
やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する
（メタ）アクリレートモノマー（例えば（メタ）アクリ
ル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシア
ルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート等）
が挙げられる。後者は共重合の後、架橋構造を導入でき
ることが特開平１０−２５３８８号および特開平１０−
１４７７３９号に知られている。

【００２１】また上記含フッ素モノマーを構成単位とす
るポリマーだけでなく、フッ素原子を含有しないモノマ
ーとの共重合体を用いてもよい。併用可能なモノマー単
位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレ
ン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリ
デン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、
アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、
メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタク
リル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコー
ルジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、
ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレ
ン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル
等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビ
ニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅ
ｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリ
ルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロニトリル
誘導体等を挙げることができる。

【００２２】低屈折率層に用いられる無機微粒子として
は非晶質のものが好ましく用いられ、金属の酸化物、窒
化物、硫化物またはハロゲン化物からなることが好まし
く、金属酸化物が特に好ましい。金属原子としては、Ｎ
ａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｕ、
Ｔｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｗ、Ｙ、Ｓｂ、Ｍｎ、Ｇａ、Ｖ、Ｎ
ｂ、Ｔａ、Ａｇ、Ｓｉ、Ｂ、Ｂｉ、Ｍｏ、Ｃｅ、Ｃｄ、
Ｂｅ、ＰｂおよびＮｉが好ましく、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂおよ
びＳｉがさらに好ましい。二種類の金属を含む無機化合
物を用いても良い。特に好ましい無機化合物は、二酸化
ケイ素、すなわちシリカである。該無機微粒子の平均粒
径は０．００１以上０．２μｍ以下であることが好まし
く、０．００５以上０．０５μｍ以下であることがより
好ましい。微粒子の粒径はなるべく均一（単分散）であ
ることが好ましい。該無機微粒子の添加量は、低屈折率
層の全質量の５質量％以上９０質量％以下であることが
好ましく、１０質量％以上７０質量％以下であることが
更に好ましく、２０質量％以上５０質量％以下がさらに
好ましい。該無機微粒子は表面処理を施して用いること
も好ましい。表面処理法としてはプラズマ放電処理やコ
ロナ放電処理のような物理的表面処理とカップリング剤
を使用する化学的表面処理があるが、カップリング剤の
使用が好ましい。カップリング剤としては、オルガノア
ルコキシメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シ
ランカップリング剤）が好ましく用いられる。該無機微
粒子がシリカの場合はシランカップリング処理が特に有
効である。

【００２３】防眩性反射防止フィルムの各層は、ディッ
プコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート
法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビ
アコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２
６８１２９４号明細書）により、塗布により形成するこ
とができる。２つ以上の層を同時に塗布してもよい。同
時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、
同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６
５２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工
学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。防
眩性反射防止フィルムのヘイズは５％〜１８％が好まし
く、さらに好ましくは８％〜１５％である。

【００２４】つぎに光学接触率について説明する。この
値は東洋精機（株）製のマイクロトポグラフという装置
を用いて求めた。試料測定面積は４．４４ｃｍ^２であ
り、試料に対し０．９８〜４．４１ＭＰａの荷重範囲で
加圧することができ、所望の荷重を試料にかけた状態で
表面特性（粗さ）を光学的に求めることができるのが特
徴である。今回我々は１．５７ＭＰａという荷重条件を
採用したが、これに限定されることはない。測定原理は
以下のとおりである。下図に示すように、試料面をプリ
ズムの一面に圧着し、全反射の臨界角γより大きな角度
θで平行光を入射し、その正反射角で反射光を受光する
場合を考える。光は入射角が臨界角を超えると、屈折率
の異なる媒質の境界面で全反射を起こす。その際、光波
は若干境界面をくぐり抜けてから反射し、そのくぐり抜
けの度合いは、光の波長に比例する。従って、図２に示
すように、波長の充分長い光が境界面をくぐり抜けてか
ら反射する前に、試料面に当たれば、当然光の透過が起
こる。しかし、波長の短い光は、その試料面に達しない
で、もぐり込んだ光が全反射して「自分の波長に見合う
深さに試料面は存在しなかった。」という情報を受光素
子に伝える。この様な、プリズムと試料面とが実際には
接触していないのに、その空隙が光の波長オーダーの微
少な距離ならば、光がそのまま透過してしまう現象をFr
usrated TotalReflectionといい、光学的に接触してい
るとみなす。この現象を利用し、波長を変えながら、光
学接触率を求めることにより、それぞれの波長に応じた
プリズム面からある深さにある試料面の占める割合を求
めることができる。今回我々は波長０．５μｍの時の光
学接触率の値で規定したが、これに限定されるものでは
ない。高精細モニターに対応できる防眩性反射防止フィ
ルムの場合、印加荷重１．５７ＭＰａ、波長０．５μｍ
の時の光学接触率は、１５％以上６５％以下が好まし
く、さらに好ましくは２０％以上４５％以下である。こ
の光学接触率を調整することは、「防眩性ハードコート
層の厚み」、「マット性粒子の大きさ」、「マット性粒
子の頻度（塗設量、含率）」、「粒子の分散度」、「粒
子のバインダーとの親和性」等を制御することにより行
うことができる。

【００２５】また、好ましいヘイズと光学接触率（１．
５７ＭＰａ、波長０．５μｍ）の組み合わせは、ヘイズ
５％以上１８％以下であり、かつ光学接触率１５％以上
６５％以下であり、さらに好ましい組み合わせは、ヘイ
ズ８％以上１５％以下であり、かつ光学接触率２０％以
上４５％以下である。防眩性反射防止膜は、液晶表示装
置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤ
Ｐ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬ
Ｄ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置
に適用する。反射防止膜が透明支持体を有する場合は、
透明支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着するこ
とができる。ＬＣＤの表面または内面に適用する場合
は、偏光板の偏光層を保護する２枚の保護フィルムのう
ちの片側のフィルムとしてそのまま用いることが好まし
い。もう一方の側には光学異方性のある光学補償膜を用
いることは、視野角拡大の効果を併せ持たせることがで
きることから更に好ましい。

【００２６】

【実施例】本発明を詳細に説明するために、以下に実施
例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。

【００２７】（ハードコート層用塗布液Ａの調製）ジペ
ンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレートの混合物（商品名：ＤＰ
ＨＡ、日本化薬（株）製）２５０ｇを、４３９ｇのメチ
ルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０質量％
の混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤
（商品名：イルガキュア９０７、チバガイギー社製）
７．５ｇおよび光増感剤（商品名：カヤキュアーＤＥＴ
Ｘ、日本化薬（株）製）５．０ｇを４９ｇのメチルエチ
ルケトンに溶解した溶液を加えた。この溶液を塗布、紫
外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５３であっ
た。さらにこの溶液を孔径３μｍのポリプロピレン製フ
ィルターでろ過してハードコート層の塗布液を調製し
た。

【００２８】（防眩性ハードコート層用塗布液Ｂの調
製）シクロヘキサノン１０４．１ｇ、メチルエチルケト
ン６１．３ｇの混合溶媒に、エアディスパで攪拌しなが
ら二酸化チタン分散物含有ハードコート塗布液（商品
名：ＫＺ−７９９１、ＪＳＲ（株）製）２１７．０ｇ、
を添加した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた
塗膜の屈折率は１．７０であった。さらにこの溶液に平
均粒径２μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−
２００Ｈ、綜研化学（株）製）を添加して、高速ディス
パにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔径
３μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性
ハードコート層の塗布液を調製した。架橋ポリスチレン
粒子の添加量は、防眩性ハードコート層の乾燥膜厚を
１．４μｍとし、この厚みの時に、架橋ポリスチレン粒
子添加量に対する、防眩性反射防止フィルムの光学接触
率値の検量線を実験的に求め、１．５７ＭＰａの印加荷
重時、波長０．５μｍでの光学接触率の値が２５％にな
るように調整した。

【００２９】（防眩性ハードコート層用塗布液Ｃの調
製）シクロヘキサノン１０４．１ｇ、メチルエチルケト
ン６１．３ｇの混合溶媒に、エアディスパで攪拌しなが
ら酸化ジルコニウム分散物含有ハードコート塗布液（商
品名：ＫＺ−７１１５、ＪＳＲ（株）製）２１７．０
ｇ、を添加した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得ら
れた塗膜の屈折率は１．６１であった。さらにこの溶液
に平均粒径２μｍの架橋ポリスチレン粒子（ＳＸ−２０
０Ｈ、綜研化学（株）製）を添加して、高速ディスパに
て５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔径３０
μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハ
ードコート層の塗布液を調製した。架橋ポリスチレン粒
子の添加量は、防眩性ハードコート層の乾燥膜厚を１．
４μｍとし、この厚みの時に、架橋ポリスチレン粒子添
加量に対する、防眩性反射防止フィルムの光学接触率値
の検量線を実験的に求め、１．５７ＭＰａの印加荷重
時、波長０．５μｍでの光学接触率の値が２５％になる
ように調整した。

【００３０】（低屈折率層用塗布液Ａの調製）屈折率
１．４０の熱架橋性含フッ素ポリマー（商品名：ＪＮ−
７２２８、固形分濃度６質量％、ＪＳＲ（株）製）２１
０ｇにシリカゾル（商品名：ＭＥＫ−ＳＴ、平均粒径１
０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０質量％、日産化学製）１
８ｇおよびメチルエチルケトン２４５ｇを添加、攪拌の
後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過し
て、低屈折率層用塗布液を調製した。

【００３１】［実施例１Ｂ］８０μｍの厚さのトリアセ
チルセルロースフィルム（商品名：ＴＡＣ−ＴＤ８０
Ｕ、富士写真フイルム（株）製）に、上記のハードコー
ト層用塗布液Ａをバーコーターを用いて塗布し、１２０
℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドラ
ンプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４
００ｍＷ／ｃｍ ^２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線
を照射して塗布層を硬化させ、厚さ４μｍのハードコー
ト層を形成した。その上に、上記防眩性ハードコート層
用塗布液Ｂをバーコーターを用いて塗布し、上記ハード
コート層と同条件にて乾燥、紫外線硬化して、厚さ約
１．４μｍの防眩性ハードコート層を形成した。その上
に、上記低屈折率層用塗布液Ａをバーコーターを用いて
塗布し、８０℃で乾燥の後、さらに１２０℃で１０分間
熱架橋し、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成し
た。この試料の光学接触率の値は２５％である。この試
料は、前記図１において支持体１と防眩性ハードコート
層２との間に、塗布液Ａより形成した別のハードコート
層を形成したものに相当する。

【００３２】[実施例２Ｂ]実施例１Ｂにおいて、防眩性
反射フィルムの光学接触率（荷重１．５７ＭＰａ、波長
０．５μｍ）の値が２０％になるように、防眩性ハード
コート層塗布液中の粒子濃度を変えずに、それ以外の固
形分濃度を少なくする（粒子頻度を一定にして、膜厚の
み薄くする）以外は、実施例１Ｂ試料と全く同様に作製
したものを実施例２Ｂ試料とした。 [実施例３Ｂ]実施例１Ｂにおいて、防眩性反射フィルム
の光学接触率（荷重１．５７ＭＰａ、波長０．５μｍ）
の値が１５％になるように、防眩性ハードコート層塗布
液中の粒子濃度を変えずに、それ以外の固形分濃度を少
なくする（粒子頻度を一定にして、膜厚のみ薄くする）
以外は、実施例１Ｂ試料と全く同様に作製したものを実
施例３Ｂ試料とした。

【００３３】[比較例１Ｂ]実施例１Ｂにおいて、防眩性
反射フィルムの光学接触率（荷重１．５７ＭＰａ、波長
０．５μｍ）の値が１０％になるように、防眩性ハード
コート層塗布液中の粒子濃度を変えずに、それ以外の固
形分濃度を少なくする（粒子頻度を一定にして、膜厚の
み薄くする）以外は、実施例１Ｂ試料と全く同様に作製
したものを比較例１Ｂ試料とした。 [比較例２Ｂ]実施例１Ｂにおいて、防眩性反射フィルム
の光学接触率（荷重１．５７ＭＰａ、波長０．５μｍ）
の値が５％になるように、防眩性ハードコート層塗布液
中の粒子濃度を変えずに、それ以外の固形分濃度を少な
くする（粒子頻度を一定にして、膜厚のみ薄くする）以
外は、実施例１Ｂ試料と全く同様に作製したものを比較
例２Ｂ試料とした。

【００３４】[実施例４Ｂ]実施例１Ｂにおいて、防眩性
反射フィルムの光学接触率（荷重１．５７ＭＰａ、波長
０．５μｍ）の値が３５％になるように、防眩性ハード
コート層塗布液中の粒子濃度を変えずに、それ以外の固
形分濃度を多くする（粒子頻度を一定にして、膜厚のみ
厚くする）以外は、実施例１Ｂ試料と全く同様に作製し
たものを実施例４Ｂ試料とした。 [実施例５Ｂ]実施例１Ｂにおいて、防眩性反射フィルム
の光学接触率（荷重１．５７ＭＰａ、波長０．５μｍ）
の値が４５％になるように、防眩性ハードコート層塗布
液中の粒子濃度を変えずに、それ以外の固形分濃度を多
くする（粒子頻度を一定にして、膜厚のみ厚くする）以
外は、実施例１Ｂ試料と全く同様に作製したものを実施
例５Ｂ試料とした。

【００３５】[実施例６Ｂ]実施例１Ｂにおいて、防眩性
反射フィルムの光学接触率（荷重１．５７ＭＰａ、波長
０．５μｍ）の値が５５％になるように、防眩性ハード
コート層塗布液中の粒子濃度を変えずに、それ以外の固
形分濃度を多くする（粒子頻度を一定にして、膜厚のみ
厚くする）以外は、実施例１Ｂ試料と全く同様に作製し
たものを実施例６Ｂ試料とした。

【００３６】[実施例７Ｂ]実施例１Ｂにおいて、防眩性
反射フィルムの光学接触率（荷重１．５７ＭＰａ、波長
０．５μｍ）の値が６５％になるように、防眩性ハード
コート層塗布液中の粒子濃度を変えずに、それ以外の固
形分濃度を多くする（粒子頻度を一定にして、膜厚のみ
厚くする）以外は、実施例１Ｂ試料と全く同様に作製し
たものを実施例７Ｂ試料とした。

【００３７】[比較例３Ｂ]実施例１Ｂにおいて、防眩性
反射フィルムの光学接触率（荷重１．５７ＭＰａ、波長
０．５μｍ）の値が７０％になるように、防眩性ハード
コート層塗布液中の粒子濃度を変えずに、それ以外の固
形分濃度を多くする（粒子頻度を一定にして、膜厚のみ
厚くする）以外は、実施例１Ｂ試料と全く同様に作製し
たものを比較例３Ｂ試料とした。 [比較例４Ｂ]実施例１Ｂにおいて、防眩性反射フィルム
の光学接触率（荷重１．５７ＭＰａ、波長０．５μｍ）
の値が８０％になるように、防眩性ハードコート層塗布
液中の粒子濃度を変えずに、それ以外の固形分濃度を多
くする（粒子頻度を一定にして、膜厚のみ厚くする）以
外は、実施例１Ｂ試料と全く同様に作製したものを比較
例４Ｂ試料とした。

【００３８】[実施例１Ｃ]実施例１Ｂにおいて、防眩性
ハードコート層用塗布液Ｂの代わりに防眩性ハードコー
ト層用塗布液Ｃを用いた以外は、実施例１Ｂ試料と全く
同様に作製したものを実施例１Ｃ試料とする。 [実施例２Ｃ〜７Ｃ、比較例１Ｃ〜４Ｃ]実施例１Ｂ試料
を実施例１Ｃ試料に置き換えたのと全く同じ考え方で、
防眩性ハードコート層用塗布液Ｂの代わりに防眩性ハー
ドコート層用塗布液Ｃを用い、その際、塗布液中のマッ
ト剤の固形分濃度を変えずに、それ以外の固形分濃度を
増減させ、所望の光学接触率に合わせた試料をそれぞ
れ、実施例２Ｃ〜７Ｃ、比較例１Ｃ〜４Ｃとした。

【００３９】（防眩性反射防止フィルムの評価）作製し
た防眩性反射防止フィルムについて、以下の項目の評価
を行った。（１）ヘイズ得られたフィルムのヘイズをヘイズメーターＭＯＤＥＬ
１００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）を用いて測定
した。

【００４０】（２）光学接触率評価作製した防眩性反射防止フィルムについて、東洋精機
（株）製のマイクロトポグラフを用いて、印加荷重１．
５７ＭＰａにて、波長０．５μｍでの光学接触率を測定
した。光学接触率１００％という値は、１．５７ＭＰａ
の荷重をかけたとき、光学的に表面がフラットになって
いることを示す。この光学接触率の値は、高精細性モニ
ターに対応しうる防眩性反射防止フィルムを開発する際
の重要な指標となることがわかった。

【００４１】（３）防眩性評価作製した防眩性反射防止フィルムにルーバーなしのむき
出し蛍光灯（８０００ｃｄ／ｃｍ^２）を映し、その反射
像のボケの程度を以下の基準で評価した。蛍光灯の輪郭が全く〜ほとんどわからない：◎ 蛍光灯の輪郭がわずかにわかる：○ 蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる：△ 蛍光灯がほとんどぼけない：×

【００４２】（４）高精細モニター適合性評価防眩性反射防止フィルムの高精細モニター適合性を評価
するために、シャープ(株)製ＰＣ−ＰＪ２−Ｘ４モニタ
ー上に密着するように、作製した防眩性反射防止フィル
ムを載せ、以下の基準で目視官能評価した。ここでは、
Ｒ、Ｇ、Ｂ３色一体で１画素としたときに、１画素の大
きさが２００μｍ×２００μｍ以下程度のモニターを高
精細モニターと言う。本発明での「ギラツキ」は、防眩
性で議論される電灯等の照明の映り込みのまぶしさの有
無ではなく、フィルムが引き起こすレンズ効果による画
素の拡大によって、人の目にはＲ、Ｇ、Ｂがギラついて
見えてしまうことを言う。全く〜ほとんどギラツキがわからない：◎ わずかにギラツキが見られる：○ 少しギラツキがある：△ ギラツキがはっきり認識できる：×

【００４３】（５）平均反射率作製した防眩性反射防止フィルムに対し、分光光度計
（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの
波長領域において、入射角５°における分光反射率を測
定した。結果には４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を用
いた。

【００４４】表１に実施例および比較例の結果を示す。
実施例１Ｂ〜７Ｂはいずれも、高精細モニターに対応で
きる、防眩性反射防止フィルムであることがわかる。印
加荷重１．５７ＭＰａ、波長０．５μｍでの光学接触率
の値を１５％〜６５％の間に入れることが、防眩性と高
精細性の両立を図るために必要である。この範囲を逸脱
した比較例試料１Ｂ〜４Ｂは、防眩性と高精細性の両立
ができていない。全く同様の結果が、実施例１Ｃ〜７
Ｃ、比較例１Ｃ〜４Ｃで得られた。

【００４５】

【表１】

【００４６】次に、実施例１Ｂ〜７Ｂ、１Ｃ〜７Ｃの防
眩性反射防止フィルムを用いて防眩性反射防止偏光板を
作成した。この偏光板を用いて反射防止層を最表層に配
置した液晶表示装置を作製したところ、外光の映り込み
がないために優れたコントラストが得られ、防眩性によ
り反射像が目立たず優れた視認性を有し、しかも高精細
適合性を有していた。

【００４７】以下にさらに本発明の実施例を示すが、ま
ず、用いたトリアセチルセルロースフィルム支持体につ
いて説明する。１．トリアセチルセルロースフィルム支持体Ｉの作製（トリアセチルセルロースドープＡの調製）トリアセチルセルロース１７．４質量部、トリフェニル
フォスフェート２．６質量部、ジクロロメタン６６質量
部、メタノール５．８質量部、ノルマルブタノール８．
２質量部からなる原料を攪拌しながら混合して溶解し、
トリアセチルセルロースドープＡを調製した。

【００４８】（トリアセチルセルロースドープＢの調
製）トリアセチルセルロース２４質量部、トリフェニル
フォスフェート４質量部、ジクロロメタン６６質量部、
メタノール６質量部からなる原料を攪拌しながら混合し
て溶解し、トリアセチルセルロースドープＢを調製し
た。

【００４９】特開平１１−２５４５９４号等に従って、
３層共流延ダイを用い、ドープＢの両側にドープＡを共
流延するように配置して金属ドラム上に同時に吐出させ
て重層流延した後、流延膜をドラムから剥ぎ取り、乾燥
して、ドラム面側から１０μｍ、６０μｍ、１０μｍの
３層共流延トリアセチルセルロースフィルム支持体Ｉを
作成した。このフィルムには、各層間に明確な界面は形
成されていなかった。

【００５０】２．トリアセチルセルロースフィルム支持
体IIの作製（トリアセチルセルロースドープＣの調製）トリアセチ
ルセルロース２０質量部、酢酸メチル４８質量部、シク
ロヘキサノン２０質量部、メタノール５質量部、エタノ
ール５質量部、トリフェニルフォスフェート／ビフェニ
ルジフェニルフォスフェート（１／２）２質量部、シリ
カ（粒径２０ｎｍ）０．１質量部、２，４−ビス−（ｎ
−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ
−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジ
ン０．２質量部を添加、攪拌して得られた不均一なゲル
状溶液を、−７０℃にて６時間冷却した後、５０℃に加
温し攪拌してドープＣを調製した。

【００５１】特開平７−１１０５５号に従い、上記トリ
アセチルセルロースドープＣを単層ドラム流延し、厚み
８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム支持体IIを
作成した。

【００５２】３．トリアセチルセルロースフィルム支持
体IIIの作製（トリアセチルセルロースドープＤの調製）上記トリア
セチルセルロースドープＣと同様にして得られた不均一
なゲル状溶液を、ステンレス製密閉容器にて１ＭＰａ、
１８０℃で５分間加熱した後、５０℃の水浴中に容器ご
と投入し冷却し、トリアセチルセルロースドープＤを調
製した。

【００５３】特開平７−１１０５５号に従い、上記トリ
アセチルセルロースドープＤを単層ドラム流延し、厚み
８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム支持体III
を作成した。

【００５４】［実施例１Ｄ〜７Ｄ、比較例１Ｄ〜４Ｄ、
実施例１Ｅ〜７Ｅ、比較例１Ｅ〜４Ｅ］実施例１Ｂ〜７
Ｂ、比較例１Ｂ〜４Ｂ、実施例１Ｃ〜７Ｃ、比較例１Ｃ
〜４Ｃにおける８０μｍの厚さのトリアセチルセルロー
スフィルムを上記トリアセチルセルロースフィルム支持
体Ｉに置き換えた以外はそれぞれ同様にして、実施例１
Ｄ〜７Ｄ、比較例１Ｄ〜４Ｄ、実施例１Ｅ〜７Ｅ、比較
例１Ｅ〜４Ｅを作成した。実施例１Ｄ〜７Ｄ、比較例１
Ｄ〜４Ｄ、実施例１Ｅ〜７Ｅ、比較例１Ｅ〜４Ｅについ
て前記の評価を行ったところ、支持体における差はみら
れず、実施例１Ｂ〜７Ｂ、比較例１Ｂ〜４Ｂと同様の結
果が得られた。

【００５５】［実施例８Ｄ、９Ｄ］実施例１Ｂの８０μ
ｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルムを上記トリ
アセチルセルロースフィルム支持体II、IIIに置き換え
た以外は実施例１Ｂと同様にして、実施例８Ｄ、９Ｄを
作成した。実施例８Ｄ、９Ｄについて前記の評価を行っ
たところ、支持体における差はみられず、実施例１Ｂと
同等の結果が得られた。

【００５６】

【発明の効果】本発明の防眩性反射防止フィルムは、透
明支持体上に少なくとも一層の防眩性ハードコート層と
低屈折率層を形成するのみによって得られ、簡便かつ安
価にして十分な反射防止性、防眩性、高精細性を有す
る。これを用いた偏光板、画像表示装置は、反射防止
性、防眩性、高精細性のいずれにも優れる。

【図面の簡単な説明】

【図１】防眩性反射防止フィルムの層構成を示す断面模
式図である。

【図２】光学接触率の測定原理を説明する説明図であ
る。

【符号の説明】

１透明支持体２防眩性ハードコート層３低屈折率層４粒子

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｈ０４Ｎ 5/72 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ (72)発明者西浦陽介神奈川県南足柄市中沼210番地富士写真フイルム株式会社内Ｆターム(参考） 2H042 BA02 BA13 BA15 BA20 2H049 BA02 BB23 BB33 BB65 BC22 2K009 AA02 AA15 BB24 BB28 CC03 CC09 CC26 CC42 DD02 5C058 AA01 AA06 AA11 AB05 BA08 BA35 DA01 DA02 DA03 DA06 5G435 AA00 AA01 FF02 FF05 HH02 HH03 KK07

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明支持体上に、少なくとも一層の防眩
性ハードコート層と、該防眩性ハードコート層上に屈折
率１．３８以上１．４９以下の低屈折率層を有した、全
ヘイズが３．０％以上２０．０％以下である防眩性反射
防止フィルムであって、１．５７ＭＰａの印加荷重条件
で、波長０．５μｍでの光学接触率の値が１５％以上６
５％以下であることを特徴とする防眩性反射防止フィル
ム。
【請求項２】該透明支持体がトリアセチルセルロース
またはポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン
ナフタレートであることを特徴とする請求項１記載の防
眩性反射防止フィルム。
【請求項３】該防眩性ハードコート層が電離放射線に
より架橋されたものであることを特徴とする請求項１又
は２記載の防眩性反射防止フィルム。
【請求項４】該防眩性ハードコート層に平均粒径０．
３μｍ以上１０．０μｍ以下の粒子が含有されているこ
とが特徴である請求項１〜３のいずれか１項に記載の防
眩性反射防止フィルム。
【請求項５】請求項４記載の、該防眩性ハードコート
層にされる粒子が、球形有機高分子粒子であることを特
徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の防眩性反
射防止フィルム。
【請求項６】該防眩性ハードコート層の屈折率が１．
５７以上２．００以下であることを特徴とする請求項１
〜５のいずれか１項に記載の防眩性反射防止フィルム。
【請求項７】該防眩性ハードコート層が、２以上のエ
チレン性不飽和基を有するモノマーと、粒径０．１μｍ
以下のチタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、
アンチモン、ジルコニウムの内より選ばれる少なくとも
一種類の酸化物を含有することを特徴とする請求項１〜
６のいずれか１項に記載の防眩性反射防止フィルム。
【請求項８】該低屈折率層が、熱または電離放射線に
より架橋する含フッ素化合物、および無機微粒子を含ん
でなり、該防眩性反射防止フィルムの４５０ｎｍから６
５０ｎｍの平均反射率が１．８％以下であることを特徴
とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の防眩性反射
防止フィルム。
【請求項９】該低屈折率層が含有する無機微粒子の平
均粒径が０．００１μｍ以上０．１μｍ以下であること
を特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の防眩
性反射防止フィルム。
【請求項１０】該低屈折率層が含有する無機微粒子が
シリカであることを特徴とする請求項１〜９のいずれか
１項に記載の防眩性反射防止フィルム。
【請求項１１】該低屈折率層が含有する含フッ素化合
物が、含フッ素ビニルモノマーを重合して得られるポリ
マーであることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか
１項に記載の防眩性反射防止フィルム。
【請求項１２】該透明支持体が、トリアセチルセルロ
ースフィルムであり、トリアセチルセルロースを溶剤に
溶解することで調製されたトリアセチルセルロースドー
プを単層流延、複数層共流延もしくは複数層逐次流延の
何れかの流延方法により流延することにより作製された
ことを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載
の防眩性反射防止フィルム。
【請求項１３】該トリアセチルセルロースドープが、
トリアセチルセルロースを冷却溶解法あるいは高温溶解
法によって、ジクロロメタンを実質的に含まない溶剤に
溶解することで調製されたトリアセチルセルロースドー
プであることを特徴とする請求項１２に記載の防眩性反
射防止フィルム。
【請求項１４】請求項１〜１３のいずれか１項に記載
の該防眩性反射防止フィルムを、偏光板における偏光層
の２枚の保護フィルムのうちの少なくとも一方に用いた
ことを特徴とする偏光板。
【請求項１５】請求項１〜１３のいずれか１項に記載
の防眩性反射防止フィルムまたは請求項１４に記載の防
眩性反射防止偏光板をディスプレイの最表層に用いたこ
とを特徴とする画像表示装置。