JP2001335593A - ４’−ｃ−エチニルピリミジンヌクレオシド化合物 - Google Patents
４’−ｃ−エチニルピリミジンヌクレオシド化合物Info
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- JP2001335593A JP2001335593A JP2000137975A JP2000137975A JP2001335593A JP 2001335593 A JP2001335593 A JP 2001335593A JP 2000137975 A JP2000137975 A JP 2000137975A JP 2000137975 A JP2000137975 A JP 2000137975A JP 2001335593 A JP2001335593 A JP 2001335593A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】４’−Ｃ−エチニルピリミジンヌクレオシド化
合物及びその医薬用途、特にエイズ（ＡＩＤＳ）の治療
用用途を提供する。 【解決手段】下記式［Ｉ］で表される４’−Ｃ−エチニ
ルピリミジンヌクレオシド化合物（ただし、４’−Ｃ−
エチニルチミジンを除く）およびそれら化合物と薬学的
に許容される担体とを含有してなる医薬組成物に関す
る。 【化１】 [Ｉ] （式中、Ｂは、ピリミジンもしくはその誘導体からなる
群より選ばれた塩基を示し、Ｘは水素原子または水酸基
を示し、Ｒは水素原子またはリン酸残基を示す。）
合物及びその医薬用途、特にエイズ（ＡＩＤＳ）の治療
用用途を提供する。 【解決手段】下記式［Ｉ］で表される４’−Ｃ−エチニ
ルピリミジンヌクレオシド化合物（ただし、４’−Ｃ−
エチニルチミジンを除く）およびそれら化合物と薬学的
に許容される担体とを含有してなる医薬組成物に関す
る。 【化１】 [Ｉ] （式中、Ｂは、ピリミジンもしくはその誘導体からなる
群より選ばれた塩基を示し、Ｘは水素原子または水酸基
を示し、Ｒは水素原子またはリン酸残基を示す。）
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、４’−Ｃ−エチニルヌ
クレオシド及びその医薬用途、特にエイズ（ＡＩＤＳ）
の治療用用途に関するものである。
クレオシド及びその医薬用途、特にエイズ（ＡＩＤＳ）
の治療用用途に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ＡＺＴ（ジドブジン）、ｄｄＩ（ジダノ
シン）、ｄｄＣ（ザルシタビン）、ｄ４Ｔ（スタブジ
ン）３ＴＣ（ラミブジン）などのヌクレオシド系逆転写
酵素阻害剤（nucleoside reverse transcriptase inhib
itors;ＮＲＴＩｓ）にプロテアーゼ阻害剤（protease i
nhibitors;ＰＩｓ）を加えた、いわゆる「強力な抗レト
ロウイルス剤による化学療法（highly active antiretr
oviral therapy;ＨＡＡＲＴ）」と呼ばれる多剤併用療
法によって、ＡＩＤＳの臨床像は一変し、ＡＩＤＳによ
る死亡者数も各国で激減した（Textbook of AIDS Medic
ine, p751(Williams& Wilkins, Baltimore, 1999)）。
シン）、ｄｄＣ（ザルシタビン）、ｄ４Ｔ（スタブジ
ン）３ＴＣ（ラミブジン）などのヌクレオシド系逆転写
酵素阻害剤（nucleoside reverse transcriptase inhib
itors;ＮＲＴＩｓ）にプロテアーゼ阻害剤（protease i
nhibitors;ＰＩｓ）を加えた、いわゆる「強力な抗レト
ロウイルス剤による化学療法（highly active antiretr
oviral therapy;ＨＡＡＲＴ）」と呼ばれる多剤併用療
法によって、ＡＩＤＳの臨床像は一変し、ＡＩＤＳによ
る死亡者数も各国で激減した（Textbook of AIDS Medic
ine, p751(Williams& Wilkins, Baltimore, 1999)）。
【０００３】しかし、ＨＡＡＲＴによりＡＩＤＳによる
死亡者が激減する一方で、複数の薬剤に対して交叉耐性
を示す多剤耐性ＨＩＶ−１（human immunodeficiency v
irus-1）株が出現し、たとえば、ＡＺＴと３ＴＣの両方
に耐性のＨＩＶに感染した患者は、１９９０年初頭では
ほとんど見られなかったのに対し、１９９５〜１９９６
年になると４２％にものぼっていることが報告されてい
る（AIDS, 11, 1184(1997)）。
死亡者が激減する一方で、複数の薬剤に対して交叉耐性
を示す多剤耐性ＨＩＶ−１（human immunodeficiency v
irus-1）株が出現し、たとえば、ＡＺＴと３ＴＣの両方
に耐性のＨＩＶに感染した患者は、１９９０年初頭では
ほとんど見られなかったのに対し、１９９５〜１９９６
年になると４２％にものぼっていることが報告されてい
る（AIDS, 11, 1184(1997)）。
【０００４】このような多剤耐性ウイルス株（multi-dr
ug resistant virus）の出現により、「治療の失敗（dr
ug failure:いったんウイルス血症レベルが検出限界以
下になった症例で、再びウイルス血症が持続的に見られ
るようになったもの）」も３０〜６０％にも及んでいる
ことが報告され（AIDS, 12, 1631(1998)）、大きな問題
となっている。
ug resistant virus）の出現により、「治療の失敗（dr
ug failure:いったんウイルス血症レベルが検出限界以
下になった症例で、再びウイルス血症が持続的に見られ
るようになったもの）」も３０〜６０％にも及んでいる
ことが報告され（AIDS, 12, 1631(1998)）、大きな問題
となっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来、多剤耐性ウイル
ス株に対して抗ウイルス活性を示す化合物としては、多
くのＰＩｓに耐性なＨＩＶ−１株（multi-PI resistant
HIV-1）に対して抗ウイルス活性を示すプロテアーゼ阻
害剤：ＪＥ−２１４７などが知られているのみで（Pro
c. Natl. Acad. Sci. USA, 96,8675(1999)）、ヌクレオ
シド系化合物において、多剤耐性ウイルス株に対して抗
ウイルス活性を示す化合物は報告されていない。
ス株に対して抗ウイルス活性を示す化合物としては、多
くのＰＩｓに耐性なＨＩＶ−１株（multi-PI resistant
HIV-1）に対して抗ウイルス活性を示すプロテアーゼ阻
害剤：ＪＥ−２１４７などが知られているのみで（Pro
c. Natl. Acad. Sci. USA, 96,8675(1999)）、ヌクレオ
シド系化合物において、多剤耐性ウイルス株に対して抗
ウイルス活性を示す化合物は報告されていない。
【０００６】発明者の一人である大類らは、１−（４−
Ｃ−エチニル−β−Ｄ−リボ−ペントフラノシル）チミ
ン、４’−Ｃ−エチニルウリジン及び４’−Ｃ−エチニ
ルシチジンを合成し、抗ウイルス活性、抗腫瘍活性など
の生物活性を測定したが、それらの化合物に生物活性は
観察されなかった（Biosci. Biotechnol. Biochem.,63
(4), 736-742, 1999）。
Ｃ−エチニル−β−Ｄ−リボ−ペントフラノシル）チミ
ン、４’−Ｃ−エチニルウリジン及び４’−Ｃ−エチニ
ルシチジンを合成し、抗ウイルス活性、抗腫瘍活性など
の生物活性を測定したが、それらの化合物に生物活性は
観察されなかった（Biosci. Biotechnol. Biochem.,63
(4), 736-742, 1999）。
【０００７】また、松田らは４’−Ｃ−エチニルチミジ
ンを合成し、抗ＨＩＶ活性を測定しているが、当該化合
物の抗ＨＩＶ活性はＡＺＴの抗ＨＩＶ活性よりも弱いも
のであった。なお、松田らの論文における抗ＨＩＶ活性
の測定は、ＭＴ−４細胞とＨＩＶ−１ IIIb株を用いた
通常の抗ＨＩＶ活性測定法であって、多剤耐性ウイルス
株を用いたものではない（Bioorg. Med. Chem. Lett.,
9(1999), 385-388）。
ンを合成し、抗ＨＩＶ活性を測定しているが、当該化合
物の抗ＨＩＶ活性はＡＺＴの抗ＨＩＶ活性よりも弱いも
のであった。なお、松田らの論文における抗ＨＩＶ活性
の測定は、ＭＴ−４細胞とＨＩＶ−１ IIIb株を用いた
通常の抗ＨＩＶ活性測定法であって、多剤耐性ウイルス
株を用いたものではない（Bioorg. Med. Chem. Lett.,
9(1999), 385-388）。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、ＡＺＴ以
上の抗ウイルス活性を有する化合物を見つけるべく、種
々の４’−Ｃ−エチニルヌクレオシドを合成し、抗ウイ
ルス活性を測定した結果、特定の構造を有する４’−
Ｃ−エチニルヌクレオシドがＡＺＴと同等あるいはＡＺ
Ｔを凌ぐ優れた抗ＨＩＶ活性を有すること、ＡＺＴ、
ｄｄＩ、ｄｄＣ、ｄ４Ｔ、３ＴＣなどの複数の抗ＨＩＶ
剤に耐性を有する多剤耐性ウイルス株にも有効なこと、
細胞毒性も問題となるほど強くないことを確認し、本
願発明を完成させた。
上の抗ウイルス活性を有する化合物を見つけるべく、種
々の４’−Ｃ−エチニルヌクレオシドを合成し、抗ウイ
ルス活性を測定した結果、特定の構造を有する４’−
Ｃ−エチニルヌクレオシドがＡＺＴと同等あるいはＡＺ
Ｔを凌ぐ優れた抗ＨＩＶ活性を有すること、ＡＺＴ、
ｄｄＩ、ｄｄＣ、ｄ４Ｔ、３ＴＣなどの複数の抗ＨＩＶ
剤に耐性を有する多剤耐性ウイルス株にも有効なこと、
細胞毒性も問題となるほど強くないことを確認し、本
願発明を完成させた。
【０００９】すなわち、本発明は、式［Ｉ］で表される
４’−Ｃ−エチニルヌクレオシド（ただし、４’−Ｃ−
エチニルチミジンを除く）および当該化合物と薬学的に
許容される担体とを含有してなる医薬組成物に関するも
のである。
４’−Ｃ−エチニルヌクレオシド（ただし、４’−Ｃ−
エチニルチミジンを除く）および当該化合物と薬学的に
許容される担体とを含有してなる医薬組成物に関するも
のである。
【化２】 [Ｉ] （式中、Ｂは、ピリミジン、プリンもしくはそれらの誘
導体からなる群より選ばれた塩基を示し、Ｘは水素原子
または水酸基を示し、Ｒは水素原子またはリン酸残基を
示す。） また、本発明は、上記式［Ｉ］の化合物の医薬としての
使用に関するものである。さらに、本発明は、上記式
［Ｉ］の化合物をヒトを含む動物に投与することを特徴
とするエイズの治療方法に関するものである。
導体からなる群より選ばれた塩基を示し、Ｘは水素原子
または水酸基を示し、Ｒは水素原子またはリン酸残基を
示す。） また、本発明は、上記式［Ｉ］の化合物の医薬としての
使用に関するものである。さらに、本発明は、上記式
［Ｉ］の化合物をヒトを含む動物に投与することを特徴
とするエイズの治療方法に関するものである。
【００１０】
【発明の実施の形態】（１）化合物 本発明化合物は、前記式［Ｉ］で表されるものであり、
式中のＢで表される塩基としては、ピリミジン、プリン
（アザプリン及びデアザプリンをも含む）またはそれら
塩基の誘導体を例示することができる。
式中のＢで表される塩基としては、ピリミジン、プリン
（アザプリン及びデアザプリンをも含む）またはそれら
塩基の誘導体を例示することができる。
【００１１】塩基の誘導体としては、ハロゲン原子、ア
ルキル基、ハロアルキル基、アルケニル基、ハロアルケ
ニル基、アルキニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、
水酸基、ヒドロキシアミノ基、アミノキシ基、アルコキ
シ基、メルカプト基、アルキルメルカプト基、アリール
基、アリールオキシ基、シアノ基などの置換基を有する
ものが挙げられ、置換基の数及び位置は特に制限される
ものではない。
ルキル基、ハロアルキル基、アルケニル基、ハロアルケ
ニル基、アルキニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、
水酸基、ヒドロキシアミノ基、アミノキシ基、アルコキ
シ基、メルカプト基、アルキルメルカプト基、アリール
基、アリールオキシ基、シアノ基などの置換基を有する
ものが挙げられ、置換基の数及び位置は特に制限される
ものではない。
【００１２】置換基としてのハロゲン原子としては、塩
素、フッ素、ヨウ素、臭素が例示される。アルキル基と
しては、メチル、エチル、プロピルなどの炭素数１〜７
の低級アルキル基が例示される。ハロアルキル基として
は、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロ
メチル、ブロモメチル、ブロモエチルなどの炭素数１〜
７のアルキルを有するハロアルキル基が例示される。ア
ルケニル基としては、ビニル、アリルなどの炭素数２〜
７のアルケニル基が例示される。ハロアルケニル基とし
ては、ブロモビニル、クロロビニルなどの炭素数２〜７
のアルケニルを有するハロアルケニル基が例示される。
アルキニル基としては、エチニル、プロピニルなどの炭
素数２〜７のアルキニル基が例示される。アルキルアミ
ノ基としては、メチルアミノ、エチルアミノなどの炭素
数１〜７のアルキルを有するアルキルアミノ基が例示さ
れる。
素、フッ素、ヨウ素、臭素が例示される。アルキル基と
しては、メチル、エチル、プロピルなどの炭素数１〜７
の低級アルキル基が例示される。ハロアルキル基として
は、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロ
メチル、ブロモメチル、ブロモエチルなどの炭素数１〜
７のアルキルを有するハロアルキル基が例示される。ア
ルケニル基としては、ビニル、アリルなどの炭素数２〜
７のアルケニル基が例示される。ハロアルケニル基とし
ては、ブロモビニル、クロロビニルなどの炭素数２〜７
のアルケニルを有するハロアルケニル基が例示される。
アルキニル基としては、エチニル、プロピニルなどの炭
素数２〜７のアルキニル基が例示される。アルキルアミ
ノ基としては、メチルアミノ、エチルアミノなどの炭素
数１〜７のアルキルを有するアルキルアミノ基が例示さ
れる。
【００１３】アルコキシ基としては、メトキシ、エトキ
シなどの炭素数１〜７のアルコキシ基が例示される。ア
ルキルメルカプト基としては、メチルメルカプト、エチ
ルメルカプトなどの炭素数１〜７のアルキルを有するア
ルキルメルカプト基が例示される。アリール基として
は、フェニル基；メチルフェニル、エチルフェニルなど
の炭素数１〜５のアルキルを有するアルキルフェニル
基；メトキシフェニル、エトキシフェニルなどの炭素数
１〜５のアルコキシを有するアルコキシフェニル基；ジ
メチルアミノフェニル、ジエチルアミノフェニルなどの
炭素数１〜５のアルキルアミノを有するアルキルアミノ
フェニル基；クロロフェニル、ブロモフェニルなどのハ
ロゲノフェニル基などが例示される。
シなどの炭素数１〜７のアルコキシ基が例示される。ア
ルキルメルカプト基としては、メチルメルカプト、エチ
ルメルカプトなどの炭素数１〜７のアルキルを有するア
ルキルメルカプト基が例示される。アリール基として
は、フェニル基；メチルフェニル、エチルフェニルなど
の炭素数１〜５のアルキルを有するアルキルフェニル
基；メトキシフェニル、エトキシフェニルなどの炭素数
１〜５のアルコキシを有するアルコキシフェニル基；ジ
メチルアミノフェニル、ジエチルアミノフェニルなどの
炭素数１〜５のアルキルアミノを有するアルキルアミノ
フェニル基；クロロフェニル、ブロモフェニルなどのハ
ロゲノフェニル基などが例示される。
【００１４】ピリミジン系の塩基およびその誘導体を具
体的に例示すれば、シトシン、ウラシル、５ーフルオロ
シトシン、５ーフルオロウラシル、５ークロロシトシ
ン、５ークロロウラシル、５ーブロモシトシン、５ーブ
ロモウラシル、５ーヨードシトシン、５ーヨードウラシ
ル、５ーメチルシトシン、５ーエチルシトシン、５ーメ
チルウラシル（チミン）、５ーエチルウラシル、５ーフ
ルオロメチルシトシン、５ーフルオロウラシル、５ート
リフルオロシトシン、５ートリフルオロウラシル、５ー
ビニルウラシル、５ーブロモビニルウラシル、５ークロ
ロビニルウラシル、５ーエチニルシトシン、５ーエチニ
ルウラシル、５ープロピニルウラシル、ピリミジンー２
ーオン、４ーヒドロキシアミノピリミジンー２ーオン、
４ーアミノオキシピリミジンー２ーオン、４ーメトキシ
ピリミジンー２ーオン、４ーアセトキシピリミジンー２
ーオン、４ーフルオロピリミジンー２ーオン、５ーフル
オロピリミジンー２ーオンなどが挙げられる。
体的に例示すれば、シトシン、ウラシル、５ーフルオロ
シトシン、５ーフルオロウラシル、５ークロロシトシ
ン、５ークロロウラシル、５ーブロモシトシン、５ーブ
ロモウラシル、５ーヨードシトシン、５ーヨードウラシ
ル、５ーメチルシトシン、５ーエチルシトシン、５ーメ
チルウラシル（チミン）、５ーエチルウラシル、５ーフ
ルオロメチルシトシン、５ーフルオロウラシル、５ート
リフルオロシトシン、５ートリフルオロウラシル、５ー
ビニルウラシル、５ーブロモビニルウラシル、５ークロ
ロビニルウラシル、５ーエチニルシトシン、５ーエチニ
ルウラシル、５ープロピニルウラシル、ピリミジンー２
ーオン、４ーヒドロキシアミノピリミジンー２ーオン、
４ーアミノオキシピリミジンー２ーオン、４ーメトキシ
ピリミジンー２ーオン、４ーアセトキシピリミジンー２
ーオン、４ーフルオロピリミジンー２ーオン、５ーフル
オロピリミジンー２ーオンなどが挙げられる。
【００１５】プリン系の塩基およびその誘導体を具体的
に例示すれば、プリン、６ーアミノプリン（アデニ
ン）、６ーヒドロキシプリン、６ーフルオロプリン、６
ークロロプリン、６ーメチルアミノプリン、６ージメチ
ルアミノプリン、６ートリフルオロメチルアミノプリ
ン、６ーベンゾイルアミノプリン、６ーアセチルアミノ
プリン、６ーヒドロキシアミノプリン、６ーアミノオキ
シプリン、６ーメトキシプリン、６ーアセトキシプリ
ン、６ーベンゾイルオキシプリン、６ーメチルプリン、
６ーエチルプリン、６ートリフルオロメチルプリン、６
ーフェニルプリン、６ーメルカプトプリン、６ーメチル
メルカプトプリン、６ーアミノプリンー１ーオキシド、
６ーヒドロキシプリンー１ーオキシド、２ーアミノー６
ーヒドロキシプリン（グアニン）、２，６−ジアミノプ
リン、２ーアミノー６ークロロプリン、２ーアミノー６
ーヨードプリン、２ーアミノプリン、２ーアミノー６ー
メルカプトプリン、２ーアミノー６ーメチルメルカプト
プリン、２ーアミノー６ーヒドロキシアミノプリン、２
ーアミノー６ーメトキシプリン、２ーアミノー６ーベン
ゾイルオキシプリン、２ーアミノー６ーアセトキシプリ
ン、２ーアミノー６ーメチルプリン、２ーアミノー６ー
サイクロプロピルアミノメチルプリン、２ーアミノー６
ーフェニルプリン、２ーアミノー８ーブロモプリン、６
ーシアノプリン、６ーアミノー２ークロロプリン（２ー
クロロアデニン）、６ーアミノー２ーフルオロプリン
（２ーフルオロアデニン）、６ーアミノー３ーデアザプ
リン、６ーアミノー８ーアザプリン、２ーアミノー６ー
ヒドロキシー８ーアザプリン、６ーアミノー７ーデアザ
プリン、６ーアミノー１ーデアザプリン、６ーアミノー
２ーアザプリンなどが挙げられる。
に例示すれば、プリン、６ーアミノプリン（アデニ
ン）、６ーヒドロキシプリン、６ーフルオロプリン、６
ークロロプリン、６ーメチルアミノプリン、６ージメチ
ルアミノプリン、６ートリフルオロメチルアミノプリ
ン、６ーベンゾイルアミノプリン、６ーアセチルアミノ
プリン、６ーヒドロキシアミノプリン、６ーアミノオキ
シプリン、６ーメトキシプリン、６ーアセトキシプリ
ン、６ーベンゾイルオキシプリン、６ーメチルプリン、
６ーエチルプリン、６ートリフルオロメチルプリン、６
ーフェニルプリン、６ーメルカプトプリン、６ーメチル
メルカプトプリン、６ーアミノプリンー１ーオキシド、
６ーヒドロキシプリンー１ーオキシド、２ーアミノー６
ーヒドロキシプリン（グアニン）、２，６−ジアミノプ
リン、２ーアミノー６ークロロプリン、２ーアミノー６
ーヨードプリン、２ーアミノプリン、２ーアミノー６ー
メルカプトプリン、２ーアミノー６ーメチルメルカプト
プリン、２ーアミノー６ーヒドロキシアミノプリン、２
ーアミノー６ーメトキシプリン、２ーアミノー６ーベン
ゾイルオキシプリン、２ーアミノー６ーアセトキシプリ
ン、２ーアミノー６ーメチルプリン、２ーアミノー６ー
サイクロプロピルアミノメチルプリン、２ーアミノー６
ーフェニルプリン、２ーアミノー８ーブロモプリン、６
ーシアノプリン、６ーアミノー２ークロロプリン（２ー
クロロアデニン）、６ーアミノー２ーフルオロプリン
（２ーフルオロアデニン）、６ーアミノー３ーデアザプ
リン、６ーアミノー８ーアザプリン、２ーアミノー６ー
ヒドロキシー８ーアザプリン、６ーアミノー７ーデアザ
プリン、６ーアミノー１ーデアザプリン、６ーアミノー
２ーアザプリンなどが挙げられる。
【００１６】Ｂがピリミジン系の塩基で、Ｘが水素原子
である化合物としては、たとえば以下に示す化合物また
はその５’−リン酸エステルが挙げられる。 ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシシチジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−ハロゲノシ
チジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−アルキルシ
チジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−ハロアルキ
ルシチジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−アルケニル
シチジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−ハロアルケ
ニルシチジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−アルキニル
シチジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−ハロゲノウ
リジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−アルキルウ
リジン（ただし、４’−Ｃ−エチニルチミジンを除く） ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−ハロアルキ
ルウリジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−アルケニル
ウリジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−ハロアルケ
ニルウリジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−アルキニル
ウリジン
である化合物としては、たとえば以下に示す化合物また
はその５’−リン酸エステルが挙げられる。 ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシシチジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−ハロゲノシ
チジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−アルキルシ
チジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−ハロアルキ
ルシチジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−アルケニル
シチジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−ハロアルケ
ニルシチジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−アルキニル
シチジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−ハロゲノウ
リジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−アルキルウ
リジン（ただし、４’−Ｃ−エチニルチミジンを除く） ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−ハロアルキ
ルウリジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−アルケニル
ウリジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−ハロアルケ
ニルウリジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−アルキニル
ウリジン
【００１７】Ｂがピリミジン系の塩基で、Ｘが水酸基で
ある化合物としては、たとえば以下に示す化合物または
その５’−リン酸エステルが挙げられる。 １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）シトシン １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−ハロゲノシトシン １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−アルキルシトシン １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−ハロアルキルシトシン １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−アルケニルシトシン １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシ）−５−ハロアルケニルシトシン １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−アルキニルシトシン １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−ハロゲノウラシル １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−アルキルウラシル １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−ハロアルキルウラシル １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−アルケニルウラシル １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−ハロアルケニルウラシル １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−アルキニルウラシル
ある化合物としては、たとえば以下に示す化合物または
その５’−リン酸エステルが挙げられる。 １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）シトシン １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−ハロゲノシトシン １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−アルキルシトシン １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−ハロアルキルシトシン １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−アルケニルシトシン １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシ）−５−ハロアルケニルシトシン １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−アルキニルシトシン １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−ハロゲノウラシル １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−アルキルウラシル １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−ハロアルキルウラシル １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−アルケニルウラシル １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−ハロアルケニルウラシル １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−アルキニルウラシル
【００１８】Ｂがプリン系の塩基で、Ｘが水素原子であ
る化合物としては、たとえば以下に示す化合物またはそ
の５’−リン酸エステルが挙げられる。 ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシアデノシン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシグアノシン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシイノシン ９−（４−Ｃ−エチニル−２−デオキシ−β−Ｄ−リボ
−フラノシル）プリン ９−（４−Ｃ−エチニル−２−デオキシ−β−Ｄ−リボ
−フラノシル）−２，６−ジアミノプリン
る化合物としては、たとえば以下に示す化合物またはそ
の５’−リン酸エステルが挙げられる。 ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシアデノシン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシグアノシン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシイノシン ９−（４−Ｃ−エチニル−２−デオキシ−β−Ｄ−リボ
−フラノシル）プリン ９−（４−Ｃ−エチニル−２−デオキシ−β−Ｄ−リボ
−フラノシル）−２，６−ジアミノプリン
【００１９】Ｂがプリン系の塩基で、Ｘが水酸基である
化合物としては、たとえば以下に示す化合物またはその
５’−リン酸エステルが挙げられる。 ９−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）アデニン ９−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）グアニン ９−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）ヒポキサンチン ９−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）プリン ９−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−２，６−ジアミノプリン
化合物としては、たとえば以下に示す化合物またはその
５’−リン酸エステルが挙げられる。 ９−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）アデニン ９−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）グアニン ９−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）ヒポキサンチン ９−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）プリン ９−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−２，６−ジアミノプリン
【００２０】本発明化合物のうち、好ましい化合物とし
ては、以下の化合物を例示することができる。 （１）４’−Ｃ−エチニルピリミジンヌクレオシド 1) 前記式［Ｉ］中のＸが水素原子である化合物 2) 前記式［Ｉ］中のＸが水酸基である化合物 3) 前記式［Ｉ］中のＢがシトシンまたはその誘導体で
ある化合物 4) 前記式［Ｉ］中のＢがシトシンまたはその誘導体で
あり、Ｘが水素原子である化合物 5) 前記式［Ｉ］中のＢがシトシンまたはその誘導体で
あり、Ｘが水酸基である化合物 6) ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシシチジン 7) ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−フルオ
ロシチジン 8) １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペン
トフラノシル）シトシン
ては、以下の化合物を例示することができる。 （１）４’−Ｃ−エチニルピリミジンヌクレオシド 1) 前記式［Ｉ］中のＸが水素原子である化合物 2) 前記式［Ｉ］中のＸが水酸基である化合物 3) 前記式［Ｉ］中のＢがシトシンまたはその誘導体で
ある化合物 4) 前記式［Ｉ］中のＢがシトシンまたはその誘導体で
あり、Ｘが水素原子である化合物 5) 前記式［Ｉ］中のＢがシトシンまたはその誘導体で
あり、Ｘが水酸基である化合物 6) ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシシチジン 7) ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−フルオ
ロシチジン 8) １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペン
トフラノシル）シトシン
【００２１】（２）４’−Ｃ−エチニルプリンヌクレオ
シド 1) 前記式［Ｉ］中のＸが水素原子である化合物 2) 前記式［Ｉ］中のＸが水酸基である化合物 3) 前記式［Ｉ］中のＢが、アデニン、グアニン、ヒポ
キサンチン、ジアミノプリンまたはその誘導体からなる
群より選択されたものである化合物 4) 前記式［Ｉ］中のＢが、アデニン、グアニン、ヒポ
キサンチン、ジアミノプリンまたはその誘導体からなる
群より選択されたものであり、Ｘが水素原子である化合
物 5) 前記式［Ｉ］中のＢが、アデニン、グアニン、ヒポ
キサンチン、ジアミノプリンまたはその誘導体からなる
群より選択されたものであり、Ｘが水酸基である化合物 6) ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシアデノシン 7) ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシグアノシン 8) ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシイノシン 9) ９−（４−Ｃ−エチニル−２−デオキシ−β−Ｄ−
リボ−ペントフラノシル）−２，６−ジアミノプリン 10) ９−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペン
トフラノシル）アデニン
シド 1) 前記式［Ｉ］中のＸが水素原子である化合物 2) 前記式［Ｉ］中のＸが水酸基である化合物 3) 前記式［Ｉ］中のＢが、アデニン、グアニン、ヒポ
キサンチン、ジアミノプリンまたはその誘導体からなる
群より選択されたものである化合物 4) 前記式［Ｉ］中のＢが、アデニン、グアニン、ヒポ
キサンチン、ジアミノプリンまたはその誘導体からなる
群より選択されたものであり、Ｘが水素原子である化合
物 5) 前記式［Ｉ］中のＢが、アデニン、グアニン、ヒポ
キサンチン、ジアミノプリンまたはその誘導体からなる
群より選択されたものであり、Ｘが水酸基である化合物 6) ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシアデノシン 7) ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシグアノシン 8) ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシイノシン 9) ９−（４−Ｃ−エチニル−２−デオキシ−β−Ｄ−
リボ−ペントフラノシル）−２，６−ジアミノプリン 10) ９−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペン
トフラノシル）アデニン
【００２２】本発明化合物は、塩、水和物または溶媒和
物の形態であってもよい。そのような塩としては、Ｒが
水素原子である場合には塩酸塩または硫酸塩などの酸付
加物、Ｒがリン酸残基である場合にはナトリウム塩、カ
リウム塩またはリチウム塩などのアルカリ金属塩、カル
シウム塩などのアルカリ土類金属塩もしくはアンモニウ
ム塩などの薬学的に許容される任意の塩が例示される。
また、水和物または溶媒和物としては、本発明の化合物
またはその塩１分子に対し、０．１〜３．０分子の水ま
たは溶媒が付着したものを例示することができる。さら
に、本発明の化合物には、互変異性体などの各種異性体
も包含されうる。
物の形態であってもよい。そのような塩としては、Ｒが
水素原子である場合には塩酸塩または硫酸塩などの酸付
加物、Ｒがリン酸残基である場合にはナトリウム塩、カ
リウム塩またはリチウム塩などのアルカリ金属塩、カル
シウム塩などのアルカリ土類金属塩もしくはアンモニウ
ム塩などの薬学的に許容される任意の塩が例示される。
また、水和物または溶媒和物としては、本発明の化合物
またはその塩１分子に対し、０．１〜３．０分子の水ま
たは溶媒が付着したものを例示することができる。さら
に、本発明の化合物には、互変異性体などの各種異性体
も包含されうる。
【００２３】（２）製造法 本発明化合物のうち、Ｘが水素原子である２’−デオキ
シ体は、以下に説明する工程により製造することができ
る。 第１工程；第１工程は、式［ＩＩ］で表される化合物の
４位のハイドロキシメチル基を酸化してアルデヒド化合
物とし、さらにアルキン化合物へ変換することにより式
［ＩＩＩ］で表される化合物を得る工程である。
シ体は、以下に説明する工程により製造することができ
る。 第１工程；第１工程は、式［ＩＩ］で表される化合物の
４位のハイドロキシメチル基を酸化してアルデヒド化合
物とし、さらにアルキン化合物へ変換することにより式
［ＩＩＩ］で表される化合物を得る工程である。
【００２４】
【化３】 ［ＩＩ］ ［ＩＩＩ］ （式中、Ｒ１〜Ｒ２は保護基を示し、Ｒ３は水素原子ま
たは保護基を示し、Ｂｎはベンジル基を示す。）
たは保護基を示し、Ｂｎはベンジル基を示す。）
【００２５】原料化合物は、式［ＩＩ］で表される公知
化合物である（Biosci. Biotech. Biochem., 57, 1433-
1438(1993)）。Ｒ１〜Ｒ２で表わされる保護基として
は、水酸基などで通常使用されるものであればよく、た
とえばエーテル系保護基、アシル系保護基、シリル系保
護基、アセタール系保護基などを例示することができ
る。より具体的には、エーテル系保護基としては、メチ
ルエーテル、第３級ブチルエーテル、ベンジルエーテ
ル、メトキシベンジルエーテル、トリチルエーテルなど
を、アシル系保護基としてはアセチル、ベンゾイル、ピ
バロイルなどを、シリル系保護基としてはｔーブチルジ
メチルシリル、ｔーブチルジフェニルシリル、トリメチ
ルシリル、トリエチルシリルなどを、アセタール系保護
基としてはイソプロピリデン、エチリデン、メチリデ
ン、ベンジリデン、テトラヒドロピラニル、メトキシメ
チルなどをそれぞれ使用することができる。
化合物である（Biosci. Biotech. Biochem., 57, 1433-
1438(1993)）。Ｒ１〜Ｒ２で表わされる保護基として
は、水酸基などで通常使用されるものであればよく、た
とえばエーテル系保護基、アシル系保護基、シリル系保
護基、アセタール系保護基などを例示することができ
る。より具体的には、エーテル系保護基としては、メチ
ルエーテル、第３級ブチルエーテル、ベンジルエーテ
ル、メトキシベンジルエーテル、トリチルエーテルなど
を、アシル系保護基としてはアセチル、ベンゾイル、ピ
バロイルなどを、シリル系保護基としてはｔーブチルジ
メチルシリル、ｔーブチルジフェニルシリル、トリメチ
ルシリル、トリエチルシリルなどを、アセタール系保護
基としてはイソプロピリデン、エチリデン、メチリデ
ン、ベンジリデン、テトラヒドロピラニル、メトキシメ
チルなどをそれぞれ使用することができる。
【００２６】式［ＩＩ］で表される化合物の４位のハイ
ドロキシメチル基をアルデヒドに変換する場合、用いる
酸化剤としては、無水クロム酸、ピリジンと無水酢酸と
の複合試薬、ピリジンクロロクロメート、ピリジンジク
ロメートなどのクロム系酸化剤；デス−マーチン試薬な
どの高原子価ヨウ素酸化剤；ジメチルスルホキシドと無
水酢酸、塩化オキサリルまたはジシクロヘキシルカルボ
ジイミドとを組み合わせて用いるジメチルスルホキシド
系酸化剤などを例示することができる。
ドロキシメチル基をアルデヒドに変換する場合、用いる
酸化剤としては、無水クロム酸、ピリジンと無水酢酸と
の複合試薬、ピリジンクロロクロメート、ピリジンジク
ロメートなどのクロム系酸化剤；デス−マーチン試薬な
どの高原子価ヨウ素酸化剤；ジメチルスルホキシドと無
水酢酸、塩化オキサリルまたはジシクロヘキシルカルボ
ジイミドとを組み合わせて用いるジメチルスルホキシド
系酸化剤などを例示することができる。
【００２７】反応条件は用いる酸化剤により異なり、た
とえば、塩化オキサリルとジメチルスルホキシドを用い
て酸化する場合、ジクロロメタンなどの有機溶媒中、必
要によりアルゴン、窒素などの不活性ガス雰囲気下、式
［ＩＩ］化合物１モルに対して塩化オキサリルとジメチ
ルスルホキシドをそれぞれ０．５〜５モル、１．５〜６
モル用い、−１００〜０℃で１５分から２時間程度反応
させ、トリエチルアミンなどの塩基類を２〜１０モル添
加し、さらに室温にて１５分から２時間程度反応させる
ことにより実施できる。
とえば、塩化オキサリルとジメチルスルホキシドを用い
て酸化する場合、ジクロロメタンなどの有機溶媒中、必
要によりアルゴン、窒素などの不活性ガス雰囲気下、式
［ＩＩ］化合物１モルに対して塩化オキサリルとジメチ
ルスルホキシドをそれぞれ０．５〜５モル、１．５〜６
モル用い、−１００〜０℃で１５分から２時間程度反応
させ、トリエチルアミンなどの塩基類を２〜１０モル添
加し、さらに室温にて１５分から２時間程度反応させる
ことにより実施できる。
【００２８】次に、得られたアルデヒド化合物からアル
キン化合物への変換は、アルデヒド化合物を増炭反応
（Ｃ−Ｃ結合形成反応）に付し、強塩基で処理してメタ
ルアルキニル化合物とし、最後に保護基を導入すること
により実施できる。増炭反応は、ジクロロメタン、ジク
ロロエタンなどの有機溶媒中、必要によりアルゴン、窒
素などの不活性ガス雰囲気下、先に得られたアルデヒド
化合物１モルに対して四臭化炭素とトリフェニルホスフ
ィンをそれぞれ１〜５モル、２〜１０モル用い、０〜５
０℃で１５分から３時間程度反応させればよい。
キン化合物への変換は、アルデヒド化合物を増炭反応
（Ｃ−Ｃ結合形成反応）に付し、強塩基で処理してメタ
ルアルキニル化合物とし、最後に保護基を導入すること
により実施できる。増炭反応は、ジクロロメタン、ジク
ロロエタンなどの有機溶媒中、必要によりアルゴン、窒
素などの不活性ガス雰囲気下、先に得られたアルデヒド
化合物１モルに対して四臭化炭素とトリフェニルホスフ
ィンをそれぞれ１〜５モル、２〜１０モル用い、０〜５
０℃で１５分から３時間程度反応させればよい。
【００２９】強塩基処理は、テトラヒドロフラン、１，
４−ジオキサン、ジメトキシエタンなどの有機溶媒中、
必要によりアルゴン、窒素などの不活性ガス雰囲気下、
増炭反応により得られた化合物１モルに対してｎ−ブチ
ルリチウム、ｔ−ブチルリチウムなどのリチウム化合物
２〜４モル用い、−１００〜−２０℃で５〜６０分程度
反応させることにより実施できる。さらに、得られた化
合物のアルキニル基にＲ３で表されるシリル系保護基を
導入する場合、上記強塩基処理に続けてクロロトリエチ
ルシランなどのシリル化剤を添加し、反応させる。ま
た、水酸基への保護基の導入は、常法により行うことが
でき、たとえば、アセチル基の導入は、無水酢酸などの
アセチル化剤と反応させることにより実施することがで
きる。
４−ジオキサン、ジメトキシエタンなどの有機溶媒中、
必要によりアルゴン、窒素などの不活性ガス雰囲気下、
増炭反応により得られた化合物１モルに対してｎ−ブチ
ルリチウム、ｔ−ブチルリチウムなどのリチウム化合物
２〜４モル用い、−１００〜−２０℃で５〜６０分程度
反応させることにより実施できる。さらに、得られた化
合物のアルキニル基にＲ３で表されるシリル系保護基を
導入する場合、上記強塩基処理に続けてクロロトリエチ
ルシランなどのシリル化剤を添加し、反応させる。ま
た、水酸基への保護基の導入は、常法により行うことが
でき、たとえば、アセチル基の導入は、無水酢酸などの
アセチル化剤と反応させることにより実施することがで
きる。
【００３０】こうして得られた式［ＩＩＩ］の化合物の
単離精製は、通常の保護された糖類の分離精製手段を適
宜選択して用いればよく、例えば酢酸エチルと飽和炭酸
水素ナトリウム水で分配後、シリカゲルカラムクロマト
グラフィーに付すことにより行うことができる。
単離精製は、通常の保護された糖類の分離精製手段を適
宜選択して用いればよく、例えば酢酸エチルと飽和炭酸
水素ナトリウム水で分配後、シリカゲルカラムクロマト
グラフィーに付すことにより行うことができる。
【００３１】第２工程；第２工程は、式［ＩＩＩ］で表
される化合物とＢで表される塩基類とを縮合反応に付
し、次に２’位水酸基をデオキシ化してデオキシ体と
し、糖部の保護基を除去し、必要により５’位水酸基を
リン酸化して式［Ｉ］で表される化合物を得る工程であ
る。
される化合物とＢで表される塩基類とを縮合反応に付
し、次に２’位水酸基をデオキシ化してデオキシ体と
し、糖部の保護基を除去し、必要により５’位水酸基を
リン酸化して式［Ｉ］で表される化合物を得る工程であ
る。
【００３２】
【化４】 ［ＩＩＩ］ ［Ｉ］ （式中、Ｂは、ピリミジン、プリン（アザプリンまたは
デアザプリンをも含む）もしくはそれらの誘導体からな
る群より選ばれた塩基を示し（ただし、チミンは除
く）、Ｒは水素原子またはリン酸残基を示し、Ｒ１〜Ｒ
２は保護基を示し、Ｒ３は水素原子または保護基を示
し、Ｂｎはベンジル基を示す。）
デアザプリンをも含む）もしくはそれらの誘導体からな
る群より選ばれた塩基を示し（ただし、チミンは除
く）、Ｒは水素原子またはリン酸残基を示し、Ｒ１〜Ｒ
２は保護基を示し、Ｒ３は水素原子または保護基を示
し、Ｂｎはベンジル基を示す。）
【００３３】式［ＩＩＩ］で表される化合物とＢで表さ
れる塩基類との縮合は、ルイス酸存在下、式［ＩＩＩ］
の化合物をＢで表される塩基類と反応させることによっ
て行うことができる。Ｂで表される塩基類はシリル化し
たものを用いてもよく、このようなシリル化した塩基類
は公知の方法、たとえばヘキサメチルジシラザンとトリ
メチルクロロシラン中で加熱還流する方法により得るこ
とができる。使用するルイス酸としては、トリフルオロ
メタンスルホン酸トリメチルシリル、四塩化すず、塩化
亜鉛、ヨウ化亜鉛、無水塩化アルミニウムなどが例示さ
れる。
れる塩基類との縮合は、ルイス酸存在下、式［ＩＩＩ］
の化合物をＢで表される塩基類と反応させることによっ
て行うことができる。Ｂで表される塩基類はシリル化し
たものを用いてもよく、このようなシリル化した塩基類
は公知の方法、たとえばヘキサメチルジシラザンとトリ
メチルクロロシラン中で加熱還流する方法により得るこ
とができる。使用するルイス酸としては、トリフルオロ
メタンスルホン酸トリメチルシリル、四塩化すず、塩化
亜鉛、ヨウ化亜鉛、無水塩化アルミニウムなどが例示さ
れる。
【００３４】縮合反応は、ジクロロメタン、１，２−ジ
クロロエタン、アセトニトリル、トルエン等の有機溶媒
中、必要によりアルゴン、窒素などの不活性ガス雰囲気
下、式［ＩＩＩ］の化合物１モルに対しＢで表される塩
基類１〜１０モルおよびルイス酸０．１〜１０モルとを
用い、−２０〜１５０℃で３０分〜３時間程度反応させ
ることにより実施することができる。
クロロエタン、アセトニトリル、トルエン等の有機溶媒
中、必要によりアルゴン、窒素などの不活性ガス雰囲気
下、式［ＩＩＩ］の化合物１モルに対しＢで表される塩
基類１〜１０モルおよびルイス酸０．１〜１０モルとを
用い、−２０〜１５０℃で３０分〜３時間程度反応させ
ることにより実施することができる。
【００３５】２’位水酸基のデオキシ化は、２’位水酸
基をハロゲン化体（ヨウ素体、臭素体、塩素体）、フェ
ノキシチオカルボニル体、チオカルボニルイミダゾール
体、メチルジチオカルボネート体等に変換した後、ラジ
カル開始剤存在下、ラジカル還元剤により還元すること
によって行うことができる。
基をハロゲン化体（ヨウ素体、臭素体、塩素体）、フェ
ノキシチオカルボニル体、チオカルボニルイミダゾール
体、メチルジチオカルボネート体等に変換した後、ラジ
カル開始剤存在下、ラジカル還元剤により還元すること
によって行うことができる。
【００３６】例えば、フェノキシチオカルボニル体に導
いてデオキシ化する場合、フェノキシチオカルボニル化
反応は、必要によりアルゴン、窒素等の不活性ガス雰囲
気下、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジクロロ
メタン等の有機溶媒中、ジメチルアミノピリジン、ピリ
ジン等の塩基共存下、２’位水酸基の保護基のみ除去さ
れた上記縮合物１モルに対してクロロチオノギ酸フェニ
ル誘導体１〜１０モル、好ましくは１．１〜２モル用
い、０〜５０℃で０．５〜５時間程度撹拌反応させるこ
とにより実施することができる。また、ブロモ体に導い
てデオキシ化する場合、ブロモ化反応は、必要によりア
ルゴン、窒素等の不活性ガス雰囲気下、テトラヒドロフ
ラン、アセトニトリル、ジクロロメタン等の有機溶媒
中、脱保護された上記縮合物１モルに対して臭化アセチ
ル等のブロモ化剤１〜５０モル、好ましくは５〜２０モ
ル用い、０〜１５０℃で０．５〜５時間程度撹拌反応さ
せることにより実施することができる。
いてデオキシ化する場合、フェノキシチオカルボニル化
反応は、必要によりアルゴン、窒素等の不活性ガス雰囲
気下、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジクロロ
メタン等の有機溶媒中、ジメチルアミノピリジン、ピリ
ジン等の塩基共存下、２’位水酸基の保護基のみ除去さ
れた上記縮合物１モルに対してクロロチオノギ酸フェニ
ル誘導体１〜１０モル、好ましくは１．１〜２モル用
い、０〜５０℃で０．５〜５時間程度撹拌反応させるこ
とにより実施することができる。また、ブロモ体に導い
てデオキシ化する場合、ブロモ化反応は、必要によりア
ルゴン、窒素等の不活性ガス雰囲気下、テトラヒドロフ
ラン、アセトニトリル、ジクロロメタン等の有機溶媒
中、脱保護された上記縮合物１モルに対して臭化アセチ
ル等のブロモ化剤１〜５０モル、好ましくは５〜２０モ
ル用い、０〜１５０℃で０．５〜５時間程度撹拌反応さ
せることにより実施することができる。
【００３７】続けて行う還元反応は、トルエン、ベンゼ
ン等の有機溶媒中、必要によりアルゴン、窒素等の不活
性ガス雰囲気下、アゾビスイソブチロニトリル等のラジ
カル開始剤存在下、上記フェノキシチオカルボニル体ま
たはブロモ体１モルに対して水素化トリブチルスズ等の
ラジカル還元剤１〜１０モル、好ましくは２〜５モル用
い、５０〜１５０℃で１〜５時間程度撹拌反応させるこ
とにより実施される。
ン等の有機溶媒中、必要によりアルゴン、窒素等の不活
性ガス雰囲気下、アゾビスイソブチロニトリル等のラジ
カル開始剤存在下、上記フェノキシチオカルボニル体ま
たはブロモ体１モルに対して水素化トリブチルスズ等の
ラジカル還元剤１〜１０モル、好ましくは２〜５モル用
い、５０〜１５０℃で１〜５時間程度撹拌反応させるこ
とにより実施される。
【００３８】また、本発明化合物のうち、Ｘが水酸基で
あるアラビノ体は、以下に説明する工程により製造する
ことができる。 第１工程；第１工程は、式［ＩＩＩ］で表される化合物
とＢで表される塩基類とを縮合反応に付し、次に２’位
水酸基を立体反転してアラビノ体とし、糖部の保護基を
除去し、必要により５’位水酸基をリン酸化して式
［Ｉ］で表される化合物を得る工程である。
あるアラビノ体は、以下に説明する工程により製造する
ことができる。 第１工程；第１工程は、式［ＩＩＩ］で表される化合物
とＢで表される塩基類とを縮合反応に付し、次に２’位
水酸基を立体反転してアラビノ体とし、糖部の保護基を
除去し、必要により５’位水酸基をリン酸化して式
［Ｉ］で表される化合物を得る工程である。
【００３９】
【化５】 ［ＩＩＩ］ ［Ｉ］ （式中、Ｂは、ピリミジン、プリン（アザプリンまたは
デアザプリンも含む）もしくはそれらの誘導体からなる
群より選ばれた塩基を示し、Ｒは水素原子またはリン酸
残基を示し、Ｒ１とＲ２は保護基を示し、Ｂｎはベンジ
ル基を示す。）
デアザプリンも含む）もしくはそれらの誘導体からなる
群より選ばれた塩基を示し、Ｒは水素原子またはリン酸
残基を示し、Ｒ１とＲ２は保護基を示し、Ｂｎはベンジ
ル基を示す。）
【００４０】式［ＩＩＩ］で表される化合物とＢで表さ
れる塩基類との縮合は、ルイス酸存在下、式［ＩＩＩ］
の化合物をＢで表される塩基類と反応させることによっ
て行うことができる。Ｂで表される塩基類はシリル化し
たものを用いてもよく、このようなシリル化した塩基類
は公知の方法、たとえばヘキサメチルジシラザンとトリ
メチルクロロシラン中で加熱還流する方法により得るこ
とができる。使用するルイス酸としては、トリフルオロ
メタンスルホン酸トリメチルシリル、四塩化すず、塩化
亜鉛、ヨウ化亜鉛、無水塩化アルミニウムなどが例示さ
れる。
れる塩基類との縮合は、ルイス酸存在下、式［ＩＩＩ］
の化合物をＢで表される塩基類と反応させることによっ
て行うことができる。Ｂで表される塩基類はシリル化し
たものを用いてもよく、このようなシリル化した塩基類
は公知の方法、たとえばヘキサメチルジシラザンとトリ
メチルクロロシラン中で加熱還流する方法により得るこ
とができる。使用するルイス酸としては、トリフルオロ
メタンスルホン酸トリメチルシリル、四塩化すず、塩化
亜鉛、ヨウ化亜鉛、無水塩化アルミニウムなどが例示さ
れる。
【００４１】縮合反応は、ジクロロメタン、１，２−ジ
クロロエタン、アセトニトリル、トルエン等の有機溶媒
中、必要によりアルゴン、窒素などの不活性ガス雰囲気
下、式［ＩＩＩ］の化合物１モルに対しＢで表される塩
基類１〜１０モルおよびルイス酸０．１〜１０モルとを
用い、−２０〜１５０℃で３０分〜３時間程度反応させ
ることにより実施することができる。
クロロエタン、アセトニトリル、トルエン等の有機溶媒
中、必要によりアルゴン、窒素などの不活性ガス雰囲気
下、式［ＩＩＩ］の化合物１モルに対しＢで表される塩
基類１〜１０モルおよびルイス酸０．１〜１０モルとを
用い、−２０〜１５０℃で３０分〜３時間程度反応させ
ることにより実施することができる。
【００４２】２’位水酸基の立体反転は、２，２’−ア
ンヒドロシクロヌクレオシドに変換後、加水分解するこ
とによって行うことができる。アンヒドロシクロ化反応
は、塩化メタンスルホニル等のスルホン化剤を用いて処
理するか、三フッ化ジエチルアミノ硫黄等のフッ素化剤
で処理することによって行うことができる。
ンヒドロシクロヌクレオシドに変換後、加水分解するこ
とによって行うことができる。アンヒドロシクロ化反応
は、塩化メタンスルホニル等のスルホン化剤を用いて処
理するか、三フッ化ジエチルアミノ硫黄等のフッ素化剤
で処理することによって行うことができる。
【００４３】例えば、三フッ化ジエチルアミノ硫黄によ
りアンヒドロシクロ化する場合、ジクロロメタン、トル
エン等の有機溶媒中、必要によりアルゴン、窒素等の不
活性ガス雰囲気下、２’位水酸基の保護基のみ除去され
た上記縮合物１モルに対して三フッ化ジエチルアミノ硫
黄１．１〜５モル、好ましくは１．５〜２モル用い、０
℃〜室温で５分〜２時間程度反応させることにより実施
することができる。また、塩化メタンスルホニルにより
アンヒドロシクロ化する場合、ピリジン等の有機溶媒
中、必要によりアルゴン、窒素等の不活性ガス雰囲気
下、２’位水酸基の保護基のみ除去された上記縮合物１
モルに対して塩化メタンスルホニル１．１〜５モル、好
ましくは１．５〜２モル用い、０〜５０℃で５分〜１０
時間程度反応させることにより実施することができる。
りアンヒドロシクロ化する場合、ジクロロメタン、トル
エン等の有機溶媒中、必要によりアルゴン、窒素等の不
活性ガス雰囲気下、２’位水酸基の保護基のみ除去され
た上記縮合物１モルに対して三フッ化ジエチルアミノ硫
黄１．１〜５モル、好ましくは１．５〜２モル用い、０
℃〜室温で５分〜２時間程度反応させることにより実施
することができる。また、塩化メタンスルホニルにより
アンヒドロシクロ化する場合、ピリジン等の有機溶媒
中、必要によりアルゴン、窒素等の不活性ガス雰囲気
下、２’位水酸基の保護基のみ除去された上記縮合物１
モルに対して塩化メタンスルホニル１．１〜５モル、好
ましくは１．５〜２モル用い、０〜５０℃で５分〜１０
時間程度反応させることにより実施することができる。
【００４４】続けて行う加水分解反応は、適当な塩基ま
たは酸触媒を用いて行うことができ、例えば塩基触媒を
用いる場合、エタノール等のアルコール系溶媒と水との
混合溶媒中、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩
基存在下、室温〜１００℃で３０分〜５時間程度反応さ
せることにより実施できる。
たは酸触媒を用いて行うことができ、例えば塩基触媒を
用いる場合、エタノール等のアルコール系溶媒と水との
混合溶媒中、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩
基存在下、室温〜１００℃で３０分〜５時間程度反応さ
せることにより実施できる。
【００４５】さらに、目的化合物のＢがアミノ基を有す
る塩基である化合物の場合には、水酸基を有する塩基で
ある化合物から公知の方法により変換することも可能で
ある。たとえば、ピリミジン塩基の４位をアミノ化した
い場合には、ピリミジン塩基の４位の水酸基をクロル
体、シリルオキシ体、アルキルオキシ体、スルホニルオ
キシ体、チオ体、アルキルチオ体、トリアゾール体等に
変換した後、アンモニアと反応させればよい。例えばト
リアゾール体を経由して変換する場合、トリエチルアミ
ン等の塩基およびオキシ塩化リン、４ークロロフェニル
ホスホロジクロリデート等のリン酸化剤の存在下、ジク
ロロメタン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、
ピリジン等の有機溶媒中（ただし、ピリジンを使用する
場合には必ずしもトリエチルアミン等の塩基を共存させ
なくてもよい）、必要によりアルゴン、窒素等の不活性
ガス雰囲気下、上記縮合物１モルに対して１，２，４−
トリアゾール１〜２０モル、好ましくは２〜１０モルを
用い、０℃〜室温で１２〜７２時間程度撹拌反応させた
後、反応混合物にアンモニア水を適量加え、０℃〜室温
で１〜１２時間程度撹拌反応させることによって実施で
きる。
る塩基である化合物の場合には、水酸基を有する塩基で
ある化合物から公知の方法により変換することも可能で
ある。たとえば、ピリミジン塩基の４位をアミノ化した
い場合には、ピリミジン塩基の４位の水酸基をクロル
体、シリルオキシ体、アルキルオキシ体、スルホニルオ
キシ体、チオ体、アルキルチオ体、トリアゾール体等に
変換した後、アンモニアと反応させればよい。例えばト
リアゾール体を経由して変換する場合、トリエチルアミ
ン等の塩基およびオキシ塩化リン、４ークロロフェニル
ホスホロジクロリデート等のリン酸化剤の存在下、ジク
ロロメタン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、
ピリジン等の有機溶媒中（ただし、ピリジンを使用する
場合には必ずしもトリエチルアミン等の塩基を共存させ
なくてもよい）、必要によりアルゴン、窒素等の不活性
ガス雰囲気下、上記縮合物１モルに対して１，２，４−
トリアゾール１〜２０モル、好ましくは２〜１０モルを
用い、０℃〜室温で１２〜７２時間程度撹拌反応させた
後、反応混合物にアンモニア水を適量加え、０℃〜室温
で１〜１２時間程度撹拌反応させることによって実施で
きる。
【００４６】さらに、塩基中のアミノ基を脱アミノした
い場合には、アデノシンデアミナーゼ、シチジンデアミ
ナーゼなどの各種デアミナーゼを用いて常法により脱ア
ミノすることも可能である。
い場合には、アデノシンデアミナーゼ、シチジンデアミ
ナーゼなどの各種デアミナーゼを用いて常法により脱ア
ミノすることも可能である。
【００４７】このようにして得られた化合物の保護基を
除去し、Ｒが水素である本発明化合物を得る。保護基の
除去は、使用した保護基に応じ、酸性加水分解、アルカ
リ性加水分解、フッ化テトラブチルアンモニウム処理、
接触還元などの通常の処理方法から適宜選択して行えば
よい。
除去し、Ｒが水素である本発明化合物を得る。保護基の
除去は、使用した保護基に応じ、酸性加水分解、アルカ
リ性加水分解、フッ化テトラブチルアンモニウム処理、
接触還元などの通常の処理方法から適宜選択して行えば
よい。
【００４８】また、Ｒがモノリン酸残基、ジリン酸残基
などのリン酸残基である化合物を得る場合には、Ｒが水
素原子である化合物をオキシ塩化リン、テトラクロロピ
ロリン酸などのヌクレオシドの５’位の選択的なリン酸
化に使用されるリン酸化剤と反応させることにより、遊
離酸型または塩型の目的化合物を得ることができる。
などのリン酸残基である化合物を得る場合には、Ｒが水
素原子である化合物をオキシ塩化リン、テトラクロロピ
ロリン酸などのヌクレオシドの５’位の選択的なリン酸
化に使用されるリン酸化剤と反応させることにより、遊
離酸型または塩型の目的化合物を得ることができる。
【００４９】本発明化合物は、一般のヌクレオシド、ヌ
クレオチドの単離精製に使用されている方法（例えば、
再結晶法、イオン交換カラムクロマトグラフィー、吸着
カラムクロマトグラフィーなど）を適宜組み合せて分離
精製することができる。このようにして得られた化合物
は、必要に応じて塩型とすることもできる。
クレオチドの単離精製に使用されている方法（例えば、
再結晶法、イオン交換カラムクロマトグラフィー、吸着
カラムクロマトグラフィーなど）を適宜組み合せて分離
精製することができる。このようにして得られた化合物
は、必要に応じて塩型とすることもできる。
【００５０】（３）用途 本発明化合物は、後述の試験例に示すようにヘルペスウ
イルスまたはレトロウイルスに対して優れた抗ウイルス
作用を有することから、これらを有効成分とする本発明
組成物は医薬として使用、具体的にはヘルペスウイルス
またはレトロウイルスの感染症の処置、特にＨＩＶ感染
に起因するエイズの治療に有用である。対象のウイルス
としては、たとえばヘルペスウイルス科に属する単純ヘ
ルペスウイルス１型（ＨＳＶ−１）、単純ヘルペスウイ
ルス２型（ＨＳＶ−２）および水痘帯状疱疹ウイルス
（ＶＺＶ）、レトロウイルス科に属するヒト免疫不全ウ
イルス（ＨＩＶ）などを挙げることができる。
イルスまたはレトロウイルスに対して優れた抗ウイルス
作用を有することから、これらを有効成分とする本発明
組成物は医薬として使用、具体的にはヘルペスウイルス
またはレトロウイルスの感染症の処置、特にＨＩＶ感染
に起因するエイズの治療に有用である。対象のウイルス
としては、たとえばヘルペスウイルス科に属する単純ヘ
ルペスウイルス１型（ＨＳＶ−１）、単純ヘルペスウイ
ルス２型（ＨＳＶ−２）および水痘帯状疱疹ウイルス
（ＶＺＶ）、レトロウイルス科に属するヒト免疫不全ウ
イルス（ＨＩＶ）などを挙げることができる。
【００５１】本発明化合物の投与量は、患者の年齢、体
重、疾病、患者の重篤度、薬物による忍容性、投与方法
などにより異なり、これらの条件を総合した上で適宜決
定されるものであるが、通常１日当たり０．００００１
〜１０００ｍｇ／ｋｇ体重、好ましくは０．０００１〜
１００ｍｇ／ｋｇ体重の範囲内から選ばれ、一回または
複数回に分けて投与される。投与方法は、経口、非経
口、経腸、局所投与などのいずれの経路によっても投与
することができる。
重、疾病、患者の重篤度、薬物による忍容性、投与方法
などにより異なり、これらの条件を総合した上で適宜決
定されるものであるが、通常１日当たり０．００００１
〜１０００ｍｇ／ｋｇ体重、好ましくは０．０００１〜
１００ｍｇ／ｋｇ体重の範囲内から選ばれ、一回または
複数回に分けて投与される。投与方法は、経口、非経
口、経腸、局所投与などのいずれの経路によっても投与
することができる。
【００５２】本発明化合物の製剤化に際しては、通常使
用される製剤用担体、賦形剤、その他の添加剤を含む組
成物として使用するのが普通である。担体としては、乳
糖、カオリン、ショ糖、結晶セルロース、コーンスター
チ、タルク、寒天、ペクチン、ステアリン酸、ステアリ
ン酸マグネシウム、レシチン、塩化ナトリウムなどの個
体状担体、グリセリン、落花生油、ポリビニルピロリド
ン、オリーブ油、エタノール、ベンジルアルコール、プ
ロピレングリコール、水などの液状担体を例示すること
ができる。
用される製剤用担体、賦形剤、その他の添加剤を含む組
成物として使用するのが普通である。担体としては、乳
糖、カオリン、ショ糖、結晶セルロース、コーンスター
チ、タルク、寒天、ペクチン、ステアリン酸、ステアリ
ン酸マグネシウム、レシチン、塩化ナトリウムなどの個
体状担体、グリセリン、落花生油、ポリビニルピロリド
ン、オリーブ油、エタノール、ベンジルアルコール、プ
ロピレングリコール、水などの液状担体を例示すること
ができる。
【００５３】剤型としては任意の形態を採ることがで
き、たとえば個体状担体を使用する場合には錠剤、散
剤、顆粒剤、カプセル化剤、座剤、トローチ剤などを、
液状担体を使用する場合にはシロップ、乳液、軟ゼラチ
ンカプセル、クリーム、ゲル、ペースト、スプレー、注
射などをそれぞれ例示することができる。
き、たとえば個体状担体を使用する場合には錠剤、散
剤、顆粒剤、カプセル化剤、座剤、トローチ剤などを、
液状担体を使用する場合にはシロップ、乳液、軟ゼラチ
ンカプセル、クリーム、ゲル、ペースト、スプレー、注
射などをそれぞれ例示することができる。
【００５４】
【発明の効果】本発明化合物は、後述試験例にも示すよ
うに、優れた抗ＨＩＶ作用、特にＡＺＴ、ＤＤＩ、ＤＤ
Ｃ、Ｄ４Ｔ、３ＴＣなどの抗ＨＩＶ剤の複数の薬剤に耐
性を有する多剤耐性ＨＩＶ株にも有効で、細胞毒性も問
題となるほど強くないことから、医薬品、特にエイズ治
療薬としての開発が期待されるものである。
うに、優れた抗ＨＩＶ作用、特にＡＺＴ、ＤＤＩ、ＤＤ
Ｃ、Ｄ４Ｔ、３ＴＣなどの抗ＨＩＶ剤の複数の薬剤に耐
性を有する多剤耐性ＨＩＶ株にも有効で、細胞毒性も問
題となるほど強くないことから、医薬品、特にエイズ治
療薬としての開発が期待されるものである。
【００５５】
【実施例】以下、本発明を合成例、試験例、製剤例など
をあげて具体的に説明するが、本発明はこれらによって
何等限定されるものではない。 合成例１ （１）４−Ｃ−ｆｏｒｍｙｌ−３，５−ｄｉ−Ｏ−ｂｅ
ｎｚｙｌ−１，２−Ｏ−ｉｓｏｐｒｏｐｙｌｉｄｅｎｅ
−α−Ｄ−ｒｉｂｏ−ｐｅｎｔｏｆｕｒａｎｏｓｅ（化
合物２）の合成
をあげて具体的に説明するが、本発明はこれらによって
何等限定されるものではない。 合成例１ （１）４−Ｃ−ｆｏｒｍｙｌ−３，５−ｄｉ−Ｏ−ｂｅ
ｎｚｙｌ−１，２−Ｏ−ｉｓｏｐｒｏｐｙｌｉｄｅｎｅ
−α−Ｄ−ｒｉｂｏ−ｐｅｎｔｏｆｕｒａｎｏｓｅ（化
合物２）の合成
【化６】 塩化オキサリル（３．３８ｍｌ、３８．７ｍｍｏｌ）を
ジクロロメタン（８０．０ｍｌ）に溶解し、アルゴン雰
囲気下、−７８℃でジメチルスルホキシド（５．５０ｍ
ｌ、７７．５ｍｍｏｌ）を滴下、同温度で１５分間撹拌
した。−７８℃で４−Ｃ−ｈｙｄｒｏｘｙｍｅｔｈｙｌ
−３，５−ｄｉ−Ｏ−ｂｅｎｚｙｌ−１，２−Ｏ−ｉｓ
ｏｐｒｏｐｙｌｉｄｅｎｅ−α−Ｄ−ｒｉｂｏ−ｐｅｎ
ｔｏｆｕｒａｎｏｓｅ １（１０．３ｇ、２５．７ｍｍ
ｏｌ）のジクロロメタン溶液（１００ｍｌ）を滴下し、
３０分間撹拌した。トリエチルアミン（１０．９ｍｌ、
７７．６ｍｍｏｌ）を加えた後、反応液を室温に戻し、
３０分間撹拌した。水を加え撹拌した後、有機層を無水
硫酸マグネシウム上で乾燥した。有機層を減圧下留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリ
カゲル１５００ｍｌ、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝２：
１にて溶出）により精製し、無色透明アメ状の化合物２
（９．６８ｇ、２４．３ｍｍｏｌ、９４．１％）を得
た。
ジクロロメタン（８０．０ｍｌ）に溶解し、アルゴン雰
囲気下、−７８℃でジメチルスルホキシド（５．５０ｍ
ｌ、７７．５ｍｍｏｌ）を滴下、同温度で１５分間撹拌
した。−７８℃で４−Ｃ−ｈｙｄｒｏｘｙｍｅｔｈｙｌ
−３，５−ｄｉ−Ｏ−ｂｅｎｚｙｌ−１，２−Ｏ−ｉｓ
ｏｐｒｏｐｙｌｉｄｅｎｅ−α−Ｄ−ｒｉｂｏ−ｐｅｎ
ｔｏｆｕｒａｎｏｓｅ １（１０．３ｇ、２５．７ｍｍ
ｏｌ）のジクロロメタン溶液（１００ｍｌ）を滴下し、
３０分間撹拌した。トリエチルアミン（１０．９ｍｌ、
７７．６ｍｍｏｌ）を加えた後、反応液を室温に戻し、
３０分間撹拌した。水を加え撹拌した後、有機層を無水
硫酸マグネシウム上で乾燥した。有機層を減圧下留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリ
カゲル１５００ｍｌ、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝２：
１にて溶出）により精製し、無色透明アメ状の化合物２
（９．６８ｇ、２４．３ｍｍｏｌ、９４．１％）を得
た。
【００５６】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ ９．９２
（１Ｈ，ｓ，ｆｏｒｍｙｌ），７．３３−７．２４（１
０Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），５．８４（１Ｈ，ｄ，
Ｈ−１ Ｊ1,2＝３．３０），４．７１，４．５９（ｅ
ａｃｈ １Ｈ，ｄ，ｂｅｎｚｙｌ，Ｊgem＝１２．０
０），４．６０（１Ｈ，ｂｒ．ｔ，Ｈ−２），４．５
２，４．４６（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，ｂｅｎｚｙｌ，Ｊ
gem＝１２．００），４．３７（１Ｈ，ｄ，Ｈ−３，Ｊ
2,3＝４．５０），３．６８，３．６１（ｅａｃｈ１
Ｈ，ｄ，Ｈ−５，Ｊgem＝１０．９５），１．６０，
１．３５（ｅａｃｈ３Ｈ，ｓ，ａｃｅｔｏｎｉｄｅ） ＥＩＭＳ ｍ／ｚ：３９８（Ｍ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（Ｍ+）：Ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ
23Ｈ26Ｏ6：３９８．１７２９，Ｆｏｕｎｄ：３９８．
１７３２ ［α］D＋２４．５°（ｃ＝１．０３，ＣＨＣｌ3）
（１Ｈ，ｓ，ｆｏｒｍｙｌ），７．３３−７．２４（１
０Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），５．８４（１Ｈ，ｄ，
Ｈ−１ Ｊ1,2＝３．３０），４．７１，４．５９（ｅ
ａｃｈ １Ｈ，ｄ，ｂｅｎｚｙｌ，Ｊgem＝１２．０
０），４．６０（１Ｈ，ｂｒ．ｔ，Ｈ−２），４．５
２，４．４６（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，ｂｅｎｚｙｌ，Ｊ
gem＝１２．００），４．３７（１Ｈ，ｄ，Ｈ−３，Ｊ
2,3＝４．５０），３．６８，３．６１（ｅａｃｈ１
Ｈ，ｄ，Ｈ−５，Ｊgem＝１０．９５），１．６０，
１．３５（ｅａｃｈ３Ｈ，ｓ，ａｃｅｔｏｎｉｄｅ） ＥＩＭＳ ｍ／ｚ：３９８（Ｍ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（Ｍ+）：Ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ
23Ｈ26Ｏ6：３９８．１７２９，Ｆｏｕｎｄ：３９８．
１７３２ ［α］D＋２４．５°（ｃ＝１．０３，ＣＨＣｌ3）
【００５７】（２）４−Ｃ−（２，２−ｄｉｂｒｏｍｏ
ｅｔｈｅｎｙｌ）−３，５−ｄｉ−Ｏ−ｂｅｎｚｙｌ−
１，２−Ｏ−ｉｓｏｐｒｏｐｙｌｉｄｅｎｅ−α−Ｄ−
ｒｉｂｏ−ｐｅｎｔｏｆｕｒａｎｏｓｅ（化合物３）の
合成
ｅｔｈｅｎｙｌ）−３，５−ｄｉ−Ｏ−ｂｅｎｚｙｌ−
１，２−Ｏ−ｉｓｏｐｒｏｐｙｌｉｄｅｎｅ−α−Ｄ−
ｒｉｂｏ−ｐｅｎｔｏｆｕｒａｎｏｓｅ（化合物３）の
合成
【化７】 化合物２（９．５０ｇ、２３．８ｍｍｏｌ）をジクロロ
メタン（２００ｍｌ）に溶解し、氷冷下、四臭化炭素
（１５．８ｇ、４７．６ｍｍｏｌ）、トリフェニルホス
フィン（２５．０ｇ、９５．３ｍｍｏｌ）を加え、室温
で１時間撹拌した。トリエチルアミン（２０．０ｍｌ、
１４２ｍｍｏｌ）を加え、１０分間撹拌した後、反応溶
液をｎ−ヘキサン（１０００ｍｌ）に注ぎ、生成した沈
殿を濾別した。濾液を減圧下留去した後、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１５００ｍ
ｌ、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１にて溶出）によ
り精製し、無色透明アメ状の化合物３（１２．６ｇ、２
２．７ｍｍｏｌ、９５．４％）を得た。
メタン（２００ｍｌ）に溶解し、氷冷下、四臭化炭素
（１５．８ｇ、４７．６ｍｍｏｌ）、トリフェニルホス
フィン（２５．０ｇ、９５．３ｍｍｏｌ）を加え、室温
で１時間撹拌した。トリエチルアミン（２０．０ｍｌ、
１４２ｍｍｏｌ）を加え、１０分間撹拌した後、反応溶
液をｎ−ヘキサン（１０００ｍｌ）に注ぎ、生成した沈
殿を濾別した。濾液を減圧下留去した後、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１５００ｍ
ｌ、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１にて溶出）によ
り精製し、無色透明アメ状の化合物３（１２．６ｇ、２
２．７ｍｍｏｌ、９５．４％）を得た。
【００５８】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ ７．３４−
７．２４（１０Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），７．１６
（１Ｈ，ｓ，Ｂｒ2Ｃ＝ＣＨ−），５．７６（１Ｈ，
ｄ，Ｈ−１ Ｊ1,2＝３．９０），４．７２，４．６０
（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，ｂｅｎｚｙｌ，Ｊgem＝１２．
００），４．５３（１Ｈ，ｂｒ．ｔ，Ｈ−２），４．６
０，４．４２（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，ｂｅｎｚｙｌ，Ｊ
gem＝１２．００），４．２１（１Ｈ，ｄ，Ｈ−３，Ｊ
2,3＝４．８０），３．８３，３．３９（ｅａｃｈ １
Ｈ，ｄ，Ｈ−５，Ｊgem＝１１．４０），１．５９，
１．３０（ｅａｃｈ ３Ｈ，ｓ，ａｃｅｔｏｎｉｄｅ） ＥＩＭＳ ｍ／ｚ：４７３，４７５（Ｍ−Ｂｒ）． ［α］D ＋６．２０°（ｃ＝１．００，ＣＨＣｌ3）
７．２４（１０Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），７．１６
（１Ｈ，ｓ，Ｂｒ2Ｃ＝ＣＨ−），５．７６（１Ｈ，
ｄ，Ｈ−１ Ｊ1,2＝３．９０），４．７２，４．６０
（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，ｂｅｎｚｙｌ，Ｊgem＝１２．
００），４．５３（１Ｈ，ｂｒ．ｔ，Ｈ−２），４．６
０，４．４２（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，ｂｅｎｚｙｌ，Ｊ
gem＝１２．００），４．２１（１Ｈ，ｄ，Ｈ−３，Ｊ
2,3＝４．８０），３．８３，３．３９（ｅａｃｈ １
Ｈ，ｄ，Ｈ−５，Ｊgem＝１１．４０），１．５９，
１．３０（ｅａｃｈ ３Ｈ，ｓ，ａｃｅｔｏｎｉｄｅ） ＥＩＭＳ ｍ／ｚ：４７３，４７５（Ｍ−Ｂｒ）． ［α］D ＋６．２０°（ｃ＝１．００，ＣＨＣｌ3）
【００５９】（３）４−Ｃ−ｅｔｈｙｎｙｌ−３，５−
ｄｉ−Ｏ−ｂｅｎｚｙｌ−１，２−Ｏ−ｉｓｏｐｒｏｐ
ｙｌｉｄｅｎｅ−α−Ｄ−ｒｉｂｏ−ｐｅｎｔｏｆｕｒ
ａｎｏｓｅ（化合物４）の合成
ｄｉ−Ｏ−ｂｅｎｚｙｌ−１，２−Ｏ−ｉｓｏｐｒｏｐ
ｙｌｉｄｅｎｅ−α−Ｄ−ｒｉｂｏ−ｐｅｎｔｏｆｕｒ
ａｎｏｓｅ（化合物４）の合成
【化８】 化合物 ３（１２．４ｇ、２２．４ｍｍｏｌ）を乾燥テ
トラヒドロフラン（１６０ｍｌ）に溶解し、アルゴン雰
囲気下、−７８℃で１．６Ｍ ｎ−ブチルリチウムｎ−
ヘキサン溶液（３０．７ｍｌ、４９．１ｍｍｏｌ）を加
え、同温度で３０分間撹拌した。水を加え撹拌した後、
有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。有機層を
減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（シリカゲル１５００ｍｌ、ｎ−ヘキサン：酢酸エ
チル＝３：１にて溶出）により精製し、無色透明アメ状
の化合物４（７．９５ｇ、２０．２ｍｍｏｌ、９０．３
％）を得た。
トラヒドロフラン（１６０ｍｌ）に溶解し、アルゴン雰
囲気下、−７８℃で１．６Ｍ ｎ−ブチルリチウムｎ−
ヘキサン溶液（３０．７ｍｌ、４９．１ｍｍｏｌ）を加
え、同温度で３０分間撹拌した。水を加え撹拌した後、
有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。有機層を
減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（シリカゲル１５００ｍｌ、ｎ−ヘキサン：酢酸エ
チル＝３：１にて溶出）により精製し、無色透明アメ状
の化合物４（７．９５ｇ、２０．２ｍｍｏｌ、９０．３
％）を得た。
【００６０】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．３９−
７．２２（１０Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），５．７０
（１Ｈ，ｄ，Ｈ−１ Ｊ1,2＝３．６０），４．７８，
４．６９（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，ｂｅｎｚｙｌ，Ｊgem
＝１２．６０），４．５５（１Ｈ，ｂｒ．ｔ，Ｈ−
２），４．５３，４．４４（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，ｂｅ
ｎｚｙｌ，Ｊgem＝１２．３０），４．１６（１Ｈ，
ｄ，Ｈ−３，Ｊ2,3＝４．５０），３．７１，３．５６
（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，Ｈ−５，Ｊgem＝１１．４
０），１．７３，１．３３（ｅａｃｈ ３Ｈ，ｓ，ａｃ
ｅｔｏｎｉｄｅ） ＥＩＭＳ ｍ／ｚ：３９４（Ｍ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（Ｍ+）： Ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ
Ｃ24Ｈ26Ｏ5：３９４．１７８０， Ｆｏｕｎｄ：３９
４．１７７７ ［α］D ＋２２．６°（ｃ＝１．００，ＣＨＣｌ3）
７．２２（１０Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），５．７０
（１Ｈ，ｄ，Ｈ−１ Ｊ1,2＝３．６０），４．７８，
４．６９（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，ｂｅｎｚｙｌ，Ｊgem
＝１２．６０），４．５５（１Ｈ，ｂｒ．ｔ，Ｈ−
２），４．５３，４．４４（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，ｂｅ
ｎｚｙｌ，Ｊgem＝１２．３０），４．１６（１Ｈ，
ｄ，Ｈ−３，Ｊ2,3＝４．５０），３．７１，３．５６
（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，Ｈ−５，Ｊgem＝１１．４
０），１．７３，１．３３（ｅａｃｈ ３Ｈ，ｓ，ａｃ
ｅｔｏｎｉｄｅ） ＥＩＭＳ ｍ／ｚ：３９４（Ｍ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（Ｍ+）： Ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ
Ｃ24Ｈ26Ｏ5：３９４．１７８０， Ｆｏｕｎｄ：３９
４．１７７７ ［α］D ＋２２．６°（ｃ＝１．００，ＣＨＣｌ3）
【００６１】（４）４−Ｃ−ｔｒｉｅｔｈｙｌｓｉｌｙ
ｌｅｔｈｙｎｙｌ−３，５−ｄｉ−Ｏ−ｂｅｎｚｙｌ−
１，２−Ｏ−ｉｓｏｐｒｏｐｙｌｉｄｅｎｅ−α−Ｄ−
ｒｉｂｏ−ｐｅｎｔｏｆｕｒａｎｏｓｅ（化合物５）の
合成
ｌｅｔｈｙｎｙｌ−３，５−ｄｉ−Ｏ−ｂｅｎｚｙｌ−
１，２−Ｏ−ｉｓｏｐｒｏｐｙｌｉｄｅｎｅ−α−Ｄ−
ｒｉｂｏ−ｐｅｎｔｏｆｕｒａｎｏｓｅ（化合物５）の
合成
【化９】 化合物４（５．００ｇ、１２．７ｍｍｏｌ）を乾燥テト
ラヒドロフラン（１００ｍｌ）に溶解し、アルゴン雰囲
気下、−７８℃で１．６Ｍ ｎ−ブチルリチウムｎ−ヘ
キサン溶液（９．５０ｍｌ、１５．２ｍｍｏｌ）を加
え、同温度で５分間撹拌した。同条件下、クロロトリエ
チルシラン（２．５５ｍｌ、１５．２ｍｍｏｌ）を加
え、３０分間撹拌した。水を加え撹拌した後、有機層を
無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。有機層を減圧下留
去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シ
リカゲル１０００ｍｌ、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝
３：１）により精製し、無色透明油状の化合物 ５
（６．３２ｇ、１２．４ｍｍｏｌ、９７．６％）を得
た。
ラヒドロフラン（１００ｍｌ）に溶解し、アルゴン雰囲
気下、−７８℃で１．６Ｍ ｎ−ブチルリチウムｎ−ヘ
キサン溶液（９．５０ｍｌ、１５．２ｍｍｏｌ）を加
え、同温度で５分間撹拌した。同条件下、クロロトリエ
チルシラン（２．５５ｍｌ、１５．２ｍｍｏｌ）を加
え、３０分間撹拌した。水を加え撹拌した後、有機層を
無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。有機層を減圧下留
去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シ
リカゲル１０００ｍｌ、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝
３：１）により精製し、無色透明油状の化合物 ５
（６．３２ｇ、１２．４ｍｍｏｌ、９７．６％）を得
た。
【００６２】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ ７．４１−
７．２２（１０Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），５．７１
（１Ｈ，ｄ，Ｈ−１，Ｊ1,2＝３．８５），４．７７，
４．６５（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，ｂｅｎｚｙｌ，Ｊgem
＝１２．０９），４．６３（１Ｈ，ｂｒ．ｔ，Ｈ−
２），４．５７，４．４８（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，ｂｅ
ｎｚｙｌ，Ｊgem＝１２．０９），４．２３（１Ｈ，
ｄ，Ｈ−３，Ｊ2,3＝４．６７），１．７３，１．３３
（ｅａｃｈ ３Ｈ，ｓ，ａｃｅｔｏｎｉｄｅ），０．９
８（９Ｈ，ｔ，Ｓｉ−ＣＨ2−ＣＨ3，Ｊ＝７．８３），
０．６０（６Ｈ，Ｓｉ−ＣＨ2−ＣＨ3，Ｊ＝７．９７） ＥＩＭＳ ｍ／ｚ：５０８（Ｍ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（Ｍ+）：Ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ
30Ｈ40Ｏ5Ｓｉ：５０８，２６４５， Ｆｏｕｎｄ：５
０８，２６４２ ［α］D −２７．２７°（ｃ＝１．０４５，ＣＨＣ
ｌ3）
７．２２（１０Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），５．７１
（１Ｈ，ｄ，Ｈ−１，Ｊ1,2＝３．８５），４．７７，
４．６５（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，ｂｅｎｚｙｌ，Ｊgem
＝１２．０９），４．６３（１Ｈ，ｂｒ．ｔ，Ｈ−
２），４．５７，４．４８（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，ｂｅ
ｎｚｙｌ，Ｊgem＝１２．０９），４．２３（１Ｈ，
ｄ，Ｈ−３，Ｊ2,3＝４．６７），１．７３，１．３３
（ｅａｃｈ ３Ｈ，ｓ，ａｃｅｔｏｎｉｄｅ），０．９
８（９Ｈ，ｔ，Ｓｉ−ＣＨ2−ＣＨ3，Ｊ＝７．８３），
０．６０（６Ｈ，Ｓｉ−ＣＨ2−ＣＨ3，Ｊ＝７．９７） ＥＩＭＳ ｍ／ｚ：５０８（Ｍ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（Ｍ+）：Ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ
30Ｈ40Ｏ5Ｓｉ：５０８，２６４５， Ｆｏｕｎｄ：５
０８，２６４２ ［α］D −２７．２７°（ｃ＝１．０４５，ＣＨＣ
ｌ3）
【００６３】（５）４−Ｃ−ｔｒｉｅｔｈｙｌｓｉｌｙ
ｌｅｔｈｙｎｙｌ−１，２−ｄｉ−Ｏ−ａｃｅｔｙｌ−
３，５−ｄｉ−Ｏ−ｂｅｎｚｙｌ−Ｄ−ｒｉｂｏ−ｐｅ
ｎｔｏｆｕｒａｎｏｓｅ（化合物６）の合成
ｌｅｔｈｙｎｙｌ−１，２−ｄｉ−Ｏ−ａｃｅｔｙｌ−
３，５−ｄｉ−Ｏ−ｂｅｎｚｙｌ−Ｄ−ｒｉｂｏ−ｐｅ
ｎｔｏｆｕｒａｎｏｓｅ（化合物６）の合成
【化１０】 化合物 ５（５．５５ｇ、１０．９ｍｍｏｌ）を酢酸
（７０．０ｍｌ）に溶解し、トリフルオロ酢酸（１０．
０ｍｌ）、水（３０．０ｍｌ）を加え、室温で終夜撹拌
した。シリカゲル薄層クロマトグラフィー上で化合物５
の消失を確認し、反応溶液を減圧下留去した。残渣をト
ルエンで３回共沸したのち、ピリジン（５０．０ｍｌ）
に溶解し、無水酢酸（１０．３ｍｌ、０．１１ｍｏｌ）
を加え、室温で終夜撹拌した。反応溶液を減圧下留去
し、残渣を酢酸エチルに溶解、有機層を水洗し、無水硫
酸マグネシウム上で乾燥した。有機層を減圧下留去した
後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリ
カゲル１０００ｍｌ、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：
１にて溶出）により精製し、無色透明アメ状の化合物６
（４．８０ｇ、８．６８ｍｍｏｌ、７９．６％）をアノ
マー混合物（α：β =１ ： ６．６）として得た。
（７０．０ｍｌ）に溶解し、トリフルオロ酢酸（１０．
０ｍｌ）、水（３０．０ｍｌ）を加え、室温で終夜撹拌
した。シリカゲル薄層クロマトグラフィー上で化合物５
の消失を確認し、反応溶液を減圧下留去した。残渣をト
ルエンで３回共沸したのち、ピリジン（５０．０ｍｌ）
に溶解し、無水酢酸（１０．３ｍｌ、０．１１ｍｏｌ）
を加え、室温で終夜撹拌した。反応溶液を減圧下留去
し、残渣を酢酸エチルに溶解、有機層を水洗し、無水硫
酸マグネシウム上で乾燥した。有機層を減圧下留去した
後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリ
カゲル１０００ｍｌ、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：
１にて溶出）により精製し、無色透明アメ状の化合物６
（４．８０ｇ、８．６８ｍｍｏｌ、７９．６％）をアノ
マー混合物（α：β =１ ： ６．６）として得た。
【００６４】1Ｈ−ＮＭＲ ｆｏｒ α ａｎｏｍｅｒ
（ＣＤＣｌ3）δ ７．３８−７．２８（１０Ｈ，ｍ，
ａｒｏｍａｔｉｃ），６．３９（１Ｈ，ｄ，Ｈ−１，Ｊ
1,2＝４．６７），５．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−２，Ｊ
1,2＝４．６７，Ｊ2,3＝６．８７），４．８０，４．５
５（ｅａｃｈ １Ｈ，ｂｅｎｚｙｌ，ｄ，Ｊgem＝１
２．０９），４．６１，４．５２（ｅａｃｈ １Ｈ，
ｄ，ｂｅｎｚｙｌ，Ｊgem＝１２．０９），４．３０
（１Ｈ，ｄ，Ｈ−３，Ｊ2,3＝６．８７），３．６２
（２Ｈ，ｄ，Ｈ−５，Ｊ＝０．５５），２．１２，２．
０７（ｅａｃｈ ３Ｈ，ｓ．ａｃｅｔｙｌ），０．９４
（９Ｈ，ｔ，Ｓｉ−ＣＨ2−ＣＨ3，Ｊ＝７．９７），
０．５５（６Ｈ，Ｓｉ−ＣＨ2−ＣＨ3，Ｊ＝７．９７） ［α］D −２１．８°（ｃ＝１．００，ＣＨＣｌ3）
（ＣＤＣｌ3）δ ７．３８−７．２８（１０Ｈ，ｍ，
ａｒｏｍａｔｉｃ），６．３９（１Ｈ，ｄ，Ｈ−１，Ｊ
1,2＝４．６７），５．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−２，Ｊ
1,2＝４．６７，Ｊ2,3＝６．８７），４．８０，４．５
５（ｅａｃｈ １Ｈ，ｂｅｎｚｙｌ，ｄ，Ｊgem＝１
２．０９），４．６１，４．５２（ｅａｃｈ １Ｈ，
ｄ，ｂｅｎｚｙｌ，Ｊgem＝１２．０９），４．３０
（１Ｈ，ｄ，Ｈ−３，Ｊ2,3＝６．８７），３．６２
（２Ｈ，ｄ，Ｈ−５，Ｊ＝０．５５），２．１２，２．
０７（ｅａｃｈ ３Ｈ，ｓ．ａｃｅｔｙｌ），０．９４
（９Ｈ，ｔ，Ｓｉ−ＣＨ2−ＣＨ3，Ｊ＝７．９７），
０．５５（６Ｈ，Ｓｉ−ＣＨ2−ＣＨ3，Ｊ＝７．９７） ［α］D −２１．８°（ｃ＝１．００，ＣＨＣｌ3）
【００６５】1Ｈ−ＮＭＲ ｆｏｒ β ａｎｏｍｅｒ
（ＣＤＣｌ3）δ ７．３５−７．２４（１０Ｈ，ｍ，
ａｒｏｍａｔｉｃ），６．２０（１Ｈ，ｄ，Ｈ−１，Ｊ
1,2＝０．８２），５．３３（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−２，Ｊ
1,2＝０．８２，Ｊ2,3＝４．６７），４．６６，４．６
１（ｅａｃｈ １Ｈ，ｂｅｎｚｙｌ，ｄ，Ｊgem＝１
１．８１），４．５６，４．４７（ｅａｃｈ １Ｈ，ｂ
ｅｎｚｙｌ，ｄ，Ｊgem＝１１．８１），４．４８（１
Ｈ，ｄ，Ｈ−３，Ｊ2,3＝４．６７），３．６９，３．
６２（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，Ｈ−５，Ｊgem＝１０．９
９），２．０９，１．８４（ｅａｃｈ ３Ｈ，ｓ．ａｃ
ｅｔｙｌ），０．９６（９Ｈ，ｔ，Ｓｉ−ＣＨ2−Ｃ
Ｈ3，Ｊ＝７．９７），０．５８（６Ｈ，Ｓｉ−ＣＨ2−
ＣＨ3，Ｊ＝７．９７） ［α］D −５８．０°（ｃ＝１．００，ＣＨＣｌ3） ＥＩＭＳ ｍ／ｚ：５５２（Ｍ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（Ｍ+）：Ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ
31Ｈ40Ｏ7Ｓｉ：５５２．２５４３， Ｆｏｕｎｄ：５
５２．２５５１
（ＣＤＣｌ3）δ ７．３５−７．２４（１０Ｈ，ｍ，
ａｒｏｍａｔｉｃ），６．２０（１Ｈ，ｄ，Ｈ−１，Ｊ
1,2＝０．８２），５．３３（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−２，Ｊ
1,2＝０．８２，Ｊ2,3＝４．６７），４．６６，４．６
１（ｅａｃｈ １Ｈ，ｂｅｎｚｙｌ，ｄ，Ｊgem＝１
１．８１），４．５６，４．４７（ｅａｃｈ １Ｈ，ｂ
ｅｎｚｙｌ，ｄ，Ｊgem＝１１．８１），４．４８（１
Ｈ，ｄ，Ｈ−３，Ｊ2,3＝４．６７），３．６９，３．
６２（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，Ｈ−５，Ｊgem＝１０．９
９），２．０９，１．８４（ｅａｃｈ ３Ｈ，ｓ．ａｃ
ｅｔｙｌ），０．９６（９Ｈ，ｔ，Ｓｉ−ＣＨ2−Ｃ
Ｈ3，Ｊ＝７．９７），０．５８（６Ｈ，Ｓｉ−ＣＨ2−
ＣＨ3，Ｊ＝７．９７） ［α］D −５８．０°（ｃ＝１．００，ＣＨＣｌ3） ＥＩＭＳ ｍ／ｚ：５５２（Ｍ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（Ｍ+）：Ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ
31Ｈ40Ｏ7Ｓｉ：５５２．２５４３， Ｆｏｕｎｄ：５
５２．２５５１
【００６６】（６）４'−Ｃ−ｔｒｉｅｔｈｙｌｓｉｌ
ｙｌｅｔｈｙｎｙｌ−２'−Ｏ−ａｃｅｔｙｌ−３'，
５'−ｄｉ−Ｏ−ｂｅｎｚｙｌｕｒｉｄｉｎｅ（化合物
７）の合成
ｙｌｅｔｈｙｎｙｌ−２'−Ｏ−ａｃｅｔｙｌ−３'，
５'−ｄｉ−Ｏ−ｂｅｎｚｙｌｕｒｉｄｉｎｅ（化合物
７）の合成
【化１１】 化合物 ６（３．００ｇ、５．４３ｍｍｏｌ）を１，２
−ジクロロエタン（１００ｍｌ）に溶解し、ウラシル
（１．５２ｇ、１３．６ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｏ−ビス（ト
リメチルシリル）アセトアミド（９．４０ｍｌ、３８．
０ｍｍｏｌ）を加え、１時間加熱環流した。反応液を室
温に戻した後、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチ
ルシリル（１．９７ｍｌ、１０．９ｍｍｏｌ）を加え、
５０℃で終夜撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
を加え撹拌した後、不溶の沈殿を濾別し、有機層を無水
硫酸マグネシウム上で乾燥した。有機層を減圧下留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリ
カゲル３００ｍｌ、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：１
にて溶出）により精製し、無色透明アメ状の化合物７
（２．５０ｇ、４．１３ｍｍｏｌ、７６．１％）を得
た。
−ジクロロエタン（１００ｍｌ）に溶解し、ウラシル
（１．５２ｇ、１３．６ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｏ−ビス（ト
リメチルシリル）アセトアミド（９．４０ｍｌ、３８．
０ｍｍｏｌ）を加え、１時間加熱環流した。反応液を室
温に戻した後、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチ
ルシリル（１．９７ｍｌ、１０．９ｍｍｏｌ）を加え、
５０℃で終夜撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
を加え撹拌した後、不溶の沈殿を濾別し、有機層を無水
硫酸マグネシウム上で乾燥した。有機層を減圧下留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリ
カゲル３００ｍｌ、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：１
にて溶出）により精製し、無色透明アメ状の化合物７
（２．５０ｇ、４．１３ｍｍｏｌ、７６．１％）を得
た。
【００６７】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ ８．６３
（１Ｈ，ｂｒ．ｓ，３−ＮＨ），７．５９（１Ｈ，ｄ，
６−Ｈ，Ｊ5,6＝８．２４），７．４１−７．２４（１
０Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），６．３１（１Ｈ，ｄ，
Ｈ−１'，Ｊ1 ' ,2 '＝４．９５），５．３４（１Ｈ，ｄ，
Ｈ−５，Ｊ5,6＝８．２４），５．２１（１Ｈ，ｄｄ，
Ｈ−２'，Ｊ1 ' ,2 '＝４．９５，Ｊ2 ' ,3 '＝６．０４），
４．７１，４．５８（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，ｂｅｎｚｙ
ｌ，Ｊgem＝１１．８１），４．４８（２Ｈ，ｓ，ｂｅ
ｎｚｙｌ），４．３４（１Ｈ，ｄ，Ｈ−３'，Ｊ2 ' ,3 '＝
６．０４），３．８６，３．６７（ｅａｃｈ １Ｈ，
ｄ，Ｈ−５'，Ｊgem＝１０．５０），２．０５（３Ｈ，
ｓ，ａｃｅｔｙｌ），０．９７（９Ｈ，ｔ，Ｓｉ−ＣＨ
2−ＣＨ3，Ｊ＝７．９５），０．６０（６Ｈ，Ｓｉ−Ｃ
Ｈ2−ＣＨ3，Ｊ＝７．９５）． ＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ：６０５（ＭＨ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（ＭＨ+）：Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ33
Ｈ41Ｎ2Ｏ7Ｓｉ：６０５．２６８３， Ｆｏｕｎｄ：６
０５．２６８３． ［α］D −２１．９７°（ｃ＝１．０１５，ＣＨＣ
ｌ3）．
（１Ｈ，ｂｒ．ｓ，３−ＮＨ），７．５９（１Ｈ，ｄ，
６−Ｈ，Ｊ5,6＝８．２４），７．４１−７．２４（１
０Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），６．３１（１Ｈ，ｄ，
Ｈ−１'，Ｊ1 ' ,2 '＝４．９５），５．３４（１Ｈ，ｄ，
Ｈ−５，Ｊ5,6＝８．２４），５．２１（１Ｈ，ｄｄ，
Ｈ−２'，Ｊ1 ' ,2 '＝４．９５，Ｊ2 ' ,3 '＝６．０４），
４．７１，４．５８（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，ｂｅｎｚｙ
ｌ，Ｊgem＝１１．８１），４．４８（２Ｈ，ｓ，ｂｅ
ｎｚｙｌ），４．３４（１Ｈ，ｄ，Ｈ−３'，Ｊ2 ' ,3 '＝
６．０４），３．８６，３．６７（ｅａｃｈ １Ｈ，
ｄ，Ｈ−５'，Ｊgem＝１０．５０），２．０５（３Ｈ，
ｓ，ａｃｅｔｙｌ），０．９７（９Ｈ，ｔ，Ｓｉ−ＣＨ
2−ＣＨ3，Ｊ＝７．９５），０．６０（６Ｈ，Ｓｉ−Ｃ
Ｈ2−ＣＨ3，Ｊ＝７．９５）． ＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ：６０５（ＭＨ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（ＭＨ+）：Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ33
Ｈ41Ｎ2Ｏ7Ｓｉ：６０５．２６８３， Ｆｏｕｎｄ：６
０５．２６８３． ［α］D −２１．９７°（ｃ＝１．０１５，ＣＨＣ
ｌ3）．
【００６８】（７）４'−Ｃ−ｔｒｉｅｔｈｙｌｓｉｌ
ｙｌｅｔｈｙｎｙｌ−３'，５'−ｄｉ−Ｏ−ｂｅｎｚｙ
ｌｕｒｉｄｉｎｅ（化合物８）の合成
ｙｌｅｔｈｙｎｙｌ−３'，５'−ｄｉ−Ｏ−ｂｅｎｚｙ
ｌｕｒｉｄｉｎｅ（化合物８）の合成
【化１２】 化合物 ７（２．００ｇ、３．３ｍｍｏｌ）をメタノー
ル（９０．０ｍｌ）に溶解し、トリエチルアミン（１
０．０ｍｌ）を加え、室温で４８時間撹拌した。反応溶
液を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（シリカゲル２００ｍｌ、ｎ−ヘキサン：酢酸
エチル＝１：１にて溶出）により精製し、白色粉末状の
化合物８（１．７２ｇ、３．０６ｍｍｏｌ、９２．４
％）を得た。
ル（９０．０ｍｌ）に溶解し、トリエチルアミン（１
０．０ｍｌ）を加え、室温で４８時間撹拌した。反応溶
液を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（シリカゲル２００ｍｌ、ｎ−ヘキサン：酢酸
エチル＝１：１にて溶出）により精製し、白色粉末状の
化合物８（１．７２ｇ、３．０６ｍｍｏｌ、９２．４
％）を得た。
【００６９】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ ８．４３
（１Ｈ，ｂｒ．ｓ，３−ＮＨ），７．５５（１Ｈ，ｄ，
Ｈ−６，Ｊ5,6＝８．２４），７．４１−７．２５（１
０Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），６．１０（１Ｈ，ｄ，
Ｈ−１'，Ｊ1 ' ,2 '＝５．２２），５．３７（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｈ−５，Ｊ5,6＝８．２４），４．９６，４．６６
（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，ｂｅｎｚｙｌ，Ｊgem＝１１．
５４），４．５６，４．５０（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，ｂ
ｅｎｚｙｌ，Ｊgem＝１１．００），４．２１（１Ｈ，
ｍ，Ｈ−２'），４．１７（１Ｈ，ｄ，Ｈ−３'，Ｊ2 ' ,3
'＝５．７７），３．８７，３．７４（ｅａｃｈ １
Ｈ，ｄ，Ｈ−５'，Ｊgem＝１０．４４），３．０２（１
Ｈ，ｂｒ．ｄ，２'−ＯＨ），０．９７（９Ｈ，ｔ，Ｓ
ｉ−ＣＨ2−ＣＨ3，Ｊ＝７．６９），０．６０（６Ｈ，
Ｓｉ−ＣＨ2−ＣＨ3，Ｊ＝７．６９）． ＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ：５６３（ＭＨ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（ＭＨ+）：Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ31
Ｈ39Ｎ2Ｏ6Ｓｉ：５６３．２５７７， Ｆｏｕｎｄ：５
６３．２５８６． ［α］D −２１．５６°（ｃ＝１．０２５，ＣＨＣ
ｌ3） ｍ．ｐ． １１９−１２０℃
（１Ｈ，ｂｒ．ｓ，３−ＮＨ），７．５５（１Ｈ，ｄ，
Ｈ−６，Ｊ5,6＝８．２４），７．４１−７．２５（１
０Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），６．１０（１Ｈ，ｄ，
Ｈ−１'，Ｊ1 ' ,2 '＝５．２２），５．３７（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｈ−５，Ｊ5,6＝８．２４），４．９６，４．６６
（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，ｂｅｎｚｙｌ，Ｊgem＝１１．
５４），４．５６，４．５０（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，ｂ
ｅｎｚｙｌ，Ｊgem＝１１．００），４．２１（１Ｈ，
ｍ，Ｈ−２'），４．１７（１Ｈ，ｄ，Ｈ−３'，Ｊ2 ' ,3
'＝５．７７），３．８７，３．７４（ｅａｃｈ １
Ｈ，ｄ，Ｈ−５'，Ｊgem＝１０．４４），３．０２（１
Ｈ，ｂｒ．ｄ，２'−ＯＨ），０．９７（９Ｈ，ｔ，Ｓ
ｉ−ＣＨ2−ＣＨ3，Ｊ＝７．６９），０．６０（６Ｈ，
Ｓｉ−ＣＨ2−ＣＨ3，Ｊ＝７．６９）． ＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ：５６３（ＭＨ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（ＭＨ+）：Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ31
Ｈ39Ｎ2Ｏ6Ｓｉ：５６３．２５７７， Ｆｏｕｎｄ：５
６３．２５８６． ［α］D −２１．５６°（ｃ＝１．０２５，ＣＨＣ
ｌ3） ｍ．ｐ． １１９−１２０℃
【００７０】（８）４'−Ｃ−ｔｒｉｅｔｈｙｌｓｉｌ
ｙｌｅｔｈｙｎｙｌｕｒｉｄｉｎｅ（化合物９）の合成
ｙｌｅｔｈｙｎｙｌｕｒｉｄｉｎｅ（化合物９）の合成
【化１３】 化合物 ８（１．５０ｇ、２．６７ｍｍｏｌ）をジクロ
ロメタン（７５．０ｍｌ）に溶解し、アルゴン雰囲気
下、−７８℃で１．０Ｍ 三塩化ホウ素ジクロロメタン
溶液（２６．７ｍｌ、２６．７ｍｍｏｌ）を加え、同温
度で３時間撹拌した。−７８℃でピリジン（１０．０ｍ
ｌ）、メタノール（２０．０ｍｌ）混合溶液を加え、１
０分間撹拌した後、反応溶液を減圧下留去した。残渣を
酢酸エチルと水で分配し、有機層を無水硫酸マグネシウ
ム上で乾燥した。反応溶液を減圧下留去し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２００ｍ
ｌ、クロロホルム：メタノール＝９：１にて溶出）によ
り精製し、白色粉末状の化合物９（０．９５ｇ、２．４
８ｍｍｏｌ、９２．９％）を得た。
ロメタン（７５．０ｍｌ）に溶解し、アルゴン雰囲気
下、−７８℃で１．０Ｍ 三塩化ホウ素ジクロロメタン
溶液（２６．７ｍｌ、２６．７ｍｍｏｌ）を加え、同温
度で３時間撹拌した。−７８℃でピリジン（１０．０ｍ
ｌ）、メタノール（２０．０ｍｌ）混合溶液を加え、１
０分間撹拌した後、反応溶液を減圧下留去した。残渣を
酢酸エチルと水で分配し、有機層を無水硫酸マグネシウ
ム上で乾燥した。反応溶液を減圧下留去し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２００ｍ
ｌ、クロロホルム：メタノール＝９：１にて溶出）によ
り精製し、白色粉末状の化合物９（０．９５ｇ、２．４
８ｍｍｏｌ、９２．９％）を得た。
【００７１】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ １１．３６
（１Ｈ，ｄ，３−ＮＨ），７．８１（１Ｈ，ｄ，Ｈ−
６，Ｊ5,6＝８．２４），５．９２（１Ｈ，ｄ，Ｈ−
１'，Ｊ 1 ' ,2 '＝６．３２），５．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
5,6＝８．２４），５．５５（１Ｈ，ｔ，５'−ＯＨ），
５．３３（１Ｈ，ｄ，２'−ＯＨ），５．１６（１Ｈ，
ｄ，３'−ＯＨ），４．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−２'，Ｊ
1 ' ,2 '＝６．３２，Ｊ2 ' ,3 '＝５．７７），４．０７（１
Ｈ，ｔ，Ｈ−３'，Ｊ2 ' ,3 '＝５．７７），３．５８（１
Ｈ，ｄ，Ｈ−５'），０．９６（９Ｈ，ｔ，Ｓｉ−ＣＨ2
−ＣＨ3，Ｊ＝７．９７），０．５７（６Ｈ，Ｓｉ−Ｃ
Ｈ2−ＣＨ3，Ｊ＝７．９７）． ＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ：３８３（ＭＨ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（ＭＨ+）：Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ17
Ｈ27Ｎ2Ｏ6Ｓｉ：３８３，１６３８， Ｆｏｕｎｄ：３
８３．１６４５． ［α］D −４．５０°（ｃ＝１．００，ＣＨ3ＯＨ） ｍ．ｐ． １８３−１８６℃
（１Ｈ，ｄ，３−ＮＨ），７．８１（１Ｈ，ｄ，Ｈ−
６，Ｊ5,6＝８．２４），５．９２（１Ｈ，ｄ，Ｈ−
１'，Ｊ 1 ' ,2 '＝６．３２），５．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
5,6＝８．２４），５．５５（１Ｈ，ｔ，５'−ＯＨ），
５．３３（１Ｈ，ｄ，２'−ＯＨ），５．１６（１Ｈ，
ｄ，３'−ＯＨ），４．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−２'，Ｊ
1 ' ,2 '＝６．３２，Ｊ2 ' ,3 '＝５．７７），４．０７（１
Ｈ，ｔ，Ｈ−３'，Ｊ2 ' ,3 '＝５．７７），３．５８（１
Ｈ，ｄ，Ｈ−５'），０．９６（９Ｈ，ｔ，Ｓｉ−ＣＨ2
−ＣＨ3，Ｊ＝７．９７），０．５７（６Ｈ，Ｓｉ−Ｃ
Ｈ2−ＣＨ3，Ｊ＝７．９７）． ＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ：３８３（ＭＨ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（ＭＨ+）：Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ17
Ｈ27Ｎ2Ｏ6Ｓｉ：３８３，１６３８， Ｆｏｕｎｄ：３
８３．１６４５． ［α］D −４．５０°（ｃ＝１．００，ＣＨ3ＯＨ） ｍ．ｐ． １８３−１８６℃
【００７２】（９）４'−Ｃ−ｔｒｉｅｔｈｙｌｓｉｌ
ｙｌｅｔｈｙｎｙｌ−３'，５'−ｄｉ−Ｏ−ａｃｅｔｙ
ｌ−２'−ｄｅｏｘｙｕｒｉｄｉｎｅ（化合物１１）の
合成
ｙｌｅｔｈｙｎｙｌ−３'，５'−ｄｉ−Ｏ−ａｃｅｔｙ
ｌ−２'−ｄｅｏｘｙｕｒｉｄｉｎｅ（化合物１１）の
合成
【化１４】 化合物 ９（０．８０ｇ、２．０９ｍｍｏｌ）をアセト
ニトリル（２０．０ｍｌ）に懸濁し、８５℃で、臭化ア
セチル（１．５５ｍｌ、２１．０ｍｍｏｌ）アセトニト
リル溶液（２０．０ｍｌ）を３０分間かけて滴下し、さ
らに１時間加熱環流した。反応溶液を減圧下留去した
後、残渣を酢酸エチルに溶解し、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機
層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥した後、減圧下留去
し、４'−Ｃ−ｔｒｉｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌｅｔｈｙｎ
ｙｌ−３'，５'−ｄｉ−Ｏ−ａｃｅｔｙｌ−２'−ｂｒ
ｏｍｏ−２'−ｄｅｏｘｙｕｒｉｄｉｎｅ １０を得
た。粗精製の化合物１０を乾燥トルエンで３回共沸した
後、乾燥トルエン（５０．０ｍｌ）に溶解し、８５℃で
水素化トリｎ−ブチルスズ（１．０８ｍｌ、４．１９ｍ
ｍｏｌ）、２，２'−アゾビス（イソブチロニトリル）
（０．０１ｇ）を加え、アルゴン雰囲気下、１時間加熱
撹拌した。反応溶液を減圧下留去した後、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル３００ｍ
ｌ、トルエン：酢酸エチルにて溶出）により精製し、無
色透明アメ状の化合物１１（０．４０ｇ、４２．６％）
を得た。
ニトリル（２０．０ｍｌ）に懸濁し、８５℃で、臭化ア
セチル（１．５５ｍｌ、２１．０ｍｍｏｌ）アセトニト
リル溶液（２０．０ｍｌ）を３０分間かけて滴下し、さ
らに１時間加熱環流した。反応溶液を減圧下留去した
後、残渣を酢酸エチルに溶解し、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機
層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥した後、減圧下留去
し、４'−Ｃ−ｔｒｉｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌｅｔｈｙｎ
ｙｌ−３'，５'−ｄｉ−Ｏ−ａｃｅｔｙｌ−２'−ｂｒ
ｏｍｏ−２'−ｄｅｏｘｙｕｒｉｄｉｎｅ １０を得
た。粗精製の化合物１０を乾燥トルエンで３回共沸した
後、乾燥トルエン（５０．０ｍｌ）に溶解し、８５℃で
水素化トリｎ−ブチルスズ（１．０８ｍｌ、４．１９ｍ
ｍｏｌ）、２，２'−アゾビス（イソブチロニトリル）
（０．０１ｇ）を加え、アルゴン雰囲気下、１時間加熱
撹拌した。反応溶液を減圧下留去した後、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル３００ｍ
ｌ、トルエン：酢酸エチルにて溶出）により精製し、無
色透明アメ状の化合物１１（０．４０ｇ、４２．６％）
を得た。
【００７３】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ ７．４９
（１Ｈ，ｄ，Ｈ−６，Ｊ5,6＝８．２４），６．３４
（１Ｈ，ｔ，Ｈ−１'，Ｊ1 ' ,2 '＝６．４６），５．７７
（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−５，Ｊ5,6＝８．２４），５．３７
（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３'，Ｊ2 ' ,3 '＝４．９５，７．４
２），４．４２，４．３７（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，Ｈ−
５'，Ｊgem＝１１．８１），２．６２，２．３２（ｅａ
ｃｈ １Ｈ，ｍ，Ｈ−２'），２．１３（６Ｈ，ｓ，ａ
ｃｅｔｙｌ），１．００（９Ｈ，ｔ，Ｓｉ−ＣＨ2−Ｃ
Ｈ3，Ｊ＝７．８２），０．６３（６Ｈ，Ｓｉ−ＣＨ2−
ＣＨ3，Ｊ＝７．８２）． ＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ：４５１（ＭＨ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（ＭＨ+）：Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ21
Ｈ31Ｎ2Ｏ7Ｓｉ：４５１．１９００， Ｆｏｕｎｄ：４
５１．１９３４． ［α］D −１１．７°（ｃ＝１．０４，ＣＨＣｌ3）
（１Ｈ，ｄ，Ｈ−６，Ｊ5,6＝８．２４），６．３４
（１Ｈ，ｔ，Ｈ−１'，Ｊ1 ' ,2 '＝６．４６），５．７７
（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−５，Ｊ5,6＝８．２４），５．３７
（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３'，Ｊ2 ' ,3 '＝４．９５，７．４
２），４．４２，４．３７（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，Ｈ−
５'，Ｊgem＝１１．８１），２．６２，２．３２（ｅａ
ｃｈ １Ｈ，ｍ，Ｈ−２'），２．１３（６Ｈ，ｓ，ａ
ｃｅｔｙｌ），１．００（９Ｈ，ｔ，Ｓｉ−ＣＨ2−Ｃ
Ｈ3，Ｊ＝７．８２），０．６３（６Ｈ，Ｓｉ−ＣＨ2−
ＣＨ3，Ｊ＝７．８２）． ＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ：４５１（ＭＨ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（ＭＨ+）：Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ21
Ｈ31Ｎ2Ｏ7Ｓｉ：４５１．１９００， Ｆｏｕｎｄ：４
５１．１９３４． ［α］D −１１．７°（ｃ＝１．０４，ＣＨＣｌ3）
【００７４】（１０）４'−Ｃ−ｅｔｈｙｎｙｌ−２'−
ｄｅｏｘｙｃｙｔｉｄｉｎｅ（化合物１３）の合成
ｄｅｏｘｙｃｙｔｉｄｉｎｅ（化合物１３）の合成
【化１５】 化合物 １１（０．３０ｇ、０．６７ｍｍｏｌ）をピリ
ジン（１５．０ｍｌ）に溶解し、氷冷下、ｐ−クロロフ
ェニルホスホロジクロリダート（０．３３ｍｌ、２．０
０ｍｍｏｌ）を加え、２分間撹拌後、１，２，４−トリ
アゾール（０．４６ｇ、６．６６ｍｍｏｌ）を加え、室
温で７日間撹拌した。シリカゲル薄層クロマトグラフィ
ー上で原料の消失を確認後、反応溶液を減圧下留去し、
残渣を酢酸エチルと水で分配、有機層を無水硫酸マグネ
シウム上で乾燥した。有機層を減圧下留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｍ
ｌ、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：３にて溶出）によ
り精製し、無色透明アメ状の４−（１，２，４−ｔｒｉ
ａｚｏｌｏ）−４'−Ｃ−ｅｔｈｙｎｙｌ−２'−ｄｅｏ
ｘｙｕｒｉｄｉｎｅ １２を得た。化合物１２をジオキ
サン（３０．０ｍｌ）に溶解し、２５％アンモニア水
（１０．０ｍｌ）を加え、室温で終夜撹拌した。シリカ
ゲル薄層クロマトグラフィー上で１２が消失したのを確
認した後、反応溶液を減圧下留去した。残渣をメタノー
ル（４５．０ｍｌ）に溶解し、１Ｎ水酸化ナトリウム水
溶液（５．００ｍｌ、５．００ｍｍｏｌ）を加え、室温
で２時間撹拌した。酢酸（０．２９ｍｌ、５．００ｍｍ
ｏｌ）を加え、反応溶液を減圧下留去した後、残渣を逆
相中圧カラムクロマトグラフィー（Ｗａｋｏｓｉｌ ４
０Ｃ１８ ５０ｇ、５％アセトニトリル水溶液にて溶
出）により精製した。化合物１３を含む分画を減圧下乾
固し、残渣をメタノール−エーテルから結晶化し、白色
結晶状の化合物１３（０．１２ｇ、０．４８ｍｍｏｌ、
７１．６％）を得た。
ジン（１５．０ｍｌ）に溶解し、氷冷下、ｐ−クロロフ
ェニルホスホロジクロリダート（０．３３ｍｌ、２．０
０ｍｍｏｌ）を加え、２分間撹拌後、１，２，４−トリ
アゾール（０．４６ｇ、６．６６ｍｍｏｌ）を加え、室
温で７日間撹拌した。シリカゲル薄層クロマトグラフィ
ー上で原料の消失を確認後、反応溶液を減圧下留去し、
残渣を酢酸エチルと水で分配、有機層を無水硫酸マグネ
シウム上で乾燥した。有機層を減圧下留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｍ
ｌ、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：３にて溶出）によ
り精製し、無色透明アメ状の４−（１，２，４−ｔｒｉ
ａｚｏｌｏ）−４'−Ｃ−ｅｔｈｙｎｙｌ−２'−ｄｅｏ
ｘｙｕｒｉｄｉｎｅ １２を得た。化合物１２をジオキ
サン（３０．０ｍｌ）に溶解し、２５％アンモニア水
（１０．０ｍｌ）を加え、室温で終夜撹拌した。シリカ
ゲル薄層クロマトグラフィー上で１２が消失したのを確
認した後、反応溶液を減圧下留去した。残渣をメタノー
ル（４５．０ｍｌ）に溶解し、１Ｎ水酸化ナトリウム水
溶液（５．００ｍｌ、５．００ｍｍｏｌ）を加え、室温
で２時間撹拌した。酢酸（０．２９ｍｌ、５．００ｍｍ
ｏｌ）を加え、反応溶液を減圧下留去した後、残渣を逆
相中圧カラムクロマトグラフィー（Ｗａｋｏｓｉｌ ４
０Ｃ１８ ５０ｇ、５％アセトニトリル水溶液にて溶
出）により精製した。化合物１３を含む分画を減圧下乾
固し、残渣をメタノール−エーテルから結晶化し、白色
結晶状の化合物１３（０．１２ｇ、０．４８ｍｍｏｌ、
７１．６％）を得た。
【００７５】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ ７．７
８（１Ｈ，ｄ，Ｈ−６，Ｊ5,6＝７．５０），７．１７
（２Ｈ，ｂｒ．ｄ，ＮＨ2），６．１４（１Ｈ，ｄｄ，
Ｈ−１'，Ｊ1 ' ,2 '＝４．７６，７．２０），５．７２
（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５，Ｊ5,6＝７．５０），５．４９
（１Ｈ，ｄ，３'−ＯＨ），５．４２（１Ｈ，ｔ，５'−
ＯＨ），４．３０（１Ｈ，ｔ，Ｈ−３'，Ｊ2 ' ,3 '＝７．
２０），３．６４，３．５８（ｅａｃｈ １Ｈ，ｍ，Ｈ
−５'），３．４８（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎｙｌ），
２，２５，２．０７（ｅａｃｈ １Ｈ，ｍ，Ｈ−２'） ［α］D ＋７５．０°（ｃ＝１．００，ＣＨ3ＯＨ） ＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ：２５２（ＭＨ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（ＭＨ+）：Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ11
Ｈ14Ｎ3Ｏ4：２５２．０９８４， Ｆｏｕｎｄ：２５
２．０９７９． ＵＶ λｍａｘ（ＣＨ3ＯＨ）ｎｍ（ε）：２７１（９
２２７） ｍ．ｐ． ２２０℃ （Ｄｅｃ）
８（１Ｈ，ｄ，Ｈ−６，Ｊ5,6＝７．５０），７．１７
（２Ｈ，ｂｒ．ｄ，ＮＨ2），６．１４（１Ｈ，ｄｄ，
Ｈ−１'，Ｊ1 ' ,2 '＝４．７６，７．２０），５．７２
（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５，Ｊ5,6＝７．５０），５．４９
（１Ｈ，ｄ，３'−ＯＨ），５．４２（１Ｈ，ｔ，５'−
ＯＨ），４．３０（１Ｈ，ｔ，Ｈ−３'，Ｊ2 ' ,3 '＝７．
２０），３．６４，３．５８（ｅａｃｈ １Ｈ，ｍ，Ｈ
−５'），３．４８（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎｙｌ），
２，２５，２．０７（ｅａｃｈ １Ｈ，ｍ，Ｈ−２'） ［α］D ＋７５．０°（ｃ＝１．００，ＣＨ3ＯＨ） ＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ：２５２（ＭＨ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（ＭＨ+）：Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ11
Ｈ14Ｎ3Ｏ4：２５２．０９８４， Ｆｏｕｎｄ：２５
２．０９７９． ＵＶ λｍａｘ（ＣＨ3ＯＨ）ｎｍ（ε）：２７１（９
２２７） ｍ．ｐ． ２２０℃ （Ｄｅｃ）
【００７６】合成例２ 合成例１の（６）のウラシルの代わりに５−フルオロウ
ラシル、５−エチルウラシル、５−ブロモビニルウラシ
ル、５−エチニルウラシルを用いて以下同様に反応させ
〔ただし、必要により（１０）のトリアゾールを用いた
アミノ化反応は省略〕、以下の化合物を合成する。 ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−フルオロウ
リジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−エチルウリ
ジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−ブロモビニ
ルウリジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−エチニルウ
リジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−エチルシチ
ジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−ブロモビニ
ルシチジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−エチニルシ
チジン
ラシル、５−エチルウラシル、５−ブロモビニルウラシ
ル、５−エチニルウラシルを用いて以下同様に反応させ
〔ただし、必要により（１０）のトリアゾールを用いた
アミノ化反応は省略〕、以下の化合物を合成する。 ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−フルオロウ
リジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−エチルウリ
ジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−ブロモビニ
ルウリジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−エチニルウ
リジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−エチルシチ
ジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−ブロモビニ
ルシチジン ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−５−エチニルシ
チジン
【００７７】合成例３ （１）４−Ｃ−ｅｔｈｙｎｙｌ−１，２−ｄｉ−Ｏ−ａ
ｃｅｔｙｌ−３，５−ｄｉ−Ｏ−ｂｅｎｚｙｌ−Ｄ−ｒ
ｉｂｏ−ｐｅｎｔｏｆｕｒａｎｏｓｅ（化合物１４）の
合成
ｃｅｔｙｌ−３，５−ｄｉ−Ｏ−ｂｅｎｚｙｌ−Ｄ−ｒ
ｉｂｏ−ｐｅｎｔｏｆｕｒａｎｏｓｅ（化合物１４）の
合成
【化１６】 化合物４（６．００ｇ、１５．２ｍｍｏｌ）を酢酸（７
０．０ｍｌ）に溶解し、トリフルオロ酢酸（１０．０ｍ
ｌ）、水（３０．０ｍｌ）を加え、室温で終夜撹拌し
た。シリカゲル薄層クロマトグラフィー上で化合物４の
消失を確認し、反応溶液を減圧下留去した。残渣をトル
エンで３回共沸したのち、ピリジン（５０．０ｍｌ）に
溶解し、無水酢酸（１４．３ｍｌ、０．１５ｍｏｌ）を
加え、室温で終夜撹拌した。反応溶液を減圧下留去し、
残渣を酢酸エチルに溶解、有機層を水洗し、無水硫酸マ
グネシウム上で乾燥した。有機層を減圧下留去した後、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲ
ル１０００ｍｌ、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝２：１に
て溶出）により精製し、無色透明アメ状の化合物１４
（５．４０ｇ、１２．３ｍｍｏｌ、８０．９％）をアノ
マー混合物（α：β =１：３．０）として得た。
０．０ｍｌ）に溶解し、トリフルオロ酢酸（１０．０ｍ
ｌ）、水（３０．０ｍｌ）を加え、室温で終夜撹拌し
た。シリカゲル薄層クロマトグラフィー上で化合物４の
消失を確認し、反応溶液を減圧下留去した。残渣をトル
エンで３回共沸したのち、ピリジン（５０．０ｍｌ）に
溶解し、無水酢酸（１４．３ｍｌ、０．１５ｍｏｌ）を
加え、室温で終夜撹拌した。反応溶液を減圧下留去し、
残渣を酢酸エチルに溶解、有機層を水洗し、無水硫酸マ
グネシウム上で乾燥した。有機層を減圧下留去した後、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲ
ル１０００ｍｌ、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝２：１に
て溶出）により精製し、無色透明アメ状の化合物１４
（５．４０ｇ、１２．３ｍｍｏｌ、８０．９％）をアノ
マー混合物（α：β =１：３．０）として得た。
【００７８】1Ｈ−ＮＭＲ ｆｏｒ α ａｎｏｍｅｒ
（ＣＤＣｌ3）δ ７．３９−７．２５（１０Ｈ，ｍ，
ａｒｏｍａｔｉｃ），６．４２（１Ｈ，ｄ，Ｈ−１，Ｊ
1,2＝４．６７），５．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−２，Ｊ
1,2＝４．６７，Ｊ2,3＝６．８７），４．８１，４．６
０（ｅａｃｈ１Ｈ，ｂｅｎｚｙｌ，ｄ，Ｊgem＝１２．
０９），４．５９，４．５１（ｅａｃｈ１Ｈ，ｄ，ｂｅ
ｎｚｙｌ，Ｊgem＝１２．０９），４．３０（１Ｈ，
ｄ，Ｈ−３，Ｊ2,3＝６．８７），３．６３（２Ｈ，
ｄ，Ｈ−５，Ｊ＝０．５５），２．７３（１Ｈ，ｓ，ｅ
ｔｈｙｎｙｌ），２．１０，２．０２（ｅａｃｈ３Ｈ，
ｓ．ａｃｅｔｙｌ）．
（ＣＤＣｌ3）δ ７．３９−７．２５（１０Ｈ，ｍ，
ａｒｏｍａｔｉｃ），６．４２（１Ｈ，ｄ，Ｈ−１，Ｊ
1,2＝４．６７），５．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−２，Ｊ
1,2＝４．６７，Ｊ2,3＝６．８７），４．８１，４．６
０（ｅａｃｈ１Ｈ，ｂｅｎｚｙｌ，ｄ，Ｊgem＝１２．
０９），４．５９，４．５１（ｅａｃｈ１Ｈ，ｄ，ｂｅ
ｎｚｙｌ，Ｊgem＝１２．０９），４．３０（１Ｈ，
ｄ，Ｈ−３，Ｊ2,3＝６．８７），３．６３（２Ｈ，
ｄ，Ｈ−５，Ｊ＝０．５５），２．７３（１Ｈ，ｓ，ｅ
ｔｈｙｎｙｌ），２．１０，２．０２（ｅａｃｈ３Ｈ，
ｓ．ａｃｅｔｙｌ）．
【００７９】1Ｈ−ＮＭＲ ｆｏｒ β ａｎｏｍｅｒ
（ＣＤＣｌ3）δ ７．３５−７．２０（１０Ｈ，ｍ，
ａｒｏｍａｔｉｃ），６．２１（１Ｈ，ｄ，Ｈ−１，Ｊ
1,2＝０．８２），５．４０（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−２，Ｊ
1,2＝０．８２，Ｊ2,3＝４．６７），４．６６，４．６
０（ｅａｃｈ１Ｈ，ｂｅｎｚｙｌ，ｄ，Ｊgem＝１１．
８１），４．５０，４．４７（ｅａｃｈ１Ｈ，ｂｅｎｚ
ｙｌ，ｄ，Ｊgem＝１１．８１），４．４２（１Ｈ，
ｄ，Ｈ−３，Ｊ2,3＝４．６７），３．７０，３．６６
（ｅａｃｈ１Ｈ，ｄ，Ｈ−５，Ｊgem＝１０．９９），
２．８０（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎｙｌ），２．０８，
１．８１（ｅａｃｈ３Ｈ，ｓ．ａｃｅｔｙｌ）． ＥＩＭＳ ｍ／ｚ：４３８（Ｍ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（Ｍ+）：Ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ
25Ｈ26Ｏ7：４３８．１６７９，Ｆｏｕｎｄ：４３８．
１６８１
（ＣＤＣｌ3）δ ７．３５−７．２０（１０Ｈ，ｍ，
ａｒｏｍａｔｉｃ），６．２１（１Ｈ，ｄ，Ｈ−１，Ｊ
1,2＝０．８２），５．４０（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−２，Ｊ
1,2＝０．８２，Ｊ2,3＝４．６７），４．６６，４．６
０（ｅａｃｈ１Ｈ，ｂｅｎｚｙｌ，ｄ，Ｊgem＝１１．
８１），４．５０，４．４７（ｅａｃｈ１Ｈ，ｂｅｎｚ
ｙｌ，ｄ，Ｊgem＝１１．８１），４．４２（１Ｈ，
ｄ，Ｈ−３，Ｊ2,3＝４．６７），３．７０，３．６６
（ｅａｃｈ１Ｈ，ｄ，Ｈ−５，Ｊgem＝１０．９９），
２．８０（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎｙｌ），２．０８，
１．８１（ｅａｃｈ３Ｈ，ｓ．ａｃｅｔｙｌ）． ＥＩＭＳ ｍ／ｚ：４３８（Ｍ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（Ｍ+）：Ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ
25Ｈ26Ｏ7：４３８．１６７９，Ｆｏｕｎｄ：４３８．
１６８１
【００８０】（２）４'−Ｃ−ｅｔｈｙｎｙｌ−２'−Ｏ
−ａｃｅｔｙｌ−３'，５'−ｄｉ−Ｏ−ｂｅｎｚｙｌｕ
ｒｉｄｉｎｅ（化合物１５）の合成
−ａｃｅｔｙｌ−３'，５'−ｄｉ−Ｏ−ｂｅｎｚｙｌｕ
ｒｉｄｉｎｅ（化合物１５）の合成
【化１７】 化合物１４（２．５０ｇ、５．７０ｍｍｏｌ）を１，２
−ジクロロエタン（８０．０ｍｌ）に溶解し、ウラシル
（１．６０ｇ、１４．２７ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｏ−ビス
（トリメチルシリル）アセトアミド（９．８６ｍｌ、３
９．７４ｍｍｏｌ）を加え、１時間加熱環流した。反応
液を室温に戻した後、トリフルオロメタンスルホン酸ト
リメチルシリル（２．０６ｍｌ、１１．４０ｍｍｏｌ）
を加え、５０℃で終夜撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液を加え撹拌した後、不溶の沈殿を濾別し、有機
層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。有機層を減圧
下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（シリカゲル３００ｍｌ、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝
２：３にて溶出）により精製し、無色透明アメ状の化合
物１５（２．４４ｇ、４．９７ｍｍｏｌ、８７．２％）
を得た。
−ジクロロエタン（８０．０ｍｌ）に溶解し、ウラシル
（１．６０ｇ、１４．２７ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｏ−ビス
（トリメチルシリル）アセトアミド（９．８６ｍｌ、３
９．７４ｍｍｏｌ）を加え、１時間加熱環流した。反応
液を室温に戻した後、トリフルオロメタンスルホン酸ト
リメチルシリル（２．０６ｍｌ、１１．４０ｍｍｏｌ）
を加え、５０℃で終夜撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液を加え撹拌した後、不溶の沈殿を濾別し、有機
層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。有機層を減圧
下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（シリカゲル３００ｍｌ、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝
２：３にて溶出）により精製し、無色透明アメ状の化合
物１５（２．４４ｇ、４．９７ｍｍｏｌ、８７．２％）
を得た。
【００８１】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ ８．５２
（１Ｈ，ｂｒ．ｓ，３−ＮＨ），７．５５（１Ｈ，ｄ，
６−Ｈ，Ｊ5,6＝８．２４），７．４０−７．２２（１
０Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），６．２５（１Ｈ，ｄ，
Ｈ−１'，Ｊ1 ' ,2 '＝４．４０），５．３３（１Ｈ，ｄ，
Ｈ−５，Ｊ5,6＝８．２４），５．２２（１Ｈ，ｄｄ，
Ｈ−２'，Ｊ1 ' ,2 '＝４．４０，Ｊ2 ' ,3 '＝５，７７），
４．６３（２Ｈ，ｓ，ｂｅｎｚｙｌ），４．４５，４．
４０（ｅａｃｈ１Ｈ，ｄ，ｂｅｎｚｙｌ，Ｊge m＝１
０．９９），４．３４（１Ｈ，ｄ，Ｈ−３'，Ｊ2 ' ,3 '＝
５．７７），３．８４，３．６２（ｅａｃｈ１Ｈ，ｄ，
Ｈ−５'，Ｊgem＝１０．５８），２．６９（１Ｈ，ｓ，
ｅｔｈｙｎｙｌ），２．１１（３Ｈ，ｓ，ａｃｅｔｙ
ｌ）． ＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ：４９１（ＭＨ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（ＭＨ+）：Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ Ｃ
27Ｈ27Ｎ2Ｏ7： ４９１．１８１８， Ｆｏｕｎｄ：４
９１．１８２１． ［α］D ２９．０°（ｃ＝１．００，ＣＨＣｌ3）．
（１Ｈ，ｂｒ．ｓ，３−ＮＨ），７．５５（１Ｈ，ｄ，
６−Ｈ，Ｊ5,6＝８．２４），７．４０−７．２２（１
０Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），６．２５（１Ｈ，ｄ，
Ｈ−１'，Ｊ1 ' ,2 '＝４．４０），５．３３（１Ｈ，ｄ，
Ｈ−５，Ｊ5,6＝８．２４），５．２２（１Ｈ，ｄｄ，
Ｈ−２'，Ｊ1 ' ,2 '＝４．４０，Ｊ2 ' ,3 '＝５，７７），
４．６３（２Ｈ，ｓ，ｂｅｎｚｙｌ），４．４５，４．
４０（ｅａｃｈ１Ｈ，ｄ，ｂｅｎｚｙｌ，Ｊge m＝１
０．９９），４．３４（１Ｈ，ｄ，Ｈ−３'，Ｊ2 ' ,3 '＝
５．７７），３．８４，３．６２（ｅａｃｈ１Ｈ，ｄ，
Ｈ−５'，Ｊgem＝１０．５８），２．６９（１Ｈ，ｓ，
ｅｔｈｙｎｙｌ），２．１１（３Ｈ，ｓ，ａｃｅｔｙ
ｌ）． ＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ：４９１（ＭＨ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（ＭＨ+）：Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ Ｃ
27Ｈ27Ｎ2Ｏ7： ４９１．１８１８， Ｆｏｕｎｄ：４
９１．１８２１． ［α］D ２９．０°（ｃ＝１．００，ＣＨＣｌ3）．
【００８２】（３）１−（４−Ｃ−ｅｔｈｙｎｙｌ−２
−Ｏ−ａｃｅｔｙｌ−３，５−ｄｉ−Ｏ−ｂｅｎｚｙｌ
−β−Ｄ−ａｒａｂｉｎｏ−ｐｅｎｔｏｆｕｒａｎｏｓ
ｙｌ）ｕｒａｃｉｌ（化合物１６）の合成
−Ｏ−ａｃｅｔｙｌ−３，５−ｄｉ−Ｏ−ｂｅｎｚｙｌ
−β−Ｄ−ａｒａｂｉｎｏ−ｐｅｎｔｏｆｕｒａｎｏｓ
ｙｌ）ｕｒａｃｉｌ（化合物１６）の合成
【化１８】 化合物１５（２．３０ｇ、４．６９ｍｍｏｌ）をメタノ
ール（９０．０ｍｌ）に溶解し、１Ｎ水酸化ナトリウム
水溶液（１０．０ｍｌ）を加え、室温で２時間撹拌し
た。反応液を酢酸で中和した後、減圧下乾固し、残渣を
酢酸エチルに溶解した。有機層を水洗後、無水硫酸マグ
ネシウム上で乾燥し、有機層を減圧下乾固した。残渣を
ピリジン少量で３回共沸し、残渣をピリジン（５０．０
ｍｌ）に溶解し、氷冷下、塩化メタンスルホニル（０．
７３ｍｌ、９．４１ｍｍｏｌ）を加え、３時間撹拌し
た。反応溶液へ水少量を加え減圧下乾固した後、残渣を
酢酸エチルに溶解し、水洗した。有機層を無水硫酸マグ
ネシウム上で乾燥した後、減圧下乾固した。残渣をテト
ラヒドロフラン（３０．０ｍｌ）に溶解し、１Ｎ水酸化
ナトリウム水溶液（５０．０ｍｌ）を加え、１時間加熱
環流した。反応溶液を酢酸で中和した後、目的物を酢酸
エチルにより抽出し、有機層を合わせ無水硫酸マグネシ
ウム上で乾燥した。有機層を減圧下乾固した後、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２５
０ｍｌ、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：２にて溶出）
により精製し、白色粉末状の化合物１６（１．５４ｇ、
３．４３ｍｍｏｌ、７３．１％）を得た。
ール（９０．０ｍｌ）に溶解し、１Ｎ水酸化ナトリウム
水溶液（１０．０ｍｌ）を加え、室温で２時間撹拌し
た。反応液を酢酸で中和した後、減圧下乾固し、残渣を
酢酸エチルに溶解した。有機層を水洗後、無水硫酸マグ
ネシウム上で乾燥し、有機層を減圧下乾固した。残渣を
ピリジン少量で３回共沸し、残渣をピリジン（５０．０
ｍｌ）に溶解し、氷冷下、塩化メタンスルホニル（０．
７３ｍｌ、９．４１ｍｍｏｌ）を加え、３時間撹拌し
た。反応溶液へ水少量を加え減圧下乾固した後、残渣を
酢酸エチルに溶解し、水洗した。有機層を無水硫酸マグ
ネシウム上で乾燥した後、減圧下乾固した。残渣をテト
ラヒドロフラン（３０．０ｍｌ）に溶解し、１Ｎ水酸化
ナトリウム水溶液（５０．０ｍｌ）を加え、１時間加熱
環流した。反応溶液を酢酸で中和した後、目的物を酢酸
エチルにより抽出し、有機層を合わせ無水硫酸マグネシ
ウム上で乾燥した。有機層を減圧下乾固した後、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２５
０ｍｌ、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：２にて溶出）
により精製し、白色粉末状の化合物１６（１．５４ｇ、
３．４３ｍｍｏｌ、７３．１％）を得た。
【００８３】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ ９．８２
（１Ｈ，ｂｒ．ｓ，３−ＮＨ），７．７３（１Ｈ，ｄ，
６−Ｈ，Ｊ5,6＝８．０６），７．４１−７．１９（１
０Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），６．２４（１Ｈ，ｄ，
Ｈ−１'，Ｊ1 ' ,2 '＝５，８６），５．２５（１Ｈ，ｄ，
Ｈ−５，Ｊ5,6＝８．０６），４．８８，４．７６（ｅ
ａｃｈ１Ｈ，ｄ，ｂｅｎｚｙｌ，Ｊgem＝１２．２
１），４．７８（１Ｈ，Ｈ−２'），４．５２（１Ｈ，
２'−ＯＨ），４．４６，４．３９（ｅａｃｈ１Ｈ，
ｄ，ｂｅｎｚｙｌ，Ｊgem＝１１．１１），４．１９
（１Ｈ，ｄ，Ｈ−３'，Ｊ2 ' ,3 '＝６．５９），３．８３
４，３．６４（ｅａｃｈ１Ｈ，ｄ，Ｈ−５'，Ｊgem＝１
０．６２），２．６７（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎｙｌ）． ＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ：４４９（ＭＨ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（ＭＨ+）：Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ Ｃ
25Ｈ25Ｎ2Ｏ6： ４４９．１７１２， Ｆｏｕｎｄ：４
４９．１７１３． ［α］D ４０．７°（ｃ＝１．００，ＣＨＣｌ3）． ｍ．ｐ． １０５−１０６℃
（１Ｈ，ｂｒ．ｓ，３−ＮＨ），７．７３（１Ｈ，ｄ，
６−Ｈ，Ｊ5,6＝８．０６），７．４１−７．１９（１
０Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），６．２４（１Ｈ，ｄ，
Ｈ−１'，Ｊ1 ' ,2 '＝５，８６），５．２５（１Ｈ，ｄ，
Ｈ−５，Ｊ5,6＝８．０６），４．８８，４．７６（ｅ
ａｃｈ１Ｈ，ｄ，ｂｅｎｚｙｌ，Ｊgem＝１２．２
１），４．７８（１Ｈ，Ｈ−２'），４．５２（１Ｈ，
２'−ＯＨ），４．４６，４．３９（ｅａｃｈ１Ｈ，
ｄ，ｂｅｎｚｙｌ，Ｊgem＝１１．１１），４．１９
（１Ｈ，ｄ，Ｈ−３'，Ｊ2 ' ,3 '＝６．５９），３．８３
４，３．６４（ｅａｃｈ１Ｈ，ｄ，Ｈ−５'，Ｊgem＝１
０．６２），２．６７（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎｙｌ）． ＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ：４４９（ＭＨ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（ＭＨ+）：Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ Ｃ
25Ｈ25Ｎ2Ｏ6： ４４９．１７１２， Ｆｏｕｎｄ：４
４９．１７１３． ［α］D ４０．７°（ｃ＝１．００，ＣＨＣｌ3）． ｍ．ｐ． １０５−１０６℃
【００８４】（４）１−（４−Ｃ−ｅｔｈｙｎｙｌ−
２，３，５−ｔｒｉ−Ｏ−ａｃｅｔｙｌ−β−Ｄ−ａｒ
ａｂｉｎｏ−ｐｅｎｔｏｆｕｒａｎｏｓｙｌ）ｕｒａｃ
ｉｌ（化合物１７）の合成
２，３，５−ｔｒｉ−Ｏ−ａｃｅｔｙｌ−β−Ｄ−ａｒ
ａｂｉｎｏ−ｐｅｎｔｏｆｕｒａｎｏｓｙｌ）ｕｒａｃ
ｉｌ（化合物１７）の合成
【化１９】 化合物１６（１．４０ｇ、３．１２ｍｍｏｌ）をジクロ
ロメタン（４０．０ｍｌ）に溶解し、アルゴン雰囲気
下、−７８℃で１．０Ｍ三臭化ホウ素ジクロロメタン溶
液（１５．６ｍｌ、１５．６ｍｍｏｌ）を加え、同温度
で３時間撹拌した。−７８℃でピリジン（５．００ｍ
ｌ）、メタノール（１０．０ｍｌ）混合溶液を加え、１
０分間撹拌した後、反応溶液を減圧下留去した。残渣を
メタノール少量で３回、ピリジン少量で３回共沸した
後、残渣をピリジン（５０．０ｍｌ）に溶解し、無水酢
酸（４．４２ｍｌ、４６．７ｍｍｏｌ）を加え、室温で
終夜撹拌した。反応溶液を減圧下乾固し、残渣をトルエ
ン少量で３回共沸した後、残渣を酢酸エチルと水で分配
し、有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。反応
溶液を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（シリカゲル１５０ｍｌ、クロロホルム：メ
タノール＝２０：１にて溶出）により精製し、白色粉末
状の化合物１７（１．１５ｇ、２．９２ｍｍｏｌ、９
３．６％）を得た。
ロメタン（４０．０ｍｌ）に溶解し、アルゴン雰囲気
下、−７８℃で１．０Ｍ三臭化ホウ素ジクロロメタン溶
液（１５．６ｍｌ、１５．６ｍｍｏｌ）を加え、同温度
で３時間撹拌した。−７８℃でピリジン（５．００ｍ
ｌ）、メタノール（１０．０ｍｌ）混合溶液を加え、１
０分間撹拌した後、反応溶液を減圧下留去した。残渣を
メタノール少量で３回、ピリジン少量で３回共沸した
後、残渣をピリジン（５０．０ｍｌ）に溶解し、無水酢
酸（４．４２ｍｌ、４６．７ｍｍｏｌ）を加え、室温で
終夜撹拌した。反応溶液を減圧下乾固し、残渣をトルエ
ン少量で３回共沸した後、残渣を酢酸エチルと水で分配
し、有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。反応
溶液を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（シリカゲル１５０ｍｌ、クロロホルム：メ
タノール＝２０：１にて溶出）により精製し、白色粉末
状の化合物１７（１．１５ｇ、２．９２ｍｍｏｌ、９
３．６％）を得た。
【００８５】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ ８．９９
（１Ｈ，ｂｒ．ｓ，３−ＮＨ），７．４２（１Ｈ，ｄ，
６−Ｈ，Ｊ5,6＝８．２４），６．４５（１Ｈ，ｄ，Ｈ
−１'，Ｊ1 ' ,2 '＝４．９５），５．７６（１Ｈ，ｄｄ，
Ｈ−５，Ｊ5,6＝８．２４），５．５５（１Ｈ，ｄｄ，
Ｈ−２'，Ｊ1 ' ,2 '＝４．９５，Ｊ2 ' ,3 '＝３．５７），
５．３４（１Ｈ，ｄ，Ｈ−３'，Ｊ2 ' ,3 '＝３．５７），
４．５１，４．４２（ｅａｃｈ１Ｈ，ｄ，Ｈ−５'，Ｊ
gem＝１１．８１），２．７３（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎ
ｙｌ）． ＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ：３９５（ＭＨ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（ＭＨ+）：Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ Ｃ
17Ｈ19Ｎ2Ｏ9：３９５．１０９０， Ｆｏｕｎｄ：３９
５．１０９２． ［α］D １８．２°（ｃ＝１．００，ＣＨＣｌ3）． ｍ．ｐ． １６０−１６２℃
（１Ｈ，ｂｒ．ｓ，３−ＮＨ），７．４２（１Ｈ，ｄ，
６−Ｈ，Ｊ5,6＝８．２４），６．４５（１Ｈ，ｄ，Ｈ
−１'，Ｊ1 ' ,2 '＝４．９５），５．７６（１Ｈ，ｄｄ，
Ｈ−５，Ｊ5,6＝８．２４），５．５５（１Ｈ，ｄｄ，
Ｈ−２'，Ｊ1 ' ,2 '＝４．９５，Ｊ2 ' ,3 '＝３．５７），
５．３４（１Ｈ，ｄ，Ｈ−３'，Ｊ2 ' ,3 '＝３．５７），
４．５１，４．４２（ｅａｃｈ１Ｈ，ｄ，Ｈ−５'，Ｊ
gem＝１１．８１），２．７３（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎ
ｙｌ）． ＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ：３９５（ＭＨ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（ＭＨ+）：Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ Ｃ
17Ｈ19Ｎ2Ｏ9：３９５．１０９０， Ｆｏｕｎｄ：３９
５．１０９２． ［α］D １８．２°（ｃ＝１．００，ＣＨＣｌ3）． ｍ．ｐ． １６０−１６２℃
【００８６】（５）１−（４−Ｃ−ｅｔｈｙｎｙｌ−β
−Ｄ−ａｒａｂｉｎｏ−ｐｅｎｔｏｆｕｒａｎｏｓｙ
ｌ）ｃｙｔｏｓｉｎｅ（化合物１９）の合成
−Ｄ−ａｒａｂｉｎｏ−ｐｅｎｔｏｆｕｒａｎｏｓｙ
ｌ）ｃｙｔｏｓｉｎｅ（化合物１９）の合成
【化２０】 化合物１７（１．００ｇ、２．５４ｍｍｏｌ）をピリジ
ン（５０．０ｍｌ）に溶解し、氷冷下、ｐ−クロロフェ
ニルホスホロジクロリダート（１．０５ｍｌ、６．３８
ｍｍｏｌ）を加え、５分間撹拌後、１，２，４−トリア
ゾール（１．７５ｇ、２５．３ｍｍｏｌ）を加え、室温
で７日間撹拌した。シリカゲル薄層クロマトグラフィー
上で原料の消失を確認後、反応溶液を減圧下留去し、残
渣を酢酸エチルと水で分配、有機層を無水硫酸マグネシ
ウム上で乾燥した。有機層を減圧下留去し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｍ
ｌ、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：３にて溶出）によ
り精製し、無色透明アメ状の１−（４−Ｃ−ｅｔｈｙｎ
ｙｌ−２，３，５−ｔｒｉ−Ｏ−ａｃｅｔｙｌ−β−Ｄ
−ａｒａｂｉｎｏ−ｐｅｎｔｏｆｕｒａｎｏｓｙｌ）−
４−（１，２，４−ｔｒｉａｚｏｌｏ）ｕｒａｃｉｌ
１８を得た。化合物１８をジオキサン（６０．０ｍｌ）
に溶解し、２５％アンモニア水（２０．０ｍｌ）を加
え、室温で終夜撹拌した。シリカゲル薄層クロマトグラ
フィー上で化合物１８が消失したのを確認した後、反応
溶液を減圧下留去した。残渣を逆相中圧カラムクロマト
グラフィー（Ｗａｋｏｓｉｌ ４０Ｃ１８ ５０ｇ、３
％アセトニトリル水溶液にて溶出）により精製した。化
合物１９を含む分画を減圧下乾固し、残渣をメタノール
−エーテルから結晶化し、白色結晶状の化合物１９
（０．５１ｇ、１．９１ｍｍｏｌ、７５．２％）を得
た。
ン（５０．０ｍｌ）に溶解し、氷冷下、ｐ−クロロフェ
ニルホスホロジクロリダート（１．０５ｍｌ、６．３８
ｍｍｏｌ）を加え、５分間撹拌後、１，２，４−トリア
ゾール（１．７５ｇ、２５．３ｍｍｏｌ）を加え、室温
で７日間撹拌した。シリカゲル薄層クロマトグラフィー
上で原料の消失を確認後、反応溶液を減圧下留去し、残
渣を酢酸エチルと水で分配、有機層を無水硫酸マグネシ
ウム上で乾燥した。有機層を減圧下留去し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｍ
ｌ、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：３にて溶出）によ
り精製し、無色透明アメ状の１−（４−Ｃ−ｅｔｈｙｎ
ｙｌ−２，３，５−ｔｒｉ−Ｏ−ａｃｅｔｙｌ−β−Ｄ
−ａｒａｂｉｎｏ−ｐｅｎｔｏｆｕｒａｎｏｓｙｌ）−
４−（１，２，４−ｔｒｉａｚｏｌｏ）ｕｒａｃｉｌ
１８を得た。化合物１８をジオキサン（６０．０ｍｌ）
に溶解し、２５％アンモニア水（２０．０ｍｌ）を加
え、室温で終夜撹拌した。シリカゲル薄層クロマトグラ
フィー上で化合物１８が消失したのを確認した後、反応
溶液を減圧下留去した。残渣を逆相中圧カラムクロマト
グラフィー（Ｗａｋｏｓｉｌ ４０Ｃ１８ ５０ｇ、３
％アセトニトリル水溶液にて溶出）により精製した。化
合物１９を含む分画を減圧下乾固し、残渣をメタノール
−エーテルから結晶化し、白色結晶状の化合物１９
（０．５１ｇ、１．９１ｍｍｏｌ、７５．２％）を得
た。
【００８７】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ ７．５
２（１Ｈ，ｄ，Ｈ−６，Ｊ5,6＝７．４２），７．１０
（２Ｈ，ｂｒ．ｄ，ＮＨ2），６．１７（１Ｈ，ｄｄ，
Ｈ−１'，Ｊ1 ' ,2 '＝６．０４），５．６６（１Ｈ，ｄ，
Ｈ−５，Ｊ5,6＝７．４２），５．６２，５．４９（ｅ
ａｃｈ１Ｈ，ｄ，２'−ＯＨ，３'−ＯＨ），５．４２
（１Ｈ，ｔ，５'−ＯＨ），４．１６（１Ｈ，ｑ，Ｈ−
２'，Ｊ1 ' ,2 '＝Ｊ2 ' ,3 '＝６．０４），３．９７（１
Ｈ，ｔ，Ｈ−３'，Ｊ2 ' ,3 '＝６．０４），３．５８（２
Ｈ，ｍ，Ｈ−５'），３．４８（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎ
ｙｌ）． ［α］D ＋９５．７°（ｃ＝１．００，ＣＨ3ＯＨ） ＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ：２６８（ＭＨ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（ＭＨ+）：Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ Ｃ
11Ｈ14Ｎ3Ｏ5：２６８．０９３３， Ｆｏｕｎｄ：２６
８．０９６５． ＵＶ λmax（ＣＨ3ＯＨ）ｎｍ（ε）：２７１（９３５
０） ｍ．ｐ． 〜２００℃（Ｄｅｃ）
２（１Ｈ，ｄ，Ｈ−６，Ｊ5,6＝７．４２），７．１０
（２Ｈ，ｂｒ．ｄ，ＮＨ2），６．１７（１Ｈ，ｄｄ，
Ｈ−１'，Ｊ1 ' ,2 '＝６．０４），５．６６（１Ｈ，ｄ，
Ｈ−５，Ｊ5,6＝７．４２），５．６２，５．４９（ｅ
ａｃｈ１Ｈ，ｄ，２'−ＯＨ，３'−ＯＨ），５．４２
（１Ｈ，ｔ，５'−ＯＨ），４．１６（１Ｈ，ｑ，Ｈ−
２'，Ｊ1 ' ,2 '＝Ｊ2 ' ,3 '＝６．０４），３．９７（１
Ｈ，ｔ，Ｈ−３'，Ｊ2 ' ,3 '＝６．０４），３．５８（２
Ｈ，ｍ，Ｈ−５'），３．４８（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎ
ｙｌ）． ［α］D ＋９５．７°（ｃ＝１．００，ＣＨ3ＯＨ） ＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ：２６８（ＭＨ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（ＭＨ+）：Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ Ｃ
11Ｈ14Ｎ3Ｏ5：２６８．０９３３， Ｆｏｕｎｄ：２６
８．０９６５． ＵＶ λmax（ＣＨ3ＯＨ）ｎｍ（ε）：２７１（９３５
０） ｍ．ｐ． 〜２００℃（Ｄｅｃ）
【００８８】合成例４ 合成例３の（２）のウラシルの代わりに５−フルオロウ
ラシル、５−エチルウラシル、５−ブロモビニルウラシ
ル、５−エチニルウラシルを用いて以下同様に反応させ
〔ただし、必要により（５）のトリアゾールを用いたア
ミノ化反応は省略〕、以下の化合物を合成する。
ラシル、５−エチルウラシル、５−ブロモビニルウラシ
ル、５−エチニルウラシルを用いて以下同様に反応させ
〔ただし、必要により（５）のトリアゾールを用いたア
ミノ化反応は省略〕、以下の化合物を合成する。
【００８９】１−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビ
ノ−ペントフラノシル）−５−フルオロウラシル １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−エチルウラシル １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−ブロモビニルウラシル １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−エチニルウラシル １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−フルオロシトシン １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−エチルシトシン １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−ブロモビニルシトシン １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−エチニルシトシン
ノ−ペントフラノシル）−５−フルオロウラシル １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−エチルウラシル １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−ブロモビニルウラシル １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−エチニルウラシル １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−フルオロシトシン １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−エチルシトシン １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−ブロモビニルシトシン １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−５−エチニルシトシン
【００９０】合成例５ （１）２'−Ｏ−ａｃｅｔｙｌ−３'，５'−ｄｉ−Ｏ−
ｂｅｎｚｙｌ−４'−Ｃ−ｔｒｉｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ
ｅｔｈｙｎｙｌａｄｅｎｏｓｉｎｅ（化合物２０）の合
成
ｂｅｎｚｙｌ−４'−Ｃ−ｔｒｉｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ
ｅｔｈｙｎｙｌａｄｅｎｏｓｉｎｅ（化合物２０）の合
成
【化２１】 化合物６（１．１ｇ，２ｍｍｏｌ）の１，２−ジクロロ
エタン（１６．５ｍｌ）溶液にアデニン（０．４０５
ｇ，３ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）
アセトアミド（２．７ｍｌ，１１ｍｍｏｌ）を加え、
１．５時間加熱還流した。室温まで冷却した後、０℃、
アルゴン雰囲気撹拌下、トリフルオロメタンスルホン酸
トリメチルシリル（０．７７ｍｌ，４ｍｍｏｌ）を滴下
した。室温で１５分間撹拌した後、２４時間加熱還流さ
せ、室温まで冷却した。飽和炭酸水素ナトリウム水を０
℃下で加え、室温にて１５分間撹拌した。セライトろ過
を行い不溶物をろ別した後、ろ液の有機層を分取し、水
層をクロロホルムで１回抽出した後、有機層を飽和塩化
ナトリウム水で１回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
させた。減圧下溶媒を留去し、残留物をシリカゲルカラ
ム（１５ｇ）に付し、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン：エタ
ノール（２０：２０：１）で溶出し、化合物２０を０．
６９ｇ（５５％）得た。
エタン（１６．５ｍｌ）溶液にアデニン（０．４０５
ｇ，３ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）
アセトアミド（２．７ｍｌ，１１ｍｍｏｌ）を加え、
１．５時間加熱還流した。室温まで冷却した後、０℃、
アルゴン雰囲気撹拌下、トリフルオロメタンスルホン酸
トリメチルシリル（０．７７ｍｌ，４ｍｍｏｌ）を滴下
した。室温で１５分間撹拌した後、２４時間加熱還流さ
せ、室温まで冷却した。飽和炭酸水素ナトリウム水を０
℃下で加え、室温にて１５分間撹拌した。セライトろ過
を行い不溶物をろ別した後、ろ液の有機層を分取し、水
層をクロロホルムで１回抽出した後、有機層を飽和塩化
ナトリウム水で１回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
させた。減圧下溶媒を留去し、残留物をシリカゲルカラ
ム（１５ｇ）に付し、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン：エタ
ノール（２０：２０：１）で溶出し、化合物２０を０．
６９ｇ（５５％）得た。
【００９１】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ ８．３２
（１Ｈ，ｓ，ｐｕｒｉｎｅ−Ｈ），８．０１（１Ｈ，
ｓ，ｐｕｒｉｎｅ−Ｈ），７．２７−７．３７（１０
Ｈ，ｍ，２ｘＰｈ），６．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１
Ｈｚ，Ｈ−１’），５．６０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．６Ｈ
ｚ，Ｈ−２’），５．５９（２Ｈ，ｂｒ ｓ，Ｎ
Ｈ2），４．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ，ＣＨ
Ｈ’Ｐｈ），４．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，Ｈ
−３’），４．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ，Ｃ
ＨＨ’Ｐｈ），４．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．２Ｈ
ｚ，ＣＨＨ’Ｐｈ），４．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．
０Ｈｚ，ＣＨＨ'Ｐｈ），３．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１
１．１Ｈｚ，Ｈ−５’），３．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１
１．１Ｈｚ，Ｈ−５’）２．０３（３Ｈ，ｓ，Ａｃ），
０．９８（９Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，３ｘＣＨ 3 Ｃ
Ｈ2），０．６１（６Ｈ，ｑ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，３ｘＣ
Ｈ3ＣＨ2 ）．
（１Ｈ，ｓ，ｐｕｒｉｎｅ−Ｈ），８．０１（１Ｈ，
ｓ，ｐｕｒｉｎｅ−Ｈ），７．２７−７．３７（１０
Ｈ，ｍ，２ｘＰｈ），６．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１
Ｈｚ，Ｈ−１’），５．６０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．６Ｈ
ｚ，Ｈ−２’），５．５９（２Ｈ，ｂｒ ｓ，Ｎ
Ｈ2），４．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ，ＣＨ
Ｈ’Ｐｈ），４．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，Ｈ
−３’），４．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ，Ｃ
ＨＨ’Ｐｈ），４．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．２Ｈ
ｚ，ＣＨＨ’Ｐｈ），４．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．
０Ｈｚ，ＣＨＨ'Ｐｈ），３．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１
１．１Ｈｚ，Ｈ−５’），３．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１
１．１Ｈｚ，Ｈ−５’）２．０３（３Ｈ，ｓ，Ａｃ），
０．９８（９Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，３ｘＣＨ 3 Ｃ
Ｈ2），０．６１（６Ｈ，ｑ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，３ｘＣ
Ｈ3ＣＨ2 ）．
【００９２】（２）３'，５'−ｄｉ−Ｏ−ｂｅｎｚｙｌ
−４'−Ｃ−ｔｒｉｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌｅｔｈｙｎｙ
ｌａｄｅｎｏｓｉｎｅ（化合物２１）の合成
−４'−Ｃ−ｔｒｉｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌｅｔｈｙｎｙ
ｌａｄｅｎｏｓｉｎｅ（化合物２１）の合成
【化２２】 化合物２０（０．３５４ｇ，０．５６５ｍｍｏｌ）のメ
タノ−ル（１４ｍｌ）溶液にトリエチルアミン（３．３
ｍｌ）を加え、密栓して室温下で１日間撹拌した。減圧
下濃縮し、残留物をシリカゲルカラム（１０ｇ）に付
し、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン：エタノール（２０：１
０：１）で溶出し、化合物２１を０．２８３ｇ（８６
％）得た。
タノ−ル（１４ｍｌ）溶液にトリエチルアミン（３．３
ｍｌ）を加え、密栓して室温下で１日間撹拌した。減圧
下濃縮し、残留物をシリカゲルカラム（１０ｇ）に付
し、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン：エタノール（２０：１
０：１）で溶出し、化合物２１を０．２８３ｇ（８６
％）得た。
【００９３】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ ８．３０
（１Ｈ，ｓ，ｐｕｒｉｎｅ−Ｈ），８．００（１Ｈ，
ｓ，ｐｕｒｉｎｅ−Ｈ），７．３０−７．４２（１０
Ｈ，ｍ，２ｘＰｈ），６．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６
Ｈｚ，Ｈ−１’），５．５５（２Ｈ，ｂｒ ｓ，Ｎ
Ｈ2），４．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．１Ｈｚ，ＣＨ
Ｈ’Ｐｈ），４．７５−４．８０（１Ｈ，ｍ，Ｈ−
２’），４．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．１Ｈｚ，ＣＨ
Ｈ'Ｐｈ），４．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．６Ｈｚ，
ＣＨＨ’Ｐｈ），４．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．６Ｈ
ｚ，ＣＨＨ'Ｐｈ），４．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６
Ｈｚ，Ｈ−３’），３．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．１
Ｈｚ，Ｈ−５’），３．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．１
Ｈｚ，Ｈ−５’），３．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈ
ｚ，ＯＨ），０．９８（９Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，３
ｘＣＨ3 ＣＨ2），０．６２（６Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．９Ｈ
ｚ，３ｘＣＨ3ＣＨ2 ）．
（１Ｈ，ｓ，ｐｕｒｉｎｅ−Ｈ），８．００（１Ｈ，
ｓ，ｐｕｒｉｎｅ−Ｈ），７．３０−７．４２（１０
Ｈ，ｍ，２ｘＰｈ），６．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６
Ｈｚ，Ｈ−１’），５．５５（２Ｈ，ｂｒ ｓ，Ｎ
Ｈ2），４．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．１Ｈｚ，ＣＨ
Ｈ’Ｐｈ），４．７５−４．８０（１Ｈ，ｍ，Ｈ−
２’），４．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．１Ｈｚ，ＣＨ
Ｈ'Ｐｈ），４．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．６Ｈｚ，
ＣＨＨ’Ｐｈ），４．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．６Ｈ
ｚ，ＣＨＨ'Ｐｈ），４．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６
Ｈｚ，Ｈ−３’），３．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．１
Ｈｚ，Ｈ−５’），３．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．１
Ｈｚ，Ｈ−５’），３．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈ
ｚ，ＯＨ），０．９８（９Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，３
ｘＣＨ3 ＣＨ2），０．６２（６Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．９Ｈ
ｚ，３ｘＣＨ3ＣＨ2 ）．
【００９４】（３）３'，５'−ｄｉ−Ｏ−ｂｅｎｚｙｌ
−２'−ｄｅｏｘｙ−４'−Ｃ−ｔｒｉｅｔｈｙｌｓｉｌ
ｙｌｅｔｈｙｎｙｌａｄｅｎｏｓｉｎｅ（化合物２２）
の合成
−２'−ｄｅｏｘｙ−４'−Ｃ−ｔｒｉｅｔｈｙｌｓｉｌ
ｙｌｅｔｈｙｎｙｌａｄｅｎｏｓｉｎｅ（化合物２２）
の合成
【化２３】 化合物２１（０．１８ｇ，０．３０８ｍｍｏｌ）、ＤＭ
ＡＰ（０．１１３ｇ，０．９２４ｍｍｏｌ）のアセトニ
トリル（１０．６ｍｌ）溶液に室温、アルゴン雰囲気撹
拌下、４−フルオロフェニルクロロチオノホルメート
（０．０６５ｍｌ，０．４６２ｍｍｏｌ）を滴下し、室
温にて１時間撹拌した後、減圧下濃縮した。水を加えて
酢酸エチルで抽出し、有機層を水で１回、飽和食塩水で
１回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、減圧
下溶媒を留去し、残留物をショートシリカゲルカラムに
付し、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン：エタノール（２０：
２０：１）で溶出し、粗製のチオカーボネート体を得
た。このチオカ−ボネ−ト体をトルエン（９ｍｌ）に溶
解し、水素化トリブチルスズ（０．４１ｍｌ，１．８５
ｍｍｏｌ）と２，２'−アゾビス（イソブチロニトリ
ル）（０．０１３ｇ，０．０７７ｍｍｏｌ）を加え、反
応混合物を８５℃、アルゴン雰囲気下、１時間撹拌し、
室温まで冷却した。減圧下溶媒を留去し、残留物をシリ
カゲルカラム（２０ｇ）に付し、酢酸エチル：ｎ−ヘキ
サン：エタノール（２０：１０：１）で溶出し、化合物
２２を０．１０ｇ（５７％）得た。
ＡＰ（０．１１３ｇ，０．９２４ｍｍｏｌ）のアセトニ
トリル（１０．６ｍｌ）溶液に室温、アルゴン雰囲気撹
拌下、４−フルオロフェニルクロロチオノホルメート
（０．０６５ｍｌ，０．４６２ｍｍｏｌ）を滴下し、室
温にて１時間撹拌した後、減圧下濃縮した。水を加えて
酢酸エチルで抽出し、有機層を水で１回、飽和食塩水で
１回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、減圧
下溶媒を留去し、残留物をショートシリカゲルカラムに
付し、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン：エタノール（２０：
２０：１）で溶出し、粗製のチオカーボネート体を得
た。このチオカ−ボネ−ト体をトルエン（９ｍｌ）に溶
解し、水素化トリブチルスズ（０．４１ｍｌ，１．８５
ｍｍｏｌ）と２，２'−アゾビス（イソブチロニトリ
ル）（０．０１３ｇ，０．０７７ｍｍｏｌ）を加え、反
応混合物を８５℃、アルゴン雰囲気下、１時間撹拌し、
室温まで冷却した。減圧下溶媒を留去し、残留物をシリ
カゲルカラム（２０ｇ）に付し、酢酸エチル：ｎ−ヘキ
サン：エタノール（２０：１０：１）で溶出し、化合物
２２を０．１０ｇ（５７％）得た。
【００９５】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ ８．３２
（１Ｈ，ｓ，ｐｕｒｉｎｅ−Ｈ），８．１１（１Ｈ，
ｓ，ｐｕｒｉｎｅ−Ｈ），７．２６−７．３７（１０
Ｈ，ｍ，２ｘＰｈ），６．５１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０
Ｈｚ，Ｈ−１’），５．５４（２Ｈ，ｂｒ ｓ，Ｎ
Ｈ2），４．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．０Ｈｚ，ＣＨ
Ｈ’Ｐｈ），４．６１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，
ＣＨ2Ｐｈ），４．６０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，
Ｈ−３’），４．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．０Ｈｚ，
ＣＨＨ'Ｐｈ），３．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈ
ｚ，Ｈ−５’），３．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈ
ｚ，Ｈ−５’），２．７１−２．７６（２Ｈ，ｍ，Ｈ−
２’），０．９９（９Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，３ｘＣ
Ｈ3 ＣＨ2），０．６２（６Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３
ｘＣＨ3ＣＨ2 ）．
（１Ｈ，ｓ，ｐｕｒｉｎｅ−Ｈ），８．１１（１Ｈ，
ｓ，ｐｕｒｉｎｅ−Ｈ），７．２６−７．３７（１０
Ｈ，ｍ，２ｘＰｈ），６．５１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０
Ｈｚ，Ｈ−１’），５．５４（２Ｈ，ｂｒ ｓ，Ｎ
Ｈ2），４．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．０Ｈｚ，ＣＨ
Ｈ’Ｐｈ），４．６１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，
ＣＨ2Ｐｈ），４．６０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，
Ｈ−３’），４．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．０Ｈｚ，
ＣＨＨ'Ｐｈ），３．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈ
ｚ，Ｈ−５’），３．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈ
ｚ，Ｈ−５’），２．７１−２．７６（２Ｈ，ｍ，Ｈ−
２’），０．９９（９Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，３ｘＣ
Ｈ3 ＣＨ2），０．６２（６Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３
ｘＣＨ3ＣＨ2 ）．
【００９６】（４）２'−ｄｅｏｘｙ−４'−Ｃ−ｅｔｈ
ｙｎｙｌａｄｅｎｏｓｉｎｅ（化合物２３），および９
−（２−ｄｅｏｘｙ−４−Ｃ−ｅｔｈｙｎｙｌ−β−Ｄ
−ｒｉｂｏｆｕｒａｎｏｓｙｌ）ｐｕｒｉｎｅ（化合物
２４）の合成
ｙｎｙｌａｄｅｎｏｓｉｎｅ（化合物２３），および９
−（２−ｄｅｏｘｙ−４−Ｃ−ｅｔｈｙｎｙｌ−β−Ｄ
−ｒｉｂｏｆｕｒａｎｏｓｙｌ）ｐｕｒｉｎｅ（化合物
２４）の合成
【化２４】 化合物２２（０．２３ｇ，０．４０４ｍｍｏｌ）のテト
ラヒドロフラン（９．４ｍｌ）溶液に室温撹拌下１．０
Ｍテトラブチルアンモニウムフロリド（０．４４ｍｌ，
０．４４ｍｍｏｌ）を加え、同温度にて３０分間撹拌し
た後、減圧下溶媒を留去した。残留物をショートシリカ
ゲルカラムに付し、酢酸エチルで溶出し、粗精製の脱ト
リエチルシリル体を０．１８６ｇ得た。フラスコに上記
脱トリエチルシリル体のテトラヒドロフラン（１．８ｍ
ｌ）溶液と無水エタノール（０．１８ｍｌ）を加え、−
７８℃下でアンモニアガスを用いて約１８ｍｌ凝縮さ
せ、アルゴン雰囲気下、金属ナトリウム（０．０４７
ｇ，２．０２ｍｍｏｌ）を速やかに加え、同温度で１５
分間撹拌した。また、金属ナトリウム（０．０２３ｇ）
を加え、さらに１０分間撹拌した後、塩化アンモニウム
を加え、室温下で１．５時間撹拌した後、残留物にエタ
ノ−ルを加え、不溶物をセライトでろ別した。不溶物を
エタノールで２回洗浄した後、ろ液と洗液を減圧下濃縮
し、残留物をシリカゲルカラム（１０ｇ）に付し、酢酸
エチル：メタノール（２０：１）で溶出し、化合物２３
と２４の混合物０．０７９ｇを得た。続いて、混合物を
逆相ＯＤＳシリカゲルカラムに付し、５％エタノール水
溶液で溶出して化合物２４を０．０２８ｇ（２７％）
得、さらに、７．５％エタノール水溶液で溶出して化合
物２３を０．０２１ｇ（１９％）得た。
ラヒドロフラン（９．４ｍｌ）溶液に室温撹拌下１．０
Ｍテトラブチルアンモニウムフロリド（０．４４ｍｌ，
０．４４ｍｍｏｌ）を加え、同温度にて３０分間撹拌し
た後、減圧下溶媒を留去した。残留物をショートシリカ
ゲルカラムに付し、酢酸エチルで溶出し、粗精製の脱ト
リエチルシリル体を０．１８６ｇ得た。フラスコに上記
脱トリエチルシリル体のテトラヒドロフラン（１．８ｍ
ｌ）溶液と無水エタノール（０．１８ｍｌ）を加え、−
７８℃下でアンモニアガスを用いて約１８ｍｌ凝縮さ
せ、アルゴン雰囲気下、金属ナトリウム（０．０４７
ｇ，２．０２ｍｍｏｌ）を速やかに加え、同温度で１５
分間撹拌した。また、金属ナトリウム（０．０２３ｇ）
を加え、さらに１０分間撹拌した後、塩化アンモニウム
を加え、室温下で１．５時間撹拌した後、残留物にエタ
ノ−ルを加え、不溶物をセライトでろ別した。不溶物を
エタノールで２回洗浄した後、ろ液と洗液を減圧下濃縮
し、残留物をシリカゲルカラム（１０ｇ）に付し、酢酸
エチル：メタノール（２０：１）で溶出し、化合物２３
と２４の混合物０．０７９ｇを得た。続いて、混合物を
逆相ＯＤＳシリカゲルカラムに付し、５％エタノール水
溶液で溶出して化合物２４を０．０２８ｇ（２７％）
得、さらに、７．５％エタノール水溶液で溶出して化合
物２３を０．０２１ｇ（１９％）得た。
【００９７】（化合物２３）1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−
ｄ6） δ ８．３３（１Ｈ，ｓ，ｐｕｒｉｎｅ−Ｈ），
８．１５（１Ｈ，ｓ，ｐｕｒｉｎｅ−Ｈ），７．３０
（２Ｈ，ｂｒ ｓ，ＮＨ2），６．３６（１Ｈ，ｔ，Ｊ
＝６．４Ｈｚ，Ｈ−１’），５．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
５．４Ｈｚ，ＯＨ），５．５３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．４
Ｈｚ，ＯＨ），４．５８（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，
Ｈ−３’），３．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１２．２，
５．４Ｈｚ，Ｈ−５’），３．５６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
１１．７，７．３Ｈｚ，Ｈ−５’），３．５０（１Ｈ，
ｓ，ｅｔｈｙｎｙｌ−Ｈ），２．７６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ
＝１３．２，６．４Ｈｚ，Ｈ−２’），２．４１（１
Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１３．２，６．８Ｈｚ，Ｈ−２’）．
ｄ6） δ ８．３３（１Ｈ，ｓ，ｐｕｒｉｎｅ−Ｈ），
８．１５（１Ｈ，ｓ，ｐｕｒｉｎｅ−Ｈ），７．３０
（２Ｈ，ｂｒ ｓ，ＮＨ2），６．３６（１Ｈ，ｔ，Ｊ
＝６．４Ｈｚ，Ｈ−１’），５．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
５．４Ｈｚ，ＯＨ），５．５３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．４
Ｈｚ，ＯＨ），４．５８（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，
Ｈ−３’），３．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１２．２，
５．４Ｈｚ，Ｈ−５’），３．５６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
１１．７，７．３Ｈｚ，Ｈ−５’），３．５０（１Ｈ，
ｓ，ｅｔｈｙｎｙｌ−Ｈ），２．７６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ
＝１３．２，６．４Ｈｚ，Ｈ−２’），２．４１（１
Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１３．２，６．８Ｈｚ，Ｈ−２’）．
【００９８】（化合物２４）1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−
ｄ6）δ ９．１８（１Ｈ，ｓ，ｐｕｒｉｎｅ−Ｈ），
８．９６（１Ｈ，ｓ，ｐｕｒｉｎｅ−Ｈ），８．７９
（１Ｈ，ｓ，ｐｕｒｉｎｅ−Ｈ），６．５０（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７．３，４．９Ｈｚ，Ｈ−１’），５．６０
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，ＯＨ），５．２９（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，ＯＨ），４．６７（１Ｈ，
ｑ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，Ｈ−３’），３．６７（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝１１．７，５．９Ｈｚ，Ｈ−５’），３．５８
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．７，６．８Ｈｚ，Ｈ−
５’），３．５３（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎｙｌ−Ｈ），
２．８５（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１３．２，６．８，４．
９Ｈｚ，Ｈ−２’），２．４８−２．５６（１Ｈ，ｍ，
Ｈ−２’）．
ｄ6）δ ９．１８（１Ｈ，ｓ，ｐｕｒｉｎｅ−Ｈ），
８．９６（１Ｈ，ｓ，ｐｕｒｉｎｅ−Ｈ），８．７９
（１Ｈ，ｓ，ｐｕｒｉｎｅ−Ｈ），６．５０（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７．３，４．９Ｈｚ，Ｈ−１’），５．６０
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，ＯＨ），５．２９（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，ＯＨ），４．６７（１Ｈ，
ｑ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，Ｈ−３’），３．６７（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝１１．７，５．９Ｈｚ，Ｈ−５’），３．５８
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．７，６．８Ｈｚ，Ｈ−
５’），３．５３（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎｙｌ−Ｈ），
２．８５（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１３．２，６．８，４．
９Ｈｚ，Ｈ−２’），２．４８−２．５６（１Ｈ，ｍ，
Ｈ−２’）．
【００９９】合成例６ （１）９−（２−Ｏ−ａｃｅｔｙｌ−３，５−ｄｉ−Ｏ
−ｂｅｎｚｙｌ−４−Ｃ−ｔｒｉｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ
ｅｔｈｙｎｙｌ−β−Ｄ−ｒｉｂｏｆｕｒａｎｏｓｙ
ｌ）−２，６−ｄｉａｍｉｎｏｐｕｒｉｎｅ（化合物２
５）の合成
−ｂｅｎｚｙｌ−４−Ｃ−ｔｒｉｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ
ｅｔｈｙｎｙｌ−β−Ｄ−ｒｉｂｏｆｕｒａｎｏｓｙ
ｌ）−２，６−ｄｉａｍｉｎｏｐｕｒｉｎｅ（化合物２
５）の合成
【化２５】 化合物６（１．１ｇ，２ｍｍｏｌ）の１，２−ジクロロ
エタン（１６．５ｍｌ）溶液にジアミノプリン（０．４
５ｇ，３ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリ
ル）アセトアミド（４．４ｍｌ，１８ｍｍｏｌ）を加
え、３時間加熱還流し、室温まで冷却後、０℃、アルゴ
ン雰囲気撹拌下、トリフルオロメタンスルホン酸トリメ
チルシリル（０．７７ｍｌ，４ｍｍｏｌ）を滴下した。
室温で１５分間撹拌した後、２４時間加熱還流させ、室
温まで冷却した。飽和炭酸水素ナトリウム水を０℃下で
加え、室温にて１５分間撹拌し、セライトろ過を行い不
溶物をろ別した後、ろ液の有機層を分取した。水層をク
ロロホルムで１回抽出した後、有機層を飽和塩化ナトリ
ウム水で１回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、
減圧下溶媒を留去し、残留物をシリカゲルカラム（２０
ｇ）に付し、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン：エタノール
（２０：１０：１）で溶出し、化合物２５を０．８５ｇ
（６６％）得た。
エタン（１６．５ｍｌ）溶液にジアミノプリン（０．４
５ｇ，３ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリ
ル）アセトアミド（４．４ｍｌ，１８ｍｍｏｌ）を加
え、３時間加熱還流し、室温まで冷却後、０℃、アルゴ
ン雰囲気撹拌下、トリフルオロメタンスルホン酸トリメ
チルシリル（０．７７ｍｌ，４ｍｍｏｌ）を滴下した。
室温で１５分間撹拌した後、２４時間加熱還流させ、室
温まで冷却した。飽和炭酸水素ナトリウム水を０℃下で
加え、室温にて１５分間撹拌し、セライトろ過を行い不
溶物をろ別した後、ろ液の有機層を分取した。水層をク
ロロホルムで１回抽出した後、有機層を飽和塩化ナトリ
ウム水で１回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、
減圧下溶媒を留去し、残留物をシリカゲルカラム（２０
ｇ）に付し、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン：エタノール
（２０：１０：１）で溶出し、化合物２５を０．８５ｇ
（６６％）得た。
【０１００】1Ｈ−ＮＭＲ （ＣＤＣｌ3）δ ７．６８
（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），７．２６−７．３７（１０Ｈ，
ｍ，２ｘＰｈ），６．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５Ｈ
ｚ，Ｈ−１’），５．７８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．５，
６．０Ｈｚ，Ｈ−２’），５．３４（２Ｈ，ｂｒ ｓ，
ＮＨ2），４．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．４Ｈｚ，Ｃ
ＨＨ’Ｐｈ），４．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，
Ｈ−３’），４．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．４Ｈｚ，
ＣＨＨ’Ｐｈ），４．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．９Ｈ
ｚ，ＣＨＨ’Ｐｈ），４．５５（２Ｈ，ｂｒ ｓ，ＮＨ
2），４．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．９Ｈｚ，ＣＨＨ'
Ｐｈ），３．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ，Ｈ−
５’），３．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ，Ｈ−
５’），２．０４（３Ｈ，ｓ，Ａｃ），０．９９（９
Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，３ｘＣＨ3 ＣＨ2），０．６１
（６Ｈ，ｑ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，３ｘＣＨ3ＣＨ2 ）．
（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），７．２６−７．３７（１０Ｈ，
ｍ，２ｘＰｈ），６．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５Ｈ
ｚ，Ｈ−１’），５．７８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．５，
６．０Ｈｚ，Ｈ−２’），５．３４（２Ｈ，ｂｒ ｓ，
ＮＨ2），４．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．４Ｈｚ，Ｃ
ＨＨ’Ｐｈ），４．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，
Ｈ−３’），４．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．４Ｈｚ，
ＣＨＨ’Ｐｈ），４．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．９Ｈ
ｚ，ＣＨＨ’Ｐｈ），４．５５（２Ｈ，ｂｒ ｓ，ＮＨ
2），４．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．９Ｈｚ，ＣＨＨ'
Ｐｈ），３．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ，Ｈ−
５’），３．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ，Ｈ−
５’），２．０４（３Ｈ，ｓ，Ａｃ），０．９９（９
Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，３ｘＣＨ3 ＣＨ2），０．６１
（６Ｈ，ｑ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，３ｘＣＨ3ＣＨ2 ）．
【０１０１】（２）２，６−ｄｉａｍｉｎｏ−９−
（３，５−ｄｉ−Ｏ−ｂｅｎｚｙｌ−４−Ｃ−ｔｒｉｅ
ｔｈｙｌｓｉｌｙｌｅｔｈｙｎｙｌ−β−Ｄ−ｒｉｂｏ
ｆｕｒａｎｏｓｙｌ）ｐｕｒｉｎｅ（化合物２６）の合
成
（３，５−ｄｉ−Ｏ−ｂｅｎｚｙｌ−４−Ｃ−ｔｒｉｅ
ｔｈｙｌｓｉｌｙｌｅｔｈｙｎｙｌ−β−Ｄ−ｒｉｂｏ
ｆｕｒａｎｏｓｙｌ）ｐｕｒｉｎｅ（化合物２６）の合
成
【化２６】 化合物２５（０．８５ｇ，１．３２ｍｍｏｌ）を化合物
２１の合成と同様に処理して、残留物をシリカゲルカラ
ム（１５ｇ）に付し、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン：エタ
ノール（３０：１０：１）で溶出し、化合物２６を０．
７４ｇ（９３％）得た。
２１の合成と同様に処理して、残留物をシリカゲルカラ
ム（１５ｇ）に付し、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン：エタ
ノール（３０：１０：１）で溶出し、化合物２６を０．
７４ｇ（９３％）得た。
【０１０２】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ ７．７０
（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），７．２９−７．４２（１０Ｈ，
ｍ，２ｘＰｈ），６．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈ
ｚ，Ｈ−１’），５．３５（２Ｈ，ｂｒ ｓ，Ｎ
Ｈ2），４．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ，ＣＨ
Ｈ’Ｐｈ），４．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ，
ＣＨＨ'Ｐｈ），４．７３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．８Ｈ
ｚ，Ｈ−２’），４．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．０Ｈ
ｚ，ＣＨＨ’Ｐｈ），４．５５（２Ｈ，ｂｒ ｓ，ＮＨ
2），４．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．０Ｈｚ，ＣＨ
Ｈ’Ｐｈ），４．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，Ｈ
−３’），３．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ，Ｈ
−５’），３．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ，Ｈ
−５’），３．６２（１Ｈ，ｂｒ ｓ，ＯＨ），０．９
９（９Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，３ｘＣＨ3 ＣＨ2），
０．６２（６Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，３ｘＣＨ3Ｃ
Ｈ2 ）．
（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），７．２９−７．４２（１０Ｈ，
ｍ，２ｘＰｈ），６．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈ
ｚ，Ｈ−１’），５．３５（２Ｈ，ｂｒ ｓ，Ｎ
Ｈ2），４．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ，ＣＨ
Ｈ’Ｐｈ），４．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ，
ＣＨＨ'Ｐｈ），４．７３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．８Ｈ
ｚ，Ｈ−２’），４．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．０Ｈ
ｚ，ＣＨＨ’Ｐｈ），４．５５（２Ｈ，ｂｒ ｓ，ＮＨ
2），４．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．０Ｈｚ，ＣＨ
Ｈ’Ｐｈ），４．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，Ｈ
−３’），３．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ，Ｈ
−５’），３．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ，Ｈ
−５’），３．６２（１Ｈ，ｂｒ ｓ，ＯＨ），０．９
９（９Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，３ｘＣＨ3 ＣＨ2），
０．６２（６Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，３ｘＣＨ3Ｃ
Ｈ2 ）．
【０１０３】（３）２，６−ｄｉａｍｉｎｏ−９−
（３，５−ｄｉ−Ｏ−ｂｅｎｚｙｌ−２−ｄｅｏｘｙ−
４−Ｃ−ｔｒｉｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌｅｔｈｙｎｙｌ−
β−Ｄ−ｒｉｂｏｆｕｒａｎｏｓｙｌ）ｐｕｒｉｎｅ
（化合物２７）の合成
（３，５−ｄｉ−Ｏ−ｂｅｎｚｙｌ−２−ｄｅｏｘｙ−
４−Ｃ−ｔｒｉｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌｅｔｈｙｎｙｌ−
β−Ｄ−ｒｉｂｏｆｕｒａｎｏｓｙｌ）ｐｕｒｉｎｅ
（化合物２７）の合成
【化２７】 化合物２６（０．１０３ｇ，０．１７１ｍｍｏｌ）を化
合物２２の合成と同様に処理して、残留物をシリカゲル
カラム（１０ｇ）に付し、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン：
エタノール（３０：１０：１）で溶出し、化合物２７を
０．０５５ｇ（５５％）得た。
合物２２の合成と同様に処理して、残留物をシリカゲル
カラム（１０ｇ）に付し、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン：
エタノール（３０：１０：１）で溶出し、化合物２７を
０．０５５ｇ（５５％）得た。
【０１０４】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ ７．７９
（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），７．２６−７．３７（１０Ｈ，
ｍ，２ｘＰｈ），６．３４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，
５．５Ｈｚ，Ｈ−１’），５．３６（２Ｈ，ｂｒ ｓ，
ＮＨ2），４．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ，Ｃ
ＨＨ’Ｐｈ），４．５６−４．６３（５Ｈ，ｍ，ＣＨ2
Ｐｈ，Ｈ−３’），４．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．７
Ｈｚ，ＣＨＨ'Ｐｈ），３．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１
０．１Ｈｚ，Ｈ−５’），３．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１
０．６Ｈｚ，Ｈ−５’），２．６２−２．７３（２Ｈ，
ｍ，Ｈ−２’），０．９９（９Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈ
ｚ，３ｘＣＨ3 ＣＨ2），０．６２（６Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．
９Ｈｚ，３ｘＣＨ3ＣＨ2 ）．
（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），７．２６−７．３７（１０Ｈ，
ｍ，２ｘＰｈ），６．３４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，
５．５Ｈｚ，Ｈ−１’），５．３６（２Ｈ，ｂｒ ｓ，
ＮＨ2），４．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ，Ｃ
ＨＨ’Ｐｈ），４．５６−４．６３（５Ｈ，ｍ，ＣＨ2
Ｐｈ，Ｈ−３’），４．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．７
Ｈｚ，ＣＨＨ'Ｐｈ），３．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１
０．１Ｈｚ，Ｈ−５’），３．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１
０．６Ｈｚ，Ｈ−５’），２．６２−２．７３（２Ｈ，
ｍ，Ｈ−２’），０．９９（９Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈ
ｚ，３ｘＣＨ3 ＣＨ2），０．６２（６Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．
９Ｈｚ，３ｘＣＨ3ＣＨ2 ）．
【０１０５】（４）２，６−ｄｉａｍｉｎｏ−９−（２
−ｄｅｏｘｙ−４−Ｃ−ｅｔｈｙｎｙｌ−β−Ｄ−ｒｉ
ｂｏｆｕｒａｎｏｓｙｌ）ｐｕｒｉｎｅ（化合物２８）
の合成
−ｄｅｏｘｙ−４−Ｃ−ｅｔｈｙｎｙｌ−β−Ｄ−ｒｉ
ｂｏｆｕｒａｎｏｓｙｌ）ｐｕｒｉｎｅ（化合物２８）
の合成
【化２８】 化合物２７（０．２６３ｇ，０．４５ｍｍｏｌ）のテト
ラヒドロフラン（１０．３ｍｌ）溶液に室温撹拌下１．
０Ｍテトラブチルアンモニウムフロリド（０．５ｍｌ，
０．５ｍｍｏｌ）を加え、同温度にて３０分間撹拌した
後、減圧下溶媒を留去した。残留物をショートシリカゲ
ルカラムに付し、酢酸エチル：エタノール（３０：１）
で溶出し、粗製の脱トリエチルシリル体を０．２１４ｇ
得た。フラスコに上記脱トリエチルシリル体のテトラヒ
ドロフラン（２ｍｌ）溶液と無水エタノール（０．１ｍ
ｌ）を加え、−７８℃下、アンモニアガスを用いて約２
０ｍｌ凝縮させ、アルゴン雰囲気下、金属ナトリウム
（０．０６２ｇ，２．７ｍｍｏｌ）を速やかに加え、同
温度で３０分間撹拌した。塩化アンモニウムを加えた
後、室温下で２時間撹拌し、残留物にエタノ−ルを加
え、不溶物をセライトでろ別した。不溶物をエタノール
で２回洗浄した後、ろ液と洗液を減圧下濃縮し、残留物
をシリカゲルカラム（１３ｇ）に付し、酢酸エチル：メ
タノール（１０：１）で溶出し、化合物２８を０．０９
９ｇ（７６％）得た。
ラヒドロフラン（１０．３ｍｌ）溶液に室温撹拌下１．
０Ｍテトラブチルアンモニウムフロリド（０．５ｍｌ，
０．５ｍｍｏｌ）を加え、同温度にて３０分間撹拌した
後、減圧下溶媒を留去した。残留物をショートシリカゲ
ルカラムに付し、酢酸エチル：エタノール（３０：１）
で溶出し、粗製の脱トリエチルシリル体を０．２１４ｇ
得た。フラスコに上記脱トリエチルシリル体のテトラヒ
ドロフラン（２ｍｌ）溶液と無水エタノール（０．１ｍ
ｌ）を加え、−７８℃下、アンモニアガスを用いて約２
０ｍｌ凝縮させ、アルゴン雰囲気下、金属ナトリウム
（０．０６２ｇ，２．７ｍｍｏｌ）を速やかに加え、同
温度で３０分間撹拌した。塩化アンモニウムを加えた
後、室温下で２時間撹拌し、残留物にエタノ−ルを加
え、不溶物をセライトでろ別した。不溶物をエタノール
で２回洗浄した後、ろ液と洗液を減圧下濃縮し、残留物
をシリカゲルカラム（１３ｇ）に付し、酢酸エチル：メ
タノール（１０：１）で溶出し、化合物２８を０．０９
９ｇ（７６％）得た。
【０１０６】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6） δ ７．
８９（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），６．７１（２Ｈ，ｂｒ
ｓ，ＮＨ2），６．２０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，
Ｈ−１’），５．７４（２Ｈ，ｂｒ ｓ，ＮＨ2），
５．５９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，ＯＨ），５．４
７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，ＯＨ），４．５０（１
Ｈ，ｑ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，Ｈ−３'），３．６５（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．７，５．４Ｈｚ，Ｈ−５’），
３．５６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．７，７．３Ｈｚ，Ｈ
−５’），３．４６（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎｙｌ−
Ｈ），２．６４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１２．７，６．４Ｈ
ｚ，Ｈ−２'），２．３２（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１３．
２，６．４Ｈｚ，Ｈ−２'）．
８９（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），６．７１（２Ｈ，ｂｒ
ｓ，ＮＨ2），６．２０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，
Ｈ−１’），５．７４（２Ｈ，ｂｒ ｓ，ＮＨ2），
５．５９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，ＯＨ），５．４
７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，ＯＨ），４．５０（１
Ｈ，ｑ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，Ｈ−３'），３．６５（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．７，５．４Ｈｚ，Ｈ−５’），
３．５６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．７，７．３Ｈｚ，Ｈ
−５’），３．４６（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎｙｌ−
Ｈ），２．６４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１２．７，６．４Ｈ
ｚ，Ｈ−２'），２．３２（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１３．
２，６．４Ｈｚ，Ｈ−２'）．
【０１０７】合成例７ ２'−ｄｅｏｘｙ−４'−Ｃ−ｅｔｈｙｎｙｌｉｎｏｓｉ
ｎｅ（化合物２９)の合成
ｎｅ（化合物２９)の合成
【化２９】 化合物２３（０．０２２ｇ，０．０８ｍｍｏｌ）のトリ
ス塩酸緩衝液（６ｍｌ，ｐＨ７．５）溶液にアデノシン
デアミナーゼ（０．０４４ｍｌ，２０ｕｎｉｔ）を加
え、４０ーＣ下で２．５時間撹拌した。室温まで冷まし
た後、反応液を逆相ＯＤＳシリカゲルカラム（５０ｇ）
に付し、水（５００ｍｌ）を流して脱塩した後、２．５
％エタノール水溶液を流して化合物２９を溶出させた。
さらに、イソプロパノールにより粉末化を行い、化合物
２９を０．０１６ｇ（７２％）得た。
ス塩酸緩衝液（６ｍｌ，ｐＨ７．５）溶液にアデノシン
デアミナーゼ（０．０４４ｍｌ，２０ｕｎｉｔ）を加
え、４０ーＣ下で２．５時間撹拌した。室温まで冷まし
た後、反応液を逆相ＯＤＳシリカゲルカラム（５０ｇ）
に付し、水（５００ｍｌ）を流して脱塩した後、２．５
％エタノール水溶液を流して化合物２９を溶出させた。
さらに、イソプロパノールにより粉末化を行い、化合物
２９を０．０１６ｇ（７２％）得た。
【０１０８】1Ｈ−ＮＭＲ （ＤＭＳＯ−ｄ6） δ １
２．２８（１Ｈ，ｂｒｓ，ＮＨ），８．２９（１Ｈ，
ｓ，ｐｕｒｉｎｅ−Ｈ），８．０６（１Ｈ，ｓ，ｐｕｒ
ｉｎｅ−Ｈ），６．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．８，
４．９Ｈｚ，Ｈ−１’），５．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
５．４Ｈｚ，ＯＨ），５．３２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．９
Ｈｚ，ＯＨ），４．５６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝６．４，
５．４Ｈｚ，Ｈ−３'），３．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
１２．２，５．９Ｈｚ，Ｈ−５’），３．５７（１Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝１１．７，６．４Ｈｚ，Ｈ−５’），３．５
０（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎｙｌ−Ｈ），２．６６（１
Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１２．２，５．９Ｈｚ，Ｈ−２'），
２．４６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１３．２，６．９Ｈｚ，Ｈ
−２'）．
２．２８（１Ｈ，ｂｒｓ，ＮＨ），８．２９（１Ｈ，
ｓ，ｐｕｒｉｎｅ−Ｈ），８．０６（１Ｈ，ｓ，ｐｕｒ
ｉｎｅ−Ｈ），６．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．８，
４．９Ｈｚ，Ｈ−１’），５．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
５．４Ｈｚ，ＯＨ），５．３２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．９
Ｈｚ，ＯＨ），４．５６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝６．４，
５．４Ｈｚ，Ｈ−３'），３．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
１２．２，５．９Ｈｚ，Ｈ−５’），３．５７（１Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝１１．７，６．４Ｈｚ，Ｈ−５’），３．５
０（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎｙｌ−Ｈ），２．６６（１
Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１２．２，５．９Ｈｚ，Ｈ−２'），
２．４６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１３．２，６．９Ｈｚ，Ｈ
−２'）．
【０１０９】合成例８ ２'−ｄｅｏｘｙ−４'−Ｃ−ｅｔｈｙｎｙｌｇｕａｎｏ
ｓｉｎｅ（化合物３０）の合成
ｓｉｎｅ（化合物３０）の合成
【化３０】 化合物２８（０．０３ｇ，０．１０３ｍｍｏｌ）のトリ
ス塩酸緩衝液（７．８ｍｌ，ｐＨ７．５）溶液にアデノ
シンデアミナーゼ（０．０５７ｍｌ，２０ｕｎｉｔ）を
加え、４０ーＣ下で２時間撹拌した。室温まで冷ました
後、反応液を逆相ＯＤＳシリカゲルカラム（５０ｇ）に
付し、水（５００ｍｌ）を流して脱塩した後、２．５％
エタノール水溶液を流して化合物３０を溶出させた。さ
らに、水より再結晶を行い、化合物３０を０．０１５ｇ
（５０％）得た。
ス塩酸緩衝液（７．８ｍｌ，ｐＨ７．５）溶液にアデノ
シンデアミナーゼ（０．０５７ｍｌ，２０ｕｎｉｔ）を
加え、４０ーＣ下で２時間撹拌した。室温まで冷ました
後、反応液を逆相ＯＤＳシリカゲルカラム（５０ｇ）に
付し、水（５００ｍｌ）を流して脱塩した後、２．５％
エタノール水溶液を流して化合物３０を溶出させた。さ
らに、水より再結晶を行い、化合物３０を０．０１５ｇ
（５０％）得た。
【０１１０】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6） δ １
０．６１（１Ｈ，ｂｒ ｓ，ＮＨ），７．９０（１Ｈ，
ｓ，Ｈ−８），６．４８（２Ｈ，ｂｒ ｓ，ＮＨ2），
６．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．３，５．９Ｈｚ，Ｈ−
１’），５．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，Ｏ
Ｈ），５．３０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，ＯＨ），
４．４７（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝６．４，５．４Ｈｚ，Ｈ−
３'），３．６２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１２．２，６．４
Ｈｚ，Ｈ−５’），３．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１２．
２，６．４Ｈｚ，Ｈ−５’），３．４７（１Ｈ，ｓ，ｅ
ｔｈｙｎｙｌ−Ｈ），２．５６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１
２．２，６．４Ｈｚ，Ｈ−２'），２．３６（１Ｈ，ｄ
ｔ，Ｊ＝１２．７，６．８Ｈｚ，Ｈ−２'）．
０．６１（１Ｈ，ｂｒ ｓ，ＮＨ），７．９０（１Ｈ，
ｓ，Ｈ−８），６．４８（２Ｈ，ｂｒ ｓ，ＮＨ2），
６．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．３，５．９Ｈｚ，Ｈ−
１’），５．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，Ｏ
Ｈ），５．３０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，ＯＨ），
４．４７（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝６．４，５．４Ｈｚ，Ｈ−
３'），３．６２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１２．２，６．４
Ｈｚ，Ｈ−５’），３．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１２．
２，６．４Ｈｚ，Ｈ−５’），３．４７（１Ｈ，ｓ，ｅ
ｔｈｙｎｙｌ−Ｈ），２．５６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１
２．２，６．４Ｈｚ，Ｈ−２'），２．３６（１Ｈ，ｄ
ｔ，Ｊ＝１２．７，６．８Ｈｚ，Ｈ−２'）．
【０１１１】合成例９ 合成例３の（２）のウラシルの代わりにアデニン、グア
ニン、２，６−ジアミノプリンを用いて以下同様に反応
させ〔ただし、（５）のトリアゾールを用いたアミノ化
反応は省略〕、以下の化合物を合成する。 ９−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）アデニン ９−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）グアニン ９−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−２，６−ジアミノプリン
ニン、２，６−ジアミノプリンを用いて以下同様に反応
させ〔ただし、（５）のトリアゾールを用いたアミノ化
反応は省略〕、以下の化合物を合成する。 ９−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）アデニン ９−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）グアニン ９−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビノ−ペントフ
ラノシル）−２，６−ジアミノプリン
【０１１２】合成例１０ （１）２'−Ｏ−ａｃｅｔｙｌ−３'，５'−ｄｉ−Ｏ−
ｂｅｎｚｙｌ−４'−Ｃ−ｔｒｉｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ
ｅｔｈｙｎｙｌ−５−ｆｌｕｏｒｏｕｒｉｄｉｎｅ（化
合物３１）の合成
ｂｅｎｚｙｌ−４'−Ｃ−ｔｒｉｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ
ｅｔｈｙｎｙｌ−５−ｆｌｕｏｒｏｕｒｉｄｉｎｅ（化
合物３１）の合成
【化３１】 化合物 ６（２．００ｇ、３．６２ｍｍｏｌ）を１，２
−ジクロロエタン（６０．０ｍｌ）に溶解し、５−フル
オロウラシル（０．７１ｇ、５．４６ｍｍｏｌ）、Ｎ，
Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド（５．３７
ｍｌ、２１．７ｍｍｏｌ）を加え、１時間加熱環流し
た。反応液を室温に戻した後、トリフルオロメタンスル
ホン酸トリメチルシリル（０．８５ｍｌ、４．７０ｍｍ
ｏｌ）を加え、５０℃で終夜撹拌した。飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液を加え撹拌した後、有機層を無水硫酸マ
グネシウム上で乾燥した。有機層を減圧下留去し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル３
００ｍｌ、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１にて溶
出）により精製し、無色透明アメ状の化合物３１（０．
８０ｇ、１．２８ｍｍｏｌ、３５．４％）を得た。
−ジクロロエタン（６０．０ｍｌ）に溶解し、５−フル
オロウラシル（０．７１ｇ、５．４６ｍｍｏｌ）、Ｎ，
Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド（５．３７
ｍｌ、２１．７ｍｍｏｌ）を加え、１時間加熱環流し
た。反応液を室温に戻した後、トリフルオロメタンスル
ホン酸トリメチルシリル（０．８５ｍｌ、４．７０ｍｍ
ｏｌ）を加え、５０℃で終夜撹拌した。飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液を加え撹拌した後、有機層を無水硫酸マ
グネシウム上で乾燥した。有機層を減圧下留去し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル３
００ｍｌ、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１にて溶
出）により精製し、無色透明アメ状の化合物３１（０．
８０ｇ、１．２８ｍｍｏｌ、３５．４％）を得た。
【０１１３】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ ７．８６
（１Ｈ，ｄ，Ｈ−６，Ｊ6,F＝６．３５），７．３７−
７．２９（１０Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），６．３２
（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−１'，Ｊ＝５．６２，１．４７），
５．１７（１Ｈ，ｔ，Ｈ−２'，Ｊ2 ' ,3 '＝５．６２），
４．７３，４．５５（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，ｂｅｎｚｙ
ｌ，Ｊgem＝１１．７２），４．５５，４．５０（ｅａ
ｃｈ １Ｈ，ｄ，ｂｅｎｚｙｌ，Ｊgem＝１１．７
２），４．３２（１Ｈ，ｄ，Ｈ−３’，Ｊ2 ' ,3 '＝５．
８６），３．８７，３．６３（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，Ｈ
−５’，Ｊgem＝１０．５０），２．０４（３Ｈ，ｓ，
ａｃｅｔｙｌ），０．９６（９Ｈ，ｔ，Ｓｉ−ＣＨ2−
ＣＨ3，Ｊ＝８．０６），０．５９（６Ｈ，Ｓｉ−ＣＨ2
−ＣＨ3，Ｊ＝７．８１）． ＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ：６２３（ＭＨ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（ＭＨ+）：Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ33
Ｈ4 0ＦＮ2Ｏ7Ｓｉ：６２３．２５８９， Ｆｏｕｎｄ：
６２３．２５８９． ［α］D −２３．３°（ｃ＝０．１８，ＣＨＣｌ3）．
（１Ｈ，ｄ，Ｈ−６，Ｊ6,F＝６．３５），７．３７−
７．２９（１０Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），６．３２
（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−１'，Ｊ＝５．６２，１．４７），
５．１７（１Ｈ，ｔ，Ｈ−２'，Ｊ2 ' ,3 '＝５．６２），
４．７３，４．５５（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，ｂｅｎｚｙ
ｌ，Ｊgem＝１１．７２），４．５５，４．５０（ｅａ
ｃｈ １Ｈ，ｄ，ｂｅｎｚｙｌ，Ｊgem＝１１．７
２），４．３２（１Ｈ，ｄ，Ｈ−３’，Ｊ2 ' ,3 '＝５．
８６），３．８７，３．６３（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，Ｈ
−５’，Ｊgem＝１０．５０），２．０４（３Ｈ，ｓ，
ａｃｅｔｙｌ），０．９６（９Ｈ，ｔ，Ｓｉ−ＣＨ2−
ＣＨ3，Ｊ＝８．０６），０．５９（６Ｈ，Ｓｉ−ＣＨ2
−ＣＨ3，Ｊ＝７．８１）． ＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ：６２３（ＭＨ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（ＭＨ+）：Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ33
Ｈ4 0ＦＮ2Ｏ7Ｓｉ：６２３．２５８９， Ｆｏｕｎｄ：
６２３．２５８９． ［α］D −２３．３°（ｃ＝０．１８，ＣＨＣｌ3）．
【０１１４】（２）３'，５'−ｄｉ−Ｏ−ｂｅｎｚｙｌ
−４'−Ｃ−ｔｒｉｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌｅｔｈｙｎｙ
ｌ−５−ｆｌｕｏｒｏｕｒｉｄｉｎｅ（化合物３２）の
合成
−４'−Ｃ−ｔｒｉｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌｅｔｈｙｎｙ
ｌ−５−ｆｌｕｏｒｏｕｒｉｄｉｎｅ（化合物３２）の
合成
【化３２】 化合物 ３１（０．７７ｇ、１．２４ｍｍｏｌ）をメタ
ノール（４５．０ｍｌ）に溶解し、トリエチルアミン
（５．００ｍｌ）を加え、３０℃で４８時間撹拌した。
反応溶液を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（シリカゲル１００ｍｌ、ｎ−ヘキサ
ン：酢酸エチル＝２：１にて溶出）により精製し、白色
粉末状の化合物３２（０．６８ｇ、１．１７ｍｍｏｌ、
９４．４％）を得た。
ノール（４５．０ｍｌ）に溶解し、トリエチルアミン
（５．００ｍｌ）を加え、３０℃で４８時間撹拌した。
反応溶液を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（シリカゲル１００ｍｌ、ｎ−ヘキサ
ン：酢酸エチル＝２：１にて溶出）により精製し、白色
粉末状の化合物３２（０．６８ｇ、１．１７ｍｍｏｌ、
９４．４％）を得た。
【０１１５】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ ８．４２
（１Ｈ，ｂｒ．ｓ，３−ＮＨ），７．８０（１Ｈ，ｄ，
Ｊ6,F＝６．１０），７．３８−７．２９（１０Ｈ，
ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），６．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−
１'，Ｊ＝５．９８，１．４７），５．００，４．６３
（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，ｂｅｎｚｙｌ，Ｊgem＝１１．
２３），４．５８，４．５４（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，ｂ
ｅｎｚｙｌ，Ｊgem＝１０．９９），４．２０（１Ｈ，
ｍ，Ｈ−２’），４．１３（１Ｈ，ｄ，Ｈ−３'，Ｊ2 '
,3 '＝５．８６），３．８８，３．７０（ｅａｃｈ １
Ｈ，ｄ，Ｈ−５'，Ｊgem＝１０．２５），２．９９（１
Ｈ，ｄ，２'−ＯＨ，Ｊ＝９．７７），０．９６（９
Ｈ，ｔ，Ｓｉ−ＣＨ2−ＣＨ3，Ｊ＝８．０６），０．５
８（６Ｈ，Ｓｉ−ＣＨ2−ＣＨ3，Ｊ＝７．８２）． ＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ：５８１（ＭＨ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（ＭＨ+）：Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ31
Ｈ3 8ＦＮ2Ｏ6Ｓｉ：５８１．２４８３， Ｆｏｕｎｄ：
５８１．２４８４． ［α］D −１６．３°（ｃ＝１．０５，ＣＨＣｌ3） ｍ．ｐ． １３８−１３９℃
（１Ｈ，ｂｒ．ｓ，３−ＮＨ），７．８０（１Ｈ，ｄ，
Ｊ6,F＝６．１０），７．３８−７．２９（１０Ｈ，
ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），６．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−
１'，Ｊ＝５．９８，１．４７），５．００，４．６３
（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，ｂｅｎｚｙｌ，Ｊgem＝１１．
２３），４．５８，４．５４（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，ｂ
ｅｎｚｙｌ，Ｊgem＝１０．９９），４．２０（１Ｈ，
ｍ，Ｈ−２’），４．１３（１Ｈ，ｄ，Ｈ−３'，Ｊ2 '
,3 '＝５．８６），３．８８，３．７０（ｅａｃｈ １
Ｈ，ｄ，Ｈ−５'，Ｊgem＝１０．２５），２．９９（１
Ｈ，ｄ，２'−ＯＨ，Ｊ＝９．７７），０．９６（９
Ｈ，ｔ，Ｓｉ−ＣＨ2−ＣＨ3，Ｊ＝８．０６），０．５
８（６Ｈ，Ｓｉ−ＣＨ2−ＣＨ3，Ｊ＝７．８２）． ＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ：５８１（ＭＨ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（ＭＨ+）：Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ31
Ｈ3 8ＦＮ2Ｏ6Ｓｉ：５８１．２４８３， Ｆｏｕｎｄ：
５８１．２４８４． ［α］D −１６．３°（ｃ＝１．０５，ＣＨＣｌ3） ｍ．ｐ． １３８−１３９℃
【０１１６】（３）４'−Ｃ−ｔｒｉｅｔｈｙｌｓｉｌ
ｙｌｅｔｈｙｎｙｌ−５−ｆｌｕｏｒｏｕｒｉｄｉｎｅ
（化合物３３）の合成
ｙｌｅｔｈｙｎｙｌ−５−ｆｌｕｏｒｏｕｒｉｄｉｎｅ
（化合物３３）の合成
【化３３】 化合物 ３２（１．００ｇ、１．７２ｍｍｏｌ）をジク
ロロメタン（５０．０ｍｌ）に溶解し、アルゴン雰囲気
下、−７８℃で１．０Ｍ 三塩化ホウ素ジクロロメタン
溶液（１７．２ｍｌ、１７．２ｍｍｏｌ）を加え、同温
度で３時間撹拌した。−７８℃でピリジン（１０．０ｍ
ｌ）、メタノール（２０．０ｍｌ）混合溶液を加え、３
０分間撹拌した後、反応溶液を減圧下留去した。残渣を
酢酸エチルと水で分配し、有機層を無水硫酸マグネシウ
ム上で乾燥した。反応溶液を減圧下留去し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１５０ｍ
ｌ、クロロホルム：メタノール＝１０：１にて溶出）に
より精製し、白色粉末状の化合物３３（０．６４ｇ、
１．６０ｍｍｏｌ、９３．０％）を得た。
ロロメタン（５０．０ｍｌ）に溶解し、アルゴン雰囲気
下、−７８℃で１．０Ｍ 三塩化ホウ素ジクロロメタン
溶液（１７．２ｍｌ、１７．２ｍｍｏｌ）を加え、同温
度で３時間撹拌した。−７８℃でピリジン（１０．０ｍ
ｌ）、メタノール（２０．０ｍｌ）混合溶液を加え、３
０分間撹拌した後、反応溶液を減圧下留去した。残渣を
酢酸エチルと水で分配し、有機層を無水硫酸マグネシウ
ム上で乾燥した。反応溶液を減圧下留去し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１５０ｍ
ｌ、クロロホルム：メタノール＝１０：１にて溶出）に
より精製し、白色粉末状の化合物３３（０．６４ｇ、
１．６０ｍｍｏｌ、９３．０％）を得た。
【０１１７】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ １１．
９３（１Ｈ，ｄ，３−ＮＨ,Ｊ＝５．１３），８．１３
（１Ｈ，ｄ，Ｈ−６，Ｊ6,F＝７．０８），５．８９
（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−１'，Ｊ＝６．３５，１．９５），
５．７１（１Ｈ，ｔ，５'−ＯＨ，Ｊ＝５．３７），
５．３７，５．２３（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，２'−Ｏ
Ｈ，３'−ＯＨ，Ｊ＝６．３５），４．１２（１Ｈ，
ｑ，Ｈ−２’，Ｊ＝６．３５），４．０５（１Ｈ，ｔ，
Ｈ−３’，Ｊ＝５．６１），３．６１−３．５７（２
Ｈ，ｍ，Ｈ−５’），３．３５（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎ
ｙｌ），０．９５（９Ｈ，ｔ，Ｓｉ−ＣＨ2−ＣＨ3，Ｊ
＝７．８１），０．５５（６Ｈ，Ｓｉ−ＣＨ2−ＣＨ3，
Ｊ＝７．８１）． ＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ：４０１（ＭＨ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（ＭＨ+）：Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ17
Ｈ2 6ＦＮ2Ｏ6Ｓｉ：４０１．１５４４， Ｆｏｕｎｄ：
４０１．１５５０． ［α］D −２．３０°（ｃ＝１．００，ＣＨ3ＯＨ） ｍ．ｐ． １８０−１８３℃
９３（１Ｈ，ｄ，３−ＮＨ,Ｊ＝５．１３），８．１３
（１Ｈ，ｄ，Ｈ−６，Ｊ6,F＝７．０８），５．８９
（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−１'，Ｊ＝６．３５，１．９５），
５．７１（１Ｈ，ｔ，５'−ＯＨ，Ｊ＝５．３７），
５．３７，５．２３（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，２'−Ｏ
Ｈ，３'−ＯＨ，Ｊ＝６．３５），４．１２（１Ｈ，
ｑ，Ｈ−２’，Ｊ＝６．３５），４．０５（１Ｈ，ｔ，
Ｈ−３’，Ｊ＝５．６１），３．６１−３．５７（２
Ｈ，ｍ，Ｈ−５’），３．３５（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎ
ｙｌ），０．９５（９Ｈ，ｔ，Ｓｉ−ＣＨ2−ＣＨ3，Ｊ
＝７．８１），０．５５（６Ｈ，Ｓｉ−ＣＨ2−ＣＨ3，
Ｊ＝７．８１）． ＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ：４０１（ＭＨ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（ＭＨ+）：Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ17
Ｈ2 6ＦＮ2Ｏ6Ｓｉ：４０１．１５４４， Ｆｏｕｎｄ：
４０１．１５５０． ［α］D −２．３０°（ｃ＝１．００，ＣＨ3ＯＨ） ｍ．ｐ． １８０−１８３℃
【０１１８】（４）３'，５'−ｄｉ−Ｏ−ａｃｅｔｙｌ
−２'−ｄｅｏｘｙ−４'−Ｃ−ｔｒｉｅｔｈｙｌｓｉｌ
ｙｌｅｔｈｙｎｙｌ−５−ｆｌｕｏｒｏｕｒｉｄｉｎｅ
（化合物３４）の合成
−２'−ｄｅｏｘｙ−４'−Ｃ−ｔｒｉｅｔｈｙｌｓｉｌ
ｙｌｅｔｈｙｎｙｌ−５−ｆｌｕｏｒｏｕｒｉｄｉｎｅ
（化合物３４）の合成
【化３４】 化合物 ３３（０．５４ｇ、１．３５ｍｍｏｌ）をアセ
トニトリル（３０．０ｍｌ）に懸濁し、８５℃で、臭化
アセチル（１．００ｍｌ、１３．５ｍｍｏｌ）アセトニ
トリル溶液（２０．０ｍｌ）を１時間かけて滴下し、さ
らに３時間加熱環流した。反応溶液を減圧下留去した
後、残渣を酢酸エチルに溶解し、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機
層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥した後、減圧下留去
し、粗製の３'，５'−ｄｉ−Ｏ−ａｃｅｔｙｌ−２'−
ｂｒｏｍｏ−２'−ｄｅｏｘｙ−４'−Ｃ−ｔｒｉｅｔｈ
ｙｌｓｉｌｙｌｅｔｈｙｎｙｌ−５−ｆｌｕｏｒｏｕｒ
ｉｄｉｎｅ ３４を得た。粗精製の化合物３４を乾燥ト
ルエンで３回共沸した後、乾燥トルエン（２０．０ｍ
ｌ）に溶解し、８５℃で水素化トリｎ−ブチルスズ
（０．７５ｍｌ、２．９１ｍｍｏｌ）、２，２'−アゾ
ビス（イソブチロニトリル）（０．０１ｇ）を加え、ア
ルゴン雰囲気下、３０分間加熱撹拌した。反応溶液を減
圧下留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（シリカゲル２００ｍｌ、ｎ−ヘキサン：酢酸エ
チル＝２：１にて溶出）により精製し、白色粉末状の化
合物３５（０．４１ｇ、０．８８ｍｍｏｌ、６５．２
％）を得た。
トニトリル（３０．０ｍｌ）に懸濁し、８５℃で、臭化
アセチル（１．００ｍｌ、１３．５ｍｍｏｌ）アセトニ
トリル溶液（２０．０ｍｌ）を１時間かけて滴下し、さ
らに３時間加熱環流した。反応溶液を減圧下留去した
後、残渣を酢酸エチルに溶解し、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機
層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥した後、減圧下留去
し、粗製の３'，５'−ｄｉ−Ｏ−ａｃｅｔｙｌ−２'−
ｂｒｏｍｏ−２'−ｄｅｏｘｙ−４'−Ｃ−ｔｒｉｅｔｈ
ｙｌｓｉｌｙｌｅｔｈｙｎｙｌ−５−ｆｌｕｏｒｏｕｒ
ｉｄｉｎｅ ３４を得た。粗精製の化合物３４を乾燥ト
ルエンで３回共沸した後、乾燥トルエン（２０．０ｍ
ｌ）に溶解し、８５℃で水素化トリｎ−ブチルスズ
（０．７５ｍｌ、２．９１ｍｍｏｌ）、２，２'−アゾ
ビス（イソブチロニトリル）（０．０１ｇ）を加え、ア
ルゴン雰囲気下、３０分間加熱撹拌した。反応溶液を減
圧下留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（シリカゲル２００ｍｌ、ｎ−ヘキサン：酢酸エ
チル＝２：１にて溶出）により精製し、白色粉末状の化
合物３５（０．４１ｇ、０．８８ｍｍｏｌ、６５．２
％）を得た。
【０１１９】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ ９．２３
（１Ｈ，ｂｒ．ｓ，３−ＮＨ），７．７０（１Ｈ，ｄ，
Ｈ−６，Ｊ6,F＝６．１０），６．３５（１Ｈ，ｔ，Ｈ
−１’，Ｊ1',2'＝７．０８），５．３６（１Ｈ，ｔ，
Ｈ−３'，Ｊ2 ' ,3 '＝７．５７），４．４３，４．３９
（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，Ｈ−５'，Ｊgem＝１２．２
１），２．６５，２．３３（ｅａｃｈ １Ｈ，ｍ，Ｈ−
２'），２．１７，２．１３（ｅａｃｈ ３Ｈ，ｓ，ａ
ｃｅｔｙｌ），１．００（９Ｈ，ｔ，Ｓｉ−ＣＨ2−Ｃ
Ｈ3，Ｊ＝７．８２），０．６３（６Ｈ，Ｓｉ−ＣＨ2−
ＣＨ3，Ｊ＝７．８２）． ＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ：４６９（ＭＨ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（ＭＨ+）：Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ21
Ｈ3 0ＦＮ2Ｏ7Ｓｉ：４６９．１８０６， Ｆｏｕｎｄ：
４６９．１８１０． ［α］D −１２．９°（ｃ＝１．００，ＣＨＣｌ3） ｍ．ｐ． １１１−１１２℃
（１Ｈ，ｂｒ．ｓ，３−ＮＨ），７．７０（１Ｈ，ｄ，
Ｈ−６，Ｊ6,F＝６．１０），６．３５（１Ｈ，ｔ，Ｈ
−１’，Ｊ1',2'＝７．０８），５．３６（１Ｈ，ｔ，
Ｈ−３'，Ｊ2 ' ,3 '＝７．５７），４．４３，４．３９
（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，Ｈ−５'，Ｊgem＝１２．２
１），２．６５，２．３３（ｅａｃｈ １Ｈ，ｍ，Ｈ−
２'），２．１７，２．１３（ｅａｃｈ ３Ｈ，ｓ，ａ
ｃｅｔｙｌ），１．００（９Ｈ，ｔ，Ｓｉ−ＣＨ2−Ｃ
Ｈ3，Ｊ＝７．８２），０．６３（６Ｈ，Ｓｉ−ＣＨ2−
ＣＨ3，Ｊ＝７．８２）． ＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ：４６９（ＭＨ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（ＭＨ+）：Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ21
Ｈ3 0ＦＮ2Ｏ7Ｓｉ：４６９．１８０６， Ｆｏｕｎｄ：
４６９．１８１０． ［α］D −１２．９°（ｃ＝１．００，ＣＨＣｌ3） ｍ．ｐ． １１１−１１２℃
【０１２０】（５）４'−Ｃ−ｅｔｈｙｎｙｌ−２'−ｄ
ｅｏｘｙ−５−ｆｌｕｏｒｏｃｙｔｉｄｉｎｅ（化合物
３７）の合成
ｅｏｘｙ−５−ｆｌｕｏｒｏｃｙｔｉｄｉｎｅ（化合物
３７）の合成
【化３５】 化合物 ３５（０．３５ｇ、０．７５ｍｍｏｌ）をピリ
ジン（５．００ｍｌ）に溶解し、氷冷下、ｐ−クロロフ
ェニルホスホロジクロリダート（０．６２ｍｌ、３．７
７ｍｍｏｌ）を加え、５分間撹拌後、１，２，４−トリ
アゾール（０．７８ｇ、１１．３ｍｍｏｌ）を加え、３
０℃で２４時間撹拌した。反応溶液を減圧下留去し、残
渣を酢酸エチルと水で分配、有機層を無水硫酸マグネシ
ウム上で乾燥した。有機層を減圧下留去し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｍ
ｌ、酢酸エチルにて溶出）により精製し、無色透明アメ
状の４'−Ｃ−ｔｒｉｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌｅｔｈｙｎ
ｙｌ−２'−ｄｅｏｘｙ−５−ｆｌｕｏｒｏ−４−
（１，２，４−ｔｒｉａｚｏｌｏ）ｕｒｉｄｉｎｅ ３
６を得た。化合物３６をジオキサン（１５．０ｍｌ）に
溶解し、２５％アンモニア水（５．００ｍｌ）を加え、
室温で終夜撹拌した。シリカゲル薄層クロマトグラフィ
ー上（クロロホルム：メタノール＝１０：１）で化合物
３６が消失したのを確認した後、反応溶液を減圧下留去
した。残渣をメタノール（４５．０ｍｌ）に溶解し、１
Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（５．００ｍｌ、５．００ｍ
ｍｏｌ）を加え、室温で２４時間撹拌した。酢酸（０．
２９ｍｌ、５．００ｍｍｏｌ）を加え、反応溶液を減圧
下留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（シリカゲル５０ｍｌ、クロロホルム：エタノール
＝４：１にて溶出）により精製した。化合物３７を含む
分画を減圧下乾固し、残渣をメタノール−エーテルから
結晶化し、白色結晶状の化合物３７（０．１２ｇ、０．
４５ｍｍｏｌ、６０．０％）を得た。
ジン（５．００ｍｌ）に溶解し、氷冷下、ｐ−クロロフ
ェニルホスホロジクロリダート（０．６２ｍｌ、３．７
７ｍｍｏｌ）を加え、５分間撹拌後、１，２，４−トリ
アゾール（０．７８ｇ、１１．３ｍｍｏｌ）を加え、３
０℃で２４時間撹拌した。反応溶液を減圧下留去し、残
渣を酢酸エチルと水で分配、有機層を無水硫酸マグネシ
ウム上で乾燥した。有機層を減圧下留去し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｍ
ｌ、酢酸エチルにて溶出）により精製し、無色透明アメ
状の４'−Ｃ−ｔｒｉｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌｅｔｈｙｎ
ｙｌ−２'−ｄｅｏｘｙ−５−ｆｌｕｏｒｏ−４−
（１，２，４−ｔｒｉａｚｏｌｏ）ｕｒｉｄｉｎｅ ３
６を得た。化合物３６をジオキサン（１５．０ｍｌ）に
溶解し、２５％アンモニア水（５．００ｍｌ）を加え、
室温で終夜撹拌した。シリカゲル薄層クロマトグラフィ
ー上（クロロホルム：メタノール＝１０：１）で化合物
３６が消失したのを確認した後、反応溶液を減圧下留去
した。残渣をメタノール（４５．０ｍｌ）に溶解し、１
Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（５．００ｍｌ、５．００ｍ
ｍｏｌ）を加え、室温で２４時間撹拌した。酢酸（０．
２９ｍｌ、５．００ｍｍｏｌ）を加え、反応溶液を減圧
下留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（シリカゲル５０ｍｌ、クロロホルム：エタノール
＝４：１にて溶出）により精製した。化合物３７を含む
分画を減圧下乾固し、残渣をメタノール−エーテルから
結晶化し、白色結晶状の化合物３７（０．１２ｇ、０．
４５ｍｍｏｌ、６０．０％）を得た。
【０１２１】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ ８．０
６（１Ｈ，ｄ，Ｈ−６，Ｊ6,F＝７．０８），７．７
９，７．５４（ｅａｃｈ １Ｈ，ｂｒ．ｓ，ＮＨ2），
６．０５（１Ｈ，ｍ，Ｈ−１'），５．５７，５．５０
（ｅａｃｈ １Ｈ，ｂｒ，３'−ＯＨ，５'−ＯＨ），
４．３１（１Ｈ，ｂｒ．ｑ，Ｈ−３’），３．６６，
３．６０（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，Ｈ−５’Ｊgem＝１
１．７２），３．５１（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎｙｌ），
２．２５，２．１２（ｅａｃｈ １Ｈ，ｍ，Ｈ−２'） ［α］D ＋７７．９°（ｃ＝１．００，ＣＨ3ＯＨ） ＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ：２７０（ＭＨ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（ＭＨ+）：Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ11
Ｈ1 3ＦＮ3Ｏ4：２７０．０８９０， Ｆｏｕｎｄ：２７
０．０８８８． ｍ．ｐ． 〜２２５℃ （Ｄｅｃ）
６（１Ｈ，ｄ，Ｈ−６，Ｊ6,F＝７．０８），７．７
９，７．５４（ｅａｃｈ １Ｈ，ｂｒ．ｓ，ＮＨ2），
６．０５（１Ｈ，ｍ，Ｈ−１'），５．５７，５．５０
（ｅａｃｈ １Ｈ，ｂｒ，３'−ＯＨ，５'−ＯＨ），
４．３１（１Ｈ，ｂｒ．ｑ，Ｈ−３’），３．６６，
３．６０（ｅａｃｈ １Ｈ，ｄ，Ｈ−５’Ｊgem＝１
１．７２），３．５１（１Ｈ，ｓ，ｅｔｈｙｎｙｌ），
２．２５，２．１２（ｅａｃｈ １Ｈ，ｍ，Ｈ−２'） ［α］D ＋７７．９°（ｃ＝１．００，ＣＨ3ＯＨ） ＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ：２７０（ＭＨ+）． ＨＲＭＳ ｍ／ｚ（ＭＨ+）：Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ11
Ｈ1 3ＦＮ3Ｏ4：２７０．０８９０， Ｆｏｕｎｄ：２７
０．０８８８． ｍ．ｐ． 〜２２５℃ （Ｄｅｃ）
【０１２２】製剤例１：錠剤 本発明化合物 ３０．０ｍｇ 微粉末セルロース ２５．０ｍｇ 乳糖 ３９．５ｍｇ スターチ ４０．０ｍｇ タルク ５．０ｍｇ ステアリン酸マグネシウム ０．５ｍｇ 上記組成から常法によって錠剤を調製する。
【０１２３】製剤例２：カプセル剤 本発明化合物 ３０．０ｍｇ 乳糖 ４０．０ｍｇ スターチ １５．０ｍｇ タルク ５．０ｍｇ 上記組成から常法によってカプセル剤を調製する。
【０１２４】製剤例３：注射剤 本発明化合物 ３０．０ｍｇ グルコース １００．０ｍｇ 上記組成を注射用精製水に溶解して注射剤を調製する。
【０１２５】以下に試験例を示す。試験においては薬剤
として以下の７つの本発明化合物と２つの公知化合物を
使用した。 本発明化合物： 化合物１３：４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシシチ
ジン 化合物１９：１−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビ
ノ−ペントフラノシル）シトシン 化合物２３：９−（２−デオキシ−４−Ｃ−エチニル−
β−Ｄ−リボ−ペントフラノシル）アデニン〔４’−Ｃ
−エチニル−２’−デオキシアデノシン〕 化合物２８：９−（２−デオキシ−４−Ｃ−エチニル−
β−Ｄ−リボ−ペントフラノシル）−２，６−ジアミノ
プリン 化合物２９：９−（２−デオキシ−４−Ｃ−エチニル−
β−Ｄ−リボ−ペントフラノシル）ヒポキサンチン
〔４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシイノシン〕 化合物３０：９−（２−デオキシ−４−Ｃ−エチニル−
β−Ｄ−リボ−ペントフラノシル）グアニン〔４’−Ｃ
−エチニル−２’−デオキシグアノシン〕 化合物３７：４’−Ｃ−エチニル−２'−デオキシ−５
−フルオロシチジン公知化合物： ４’−Ｃ−エチニルチミジン ＡＺＴ
として以下の７つの本発明化合物と２つの公知化合物を
使用した。 本発明化合物： 化合物１３：４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシシチ
ジン 化合物１９：１−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラビ
ノ−ペントフラノシル）シトシン 化合物２３：９−（２−デオキシ−４−Ｃ−エチニル−
β−Ｄ−リボ−ペントフラノシル）アデニン〔４’−Ｃ
−エチニル−２’−デオキシアデノシン〕 化合物２８：９−（２−デオキシ−４−Ｃ−エチニル−
β−Ｄ−リボ−ペントフラノシル）−２，６−ジアミノ
プリン 化合物２９：９−（２−デオキシ−４−Ｃ−エチニル−
β−Ｄ−リボ−ペントフラノシル）ヒポキサンチン
〔４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシイノシン〕 化合物３０：９−（２−デオキシ−４−Ｃ−エチニル−
β−Ｄ−リボ−ペントフラノシル）グアニン〔４’−Ｃ
−エチニル−２’−デオキシグアノシン〕 化合物３７：４’−Ｃ−エチニル−２'−デオキシ−５
−フルオロシチジン公知化合物： ４’−Ｃ−エチニルチミジン ＡＺＴ
【０１２６】試験例 ＜方法＞ （１）抗ＨＳＶ１活性 １．ヒト胎児肺由来線維芽細胞を１０％準胎児牛血清
（三菱化学）含有イ−グルＭＥＭで４〜５日毎に１:２
〜４スプリット継代培養する。 ２．親細胞から１:２スプリットで得た細胞懸濁液を200
μl/ウエルの割合で 96穴マイクロプレ−トに播種し、
炭酸ガスインキュベ−タ−内で、37℃, ４日間培養す
る。 ３．培養液を捨て、各ウエルが所定の被験薬剤濃度にな
るように、各薬剤の最大試験濃度の２倍濃度の被験薬剤
を含むＭＥＭハンクスを用いて96穴マイクロプレ−ト上
で段階希釈する。 ４．100〜320ＴＣＩＤ50の１型単純ヘルペスウイルス
（ＨＳＶ-１）ＶＲ-３株を含む５％準胎児牛血清含有イ
−グルＭＥＭを100μl/ウエル加え、ウイルスを接種
し、炭酸ガスインキュベ−タ−内にて37℃で培養する。 ５．２〜３日間培養後、被験薬剤を含まない対照がウイ
ルス感染により完全に細胞変性を起こした時点で（ＣＰ
Ｅスコア＝４)、顕微鏡下で各ウエルのＣＰＥの程度を
観察し、スコア（０〜４）をつける。 ６．ＣＰＥを50％以上阻止（ＣＰＥスコア２以下）する
被験薬剤の最小濃度を最小有効濃度（ＥＤ50）とする。
（三菱化学）含有イ−グルＭＥＭで４〜５日毎に１:２
〜４スプリット継代培養する。 ２．親細胞から１:２スプリットで得た細胞懸濁液を200
μl/ウエルの割合で 96穴マイクロプレ−トに播種し、
炭酸ガスインキュベ−タ−内で、37℃, ４日間培養す
る。 ３．培養液を捨て、各ウエルが所定の被験薬剤濃度にな
るように、各薬剤の最大試験濃度の２倍濃度の被験薬剤
を含むＭＥＭハンクスを用いて96穴マイクロプレ−ト上
で段階希釈する。 ４．100〜320ＴＣＩＤ50の１型単純ヘルペスウイルス
（ＨＳＶ-１）ＶＲ-３株を含む５％準胎児牛血清含有イ
−グルＭＥＭを100μl/ウエル加え、ウイルスを接種
し、炭酸ガスインキュベ−タ−内にて37℃で培養する。 ５．２〜３日間培養後、被験薬剤を含まない対照がウイ
ルス感染により完全に細胞変性を起こした時点で（ＣＰ
Ｅスコア＝４)、顕微鏡下で各ウエルのＣＰＥの程度を
観察し、スコア（０〜４）をつける。 ６．ＣＰＥを50％以上阻止（ＣＰＥスコア２以下）する
被験薬剤の最小濃度を最小有効濃度（ＥＤ50）とする。
【０１２７】（２）ヒト免疫不全ウイルス（ＨＩＶ）活
性 １）ＭＴ−４細胞を用いたＭＴＴ法 １．９６ウエルプレートを用いて被験薬剤を希釈する
（１００μｌ）。ここに１ウエルあたり１００００個に
なるようにＨＩＶ−１（IIIb strain；１００ ＴＣＩＤ
50）感染および非感染ＭＴ−４細胞を加えて、３７℃で
５日間培養する。 ２．ＭＴＴ（２０μｌ、７．５ｍｇ／ｍｌ）を加えてさ
らに２〜３時間培養する。 ３．培養終了後、１２０μｌをとり、ＭＴＴ停止液（Ｔ
ｒｉｔｏｎ Ｘ−１００ ４％、ＨＣｌ ０．０４Ｎを加
えたイソプロパノール（Isopropanol））を加え、撹拌
して生成したホルマザン（formazam）を溶解し、５４０
ｎｍにおける吸光度を測定する。この測定値は生細胞数
に比例するため、感染ＭＴ−４細胞を用いた試験の測定
値が５０％になった被験薬剤の濃度をＥＣ50、また非感
染ＭＴ−４細胞を用いた試験の測定値が５０％になった
被験薬剤の濃度をＣＣ50とする。
性 １）ＭＴ−４細胞を用いたＭＴＴ法 １．９６ウエルプレートを用いて被験薬剤を希釈する
（１００μｌ）。ここに１ウエルあたり１００００個に
なるようにＨＩＶ−１（IIIb strain；１００ ＴＣＩＤ
50）感染および非感染ＭＴ−４細胞を加えて、３７℃で
５日間培養する。 ２．ＭＴＴ（２０μｌ、７．５ｍｇ／ｍｌ）を加えてさ
らに２〜３時間培養する。 ３．培養終了後、１２０μｌをとり、ＭＴＴ停止液（Ｔ
ｒｉｔｏｎ Ｘ−１００ ４％、ＨＣｌ ０．０４Ｎを加
えたイソプロパノール（Isopropanol））を加え、撹拌
して生成したホルマザン（formazam）を溶解し、５４０
ｎｍにおける吸光度を測定する。この測定値は生細胞数
に比例するため、感染ＭＴ−４細胞を用いた試験の測定
値が５０％になった被験薬剤の濃度をＥＣ50、また非感
染ＭＴ−４細胞を用いた試験の測定値が５０％になった
被験薬剤の濃度をＣＣ50とする。
【０１２８】２）HeLa CD4/LTR-beta-Gal細胞を用いた
ＭＡＧＩアッセイ １．HeLa CD4/LTR-beta-Gal細胞を１ウエルあたり１０
０００個の割合で９６ウエルに加える。１２〜２４時間
後に培養液を捨て、希釈した被験薬剤（１００μｌを加
える。 ２．各種ＨＩＶ株（野生株：ＷＴ、耐性株：ＭＤＲ、Ｍ
１８４Ｖ、ＮＬ４−３、１０４ｐｒｅ及びＣ；各５０
ＴＣＩＤ50相当）を加えて４８時間培養する。 ３．培養終了後、１％ホルムアルデヒド（formaldehyd
e）、０．２％ グルタールアルデヒド（glutaraldehyd
e）を加えたＰＢＳで細胞を５分間固定する。 ４．ＰＢＳで３回洗浄後、０．４ｍｇ／ｍｌ Ｘ−Ｇａ
ｌで１時間染色し、青く染色された細胞の数を透過型実
体顕微鏡下で各ウエルのプラーク数を数え、青染された
細胞を５０％減少させる被験薬剤の濃度をＥＣ50、９０
％減少させる被薬剤の濃度をＥＣ90とする。 ５．細胞毒性は、ウイルスに非感染のHeLa CD4/LTR-bet
a-Gal細胞を用いてＭＴＴ法と同様に測定する。
ＭＡＧＩアッセイ １．HeLa CD4/LTR-beta-Gal細胞を１ウエルあたり１０
０００個の割合で９６ウエルに加える。１２〜２４時間
後に培養液を捨て、希釈した被験薬剤（１００μｌを加
える。 ２．各種ＨＩＶ株（野生株：ＷＴ、耐性株：ＭＤＲ、Ｍ
１８４Ｖ、ＮＬ４−３、１０４ｐｒｅ及びＣ；各５０
ＴＣＩＤ50相当）を加えて４８時間培養する。 ３．培養終了後、１％ホルムアルデヒド（formaldehyd
e）、０．２％ グルタールアルデヒド（glutaraldehyd
e）を加えたＰＢＳで細胞を５分間固定する。 ４．ＰＢＳで３回洗浄後、０．４ｍｇ／ｍｌ Ｘ−Ｇａ
ｌで１時間染色し、青く染色された細胞の数を透過型実
体顕微鏡下で各ウエルのプラーク数を数え、青染された
細胞を５０％減少させる被験薬剤の濃度をＥＣ50、９０
％減少させる被薬剤の濃度をＥＣ90とする。 ５．細胞毒性は、ウイルスに非感染のHeLa CD4/LTR-bet
a-Gal細胞を用いてＭＴＴ法と同様に測定する。
【０１２９】＜結果＞（１）抗ＨＳＶ−１活性
【表１】
【０１３０】（２）ヒト免疫不全ウイルス（ＨＩＶ）活
性および細胞毒性 表２〜表７は２〜５回の測定値の平均を示したものであ
る。 ＭＴ−４細胞を用いたＭＴＴ法
性および細胞毒性 表２〜表７は２〜５回の測定値の平均を示したものであ
る。 ＭＴ−４細胞を用いたＭＴＴ法
【表２】
【表３】
【表４】
【０１３１】HeLa CD4/LTR-beta-Gal細胞を用いたＭ
ＡＧＩアッセイ
ＡＧＩアッセイ
【表５】
【表６】
【表７】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｈ 19/073 Ｃ０７Ｈ 19/073 19/10 19/10 // Ａ６１Ｋ 31/7076 Ａ６１Ｋ 31/7076 31/708 31/708 Ｃ０７Ｈ 19/173 Ｃ０７Ｈ 19/173 19/19 19/19 (31)優先権主張番号 特願2000−81117(P2000−81117) (32)優先日 平成12年３月23日(2000．3．23) (33)優先権主張国 日本（ＪＰ） (72)発明者 満屋 裕明 熊本県熊本市島崎１丁目23−１−601 (72)発明者 町田 治彦 千葉県銚子市栄町２−２−２ Ｆターム(参考） 4C057 BB02 CC03 DD01 EE01 FF02 HH03 JJ20 LL08 LL17 LL20 LL27 LL29 LL43 NN10 4C086 AA01 AA02 AA03 DA45 EA16 EA17 EA18 MA01 MA04 NA14 ZB33 ZC55
Claims (16)
- 【請求項１】 式［Ｉ］で表される４’−Ｃ−エチニル
ピリミジンヌクレオシド（ただし、４’−Ｃ−エチニル
チミジンを除く）。 【化１】 [Ｉ] （式中、Ｂは、ピリミジンもしくはその誘導体からなる
群より選ばれた塩基を示し、Ｘは水素原子または水酸基
を示し、Ｒは水素原子またはリン酸残基を示す。） - 【請求項２】 Ｘが水素原子である、請求項１記載の化
合物。 - 【請求項３】 Ｘが水酸基である、請求項１記載の化合
物。 - 【請求項４】 Ｂがシトシンまたはその誘導体である、
請求項１記載の化合物。 - 【請求項５】 Ｂがシトシンまたはその誘導体であり、
Ｘが水素原子である、請求項１記載の化合物。 - 【請求項６】 Ｂがシトシンまたはその誘導体であり、
Ｘが水酸基である、請求項１記載の化合物。 - 【請求項７】 ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシシ
チジンである、請求項１記載の化合物。 - 【請求項８】 ４’−Ｃ−エチニル−２’−デオキシ−
５−フルオロシチジンである、請求項１記載の化合物。 - 【請求項９】 １−（４−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−アラ
ビノ−ペントフラノシル）シトシンである、請求項１記
載の化合物。 - 【請求項１０】 請求項１〜９のいずれか１項に記載の
４’−Ｃ−エチニルピリミジンヌクレオシドと薬学的に
許容される担体とを含有してなる医薬組成物。 - 【請求項１１】 抗ＨＩＶ剤である、請求項１０記載の
医薬組成物。 - 【請求項１２】 エイズ治療薬である、請求項１０記載
の医薬組成物。 - 【請求項１３】 請求項１〜９のいずれか１項に記載の
４’−Ｃ−エチニルピリミジンヌクレオシドの医薬とし
ての使用。 - 【請求項１４】 医薬が、抗ＨＩＶ剤である請求項１３
記載の使用。 - 【請求項１５】 医薬が、エイズ治療薬である請求項１
３記載の使用。 - 【請求項１６】 請求項１〜９のいずれか１項に記載の
４’−Ｃ−エチニルピリミジンヌクレオシドをヒトを含
む動物に投与することを特徴とするエイズの治療方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000137975A JP4039790B2 (ja) | 1999-05-12 | 2000-05-11 | ４’−ｃ−エチニルピリミジンヌクレオシド化合物 |
Applications Claiming Priority (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13153999 | 1999-05-12 | ||
| JP17492099 | 1999-06-22 | ||
| JP31824699 | 1999-11-09 | ||
| JP11-318246 | 2000-03-23 | ||
| JP2000081117 | 2000-03-23 | ||
| JP11-174920 | 2000-03-23 | ||
| JP2000-81117 | 2000-03-23 | ||
| JP11-131539 | 2000-03-23 | ||
| JP2000137975A JP4039790B2 (ja) | 1999-05-12 | 2000-05-11 | ４’−ｃ−エチニルピリミジンヌクレオシド化合物 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001335593A true JP2001335593A (ja) | 2001-12-04 |
| JP2001335593A5 JP2001335593A5 (ja) | 2007-08-30 |
| JP4039790B2 JP4039790B2 (ja) | 2008-01-30 |
Family
ID=27527274
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000137975A Expired - Lifetime JP4039790B2 (ja) | 1999-05-12 | 2000-05-11 | ４’−ｃ−エチニルピリミジンヌクレオシド化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4039790B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008510748A (ja) * | 2004-08-23 | 2008-04-10 | エフ．ホフマン−ラ ロシュ アーゲー | 抗ウイルス４’−アジド−ヌクレオシド |
| WO2018092728A1 (ja) | 2016-11-16 | 2018-05-24 | 国立研究開発法人国立国際医療研究センター | 抗ウイルス活性等の生理活性を有するヌクレオシド誘導体 |
| WO2020032152A1 (ja) * | 2018-08-09 | 2020-02-13 | ヤマサ醤油株式会社 | ４'－置換ヌクレオシド誘導体の立体選択的合成法 |
| WO2020204022A1 (ja) * | 2019-04-05 | 2020-10-08 | 株式会社日本触媒 | 架橋型人工ヌクレオシドの製造 |
-
2000
- 2000-05-11 JP JP2000137975A patent/JP4039790B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008510748A (ja) * | 2004-08-23 | 2008-04-10 | エフ．ホフマン−ラ ロシュ アーゲー | 抗ウイルス４’−アジド−ヌクレオシド |
| WO2018092728A1 (ja) | 2016-11-16 | 2018-05-24 | 国立研究開発法人国立国際医療研究センター | 抗ウイルス活性等の生理活性を有するヌクレオシド誘導体 |
| US10933067B2 (en) | 2016-11-16 | 2021-03-02 | National Center For Global Health And Medicine | Nucleoside derivative having physiological activity such as antiviral activity |
| WO2020032152A1 (ja) * | 2018-08-09 | 2020-02-13 | ヤマサ醤油株式会社 | ４'－置換ヌクレオシド誘導体の立体選択的合成法 |
| JPWO2020032152A1 (ja) * | 2018-08-09 | 2021-08-10 | ヤマサ醤油株式会社 | ４’−置換ヌクレオシド誘導体の立体選択的合成法 |
| JP7025064B2 (ja) | 2018-08-09 | 2022-02-24 | ヤマサ醤油株式会社 | ４’－置換ヌクレオシド誘導体の立体選択的合成法 |
| WO2020204022A1 (ja) * | 2019-04-05 | 2020-10-08 | 株式会社日本触媒 | 架橋型人工ヌクレオシドの製造 |
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|---|---|
| JP4039790B2 (ja) | 2008-01-30 |
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