JP2001330730A - 光学異方体フィルムおよび液晶表示装置 - Google Patents
光学異方体フィルムおよび液晶表示装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】レターデーションの波長分散の高く、耐光性に
優れた光学異方体フィルムおよび該光学異方体フィルム
を用いた、良好な白黒表示が得られ、視野角依存性の小
さい液晶表示装置を提供する。 【解決手段】［１］高分子と、少なくとも１種以上の可
視域に吸収ピークを持たず、紫外線領域に吸収を持つ化
合物と、ヒンダードアミン系化合物または有機ニッケル
系化合物とをを含む光学異方体フィルムであり、該光学
異方体フィルムのレターデーション（測定波長５４６ｎ
ｍ）が５０〜３０００ｎｍであり、該光学異方体フィル
ムの下記数式（１）で定義されるαの値が１．０７以上
であることを特徴とする光学異方体フィルム。 【数１】α＝ＲF／ＲD・・・（１） ［式中、ＲFは水素Ｆ線（波長４８６ｎｍ）に相当する
波長で測定したレタ−デ−ションの値であり、ＲDはナ
トリウムＤ線（波長５８９ｎｍ）に相当する波長で測定
したレタ−デ−ションの値である。］ ［２］前記［１］に記載の光学異方体フィルムを用いる
液晶表示装置。
優れた光学異方体フィルムおよび該光学異方体フィルム
を用いた、良好な白黒表示が得られ、視野角依存性の小
さい液晶表示装置を提供する。 【解決手段】［１］高分子と、少なくとも１種以上の可
視域に吸収ピークを持たず、紫外線領域に吸収を持つ化
合物と、ヒンダードアミン系化合物または有機ニッケル
系化合物とをを含む光学異方体フィルムであり、該光学
異方体フィルムのレターデーション（測定波長５４６ｎ
ｍ）が５０〜３０００ｎｍであり、該光学異方体フィル
ムの下記数式（１）で定義されるαの値が１．０７以上
であることを特徴とする光学異方体フィルム。 【数１】α＝ＲF／ＲD・・・（１） ［式中、ＲFは水素Ｆ線（波長４８６ｎｍ）に相当する
波長で測定したレタ−デ−ションの値であり、ＲDはナ
トリウムＤ線（波長５８９ｎｍ）に相当する波長で測定
したレタ−デ−ションの値である。］ ［２］前記［１］に記載の光学異方体フィルムを用いる
液晶表示装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、非線形光学素子や
液晶表示装置等に用いられる光学異方体フィルムおよび
該光学異方体フィルムを用いた液晶表示装置に関する。
液晶表示装置等に用いられる光学異方体フィルムおよび
該光学異方体フィルムを用いた液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】位相差フィルムは、透明な熱可塑性高分
子フィルムを一軸延伸することにより得られ、液晶表示
素子、特に超ねじれネマティック（以下、ＳＴＮと記す
ことがある）型液晶表示素子または電界制御複屈折（以
下、ＥＣＢと記すことがある）型液晶表示素子（以下、
ＬＣＤと記すことがある）の着色を補償して表示品質を
向上させるための光学補償板として用いられている。該
位相差フィルムを用いた液晶表示素子は、軽い、薄い、
安価である等の長所を持っている。しかしながら、ＳＴ
Ｎ型ＬＣＤは、応答速度が小さいという課題があり、改
良検討が進められている。応答速度の改良には、屈折率
異方性（Δｎ）の大きい液晶を用いてセルギャップを小
さくすることが効果的である。しかし、Δｎの大きな液
晶は、一般的にΔｎの波長依存性が大きいので、液晶セ
ルと併用する位相差フィルムにもΔｎの波長依存性が大
きい、すなわち、レターデーションの波長依存性が大き
い位相差フィルムを用いることが効果的であることが知
られている。応答速度の大きい、すなわち、液晶のΔｎ
が大きい液晶セルと、従来の位相差フィルムを使用した
場合、コントラストの高い液晶表示装置が得られないこ
とから、高速応答のＳＴＮ型液晶表示装置に用いられて
いる液晶材料のΔｎの波長分散特性に一致する、大きい
波長分散特性を有する位相差フィルムが求められてい
る。また、液晶ディスプレイは、最近のカーナビゲーシ
ョン機器にみられるように、苛酷な条件にさらされる可
能性も高く、長期にわたってその優れた性能を安定に示
すためには、位相差フィルムもその使用期間に於て物性
が変化しない長期安定性を有することが必要である。
子フィルムを一軸延伸することにより得られ、液晶表示
素子、特に超ねじれネマティック（以下、ＳＴＮと記す
ことがある）型液晶表示素子または電界制御複屈折（以
下、ＥＣＢと記すことがある）型液晶表示素子（以下、
ＬＣＤと記すことがある）の着色を補償して表示品質を
向上させるための光学補償板として用いられている。該
位相差フィルムを用いた液晶表示素子は、軽い、薄い、
安価である等の長所を持っている。しかしながら、ＳＴ
Ｎ型ＬＣＤは、応答速度が小さいという課題があり、改
良検討が進められている。応答速度の改良には、屈折率
異方性（Δｎ）の大きい液晶を用いてセルギャップを小
さくすることが効果的である。しかし、Δｎの大きな液
晶は、一般的にΔｎの波長依存性が大きいので、液晶セ
ルと併用する位相差フィルムにもΔｎの波長依存性が大
きい、すなわち、レターデーションの波長依存性が大き
い位相差フィルムを用いることが効果的であることが知
られている。応答速度の大きい、すなわち、液晶のΔｎ
が大きい液晶セルと、従来の位相差フィルムを使用した
場合、コントラストの高い液晶表示装置が得られないこ
とから、高速応答のＳＴＮ型液晶表示装置に用いられて
いる液晶材料のΔｎの波長分散特性に一致する、大きい
波長分散特性を有する位相差フィルムが求められてい
る。また、液晶ディスプレイは、最近のカーナビゲーシ
ョン機器にみられるように、苛酷な条件にさらされる可
能性も高く、長期にわたってその優れた性能を安定に示
すためには、位相差フィルムもその使用期間に於て物性
が変化しない長期安定性を有することが必要である。
【０００３】位相差フィルムの波長分散性を改良する方
法として、特開平５−１０７４１３号公報には、波長分
散性の高いポリサルホン（以下、ＰＳｆと記すことがあ
る）を用いた位相差フィルムが開示されている。同様
に、特開平６−１７４９２３号公報には、波長分散性の
高いポリアリレートを用いることが開示されている。し
かし、ポリサルホンやポリアリレートは、ガラス転移温
度が高いため加工が難しく、工業的な生産に問題があっ
た。また、液晶セルに用いる液晶材料により、レターデ
ーションの波長分散特性は異なるので、位相差フィルム
の波長分散性を制御することが必要になることもある。
特開平５−２７１１９号公報および特開平６−１３０２
２７号公報には、波長分散値の異なる光学異方体の組み
合わせによって波長分散性を制御することが示されてい
る。
法として、特開平５−１０７４１３号公報には、波長分
散性の高いポリサルホン（以下、ＰＳｆと記すことがあ
る）を用いた位相差フィルムが開示されている。同様
に、特開平６−１７４９２３号公報には、波長分散性の
高いポリアリレートを用いることが開示されている。し
かし、ポリサルホンやポリアリレートは、ガラス転移温
度が高いため加工が難しく、工業的な生産に問題があっ
た。また、液晶セルに用いる液晶材料により、レターデ
ーションの波長分散特性は異なるので、位相差フィルム
の波長分散性を制御することが必要になることもある。
特開平５−２７１１９号公報および特開平６−１３０２
２７号公報には、波長分散値の異なる光学異方体の組み
合わせによって波長分散性を制御することが示されてい
る。
【０００４】次に、特表平４−５００２８４号公報に
は、直鎖または環状の主鎖を有する側鎖型液晶ポリマー
を用いて、液晶セルに使われている液晶分子と同じ温度
依存性および波長依存性を有する位相差フィルムが例示
されている。配向膜上に液晶ポリマーを成膜すること
や、液晶ポリマー膜に電場や磁場などの外場を印加する
ことで、配向した液晶ポリマー膜が得られることが開示
されている。しかし、実際に配向膜を用いて液晶ポリマ
ーを成膜することや、液晶ポリマー膜に電場や磁場など
の外場を印加することによって配向させることは、配向
度という観点でも難しい。また、特開平５−２５７０１
３号公報には高分子フィルムに液晶分子を分散し、高分
子フィルムごと延伸することにより、液晶セルに使われ
ている液晶分子と同じ屈折率異方性の波長分散を持った
位相差フィルムについて記載されている。しかしなが
ら、具体的に好ましい波長分散性、並びにどのような物
性および構造の液晶をどの程度分散させればよいかとい
う記載はない。
は、直鎖または環状の主鎖を有する側鎖型液晶ポリマー
を用いて、液晶セルに使われている液晶分子と同じ温度
依存性および波長依存性を有する位相差フィルムが例示
されている。配向膜上に液晶ポリマーを成膜すること
や、液晶ポリマー膜に電場や磁場などの外場を印加する
ことで、配向した液晶ポリマー膜が得られることが開示
されている。しかし、実際に配向膜を用いて液晶ポリマ
ーを成膜することや、液晶ポリマー膜に電場や磁場など
の外場を印加することによって配向させることは、配向
度という観点でも難しい。また、特開平５−２５７０１
３号公報には高分子フィルムに液晶分子を分散し、高分
子フィルムごと延伸することにより、液晶セルに使われ
ている液晶分子と同じ屈折率異方性の波長分散を持った
位相差フィルムについて記載されている。しかしなが
ら、具体的に好ましい波長分散性、並びにどのような物
性および構造の液晶をどの程度分散させればよいかとい
う記載はない。
【０００５】また、特公平７−１３６８３号公報の実施
例６には、ポリ塩化ビニルに液晶化合物をブレンドし
て、波長分散を高めた例が示されているが、ポリ塩化ビ
ニルのような軟化点の低い物質では、高温の環境で使用
した場合に変形および光学特性の低下が起こり、使用す
ることが難しい。また、特開平７−１３０２３号公報に
は、ポリカーボネートまたはポリアリレートに可塑剤を
添加して波長分散性を調整する方法が示されている。
例６には、ポリ塩化ビニルに液晶化合物をブレンドし
て、波長分散を高めた例が示されているが、ポリ塩化ビ
ニルのような軟化点の低い物質では、高温の環境で使用
した場合に変形および光学特性の低下が起こり、使用す
ることが難しい。また、特開平７−１３０２３号公報に
は、ポリカーボネートまたはポリアリレートに可塑剤を
添加して波長分散性を調整する方法が示されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、レタ
ーデーションの波長分散の高く、耐光性に優れた光学異
方体フィルムおよび該光学異方体フィルムを用いた、良
好な白黒表示が得られ、視野角依存性の小さい液晶表示
装置を提供することにある。
ーデーションの波長分散の高く、耐光性に優れた光学異
方体フィルムおよび該光学異方体フィルムを用いた、良
好な白黒表示が得られ、視野角依存性の小さい液晶表示
装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の問
題を解決するために鋭意検討した結果、高分子（以下マ
トリックス高分子と称することがある。）に特定の化合
物と、ヒンダードアミン系化合物または有機ニッケル系
化合物を添加することにより、レターデーションの波長
分散の大きな高分子を用いることなく、耐光性に優れ、
レターデーションの波長依存の大きい光学異方体フィル
ムが容易に得られることを見出し、本発明を完成するに
至った。
題を解決するために鋭意検討した結果、高分子（以下マ
トリックス高分子と称することがある。）に特定の化合
物と、ヒンダードアミン系化合物または有機ニッケル系
化合物を添加することにより、レターデーションの波長
分散の大きな高分子を用いることなく、耐光性に優れ、
レターデーションの波長依存の大きい光学異方体フィル
ムが容易に得られることを見出し、本発明を完成するに
至った。
【０００８】すなわち、本発明は、［１］高分子と、少
なくとも１種以上の可視域に吸収ピークを持たず、紫外
線領域に吸収を持つ化合物と、ヒンダードアミン系化合
物または有機ニッケル系化合物とを含む光学異方体フィ
ルムであり、該光学異方体フィルムのレターデーション
（測定波長５４６ｎｍ）が５０〜３０００ｎｍであり、
該光学異方体フィルムの下記数式（１）で定義されるα
の値が１．０７以上であることを特徴とする光学異方体
フィルムに係るものである。
なくとも１種以上の可視域に吸収ピークを持たず、紫外
線領域に吸収を持つ化合物と、ヒンダードアミン系化合
物または有機ニッケル系化合物とを含む光学異方体フィ
ルムであり、該光学異方体フィルムのレターデーション
（測定波長５４６ｎｍ）が５０〜３０００ｎｍであり、
該光学異方体フィルムの下記数式（１）で定義されるα
の値が１．０７以上であることを特徴とする光学異方体
フィルムに係るものである。
【数３】α＝ＲF／ＲD・・・（１） ［式中、ＲFは水素Ｆ線（波長４８６ｎｍ）に相当する
波長で測定したレタ−デ−ションの値であり、ＲDはナ
トリウムＤ線（波長５８９ｎｍ）に相当する波長で測定
したレタ−デ−ションの値である。］ また、本発明は、［２］前記［１］に記載の光学異方体
フィルムを用いる液晶表示装置に係るものである。
波長で測定したレタ−デ−ションの値であり、ＲDはナ
トリウムＤ線（波長５８９ｎｍ）に相当する波長で測定
したレタ−デ−ションの値である。］ また、本発明は、［２］前記［１］に記載の光学異方体
フィルムを用いる液晶表示装置に係るものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】次に、本発明を詳細に説明する。
本発明で用いられるマトリックス高分子について説明す
る。光学異方体フィルムのマトリックスに用いられる高
分子は、光学異方体フィルムを高温で使用した場合や、
液晶セルとの貼合工程の温度で光学的性質や形状の変化
が起こらない高分子が好ましく、ガラス転移温度がある
程度高い熱可塑性エンジニアリング高分子、または可塑
材が添加されている高分子では流動温度がある程度高い
高分子が好ましく用いられる。
本発明で用いられるマトリックス高分子について説明す
る。光学異方体フィルムのマトリックスに用いられる高
分子は、光学異方体フィルムを高温で使用した場合や、
液晶セルとの貼合工程の温度で光学的性質や形状の変化
が起こらない高分子が好ましく、ガラス転移温度がある
程度高い熱可塑性エンジニアリング高分子、または可塑
材が添加されている高分子では流動温度がある程度高い
高分子が好ましく用いられる。
【００１０】マトリックス高分子のガラス転移温度また
は軟化温度は、液晶表示装置を使用する温度範囲内で光
学特性の変化やフィルムの収縮などの変形のないように
下限が決定され、光学異方体フィルムとする際に加熱し
ながら延伸する必要があるのでガラス転移温度が高すぎ
ると工業的に好ましくないことから上限が決定される。
は軟化温度は、液晶表示装置を使用する温度範囲内で光
学特性の変化やフィルムの収縮などの変形のないように
下限が決定され、光学異方体フィルムとする際に加熱し
ながら延伸する必要があるのでガラス転移温度が高すぎ
ると工業的に好ましくないことから上限が決定される。
【００１１】マトリックス高分子に求められるガラス転
移温度または軟化温度の範囲としては、８０〜２５０℃
が好ましく、９０〜２３０℃が更に好ましく、特に好ま
しくは１００〜２００℃である。
移温度または軟化温度の範囲としては、８０〜２５０℃
が好ましく、９０〜２３０℃が更に好ましく、特に好ま
しくは１００〜２００℃である。
【００１２】これらの条件を満たす好ましい高分子とし
ては、ポリカーボネート、ポリアリレート、２酢酸セル
ロース、３酢酸セルロース、エチレンビニルアルコール
共重合体などが例示され、好ましくはポリカーボネー
ト、ポリアリレート、３酢酸セルロースが例示される。
ては、ポリカーボネート、ポリアリレート、２酢酸セル
ロース、３酢酸セルロース、エチレンビニルアルコール
共重合体などが例示され、好ましくはポリカーボネー
ト、ポリアリレート、３酢酸セルロースが例示される。
【００１３】レターデーションを発現する方法として
は、高分子と化合物を混合したフィルムを高分子のガラ
ス転移温度または軟化点以上で、かつ高分子の溶融温度
以下の温度で加熱しながら延伸する方法が挙げられる。
該方法に適した高分子としては、ポリカーボネート、２
酢酸セルロース、３酢酸セルロース、ポリスチレン、エ
チレンビニルアルコール共重合体、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレンナフタレートなどが例示され、
好ましくはポリカーボネート、３酢酸セルロース、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリスチレンが例示される。
は、高分子と化合物を混合したフィルムを高分子のガラ
ス転移温度または軟化点以上で、かつ高分子の溶融温度
以下の温度で加熱しながら延伸する方法が挙げられる。
該方法に適した高分子としては、ポリカーボネート、２
酢酸セルロース、３酢酸セルロース、ポリスチレン、エ
チレンビニルアルコール共重合体、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレンナフタレートなどが例示され、
好ましくはポリカーボネート、３酢酸セルロース、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリスチレンが例示される。
【００１４】これらのマトリックス高分子に機械的強度
を付与する際やＬＣＤセルに貼合する際の接着性を改良
するなどの目的のために添加物を用いてもよい。添加物
の種類や量については、本発明の目的を損なわない程度
の範囲であれば特に限定はない。
を付与する際やＬＣＤセルに貼合する際の接着性を改良
するなどの目的のために添加物を用いてもよい。添加物
の種類や量については、本発明の目的を損なわない程度
の範囲であれば特に限定はない。
【００１５】次に、本発明で用いられる少なくとも１種
以上の可視域に吸収ピークを持たず、紫外線領域に吸収
を持つ個々の化合物の吸収ピーク波長は、２５０〜４０
０ｎｍの範囲にあることがさらに好ましく、特に好まし
くは３３０〜３８５ｎｍである。ここで、本発明でいう
ピークとは、吸収ピークの最大吸収点をいう。個々の該
化合物が可視域に吸収ピークを持つと、光学異方体フィ
ルムに着色が見られ、フィルムとして使用する際に問題
を生じる可能性があり、また、個々の該化合物の吸収ピ
ーク波長が２５０ｎｍ未満であると、波長分散性に効果
が小さい。
以上の可視域に吸収ピークを持たず、紫外線領域に吸収
を持つ個々の化合物の吸収ピーク波長は、２５０〜４０
０ｎｍの範囲にあることがさらに好ましく、特に好まし
くは３３０〜３８５ｎｍである。ここで、本発明でいう
ピークとは、吸収ピークの最大吸収点をいう。個々の該
化合物が可視域に吸収ピークを持つと、光学異方体フィ
ルムに着色が見られ、フィルムとして使用する際に問題
を生じる可能性があり、また、個々の該化合物の吸収ピ
ーク波長が２５０ｎｍ未満であると、波長分散性に効果
が小さい。
【００１６】本発明で用いられる可視域に吸収ピークを
持たず、紫外線領域に吸収を持つ化合物は、下記一般式
（１）
持たず、紫外線領域に吸収を持つ化合物は、下記一般式
（１）
【００１７】
【化５】
【００１８】［式中、Ｒ1、Ｒ2は、それぞれ独立に、水
素原子または炭素数１〜１５の直鎖もしくは分岐してい
てもよいアルキル基を表し、ｍ、ｎは、それぞれ独立
に、０〜４の整数を表す。］で示される化合物、または
下記一般式（２）
素原子または炭素数１〜１５の直鎖もしくは分岐してい
てもよいアルキル基を表し、ｍ、ｎは、それぞれ独立
に、０〜４の整数を表す。］で示される化合物、または
下記一般式（２）
【００１９】
【化６】
【００２０】［式中、Ｒ3、Ｒ4は、それぞれ独立に、水
素原子、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフル
オロメトキシ基、シアノ基、炭素数１〜１２のアルキル
基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数２〜１２の
アルケニル基、炭素数２〜１２のアルキニル基または炭
素数２〜１２のアルコキシアルキル基を示す。Ａ1、Ａ3
は、それぞれ独立に、水素原子が，炭素数１〜１０のア
ルキル基もしくはフッ素原子に置換されていてもよい，
１，４−フェニレン基または１，４−シクロヘキシレン
基を示す。Ａ2は、水素原子が、炭素数１〜１０のアル
キル基もしくはフッ素原子に置換されていてもよい、
１，４−フェニレン基を示す。ｐ、ｒは、それぞれ独立
に０または１である。ａ、ｂは、それぞれ独立に０から
２の整数である。ｑは１から３のいずれかの整数であ
る。ただし、ｑが１のとき、ｐ、ｒが同時に０になるこ
とはない。］で示される化合物、または下記一般式
（３）
素原子、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフル
オロメトキシ基、シアノ基、炭素数１〜１２のアルキル
基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数２〜１２の
アルケニル基、炭素数２〜１２のアルキニル基または炭
素数２〜１２のアルコキシアルキル基を示す。Ａ1、Ａ3
は、それぞれ独立に、水素原子が，炭素数１〜１０のア
ルキル基もしくはフッ素原子に置換されていてもよい，
１，４−フェニレン基または１，４−シクロヘキシレン
基を示す。Ａ2は、水素原子が、炭素数１〜１０のアル
キル基もしくはフッ素原子に置換されていてもよい、
１，４−フェニレン基を示す。ｐ、ｒは、それぞれ独立
に０または１である。ａ、ｂは、それぞれ独立に０から
２の整数である。ｑは１から３のいずれかの整数であ
る。ただし、ｑが１のとき、ｐ、ｒが同時に０になるこ
とはない。］で示される化合物、または下記一般式
（３）
【００２１】
【化７】
【００２２】［式中、Ｒ5、Ｒ6は、それぞれ独立に、水
素原子、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフル
オロメトキシ基、シアノ基、炭素数１〜１２のアルキル
基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数２〜１２の
アルケニル基、炭素数２〜１２のアルキニル基または炭
素数２〜１２のアルコキシアルキル基を示す。Ａ4、
Ａ5、Ａ6は、それぞれ独立に、水素原子が炭素数１〜１
０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基もしく
はフッ素原子に置換されていてもよい、フラン−２，５
−ジイル、ピロール−２，５−ジイル、イミダゾール−
２，５−ジイル、チアゾール−２，５−ジイル、オキサ
ジアゾール−２，５−ジイル、トリアゾール−２，５−
ジイル、チアジアゾール−２，５−ジイル、インデン−
２，５−ジイル、インデン−２，６−ジイル、ベンゾフ
ラン−２，５−ジイル、ベンゾフラン−２，６−ジイ
ル、ベンゾチオフェン−２，５−ジイル、ベンゾチオフ
ェン−２，６−ジイル、キノリン−２，７−ジイル、キ
ノリン−２，６−ジイル、フルオレン−２，７−ジイ
ル、フルオレン−２，６−ジイル、カルバゾール−２，
７−ジイルまたはカルバゾール−２，６−ジイルのいず
れかの基を示す。Ｂ1、Ｂ2、Ｂ3、Ｂ4は、それぞれ独立
に、水素原子が、直鎖もしくは分岐していてもよい炭素
数１〜１０のアルキル基、直鎖もしくは分岐していても
よい炭素数１〜１０のアルコキシ基、またはフッ素原子
に置換されていてもよい、１，４−フェニレン基を示
す。ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈは、それぞれ独立に０また
は１である。ただし、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈが同時に
０になることはない。］に示す化合物等が挙げられる。
素原子、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフル
オロメトキシ基、シアノ基、炭素数１〜１２のアルキル
基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数２〜１２の
アルケニル基、炭素数２〜１２のアルキニル基または炭
素数２〜１２のアルコキシアルキル基を示す。Ａ4、
Ａ5、Ａ6は、それぞれ独立に、水素原子が炭素数１〜１
０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基もしく
はフッ素原子に置換されていてもよい、フラン−２，５
−ジイル、ピロール−２，５−ジイル、イミダゾール−
２，５−ジイル、チアゾール−２，５−ジイル、オキサ
ジアゾール−２，５−ジイル、トリアゾール−２，５−
ジイル、チアジアゾール−２，５−ジイル、インデン−
２，５−ジイル、インデン−２，６−ジイル、ベンゾフ
ラン−２，５−ジイル、ベンゾフラン−２，６−ジイ
ル、ベンゾチオフェン−２，５−ジイル、ベンゾチオフ
ェン−２，６−ジイル、キノリン−２，７−ジイル、キ
ノリン−２，６−ジイル、フルオレン−２，７−ジイ
ル、フルオレン−２，６−ジイル、カルバゾール−２，
７−ジイルまたはカルバゾール−２，６−ジイルのいず
れかの基を示す。Ｂ1、Ｂ2、Ｂ3、Ｂ4は、それぞれ独立
に、水素原子が、直鎖もしくは分岐していてもよい炭素
数１〜１０のアルキル基、直鎖もしくは分岐していても
よい炭素数１〜１０のアルコキシ基、またはフッ素原子
に置換されていてもよい、１，４−フェニレン基を示
す。ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈは、それぞれ独立に０また
は１である。ただし、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈが同時に
０になることはない。］に示す化合物等が挙げられる。
【００２３】本発明に用いる一般式（１）で示される化
合物において、Ｒ1、Ｒ2として具体的には、それぞれ独
立に水素原子、直鎖または分岐していてもよい、メチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、
ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ド
デシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシルが挙
げられる。好ましくは、炭素数が４以上の化合物であ
る。
合物において、Ｒ1、Ｒ2として具体的には、それぞれ独
立に水素原子、直鎖または分岐していてもよい、メチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、
ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ド
デシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシルが挙
げられる。好ましくは、炭素数が４以上の化合物であ
る。
【００２４】本発明の用いる一般式（２）で示される化
合物において、Ｒ3、Ｒ4として具体的には、それぞれ独
立に、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、
ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウン
デシル、ドデシル、エテニル、プロペニル、ブテニル、
ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、ノ
ネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、プロピ
ニル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、ヘプチニ
ル、オクチニル、ノニニル、デシニル、ドデシニル、メ
トキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオ
キシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキ
シ、ノニルオキシ、デシルオキシ、ウンデシルオキシ、
ドデシルオキシ、メトキシメチル、エトキシメチル、プ
ロポキシメチル、ブトキシメチル、ペンチルオキシメチ
ル、ヘキシルオキシメチル、ヘプチルオキシメチル、オ
クチルオキシメチル、ノニルオキシメチル、デシルオキ
シメチル、メトキシエチル、エトキシエチル、プロポキ
シエチル、ブトキシエチル、ペンチルオキシエチル、ヘ
キシルオキシエチル、ヘプチルオキシエチル、オクチル
オキシエチル、ノニルオキシエチル、デシルオキシエチ
ル、メトキシプロピル、エトキシプロピル、プロポキシ
プロピル、ブトキシプロピル、ペンチルオキシプロピ
ル、ヘキシルオキシプロピル、ヘプチルオキシプロピ
ル、オクチルオキシプロピル、ノニルオキシプロピル、
デシルオキシプロピル、メトキシブチル、エトキシブチ
ル、プロポキシブチル、ブトキシブチル、ペンチルオキ
シブチル、ヘキシルオキシブチル、ヘプチルオキシブチ
ル、オクチルオキシブチル、ノニルオキシブチル、デシ
ルオキシブチル、メトキシペンチル、エトキシペンチ
ル、プロポキシペンチル、ブトキシペンチル、ペンチル
オキシペンチル、ヘキシルオキシペンチル、ヘプチルオ
キシペンチル、ヘプチルオキシペンチル、オクチルオキ
シペンチル、ノニルオキシペンチル、デシルオキシペン
チル等の各基、水素原子、フッ素原子、トリフルオロメ
チル基、トリフルオロメトキシ基、シアノ基等が挙げら
れる。これらの基は、直鎖でもよく、分岐していてもよ
い。
合物において、Ｒ3、Ｒ4として具体的には、それぞれ独
立に、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、
ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウン
デシル、ドデシル、エテニル、プロペニル、ブテニル、
ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、ノ
ネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、プロピ
ニル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、ヘプチニ
ル、オクチニル、ノニニル、デシニル、ドデシニル、メ
トキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオ
キシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキ
シ、ノニルオキシ、デシルオキシ、ウンデシルオキシ、
ドデシルオキシ、メトキシメチル、エトキシメチル、プ
ロポキシメチル、ブトキシメチル、ペンチルオキシメチ
ル、ヘキシルオキシメチル、ヘプチルオキシメチル、オ
クチルオキシメチル、ノニルオキシメチル、デシルオキ
シメチル、メトキシエチル、エトキシエチル、プロポキ
シエチル、ブトキシエチル、ペンチルオキシエチル、ヘ
キシルオキシエチル、ヘプチルオキシエチル、オクチル
オキシエチル、ノニルオキシエチル、デシルオキシエチ
ル、メトキシプロピル、エトキシプロピル、プロポキシ
プロピル、ブトキシプロピル、ペンチルオキシプロピ
ル、ヘキシルオキシプロピル、ヘプチルオキシプロピ
ル、オクチルオキシプロピル、ノニルオキシプロピル、
デシルオキシプロピル、メトキシブチル、エトキシブチ
ル、プロポキシブチル、ブトキシブチル、ペンチルオキ
シブチル、ヘキシルオキシブチル、ヘプチルオキシブチ
ル、オクチルオキシブチル、ノニルオキシブチル、デシ
ルオキシブチル、メトキシペンチル、エトキシペンチ
ル、プロポキシペンチル、ブトキシペンチル、ペンチル
オキシペンチル、ヘキシルオキシペンチル、ヘプチルオ
キシペンチル、ヘプチルオキシペンチル、オクチルオキ
シペンチル、ノニルオキシペンチル、デシルオキシペン
チル等の各基、水素原子、フッ素原子、トリフルオロメ
チル基、トリフルオロメトキシ基、シアノ基等が挙げら
れる。これらの基は、直鎖でもよく、分岐していてもよ
い。
【００２５】Ａ1、Ａ3は、それぞれ独立に、水素原子が
炭素数１〜１０のアルキル基もしくはフッ素原子に置換
されていてもよい、１，４−フェニレン基もしくは１，
４−シクロヘキシレン基を示す。Ａ1、Ａ3として、具体
的には１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレ
ン基等が挙げられ、１，４−フェニレン基が好ましい。
Ａ2は、水素原子が、炭素数１〜１０のアルキル基もし
くはフッ素原子に置換されていてもよい、１，４−フェ
ニレン基を示す。Ａ2として、具体的には１，４−フェ
ニレン基が好ましい。ｐ、ｒは、それぞれ独立に０また
は１である。ａ、ｂは、それぞれ独立に０から２の整数
である。ｑは１から３のいずれかの整数である。ただ
し、ｑが１のとき、ｐ、ｒが同時に０になることはな
い。具体的には、ｐ＝ｑ＝ｒ＝ａ＝ｂ＝１のものが好ま
しい。
炭素数１〜１０のアルキル基もしくはフッ素原子に置換
されていてもよい、１，４−フェニレン基もしくは１，
４−シクロヘキシレン基を示す。Ａ1、Ａ3として、具体
的には１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレ
ン基等が挙げられ、１，４−フェニレン基が好ましい。
Ａ2は、水素原子が、炭素数１〜１０のアルキル基もし
くはフッ素原子に置換されていてもよい、１，４−フェ
ニレン基を示す。Ａ2として、具体的には１，４−フェ
ニレン基が好ましい。ｐ、ｒは、それぞれ独立に０また
は１である。ａ、ｂは、それぞれ独立に０から２の整数
である。ｑは１から３のいずれかの整数である。ただ
し、ｑが１のとき、ｐ、ｒが同時に０になることはな
い。具体的には、ｐ＝ｑ＝ｒ＝ａ＝ｂ＝１のものが好ま
しい。
【００２６】本発明に用いる一般式（３）で示される化
合物において、Ｒ5、Ｒ6として具体的には、それぞれ独
立に、水素原子、フッ素原子、トリフルオロメチル基、
トリフルオロメトキシ基、シアノ基、炭素数１〜１２の
アルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数２
〜１２のアルケニル基、炭素数２〜１２のアルキニル
基、または炭素数２〜１２のアルコキシアルキル基を示
す。Ｒ5、Ｒ6として具体的には、それぞれ独立に、メチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、
ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ド
デシル、エテニル、プロペニル、ブテニル、ペンテニ
ル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニル、
デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、プロピニル、ブ
チニル、ペンチニル、ヘキシニル、ヘプチニル、オクチ
ニル、ノニニル、デシニル、ドデシニル、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキ
シルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、ノニル
オキシ、デシルオキシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオ
キシ、メトキシメチル、エトキシメチル、プロポキシメ
チル、ブトキシメチル、ペンチルオキシメチル、ヘキシ
ルオキシメチル、ヘプチルオキシメチル、オクチルオキ
シメチル、ノニルオキシメチル、デシルオキシメチル、
メトキシエチル、エトキシエチル、プロポキシエチル、
ブトキシエチル、ペンチルオキシエチル、ヘキシルオキ
シエチル、ヘプチルオキシエチル、オクチルオキシエチ
ル、ノニルオキシエチル、デシルオキシエチル、メトキ
シプロピル、エトキシプロピル、プロポキシプロピル、
ブトキシプロピル、ペンチルオキシプロピル、ヘキシル
オキシプロピル、ヘプチルオキシプロピル、オクチルオ
キシプロピル、ノニルオキシプロピル、デシルオキシプ
ロピル、メトキシブチル、エトキシブチル、プロポキシ
ブチル、ブトキシブチル、ペンチルオキシブチル、ヘキ
シルオキシブチル、ヘプチルオキシブチル、オクチルオ
キシブチル、ノニルオキシブチル、デシルオキシブチ
ル、メトキシペンチル、エトキシペンチル、プロポキシ
ペンチル、ブトキシペンチル、ペンチルオキシペンチ
ル、ヘキシルオキシペンチル、ヘプチルオキシペンチ
ル、ヘプチルオキシペンチル、オクチルオキシペンチ
ル、ノニルオキシペンチル、デシルオキシペンチル等の
各基、水素原子、フッ素原子、トリフルオロメチル基、
トリフルオロメトキシ基、シアノ基等が挙げられる。こ
れらの基は、直鎖でもよく、分岐していてもよい。
合物において、Ｒ5、Ｒ6として具体的には、それぞれ独
立に、水素原子、フッ素原子、トリフルオロメチル基、
トリフルオロメトキシ基、シアノ基、炭素数１〜１２の
アルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数２
〜１２のアルケニル基、炭素数２〜１２のアルキニル
基、または炭素数２〜１２のアルコキシアルキル基を示
す。Ｒ5、Ｒ6として具体的には、それぞれ独立に、メチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、
ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ド
デシル、エテニル、プロペニル、ブテニル、ペンテニ
ル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニル、
デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、プロピニル、ブ
チニル、ペンチニル、ヘキシニル、ヘプチニル、オクチ
ニル、ノニニル、デシニル、ドデシニル、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキ
シルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、ノニル
オキシ、デシルオキシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオ
キシ、メトキシメチル、エトキシメチル、プロポキシメ
チル、ブトキシメチル、ペンチルオキシメチル、ヘキシ
ルオキシメチル、ヘプチルオキシメチル、オクチルオキ
シメチル、ノニルオキシメチル、デシルオキシメチル、
メトキシエチル、エトキシエチル、プロポキシエチル、
ブトキシエチル、ペンチルオキシエチル、ヘキシルオキ
シエチル、ヘプチルオキシエチル、オクチルオキシエチ
ル、ノニルオキシエチル、デシルオキシエチル、メトキ
シプロピル、エトキシプロピル、プロポキシプロピル、
ブトキシプロピル、ペンチルオキシプロピル、ヘキシル
オキシプロピル、ヘプチルオキシプロピル、オクチルオ
キシプロピル、ノニルオキシプロピル、デシルオキシプ
ロピル、メトキシブチル、エトキシブチル、プロポキシ
ブチル、ブトキシブチル、ペンチルオキシブチル、ヘキ
シルオキシブチル、ヘプチルオキシブチル、オクチルオ
キシブチル、ノニルオキシブチル、デシルオキシブチ
ル、メトキシペンチル、エトキシペンチル、プロポキシ
ペンチル、ブトキシペンチル、ペンチルオキシペンチ
ル、ヘキシルオキシペンチル、ヘプチルオキシペンチ
ル、ヘプチルオキシペンチル、オクチルオキシペンチ
ル、ノニルオキシペンチル、デシルオキシペンチル等の
各基、水素原子、フッ素原子、トリフルオロメチル基、
トリフルオロメトキシ基、シアノ基等が挙げられる。こ
れらの基は、直鎖でもよく、分岐していてもよい。
【００２７】Ａ4、Ａ5、Ａ6は、それぞれ独立に、水素
原子が、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０
のアルコキシ基もしくはフッ素原子に置換されていても
よい、フラン−２，５−ジイル、ピロール−２，５−ジ
イル、イミダゾール−２，５−ジイル、チアゾール−
２，５−ジイル、オキサジアゾール−２，５−ジイル、
トリアゾール−２，５−ジイル、チアジアゾール−２，
５−ジイル、インデン−２，５−ジイル、インデン−
２，６−ジイル、ベンゾフラン−２，５−ジイル、ベン
ゾフラン−２，６−ジイル、ベンゾチオフェン−２，５
−ジイル、ベンゾチオフェン−２，６−ジイル、キノリ
ン−２，７−ジイル、キノリン−２，６−ジイル、フル
オレン−２，７−ジイル、フルオレン−２，６−ジイ
ル、カルバゾール−２，７−ジイルまたはカルバゾール
−２，６−ジイルのいずれかの基を示す。Ｂ1、Ｂ2、Ｂ
3、Ｂ4は、それぞれ独立に、水素原子が、直鎖もしくは
分岐していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基、直鎖
もしくは分岐していてもよい炭素数１〜１０のアルコキ
シ基、またはフッ素原子に置換されていてもよい、１，
４−フェニレン基を示す。ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈは、
それぞれ独立に０または１である。ただし、ｃ、ｄ、
ｅ、ｆ、ｇ、ｈが同時に０になることはない。
原子が、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０
のアルコキシ基もしくはフッ素原子に置換されていても
よい、フラン−２，５−ジイル、ピロール−２，５−ジ
イル、イミダゾール−２，５−ジイル、チアゾール−
２，５−ジイル、オキサジアゾール−２，５−ジイル、
トリアゾール−２，５−ジイル、チアジアゾール−２，
５−ジイル、インデン−２，５−ジイル、インデン−
２，６−ジイル、ベンゾフラン−２，５−ジイル、ベン
ゾフラン−２，６−ジイル、ベンゾチオフェン−２，５
−ジイル、ベンゾチオフェン−２，６−ジイル、キノリ
ン−２，７−ジイル、キノリン−２，６−ジイル、フル
オレン−２，７−ジイル、フルオレン−２，６−ジイ
ル、カルバゾール−２，７−ジイルまたはカルバゾール
−２，６−ジイルのいずれかの基を示す。Ｂ1、Ｂ2、Ｂ
3、Ｂ4は、それぞれ独立に、水素原子が、直鎖もしくは
分岐していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基、直鎖
もしくは分岐していてもよい炭素数１〜１０のアルコキ
シ基、またはフッ素原子に置換されていてもよい、１，
４−フェニレン基を示す。ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈは、
それぞれ独立に０または１である。ただし、ｃ、ｄ、
ｅ、ｆ、ｇ、ｈが同時に０になることはない。
【００２８】次に、本発明で用いられるヒンダードアミ
ン系化合物としては、特に限定されないが、下記の構造
式（４）を部分構造として有するヒンダードアミン系光
安定剤が例示される。
ン系化合物としては、特に限定されないが、下記の構造
式（４）を部分構造として有するヒンダードアミン系光
安定剤が例示される。
【００２９】
【化８】
【００３０】好ましい具体例としては、ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル） セバケー
ト、ビス（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル） セバケート、Ｎ，Ｎ’ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６
−ヘキサメチレンジアミン、２−メチル−２−（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ−
Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）プロピオンアミド、テトラキス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル） （１，２，３，４−
ブタンテトラカルボキシレート、ポリ〔｛６−（１，
１，３，３−テトラメチルブチル）イミノ−１，３，５
−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチル
｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
イミノ｝〕、ポリ〔（６−モルホリノ−１，３，５−ト
リアジン−２，４−ジイル）｛（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチン
｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
イミノ｝〕、コハク酸ジメチルと １−（２−ヒドロキ
シエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラ
メチルピペリジンとの重縮合物、Ｎ，Ｎ’４，７−テト
ラキス〔４，６−ビス｛Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，
２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ｝
−１，３，５−トリアジン−２−イル〕−４，７−ジア
ザデカン−１，１０−ジアミン等が挙げられる。
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル） セバケー
ト、ビス（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル） セバケート、Ｎ，Ｎ’ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６
−ヘキサメチレンジアミン、２−メチル−２−（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ−
Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）プロピオンアミド、テトラキス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル） （１，２，３，４−
ブタンテトラカルボキシレート、ポリ〔｛６−（１，
１，３，３−テトラメチルブチル）イミノ−１，３，５
−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチル
｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
イミノ｝〕、ポリ〔（６−モルホリノ−１，３，５−ト
リアジン−２，４−ジイル）｛（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチン
｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
イミノ｝〕、コハク酸ジメチルと １−（２−ヒドロキ
シエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラ
メチルピペリジンとの重縮合物、Ｎ，Ｎ’４，７−テト
ラキス〔４，６−ビス｛Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，
２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ｝
−１，３，５−トリアジン−２−イル〕−４，７−ジア
ザデカン−１，１０−ジアミン等が挙げられる。
【００３１】本発明において、有機ニッケル系化合物と
しては、特に限定されないが、有機ニッケル系消光剤が
挙げられ、具体例としては、ニッケルジブチルジチオカ
ルバメート、［２，２−チオビス（４−ｔ−オクチルフ
ェノレート）］−２−エチルヘキシルアミン−ニッケル
等が挙げられる。
しては、特に限定されないが、有機ニッケル系消光剤が
挙げられ、具体例としては、ニッケルジブチルジチオカ
ルバメート、［２，２−チオビス（４−ｔ−オクチルフ
ェノレート）］−２−エチルヘキシルアミン−ニッケル
等が挙げられる。
【００３２】本発明の光学フィルムに用いる、少なくと
も１種以上の可視域に吸収ピークを持たず、紫外線領域
に吸収を持つ化合物と、マトリックス高分子への混合比
は、該化合物の割合が大きすぎると、光学異方体フィル
ムの機械的強度が下がりハンドリングしにくくなるため
好ましい上限がある。また、化合物の割合が小さすぎる
と、光学異方体フィルムの光学特性が発現しにくくなる
ため好ましくない。
も１種以上の可視域に吸収ピークを持たず、紫外線領域
に吸収を持つ化合物と、マトリックス高分子への混合比
は、該化合物の割合が大きすぎると、光学異方体フィル
ムの機械的強度が下がりハンドリングしにくくなるため
好ましい上限がある。また、化合物の割合が小さすぎる
と、光学異方体フィルムの光学特性が発現しにくくなる
ため好ましくない。
【００３３】高分子と、該化合物と、ヒンダードアミン
系化合物または有機ニッケル系化合物の和に対する、該
化合物の割合は１〜３０質量％であり、２〜１５質量％
が更に好ましい。
系化合物または有機ニッケル系化合物の和に対する、該
化合物の割合は１〜３０質量％であり、２〜１５質量％
が更に好ましい。
【００３４】本発明において、高分子と、少なくとも１
種以上の可視域に吸収ピークを持たず、紫外線領域に吸
収を持つ化合物と、ヒンダードアミン系化合物または有
機ニッケル系化合物の和に対する、該化合物の割合が１
〜３０質量％であり、かつ高分子と化合物とヒンダード
アミン系化合物または有機ニッケル系化合物の和に対す
る、ヒンダードアミン系化合物または有機ニッケル系化
合物の割合が０.０１〜１質量％が好ましく、０.０１〜
０.０５質量％が更に好ましい。。
種以上の可視域に吸収ピークを持たず、紫外線領域に吸
収を持つ化合物と、ヒンダードアミン系化合物または有
機ニッケル系化合物の和に対する、該化合物の割合が１
〜３０質量％であり、かつ高分子と化合物とヒンダード
アミン系化合物または有機ニッケル系化合物の和に対す
る、ヒンダードアミン系化合物または有機ニッケル系化
合物の割合が０.０１〜１質量％が好ましく、０.０１〜
０.０５質量％が更に好ましい。。
【００３５】次に、本発明の光学異方体フィルム中の可
視域に吸収ピークを持たず、紫外線領域に吸収を持つ化
合物の形態について説明する。本発明の光学異方体フィ
ルムでは、該化合物は、マトリックス高分子から相分離
し、ドメインを形成していてもよく、相溶していてもよ
い。化合物が高分子に吸着していてもよい。相分離する
か、相溶するか、吸着するかは、用いる該化合物と用い
る高分子との組み合わせにより決定される。
視域に吸収ピークを持たず、紫外線領域に吸収を持つ化
合物の形態について説明する。本発明の光学異方体フィ
ルムでは、該化合物は、マトリックス高分子から相分離
し、ドメインを形成していてもよく、相溶していてもよ
い。化合物が高分子に吸着していてもよい。相分離する
か、相溶するか、吸着するかは、用いる該化合物と用い
る高分子との組み合わせにより決定される。
【００３６】本発明の光学異方体フィルムでは、該化合
物がマトリックス高分子から相分離している場合、該化
合物のドメインとマトリックス高分子の界面で可視光の
散乱が発生する可能性がある。本発明の光学異方体フィ
ルムでは、これらの界面の散乱に起因する内部散乱は小
さい方が好ましい。なぜならば散乱された光は一般に偏
光状態が変化するため内部散乱が大きい光学異方体フィ
ルムの場合、特性が悪化する可能性があり、また可視光
の透過率が悪くなるためである。内部散乱を小さくする
ために、該化合物または該化合物のドメインの長軸の長
さは、２０〜５００ｎｍであることが好ましく、３０〜
４００ｎｍがさらに好ましい。
物がマトリックス高分子から相分離している場合、該化
合物のドメインとマトリックス高分子の界面で可視光の
散乱が発生する可能性がある。本発明の光学異方体フィ
ルムでは、これらの界面の散乱に起因する内部散乱は小
さい方が好ましい。なぜならば散乱された光は一般に偏
光状態が変化するため内部散乱が大きい光学異方体フィ
ルムの場合、特性が悪化する可能性があり、また可視光
の透過率が悪くなるためである。内部散乱を小さくする
ために、該化合物または該化合物のドメインの長軸の長
さは、２０〜５００ｎｍであることが好ましく、３０〜
４００ｎｍがさらに好ましい。
【００３７】本発明の光学異方体フィルムで、該化合物
を高分子に相溶させたい場合や、該化合物を高分子に吸
着させたい場合は、公知の相溶化剤などを用いてもよ
い。
を高分子に相溶させたい場合や、該化合物を高分子に吸
着させたい場合は、公知の相溶化剤などを用いてもよ
い。
【００３８】本発明の光学異方体フィルムの法線方向か
ら観測したレターデーション（測定波長５５０ｎｍ）
は、５０〜３０００ｎｍが必須であり、好ましくは１０
０〜２５００ｎｍである。該レターデーションが５０ｎ
ｍ未満では、位相差フィルムとしての効果が小さいので
好ましくなく、３０００ｎｍを超えると同様に位相差フ
ィルムとして実用的ではないので好ましくない。
ら観測したレターデーション（測定波長５５０ｎｍ）
は、５０〜３０００ｎｍが必須であり、好ましくは１０
０〜２５００ｎｍである。該レターデーションが５０ｎ
ｍ未満では、位相差フィルムとしての効果が小さいので
好ましくなく、３０００ｎｍを超えると同様に位相差フ
ィルムとして実用的ではないので好ましくない。
【００３９】本発明の光学異方体フィルムのレターデー
ションの波長分散を示す指標として、フィルムの法線方
向よりセナルモン法を用いて水素のＦ線（波長４８６ｎ
ｍ）に相当する波長で測定したレターデーションＲ
Fと、ナトリウムのＤ線（波長５８９ｎｍ）に相当する
波長で測定したレターデーションＲDの比α＝ＲF／ＲD
を用いる。
ションの波長分散を示す指標として、フィルムの法線方
向よりセナルモン法を用いて水素のＦ線（波長４８６ｎ
ｍ）に相当する波長で測定したレターデーションＲ
Fと、ナトリウムのＤ線（波長５８９ｎｍ）に相当する
波長で測定したレターデーションＲDの比α＝ＲF／ＲD
を用いる。
【００４０】本発明の光学異方体フィルムでは、波長分
散を示す指数αは、１.０７以上であることが必須であ
り、好ましくは１．０７〜１．３００であり、より好ま
しくは１．０８０〜１．２５０である。該指数αが１．
０７未満では、本目的を達成するのに実用的ではないの
で好ましくない。
散を示す指数αは、１.０７以上であることが必須であ
り、好ましくは１．０７〜１．３００であり、より好ま
しくは１．０８０〜１．２５０である。該指数αが１．
０７未満では、本目的を達成するのに実用的ではないの
で好ましくない。
【００４１】良好な視野角特性を示す光学異方体フィル
ムの特性を示す指標としては、５５０ｎｍの光を用いて
フィルムの法線方向から測定したレターデーション（Ｒ
0）と該フィルムの遅相軸まわりに、フィルムへの光の
入射角を４０°傾斜したときのレターデーション
（Ｒ40）の比Ｒ40／Ｒ0が挙げられる。本発明の光学異
方体フィルムにおいては、視野角依存性を小さくするた
めに、該比が０．９００より大きく１．１００より小さ
いことが好ましい。該比が０．９００以下では、位相差
フィルムの広視野角化としては実用的ではないので好ま
しくなく、１．１００以上では同様に位相差フィルムの
広視野角化としては実用的ではないので好ましくない。
さらに好ましくは、該比が１に近いことである。しか
し、該比は、組み合わせて使用する液晶セルの視野角依
存性により適宜選択することができる。
ムの特性を示す指標としては、５５０ｎｍの光を用いて
フィルムの法線方向から測定したレターデーション（Ｒ
0）と該フィルムの遅相軸まわりに、フィルムへの光の
入射角を４０°傾斜したときのレターデーション
（Ｒ40）の比Ｒ40／Ｒ0が挙げられる。本発明の光学異
方体フィルムにおいては、視野角依存性を小さくするた
めに、該比が０．９００より大きく１．１００より小さ
いことが好ましい。該比が０．９００以下では、位相差
フィルムの広視野角化としては実用的ではないので好ま
しくなく、１．１００以上では同様に位相差フィルムの
広視野角化としては実用的ではないので好ましくない。
さらに好ましくは、該比が１に近いことである。しか
し、該比は、組み合わせて使用する液晶セルの視野角依
存性により適宜選択することができる。
【００４２】次に、本発明の光学異方体フィルムの製造
方法について説明する。本発明の光学異方体フィルム
は、高分子と、可視域に吸収ピークを持たず、紫外線領
域に吸収を持つ化合物と、ヒンダードアミン系化合物ま
たは有機ニッケル系化合物とを混合し、フィルムに成形
した後に該フィルムを延伸することで得られる（以下、
第１の製造方法と言うことがある）。また、高分子とヒ
ンダードアミン系化合物または有機ニッケル系化合物と
を混合し、高分子でフィルムに形成した後に該フィルム
を延伸し、可視域に吸収ピークを持たず、紫外線領域に
吸収を持つ化合物を該延伸フィルムに吸着することでも
得られる（以下、第２の製造方法と言うことがある）。
第１の製造方法の該化合物と、ヒンダードアミン系化合
物または有機ニッケル系化合物と、マトリックス高分子
の混合方法としては、均一に混合させるため溶液状態で
混合することが好ましい。具体的には、高分子を溶媒に
懸濁または溶解して、これに該化合物と、ヒンダードア
ミン系化合物または有機ニッケル系化合物とを懸濁また
は溶解して混合する方法が挙げられる。本発明で用いら
れる溶媒は、高分子に対する溶解度が大きい方が好まし
い。
方法について説明する。本発明の光学異方体フィルム
は、高分子と、可視域に吸収ピークを持たず、紫外線領
域に吸収を持つ化合物と、ヒンダードアミン系化合物ま
たは有機ニッケル系化合物とを混合し、フィルムに成形
した後に該フィルムを延伸することで得られる（以下、
第１の製造方法と言うことがある）。また、高分子とヒ
ンダードアミン系化合物または有機ニッケル系化合物と
を混合し、高分子でフィルムに形成した後に該フィルム
を延伸し、可視域に吸収ピークを持たず、紫外線領域に
吸収を持つ化合物を該延伸フィルムに吸着することでも
得られる（以下、第２の製造方法と言うことがある）。
第１の製造方法の該化合物と、ヒンダードアミン系化合
物または有機ニッケル系化合物と、マトリックス高分子
の混合方法としては、均一に混合させるため溶液状態で
混合することが好ましい。具体的には、高分子を溶媒に
懸濁または溶解して、これに該化合物と、ヒンダードア
ミン系化合物または有機ニッケル系化合物とを懸濁また
は溶解して混合する方法が挙げられる。本発明で用いら
れる溶媒は、高分子に対する溶解度が大きい方が好まし
い。
【００４３】該化合物と、ヒンダードアミン系化合物ま
たは有機ニッケル系化合物とマトリックス高分子からな
るフィルムの成膜法については、該化合物と、ヒンダー
ドアミン系化合物または有機ニッケル系化合物と、マト
リックス高分子とを溶剤に溶かし、キャストする溶剤キ
ャスト法、固体状態で混練しダイなどから押し出し、フ
ィルムにする押出成型法、固体状態で混練した後カレン
ダロールでフィルムにするカレンダー法、プレスなどで
フィルムにするプレス成型法などが例示される。この中
でも膜厚精度に優れた溶剤キャスト法が好ましい。成膜
後のフィルムの厚みは、特に制限はないが、薄すぎると
機械的強度に悪影響が現われ、厚すぎると溶媒キャスト
法で成膜したときの溶媒の蒸発速度が遅くなり生産性が
悪くなることから、ある程度の膜厚範囲にあることが好
ましい。成膜後のフィルムの厚みとしては、２０〜５０
０μｍが好ましく、更に好ましくは５０〜３００μｍで
ある。
たは有機ニッケル系化合物とマトリックス高分子からな
るフィルムの成膜法については、該化合物と、ヒンダー
ドアミン系化合物または有機ニッケル系化合物と、マト
リックス高分子とを溶剤に溶かし、キャストする溶剤キ
ャスト法、固体状態で混練しダイなどから押し出し、フ
ィルムにする押出成型法、固体状態で混練した後カレン
ダロールでフィルムにするカレンダー法、プレスなどで
フィルムにするプレス成型法などが例示される。この中
でも膜厚精度に優れた溶剤キャスト法が好ましい。成膜
後のフィルムの厚みは、特に制限はないが、薄すぎると
機械的強度に悪影響が現われ、厚すぎると溶媒キャスト
法で成膜したときの溶媒の蒸発速度が遅くなり生産性が
悪くなることから、ある程度の膜厚範囲にあることが好
ましい。成膜後のフィルムの厚みとしては、２０〜５０
０μｍが好ましく、更に好ましくは５０〜３００μｍで
ある。
【００４４】また、本発明の光学異方体フィルムの第２
の製造方法として、高分子と、ヒンダードアミン系化合
物または有機ニッケル系化合物とを混合し、第１の製造
方法と同様の方法でフィルムの形成および延伸を行った
フィルムに可視域に吸収ピークを持たず、紫外線領域に
吸収を持つ化合物を吸着してもよい。該化合物の吸着方
法については、例えば，延伸フィルムの貧溶媒で該化合
物の良溶媒に化合物を溶解し、該化合物溶液中で化合物
を該延伸フィルムに含浸させる方法や、フィルムの軟化
温度以下、該化合物の融点以上の温度で、該化合物を融
解し、該化合物融液中で化合物を該延伸フィルムに含浸
させる方法や、粉末状の該化合物を該延伸フィルムに含
浸させる方法などが例示される。
の製造方法として、高分子と、ヒンダードアミン系化合
物または有機ニッケル系化合物とを混合し、第１の製造
方法と同様の方法でフィルムの形成および延伸を行った
フィルムに可視域に吸収ピークを持たず、紫外線領域に
吸収を持つ化合物を吸着してもよい。該化合物の吸着方
法については、例えば，延伸フィルムの貧溶媒で該化合
物の良溶媒に化合物を溶解し、該化合物溶液中で化合物
を該延伸フィルムに含浸させる方法や、フィルムの軟化
温度以下、該化合物の融点以上の温度で、該化合物を融
解し、該化合物融液中で化合物を該延伸フィルムに含浸
させる方法や、粉末状の該化合物を該延伸フィルムに含
浸させる方法などが例示される。
【００４５】成膜後フィルムを加熱しながら延伸すると
きの延伸方法は、テンター延伸法、ロール間延伸法、ロ
ール間圧縮延伸法などが例示される。フィルム面の均一
性などの観点からテンター延伸法、ロール間延伸法が好
ましい。フィルムの加熱方法については特に制限はな
い。
きの延伸方法は、テンター延伸法、ロール間延伸法、ロ
ール間圧縮延伸法などが例示される。フィルム面の均一
性などの観点からテンター延伸法、ロール間延伸法が好
ましい。フィルムの加熱方法については特に制限はな
い。
【００４６】延伸方法は、公知の方法を使うことができ
る。例えば、（Ａ）前記フィルム作成工程で作成したフ
ィルムを一軸延伸し、これを特開平６−３００９１６号
公報に示されるように、ガラス転移温度または軟化温度
以上で熱緩和させる時に、フィルム面に平行かつ延伸軸
に垂直な方向の伸びを抑制しながら、延伸軸方向を収縮
させる方法、（Ｂ）前記フィルム作成工程で作成したフ
ィルムを一軸延伸し、この少なくとも片面に、熱収縮性
を有するフィルムを、該熱収縮性を有するフィルムの熱
収縮軸が前記一軸延伸された高分子フィルムの延伸軸と
直交するよう貼合し、得られた貼合体を加熱して、熱収
縮させる方法、または（Ｃ）特開平５−１５７９１１号
公報に示されるように、前記フィルム作成工程で作成し
たフィルムの少なくとも片面に熱収縮性を有するフィル
ムを、該熱収縮性を有するフィルムの熱収縮軸が前記一
軸延伸された高分子フィルムの延伸軸と直交するよう貼
合し、得られた貼合体を延伸する方法などが挙げられ
る。これらの中で、（Ａ）および（Ｂ）の方法が、量産
性の面およびコスト面で好ましい。
る。例えば、（Ａ）前記フィルム作成工程で作成したフ
ィルムを一軸延伸し、これを特開平６−３００９１６号
公報に示されるように、ガラス転移温度または軟化温度
以上で熱緩和させる時に、フィルム面に平行かつ延伸軸
に垂直な方向の伸びを抑制しながら、延伸軸方向を収縮
させる方法、（Ｂ）前記フィルム作成工程で作成したフ
ィルムを一軸延伸し、この少なくとも片面に、熱収縮性
を有するフィルムを、該熱収縮性を有するフィルムの熱
収縮軸が前記一軸延伸された高分子フィルムの延伸軸と
直交するよう貼合し、得られた貼合体を加熱して、熱収
縮させる方法、または（Ｃ）特開平５−１５７９１１号
公報に示されるように、前記フィルム作成工程で作成し
たフィルムの少なくとも片面に熱収縮性を有するフィル
ムを、該熱収縮性を有するフィルムの熱収縮軸が前記一
軸延伸された高分子フィルムの延伸軸と直交するよう貼
合し、得られた貼合体を延伸する方法などが挙げられ
る。これらの中で、（Ａ）および（Ｂ）の方法が、量産
性の面およびコスト面で好ましい。
【００４７】ここで、フィルムを一軸延伸する方法は、
上述したいずれの方法を用いてもよいが、厚み方向の屈
折率の制御性およびフィルム面内のレターデーションの
均一性等の点で、ロール間延伸法またはテンター延伸法
により一軸延伸する方法が好ましい。
上述したいずれの方法を用いてもよいが、厚み方向の屈
折率の制御性およびフィルム面内のレターデーションの
均一性等の点で、ロール間延伸法またはテンター延伸法
により一軸延伸する方法が好ましい。
【００４８】これらの延伸方法によりフィルムを延伸す
る際の加熱温度については、使用するマトリックス高分
子の軟化温度や化合物の転移温度により適宜選択され
る。延伸倍率については、倍率が低いと化合物の配向が
不充分になり、高すぎると膜厚が薄くなりすぎてハンド
リングが困難になるので好ましくない。該延伸倍率は、
具体的には１．１倍〜２０倍が好ましく、１．２倍〜１
５倍がさらに好ましい。延伸速度や延伸後の冷却速度に
ついては特に限定はない。
る際の加熱温度については、使用するマトリックス高分
子の軟化温度や化合物の転移温度により適宜選択され
る。延伸倍率については、倍率が低いと化合物の配向が
不充分になり、高すぎると膜厚が薄くなりすぎてハンド
リングが困難になるので好ましくない。該延伸倍率は、
具体的には１．１倍〜２０倍が好ましく、１．２倍〜１
５倍がさらに好ましい。延伸速度や延伸後の冷却速度に
ついては特に限定はない。
【００４９】本発明の光学異方性フィルムをＳＴＮセル
と組み合せて使用すると、白黒表示が良好な、視野角依
存性の小さい液晶表示装置が得られる。
と組み合せて使用すると、白黒表示が良好な、視野角依
存性の小さい液晶表示装置が得られる。
【００５０】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。化合
物の吸収ピーク波長は、化合物を可溶媒に溶解し、分光
光度計（日立製作所製、Ｕ−３５０）を用いて測定し
た。本発明の光学異方体フィルムのレターデーション
は、４２０、４４０、４８０、５５０、５７５、６０
０、７００ｎｍのλ／４板を用い、分光器を装備した偏
光解析装置によりセナルモン法を用いて測定した。波長
５５０ｎｍでのレターデーションをＲ（５５０）とし
た。光学異方体フィルムの波長分散を示す数式（１）で
定義されるαの値は、セナルモン法を用いて測定したレ
ターデーションをグラフ描画ソフト（ＷａｖｅＭｅｔｒ
ｉｃｓ社製 Ｉｇｏｒ Ｐｒｏ３．０）でローレンツの
式（下記数式３）を用いてカーブフィッティングし、フ
ィッティングの結果得られたフィッティング係数を用い
て、４８６ｎｍと５８９ｎｍのレターデーション値を数
式（３）を用いて計算し、数式（１）より計算した。
するが、本発明はこれに限定されるものではない。化合
物の吸収ピーク波長は、化合物を可溶媒に溶解し、分光
光度計（日立製作所製、Ｕ−３５０）を用いて測定し
た。本発明の光学異方体フィルムのレターデーション
は、４２０、４４０、４８０、５５０、５７５、６０
０、７００ｎｍのλ／４板を用い、分光器を装備した偏
光解析装置によりセナルモン法を用いて測定した。波長
５５０ｎｍでのレターデーションをＲ（５５０）とし
た。光学異方体フィルムの波長分散を示す数式（１）で
定義されるαの値は、セナルモン法を用いて測定したレ
ターデーションをグラフ描画ソフト（ＷａｖｅＭｅｔｒ
ｉｃｓ社製 Ｉｇｏｒ Ｐｒｏ３．０）でローレンツの
式（下記数式３）を用いてカーブフィッティングし、フ
ィッティングの結果得られたフィッティング係数を用い
て、４８６ｎｍと５８９ｎｍのレターデーション値を数
式（３）を用いて計算し、数式（１）より計算した。
【００５１】
【数４】
【００５２】［式中、λは測定波長、Ｒ（λ）は測定波
長でのレターデーションを示し、Ａ，Ｂ，λ0はフィッ
ティング係数である。] 光学異方体フィルムの視角依存性は、傾斜治具を装備し
た偏光解析装置にてセナルモン法を用いて５５０ｎｍの
波長の光で、法線方向から観測した該フィルムのレター
デーションと遅相軸まわりに該フィルムを傾斜したとき
のレターデーションを測定することにより評価した。
長でのレターデーションを示し、Ａ，Ｂ，λ0はフィッ
ティング係数である。] 光学異方体フィルムの視角依存性は、傾斜治具を装備し
た偏光解析装置にてセナルモン法を用いて５５０ｎｍの
波長の光で、法線方向から観測した該フィルムのレター
デーションと遅相軸まわりに該フィルムを傾斜したとき
のレターデーションを測定することにより評価した。
【００５３】比較例１ 下式（１−１）で示される化合物（吸収ピーク波長３７
５ｎｍ（ＤＭＦ溶液））８．１質量部とポリカーボネー
ト樹脂（帝人（株）製、商品名パンライトＣ−１４０
０）９１．９質量部を塩化メチレンに２０質量％になる
よう溶解し混合した。得られた溶液をガラス板上にキャ
ストし厚さ１００μｍのフィルムを得た。
５ｎｍ（ＤＭＦ溶液））８．１質量部とポリカーボネー
ト樹脂（帝人（株）製、商品名パンライトＣ−１４０
０）９１．９質量部を塩化メチレンに２０質量％になる
よう溶解し混合した。得られた溶液をガラス板上にキャ
ストし厚さ１００μｍのフィルムを得た。
【００５４】
【化９】
【００５５】得られたフィルムを１７０℃で１．５倍に
延伸し、レターデーションの波長分散を測定したとこ
ろ、α＝１．１０６であった。また得られたフィルムの
Ｒ（５５０）は４７０．４ｎｍであった。上記で得られ
たフィルムにＴＡＣ製ＵＶカットフィルム２枚でカバー
し、島津製作所製耐光性試験機サンテスターＸＦ−１８
０にてレベル３で３００時間光照射を行った。試験後の
フィルムのＲ（５５０）は、試験前と比較して６．２ｎ
ｍ低下していた。これは、試験前のＲ（５５０）の１．
３２％にあたる。
延伸し、レターデーションの波長分散を測定したとこ
ろ、α＝１．１０６であった。また得られたフィルムの
Ｒ（５５０）は４７０．４ｎｍであった。上記で得られ
たフィルムにＴＡＣ製ＵＶカットフィルム２枚でカバー
し、島津製作所製耐光性試験機サンテスターＸＦ−１８
０にてレベル３で３００時間光照射を行った。試験後の
フィルムのＲ（５５０）は、試験前と比較して６．２ｎ
ｍ低下していた。これは、試験前のＲ（５５０）の１．
３２％にあたる。
【００５６】実施例１ 前記式（１−１）で示される化合物（吸収ピーク波長３
７５ｎｍ（ＤＭＦ溶液））８．１質量部と、下式（４−
１）で示されるヒンダードアミン系化合物０．５質量部
と、ポリカーボネート樹脂（帝人（株）製、商品名パン
ライトＣ−１４００）９１．４質量部を塩化メチレンに
２０質量％になるよう溶解し混合した。得られた溶液を
ガラス板上にキャストし厚さ１００μｍのフィルムを得
た。
７５ｎｍ（ＤＭＦ溶液））８．１質量部と、下式（４−
１）で示されるヒンダードアミン系化合物０．５質量部
と、ポリカーボネート樹脂（帝人（株）製、商品名パン
ライトＣ−１４００）９１．４質量部を塩化メチレンに
２０質量％になるよう溶解し混合した。得られた溶液を
ガラス板上にキャストし厚さ１００μｍのフィルムを得
た。
【００５７】
【化１０】 化合物（４−１）
【００５８】得られたフィルムを１７０℃で１．５倍に
延伸し、レターデーションの波長分散を測定したとこ
ろ、α＝１．１０８の光学異方体フィルムが得られた。
また得られたフィルムのＲ（５５０）は４３４.０ｎｍ
であった。上記で得られたフィルムにＴＡＣ製ＵＶカッ
トフィルム２枚でカバーし、島津製作所製耐光性試験機
サンテスターＸＦ−１８０にてレベル３で３００時間光
照射を行った。試験後のフィルムのＲ（５５０）は、試
験前と比較して５．３ｎｍ低下していた。これは、試験
前のＲ（５５０）の１．２２％にあたる。このように、
本発明の光学異方体フィルムは、比較例１に比べて、光
照射後のレターデーション変化が小さく、本発明により
耐光性に優れたフィルムを得ることができた。
延伸し、レターデーションの波長分散を測定したとこ
ろ、α＝１．１０８の光学異方体フィルムが得られた。
また得られたフィルムのＲ（５５０）は４３４.０ｎｍ
であった。上記で得られたフィルムにＴＡＣ製ＵＶカッ
トフィルム２枚でカバーし、島津製作所製耐光性試験機
サンテスターＸＦ−１８０にてレベル３で３００時間光
照射を行った。試験後のフィルムのＲ（５５０）は、試
験前と比較して５．３ｎｍ低下していた。これは、試験
前のＲ（５５０）の１．２２％にあたる。このように、
本発明の光学異方体フィルムは、比較例１に比べて、光
照射後のレターデーション変化が小さく、本発明により
耐光性に優れたフィルムを得ることができた。
【００５９】実施例２ 前記式（１−１）で示される化合物（吸収ピーク波長３
７５ｎｍ（ＤＭＦ溶液））８．１質量部と、下式（４−
２）で示されるヒンダードアミン系化合物０．５質量部
と、ポリカーボネート樹脂（帝人（株）製、商品名パン
ライトＣ−１４００）９１．４質量部を塩化メチレンに
２０質量％になるよう溶解し混合した。得られた溶液を
ガラス板上にキャストし厚さ１００μｍのフィルムを得
た。
７５ｎｍ（ＤＭＦ溶液））８．１質量部と、下式（４−
２）で示されるヒンダードアミン系化合物０．５質量部
と、ポリカーボネート樹脂（帝人（株）製、商品名パン
ライトＣ−１４００）９１．４質量部を塩化メチレンに
２０質量％になるよう溶解し混合した。得られた溶液を
ガラス板上にキャストし厚さ１００μｍのフィルムを得
た。
【００６０】
【化１１】 化合物（４−２）
【００６１】得られたフィルムを１７０℃で１．５倍に
延伸し、レターデーションの波長分散を測定したとこ
ろ、α＝１．１１１の光学異方体フィルムが得られた。
また得られたフィルムのＲ（５５０）は３９９．９ｎｍ
であった。上記で得られたフィルムにＴＡＣ製ＵＶカッ
トフィルム２枚でカバーし、島津製作所製耐光性試験機
サンテスターＸＦ−１８０にてレベル３で３００時間光
照射を行った。試験後のフィルムのＲ（５５０）は、試
験前と比較して５．２ｎｍ低下していた。これは、試験
前のＲ（５５０）の１.３０％にあたる。このように、
本発明の光学異方体フィルムは、比較例１に比べて、光
照射後のレターデーション変化が小さく、本発明により
耐光性に優れたフィルムを得ることができた。
延伸し、レターデーションの波長分散を測定したとこ
ろ、α＝１．１１１の光学異方体フィルムが得られた。
また得られたフィルムのＲ（５５０）は３９９．９ｎｍ
であった。上記で得られたフィルムにＴＡＣ製ＵＶカッ
トフィルム２枚でカバーし、島津製作所製耐光性試験機
サンテスターＸＦ−１８０にてレベル３で３００時間光
照射を行った。試験後のフィルムのＲ（５５０）は、試
験前と比較して５．２ｎｍ低下していた。これは、試験
前のＲ（５５０）の１.３０％にあたる。このように、
本発明の光学異方体フィルムは、比較例１に比べて、光
照射後のレターデーション変化が小さく、本発明により
耐光性に優れたフィルムを得ることができた。
【００６２】実施例３ 前記式（１−１）で示される化合物（吸収ピーク波長３
７５ｎｍ（ＤＭＦ溶液））８．１質量部と、下式（４−
３）で示されるヒンダードアミン系化合物０．５質量部
と、ポリカーボネート樹脂（帝人（株）製、商品名パン
ライトＣ−１４００）９１．４質量部を塩化メチレンに
２０質量％になるよう溶解し混合した。得られた溶液を
ガラス板上にキャストし厚さ１００μｍのフィルムを得
た。
７５ｎｍ（ＤＭＦ溶液））８．１質量部と、下式（４−
３）で示されるヒンダードアミン系化合物０．５質量部
と、ポリカーボネート樹脂（帝人（株）製、商品名パン
ライトＣ−１４００）９１．４質量部を塩化メチレンに
２０質量％になるよう溶解し混合した。得られた溶液を
ガラス板上にキャストし厚さ１００μｍのフィルムを得
た。
【００６３】
【化１２】 化合物（４−３）
【００６４】得られたフィルムを１７０℃で１．５倍に
延伸し、レターデーションの波長分散を測定したとこ
ろ、α＝１．１１１の光学異方体フィルムが得られた。
また得られたフィルムのＲ（５５０）は４０９．９ｎｍ
であった。上記で得られたフィルムにＴＡＣ製ＵＶカッ
トフィルム２枚でカバーし、島津製作所製耐光性試験機
サンテスターＸＦ−１８０にてレベル３で３００時間光
照射を行った。試験後のフィルムのＲ（５５０）は、試
験前と比較して３．４ｎｍ低下していた。これは、試験
前のＲ（５５０）の０．８３％にあたる。このように、
本発明の光学異方体フィルムは、比較例１に比べて、光
照射後のレターデーション変化が小さく、本発明により
耐光性に優れたフィルムを得ることができた。
延伸し、レターデーションの波長分散を測定したとこ
ろ、α＝１．１１１の光学異方体フィルムが得られた。
また得られたフィルムのＲ（５５０）は４０９．９ｎｍ
であった。上記で得られたフィルムにＴＡＣ製ＵＶカッ
トフィルム２枚でカバーし、島津製作所製耐光性試験機
サンテスターＸＦ−１８０にてレベル３で３００時間光
照射を行った。試験後のフィルムのＲ（５５０）は、試
験前と比較して３．４ｎｍ低下していた。これは、試験
前のＲ（５５０）の０．８３％にあたる。このように、
本発明の光学異方体フィルムは、比較例１に比べて、光
照射後のレターデーション変化が小さく、本発明により
耐光性に優れたフィルムを得ることができた。
【００６５】実施例６ 前記式（１−１）で示される化合物（吸収ピーク波長３
７５ｎｍ（ＤＭＦ溶液））８．１質量部と、下式（４−
４）で示されるヒンダードアミン系化合物０．５質量部
と、ポリカーボネート樹脂（帝人（株）製、商品名パン
ライトＣ−１４００）９１．４質量部を塩化メチレンに
２０質量％になるよう溶解し混合した。得られた溶液を
ガラス板上にキャストし厚さ１００μｍのフィルムを得
た。
７５ｎｍ（ＤＭＦ溶液））８．１質量部と、下式（４−
４）で示されるヒンダードアミン系化合物０．５質量部
と、ポリカーボネート樹脂（帝人（株）製、商品名パン
ライトＣ−１４００）９１．４質量部を塩化メチレンに
２０質量％になるよう溶解し混合した。得られた溶液を
ガラス板上にキャストし厚さ１００μｍのフィルムを得
た。
【００６６】
【化１３】 化合物（４−４）
【００６７】得られたフィルムを１７０℃で１．５倍に
延伸し、レターデーションの波長分散を測定したとこ
ろ、α＝１．１０８の光学異方体フィルムが得られた。
また得られたフィルムのＲ（５５０）は４４５．０ｎｍ
であった。上記で得られたフィルムにＴＡＣ製ＵＶカッ
トフィルム２枚でカバーし、島津製作所製耐光性試験機
サンテスターＸＦ−１８０にてレベル３で３００時間光
照射を行った。試験後のフィルムのＲ（５５０）は、試
験前と比較して５．１ｎｍ低下していた。これは、試験
前のＲ（５５０）の１．１５％にあたる。このように、
本発明の光学異方体フィルムは、比較例１に比べて、光
照射後のレターデーション変化が小さく、本発明により
耐光性に優れたフィルムを得ることができた。
延伸し、レターデーションの波長分散を測定したとこ
ろ、α＝１．１０８の光学異方体フィルムが得られた。
また得られたフィルムのＲ（５５０）は４４５．０ｎｍ
であった。上記で得られたフィルムにＴＡＣ製ＵＶカッ
トフィルム２枚でカバーし、島津製作所製耐光性試験機
サンテスターＸＦ−１８０にてレベル３で３００時間光
照射を行った。試験後のフィルムのＲ（５５０）は、試
験前と比較して５．１ｎｍ低下していた。これは、試験
前のＲ（５５０）の１．１５％にあたる。このように、
本発明の光学異方体フィルムは、比較例１に比べて、光
照射後のレターデーション変化が小さく、本発明により
耐光性に優れたフィルムを得ることができた。
【００６８】実施例８ 前記式（１−１）で示される化合物（吸収ピーク波長３
７５ｎｍ（ＤＭＦ溶液））８．１質量部と、下式（４−
５）で示されるヒンダードアミン系化合物０．５質量部
と、ポリカーボネート樹脂（帝人（株）製、商品名パン
ライトＣ−１４００）９１．４質量部を塩化メチレンに
２０質量％になるよう溶解し混合した。得られた溶液を
ガラス板上にキャストし厚さ１００μｍのフィルムを得
た。
７５ｎｍ（ＤＭＦ溶液））８．１質量部と、下式（４−
５）で示されるヒンダードアミン系化合物０．５質量部
と、ポリカーボネート樹脂（帝人（株）製、商品名パン
ライトＣ−１４００）９１．４質量部を塩化メチレンに
２０質量％になるよう溶解し混合した。得られた溶液を
ガラス板上にキャストし厚さ１００μｍのフィルムを得
た。
【００６９】
【化１４】 化合物（４−５）
【００７０】得られたフィルムを１７０℃で１．５倍に
延伸し、レターデーションの波長分散を測定したとこ
ろ、α＝１．１１１の光学異方体フィルムが得られた。
また得られたフィルムのＲ（５５０）は３８９．９ｎｍ
であった。上記で得られたフィルムにＴＡＣ製ＵＶカッ
トフィルム２枚でカバーし、島津製作所製耐光性試験機
サンテスターＸＦ−１８０にてレベル３で３００時間光
照射を行った。試験後のフィルムのＲ（５５０）は、試
験前と比較して４．５ｎｍ低下していた。これは、試験
前のＲ（５５０）の１．１５％にあたる。このように、
本発明の光学異方体フィルムは、比較例１に比べて、光
照射後のレターデーション変化が小さく、本発明により
耐光性に優れたフィルムを得ることができた。
延伸し、レターデーションの波長分散を測定したとこ
ろ、α＝１．１１１の光学異方体フィルムが得られた。
また得られたフィルムのＲ（５５０）は３８９．９ｎｍ
であった。上記で得られたフィルムにＴＡＣ製ＵＶカッ
トフィルム２枚でカバーし、島津製作所製耐光性試験機
サンテスターＸＦ−１８０にてレベル３で３００時間光
照射を行った。試験後のフィルムのＲ（５５０）は、試
験前と比較して４．５ｎｍ低下していた。これは、試験
前のＲ（５５０）の１．１５％にあたる。このように、
本発明の光学異方体フィルムは、比較例１に比べて、光
照射後のレターデーション変化が小さく、本発明により
耐光性に優れたフィルムを得ることができた。
【００７１】実施例１で得られたフィルムのレターデー
ション比（Ｒ40／Ｒ0）を測定したところ、Ｒ40／Ｒ0＝
１．０９０であった。得られたフィルムの両側に熱収縮
性を有するフィルムを、熱収縮軸が、前記の一軸延伸さ
れた高分子フィルムの延伸軸と直交するように貼合し、
得られた貼合品を１５０℃、３．５分加熱して、熱収縮
延伸した。光学異方体フィルムのレターデーション比
（Ｒ40／Ｒ0）を測定したところ、Ｒ40／Ｒ0＝１．０２
０であった。このように、得られた本発明の光学異方体
フィルムをＳＴＮセルと組み合わせて使用すると、視野
角依存性の小さい表示が得られる。
ション比（Ｒ40／Ｒ0）を測定したところ、Ｒ40／Ｒ0＝
１．０９０であった。得られたフィルムの両側に熱収縮
性を有するフィルムを、熱収縮軸が、前記の一軸延伸さ
れた高分子フィルムの延伸軸と直交するように貼合し、
得られた貼合品を１５０℃、３．５分加熱して、熱収縮
延伸した。光学異方体フィルムのレターデーション比
（Ｒ40／Ｒ0）を測定したところ、Ｒ40／Ｒ0＝１．０２
０であった。このように、得られた本発明の光学異方体
フィルムをＳＴＮセルと組み合わせて使用すると、視野
角依存性の小さい表示が得られる。
【００７２】
【発明の効果】本発明の光学異方体フィルムは、レター
デーションの波長分散が大きく、耐光性に優れ、高速Ｓ
ＴＮ型液晶セルと好適に組み合わせて使用することで良
好な白黒表示を示し、視野角依存性の小さい液晶表示装
置が得られる。
デーションの波長分散が大きく、耐光性に優れ、高速Ｓ
ＴＮ型液晶セルと好適に組み合わせて使用することで良
好な白黒表示を示し、視野角依存性の小さい液晶表示装
置が得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｋ 5/3432 Ｃ０８Ｋ 5/3432 5/45 5/45 5/56 5/56 Ｃ０８Ｌ 79/04 Ｃ０８Ｌ 79/04 Ｚ 101/00 101/00 Ｇ０２Ｆ 1/13363 Ｇ０２Ｆ 1/13363 Ｆターム(参考） 2H049 BA12 BA25 BB13 BB49 BC03 BC09 BC22 2H091 FA11X FA11Z HA09 HA10 LA19 4F071 AA09 AA22 AA29 AA45 AA46 AA48 AA50 AA58 AC02 AC03 AC06 AC12 AC18 AC19 AH19 BB02 BB04 BB06 BB07 BC01 BC10 BC12 4J002 AB021 BC031 BE031 CF061 CF081 CF161 CG001 CM022 EA026 EA046 EB076 EB106 ED056 EL066 ET006 EU026 EU056 EU077 EU087 EU116 EU176 EU187 EU216 EU237 EV306 EV326 EZ007 FD042 FD047 GP00
Claims (7)
- 【請求項１】高分子と、少なくとも１種以上の可視域に
吸収ピークを持たず、紫外線領域に吸収を持つ化合物
と、ヒンダードアミン系化合物または有機ニッケル系化
合物とを含む光学異方体フィルムであり、該光学異方体
フィルムのレターデーション（測定波長５４６ｎｍ）が
５０〜３０００ｎｍであり、該光学異方体フィルムの下
記数式（１）で定義されるαの値が１．０７以上である
ことを特徴とする光学異方体フィルム。 【数１】α＝ＲF／ＲD・・・（１） ［式中、ＲFは水素Ｆ線（波長４８６ｎｍ）に相当する
波長で測定したレタ−デ−ションの値であり、ＲDはナ
トリウムＤ線（波長５８９ｎｍ）に相当する波長で測定
したレタ−デ−ションの値である。］ - 【請求項２】少なくとも１種以上の可視域に吸収ピーク
を持たず、紫外線領域に吸収を持つ化合物が、その吸収
ピーク波長が２５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲である請求
項１記載の光学異方体フィルム。 - 【請求項３】高分子と、少なくとも１種以上の可視域に
吸収ピークを持たず、紫外線領域に吸収を持つ化合物
と、ヒンダードアミン系化合物または有機ニッケル系化
合物の和に対する、該化合物の割合が１〜３０質量％で
あり、かつ高分子と化合物とヒンダードアミン系化合物
または有機ニッケル系化合物の和に対する、ヒンダード
アミン系化合物または有機ニッケル系化合物の割合が
０.０１〜１質量％である請求項１または２記載の光学
異方体フィルム。 - 【請求項４】少なくとも１種以上の可視域に吸収ピーク
を持たず、紫外線領域に吸収を持つ化合物が、下記一般
式（１） 【化１】 ［式中、Ｒ1、Ｒ2は、それぞれ独立に、水素原子または
炭素数１〜１５の直鎖もしくは分岐していてもよいアル
キル基を表し、ｍ、ｎは、それぞれ独立に、０〜４の整
数を表す。］で示される化合物、または下記一般式
（２） 【化２】 ［式中、Ｒ3、Ｒ4は、それぞれ独立に、水素原子、フッ
素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ
基、シアノ基、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１
〜１２のアルコキシ基、炭素数２〜１２のアルケニル
基、炭素数２〜１２のアルキニル基または炭素数２〜１
２のアルコキシアルキル基を示す。Ａ1、Ａ3は、それぞ
れ独立に、水素原子が，炭素数１〜１０のアルキル基も
しくはフッ素原子に置換されていてもよい，１，４−フ
ェニレン基または１，４−シクロヘキシレン基を示す。
Ａ2は、水素原子が、炭素数１〜１０のアルキル基もし
くはフッ素原子に置換されていてもよい、１，４−フェ
ニレン基を示す。ｐ、ｒは、それぞれ独立に０または１
である。ａ、ｂは、それぞれ独立に０から２の整数であ
る。ｑは１から３のいずれかの整数である。ただし、ｑ
が１のとき、ｐ、ｒが同時に０になることはない。］で
示される化合物、または下記一般式（３） 【化３】 ［式中、Ｒ5、Ｒ6は、それぞれ独立に、水素原子、フッ
素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ
基、シアノ基、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１
〜１２のアルコキシ基、炭素数２〜１２のアルケニル
基、炭素数２〜１２のアルキニル基または炭素数２〜１
２のアルコキシアルキル基を示す。Ａ4、Ａ5、Ａ6は、
それぞれ独立に、水素原子が炭素数１〜１０のアルキル
基、炭素数１〜１０のアルコキシ基もしくはフッ素原子
に置換されていてもよい、フラン−２，５−ジイル、ピ
ロール−２，５−ジイル、イミダゾール−２，５−ジイ
ル、チアゾール−２，５−ジイル、オキサジアゾール−
２，５−ジイル、トリアゾール−２，５−ジイル、チア
ジアゾール−２，５−ジイル、インデン−２，５−ジイ
ル、インデン−２，６−ジイル、ベンゾフラン−２，５
−ジイル、ベンゾフラン−２，６−ジイル、ベンゾチオ
フェン−２，５−ジイル、ベンゾチオフェン−２，６−
ジイル、キノリン−２，７−ジイル、キノリン−２，６
−ジイル、フルオレン−２，７−ジイル、フルオレン−
２，６−ジイル、カルバゾール−２，７−ジイルまたは
カルバゾール−２，６−ジイルのいずれかの基を示す。
Ｂ1、Ｂ2、Ｂ3、Ｂ4は、それぞれ独立に、水素原子が、
直鎖もしくは分岐していてもよい炭素数１〜１０のアル
キル基、直鎖もしくは分岐していてもよい炭素数１〜１
０のアルコキシ基、またはフッ素原子に置換されていて
もよい、１，４−フェニレン基を示す。ｃ、ｄ、ｅ、
ｆ、ｇ、ｈは、それぞれ独立に０または１である。ただ
し、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈが同時に０になることはな
い。］で示される化合物である請求項１から３のいずれ
かに記載の光学異方体フィルム。 - 【請求項５】ヒンダードアミン系化合物が、下記の構造
式（４）を部分構造として有する光安定剤である請求項
１から４のいずれかに記載の光学異方体フィルム。 【化４】 - 【請求項６】光学異方体フィルムのレターデーション比
（Ｒ40／Ｒ0）が下記数式（２）を満たすことを特徴と
する請求項１から６のいずれかに記載の光学異方体フィ
ルム。 【数２】 ０．９００＜Ｒ40／Ｒ0＜１．１００・・・（２） ［式中、Ｒ0は、偏光解析装置でセナルモン法（測定波
長５５０ｎｍ）を用いて測定したフィルム法線方向から
見たレターデーションであり、Ｒ40は、該フィルムの遅
相軸を回転軸として、該フィルムへの光の入射角を４０
゜傾斜して測定したときのレターデーションである。] - 【請求項７】請求項１から７のいずれかに記載の光学異
方体フィルムを用いることを特徴とする液晶表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000151110A JP2001330730A (ja) | 2000-05-23 | 2000-05-23 | 光学異方体フィルムおよび液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000151110A JP2001330730A (ja) | 2000-05-23 | 2000-05-23 | 光学異方体フィルムおよび液晶表示装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001330730A true JP2001330730A (ja) | 2001-11-30 |
| JP2001330730A5 JP2001330730A5 (ja) | 2007-06-07 |
Family
ID=18656718
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000151110A Pending JP2001330730A (ja) | 2000-05-23 | 2000-05-23 | 光学異方体フィルムおよび液晶表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001330730A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2006126253A (ja) * | 2004-10-26 | 2006-05-18 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 偏光膜用染料及び該染料を含有する染料系偏光膜 |
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| GB2448521A (en) * | 2007-04-18 | 2008-10-22 | Piotr Koneczny | Paint conservation-restoration composition and method |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH0396901A (ja) * | 1989-09-11 | 1991-04-22 | Kureha Chem Ind Co Ltd | 調光作用を有する偏光性樹脂製光学部材 |
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-
2000
- 2000-05-23 JP JP2000151110A patent/JP2001330730A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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