JP2001326459A - Wiring circuit board and its manufacturing method - Google Patents

Wiring circuit board and its manufacturing method

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JP2001326459A
JP2001326459A JP2000142658A JP2000142658A JP2001326459A JP 2001326459 A JP2001326459 A JP 2001326459A JP 2000142658 A JP2000142658 A JP 2000142658A JP 2000142658 A JP2000142658 A JP 2000142658A JP 2001326459 A JP2001326459 A JP 2001326459A
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metal layer
circuit board
conductor
printed circuit
layer
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JP2000142658A
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Asao Iijima
朝雄 飯島
Masayuki Osawa
正行 大沢
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North Corp
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North Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To raise connection reliability between upper and lower conductor circuits and realize reduction in a cost of a connection means between upper and lower conductor circuits by raising dimensional stability in a manufacturing process, by preventing generation of bending, snapping and wrong sizes in a manufacturing process. SOLUTION: A conductor circuit formation copper foil 23 is formed on a projection formation copper layer 21 via an etching barrier layer 22 formed of another metal, projections 25 are formed by selectively etching the projection formation copper layer 21 by means of etchant which does not attack the etching barrier layer 22, the etching barrier layer 22 is removed by etchant which does not attack the copper foil 23 forming a conductor circuit by using the projections 25 as masks, and a layer insulation film 27 is formed on the surface on the projection formation side of the copper foil 23 as an interlayer connection means where the projections 25 are connected to a conductor circuit.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばIC、LS
I等の電子デバイス実装用の配線回路基板、特に高密度
実装を実現できる配線回路基板と、その製造方法に関す
る。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to, for example, IC, LS
The present invention relates to a printed circuit board for mounting electronic devices such as I, particularly a printed circuit board capable of realizing high-density mounting, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】図23(A)〜(F)及び図24(G)
〜(I)は高密度実装用配線回路基板に関する一つの従
来例を説明するためのもので、配線回路基板の製造方法
を工程順(A)〜(I)に示す断面図である。
2. Description of the Related Art FIGS. 23A to 23F and 24G.
FIGS. 1A to 1I are cross-sectional views illustrating a conventional method of manufacturing a printed circuit board for high-density mounting, in the order of steps (A) to (I).

【0003】(A)先ず、25〜100μm程度の厚さ
の絶縁シートからなる絶縁ベース1を用意し、図23
(A)に示すように、該絶縁シート1に層間接続用の孔
2をパンチング、ドリルにより或いはレーザー加工によ
り形成する。 (B)次に、図23(B)に示すように、上記孔2を導
電性ペースト(例えば銀或いは銅等を主材料とする。)
3により例えば印刷法で充填する。これにより、絶縁ベ
ース1は孔2、2、・・・が導電性ペースト3により充
填された半硬化状態のシートAになる。
(A) First, an insulating base 1 made of an insulating sheet having a thickness of about 25 to 100 μm is prepared.
As shown in (A), holes 2 for interlayer connection are formed in the insulating sheet 1 by punching, drilling, or laser processing. (B) Next, as shown in FIG. 23B, the hole 2 is made of a conductive paste (for example, silver or copper is used as a main material).
3 is filled by a printing method, for example. Thus, the insulating base 1 becomes a semi-cured sheet A in which the holes 2, 2, ... are filled with the conductive paste 3.

【0004】(C)、(D)次に、図23(C)に示す
ように、上記シートAの両面に例えば銅からなる金属箔
4、4を臨ませ、図23(D)に示すようにその金属箔
4、4を加圧加熱プレスで積層する。これにより両面に
金属箔4、4が形成され、その間に絶縁シート1が存在
し、孔2、2、・・・にて導電性ペースト3、3、・・
・により上記両面の金属箔4・4間が電気的に接続され
た積層体が構成される。 (E)次に、上記金属箔4、4上に形成すべき導体回路
と同じパターンを有するレジスト膜5、5を形成する。
図23(E)はレジスト膜5、5形成後の状態を示す。
(C), (D) Next, as shown in FIG. 23 (C), metal foils 4 and 4 made of, for example, copper are made to face both surfaces of the sheet A, and as shown in FIG. Then, the metal foils 4 and 4 are laminated by a press and heat press. As a result, metal foils 4 and 4 are formed on both surfaces, and an insulating sheet 1 is present between the metal foils and conductive pastes 3, 3,.
Thus, a laminate is formed in which the metal foils 4 on both sides are electrically connected. (E) Next, resist films 5, 5 having the same pattern as the conductor circuits to be formed on the metal foils 4, 4 are formed.
FIG. 23E shows a state after the formation of the resist films 5 and 5.

【0005】(F)次に、上記レジスト膜5、5をマス
クとして上記金属箔4、4をエッチングすることにより
図23(F)に示すように導体回路6、6を形成する。
これにより両面に絶縁シート1により層間分離され、孔
2内の導電性ペースト3により層間接続された導体回路
6、6が形成された積層体Bが構成される。 (G)次に、図24(G)に示すように、上記積層体B
の両面に、孔2、2、・・・を有し、その孔2、2、・
・・が導電性ペースト3、3、・・・で充填された絶縁
シート1a、1aと金属箔4a、4aを重ね、その後、
加圧プレスでこれらを積層する。この積層により形成さ
れた積層体をCとする。
(F) Next, the metal foils 4 and 4 are etched using the resist films 5 and 5 as masks to form conductor circuits 6 and 6 as shown in FIG.
As a result, a laminated body B is formed in which conductor circuits 6 and 6 are formed on both sides of which are separated by the insulating sheet 1 and are connected to each other by the conductive paste 3 in the holes 2. (G) Next, as shown in FIG.
Have holes 2, 2,... On both surfaces thereof.
··· overlaps the insulating sheets 1a, 1a and the metal foils 4a, 4a filled with the conductive pastes 3, 3,.
These are laminated by a pressure press. The laminate formed by this lamination is designated as C.

【0006】(H)次に、図24(H)に示すように、
積層体Cの両面の金属箔4a、4a上にレジスト膜5、
5を選択的に形成する。 (I)次に、上記レジスト膜5、5をマスクとして金属
箔4a、4aを選択的にエッチングすることによりパタ
ーニングして、図24(I)に示すように配線膜6a、
6aを形成する。これにより、4層の導体回路6、6、
6a、6aを有する配線回路基板7が形成される。
(H) Next, as shown in FIG.
A resist film 5 on the metal foils 4a, 4a on both sides of the laminate C;
5 is selectively formed. (I) Next, the metal foils 4a, 4a are patterned by selectively etching using the resist films 5, 5 as masks, and as shown in FIG.
6a is formed. As a result, the four-layer conductor circuits 6, 6,
The printed circuit board 7 having 6a, 6a is formed.

【0007】図25(A)〜(G)は高密度実装用配線
回路基板に関する別の従来例を説明するためのもので、
配線回路基板の製造方法を工程順(A)〜(G)に示す
断面図である。 (A)例えば銅からなる金属箔(厚さ例えば18μm)
10を用意し、図25(A)に示すように、該金属箔1
0上に導電性の突起11、11、・・・を銅或いは銀等
の導電性ペーストをメタル版を介して印刷により形成
し、加熱硬化する。突起11、11、・・・の厚さは例
えば100〜300μm程度である。
FIGS. 25A to 25G are diagrams for explaining another conventional example relating to a printed circuit board for high-density mounting.
It is sectional drawing which shows the manufacturing method of a printed circuit board in process order (A)-(G). (A) Metal foil made of, for example, copper (thickness of, for example, 18 μm)
10 was prepared, and as shown in FIG.
The conductive projections 11, 11,... Are formed by printing a conductive paste such as copper or silver on a metal plate through a metal plate, and are cured by heating. The thickness of the projections 11, 11,... Is, for example, about 100 to 300 μm.

【0008】(B)次に、図25(B)に示すように、
上記金属箔10の突起11、11、・・・が形成された
面上に絶縁性の接着シート12を接着する。この接着シ
ート12として記突起11、11、・・・の厚さよりも
適宜薄いものを用いることより、上記突起11、11、
・・・の頂部が接着シート12の表面から突出するよう
にする。この金属箔10に突起11、11、・・・を形
成し、接着シート12をそれから突起11、11、・・
・の頂部が突出するように接着した積層体Aが出来上が
る。
(B) Next, as shown in FIG.
An insulating adhesive sheet 12 is adhered on the surface of the metal foil 10 on which the protrusions 11, 11,... Are formed. By using an adhesive sheet 12 that is appropriately thinner than the thicknesses of the protrusions 11, 11,..., The protrusions 11, 11,.
.. Are projected from the surface of the adhesive sheet 12. Forming projections 11, 11,... On the metal foil 10, and bonding the adhesive sheet 12 to the projections 11, 11,.
The laminated body A adhered so that the top of is protruded is completed.

【0009】(C)、(D)次に、図25(C)に示す
ように、上記金属箔10と同様の金属箔13を上記接着
シート10の接着シート12表面上方に臨ませ、熱加圧
プレス法により、図24(D)に示すように、金属箔1
3を接着シート12及び突起11、11、・・・上に積
層する。Bはそれによりできた積層体である。 (E)次に、上記積層体Bの両面の金属箔10、13上
にパターニングした例えばレジスト膜を形成し、該レジ
スト膜をマスクとして上記金属箔10、13をエッチン
グすることにより導体回路14、15を形成する。図2
5(E)は導体回路形成後マスクとして用いたレジスト
膜を除去した状態を示す。
(C), (D) Next, as shown in FIG. 25 (C), a metal foil 13 similar to the metal foil 10 is exposed above the surface of the adhesive sheet 12 of the adhesive sheet 10 and heated. As shown in FIG. 24 (D), the metal foil 1
3 are laminated on the adhesive sheet 12 and the projections 11, 11,.... B is the resulting laminate. (E) Next, for example, a patterned resist film is formed on the metal foils 10 and 13 on both sides of the laminate B, and the metal foils 10 and 13 are etched using the resist film as a mask to form the conductor circuits 14 and 13. 15 are formed. FIG.
FIG. 5E shows a state in which the resist film used as the mask after the formation of the conductor circuit is removed.

【0010】(F)次に、上記図25(B)に示す積層
体Aと同じ方法でつくられた積層体aを二つ用意し、そ
の二つの積層体a、aを、図25(F)に示すように、
上記積層体Bの両面に臨ませる。 (G)次に、上記積層体Bをその両面側から積層体a、
aでサンドイッチ状に挟んで上述した熱加圧プレス法に
より加圧して積層し、図25(G)に示すような配線回
路基板16が出来上がる。
(F) Next, two laminates a produced by the same method as the laminate A shown in FIG. 25B are prepared, and the two laminates a, a are placed in FIG. ),
It faces both sides of the laminate B. (G) Next, the laminate B was laminated from both sides thereof to a laminate a,
Then, the printed circuit board 16 is sandwiched in the shape of a and pressed and laminated by the above-mentioned hot press method, thereby completing the printed circuit board 16 as shown in FIG.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】ところで、図23、図
24に示した従来例には、第1に、絶縁シート1の孔2
を銀等の高価な金属を主材料とする導電性ペースト3で
埋めて層間接続に用いるので、コストアップに繋がると
いう問題があった。特に、高密度化に伴い、孔2の配設
密度が増えるので、無視できないコストアップが生じ
る。第2に、孔2を導電性ペースト3で埋める際に、孔
2以外の部分にも導電性材料が微量ながら付着し、特に
高湿下において絶縁抵抗が低下するという問題があっ
た。
By the way, the prior art shown in FIGS. 23 and 24 firstly has two holes 2 in the insulating sheet 1.
Is filled with a conductive paste 3 containing an expensive metal such as silver as a main material and used for interlayer connection, leading to a problem that the cost is increased. In particular, as the density increases, the arrangement density of the holes 2 increases, so that a considerable cost increase occurs. Secondly, when the holes 2 are filled with the conductive paste 3, a small amount of the conductive material adheres to portions other than the holes 2, and there is a problem that the insulation resistance is reduced particularly under high humidity.

【0012】第3に、絶縁シート1に孔2、2、・・・
を形成した後加圧積層するときに、加わる圧力によりシ
ート1が横方向に伸延され、孔2、2、・・・の位置ず
れが生じ、補正を行って孔明けをしても高密度パターン
においては補正しきれない場合が生じるという問題があ
った。斯かる孔2の位置ずれは層間接続不良の原因にな
り看過できない重大な問題となり、特に高密度実装の配
線回路基板の場合には致命的となる。第4に、銅等から
なる金属箔4、4と導電性ペースト3との接合の信頼性
が不充分であるという問題があった。即ち、孔2を埋め
た導電性ペースト3は半硬化状になるように溶剤分を除
去するが、半硬化後の導電ペーストは溶剤分の除去等に
より収縮し、体積が小さくなり、導電ペースト3の上下
両面が凹状になることが多い。その結果、金属箔4、4
との間に接合不良が生じやすく、歩留まり、信頼性が低
くなると言う問題があったのである。
Third, holes 2, 2,...
Is formed, the sheet 1 is extended in the horizontal direction due to the applied pressure, and the holes 2, 2,... Are displaced. However, there is a problem that correction cannot be performed in some cases. Such a displacement of the hole 2 causes a poor interlayer connection and becomes a serious problem that cannot be overlooked, and is particularly fatal in the case of a high-density printed circuit board. Fourth, there is a problem that the reliability of bonding between the metal foils 4 and 4 made of copper or the like and the conductive paste 3 is insufficient. That is, the conductive paste 3 in which the holes 2 are filled is removed from the solvent so that the conductive paste 3 becomes semi-cured. However, the conductive paste after the semi-curing shrinks due to the removal of the solvent and the like, and the volume decreases. The upper and lower surfaces are often concave. As a result, the metal foils 4, 4
In this case, there is a problem that a bonding failure is likely to occur between them and the yield and reliability are reduced.

【0013】次に、図25に示す従来例にも問題があっ
た。第1に、突起11は高価な材料である導電性ペース
トで形成するので、コストアップになるという問題があ
った。第2に、突起11の導電性ペーストによる形成に
は、スクリーン印刷法を用いる結果、導電性ペーストを
厚くすることに限界があり、その結果、突起11の形成
にスクリーン印刷を複数回繰り返すことが必要になる場
合が多い。そして、そのように印刷回数が多くなると、
位置ずれによる突起11の形状の変形が生じ易くなり、
延いては後における金属箔4との接続の信頼度が低くな
ると言う問題があるし、スクリーン印刷するときの位置
合わせ作業が非常に難しく、面倒で、熟練を要すると
か、位置合わせ時間が長くなるという問題が生じる。こ
のような傾向は、突起11の径が小さくなる程顕著であ
る。因みに、直径が0.3mmの突起の場合、2回印刷
が必要であり、直径0.2mmの突起の場合、4回印刷
する必要がある。これはかなり面倒であり、生産性向上
の障害にもなり、高密度配線回路基板への対応に課題を
残している。
Next, the conventional example shown in FIG. 25 also has a problem. First, since the projections 11 are formed of a conductive paste, which is an expensive material, there is a problem that the cost is increased. Second, the formation of the projections 11 with the conductive paste uses a screen printing method, so that there is a limit in increasing the thickness of the conductive paste. As a result, screen printing is repeated a plurality of times to form the projections 11. Often needed. Then, when the number of times of printing increases as such,
Deformation of the shape of the projection 11 due to misalignment is likely to occur,
As a result, there is a problem that the reliability of the connection with the metal foil 4 later becomes low, and the alignment work at the time of screen printing is very difficult, troublesome, requires skill, and the alignment time becomes long. The problem arises. Such a tendency becomes more remarkable as the diameter of the projection 11 decreases. By the way, in the case of a projection having a diameter of 0.3 mm, printing needs to be performed twice, and in the case of a projection having a diameter of 0.2 mm, printing needs to be performed four times. This is rather cumbersome, hinders the improvement of productivity, and has a problem in dealing with high-density wiring circuit boards.

【0014】第3に、突起11、11、・・・の高さに
ばらつきが生じやすいと言う問題があった。即ち、スク
リーン印刷には、形成される膜の厚さを均一にすること
が難しいので、当然にスクリーン印刷により形成した突
起11、11、・・・の高さにはばらつきが生じやす
く、その結果、その厚さのばらつきにより、金属箔13
と突起11、11、・・・との接続が不良になるおそれ
が生じ、歩留まり、信頼性が低くなるという問題があっ
たのである。第4に、製造過程において配線回路基板の
ベースとなる金属箔10が例えば18μmと薄く、上記
スクリーン印刷の際に、金属箔13側にしわ、変形、折
れ曲がり等が生じないように充分な注意が必要であり、
僅かなミスによる歩留まり低下を起こす可能性を有す
る。これは当然のことながら、コストアップの原因とな
り、看過できない問題となる。かといって、その金属箔
10を厚くしてベースの剛性を強くしようとすると、導
体回路のファインパターン化を妨げることになるという
問題に直面する。
Third, there is a problem that the heights of the projections 11, 11,... Are likely to vary. That is, in screen printing, it is difficult to make the thickness of the formed film uniform, so naturally the heights of the projections 11, 11,. , The thickness of the metal foil 13
There is a possibility that the connection between the semiconductor device and the projections 11, 11,... May become defective, and the yield and reliability may be reduced. Fourth, in the manufacturing process, the metal foil 10 serving as the base of the printed circuit board is as thin as 18 μm, for example, and sufficient care should be taken so that wrinkling, deformation, bending, etc. do not occur on the metal foil 13 side during the screen printing. Required,
There is a possibility that the yield may be reduced due to a slight mistake. As a matter of course, this causes an increase in cost and is a problem that cannot be overlooked. On the other hand, if the thickness of the metal foil 10 is increased to increase the rigidity of the base, there is a problem that fine patterning of the conductive circuit is hindered.

【0015】また、上記各従来例に共通する問題点とし
ては高密度化、即ち微小な層間接続には限界があり、一
つの従来例には孔径の微細化と導電ペーストの充填の難
しさのため、また、別の従来例ではバンプ印刷で微小径
になればなるほど印刷が難しくなり、200μm以下の
径は実際上作り得なかった。また、導電ペーストと銅箔
の間の接合強度が低く、パットオンビアとして使用しよ
うとした場合、ビア状のパッド強度が充分でなく必要以
上に面積をとる必要があった。
Another problem common to the above-mentioned conventional examples is that there is a limit to high density, that is, a minute interlayer connection, and one conventional example has a problem in that the hole diameter is reduced and the filling of the conductive paste is difficult. Therefore, in another conventional example, as the diameter becomes smaller by bump printing, printing becomes more difficult, and a diameter of 200 μm or less could not be actually formed. In addition, when the bonding strength between the conductive paste and the copper foil is low and the pad is to be used as a pad-on-via, the pad-like pad strength is not sufficient and the area needs to be increased more than necessary.

【0016】本発明はこのような問題点を解決すべく為
されたものであり、製造過程において曲がり、折れ、変
形等が生じないようにし、製造過程における寸法の安定
性を高めることにより上下導体回路間の接続の確実性を
高め、上下導体回路間接続手段のコスト低減を図ること
を目的とする。
The present invention has been made to solve such a problem, and it is intended to prevent bending, bending, deformation, and the like in a manufacturing process, and to improve dimensional stability in a manufacturing process, thereby improving the upper and lower conductors. An object of the present invention is to increase the reliability of connection between circuits and reduce the cost of connecting means between upper and lower conductor circuits.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】請求項1の配線回路基板
は、導体回路となる導体回路形成用金属層上に、該金属
層とは別の金属から成るエッチングバリア層を介して金
属から成る突起が、選択的に形成され、上記導体回路の
上記突起が形成された側の面に層間絶縁層が形成され、
上記突起が上記絶縁層を貫通して上記導体回路となる金
属層と他との層間接続手段を成していることを特徴とす
る。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a printed circuit board comprising a metal on a metal layer for forming a conductor circuit, which is to be a conductor circuit, via an etching barrier layer made of a metal different from the metal layer. A protrusion is selectively formed, an interlayer insulating layer is formed on a surface of the conductor circuit on a side where the protrusion is formed,
The above-mentioned protrusion forms an interlayer connection means between the metal layer which becomes the conductor circuit by penetrating the insulating layer and another.

【0018】請求項2の配線回路基板は、請求項1記載
の配線回路基板において、上記突起の表面に表面処理剤
として導電性ペースト材料がコーティングされたことを
特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, there is provided the wired circuit board according to the first aspect, wherein the surface of the projection is coated with a conductive paste material as a surface treating agent.

【0019】請求項3の配線回路基板の製造方法は、突
起形成用の金属層上にそれとは別の金属から成るエッチ
ングバリア層を形成し、該エッチングバリア層上に導体
回路となる金属層を形成したものを用意する工程と、上
記突起形成用の金属層を、上記エッチングバリア層を侵
さないエッチング液により選択的にエッチングすること
により突起を形成する工程と、上記エッチングバリア層
のみを上記突起をマスクとして上記導体回路を成す金属
層を侵さないエッチング液で除去する工程と、上記導体
回路を成す金属層の上記突起形成側の面に層間絶縁用の
絶縁層を形成して該突起を上記導体回路に接続された層
間接続手段とする工程と、を有することを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a printed circuit board, comprising: forming an etching barrier layer made of another metal on a metal layer for forming projections; and forming a metal layer serving as a conductor circuit on the etching barrier layer. A step of preparing the formed layer, a step of selectively etching the metal layer for forming the projections with an etchant that does not attack the etching barrier layer, and a step of forming the projections. Using a mask as a mask to remove with an etchant that does not attack the metal layer forming the conductor circuit, and forming an insulating layer for interlayer insulation on the surface on the protrusion formation side of the metal layer forming the conductor circuit, and forming the protrusion on the surface. Forming interlayer connection means connected to the conductor circuit.

【0020】請求項4の配線回路基板の製造方法は、突
起形成用の金属層上にそれとは別の金属から成るエッチ
ングバリア層を形成し、該エッチングバリア層上に導体
回路となる金属層を形成したものを用意し、上記突起形
成用の金属層を、上記エッチングバリア層を侵さないエ
ッチング液により選択的にエッチングすることにより突
起を形成し、上記導体回路を成す金属層の上記突起形成
側の面に層間絶縁用の絶縁層を形成して該突起を上記導
体回路に接続された層間接続手段とし、そして、上記導
体回路となる上記エッチングバリア層上の金属層を該エ
ッチングバリア層と共にエッチングマスク層をマスクと
する選択エッチングにより除去することによって導体回
路を形成することを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a printed circuit board, comprising: forming an etching barrier layer made of another metal on a metal layer for forming projections; and forming a metal layer serving as a conductor circuit on the etching barrier layer. The formed metal is prepared, and the metal layer for forming the protrusions is selectively etched by an etchant that does not attack the etching barrier layer to form the protrusions, and the protrusion forming side of the metal layer forming the conductor circuit is formed. Forming an insulating layer for interlayer insulation on the surface of the substrate, using the protrusions as interlayer connection means connected to the conductor circuit, and etching the metal layer on the etching barrier layer to be the conductor circuit together with the etching barrier layer. A conductor circuit is formed by removing by selective etching using the mask layer as a mask.

【0021】請求項5の配線回路基板の製造方法は、請
求項3又は4記載の配線回路基板の製造方法において、
上記ベースメタルからなる層を選択的にエッチングして
上記突起を形成する際に、エッチングマスクとして例え
ば半田メッキ、銀メッキ、金メッキ或いはパラジウムメ
ッキ等により形成した金属層を用い、上記突起の形成後
においても上記エッチングマスクとして用いた金属層を
残存させてその金属層で突起表面を全面的に覆う状態に
することを特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a wired circuit board according to the third aspect.
When forming the protrusions by selectively etching the layer made of the base metal, for example, using a metal layer formed by, for example, solder plating, silver plating, gold plating, or palladium plating as an etching mask, after forming the protrusions Also, the metal layer used as the etching mask is left, and the surface of the projection is entirely covered with the metal layer.

【0022】請求項6の配線回路基板の製造方法は、請
求項1の配線回路基板の上記突起及び上記層間絶縁膜が
形成された側の面に、上記導体回路とは別の導体回路形
成用の金属箔を積層して加圧することにより一体化し、
その後、導体回路形成用の金属層及び金属箔を選択的に
エッチングすることにより両面に導体回路を形成するこ
とを特徴とする。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a printed circuit board according to the first aspect of the present invention, wherein the surface of the printed circuit board on which the protrusions and the interlayer insulating film are formed is different from the conductive circuit. The metal foil is laminated and pressurized to be integrated,
Thereafter, a conductive circuit is formed on both surfaces by selectively etching the metal layer and the metal foil for forming the conductive circuit.

【0023】請求項7の配線回路基板の製造方法は、請
求項6の配線回路基板の製造方法により製造された配線
回路基板の両面に、請求項1の配線回路基板を、この配
線回路基板の突起及び層間絶縁膜の形成された側が内側
を向くようにサンドイッチ状に重ねて積層して加圧する
ことにより一体化し、その一体化をされたものの両面に
位置する2個の金属層を選択的にエッチングすることに
より両面に導体回路を形成することを特徴とする。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a printed circuit board, comprising the steps of: The two metal layers located on both sides of the integrated body are selectively integrated by pressing and laminating them in a sandwich shape so that the side on which the protrusions and the interlayer insulating film are formed faces inside. A conductor circuit is formed on both surfaces by etching.

【0024】請求項8の配線回路基板、請求項9の配線
回路基板の製造方法は、一層又は多層の導体回路の一方
の主面に開口を有した絶縁層を介してベースメタルから
なり、上記開口を通じて上記導体回路と電気的に接続さ
れた突起を有し、上記絶縁層の該突起が形成された側に
層間絶縁膜を形成した2個の配線回路基板を、突起及び
層間絶縁膜が形成された側が内側を向くように直接に又
は配線回路基板を介して積層して加圧することにより一
体化してなる、或いは一体化する。
According to a eighth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a printed circuit board, comprising a base metal via an insulating layer having an opening in one main surface of a single-layer or multilayer conductive circuit. Two wiring circuit boards each having a projection electrically connected to the conductor circuit through an opening, and having an interlayer insulating film formed on the side of the insulating layer where the projection is formed, are formed with the projection and the interlayer insulating film. The layers are laminated directly or through a printed circuit board so that the cut side faces inward, and are integrated by pressing, or are integrated.

【0025】請求項10の配線回路基板は、請求項7の
配線回路基板の両面にLSIチップ若しくはパッケージ
を搭載してなることを特徴とする。
According to a tenth aspect of the present invention, an LSI chip or a package is mounted on both surfaces of the wired circuit board of the seventh aspect.

【0026】請求項11の配線回路基板は、導体回路を
成す金属層上に、該金属層とは同じ金属から成る上下導
体間接続用突起が、選択的に形成され、上記導体回路の
上記突起が形成された側の面に層間絶縁層が形成され、
上記上下導体間接続用突起が上記絶縁層を貫通して上記
導体回路となる金属層と他との層間接続手段を成してい
ることを特徴とする。
According to a eleventh aspect of the present invention, in the printed circuit board, a projection for connecting the upper and lower conductors made of the same metal as the metal layer is selectively formed on a metal layer forming the conductor circuit. An interlayer insulating layer is formed on the surface on which the is formed,
The connection protrusion between the upper and lower conductors penetrates the insulating layer to form interlayer connection means with the metal layer serving as the conductor circuit.

【0027】請求項12の配線回路基板は、第1の導体
回路を成す金属層上に、該金属層とは同じ金属から成る
突起が、選択的に形成され、上記導体回路の上記突起が
形成された側の面に層間絶縁層が該突起に貫通された状
態で形成され、上記突起及び上記層間絶縁層の表面に金
属層からなる第2の導体回路が形成され、上記第1と第
2の導体回路が上記突起を介して電気的に接続されたこ
とを特徴とする。
According to a twelfth aspect of the present invention, a projection made of the same metal as the metal layer is selectively formed on the metal layer forming the first conductor circuit, and the projection of the conductor circuit is formed. A second conductor circuit made of a metal layer is formed on the surface of the protrusion and the surface of the interlayer insulating layer, and the first and second conductive circuits are formed on the surface of the protrusion and the interlayer insulating layer. Are electrically connected via the protrusions.

【0028】請求項13の配線回路基板は、請求項12
の配線回路基板において、上記第2の導体回路を成す金
属層の上記上下導体間接続用突起と対応する部分に該突
起の頂部における径よりも小さな径の孔が形成されてな
ることを特徴とする。
According to a thirteenth aspect of the present invention, there is provided the printed circuit board according to the twelfth aspect.
In the printed circuit board of (1), a hole having a diameter smaller than the diameter at the top of the projection is formed in a portion of the metal layer forming the second conductor circuit corresponding to the projection for connection between the upper and lower conductors. I do.

【0029】請求項14の配線回路基板は、請求項1
1、12又は13記載の配線回路基板において、上記突
起が槍状に形成されたことを特徴とする。
According to a fourteenth aspect of the present invention, there is provided the printed circuit board according to the first aspect.
14. The printed circuit board according to 1, 12, or 13, wherein the protrusion is formed in a spear shape.

【0030】請求項15の配線回路基板は、請求項1
1、12又は13記載の配線回路基板において、上記突
起がコニーデ状(富士山状)に形成されたことを特徴と
する。
According to a fifteenth aspect of the present invention, there is provided the printed circuit board according to the first aspect.
14. The printed circuit board according to 1, 12, or 13, wherein the protrusion is formed in a conide shape (Mt. Fuji shape).

【0031】請求項16の配線回路基板は、請求項1
1、12又は13記載の配線回路基板において、上記突
起が鼓状に形成されたことを特徴とする。
According to a sixteenth aspect of the present invention, there is provided the printed circuit board according to the first aspect.
14. The printed circuit board according to 1, 12, or 13, wherein the protrusion is formed in a drum shape.

【0032】請求項17の配線回路基板は、請求項1
1、12、13、14、15又は16記載の配線回路基
板において、上記突起の表面が粗化或いはつぶメッキさ
れたことを特徴とする。
According to a seventeenth aspect of the present invention, there is provided the printed circuit board according to the first aspect.
The printed circuit board according to any one of 1, 12, 13, 14, 15 and 16, wherein the surface of the projection is roughened or crushed.

【0033】請求項18の配線回路基板は、請求項1
1、12、13、14、15、16又は17記載の配線
回路基板において、突起が銅からなり、その表面が電解
クロメート処理されてなることを特徴とする。
[0033] The printed circuit board according to claim 18 is characterized in that:
The printed circuit board according to 1, 12, 13, 14, 15, 16 or 17, wherein the projection is made of copper and the surface thereof is subjected to electrolytic chromate treatment.

【0034】請求項19の配線回路基板は、導体回路を
成す金属層と突起を形成するための金属板を用意し、そ
の一方の表面に選択的にマスク膜を形成する工程と、該
マスク膜をマスクとして上記金属板をハーフエッチング
することにより導体回路となる金属層とその上記一方の
表面に一体に選択的に形成された突起を形成する工程
と、上記導体回路となる金属層の上記突起が形成された
側の表面に層間絶縁層を該突起により貫通されるように
形成する工程と、上記絶縁層及び突起の表面に金属層を
形成する工程と、上記絶縁層の両方の表面の金属層を同
時又は異時に選択的にパターニングすることにより配線
膜を形成する工程と、を有することを特徴とする。
In the wiring circuit board according to the present invention, a step of preparing a metal layer forming a conductive circuit and a metal plate for forming a projection, and selectively forming a mask film on one surface thereof, Forming a metal layer to be a conductor circuit by half-etching the metal plate with the mask as a mask and a projection integrally formed selectively on the one surface of the metal layer; and forming the projection on the metal layer to be the conductor circuit. A step of forming an interlayer insulating layer on the surface on which is formed by the projections, a step of forming a metal layer on the surfaces of the insulating layer and the projections, and a step of forming a metal layer on both surfaces of the insulating layer. Forming a wiring film by selectively patterning the layers simultaneously or at different times.

【0035】請求項20の配線回路基板は、請求項12
記載の配線回路基板において、上記上下導体間接続用突
起と上記金属層との間に異方性導電膜を介在させたこと
を特徴とする。
According to a twentieth aspect of the present invention, there is provided the printed circuit board according to the twelfth aspect.
In the printed circuit board described above, an anisotropic conductive film is interposed between the upper and lower conductor connecting protrusions and the metal layer.

【0036】請求項21の配線回路基板の製造方法は、
請求項19記載の配線回路基板の製造方法において、金
属層を積層する前に、上記突起と該金属層との間に異方
性導電膜を介在させる工程を有することを特徴とする。
The method of manufacturing a printed circuit board according to claim 21 is
The method of manufacturing a printed circuit board according to claim 19, further comprising a step of interposing an anisotropic conductive film between the protrusion and the metal layer before laminating the metal layer.

【0037】請求項22の配線回路基板は、金属層の表
面に多数の金属からなる導体間接続用突起を一定の間隔
をおいて配列された格子の各交点上に配置し、上記金属
層の上記導体間接続用突起が形成された表面上に層間絶
縁層を該導体間接続用突起に貫通された状態で設け、上
記層間絶縁層の上記上下導体間接続用突起を含む表面に
金属層を形成してなることを特徴とする。
According to a twenty-second aspect of the present invention, there is provided the printed circuit board, wherein a plurality of inter-conductor connecting projections made of a plurality of metals are arranged on respective intersections of a grid arranged at regular intervals on the surface of the metal layer. An interlayer insulating layer is provided on the surface on which the inter-conductor connection projections are formed in a state penetrated by the inter-conductor connection projections, and a metal layer is formed on the surface of the inter-layer insulation layer including the upper and lower conductor connection projections. It is characterized by being formed.

【0038】請求項23の配線回路基板は、金属層の表
面に多数の金属からなる導体間接続用突起を配置し、上
記金属層の上記導体間接続用突起が形成された表面上に
層間絶縁層を該突起に貫通された状態で設け、上記層間
絶縁層の上記導体間接続用突起を含む表面に上記金属層
とは別の金属層を形成してなる配線回路基板であって、
上記各上下導体間接続用突起を、上記基板両面から加圧
したとき各上下導体間接続用突起が均一な加圧力を受け
るように配置してなることを特徴とする。
According to a twenty-third aspect of the present invention, there is provided the printed circuit board, wherein a plurality of metal-to-conductor connection projections are arranged on the surface of the metal layer, and an interlayer insulating projection is formed on the surface of the metal layer where the connection-to-conductor connection projections are formed. A wiring circuit board comprising a layer provided in a state penetrated by the projections, and a metal layer different from the metal layer formed on a surface of the interlayer insulating layer including the inter-conductor connection projections,
The upper and lower conductor connecting protrusions are arranged such that the upper and lower conductor connecting protrusions receive a uniform pressing force when pressed from both sides of the substrate.

【0039】請求項24の配線回路基板は、金属層の表
面に多数の金属からなる導体間接続用突起を配置し、上
記金属層の上記導体間接続用突起が形成された表面上に
層間絶縁層を該突起に貫通された状態で設け、上記層間
絶縁層の上記導体間接続用突起を含む表面に上記金属層
とは別の金属層を形成してなる配線回路基板であって、
上記上下導体間接続用突起の周辺又は上下導体間が密集
した密集領域の周辺に上下導体間接続用突起よりも背の
小さなダミー突起を配置してなることを特徴とする。
According to a twenty-fourth aspect of the present invention, in the printed circuit board, a large number of metal-to-conductor connection protrusions are arranged on the surface of the metal layer, and an interlayer insulating protrusion is formed on the surface of the metal layer where the connection-to-conductor connection protrusions are formed. A wiring circuit board comprising a layer provided in a state penetrated by the projections, and a metal layer different from the metal layer formed on a surface of the interlayer insulating layer including the inter-conductor connection projections,
A dummy projection smaller in height than the upper and lower conductor connecting projections is arranged around the upper and lower conductor connecting projections or around a dense area where the upper and lower conductors are densely arranged.

【0040】請求項25の配線回路基板は、金属層の表
面に多数の金属からなる導体間接続用突起を配置し、上
記金属層の上記導体間接続用突起が形成された表面上に
層間絶縁層を該突起に貫通された状態で設け、上記層間
絶縁層の上記導体間接続用突起を含む表面に上記金属層
とは別の金属層を形成してなる配線回路基板であって、
上下導体間接続用突起が複数通りの異なる高さを持つよ
うにされたことを特徴とする。
According to a twenty-fifth aspect of the present invention, in the printed circuit board, a large number of metal-to-conductor connection projections are arranged on the surface of the metal layer, and an interlayer insulating film is formed on the surface of the metal layer where the connection-to-conductor connection projections are formed. A wiring circuit board comprising a layer provided in a state penetrated by the projections, and a metal layer different from the metal layer formed on a surface of the interlayer insulating layer including the inter-conductor connection projections,
The connection protrusion between the upper and lower conductors has a plurality of different heights.

【0041】請求項26の配線回路基板は、金属層の表
面に多数の金属からなる導体間接続用突起を配置し、上
記金属層の上記導体間接続用突起が形成された表面上に
層間絶縁層を該突起に貫通された状態で設け、上記層間
絶縁層の上記導体間接続用突起を含む表面に上記金属層
とは別の金属層を形成してなる配線回路基板であって、
上下導体間接続用突起が複数通りの異なる径を持つよう
にされたことを特徴とする。
In the printed circuit board according to the twenty-sixth aspect, a plurality of inter-conductor connection projections made of a metal are arranged on a surface of a metal layer, and an interlayer insulating is formed on a surface of the metal layer on which the inter-conductor connection projections are formed. A wiring circuit board comprising a layer provided in a state penetrated by the projections, and a metal layer different from the metal layer formed on a surface of the interlayer insulating layer including the inter-conductor connection projections,
The connection between the upper and lower conductors has a plurality of different diameters.

【0042】請求項27の配線回路基板は、金属層の表
面に多数の金属からなる導体間接続用突起を配置し、上
記金属層の上記導体間接続用突起が形成された表面上に
層間絶縁層を該突起に貫通された状態で設け、上記層間
絶縁層の上記導体間接続用突起を含む表面に上記金属層
とは別の金属層を形成してなる配線回路基板であって、
上下導体間接続用突起と同じ材料で同じ高さで形成され
たスペーサを有することを特徴とする。
According to a twenty-seventh aspect of the present invention, there is provided the printed circuit board, wherein a large number of metal-to-conductor connection protrusions are arranged on the surface of the metal layer, and an interlayer insulating film is provided on the surface of the metal layer on which the connection-to-conductor connection protrusions are formed. A wiring circuit board comprising a layer provided in a state penetrated by the projections, and a metal layer different from the metal layer formed on a surface of the interlayer insulating layer including the inter-conductor connection projections,
It is characterized by having a spacer formed of the same material and at the same height as the projection for connecting the upper and lower conductors.

【0043】請求項28の配線回路基板の製造方法は、
金属層の表面に多数の金属からなる導体間接続用突起を
配置し、上記金属層の上記導体間接続用突起が形成され
た表面上に層間絶縁層を該突起に貫通された状態で設
け、上記層間絶縁層の上記導体間接続用突起を含む表面
に上記金属層とは別の金属層を形成してなり、上下導体
間接続用突起と同じ材料で同じ高さで形成されたスペー
サを有する配線回路基板の製造方法であって、上記上下
導体間接続用突起と同じ工程でスペーサを形成すること
を特徴とする。
The method of manufacturing a printed circuit board according to claim 28 is
A plurality of inter-conductor connection protrusions made of a metal are arranged on the surface of the metal layer, and an interlayer insulating layer is provided on the surface of the metal layer where the inter-conductor connection protrusions are formed, in a state where the inter-layer insulation layer is penetrated by the protrusions, A metal layer different from the metal layer is formed on the surface of the interlayer insulating layer including the inter-conductor connection protrusions, and has a spacer formed of the same material and at the same height as the upper and lower inter-conductor connection protrusions. A method for manufacturing a printed circuit board, characterized in that a spacer is formed in the same step as the step for connecting the upper and lower conductors.

【0044】請求項29の配線回路基板は、金属層の表
面に多数の金属からなる導体間接続用突起を配置し、上
記金属層の上記導体間接続用突起が形成された表面上に
層間絶縁層を該突起に貫通された状態で設け、上記層間
絶縁層の上記導体間接続用突起を含む表面に上記金属層
とは別の金属層を形成してなり、上記上下導体間接続用
突起と同じ材料で同じ高さに形成された認識マークを有
することを特徴とする。
According to a twenty-ninth aspect of the present invention, in the printed circuit board, a large number of metal-to-conductor connection protrusions are arranged on the surface of the metal layer, and an interlayer insulating film is formed on the surface of the metal layer where the connection-to-conductor connection protrusions are formed. A layer is provided in a state penetrated by the projections, and a metal layer different from the metal layer is formed on the surface of the interlayer insulating layer including the inter-conductor connection projections. It is characterized by having recognition marks formed of the same material at the same height.

【0045】請求項30の配線回路基板の製造方法は、
金属層の表面に多数の金属からなる導体間接続用突起を
配置し、上記金属層の上記導体間接続用突起が形成され
た表面上に層間絶縁層を該突起に貫通された状態で設
け、上記層間絶縁層の上記導体間接続用突起を含む表面
に上記金属層とは別の金属層を形成してなり、上記上下
導体間接続用突起と同じ材料で同じ高さに形成された認
識マークを有する配線回路基板の製造方法であって、上
記上下導体間接続用突起と同じ工程で認識マークを形成
することを特徴とする。
A method for manufacturing a printed circuit board according to claim 30 is characterized in that:
A plurality of inter-conductor connection protrusions made of a metal are arranged on the surface of the metal layer, and an interlayer insulating layer is provided on the surface of the metal layer where the inter-conductor connection protrusions are formed, in a state where the inter-layer insulation layer is penetrated by the protrusions, A recognition mark formed by forming a metal layer different from the metal layer on the surface of the interlayer insulating layer including the inter-conductor connection protrusions, and formed of the same material and at the same height as the upper and lower conductor connection protrusions Wherein the recognition mark is formed in the same step as the step of connecting the upper and lower conductor connecting protrusions.

【0046】請求項31の配線回路基板は、絶縁性樹脂
からなるベースの上下両表面に金属層からなる導体回路
が形成され、上記両表面の配線間を電気的に接続するス
ルーホールが上記ベースを成す絶縁性樹脂に形成された
コアとなる回路基板と、上記回路基板の両表面に、それ
ぞれ、金属層からなり選択的に形成された上下導体間接
続用突起を有する配線回路の突起形成側の面に絶縁層が
該上下導体間接続用突起によって貫通された状態で形成
された別の回路基板を、その上下導体間接続用突起の先
端が上記金属層からなる配線回路に接続される状態で積
層した配線回路基板であって、上記上下導体間接続用突
起と上記配線回路とが導電ペースト又は貴金属層を介し
て接続されたことを特徴とする。
According to a thirty-first aspect of the printed circuit board, a conductor circuit formed of a metal layer is formed on both upper and lower surfaces of the base made of an insulating resin, and the through holes for electrically connecting the wirings on both surfaces are formed on the base. And a circuit board serving as a core formed of an insulating resin, and a wiring circuit having a protrusion for connection between upper and lower conductors formed of a metal layer on both surfaces of the circuit board, respectively. The other circuit board formed with the insulating layer penetrated by the upper and lower conductor connecting projections on the surface of the above is connected to the wiring circuit composed of the metal layer with the top end of the upper and lower conductor connecting projections Wherein the upper and lower conductor connecting protrusions and the wiring circuit are connected via a conductive paste or a noble metal layer.

【0047】請求項32の配線回路基板の製造方法は、
絶縁性樹脂からなるベースの上下両表面に金属層からな
る配線回路が形成され、上記両表面の配線間を電気的に
接続するスルーホールが上記ベースを成す絶縁性樹脂に
形成されたコアとなる回路基板と、該回路基板の両表面
に、それぞれ、金属層からなり選択的に形成された上下
導体間接続用突起を有する配線回路の突起形成側の面に
絶縁層が該上下導体間接続用突起によって貫通された状
態で形成された別の回路基板を、その上下導体間接続用
突起の先端が上記金属層からなる配線回路に導電ペース
ト又は貴金属層を介して接続された状態で積層された配
線回路基板の製造方法であって、上記コアとなる回路基
板と、その両表面に別の回路基板を積層する前に、予め
該コアとなる回路基板の配線回路を成す金属層の表面
に、導電ペースト又は貴金属層を形成しておくことを特
徴とする。
The method of manufacturing a printed circuit board according to claim 32 is
Wiring circuits made of a metal layer are formed on both upper and lower surfaces of a base made of an insulating resin, and through holes that electrically connect the wiring on both surfaces become cores formed in the insulating resin forming the base. A circuit board and a wiring circuit having a selectively formed upper and lower conductor connection protrusion formed of a metal layer on both surfaces of the circuit board. Another circuit board formed in a state penetrated by the projection was laminated with the top end of the projection for connection between the upper and lower conductors connected to the wiring circuit made of the metal layer via a conductive paste or a noble metal layer. In a method for manufacturing a wired circuit board, the circuit board serving as the core, and before laminating another circuit board on both surfaces thereof, a surface of a metal layer forming a wiring circuit of the circuit board serving as the core in advance, Conductive paste or Wherein the previously formed the noble metal layer.

【0048】請求項33の配線回路基板は、導体回路を
成す金属層上に、該金属層とは同じ金属から成る上下導
体間接続用突起が、選択的に形成され、上記導体回路の
上記上下導体間接続用突起が形成された側の面に層間絶
縁層が該上下導体間接続用突起によって貫通された状態
で形成され、上記層間絶縁層上に、上記導体回路とは別
の導体回路を成す金属層の一表面に上記上下導体間接続
用突起と対応して半田、導電ペースト又は貴金属膜が形
成されたものの上記一表面が、その半田、導電ペースト
又は貴金属膜に上記上下導体間接続用突起が接続される
ように積層されてなることを特徴とする。
According to a thirty-third aspect of the present invention, the upper and lower conductor connecting protrusions made of the same metal as the metal layer are selectively formed on the metal layer forming the conductor circuit. An inter-layer insulating layer is formed on the surface on the side where the inter-conductor connection projection is formed by being penetrated by the upper and lower inter-conductor connection projections, and a conductor circuit different from the conductor circuit is formed on the inter-layer insulation layer. Although the solder, conductive paste or noble metal film is formed on one surface of the metal layer corresponding to the projection for connection between the upper and lower conductors, the one surface is connected to the solder, conductive paste or noble metal film for connection between the upper and lower conductors. The projections are stacked so as to be connected.

【0049】請求項34の配線回路基板は、請求項33
記載の配線回路基板において、上記別の導体回路を成す
金属膜の上記上下導体間接続用突起と対応と対応する部
分に大きい孔を有することを特徴とする。
According to a thirty-fourth aspect of the present invention, there is provided the printed circuit board according to the thirty-third aspect.
In the printed circuit board described above, a metal film forming the another conductor circuit has a large hole in a portion corresponding to the projection for connection between the upper and lower conductors.

【0050】請求項35の配線回路基板は、導体回路を
成す金属層上に、該金属層とは同じ金属から成る上下導
体間接続用突起が、選択的に形成され、上記導体回路の
上記上下導体間接続用突起が形成された側の面に層間絶
縁層が該上下導体間接続用突起によって貫通された状態
で形成され、上記層間絶縁層上に、上記導体回路とは別
の導体回路を成す金属層の一表面に上記上下導体間接続
用突起と対応して半田、導電ペースト又は貴金属膜が形
成されたものの上記一表面が、その半田、導電ペースト
又は貴金属膜に上記上下導体間接続用突起が接続される
ように積層されてなることを特徴とする。
The printed circuit board according to claim 35, wherein the upper and lower conductor connecting projections made of the same metal as the metal layer are selectively formed on the metal layer forming the conductor circuit. An inter-layer insulating layer is formed on the surface on the side where the inter-conductor connection projection is formed by being penetrated by the upper and lower inter-conductor connection projections, and a conductor circuit different from the conductor circuit is formed on the inter-layer insulation layer. Although the solder, conductive paste or noble metal film is formed on one surface of the metal layer corresponding to the projection for connection between the upper and lower conductors, the one surface is connected to the solder, conductive paste or noble metal film for connection between the upper and lower conductors. The projections are stacked so as to be connected.

【0051】請求項36の配線回路基板の製造方法は、
導体回路を成す金属層上に、該金属層とは同じ金属から
成る上下導体間接続用突起が選択的に形成され、上記導
体回路の上記上下導体間接続用突起が形成された側の面
に層間絶縁層が該上下導体間接続用突起によって貫通さ
れた状態で形成され、上記層間絶縁層上に、上記導体回
路とは別の導体回路を成す金属層の一表面に上記上下導
体間接続用突起と対応して半田、導電ペースト又は貴金
属膜が形成したものの上記一表面が、その半田、導電ペ
ースト又は貴金属膜に上記上下導体間接続用突起が接続
されるように積層されてなる配線回路基板の製造方法に
おいて、導体回路となる金属層上に、該金属層とは同じ
金属から成る上下導体間接続用突起が選択的に形成した
ものの上下導体間接続用突起形成側に、層間絶縁層を介
して、上記導体回路とは別の導体回路となる金属層上に
上記上下導体間接続用突起に対応して半田、導電ペース
ト又は貴金属膜を印刷したものの該半田、導電ペースト
又は貴金属膜形成側を当てて加圧することにより、上記
各上下導体間接続用突起が上記層間絶縁層を突き破って
対応する半田、導電ペースト又は貴金属膜に接続された
状態を形成して積層することを特徴とする。
The method of manufacturing a printed circuit board according to claim 36 is
Upper and lower conductor connection protrusions made of the same metal as the metal layer are selectively formed on the metal layer forming the conductor circuit, and the upper and lower conductor connection protrusions of the conductor circuit are formed on the surface of the conductor circuit. An interlayer insulating layer is formed in a state penetrated by the upper and lower conductor connecting projections, and the upper and lower conductor connecting protrusions are formed on one surface of a metal layer forming a conductor circuit different from the conductor circuit on the interlayer insulating layer. A wiring circuit board having a surface on which a solder, a conductive paste, or a noble metal film is formed corresponding to the protrusion, the one surface being laminated such that the connection protrusion between the upper and lower conductors is connected to the solder, the conductive paste, or the noble metal film In the manufacturing method, the upper and lower conductor connection projections made of the same metal as the metal layer are selectively formed on the metal layer to be the conductor circuit, but the interlayer insulation layer is formed on the upper and lower conductor connection projection formation side. Through the conductor times A solder, a conductive paste or a noble metal film is printed on a metal layer to be a conductor circuit different from the upper and lower conductor connecting protrusions, and the solder, the conductive paste or the noble metal film forming side is pressed and pressed. Accordingly, the upper and lower conductor connection projections are formed in a state in which they pierce the interlayer insulating layer and are connected to the corresponding solder, conductive paste or noble metal film.

【0052】請求項37の配線回路基板は、金属層に上
下導体間接続用突起を形成したものに層間絶縁膜を介し
て導体回路を成す或いは導体回路となる金属層、又は回
路基板を積層した配線回路基板において、上記層間絶縁
膜として異方性導電膜を用いたことを特徴とする。
According to a thirty-seventh aspect of the present invention, there is provided a printed circuit board comprising a metal layer having a projection for connection between upper and lower conductors, and a metal layer or a circuit board forming a conductor circuit or a conductor circuit laminated through an interlayer insulating film. In the printed circuit board, an anisotropic conductive film is used as the interlayer insulating film.

【0053】[0053]

【発明の実施の形態】以下、本発明を図示実施形態に従
って詳細に説明する。図1(A)〜(G)及び図2
(H)〜(K)は本発明配線回路基板の製造方法の第1
の実施の形態を工程順に示す断面図である。 (A)図1(A)に示すように、ベース材(例えばガラ
スエポキシプリプレグ)20を用意する。該ベース材2
0は厚さ例えば100μmの突起形成用の銅層(突起形
成用金属層)21の一方の主面に例えばニッケルからな
るエッチングバリア層(厚さ例えば2μm)22を例え
ばメッキにより形成し、該エッチングバリア層22の表
面に導体回路形成用銅箔(導体回路形成用金属箔、厚さ
例えば18μm)23を形成してなる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail with reference to the illustrated embodiments. 1 (A) to 1 (G) and FIG.
(H) to (K) show the first method of manufacturing the wired circuit board of the present invention.
FIG. 4 is a cross-sectional view showing the embodiment in the order of steps. (A) As shown in FIG. 1A, a base material (for example, glass epoxy prepreg) 20 is prepared. The base material 2
Reference numeral 0 denotes an etching barrier layer (for example, 2 μm in thickness) made of, for example, nickel formed on one main surface of a copper layer for projection formation (a metal layer for projection formation) 21 having a thickness of, for example, 100 μm by plating, for example. On the surface of the barrier layer 22, a copper foil for forming a conductor circuit (metal foil for forming a conductor circuit, thickness of, for example, 18 μm) 23 is formed.

【0054】(B)次に、図1(B)に示すように、上
記突起形成用の銅層21の表面にレジスト膜24を選択
的に形成する。このレジスト膜24は突起を形成すべき
部分を覆うように形成する。 (C)次に、上記レジスト膜24をマスクとして上記銅
層21をエッチングすることにより、突起25、25、
・・・を形成する。このエッチングはウェットエッチン
グにより行うこととし、使用するエッチング液はニッケ
ルからなるところの上記エッチングバリア層22を侵し
得ないが、銅層21を侵食できるエッチング液を用い
る。
(B) Next, as shown in FIG. 1B, a resist film 24 is selectively formed on the surface of the copper layer 21 for forming the protrusions. The resist film 24 is formed so as to cover a portion where a projection is to be formed. (C) Next, by etching the copper layer 21 using the resist film 24 as a mask, the protrusions 25, 25,
.. Are formed. This etching is performed by wet etching, and an etching solution to be used is an etching solution which cannot attack the etching barrier layer 22 made of nickel but can attack the copper layer 21.

【0055】(D)次に、上記エッチングにおけるエッ
チングマスクとして用いたレジスト膜24を除去する。
図1(D)はエッチングマスク除去後の状態を示す。 (E)次に、図1(E)に示すように、上記エッチング
バリア層22を、上記突起25、25、・・・をマスク
としてエッチングする。このエッチングには、突起2
5、25、・・・を成す金属(本実施の形態では銅)を
侵さないが、エッチングバリア層22を成す金属(本実
施の形態ではニッケル)を侵すエッチング液(ニッケル
剥離液)を使用する。
(D) Next, the resist film 24 used as an etching mask in the above etching is removed.
FIG. 1D shows a state after the etching mask is removed. (E) Next, as shown in FIG. 1E, the etching barrier layer 22 is etched using the protrusions 25, 25,... As a mask. In this etching, projection 2
Use an etchant (nickel stripper) that does not attack the metal (copper in the present embodiment) that forms 5, 25,... But does attack the metal (nickel in the present embodiment) that forms the etching barrier layer 22. .

【0056】(F)次に、図1(E)に示すように、必
要に応じ上記各突起25、25、・・・の頂部(上部)
に薄く導電性ペースト26を塗布し、硬化させる。この
工程は不可欠ではない。但し、この工程により、突起2
5、25、・・・と後で形成される銅箔との接続の信頼
度を非常に高めることができる。
(F) Next, as shown in FIG. 1 (E), the tops (upper portions) of the respective projections 25, 25,.
A thin conductive paste 26 is applied and cured. This step is not essential. However, due to this step, the protrusion 2
The reliability of connection between 5, 25,... And a copper foil to be formed later can be greatly increased.

【0057】(G)次に、絶縁剤シートを、上記銅層2
1の上記突起25、25、・・・が形成された側の面に
熱ローラで圧着することにより、図1(G)に示すよう
に、該絶縁剤シートからなる層間絶縁層27を形成す
る。この場合、突起25、25、・・・の上部が突出す
るように絶縁剤シートとしてその突起25、25、・・
・の高さ(導電性ペースト26を塗布した場合はそのペ
ースト26をも含めた高さ)よりも適宜薄いものを用い
る。さもないと、突起25、25、・・・による層間接
続を確実に行うことができないからである。この工程に
より、銅箔23上に層間絶縁層27が形成され、更に、
上記銅箔23とエッチングバリア層22、22、・・・
を介して接続された突起25、25、・・・が上記層間
絶縁層27を貫通してその表面から突出した積層体28
が構成される。この工程は、エポキシ樹脂が軟化する温
度で行い、すぐに室温にもどし、実質的にエポキシの硬
化反応がないようにする。
(G) Next, the insulating agent sheet is applied to the copper layer 2
By pressing with a heat roller on the surface on which the projections 25, 25,... Are formed, an interlayer insulating layer 27 made of the insulating sheet is formed as shown in FIG. . In this case, the projections 25, 25,... Are formed as insulating sheets so that the upper portions of the projections 25, 25,.
(If the conductive paste 26 is applied, the height including the paste 26) is appropriately used. Otherwise, interlayer connection by the projections 25, 25,... Cannot be reliably performed. By this step, an interlayer insulating layer 27 is formed on the copper foil 23, and further,
The copper foil 23 and the etching barrier layers 22, 22, ...
Are connected to each other through the interlayer insulating layer 27 and project from the surface thereof.
Is configured. This step is performed at a temperature at which the epoxy resin softens, and is immediately returned to room temperature so that there is substantially no epoxy curing reaction.

【0058】(H)、(I)次に、図2(H)に示すよ
うに、上記積層体28の、層間絶縁層27が形成され、
突起25、25、・・・の頂部が突出する側に、例えば
厚さ18μm程度の銅箔(導体形成用の金属層)29を
臨ませ、図2(I)に示すように、積層プレスにて熱圧
着することにより積層する。この工程により、層間絶縁
層27の両主面に形成された金属層23、29を上記突
起25、25・・・により層間接続した積層体30が構
成される。
(H), (I) Next, as shown in FIG. 2H, an interlayer insulating layer 27 of the laminate 28 is formed.
A copper foil (metal layer for forming a conductor) 29 having a thickness of, for example, about 18 μm faces the side on which the tops of the projections 25, 25... Protrude, and as shown in FIG. And laminate by thermocompression bonding. By this step, a laminated body 30 is formed in which the metal layers 23, 29 formed on both main surfaces of the interlayer insulating layer 27 are connected to each other by the above-mentioned protrusions 25, 25,.

【0059】(J)、(K)次に、図2(J)に示すよ
うに、上記金属層23、29の表面にエッチングマスク
となるレジスト膜24、24を形成し、その後、該レジ
スト膜24、24をマスクとして上記金属層23、29
をエッチングすることにより導体回路31、32を形成
する。これにより、両面の導体回路31、32が突起2
5、25、・・・により層間接続された、図1(K)に
示すような配線回路基板33が出来上がる。この配線回
路基板33が本発明配線回路基板の第1の実施の形態で
ある。
(J), (K) Next, as shown in FIG. 2 (J), resist films 24, 24 serving as etching masks are formed on the surfaces of the metal layers 23, 29, and thereafter, the resist films 24, 24 are formed. 24, 24 as a mask, the metal layers 23, 29
Are etched to form conductor circuits 31 and 32. As a result, the conductor circuits 31 and 32 on both surfaces are
A wiring circuit board 33 as shown in FIG. This printed circuit board 33 is a first embodiment of the printed circuit board of the present invention.

【0060】このような第1の実施の形態によれば、突
起25を構成し得る厚い(例えば50〜200μm)突
起形成用金属層である銅層21を少なくとも含むベース
材20をベースとして加工を始めるので、変形等の不具
合が生じにくく、且つ、寸法の安定性が高いという利点
がある。そして、寸法の安定性があるが故に、突起形成
後における突起の位置ずれが生じないため、例えば図2
3、図24に示す従来例における孔2内の導電性ペース
ト3(謂わばスルーホール)が位置ずれして上下導体回
路5・5間のとるべき接続がとれないという類の問題は
生じない。従って、微小径の突起25を高密度に配設
し、且つ導体回路間の層間接続を確実にとる超高密度配
線回路基板33を得ることができる。
According to the first embodiment, processing is performed based on the base material 20 including at least the copper layer 21 which is a thick (for example, 50 to 200 μm) projection forming metal layer capable of forming the projection 25. Since starting, there is an advantage that defects such as deformation hardly occur and dimensional stability is high. Further, since there is no positional deviation of the protrusion after the formation of the protrusion due to the dimensional stability, for example, FIG.
3. In the conventional example shown in FIG. 24, there is no such a problem that the conductive paste 3 (so-called through hole) in the hole 2 is displaced and the connection between the upper and lower conductor circuits 5, 5 cannot be established. Therefore, it is possible to obtain an ultra-high-density wiring circuit board 33 in which the projections 25 having a small diameter are arranged at high density and the interlayer connection between the conductor circuits is ensured.

【0061】また、突起25は例えば銅等からなる銅層
21により形成するので、その形成に要する材料費は安
くて済み、従って、突起25の配設密度を高め、配設数
を増やしても、従来におけるように銀等貴金属を主材料
とする高価な導電性ペーストを使用するため配線回路基
板が高価になることはなく、配線回路基板の低価格化に
大きく寄与する。
Further, since the projections 25 are formed by the copper layer 21 made of, for example, copper, the material cost required for the formation can be reduced. Therefore, even if the arrangement density of the projections 25 is increased and the number of arrangements is increased, In addition, since an expensive conductive paste containing a noble metal such as silver as a main material is used as in the related art, the cost of the printed circuit board does not increase, which greatly contributes to a reduction in the price of the printed circuit board.

【0062】また、突起25は銅層21の選択的にエッ
チングにより形成するので、突起25の高さは銅層21
の厚さにより決まり、この銅層21の厚さは極めて均一
性を高く製造できるので、突起25の高さを均一にでき
る。従って、図25に示す従来例におけるような、導電
性ペーストにより印刷により突起11を形成するために
突起11の高さが不均一になって上下導体回路間の接続
が不完全になる虞があるとか、図23、図24に示す従
来例におけるような導電性ペースト3の硬化過程での溶
剤成分の揮散により上部が凹部になり、上下導体回路間
の接続が不完全になる虞があると言う問題は生じない。
従って、突起25の微細化、高密度化が進んでも上下導
体回路間の確実な接続が期待でき、歩留まり、信頼性の
向上を図ることができる。
Since the projections 25 are formed by selectively etching the copper layer 21, the height of the projections 25 is
The thickness of the copper layer 21 can be manufactured with extremely high uniformity, so that the height of the projections 25 can be made uniform. Therefore, as in the conventional example shown in FIG. 25, the projections 11 are formed by printing with a conductive paste, so that the heights of the projections 11 become uneven, and there is a possibility that the connection between the upper and lower conductor circuits may be incomplete. In other words, the solvent component volatilizes during the curing process of the conductive paste 3 as in the conventional example shown in FIGS. 23 and 24, and the upper portion becomes a concave portion, and the connection between the upper and lower conductor circuits may be incomplete. No problem.
Therefore, even if the projections 25 become finer and higher in density, reliable connection between the upper and lower conductor circuits can be expected, and the yield and reliability can be improved.

【0063】図3(A)〜(F)は本発明配線回路基板
の製造方法の第2の実施の形態を工程順に示すものであ
る。 (A)図1(A)〜(D)に示すと同じ方法で、突起2
5を形成した状態にする。図3(A)はその突起25が
形成された状態を示す。
FIGS. 3A to 3F show a second embodiment of a method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention in the order of steps. (A) In the same manner as shown in FIGS.
5 is formed. FIG. 3A shows a state in which the projection 25 is formed.

【0064】(B)次に、図3(B)に示すように、必
要に応じ上記各突起25、25、・・・の頂部(上部)
に薄く導電性ペースト26を塗布し、硬化させる。この
工程は不可欠ではない。但し、この工程により、突起2
5、25、・・・と後で形成される銅箔との接続の信頼
度を非常に高めることができる。尚、本実施の形態にお
いては、突起25、25、・・・をマスクとしてエッチ
ングバリア層22を除去することはしない。このエッチ
ングバリア層22は、後の説明で明らかになるが、金属
層23を選択的にエッチングすることによりパターニン
グして導体回路を形成するときに金属層23と共に同時
にエッチングすることにより不要部分の除去が為され
る。これが図1、図2に示す第1の実施の形態との大き
な相違である。。
(B) Next, as shown in FIG. 3 (B), the tops (upper portions) of the respective projections 25, 25,.
A thin conductive paste 26 is applied and cured. This step is not essential. However, due to this step, the protrusion 2
The reliability of connection between 5, 25,... And a copper foil to be formed later can be greatly increased. Note that, in the present embodiment, the etching barrier layer 22 is not removed using the projections 25, 25,... As a mask. As will become clear later, the etching barrier layer 22 is etched simultaneously with the metal layer 23 when the conductive layer is formed by patterning by selectively etching the metal layer 23 to remove unnecessary portions. Is performed. This is a major difference from the first embodiment shown in FIGS. .

【0065】(C)次に、図3(C)に示すように、層
間絶縁膜27を形成する。28はこの形成工程終了後に
おける積層体である。 (D)次に、図3(D)に示すように、その積層体28
に銅箔(導体形成用の金属層)29を積層プレスにて熱
圧着で積層することにより、層間絶縁層27の両主面に
形成された金属層23、29を上記突起25、25・・
・により層間接続した積層体30が構成される。
(C) Next, as shown in FIG. 3C, an interlayer insulating film 27 is formed. Reference numeral 28 denotes a laminate after the completion of the forming step. (D) Next, as shown in FIG.
By laminating a copper foil (metal layer for forming a conductor) 29 on the main surface of the interlayer insulating layer 27 by thermocompression bonding, the metal layers 23 and 29 formed on both main surfaces of the interlayer insulating layer 27 are formed on the protrusions 25, 25.
The laminated body 30 connected between layers is constituted by (1).

【0066】(E)次に、図3(E)に示すように、上
記金属層23、29の表面にエッチングマスクとなるレ
ジスト膜24、24を形成し、その後、該レジスト膜2
4、24をマスクとして上記金属層23、29をエッチ
ングすることにより導体回路31、32を形成するが、
更に、そのエッチングにより金属層23と接するところ
のニッケルからなるエッチングバリア層22をも同時に
エッチングする。これにより、両面の導体回路31、3
2が突起25、25、・・・により層間接続された配線
回路基板33が出来上がる。
(E) Next, as shown in FIG. 3 (E), resist films 24, 24 serving as etching masks are formed on the surfaces of the metal layers 23, 29.
Conductive circuits 31, 32 are formed by etching the metal layers 23, 29 using the masks 4 and 24 as masks.
Further, the etching also etches the etching barrier layer 22 made of nickel in contact with the metal layer 23 by the etching. Thereby, the conductor circuits 31, 3 on both sides are provided.
A printed circuit board 33 in which the layers 2 are interconnected by the protrusions 25, 25,... Is completed.

【0067】(F)その後、図3(F)に示すように、
エッチングマスクとして用いたレジスト膜24、24を
除去する。その除去後における配線回路基板33が本発
明配線回路基板の第2の実施の形態である。尚、この導
体回路31、32を形成するところのレジスト膜24、
24をマスクとするエッチングは当然のことながら、ニ
ッケル系金属も銅系金属もエッチングできるエッチング
液を使用して行う。すると、ニッケルからなるエッチン
グバリア層22を金属層23と共に同じレジスト膜24
をマスクとする1回の選択的エッチングにより選択的に
除去するので、突起25形成後これをマスクとしてエッ
チングバリア層22を選択的に除去する必要がなく、従
って、工程数の低減を図ることができるという利点があ
る。
(F) Thereafter, as shown in FIG.
The resist films 24 used as the etching mask are removed. The printed circuit board 33 after the removal is a second embodiment of the printed circuit board of the present invention. In addition, the resist film 24 where the conductor circuits 31 and 32 are formed,
Naturally, etching using 24 as a mask is performed using an etchant capable of etching both nickel-based metal and copper-based metal. Then, the etching barrier layer 22 made of nickel is formed into the same resist film 24 together with the metal layer 23.
Is selectively removed by one-time selective etching using a mask as a mask, so that it is not necessary to selectively remove the etching barrier layer 22 using the protrusion 25 as a mask after the formation of the protrusion 25, and therefore the number of steps can be reduced. There is an advantage that you can.

【0068】図3に示す第2の実施の形態によれば、図
1、図2に示した第1の実施の形態によると同様の利点
を得ることができるのみならず、エッチングバリア層2
2を金属層23と共に同じレジスト膜24をマスクとす
る1回の選択的エッチングにより選択的に除去できるの
で、第1の実施の形態よりも工程数の低減を図ることが
できるという利点もある。
According to the second embodiment shown in FIG. 3, not only the same advantages as in the first embodiment shown in FIGS. 1 and 2 can be obtained, but also the etching barrier layer 2 can be obtained.
2 can be selectively removed together with the metal layer 23 by a single selective etching using the same resist film 24 as a mask, so that there is an advantage that the number of steps can be reduced as compared with the first embodiment.

【0069】図4(A)〜(C)は本発明配線回路基板
の製造方法の第3の実施の形態を工程順に示すものであ
る。本実施の形態は、第1の実施の形態により製造され
た配線回路基板33の両面に、第1の実施の形態におけ
る工程(A)から工程(G)迄の工程でつくられた積層
体28、28を積層し、該各積層体28、28の金属層
23、23を選択的エッチングによりパターニングして
導体回路を形成し、4層の導体回路を得るものである。
FIGS. 4A to 4C show a third embodiment of the method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention in the order of steps. This embodiment is different from the first embodiment in that the laminated bodies 28 formed on the both sides of the printed circuit board 33 in the steps (A) to (G) of the first embodiment are formed. , 28 are laminated, and the metal layers 23, 23 of the respective laminates 28, 28 are patterned by selective etching to form conductor circuits, thereby obtaining four-layer conductor circuits.

【0070】(A)先ず、図4(A)に示すように上記
配線回路基板33の両面に上記積層体28、28を突起
25及び層間絶縁層27が形成された面が配線回路基板
33側を向くように対向させ位置決めして臨ませる。そ
して、積層プレスにより熱圧着により積層一体化する。 (B)次に、図4(B)に示すように、上記積層体2
8、28の金属層23、23上にレジスト膜24、24
を選択的に形成する。
(A) First, as shown in FIG. 4A, the surfaces of the printed circuit board 33 on which the laminates 28, 28 are formed with the projections 25 and the interlayer insulating layer 27 are formed on the both sides of the printed circuit board 33. Facing each other so as to face. Then, they are laminated and integrated by thermocompression bonding using a lamination press. (B) Next, as shown in FIG.
Resist films 24, 24 on the metal layers 23, 23
Are formed selectively.

【0071】(C)上記レジスト膜24、24をマスク
として上記金属層23、23をエッチングすることによ
り導体回路35、35を形成する。これにより配線回路
基板36が出来上がる。この配線回路基板36が本発明
配線回路基板の第2の実施の形態である。この実施の形
態によれば、導体回路を4層有する配線回路基板36を
得ることができ、より一層の高密度化を図ることができ
る。
(C) Conductive circuits 35 are formed by etching the metal layers 23 using the resist films 24 as a mask. Thus, the printed circuit board 36 is completed. This printed circuit board 36 is a second embodiment of the printed circuit board of the present invention. According to this embodiment, a printed circuit board 36 having four layers of conductor circuits can be obtained, and further higher density can be achieved.

【0072】図5(A)〜(G)及び図6(H)〜
(I)は本発明配線回路基板の製造方法の第4の実施の
形態を工程順に示す断面図である。 (A)図1(A)に示すベース材と同じベース材20を
用意し、その後、後で突起(25、25、・・・)とな
る、銅層21の表面に、レジスト膜24を塗布し、その
露光、現像により図5(A)に示すようにパターニング
する。具体的には、各突起(25、25、・・・)とな
る部分のみが開口し、突起(25、25、・・・)を形
成しない部分を覆うようにレジスト膜24をパターニン
グする。
FIGS. 5A to 5G and FIGS.
(I) is sectional drawing which shows 4th Embodiment of the manufacturing method of the printed circuit board of this invention in order of a process. (A) A base material 20 which is the same as the base material shown in FIG. 1 (A) is prepared, and then a resist film 24 is applied to the surface of the copper layer 21 which will become projections (25, 25,...) Later. Then, patterning is performed as shown in FIG. 5A by exposure and development. Specifically, the resist film 24 is patterned so that only the portions that become the projections (25, 25,...) Are opened, and the portions where the projections (25, 25,...) Are not formed are covered.

【0073】(B)次に、図5(B)に示すように、上
記レジスト膜24をマスクとして電解メッキ法で半田メ
ッキ層(厚さ例えば20μm)37、37、・・・を形
成する。半田メッキ層は例えば錫Sn/鉛Pb或いは錫
Sn/銀Ag/銅Cu等からなる。尚、金Au、銀Ag
或いはパラジウムPdのメッキ層を形成する場合もあ
る。 (C)次に、図5(C)に示すように、上記レジスト膜
24を剥離する。 (D)次に、図5(D)に示すように、上記半田メッキ
層37、37、・・・をマスクとして上記銅からなる金
属層21を選択的にエッチングすることにより突起2
5、25、・・・を形成する。 (E)次に、図5(E)に示すように、ニッケルからな
るエッチングバリア層22を剥離する。
(B) Next, as shown in FIG. 5B, solder plating layers (thickness, for example, 20 μm) 37, 37,... Are formed by electrolytic plating using the resist film 24 as a mask. The solder plating layer is made of, for example, tin Sn / lead Pb or tin Sn / silver Ag / copper Cu. In addition, gold Au, silver Ag
Alternatively, a palladium Pd plating layer may be formed. (C) Next, as shown in FIG. 5C, the resist film 24 is peeled off. (D) Next, as shown in FIG. 5D, the metal layer 21 made of copper is selectively etched using the solder plating layers 37, 37,.
5, 25,... Are formed. (E) Next, as shown in FIG. 5E, the etching barrier layer 22 made of nickel is peeled off.

【0074】(F)次に、半田リフロー処理により、図
5(F)に示すように、上記半田メッキ層37、37、
・・・で突起25、25、・・・の表面を覆うような状
態にする。 (G)次に、絶縁剤シートを、上記突起25、25、・
・・が形成された側の面に熱ローラで圧着することによ
り、図5(G)に示すように、該絶縁剤シートからなる
層間絶縁層27を形成する。この場合、突起25、2
5、・・・の上部が突出するように絶縁剤シートとして
その突起25、25、・・・の半田メッキ層36をも含
めた高さよりも適宜薄いものを用いる。さもないと、突
起25、25、・・・の頂部が層間絶縁層27の表面か
ら突出せず、上下導体回路間を確実に接続することがで
きないからである。この工程でできた積層体を28aと
する。
(F) Next, as shown in FIG. 5 (F), the solder plating layers 37, 37,
.. Cover the surfaces of the projections 25, 25,. (G) Next, the insulating sheet is attached to the projections 25, 25,.
By pressing with a heat roller on the surface on the side where... Are formed, an interlayer insulating layer 27 made of the insulating sheet is formed as shown in FIG. In this case, the projections 25, 2
Are appropriately thinner than the heights of the projections 25, 25,... Including the solder plating layer 36, so that the upper portions of the projections 5,. Otherwise, the tops of the projections 25, 25,... Do not protrude from the surface of the interlayer insulating layer 27, and the upper and lower conductor circuits cannot be reliably connected. The laminate formed in this step is designated as 28a.

【0075】(H)次に、第6図(H)に示すように、
上記積層体28の、層間絶縁層27が形成され、突起2
5、25、・・・の頂部が突出する側に、例えば厚さ1
8μm程度の導体回路形成用の金属層を成す銅箔29を
臨ませる。 (I)その後、積層プレスにて熱圧着することにより積
層し、上記銅箔29及び上記金属層23上にレジスト膜
を選択的に形成し、該レジスト膜をマスクとして上記銅
箔29及び金属層23をエッチングすることにより導体
回路31、32を形成する。これにより配線回路基板3
3aができる。この配線回路基板33aが本発明配線回
路基板の第3の実施の形態である。
(H) Next, as shown in FIG.
The interlayer insulating layer 27 of the laminate 28 is formed, and the protrusion 2
5, 25,... Have a thickness of 1
A copper foil 29 forming a metal layer for forming a conductor circuit of about 8 μm is exposed. (I) Thereafter, lamination is performed by thermocompression bonding using a laminating press, a resist film is selectively formed on the copper foil 29 and the metal layer 23, and the copper foil 29 and the metal layer are formed using the resist film as a mask. Conductive circuits 31 and 32 are formed by etching 23. Thereby, the printed circuit board 3
3a is done. This printed circuit board 33a is a third embodiment of the printed circuit board of the present invention.

【0076】本実施の形態は、図1、図2に示した実施
の形態とは、銅層21を選択的エッチングして突起2
5、25、・・・を形成する際にエッチングマスクとし
てレジスト膜24に代えて半田メッキ層36を用い、そ
の後、その半田メッキ層36を除去することなく残存さ
せ、絶縁シートからなる層間絶縁層27を形成する前
に、半田リフローにより突起25、25、・・・をその
半田メッキ層36で覆う状態にするという点で相違す
る。従って、本実施の形態によれば、図1、図2に示し
た実施の形態のように各突起25、25、・・・上部に
導電性ペースト26を塗布すると言うことが必要ではな
くなる。その点でのみ、本実施の形態は図1、図2の実
施の形態と異なり、外には相違点はない。
This embodiment is different from the embodiment shown in FIGS. 1 and 2 in that the copper layer 21 is selectively etched to form the protrusions 2.
When forming 5, 25,..., The solder plating layer 36 is used instead of the resist film 24 as an etching mask, and then the solder plating layer 36 is left without being removed to form an interlayer insulating layer made of an insulating sheet. Are formed in such a manner that the protrusions 25, 25,... Therefore, according to the present embodiment, it is not necessary to apply the conductive paste 26 on the protrusions 25, 25,... As in the embodiment shown in FIGS. Only in this respect, the present embodiment is different from the embodiments of FIGS. 1 and 2 and there is no difference outside.

【0077】図7(A)〜(H)及び図8(I)〜
(K)は本発明配線回路基板の製造方法の第5の実施の
形態を工程順に示す断面図である。 (A)先ず、銅からなり突起形成用の金属層を成すベー
スメタル(厚さ例えば50〜150μm)21aを用意
し、図7(A)に示すように、その一方の表面に感光性
樹脂膜40を塗布する。
FIGS. 7A to 7H and FIGS. 8I to
(K) is sectional drawing which shows 5th Embodiment of the manufacturing method of the printed circuit board of this invention in order of a process. (A) First, a base metal (thickness, for example, 50 to 150 μm) 21a made of copper and forming a metal layer for forming a projection is prepared, and as shown in FIG. 7A, a photosensitive resin film is formed on one surface thereof. Apply 40.

【0078】(B)次に、図7(B)に示すように、上
記感光性樹脂膜40を開口41、41、・・・を有する
ように形成する。この開口41、41、・・・は後で突
起(25、25、・・・)を形成する位置と対応すると
ころに形成する。 (C)次に、図7(C)に示すように、ベースメタル2
1aの上記感光性樹脂膜40が形成された側に例えば銅
からなる配線膜42を形成する。尚、この配線膜42は
例えば次のようにして形成することができる。
(B) Next, as shown in FIG. 7B, the photosensitive resin film 40 is formed so as to have openings 41, 41,. These openings 41, 41,... Are formed at positions corresponding to positions where protrusions (25, 25,...) Will be formed later. (C) Next, as shown in FIG.
On the side of 1a where the photosensitive resin film 40 is formed, a wiring film 42 made of, for example, copper is formed. The wiring film 42 can be formed, for example, as follows.

【0079】先ず、例えばNi−Pからなる薄い導電層
を無電解メッキにより形成し、その表面に、形成すべき
配線膜42に対してネガのパターンのレジスト膜を形成
し、このレジスト膜をマスクとして例えば銅を電解メッ
キすることにより配線膜42を形成し、その後、その配
線膜42をマスクとして上記無電解メッキによるNi−
Pからなる導電層を除去することにより配線膜42間の
ショート状態をなくす。
First, a thin conductive layer made of, for example, Ni—P is formed by electroless plating, and a resist film having a negative pattern with respect to the wiring film 42 to be formed is formed on the surface thereof. The wiring film 42 is formed by, for example, electroplating copper, and then, using the wiring film 42 as a mask, Ni-
By removing the conductive layer made of P, a short-circuit state between the wiring films 42 is eliminated.

【0080】(D)次に、上記ベースメタル21aの上
記配線膜42が形成された側の表面を感光性樹脂膜43
を塗布し、その後、該感光性樹脂膜43を露光、現像す
ることにより、端子形成用の開口44、44、・・・を
形成する。図7(D)は該開口44、44、・・・形成
後の状態を示す。 (E)次に、図7(E)に示すように、例えば電解メッ
キにより上記開口44、44、・・・に突起状のマイク
ロボール45、45、・・・を形成する。
(D) Next, the surface of the base metal 21a on the side where the wiring film 42 is formed is covered with a photosensitive resin film 43.
Are applied, and then the photosensitive resin film 43 is exposed and developed to form openings 44 for forming terminals. FIG. 7D shows a state after the openings 44 are formed. (E) Next, as shown in FIG. 7E, projecting microballs 45, 45,... Are formed in the openings 44, 44,.

【0081】(F)次に、上記各実施の形態におけると
同じ方法で、図7(F)に示すように、突起25、2
5、・・・を形成する。 (G)次に、図1、図2に示した実施の形態と同じ方法
で、図7(E)に示すように、上記各突起25、25、
・・・上面に導電性ペースト26、26、・・・を塗布
する。
(F) Next, as shown in FIG. 7F, the projections 25, 2
.. Are formed. (G) Next, in the same manner as in the embodiment shown in FIGS. 1 and 2, as shown in FIG.
.. Are coated with conductive pastes 26, 26,.

【0082】(H)次に、図1、図2に示した実施の形
態と同じ方法で、図7(H)に示すように、絶縁剤シー
トからなる層間絶縁膜27を形成する。この形成を終え
たものを便宜上基板46とする。 (I)次に、本実施の形態の工程(H)迄進んだ状態の
上記基板46を2個46、46と、図1、図2に示した
実施の形態の配線回路基板33を1個を用意し、図8
(I)に示すように、配線回路基板33の両面側に上記
基板46、46を上記突起25及び層間絶縁膜27が形
成された側を向く向きで臨ませ、位置決めする。
(H) Next, in the same manner as in the embodiment shown in FIGS. 1 and 2, an interlayer insulating film 27 made of an insulating material sheet is formed as shown in FIG. The substrate after this formation is referred to as a substrate 46 for convenience. (I) Next, two substrates 46 and 46, which have been advanced to the step (H) of the present embodiment, and one printed circuit board 33 of the embodiment shown in FIGS. Is prepared, and FIG.
As shown in (I), the substrates 46, 46 are positioned on both sides of the printed circuit board 33 so as to face the side where the protrusions 25 and the interlayer insulating film 27 are formed.

【0083】(J)そして、上記配線回路基板33とそ
れをサンドイッチ状に挟む基板46、46を加圧接着す
ることにより、図8(J)に示すように配線回路基板4
7を得る。この配線回路基板47が本発明配線回路基板
の第4の実施の形態である。 (K)その後、図8(K)に示すように、上記配線回路
基板47の両面にLSIチップ48、48、・・・を搭
載する。この場合、上記マイクロボール45、45、・
・・が上記積層体47の導体回路と、LSIチップ4
8、48、・・・とを接続する接続手段として機能す
る。
(J) Then, the printed circuit board 33 and the substrates 46, 46 sandwiching the printed circuit board 33 in a sandwich shape are pressure-bonded to form the printed circuit board 4 as shown in FIG.
Get 7. This printed circuit board 47 is a fourth embodiment of the printed circuit board of the present invention. (K) Thereafter, as shown in FIG. 8 (K), LSI chips 48, 48,... Are mounted on both surfaces of the printed circuit board 47. In this case, the micro balls 45, 45,.
.. the conductor circuit of the laminate 47 and the LSI chip 4
8, 48,... Function as connection means.

【0084】このような配線回路基板47によれば、極
めて高い集積密度でLSIチップ48、48、・・・を
実装することができる。尚、図8に示す実施の形態には
種々の変形例があり得る。先ず、配線回路基板46、4
6として、反突起形成側にする導体回路の層数が1層の
ものが用いられていたが、必ずしもその層数は1層であ
る必要はなく、2層或いはそれ以上の層数であっても良
い。層数の増加は、例えば感光性絶縁樹脂の選択的形
成、無電解メッキによる薄い導体層の形成、形成しよう
とするパターンに対してネガのパターンを有するレジス
ト膜の形成、上記導体層を下地とし該レジスト膜をマス
クとする電解メッキによる例えば銅等からなる導体回路
の形成、該導体回路をマスクとする上記導体膜の除去の
一連の工程を行うことにより容易に為し得る。
According to such a printed circuit board 47, the LSI chips 48, 48,... Can be mounted at an extremely high integration density. The embodiment shown in FIG. 8 may have various modifications. First, the printed circuit boards 46, 4
As the number 6, the number of layers of the conductor circuit on the anti-projection formation side is one, but the number of layers is not necessarily one, but is two or more. Is also good. The increase in the number of layers can be achieved, for example, by selectively forming a photosensitive insulating resin, forming a thin conductive layer by electroless plating, forming a resist film having a negative pattern with respect to the pattern to be formed, and using the conductive layer as a base. This can be easily performed by performing a series of steps of forming a conductor circuit made of, for example, copper or the like by electrolytic plating using the resist film as a mask, and removing the conductor film using the conductor circuit as a mask.

【0085】また、配線回路基板46、46を配線回路
基板33を介して積層して一体化して配線回路基板46
を得るようにしていたが、必ずしもそのようにすること
は不可欠ではなく、例えば配線回路基板46・46同士
を直接積層し一体化するようにしても良いし、逆に配線
回路基板46・46間に介在させる配線回路基板の数を
一個ではなく、複数個にするというようにすることもで
き得る。また、配線回路基板に搭載するものは必ずしも
ベアのLSIチップ48であることは必要ではなく、パ
ッケージに収納されたLSIであっても良い。
Further, the printed circuit boards 46, 46 are laminated and integrated via the printed circuit board 33 to be integrated.
However, it is not essential to do so. For example, the printed circuit boards 46 may be directly laminated and integrated, or conversely, the printed circuit boards 46 The number of printed circuit boards to be interposed is not limited to one, but may be plural. What is mounted on the printed circuit board does not necessarily have to be the bare LSI chip 48, but may be an LSI housed in a package.

【0086】図9(A)〜(E)は本発明配線回路基板
の第7の実施の形態を工程順に示す断面図である。 (A)先ず、図9(A)に示すように、例えば銅等の金
属板からなる単層構造のベース材51を用意し、その一
方の表面にレジスト膜52を選択的に形成する。
FIGS. 9A to 9E are sectional views showing a seventh embodiment of the printed circuit board according to the present invention in the order of steps. (A) First, as shown in FIG. 9A, a base material 51 having a single layer structure made of a metal plate such as copper is prepared, and a resist film 52 is selectively formed on one surface thereof.

【0087】(B)次に、図9(B)に示すように、上
記レジスト膜52をマスクとして上記ベース材51をそ
の上記表面からハーフエッチングすることにより上下導
体間接続用突起53を形成する。尚、ハーフエッチング
とは、文字通り厚さの2分の1エッチングするというこ
とではなく、回路層となる部分を残してエッチングする
ことを意味します。 (C)次に、図9(C)に示すように、上記突起53の
頂部に必要に応じて導電ペースト、半田、或いは金等の
貴金属、或いは異方性導電膜等接続性を向上させる或い
は接続性について信頼度を高める膜54をコーティング
する。該膜54は不可欠というわけではないが、接続性
或いは信頼性をより高くする必要のある場合には設ける
と良い。
(B) Next, as shown in FIG. 9B, the base material 51 is half-etched from the surface thereof using the resist film 52 as a mask to form the projection 53 for connecting the upper and lower conductors. . Note that half-etching does not literally mean half-thickness etching, but rather etching while leaving a portion that will become a circuit layer. (C) Next, as shown in FIG. 9 (C), if necessary, a conductive paste, a solder, a noble metal such as gold, or an anisotropic conductive film is used to improve the connectivity, or A film 54 for improving the reliability of the connectivity is coated. The film 54 is not indispensable, but may be provided when it is necessary to improve the connectivity or the reliability.

【0088】(D)次に、図9(D)に示すように、銅
等からなる金属箔56を上記ベース材51の上記一方の
表面に層間絶縁膜55を介して積層する。 (E)次に、図9(E)に示すように、上記ベース材5
1の他方の表面部と、上記金属箔56の表面を選択的に
エッチングすることにより導体回路を形成する。これに
より、図1(K)に示すのと実質的に同じ配線回路基板
が出来上がる。従って、この配線回路基板を図4(C)
に示す実施の形態の配線回路基板36、図8の実施の形
態の配線回路基板47に配線回路基板33に代えて用い
ることができる。即ち、配線回路基板33を使用する部
分には総てそれに代えて本配線回路基板を用いることが
できる。
(D) Next, as shown in FIG. 9D, a metal foil 56 made of copper or the like is laminated on the one surface of the base member 51 via an interlayer insulating film 55. (E) Next, as shown in FIG.
A conductive circuit is formed by selectively etching the other surface portion of the first and the surface of the metal foil. Thus, a printed circuit board substantially the same as that shown in FIG. 1K is completed. Therefore, this printed circuit board is not shown in FIG.
8 and the printed circuit board 47 of the embodiment shown in FIG. 8 can be used in place of the printed circuit board 33. That is, the present wiring circuit board can be used in place of all parts where the wiring circuit board 33 is used.

【0089】また、銅等の金属箔56を形成する前の状
態の配線回路基板を、図4に示す実施の形態の配線回路
基板28、図8に示す実施の形態の配線回路基板46に
代えて用いることができる。更に、上記金属箔56を形
成する前の状態の配線回路基板を、図8に示す配線回路
基板46と同様に多層配線化してより集積密度を高める
こともできる。
Further, the printed circuit board before the metal foil 56 such as copper is formed is replaced with the printed circuit board 28 of the embodiment shown in FIG. 4 and the printed circuit board 46 of the embodiment shown in FIG. Can be used. Further, the wiring circuit board in a state before the formation of the metal foil 56 can be multi-layered in the same manner as the wiring circuit board 46 shown in FIG. 8 to further increase the integration density.

【0090】このような配線回路基板の製造方法によれ
ば、ベース材としてエッチングバリア層のある多層構造
のものを用いる必要はなく、且つ、エッチングバリア層
を除去する工程が必要なので、配線回路基板の製造コス
トの低減を図ることができる。
According to such a method of manufacturing a printed circuit board, it is not necessary to use a multilayered structure having an etching barrier layer as a base material, and a step of removing the etching barrier layer is required. Can be reduced in manufacturing cost.

【0091】尚、突起53の形成後、その先端部を粗化
して針状の棘が多数できるようにして、金属箔56から
なる導体回路との接続性を高めるようにしても良い。粗
化はスプレーエッチングや、CZ処理により為し得る。
また、つぶ銅メッキにより粗化することもできる。ま
た、突起53を含め銅の表面全面を電解クロメート処理
して電解クロメート膜を形成し、以て突起53、銅表面
の酸化防止性を向上させ、酸化による銅箔の品質低下を
防止するようにしても良い。
After the formation of the projection 53, the tip of the projection 53 may be roughened so that a large number of needle-like spines are formed, thereby improving the connection with the conductor circuit made of the metal foil 56. Roughening can be performed by spray etching or CZ processing.
Further, it can be roughened by crushed copper plating. Further, the entire surface of the copper including the projections 53 is subjected to electrolytic chromate treatment to form an electrolytic chromate film, thereby improving the antioxidant properties of the projections 53 and the copper surface and preventing the copper foil from being deteriorated due to oxidation. May be.

【0092】尚、図9に示した配線回路基板の上下導体
間接続用突起53はその形状がコニーデ状(富士山状)
であったが、必ずしもこのようにすることは不可欠では
なく、図10(A)に示すように鼓状にしても良い(5
3aは鼓状の突起を示す。)。エッチング条件を変える
ことにより突起の形状は変わり、鼓状の突起53aを形
成することもできる。この突起53aは頂部の面が広い
ので、半田、導電ペースト処理などがやりやすく、ま
た、導体回路との接続性を良好にし易いという利点があ
る。
The protrusion 53 for connection between the upper and lower conductors of the printed circuit board shown in FIG. 9 has a conide shape (Mt. Fuji shape).
However, this is not essential, and a drum shape may be used as shown in FIG.
3a shows a drum-shaped projection. ). By changing the etching conditions, the shape of the protrusion changes, and a drum-shaped protrusion 53a can be formed. Since the projection 53a has a wide top surface, there are advantages in that soldering, conductive paste processing, and the like can be easily performed, and that the connection with the conductor circuit can be easily improved.

【0093】また、図10(B)に示すように、槍状の
突起57を形成するようにしても良い。このように槍状
の突起57は先が尖っているので層間絶縁膜55の貫通
性、特にガラスクロス入りのプリプレグに対する貫通性
を向上させ易く、且つ導体回路に食い込み易いので、導
体回路との接続性を高くできるという利点がある。この
ような槍状突起57は、形成すべき突起よりもレジスト
マスクの径を小さくしてエッチングすることにより形成
できる。或いは、一旦コニーデ状或いは鼓状の突起をレ
ジスト膜等をマスクとする選択的エッチング(勿論ハー
フエッチング)により形成した後、そのマスクを除去
し、再度エッチング(勿論ハーフエッチング)をするこ
とにより形成することができる。
As shown in FIG. 10B, a spear-shaped projection 57 may be formed. Since the spear-shaped projection 57 has a sharp point, it is easy to improve the penetrating property of the interlayer insulating film 55, particularly to the prepreg containing glass cloth, and it is easy to bite into the conductor circuit. There is an advantage that the property can be increased. Such a spear-shaped projection 57 can be formed by etching the resist mask with a smaller diameter than the projection to be formed. Alternatively, a conide-shaped or drum-shaped projection is formed by selective etching (of course, half-etching) using a resist film or the like as a mask, then the mask is removed, and etching is again performed (of course, half-etching). be able to.

【0094】図11は本発明配線回路基板の突起53、
57或いは25(突起25については図1〜図8参照)
を格子の各交点上に配置したことに特徴のある実施の形
態の要部を示す斜視図である。本実施形態においては、
所定の間隔をおいて縦横に(観念的に)設けたラインか
らなる格子の各交点上に突起例えば57を配置すること
としたものであり、それ以外の点では他の実施の形態と
異なるところはない。
FIG. 11 shows a projection 53 of the printed circuit board of the present invention.
57 or 25 (see FIGS. 1 to 8 for the projection 25)
FIG. 7 is a perspective view showing a main part of an embodiment characterized in that is disposed on each intersection of a lattice. In the present embodiment,
The projections, for example, 57 are arranged on the respective intersections of a grid consisting of lines provided vertically and horizontally (ideally) at predetermined intervals, and other points are different from those of the other embodiments. There is no.

【0095】このような配線回路基板によれば、配線回
路基板の機種の如何を問わず、両面の導体回路を選択的
エッチングにより形成するよりも前の段階までは、量産
しておき、その後、機種に応じて異なるパターンの導体
回路を形成することとすることができるので、特定の突
起だけ層間接続用に利用し、その他のものは回路を構成
しないようにすることにより、或いは少しオーバーエッ
チングすることにより不要な突起をエッチングにより取
り除くことができ、他品種の配線回路基板についてその
生産性を高めることができる。
According to such a printed circuit board, regardless of the type of the printed circuit board, mass production is performed before the conductive circuits on both surfaces are formed by selective etching, and thereafter, Depending on the model, conductor patterns of different patterns can be formed, so only specific protrusions are used for interlayer connection, and others are not constituted by circuits, or slightly over-etched As a result, unnecessary projections can be removed by etching, and the productivity of other types of printed circuit boards can be increased.

【0096】図12は突起例えば57等を、金属層例え
ば56等を層間絶縁膜55を介して積層するときの加圧
力が各突起毎に均一になるように配置した実施形態を示
すもので、このような実施の形態によれば、積層時のプ
レス圧の面内均一性を向上させることができるので、突
起57のつぶれの度合いの均一性を高めることができ、
また、配線板の板圧の均一度を向上させ、配線回路基板
の信頼度を高めることができる。
FIG. 12 shows an embodiment in which the projections 57 and the like are arranged such that the pressing force when the metal layer 56 and the like are stacked via the interlayer insulating film 55 is uniform for each projection. According to such an embodiment, since the in-plane uniformity of the press pressure at the time of lamination can be improved, the uniformity of the degree of crushing of the projection 57 can be improved,
Further, the uniformity of the plate pressure of the wiring board can be improved, and the reliability of the printed circuit board can be increased.

【0097】図13は上下導体間接続用突起例えば57
の配置密度が一定でなく、疎の領域と、密の領域がある
場合における密の領域の周りに、上下導体間接続用突起
57よりも背の低いダミー突起58を配置し以て上下導
体間接続用突起57の径、高さの均一性を高めるように
した実施の形態の要部を示す断面図である。即ち、密集
領域においては周辺部と中央部ではエッチング液のスプ
レー後の液の流れが異なるためにエッチングレートが異
なり、液の流れの速い周辺部の突起の方がエッチングレ
ートが高く、径が小さく且つ低くなりがちである。そこ
で、その周囲を回路には直接関与しない(回路を構成し
ない)ダミー突起58で囲むことにより周辺部の上下導
体間接続用突起57に対するエッチングレートを低く
し、以て周辺部の上下導体間接続用突起57も中央部の
上下導体間接続用突起57と同じ径、同じ高さにしよう
とするのが本実施の形態である。ダミー突起58がエッ
チング後消失するように他の突起57よりもマスクとな
るレジスト径を小さくすることも効果的である。
FIG. 13 shows a projection for connecting the upper and lower conductors, for example, 57
In the case where the arrangement density of the first and second conductors is not constant, a dummy projection 58 shorter than the upper and lower conductor connection projections 57 is arranged around the dense area and the dense area when there is a dense area. It is sectional drawing which shows the principal part of embodiment which made uniform the diameter and height of the connection projection 57. That is, in the dense area, the peripheral portion and the central portion have different etching rates due to the different flow of the liquid after the spraying of the etching liquid, and the peripheral portion having a faster liquid flow has a higher etching rate and a smaller diameter in the peripheral portion. And it tends to be low. Therefore, the surrounding area is surrounded by dummy projections 58 that do not directly participate in the circuit (ie, do not constitute the circuit), thereby lowering the etching rate for the upper and lower conductor connection projections 57 in the peripheral portion, thereby reducing the peripheral upper and lower conductor connection. In the present embodiment, the projection 57 for connection is also made to have the same diameter and the same height as the projection 57 for connection between the upper and lower conductors at the center. It is also effective to make the resist diameter serving as a mask smaller than the other protrusions 57 so that the dummy protrusions 58 disappear after etching.

【0098】また、上下導体間接続用突起間の間隔が大
きい場合には、突起の周辺部と中央とでエッチングレー
トに違いが生じるので、それによる弊害が生じる。そこ
で、各上下導体間接続用突起57に対してそのまわりに
ダミー突起58を配置するようにしても良い。図14
(A)〜(D)はそのような各別の例を示す平面図であ
る。
If the distance between the projections for connecting the upper and lower conductors is large, there is a difference in the etching rate between the peripheral portion and the center of the projection. Therefore, a dummy protrusion 58 may be arranged around each of the upper and lower conductor connection protrusions 57. FIG.
(A) to (D) are plan views showing such different examples.

【0099】図14(A)、(B)に示すものは各上下
導体間接続用突起57の周りにリング状のダミー突起5
8を形成したものであり、そのうち(A)に示すものは
各隣接ダミー突起58が離間しているもの、(B)に示
すものは、隣接ダミー突起58同士が部分的に重なるよ
うにしたものである。
FIGS. 14A and 14B show a ring-shaped dummy projection 5 around each upper and lower conductor connection projection 57.
8A, in which (A) shows that the adjacent dummy projections 58 are separated, and (B) shows that the adjacent dummy projections 58 partially overlap each other. It is.

【0100】図14(C)、(D)に示すものは各上下
導体間接続用突起57の周りに複数のダミー突起58を
配置したものであり、(C)に示すものは各突起57の
周りの一つの円形ライン上のみに複数のダミー突起58
を配置したものであり、(D)に示すものは各突起57
を取り巻く円形ライン58aよりも外側領域に所定間隔
で縦横にダミー突起58を配置したものである。
FIGS. 14C and 14D show a case where a plurality of dummy protrusions 58 are arranged around each upper and lower conductor connecting protrusion 57, and FIG. A plurality of dummy projections 58 are provided only on one surrounding circular line.
Are arranged, and those shown in FIG.
, Dummy protrusions 58 are arranged at predetermined intervals in a region outside the circular line 58a surrounding the dummy protrusions 58a.

【0101】図15は上下導体間接続用突起、例えば5
3として高さの異なるもの53h、53lを混在させた
実施の形態を示す断面図であり、高さの異なる上下導体
間接続用突起、例えば53を混在させるのは、段差のあ
る接合面に各上下導体間接続用突起、例えば53を接合
させることができるようにするためである。図15にお
いて、60は段差のある接合面を有するコア基板であ
る。該コア基板60は通常工法による両面配線板のスル
ーホールに銅ペースト100を充填し、硬化してなり、
銅ペースト100と銅配線部54との高さが異なる。そ
して、このコア基板60の両面に突起53を上下導体間
接続手段とする配線回路基板が積層されるのである。そ
して、高い突起53hが銅ペースト110に、低い突起
53lが銅配線部54にそれぞれ接続される。
FIG. 15 shows a projection for connecting the upper and lower conductors, for example, 5
FIG. 3 is a cross-sectional view showing an embodiment in which different heights 53h and 53l are mixed as 3, and the upper and lower conductor connection projections having different heights, for example, 53 are mixed on a joint surface having a step. This is because the upper and lower conductor connection projections, for example, 53 can be joined. In FIG. 15, reference numeral 60 denotes a core substrate having a stepped joint surface. The core substrate 60 is formed by filling the through-holes of the double-sided wiring board with the copper paste 100 by a normal method, and curing the same.
The heights of the copper paste 100 and the copper wiring portion 54 are different. Then, on both surfaces of the core substrate 60, a printed circuit board using the protrusions 53 as a means for connecting the upper and lower conductors is laminated. The high protrusion 53h is connected to the copper paste 110, and the low protrusion 53l is connected to the copper wiring portion 54.

【0102】尚、高さの異なる突起53h、53lを形
成することは、ベース材51の表面を選択的エッチング
するときに用いるレジスト膜によるマスクの各マスク部
分の径を異ならせ、高い突起53aを形成すべき部分を
覆うマスク部分の径を大きく、低い突起53bを形成す
べき部分を覆うマスク部分の径を小さくすることによ
り、可能である。
The formation of the projections 53h and 53l having different heights makes the diameter of each mask portion of a mask made of a resist film used when selectively etching the surface of the base material 51 different from each other. This is possible by enlarging the diameter of the mask portion covering the portion to be formed and decreasing the diameter of the mask portion covering the portion where the low protrusion 53b is to be formed.

【0103】ところで、図15に示す配線回路基板にお
いては、コア基板60の銅配線膜54には導電ペース
ト、半田或いは貴金属等の被膜が形成されておらず、こ
れに銅からなる突起、例えば53(或いは57)が直接
的に接続されている。このような形態でも本発明は実施
できるのである。このことは、高い突起53aと、低い
突起53bを有する形態に対しても、突起53(或いは
57)の高さが均一な形態に対しても当てはまる。
In the printed circuit board shown in FIG. 15, the copper wiring film 54 of the core substrate 60 is not formed with a film of conductive paste, solder, noble metal, or the like. (Or 57) are directly connected. The present invention can be implemented in such a form. This applies to the form having the high protrusions 53a and the low protrusions 53b and the form in which the heights of the protrusions 53 (or 57) are uniform.

【0104】そして、銅配線膜54に導電ペースト、半
田或いは貴金属等の被膜を介することなく銅からなる突
起、例えば53(或いは57)を直接的に接続したタイ
プのものにおいては、図15において破線で示すよう
に、同配線膜54に突起、例えば53(或いは57)の
頂部における径よりも小さな孔54aを形成するように
しても良い。このようにすると、突起53(或いは5
7)が銅配線膜54と接続されるとき突起53(或いは
57)の頂部がその孔54aに突き当たってこれを崩
し、突起53と金属膜54との接続をより強固にするこ
とができるからである。勿論、孔54aを形成すること
は、図15に示すような高さの異なる突起53h、53
lを有する実施の形態においてであろうと、均一な高さ
の突起53を有する実施の形態であろうと極めて有効で
ある。
In the type in which a projection made of copper, for example, 53 (or 57) is directly connected to the copper wiring film 54 without a coating of a conductive paste, solder, or a noble metal, a broken line in FIG. As shown by, a hole 54a smaller than the diameter at the top of the projection, for example, 53 (or 57) may be formed in the wiring film 54. By doing so, the protrusion 53 (or 5
When 7) is connected to the copper wiring film 54, the top of the projection 53 (or 57) abuts the hole 54a and breaks it, and the connection between the projection 53 and the metal film 54 can be further strengthened. is there. Of course, the formation of the hole 54a can be achieved by the protrusions 53h and 53h having different heights as shown in FIG.
It is very effective whether the embodiment has the projections 53 of uniform height, regardless of whether the embodiment has the l.

【0105】図16(A)、(B)は上下導体間接続用
突起、例えば57等と同じ材料及び同じ高さのスペーサ
61を突起を形成する工程の中で形成し、配線回路基板
の銅ベース材51からなる導体回路と、該配線回路基板
に積層される図16では図示しないコア基板等との間隔
を所定どおりに一定に保ち絶縁層の厚さを予め設定した
所定位置にさせ、延いては回路板のインピーダンスコン
トロール性を高めるようにした実施の形態の導体回路形
成前における要部を示すもので、(A)は斜視図、
(B)は断面図である。
FIGS. 16A and 16B show a step of forming a spacer 61 having the same material and the same height as the upper and lower conductor connection projections, for example, 57, in the step of forming the projections. The distance between the conductor circuit made of the base material 51 and the core substrate or the like (not shown in FIG. 16) laminated on the printed circuit board is kept constant as predetermined, and the thickness of the insulating layer is set at a predetermined position, and FIG. 3A is a perspective view showing a main part before a conductor circuit is formed according to the embodiment in which the impedance controllability of the circuit board is enhanced.
(B) is a sectional view.

【0106】即ち、銅ベース材51の選択的エッチング
により突起を形成し、それを上下導体間の接続用として
用いるが、絶縁シートはもともと厚み公差の良いもので
はなく、また積層時の温度、圧力で出来上がり厚みが変
動するので、絶縁層厚の一定化が難しいものであった。
そのため、それに積層される銅箔、コア基板との間の間
隔が一定にならず、インピーダンスコントロールが難し
かった。そこで、突起と同じ工程でスペーサ61を適宜
な場所に形成してプレ筋に各スペーサ61がコア基板に
ぶつかる迄押圧し残余の絶縁材を周辺に押し出すことに
より上下の銅パターン間の間隔を一定にし、インピーダ
ンスコントロール性を高めるようにするのが本実施の形
態なのである。スペーサ61は例えば格子状に或いは枠
状に形成する等設けるパターンは導体回路の形成に支障
を来さない限りどのように形成しても良い。尚、このス
ペーサ61を接地ラインとして静電シールドに用いるよ
うにすることもできる。
That is, a projection is formed by selective etching of the copper base material 51 and is used for connection between the upper and lower conductors. However, the insulating sheet does not originally have a good thickness tolerance, and the temperature and pressure at the time of lamination are different. Therefore, it is difficult to stabilize the thickness of the insulating layer because the finished thickness varies.
Therefore, the distance between the copper foil and the core substrate laminated thereon is not constant, and it is difficult to control the impedance. Therefore, the spacer 61 is formed at an appropriate place in the same process as the projection, and the spacer is pressed against the pre-stripe until the spacer 61 hits the core substrate, and the remaining insulating material is extruded to the periphery to keep the distance between the upper and lower copper patterns constant. In this embodiment, the impedance controllability is improved. The spacer 61 may be formed in any pattern as long as it does not hinder the formation of the conductor circuit, for example, by forming a pattern in a lattice shape or a frame shape. The spacer 61 can be used as a ground line for an electrostatic shield.

【0107】図17は上下導体間接続用突起として径の
大きいもの53xと径の小さいもの53yを混在させ
て、径の大きい上下導体間接続用突起53xを大電流を
通す上下導体間接続用として、径の小さい上下導体間接
続用突起53yを小電流を通す上下導体間接続用として
用いるようにした実施の形態の要部を示す断面図であ
る。
FIG. 17 shows a large diameter upper and lower conductor connecting projection 53x mixed with a large diameter 53x and a small diameter 53y as the upper and lower conductor connecting projection 53x for connecting the upper and lower conductors through which a large current flows. FIG. 13 is a cross-sectional view showing a main part of an embodiment in which a projection 53y for connection between upper and lower conductors having a small diameter is used for connection between upper and lower conductors for passing a small current.

【0108】本実施の形態によれば、小電流でも大電流
でも同じ小ささの上下導体間接続用突起に通すことによ
り大電流を通す上下導体間接続用突起で無視できない電
圧降下が生じたり、発熱が生じたりするおそれがなくな
り、また、小電流でも大電流でも同じ大きさの比較的大
きな上下導体間接続用突起に通すことにより小電流を通
す突起が無駄に大きな面積を専有して集積度向上の妨げ
になるというおそれもなくなる。
According to the present embodiment, even if a small current or a large current is passed through the upper and lower conductor connecting projections having the same size, a significant voltage drop occurs in the upper and lower conductor connecting projections through which a large current flows. Eliminates the risk of heat generation, and allows small currents and large currents to pass through relatively large upper and lower conductor connection projections of the same size. There is no danger of hindering improvement.

【0109】図18(A)〜(C)は突起例えば53、
57等と同時に位置合わせ用マーク、或いは機種等用の
認識マーク63を形成するという実施の形態の要部を示
すもので、(A)は突起のある側に銅箔等を層間絶縁膜
を介して積層する前の段階における斜視図、(B)はマ
ークの一例63aである、位置合わせ用マークのパター
ン図、(C)はマークの別の例63bである、位置合わ
せ用マークのパターン図である。
FIGS. 18A to 18C show projections 53, for example.
57A shows a main part of an embodiment in which a positioning mark or a model recognition mark 63 is formed at the same time as 57 and the like. FIG. (B) is a pattern diagram of a positioning mark, which is an example 63a of a mark, and (C) is a pattern diagram of a positioning mark, which is another example 63b of a mark. is there.

【0110】本実施の形態は、突起、例えば53、57
等を形成するとき同時にマーク63を形成するので、マ
ーク63は突起、例えば53、57等と同じ材料からな
り同じ高さを有する。本実施の形態によれば、マーク6
3を突起、例えば53、57等と同時に形成するので、
マーク63を形成するために特別の工程を有しないとい
う利点があると共に、マーク63と各突起とは同一工程
で形成するので、マーク63と各突起との位置関係のず
れは最小に抑えることができる。
In this embodiment, projections, for example, 53, 57
Since the mark 63 is formed at the same time when the mark 63 is formed, the mark 63 is made of the same material as the protrusions, for example, 53, 57, and has the same height. According to the present embodiment, the mark 6
Since 3 is formed simultaneously with the projections, for example, 53, 57, etc.
There is an advantage that there is no special process for forming the mark 63, and the mark 63 and each projection are formed in the same process, so that the positional relationship between the mark 63 and each projection can be minimized. it can.

【0111】図19(A)〜(D)は本発明配線回路基
板の製造方法の第9の実施の形態を工程順に示す断面図
である。 (A)先ず、図19(A)に示すように、コア基板70
を用意する。71は樹脂からなる絶縁基板、72はその
両面に形成された導体回路で、銅からなる。73は上下
導体間接続用スルーホールである。このコア基板20の
両面に突起53或いは57を有する配線回路基板が積層
されるのである。
FIGS. 19A to 19D are sectional views showing a ninth embodiment of the method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention in the order of steps. (A) First, as shown in FIG.
Prepare Reference numeral 71 denotes an insulating substrate made of resin, and 72 denotes a conductor circuit formed on both surfaces thereof, which is made of copper. 73 is a through hole for connection between the upper and lower conductors. The printed circuit board having the protrusions 53 or 57 on both surfaces of the core substrate 20 is laminated.

【0112】(B)次に、上記コア基板20の上下両面
の導体回路72のうちの少なくとも積層しようとする配
線回路基板の突起と接続される部分に、図19(A)に
示すように、導電ペースト、半田或いは貴金属からなる
層74を形成する。 (C)次に、図19(C)に示すように、上記コア基板
20の上下両面に配線回路基板75を各突起、例えば5
3が導体回路72の対応する部分に接するようにして層
間絶縁膜55を介して積層する。
(B) Next, at least portions of the conductor circuits 72 on the upper and lower surfaces of the core substrate 20 which are to be connected to the projections of the printed circuit board to be laminated, as shown in FIG. A layer 74 made of a conductive paste, solder, or a noble metal is formed. (C) Next, as shown in FIG. 19C, a printed circuit board 75 is formed on each of the upper and lower surfaces of the core
3 are laminated via the interlayer insulating film 55 such that the contact portions 3 are in contact with the corresponding portions of the conductor circuit 72.

【0113】(D)次に、図19(D)に示すように、
上下両面の配線回路基板75各々のベース材51を選択
的エッチングことによりパターニングして導体回路を形
成する。これにより2個の配線回路基板75及びコア基
板20によりビルドアップしたより高集積化し、且つ突
起と導体回路との接続に関して信頼度の高い配線回路基
板を得ることができる。
(D) Next, as shown in FIG.
The base material 51 of each of the upper and lower wiring circuit boards 75 is patterned by selective etching to form a conductor circuit. As a result, it is possible to obtain a highly integrated wiring circuit board which is built up with the two wiring circuit boards 75 and the core substrate 20 and which has high reliability in connection between the protrusions and the conductor circuits.

【0114】尚、各配線回路基板75のベース材51の
選択的エッチングによる導体回路の形成は、配線回路基
板75のコア基板20両面への積層の前に行うようにし
ても良い。
The formation of the conductor circuit by selective etching of the base member 51 of each printed circuit board 75 may be performed before the printed circuit boards 75 are laminated on both surfaces of the core substrate 20.

【0115】図20(A)、(B)は上記実施例におい
て、導体回路72の上記突起、例えば53或いは57と
対応する部分に該突起53の頂部の径よりも大きな孔7
2aを形成することとした例を示すものであり、(A)
は断面図、(B)は導体回路72の突起と接続される部
分の形状を示す平面図である。このような例によれば、
突起53を孔72aに、導電ペースト、半田或いは貴金
属からなる層74を介して部分的に挿入させることがで
きるので、接続強度をより強めることができ、信頼度を
高めることができる。
FIGS. 20 (A) and 20 (B) show a hole 7 having a diameter larger than the diameter of the top of the projection 53 in a portion corresponding to the projection, for example, 53 or 57, of the conductor circuit 72 in the above embodiment.
2A shows an example in which 2a is formed, and FIG.
FIG. 3B is a cross-sectional view, and FIG. 3B is a plan view showing a shape of a portion connected to a protrusion of the conductor circuit 72. According to such an example,
Since the protrusion 53 can be partially inserted into the hole 72a via the layer 74 made of a conductive paste, solder, or a noble metal, the connection strength can be further increased, and the reliability can be increased.

【0116】図20(C)は導電ペースト、半田或いは
貴金属からなる層74の形成後、表面を研磨して該層7
4の導体回路72上の部分を除去し、上記孔72a内の
みに導電ペースト、半田或いは貴金属74が存在するよ
うにした例を示す断面図である。この場合、例えば配線
回路基板75を積層するとき突起53或いは57がその
孔72a内の導電ペースト、半田或いは貴金属74に突
き刺さった状態で導体回路72と接続される。
FIG. 20C shows that after forming a layer 74 made of conductive paste, solder, or a noble metal, the surface is polished to form the layer 7.
4 is a cross-sectional view showing an example in which a portion on the conductor circuit 72 of No. 4 is removed so that a conductive paste, solder, or a noble metal 74 exists only in the hole 72a. In this case, for example, when the printed circuit boards 75 are stacked, the projections 53 or 57 are connected to the conductor circuit 72 in a state where the projections 53 or 57 pierce the conductive paste, the solder or the noble metal 74 in the holes 72a.

【0117】図21(A)〜(C)は本発明配線回路基
板の製造方法の第10の実施の形態を工程順に示す断面
図である。 (A)図21(A)に示すように、配線回路基板の突
起、例えば53或いは57等のある側の面に層間絶縁膜
55を介して積層する銅箔として、上記突起と接続され
るべき部分に予め導電ペースト、半田乃至貴金属(例え
ば金)等の接続性を向上乃至確保する金属膜76を形成
したもの56を用意する。
FIGS. 21A to 21C are sectional views showing a tenth embodiment of a method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention in the order of steps. (A) As shown in FIG. 21 (A), a copper foil to be laminated on a surface of a side of a printed circuit board such as 53 or 57 via an interlayer insulating film 55 as shown in FIG. A part 56 in which a metal film 76 such as a conductive paste, a solder or a noble metal (for example, gold) for improving or securing the connectivity is previously formed on a portion is prepared.

【0118】(B)次に、図21(B)に示すように、
上記銅箔56の上記金属膜76形成側の面を層間絶縁膜
55を介してベース材51の突起53形成側の面に臨ま
せる。 (C)次に、図21(C)に示すように、上記銅箔56
を層間絶縁膜55を介して突起、例えば53のあるベー
ス材51を積層する。すると、突起、例えば53が層間
絶縁膜55を突き破り、金属膜76に接した状態にな
る。
(B) Next, as shown in FIG.
The surface of the copper foil 56 on the side where the metal film 76 is formed faces the surface of the base material 51 on the side where the protrusion 53 is formed via the interlayer insulating film 55. (C) Next, as shown in FIG.
The base material 51 having a protrusion, for example, 53 is laminated via an interlayer insulating film 55. Then, the protrusion, for example, 53 breaks through the interlayer insulating film 55 and comes into contact with the metal film 76.

【0119】その後は、図示はしないが、ベース材51
と銅箔56を同時乃至異時に選択的エッチングすること
により両面に導体回路を形成する。このような実施の形
態によれば、突起、例えば53と銅箔56からなる導体
回路との接続性を良好にすることができる。
Thereafter, although not shown, the base member 51 is not shown.
And copper foil 56 are simultaneously or selectively etched to form conductive circuits on both surfaces. According to such an embodiment, it is possible to improve the connectivity between the projections, for example, 53 and the conductor circuit made of the copper foil 56.

【0120】図22は本発明配線回路基板の層間絶縁膜
55として異方性導電膜55aを用いる実施の形態を示
す断面図である。本実施の形態によれば、層間絶縁膜と
して金属粒子を分散させた異方性導電膜55aを用いる
ので、突起53と銅箔56とにより挟まれている部分に
おいてはその部分における上下方向の加圧力により突起
53銅箔56との間に導電粒子が介在し、その粒子が押
圧されることにより両面に突き刺さる等接続の信頼を向
上させ、導電性を帯びるが、それ以外の部分では絶縁性
を保持する。従って、突起53と銅箔56との接続性を
異方性導電膜55aにより確保することができ、且つ層
間絶縁膜に要求される絶縁性も確保できる。
FIG. 22 is a sectional view showing an embodiment in which an anisotropic conductive film 55a is used as the interlayer insulating film 55 of the printed circuit board of the present invention. According to the present embodiment, since the anisotropic conductive film 55a in which metal particles are dispersed is used as the interlayer insulating film, the portion sandwiched between the projection 53 and the copper foil 56 is subjected to vertical addition at that portion. The conductive particles are interposed between the projection 53 and the copper foil 56 by the pressure, and the particles are pressed to improve the reliability of the connection such as piercing on both surfaces, and have conductivity. Hold. Therefore, the connectivity between the projection 53 and the copper foil 56 can be ensured by the anisotropic conductive film 55a, and the insulation required for the interlayer insulating film can also be ensured.

【0121】尚、異方性導電膜を突起上、例えば53上
のみに形成し、層間絶縁膜は普通の絶縁性樹脂により形
成するようにしても良い。その場合は、突起と例えば銅
箔56との間の電気的接続はその異方性導電膜によりと
り、絶縁は普通の絶縁性樹脂により確保することにな
る。
It is to be noted that the anisotropic conductive film may be formed only on the protrusion, for example, only on the protrusion 53, and the interlayer insulating film may be formed of a normal insulating resin. In that case, the electrical connection between the projection and, for example, the copper foil 56 is established by the anisotropic conductive film, and the insulation is ensured by the ordinary insulating resin.

【0122】[0122]

【発明の効果】請求項1の配線回路基板によれば、導体
回路からなる金属層上に、該金属層とは別の金属から成
るエッチングバリア層を介して金属から成る突起が、選
択的に形成されており、上記エッチングバリア層により
導体回路となる上記金属層の侵食を防止しつつ金属層の
選択的エッチングにより上記突起を形成できる。従っ
て、ベース材として少なくとも突起の高さ或いはそれ以
上の厚さを有するものを使用して配線回路基板を得るこ
とができる。依って、製造過程でベース材が折れ曲がっ
たり、変形したりする虞が少なくなる。また、寸法が製
造過程で変動するおそれがなく、突起の位置が横方向に
ずれるおそれがないので、突起を微細に形成し、配設密
度を高めても突起の位置ずれに起因して上下導体回路間
の層間接続不良が生じるおそれがなく、歩留まり、信頼
度が高くなる。
According to the printed circuit board of the first aspect, the projection made of the metal is selectively formed on the metal layer made of the conductor circuit via the etching barrier layer made of a metal different from the metal layer. The protrusions can be formed by selective etching of the metal layer while preventing the metal layer serving as a conductor circuit from being eroded by the etching barrier layer. Therefore, a printed circuit board can be obtained by using a base material having at least the height of the protrusion or a thickness greater than that. Therefore, the possibility that the base material is bent or deformed during the manufacturing process is reduced. Also, since the dimensions do not fluctuate in the manufacturing process and the positions of the projections do not shift in the horizontal direction, even if the projections are formed finely and the arrangement density is increased, the upper and lower conductors may be displaced due to the displacement of the projections. There is no danger of interlayer connection failure between circuits, and the yield and reliability are increased.

【0123】更に、突起を金属層により形成することが
でき、金属層を例えば銅等比較的低価格材料で形成する
ことができるので、従来の孔を埋める或いは印刷により
形成された導電性ペーストを上下導体回路間接続手段と
して用いた場合よりも配線回路基板の低価格化を図るこ
とができる。また、上述したように、突起を金属層の選
択的エッチングにより形成するので、高さを均一にで
き、高さの不均一による上下導体回路間接続不良の発生
するおそれがない。また、突起が導体回路を成す金属層
と一体的であるから、従来よりも突起形成部の機械的強
度を強めることができる。
Further, since the projections can be formed by a metal layer and the metal layer can be formed by a relatively low-cost material such as copper, a conductive paste formed by filling a conventional hole or by printing can be used. The cost of the printed circuit board can be reduced as compared with the case where it is used as the connection means between the upper and lower conductor circuits. Further, as described above, since the protrusions are formed by selective etching of the metal layer, the height can be made uniform, and there is no possibility that a connection failure between the upper and lower conductor circuits due to the unevenness of the height will occur. Further, since the protrusion is integrated with the metal layer forming the conductor circuit, the mechanical strength of the protrusion forming portion can be increased as compared with the related art.

【0124】請求項2の配線回路基板によれば、上記突
起の表面に表面処理剤として導電性ペースト材料がコー
ティングしたので、突起と導体回路の接合性をその導電
性ペーストにより高めることができる。
According to the second aspect of the present invention, since the conductive paste material is coated on the surface of the projection as a surface treating agent, the bonding property between the projection and the conductive circuit can be enhanced by the conductive paste.

【0125】請求項3の配線回路基板の製造方法によれ
ば、突起形成用の金属層上にエッチングバリア層を形成
し、該エッチングバリア層上に導体回路となる金属層を
形成したものを用意し、上記突起形成用の金属層を、上
記エッチングバリア層を侵さないエッチング液により選
択的にエッチングすることにより突起を形成し、上記エ
ッチングバリア層のみを上記突起をマスクとして上記導
体回路を成す金属層を侵さないエッチング液で除去し、
上記導体回路を成す金属層の上記突起形成側の面に層間
絶縁用の絶縁層を形成して該突起を上記導体回路に接続
された層間接続手段とするので、請求項1の配線回路基
板を得ることができ、請求項1の配線回路基板について
述べたと同様の効果を奏する。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a printed circuit board, wherein an etching barrier layer is formed on a metal layer for forming projections, and a metal layer serving as a conductor circuit is formed on the etching barrier layer. Then, the metal layer for forming the protrusions is selectively etched with an etchant that does not attack the etching barrier layer to form the protrusions, and only the etching barrier layer is formed of the metal forming the conductor circuit using the protrusions as a mask. Remove with an etchant that does not attack the layer,
2. The printed circuit board according to claim 1, wherein an insulating layer for interlayer insulation is formed on the surface of the metal layer forming the conductor circuit on the side on which the protrusion is formed, and the protrusion is used as interlayer connection means connected to the conductor circuit. Thus, the same effects as those described for the wired circuit board of claim 1 can be obtained.

【0126】請求項4の配線回路基板の製造方法によれ
ば、請求項3の配線回路基板の製造方法における突起を
マスクとするエッチングバリア層の選択的エッチングを
行わないで、導体回路を成す金属層の選択的エッチング
の際にその金属層と共に上記エッチングバリア層をもエ
ッチングすることととするので、エッチングバリア層の
不要部分を除去するためだけの工程をなくすことができ
る。従って、製造工程の低減を図ることができる。
According to the method for manufacturing a printed circuit board according to the fourth aspect, the selective etching of the etching barrier layer using the projections as a mask in the method for manufacturing a printed circuit board according to the third aspect is not performed, and the metal forming the conductive circuit is formed. Since the etching barrier layer is etched together with the metal layer in the selective etching of the layer, a step only for removing an unnecessary portion of the etching barrier layer can be eliminated. Therefore, the number of manufacturing steps can be reduced.

【0127】請求項5の配線回路基板の製造方法によれ
ば、請求項3又は4記載の配線回路基板の製造方法にお
いて、上記ベースメタルからなる層を選択的にエッチン
グして上記突起を形成する際に、エッチングマスクとし
て金属層を用い、上記突起の形成後においても上記エッ
チングマスクとして用いた金属層を残存させてその金属
層で突起表面を全面的に覆う状態にするので、各突起上
部に導電性ペーストを塗布する面倒な作業をしなくて
も、エッチングマスクとして用いた金属層を該各突起と
導体回路との間の接続性を高める手段として用いること
ができる。
According to the method of manufacturing a printed circuit board of claim 5, in the method of manufacturing a printed circuit board of claim 3 or 4, the layer made of the base metal is selectively etched to form the protrusion. At this time, a metal layer is used as an etching mask, and even after the formation of the projections, the metal layer used as the etching mask is left so as to cover the entire surface of the projection with the metal layer. The metal layer used as an etching mask can be used as a means for improving the connectivity between each of the protrusions and the conductor circuit without performing a troublesome operation of applying the conductive paste.

【0128】請求項6の配線回路基板の製造方法によれ
ば、請求項1の配線回路基板と金属箔を積層し、該配線
回路基板の金属層と該金属箔を共に選択的にエッチング
することにより、層間絶縁膜により層間絶縁された導体
回路を両面に有し、その導体回路間を層間絶縁膜を貫通
する突起で電気的に接続した配線回路基板を得ることが
できる。
According to the method of manufacturing a printed circuit board of claim 6, the printed circuit board of claim 1 and a metal foil are laminated, and both the metal layer of the printed circuit board and the metal foil are selectively etched. Accordingly, it is possible to obtain a printed circuit board having conductor circuits on both sides insulated by an interlayer insulating film and electrically connecting the conductor circuits by protrusions penetrating the interlayer insulating film.

【0129】請求項7の配線回路基板の製造方法によれ
ば、請求項6の配線回路基板の製造方法により製造され
た配線回路基板の両面に、請求項1の配線回路基板を積
層し、加圧して一体化し、その上で一体化されたものの
両面に存在する金属層を選択的にエッチングすることに
より両面に導体回路を形成するので、4層の導体回路を
有する配線回路基板を得ることができる。
According to the method of manufacturing a printed circuit board of claim 7, the printed circuit board of claim 1 is laminated on both sides of the printed circuit board manufactured by the method of manufacturing a printed circuit board of claim 6, and The conductor circuit is formed on both sides by selectively etching the metal layers present on both sides of the integrated one on top of the integrated circuit, so that a printed circuit board having four layers of conductor circuits can be obtained. it can.

【0130】請求項8の配線回路基板、請求項9の配線
回路基板の製造方法によれば、一層又は多層の導体回路
の一方の主面に開口を有した絶縁層を介してベースメタ
ルからなり、上記開口を通じて上記導体回路と電気的に
接続された突起を有し、上記絶縁層の該突起が形成され
た側に層間絶縁膜を形成した2個の配線回路基板を、突
起及び層間絶縁膜が形成された側が内側を向くように直
接に又は配線回路基板を介して積層加圧されて一体化す
るので、配線回路基板の導体回路の層数を極めて多くす
ることができ、実装密度を高めることができる。
According to the method of manufacturing the printed circuit board of claim 8 and the printed circuit board of claim 9, the single-layer or multi-layer conductor circuit is formed of a base metal via an insulating layer having an opening in one main surface. Two wiring circuit boards each having a projection electrically connected to the conductor circuit through the opening, and forming an interlayer insulating film on the side of the insulating layer where the projection is formed; Is directly or indirectly laminated via a printed circuit board so that the side on which the printed circuit board faces inward is integrated, so that the number of conductive circuit layers of the printed circuit board can be extremely increased, and the mounting density can be increased. be able to.

【0131】請求項10の配線回路基板によれば、請求
項8の配線回路基板の両面にLSIチップ若しくはパッ
ケージを搭載したので、LSIチップ若しくはパッケー
ジを高密度に実装した配線回路基板を得ることができ
る。そして、パッドが配線膜と一体なので、パットオン
ビアの構造強化が可能であり、配線回路基板の小型化も
容易となる。
According to the tenth aspect of the present invention, since the LSI chip or the package is mounted on both sides of the wired circuit board of the eighth aspect, a wired circuit board on which the LSI chip or the package is mounted at a high density can be obtained. it can. Since the pad is integrated with the wiring film, the structure of the pad-on-via can be strengthened, and the size of the wiring circuit board can be easily reduced.

【0132】請求項11の配線回路基板によれば、導体
回路を成す金属層上に、該金属層とは同じ金属から成る
上下導体間接続用突起を形成したので、金属層及びそれ
に選択的に形成される突起を成すベース材として単層構
造のものを用いることができるので、材料費を節減でき
る。そして、突起をベース材のハーフエッチングにより
形成することが可能となり、延いてはエッチングバリア
層を除去する工程が必要ではなくなるので、工数の低減
を図ることができる。従って、配線回路基板の低価格化
を図ることができる。
According to the eleventh aspect of the present invention, since the upper and lower conductor connecting projections made of the same metal as the metal layer are formed on the metal layer forming the conductor circuit, the metal layer and the metal layer and the metal layer are selectively formed thereon. Since a material having a single-layer structure can be used as a base material forming a projection to be formed, material costs can be reduced. Then, the projections can be formed by half-etching the base material, which eliminates the need for a step of removing the etching barrier layer, thereby reducing man-hours. Therefore, the cost of the printed circuit board can be reduced.

【0133】請求項12の配線回路基板によれば、請求
項11の配線回路基板と同様に、金属層及びそれに選択
的に形成される突起を成すベース材として単層構造のも
のを用いることができるので、材料費を節減することが
可能となり、工数の低減を図ることができる。従って、
配線回路基板の低価格化を図ることができる。
According to the printed circuit board of the twelfth aspect, similarly to the printed circuit board of the eleventh aspect, it is possible to use a single-layer structure as the base material forming the metal layer and the projections selectively formed thereon. As a result, material costs can be reduced, and man-hours can be reduced. Therefore,
The cost of the printed circuit board can be reduced.

【0134】請求項13の配線回路基板によれば、金属
膜の突起と対応する部分に、その突起の頂部よりも小さ
い径の孔を形成したので、その突起が金属膜と接続され
るとき突起の頂部がその孔に突き当たってこれを崩し、
突起と金属膜との接続をより強固にすることができる。
従って、接続をより強固にし、接続の信頼性を向上させ
ることができる。
According to the printed circuit board of the thirteenth aspect, since a hole smaller in diameter than the top of the protrusion is formed in a portion corresponding to the protrusion of the metal film, the protrusion is formed when the protrusion is connected to the metal film. The top of the hole hits the hole and breaks it,
The connection between the projection and the metal film can be further strengthened.
Therefore, the connection can be strengthened and the reliability of the connection can be improved.

【0135】請求項14の配線回路基板によれば、上下
導体間接続用突起が槍状に形成されているので、突起に
より層間絶縁膜を、通常使用されるガラスクロス入りガ
ラエポプリプレグにおいては効果的且つ確実に突き破
り、更には積層される金属層に突き刺さり、突起と金属
層との接続性をより確実なものにできる。
According to the fourteenth aspect of the present invention, since the projection for connecting the upper and lower conductors is formed in a spear shape, the interlayer insulating film is effectively formed by the projection in a glass cloth-containing glass epoxy prepreg that is generally used. In addition, the metal layer can be reliably pierced, and further pierced into the metal layer to be laminated, so that the connection between the projection and the metal layer can be further ensured.

【0136】請求項15の配線回路基板よれば、上下導
体間接続用がコニーデ状なので、その頂部を平面にで
き、突起高さが不均一になるおそれがなく、また、導体
回路を成すベース材とそれに層間絶縁膜を介して積層さ
れる導体回路を成す金属層との間隔を上下導体間接続用
により一定の値に確保できる。
According to the fifteenth aspect of the present invention, since the connection between the upper and lower conductors is in a conide shape, the top can be made flat, there is no possibility that the height of the protrusions will be uneven, and the base material forming the conductor circuit will be described. The distance between the upper conductor and the metal layer forming the conductor circuit laminated with the interlayer insulating film interposed therebetween can be maintained at a constant value for connection between the upper and lower conductors.

【0137】請求項16の配線回路基板によれば、上下
導体間接続用突起が鼓状なので、その頂部の平面の面積
をより広くでき、より確実に導体回路を成すベース材・
金属層間の間隔を一定に確保する効果をより確実に得る
ことができる。
According to the sixteenth aspect of the present invention, since the upper and lower conductor connecting protrusions are drum-shaped, the plane area of the top portion thereof can be made larger and the base material and the base material forming the conductive circuit more reliably.
The effect of ensuring a constant spacing between metal layers can be obtained more reliably.

【0138】請求項17の配線回路基板によれば、上下
導体間接続用突起の表面が粗化或いはつぶメッキされて
いるので、その頂部と金属層間の接続性をより高めるこ
とができる。
According to the seventeenth aspect of the present invention, since the surface of the projection for connection between the upper and lower conductors is roughened or crushed, the connectivity between the top and the metal layer can be further improved.

【0139】請求項18の配線回路基板によれば、上下
導体間接続用突起が銅からなり、その表面が電解クロメ
ート処理されているので、金属層の表面が酸化されるこ
とを防止することができ、延いては該突起と金属層との
電気的接続の信頼度を高めることができる。
According to the eighteenth aspect of the present invention, the projections for connecting the upper and lower conductors are made of copper, and the surfaces thereof are subjected to electrolytic chromate treatment. Therefore, it is possible to prevent the surface of the metal layer from being oxidized. Thus, the reliability of the electrical connection between the protrusion and the metal layer can be increased.

【0140】請求項19の配線回路基板の製造方法によ
れば、金属板(ベース材)その一方の表面に選択的にマ
スク膜を形成し、これをマスクとして上記金属板をハー
フエッチングすることにより導体回路となる金属層と突
起を形成し、上記導体回路となる金属層の上記突起が形
成された側の表面に層間絶縁層を介して金属層を積層
し、上記層間絶縁層の両方の表面の金属層を同時又は異
時に選択的にパターニングすることにより配線膜を形成
するので、請求項12の配線回路基板を得ることができ
る。
According to the method of manufacturing a printed circuit board of the present invention, a mask film is selectively formed on one surface of a metal plate (base material), and the metal plate is half-etched using the mask film as a mask. Forming a metal layer and a projection to be a conductor circuit, and laminating a metal layer via an interlayer insulation layer on the surface of the metal layer to be a conductor circuit on the side where the projection is formed; Since the wiring film is formed by selectively patterning the metal layers at the same time or at different times, the wired circuit board according to claim 12 can be obtained.

【0141】請求項20の配線回路基板によれば、上下
導体間接続用突起とそれに接続された金属層との間に異
方性導電膜を介在させたので、該上下導体間接続用突起
と金属層との接続を異方性導電膜中の金属粒子を介する
ことにより確実にとることができる。
According to the twentieth aspect of the present invention, since the anisotropic conductive film is interposed between the upper and lower conductor connecting protrusions and the metal layer connected to the upper and lower conductor connecting protrusions, The connection with the metal layer can be reliably established through the metal particles in the anisotropic conductive film.

【0142】請求項21の配線回路基板の製造方法によ
れば、金属層を積層する前に突起と該金属層との間に異
方性導電膜を介在させる工程を設けたので、請求項20
の配線回路基板を得ることができる。
According to the method for manufacturing a printed circuit board of the present invention, the step of interposing an anisotropic conductive film between the projection and the metal layer is provided before the metal layer is laminated.
Can be obtained.

【0143】請求項22の配線回路基板によれば、金属
層の表面に多数の金属からなる導体間接続用突起を一定
の間隔をもった格子の交点上に配置したので、配線回路
基板の機種の如何を問わず、両面の導体回路を選択的エ
ッチングにより形成するよりも前の段階までは、標準品
として量産しておき、その後、機種に応じて異なるパタ
ーンの導体回路を形成することとすることができるの
で、他品種の配線回路基板についてその生産性を高める
ことができる。それと共に、マスクも品種により変える
必要がなく、銅エッチング量も少なくて済むことから、
他品種少量生産から少品種大量生産まで対応することが
でき、経済性向上に大きく寄与する。
According to the printed circuit board of the present invention, a large number of inter-conductor connection projections made of metal are arranged on the intersections of the grid with a fixed interval on the surface of the metal layer. Regardless of whether or not the conductor circuit on both sides is mass-produced as a standard product until the stage before it is formed by selective etching, a conductor circuit having a different pattern is formed depending on the model. Therefore, the productivity of other types of printed circuit boards can be improved. At the same time, there is no need to change the mask depending on the product type, and the copper etching amount can be reduced.
It can handle small-volume production of other varieties to large-volume production of small varieties, greatly contributing to improved economic efficiency.

【0144】請求項23の配線回路基板によれば、各上
下導体間接続用突起を、上記基板両面から加圧したとき
各上下導体間接続用突起が均一な加圧力を受けるように
配置したので、各突起の潰れ具合を均一にすることがで
き、延いては接続性を均一にすることができ、信頼度を
高めることができる。
According to the printed circuit board of the present invention, the upper and lower conductor connecting projections are arranged such that the upper and lower conductor connecting projections receive a uniform pressing force when pressed from both sides of the substrate. In addition, the degree of crushing of each projection can be made uniform, and hence the connectivity can be made uniform, and the reliability can be increased.

【0145】請求項24の配線回路基板によれば、各上
下導体間接続用密集領域の周辺部には密集した上下導体
間接続用突起とは別に小さいダミー突起を配置したの
で、密集領域の周辺部の上下導体間接続用のエッチング
レートを中央部の上下導体間接続用並に小さくすること
が可能となり、上下導体間接続用のエッチングレートの
均一化を図ることができ、延いては各上下導体間接続用
の径、高さの均一化を図ることができる。
According to the twenty-fourth aspect of the present invention, small dummy projections are arranged in the periphery of each of the upper and lower conductor connection dense areas in addition to the dense upper and lower conductor connection projections. The etching rate for the connection between the upper and lower conductors of the portion can be made as small as that for the connection between the upper and lower conductors in the center portion, and the etching rate for the connection between the upper and lower conductors can be made uniform. The diameter and height for connecting conductors can be made uniform.

【0146】請求項25の配線回路基板によれば、導体
間接続用突起が複数通りの異なる高さを持つので、段差
のある接合面、或いは銅ペーストと銅パターン面等、接
合機構の異なる面に支障なく積層することが可能とな
る。
According to the printed circuit board of the twenty-fifth aspect, since the inter-conductor connecting projections have a plurality of different heights, different surfaces having different bonding mechanisms, such as a stepped bonding surface or a copper paste and copper pattern surface. Can be stacked without any trouble.

【0147】請求項26の配線回路基板によれば、導体
間接続用突起が複数通りの異なる径を持つようにされた
ので、通る電流に応じて大電流が通る突起は径を大きく
し、小電流が通る突起は径を小さくすることができ、小
さな径の突起に大きな電流が流れて電圧降下が生じた
り、ジュール熱が発生したり、小さな電流しか流れない
のに径が大きいため突起が無駄に面積を専有するという
問題の生じるおそれがない。
According to the printed circuit board of the twenty-sixth aspect, since the projections for connecting conductors have a plurality of different diameters, the diameter of the projection through which a large current passes increases according to the passing current, and the diameter of the projection increases. The diameter of the projection through which the current passes can be reduced, and a large current flows through the projection with a small diameter, causing a voltage drop or generating Joule heat. There is no possibility that the problem of occupying the area will occur.

【0148】請求項27の配線回路基板は、上下導体間
接続用突起と同じ材料で同じ高さで形成されたスペーサ
を有するので、該スペーサによりベース材と金属層との
間隔を一定にし、インピーダンスコントロール性を高め
ることができる。また、このスペーサを接地して静電シ
ールドに用いるようにすることもできる。
Since the printed circuit board according to the twenty-seventh aspect has a spacer formed of the same material and at the same height as the projection for connection between the upper and lower conductors, the spacing between the base material and the metal layer is made constant by the spacer, and the impedance is reduced. Controllability can be improved. Also, this spacer can be grounded and used for an electrostatic shield.

【0149】請求項28の配線回路基板の製造方法は、
上下導体間接続用突起と同じ工程でスペーサを形成する
ので、このスペーサによりベース材と金属層との間隔を
確保することのできる請求項27の配線回路基板を工程
を増すことなく形成することができる。
The method for manufacturing a printed circuit board according to claim 28 is characterized in that
Since the spacer is formed in the same step as the upper and lower conductor connecting projections, the spacer can secure the space between the base material and the metal layer. Thus, the printed circuit board according to claim 27 can be formed without increasing the number of steps. it can.

【0150】請求項29の配線回路基板は、認識マーク
を有するので、位置合わせや機種の認識を該認識マーク
により為し得る。
Since the printed circuit board according to the present invention has a recognition mark, alignment and model recognition can be performed using the recognition mark.

【0151】請求項30の配線回路基板の製造方法は、
上記上下導体間接続用突起と同じ工程で認識マークを形
成するので、工程数を増すことなく認識マークを形成し
た請求項29の配線回路基板を得ることができる。
A method for manufacturing a printed circuit board according to claim 30 is as follows.
Since the recognition mark is formed in the same step as the step for connecting the upper and lower conductors, the printed circuit board according to claim 29 in which the recognition mark is formed without increasing the number of steps can be obtained.

【0152】請求項31の配線回路基板によれば、絶縁
性ベースの上下両表面の導体回路間を電気的に接続する
スルーホールが形成されコアとなる回路基板の両表面
に、金属層からなり選択的に形成された上下導体間接続
用突起を有する配線回路の突起形成側の面に絶縁層が該
上下導体間接続用突起によって貫通された状態で形成さ
れた別の回路基板を、その上下導体間接続用突起の先端
が上記金属層からなる配線回路に接続される状態で積層
した配線回路基板において、上記上下導体間接続用突起
と上記配線回路とが導電ペースト、半田又は貴金属層を
介して接続したので、ビルドアップにより高集積化しつ
つ、回路基板間の電気的接続性、接続の信頼性を高める
ことができる。
According to the printed circuit board of the thirty-first aspect, through-holes for electrically connecting the conductive circuits on the upper and lower surfaces of the insulating base are formed, and the metal layers are formed on both surfaces of the core circuit board. Another circuit board formed with an insulating layer penetrated by the upper and lower conductor connecting protrusions on the surface on the protrusion forming side of the wiring circuit having the selectively formed upper and lower conductor connecting protrusions, In a printed circuit board laminated with the ends of the inter-conductor connection projections connected to the wiring circuit made of the metal layer, the upper and lower conductor connection projections and the wiring circuit are connected via a conductive paste, solder or a noble metal layer. Therefore, the electrical connection between the circuit boards and the reliability of the connection can be improved while achieving high integration by build-up.

【0153】請求項32の配線回路基板の製造方法によ
れば、上記コアとなる回路基板と、その両表面に別の回
路基板を積層する前に、予め該コアとなる回路基板の配
線回路を成す金属層の表面に、導電ペースト又は貴金属
層を形成しておくので、ビルドアップにより高集積化し
つつ、回路基板間の電気的接続性、接続の信頼性を高め
た請求項31の配線回路基板を得ることができる。
According to the method for manufacturing a wired circuit board of claim 32, before laminating the circuit board serving as the core and another circuit board on both surfaces thereof, the wiring circuit of the circuit board serving as the core is formed in advance. 32. The printed circuit board according to claim 31, wherein a conductive paste or a noble metal layer is formed on the surface of the metal layer to be formed, so that the electrical connection between the circuit boards and the reliability of the connection are improved while achieving high integration by build-up. Can be obtained.

【0154】請求項33の配線回路基板によれば、導体
回路となる金属層にそれと同じ金属から成る上下導体間
接続用突起が選択的に形成されたものに層間絶縁膜を介
して積層された別の導体回路となる上記金属層とは別の
金属層に、上記上下導体間接続用突起と接する半田、導
電ペースト又は貴金属膜を設けたので、該金属層と突起
とを該半田、導電ペースト又は貴金属膜を介して接続す
ることができ、その間の電気的接続性を良好にできる。
According to the printed circuit board of the present invention, the upper and lower conductor connecting projections made of the same metal are selectively formed on the metal layer to be the conductor circuit, and are laminated via the interlayer insulating film. Since a solder, a conductive paste, or a noble metal film which is in contact with the upper and lower conductor connection protrusions is provided on a metal layer different from the metal layer serving as another conductor circuit, the metal layer and the protrusions are connected with the solder, the conductive paste. Alternatively, they can be connected via a noble metal film, and the electrical connection therebetween can be improved.

【0155】請求項34の配線回路基板によれば、上記
別の導体回路を成す金属層の上記上下導体間接続用突起
と対応する部分に該突起の頂部における径よりも大きな
孔を設けたので、その突起の頂部が該孔内を埋める半
田、導電ペースト又は貴金属膜内に深く埋まり、接続性
をより良好にすることができる。
According to the printed circuit board of the present invention, a hole larger than the diameter at the top of the projection is provided in a portion corresponding to the projection for connecting the upper and lower conductors of the metal layer forming the another conductor circuit. The tops of the projections are deeply buried in the solder, conductive paste, or noble metal film that fills the holes, thereby improving the connectivity.

【0156】請求項35の配線回路基板によれば、導体
回路を成す金属層にそれと同じ金属から成る上下導体間
接続用突起が選択的に形成されたものに層間絶縁膜を介
して積層された導体回路を成す金属層に、上記上下導体
間接続用突起と接する半田、導電ペースト又は貴金属膜
を設けたので、金属層と突起とを該半田、導電ペースト
又は貴金属膜を介して接続することができ、その間の電
気的接続性を良好にできる。
According to the printed circuit board of the thirty-fifth aspect, the upper and lower conductor connecting protrusions made of the same metal are selectively formed on the metal layer forming the conductor circuit, and are laminated via an interlayer insulating film. Since the metal layer forming the conductor circuit is provided with a solder, a conductive paste or a noble metal film that comes into contact with the upper and lower conductor connecting protrusions, the metal layer and the protrusion can be connected via the solder, the conductive paste or the noble metal film. And electrical connection therebetween can be improved.

【0157】請求項36の配線回路基板の製造方法によ
れば、導体回路となる金属層上に該金属層とは同じ金属
から成る上下導体間接続用突起が選択的に形成したもの
の上下導体間接続用突起形成側に、層間絶縁層を介し
て、上記導体回路とは別の導体回路となる金属層上に上
記上下導体間接続用突起に対応して半田、導電ペースト
又は貴金属膜を形成したものを積層するので、請求項3
4、35の配線回路基板を得ることができる。
According to the method of manufacturing a printed circuit board of the present invention, the connection between the upper and lower conductors is selectively formed on the metal layer to be the conductor circuit and made of the same metal as the metal layer. On the connection protrusion forming side, a solder, a conductive paste, or a noble metal film was formed on a metal layer to be a conductor circuit different from the conductor circuit, corresponding to the connection protrusion between the upper and lower conductors via an interlayer insulating layer. Claim 3
4, 35 printed circuit boards can be obtained.

【0158】請求項37の配線回路基板は、層間絶縁膜
として異方性導電膜を用いたので、突起と金属層との間
に介在してもその層間絶縁膜が受ける加圧力により導電
性を帯びるので、突起と金属層との間を確実に電気的に
接続することができる。
Since the anisotropic conductive film is used as the interlayer insulating film in the printed circuit board according to claim 37, even if the conductive film is interposed between the projection and the metal layer, the conductive property is obtained by the pressure applied to the interlayer insulating film. Since it is tinged, it is possible to reliably electrically connect the projection and the metal layer.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(A)〜(G)は本発明配線回路基板の製造方
法の第1の実施の形態の工程(A)〜(G)を順に示す
断面図である。
FIGS. 1A to 1G are cross-sectional views sequentially showing steps (A) to (G) of a first embodiment of a method for manufacturing a printed circuit board of the present invention.

【図2】(H)〜(K)は上記第1の実施の形態の工程
(H)〜(K)を順に示す断面図である。
FIGS. 2 (H) to 2 (K) are cross-sectional views sequentially showing steps (H) to (K) of the first embodiment.

【図3】(A)〜(F)は本発明配線回路基板の製造方
法の第2の実施の形態を工程順に示す断面図である。
FIGS. 3A to 3F are sectional views showing a second embodiment of the method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention in the order of steps.

【図4】(A)〜(C)は本発明配線回路基板の製造方
法の第3の実施の形態を工程順に示す断面図である。
FIGS. 4A to 4C are cross-sectional views showing a third embodiment of the method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention in the order of steps.

【図5】(A)〜(G)は本発明配線回路基板の製造方
法の第4の実施の形態の工程(A)〜(G)を順に示す
断面図である。
FIGS. 5A to 5G are sectional views sequentially showing steps (A) to (G) of a fourth embodiment of the method of manufacturing a wired circuit board according to the present invention.

【図6】(H)、(I)は上記第5の実施の形態の工程
(H)〜(I)を順に示す断面図である。
FIGS. 6H and 6I are cross-sectional views sequentially showing steps (H) to (I) of the fifth embodiment.

【図7】(A)〜(H)は本発明配線回路基板の製造方
法の第6の実施の形態の工程(A)〜(H)を順に示す
断面図である。
FIGS. 7A to 7H are cross-sectional views sequentially showing steps (A) to (H) of a sixth embodiment of the method of manufacturing a wired circuit board according to the present invention.

【図8】(I)〜(K)は本発明配線回路基板の製造方
法の第6の実施の形態の工程(I)〜(K)を順に示す
断面図である。
FIGS. 8A to 8K are cross-sectional views sequentially showing steps (I) to (K) of a sixth embodiment of the method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention.

【図9】(A)〜(E)は本発明配線回路基板の第7の
実施の形態を工程順に示す断面図である。
FIGS. 9A to 9E are sectional views showing a seventh embodiment of the printed circuit board of the present invention in the order of steps.

【図10】(A)、(B)は本発明配線回路基板の上下
導体間接続用突起の各別の例を示す断面図である。
FIGS. 10A and 10B are cross-sectional views showing different examples of the upper and lower conductor connection projections of the printed circuit board of the present invention.

【図11】本発明配線回路基板の突起を格子の各交点上
に配置した実施の形態の要部を示す斜視図である。
FIG. 11 is a perspective view showing a main part of an embodiment in which protrusions of the printed circuit board of the present invention are arranged on respective intersections of a lattice.

【図12】本発明配線回路基板の積層時に各突起が受け
る加圧力が各突起毎に均一になるように配置した実施の
形態を示す斜視図である。
FIG. 12 is a perspective view showing an embodiment in which the pressing force applied to each projection during lamination of the printed circuit board of the present invention is uniform for each projection.

【図13】本発明配線回路基板の上下導体間接続用突起
の高さ、径を均一にするために、エッチングレートを均
一にするためのダミー突起を設けた実施の形態を示す断
面図である。
FIG. 13 is a cross-sectional view showing an embodiment in which dummy projections for making the etching rate uniform are provided in order to make the height and diameter of the upper and lower conductor connecting protrusions of the printed circuit board of the present invention uniform. .

【図14】(A)〜(D)はダミー突起を設けた別の各
別の実施の形態を示す平面図である。
FIGS. 14A to 14D are plan views showing different embodiments in which dummy projections are provided.

【図15】本発明配線回路基板の高さの異なる上下導体
間接続用突起を混在させて段差のある接合面に対応させ
た実施の形態を示す断面図である。
FIG. 15 is a cross-sectional view showing an embodiment in which upper and lower conductor connection projections having different heights of the printed circuit board of the present invention are mixed to correspond to a joint surface having a step.

【図16】(A)、(B)は本発明配線回路基板の突起
と同じ材料、高さのスペーサを設けた実施の形態を示す
もので、(A)は斜視図、(B)は断面図である。
16A and 16B show an embodiment in which a spacer having the same material and height as the protrusions of the printed circuit board of the present invention is provided, FIG. 16A is a perspective view, and FIG. FIG.

【図17】本発明配線回路基板の径の異なる上下導体間
接続用突起を混在させた実施の形態を示す断面図であ
る。
FIG. 17 is a cross-sectional view showing an embodiment in which upper and lower conductor connection projections having different diameters of the wired circuit board of the present invention are mixed.

【図18】(A)〜(C)は本発明配線回路基板の突起
と同じ材料からなる認識マークを設けた実施の形態を示
すもので、(A)は斜視図、(B)は認識マークの平面
図、(C)は(B)のものとはパターンの異なる別の認
識マークの平面図である。
FIGS. 18A to 18C show an embodiment in which recognition marks made of the same material as the protrusions of the printed circuit board of the present invention are provided, wherein FIG. 18A is a perspective view and FIG. (C) is a plan view of another recognition mark having a different pattern from that of (B).

【図19】(A)〜(D)は本発明配線回路基板の製造
方法の第8の実施の形態を工程順に示す断面図である。
FIGS. 19A to 19D are sectional views showing an eighth embodiment of the method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention in the order of steps.

【図20】(A)〜(C)は導体回路の突起と対応する
部分に該突起頂部の径よりも大きな孔を形成することと
した例を示すものであり、(A)は断面図、(B)は導
体回路の突起と接続される部分の形状を示す平面図、
(C)は導電ペースト、半田或いは貴金属からなる層の
形成後、表面を研磨して該層の導体回路上の部分を除去
し、上記孔内のみに導電ペースト、半田或いは貴金属が
存在するようにした例を示す断面図である。
FIGS. 20A to 20C show an example in which a hole larger than the diameter of the projection top is formed in a portion corresponding to the projection of the conductor circuit, and FIG. (B) is a plan view showing a shape of a portion connected to the projection of the conductor circuit,
(C) is to form a layer made of conductive paste, solder or precious metal, and then to polish the surface to remove a portion of the layer on the conductive circuit, so that the conductive paste, solder or precious metal is present only in the hole. It is sectional drawing which shows the example which performed.

【図21】(A)〜(C)は本発明配線回路基板の製造
方法の第9の実施の形態を工程順に示す断面図である。
FIGS. 21A to 21C are cross-sectional views illustrating a ninth embodiment of a method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention in the order of steps.

【図22】本発明配線回路基板の層間絶縁膜として異方
性導電膜を用いた実施の形態を示す断面図である。
FIG. 22 is a sectional view showing an embodiment using an anisotropic conductive film as an interlayer insulating film of the printed circuit board of the present invention.

【図23】(A)〜(F)は高密度実装用配線回路基板
に関する一つの従来例を説明するためのもので、配線回
路基板の製造方法の工程(A)〜(F)を順に示す断面
図である。
FIGS. 23A to 23F are views for explaining one conventional example relating to a printed circuit board for high-density mounting, and show steps (A) to (F) of a method of manufacturing a printed circuit board in order; It is sectional drawing.

【図24】上記従来例の配線回路基板の製造方法の工程
(G)〜(I)を順に示す断面図である。
FIG. 24 is a cross-sectional view showing, in order, steps (G) to (I) of the method of manufacturing the conventional printed circuit board.

【図25】(A)〜(G)は高密度実装用配線回路基板
に関する別の従来例を説明するためのもので、配線回路
基板の製造方法を工程順(A)〜(G)に示す断面図で
ある。
FIGS. 25A to 25G are diagrams for explaining another conventional example relating to a printed circuit board for high-density mounting, and show a method of manufacturing a printed circuit board in the order of steps (A) to (G). It is sectional drawing.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

20・・・ベース材、21、21a・・・突起形成用金
属層(銅層)、22・・・エッチングバリア層、23・
・・導体回路形成用金属層(銅箔)、25・・・突起、
26・・・導電性ペースト、27・・・層間絶縁膜、2
8・・・積層体、29・・・導体回路形成用金属層(銅
箔)、 30・・・積層体、31、32・・・導体回
路、33、33a・・・配線回路基板、35・・・導体
回路、36・・・配線回路基板、37・・・突起形成用
マスク兼突起被覆半田メッキ膜、40・・・絶縁膜、4
1・・・開口、42・・・導体回路、43・・・絶縁
膜、44・・・開口、45・・・突起状端子、46、4
7・・・配線回路基板、48・・・LSIチップ、51
・・・ベース材(銅からなる金属層)、53、57・・
・上下導体間接続用突起、54・・・導体ペースト、半
田或いは貴金属膜、55・・・層間絶縁膜、55a・・
・層間絶縁膜を成す異方性導電膜、56・・・金属層、
58・・・ダミー突起、61・・・スペーサ、63・・
・認識マーク、70・・・コアの配線回路基板、72・
・・金属層、72a・・・孔、73・・・スルーホー
ル、74・・・導電ペースト、半田或いは貴金属膜。
20: base material, 21, 21a: metal layer (copper layer) for forming projections, 22: etching barrier layer, 23:
..Metal layer (copper foil) for forming conductor circuit, 25...
26: conductive paste, 27: interlayer insulating film, 2
8 ... laminated body, 29 ... metal layer (copper foil) for forming conductor circuit, 30 ... laminated body, 31, 32 ... conductor circuit, 33, 33a ... wiring circuit board, 35 ..Conductor circuit, 36 ... wiring circuit board, 37 ... projection forming mask / projection coating solder plating film, 40 ... insulating film, 4
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Opening, 42 ... Conductor circuit, 43 ... Insulating film, 44 ... Opening, 45 ... Projecting terminal, 46, 4
7 ... printed circuit board, 48 ... LSI chip, 51
... Base material (metal layer made of copper), 53, 57 ...
.. Protrusions for connection between upper and lower conductors, 54... Conductive paste, solder or noble metal film, 55... Interlayer insulating film, 55a.
-Anisotropic conductive film forming an interlayer insulating film, 56 ... metal layer,
58: dummy projection, 61: spacer, 63 ...
. Recognition mark, 70... Core wiring circuit board, 72.
..Metal layer, 72a ... hole, 73 ... through hole, 74 ... conductive paste, solder or noble metal film.

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────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成13年5月10日(2001.5.1
0)
[Submission date] May 10, 2001 (2001.5.1
0)

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】全文[Correction target item name] Full text

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【書類名】 明細書[Document Name] Statement

【発明の名称】 配線回路基板とその製造方法Patent application title: Printed circuit board and method of manufacturing the same

【特許請求の範囲】[Claims]

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばIC、LS
I等の電子デバイス実装用の配線回路基板、特に高密度
実装を実現できる配線回路基板と、その製造方法に関す
る。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to, for example, IC, LS
The present invention relates to a printed circuit board for mounting electronic devices such as I, particularly a printed circuit board capable of realizing high-density mounting, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】図21(A)〜(F)及び図22(G)
〜(I)は高密度実装用配線回路基板に関する一つの従
来例を説明するためのもので、配線回路基板の製造方法
を工程順(A)〜(I)に示す断面図である。
2. Description of the Related Art FIGS. 21A to 21F and FIG. 22G.
FIGS. 1A to 1I are cross-sectional views illustrating a conventional method of manufacturing a printed circuit board for high-density mounting, in the order of steps (A) to (I).

【0003】(A)先ず、25〜100μm程度の厚さ
の絶縁シートからなる絶縁ベース1を用意し、図21
(A)に示すように、該絶縁シート1に層間接続用の孔
2をパンチング、ドリルにより或いはレーザー加工によ
り形成する。 (B)次に、図21(B)に示すように、上記孔2を導
電性ペースト(例えば銀或いは銅等を主材料とする。)
3により例えば印刷法で充填する。これにより、絶縁ベ
ース1は孔2、2、・・・が導電性ペースト3により充
填された半硬化状態のシートAになる。
(A) First, an insulating base 1 made of an insulating sheet having a thickness of about 25 to 100 μm is prepared.
As shown in (A), holes 2 for interlayer connection are formed in the insulating sheet 1 by punching, drilling, or laser processing. (B) Next, as shown in FIG. 21B, the hole 2 is made of a conductive paste (for example, silver or copper is used as a main material).
3 is filled by a printing method, for example. Thus, the insulating base 1 becomes a semi-cured sheet A in which the holes 2, 2, ... are filled with the conductive paste 3.

【0004】(C)、(D)次に、図21(C)に示す
ように、上記シートAの両面に例えば銅からなる金属箔
4、4を臨ませ、図21(D)に示すようにその金属箔
4、4を加圧加熱プレスで積層する。これにより両面に
金属箔4、4が形成され、その間に絶縁シート1が存在
し、孔2、2、・・・にて導電性ペースト3、3、・・
・により上記両面の金属箔4・4間が電気的に接続され
た積層体が構成される。 (E)次に、上記金属箔4、4上に形成すべき導体回路
と同じパターンを有するレジスト膜5、5を形成する。
図21(E)はレジスト膜5、5形成後の状態を示す。
(C), (D) Next, as shown in FIG. 21 (C), metal foils 4 and 4 made of, for example, copper are made to face both surfaces of the sheet A, and as shown in FIG. Then, the metal foils 4 and 4 are laminated by a press and heat press. As a result, metal foils 4 and 4 are formed on both surfaces, and an insulating sheet 1 is present between the metal foils and conductive pastes 3, 3,.
Thus, a laminate is formed in which the metal foils 4 on both sides are electrically connected. (E) Next, resist films 5, 5 having the same pattern as the conductor circuits to be formed on the metal foils 4, 4 are formed.
FIG. 21E shows a state after the formation of the resist films 5 and 5.

【0005】(F)次に、上記レジスト膜5、5をマス
クとして上記金属箔4、4をエッチングすることにより
図21(F)に示すように導体回路6、6を形成する。
これにより両面に絶縁シート1により層間分離され、孔
2内の導電性ペースト3により層間接続された導体回路
6、6が形成された積層体Bが構成される。 (G)次に、図22(G)に示すように、上記積層体B
の両面に、孔2、2、・・・を有し、その孔2、2、・
・・が導電性ペースト3、3、・・・で充填された絶縁
シート1a、1aと金属箔4a、4aを重ね、その後、
加圧プレスでこれらを積層する。この積層により形成さ
れた積層体をCとする。
(F) Next, the metal foils 4 and 4 are etched using the resist films 5 and 5 as masks to form conductor circuits 6 and 6 as shown in FIG.
As a result, a laminated body B is formed in which conductor circuits 6 and 6 are formed on both sides of which are separated by the insulating sheet 1 and are connected to each other by the conductive paste 3 in the holes 2. (G) Next, as shown in FIG.
Have holes 2, 2,... On both surfaces thereof.
··· overlaps the insulating sheets 1a, 1a and the metal foils 4a, 4a filled with the conductive pastes 3, 3,.
These are laminated by a pressure press. The laminate formed by this lamination is designated as C.

【0006】(H)次に、図22(H)に示すように、
積層体Cの両面の金属箔4a、4a上にレジスト膜5、
5を選択的に形成する。 (I)次に、上記レジスト膜5、5をマスクとして金属
箔4a、4aを選択的にエッチングすることによりパタ
ーニングして、図22(I)に示すように配線膜6a、
6aを形成する。これにより、4層の導体回路6、6、
6a、6aを有する配線回路基板7が形成される。
(H) Next, as shown in FIG.
A resist film 5 on the metal foils 4a, 4a on both sides of the laminate C;
5 is selectively formed. (I) Next, the metal foils 4a and 4a are patterned by selectively etching the metal foils 4a and 4a using the resist films 5 and 5 as a mask, and as shown in FIG.
6a is formed. As a result, the four-layer conductor circuits 6, 6,
The printed circuit board 7 having 6a, 6a is formed.

【0007】図23(A)〜(G)は高密度実装用配線
回路基板に関する別の従来例を説明するためのもので、
配線回路基板の製造方法を工程順(A)〜(G)に示す
断面図である。 (A)例えば銅からなる金属箔(厚さ例えば18μm)
10を用意し、図23(A)に示すように、該金属箔1
0上に導電性の突起11、11、・・・を銅或いは銀等
の導電性ペーストをメタル版を介して印刷により形成
し、加熱硬化する。突起11、11、・・・の厚さは例
えば100〜300μm程度である。
FIGS. 23A to 23G are diagrams for explaining another conventional example relating to a printed circuit board for high-density mounting.
It is sectional drawing which shows the manufacturing method of a printed circuit board in process order (A)-(G). (A) Metal foil made of, for example, copper (thickness of, for example, 18 μm)
10 was prepared, and as shown in FIG.
The conductive projections 11, 11,... Are formed by printing a conductive paste such as copper or silver on a metal plate through a metal plate, and are cured by heating. The thickness of the projections 11, 11,... Is, for example, about 100 to 300 μm.

【0008】(B)次に、図23(B)に示すように、
上記金属箔10の突起11、11、・・・が形成された
面上に絶縁性の接着シート12を接着する。この接着シ
ート12として記突起11、11、・・・の厚さよりも
適宜薄いものを用いることより、上記突起11、11、
・・・の頂部が接着シート12の表面から突出するよう
にする。この金属箔10に突起11、11、・・・を形
成し、接着シート12をそれから突起11、11、・・
・の頂部が突出するように接着した積層体Aが出来上が
る。
(B) Next, as shown in FIG.
An insulating adhesive sheet 12 is adhered on the surface of the metal foil 10 on which the protrusions 11, 11,... Are formed. By using an adhesive sheet 12 that is appropriately thinner than the thicknesses of the protrusions 11, 11,..., The protrusions 11, 11,.
.. Are projected from the surface of the adhesive sheet 12. Forming projections 11, 11,... On the metal foil 10, and bonding the adhesive sheet 12 to the projections 11, 11,.
The laminated body A adhered so that the top of is protruded is completed.

【0009】(C)、(D)次に、図23(C)に示す
ように、上記金属箔10と同様の金属箔13を上記接着
シート10の接着シート12表面上方に臨ませ、熱加圧
プレス法により、図22(D)に示すように、金属箔1
3を接着シート12及び突起11、11、・・・上に積
層する。Bはそれによりできた積層体である。 (E)次に、上記積層体Bの両面の金属箔10、13上
にパターニングした例えばレジスト膜を形成し、該レジ
スト膜をマスクとして上記金属箔10、13をエッチン
グすることにより導体回路14、15を形成する。図2
3(E)は導体回路形成後マスクとして用いたレジスト
膜を除去した状態を示す。
(C), (D) Next, as shown in FIG. 23 (C), a metal foil 13 similar to the metal foil 10 is exposed above the surface of the adhesive sheet 12 of the adhesive sheet 10 and heated. As shown in FIG. 22D, the metal foil 1
3 are laminated on the adhesive sheet 12 and the projections 11, 11,.... B is the resulting laminate. (E) Next, for example, a patterned resist film is formed on the metal foils 10 and 13 on both sides of the laminate B, and the metal foils 10 and 13 are etched using the resist film as a mask to form the conductor circuits 14 and 13. 15 are formed. FIG.
3E shows a state in which the resist film used as the mask after the formation of the conductor circuit is removed.

【0010】(F)次に、上記図23(B)に示す積層
体Aと同じ方法でつくられた積層体aを二つ用意し、そ
の二つの積層体a、aを、図23(F)に示すように、
上記積層体Bの両面に臨ませる。 (G)次に、上記積層体Bをその両面側から積層体a、
aでサンドイッチ状に挟んで上述した熱加圧プレス法に
より加圧して積層し、図23(G)に示すような配線回
路基板16が出来上がる。
(F) Next, two laminates a made by the same method as the laminate A shown in FIG. 23B are prepared, and the two laminates a, a are placed in FIG. ),
It faces both sides of the laminate B. (G) Next, the laminate B was laminated from both sides thereof to a laminate a,
23A, sandwiched in a sandwich, and pressurized and laminated by the above-mentioned hot press method, and a printed circuit board 16 as shown in FIG. 23 (G) is completed.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】ところで、図21、図
22に示した従来例には、第1に、絶縁シート1の孔2
を銀等の高価な金属を主材料とする導電性ペースト3で
埋めて層間接続に用いるので、コストアップに繋がると
いう問題があった。特に、高密度化に伴い、孔2の配設
密度が増えるので、無視できないコストアップが生じ
る。第2に、孔2を導電性ペースト3で埋める際に、孔
2以外の部分にも導電性材料が微量ながら付着し、特に
高湿下において絶縁抵抗が低下するという問題があっ
た。
By the way, the prior art shown in FIGS. 21 and 22 firstly has two holes 2 in the insulating sheet 1.
Is filled with a conductive paste 3 containing an expensive metal such as silver as a main material and used for interlayer connection, leading to a problem that the cost is increased. In particular, as the density increases, the arrangement density of the holes 2 increases, so that a considerable cost increase occurs. Secondly, when the holes 2 are filled with the conductive paste 3, a small amount of the conductive material adheres to portions other than the holes 2, and there is a problem that the insulation resistance is reduced particularly under high humidity.

【0012】第3に、絶縁シート1に孔2、2、・・・
を形成した後加圧積層するときに、加わる圧力によりシ
ート1が横方向に伸延され、孔2、2、・・・の位置ず
れが生じ、補正を行って孔明けをしても高密度パターン
においては補正しきれない場合が生じるという問題があ
った。斯かる孔2の位置ずれは層間接続不良の原因にな
り看過できない重大な問題となり、特に高密度実装の配
線回路基板の場合には致命的となる。第4に、銅等から
なる金属箔4、4と導電性ペースト3との接合の信頼性
が不充分であるという問題があった。即ち、孔2を埋め
た導電性ペースト3は半硬化状になるように溶剤分を除
去するが、半硬化後の導電ペーストは溶剤分の除去等に
より収縮し、体積が小さくなり、導電ペースト3の上下
両面が凹状になることが多い。その結果、金属箔4、4
との間に接合不良が生じやすく、歩留まり、信頼性が低
くなると言う問題があったのである。
Third, holes 2, 2,...
Is formed, the sheet 1 is extended in the horizontal direction due to the applied pressure, and the holes 2, 2,... Are displaced. However, there is a problem that correction cannot be performed in some cases. Such a displacement of the hole 2 causes a poor interlayer connection and becomes a serious problem that cannot be overlooked, and is particularly fatal in the case of a high-density printed circuit board. Fourth, there is a problem that the reliability of bonding between the metal foils 4 and 4 made of copper or the like and the conductive paste 3 is insufficient. That is, the conductive paste 3 in which the holes 2 are filled is removed from the solvent so that the conductive paste 3 becomes semi-cured. However, the conductive paste after the semi-curing shrinks due to the removal of the solvent and the like, and the volume decreases. The upper and lower surfaces are often concave. As a result, the metal foils 4, 4
In this case, there is a problem that a bonding failure is likely to occur between them and the yield and reliability are reduced.

【0013】次に、図23に示す従来例にも問題があっ
た。第1に、突起11は高価な材料である導電性ペース
トで形成するので、コストアップになるという問題があ
った。第2に、突起11の導電性ペーストによる形成に
は、スクリーン印刷法を用いる結果、導電性ペーストを
厚くすることに限界があり、その結果、突起11の形成
にスクリーン印刷を複数回繰り返すことが必要になる場
合が多い。そして、そのように印刷回数が多くなると、
位置ずれによる突起11の形状の変形が生じ易くなり、
延いては後における金属箔4との接続の信頼度が低くな
ると言う問題があるし、スクリーン印刷するときの位置
合わせ作業が非常に難しく、面倒で、熟練を要すると
か、位置合わせ時間が長くなるという問題が生じる。こ
のような傾向は、突起11の径が小さくなる程顕著であ
る。因みに、直径が0.3mmの突起の場合、2回印刷
が必要であり、直径0.2mmの突起の場合、4回印刷
する必要がある。これはかなり面倒であり、生産性向上
の障害にもなり、高密度配線回路基板への対応に課題を
残している。
Next, the conventional example shown in FIG. 23 also has a problem. First, since the projections 11 are formed of a conductive paste, which is an expensive material, there is a problem that the cost is increased. Second, the formation of the projections 11 with the conductive paste uses a screen printing method, so that there is a limit in increasing the thickness of the conductive paste. As a result, screen printing is repeated a plurality of times to form the projections 11. Often needed. Then, when the number of times of printing increases as such,
Deformation of the shape of the projection 11 due to misalignment is likely to occur,
As a result, there is a problem that the reliability of the connection with the metal foil 4 later becomes low, and the alignment work at the time of screen printing is very difficult, troublesome, requires skill, and the alignment time becomes long. The problem arises. Such a tendency becomes more remarkable as the diameter of the projection 11 decreases. By the way, in the case of a projection having a diameter of 0.3 mm, printing needs to be performed twice, and in the case of a projection having a diameter of 0.2 mm, printing needs to be performed four times. This is rather cumbersome, hinders the improvement of productivity, and has a problem in dealing with high-density wiring circuit boards.

【0014】第3に、突起11、11、・・・の高さに
ばらつきが生じやすいと言う問題があった。即ち、スク
リーン印刷には、形成される膜の厚さを均一にすること
が難しいので、当然にスクリーン印刷により形成した突
起11、11、・・・の高さにはばらつきが生じやす
く、その結果、その厚さのばらつきにより、金属箔13
と突起11、11、・・・との接続が不良になるおそれ
が生じ、歩留まり、信頼性が低くなるという問題があっ
たのである。第4に、製造過程において配線回路基板の
ベースとなる金属箔10が例えば18μmと薄く、上記
スクリーン印刷の際に、金属箔13側にしわ、変形、折
れ曲がり等が生じないように充分な注意が必要であり、
僅かなミスによる歩留まり低下を起こす可能性を有す
る。これは当然のことながら、コストアップの原因とな
り、看過できない問題となる。かといって、その金属箔
10を厚くしてベースの剛性を強くしようとすると、導
体回路のファインパターン化を妨げることになるという
問題に直面する。
Third, there is a problem that the heights of the projections 11, 11,... Are likely to vary. That is, in screen printing, it is difficult to make the thickness of the formed film uniform, so naturally the heights of the projections 11, 11,. , The thickness of the metal foil 13
There is a possibility that the connection between the semiconductor device and the projections 11, 11,... May become defective, and the yield and reliability may be reduced. Fourth, in the manufacturing process, the metal foil 10 serving as the base of the printed circuit board is as thin as 18 μm, for example, and sufficient care should be taken so that wrinkling, deformation, bending, etc. do not occur on the metal foil 13 side during the screen printing. Required,
There is a possibility that the yield may be reduced due to a slight mistake. As a matter of course, this causes an increase in cost and is a problem that cannot be overlooked. On the other hand, if the thickness of the metal foil 10 is increased to increase the rigidity of the base, there is a problem that fine patterning of the conductive circuit is hindered.

【0015】また、上記各従来例に共通する問題点とし
ては高密度化、即ち微小な層間接続には限界があり、一
つの従来例には孔径の微細化と導電ペーストの充填の難
しさのため、また、別の従来例ではバンプ印刷で微小径
になればなるほど印刷が難しくなり、200μm以下の
径は実際上作り得なかった。また、導電ペーストと銅箔
の間の接合強度が低く、パットオンビアとして使用しよ
うとした場合、ビア状のパッド強度が充分でなく必要以
上に面積をとる必要があった。
Another problem common to the above-mentioned conventional examples is that there is a limit to high density, that is, a minute interlayer connection, and one conventional example has a problem in that the hole diameter is reduced and the filling of the conductive paste is difficult. Therefore, in another conventional example, as the diameter becomes smaller by bump printing, printing becomes more difficult, and a diameter of 200 μm or less could not be actually formed. In addition, when the bonding strength between the conductive paste and the copper foil is low and the pad is to be used as a pad-on-via, the pad-like pad strength is not sufficient and the area needs to be increased more than necessary.

【0016】本発明はこのような問題点を解決すべく為
されたものであり、製造過程において曲がり、折れ、変
形等が生じないようにし、製造過程における寸法の安定
性を高めることにより上下導体回路間の接続の確実性を
高め、上下導体回路間接続手段のコスト低減を図ること
を目的とする。
The present invention has been made to solve such a problem, and it is intended to prevent bending, bending, deformation, and the like in a manufacturing process, and to improve dimensional stability in a manufacturing process, thereby improving the upper and lower conductors. An object of the present invention is to increase the reliability of connection between circuits and reduce the cost of connecting means between upper and lower conductor circuits.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】請求項1の配線回路基板
は、導体回路となる導体回路形成用金属層上に、該金属
層とは別の金属から成るエッチングバリア層を介して金
属から成る突起が、選択的に形成され、上記導体回路の
上記突起が形成された側の面に層間絶縁層が形成され、
上記突起が上記絶縁層を貫通して上記導体回路となる金
属層と他との層間接続手段を成していることを特徴とす
る。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a printed circuit board comprising a metal on a metal layer for forming a conductor circuit, which is to be a conductor circuit, via an etching barrier layer made of a metal different from the metal layer. A protrusion is selectively formed, an interlayer insulating layer is formed on a surface of the conductor circuit on a side where the protrusion is formed,
The above-mentioned protrusion forms an interlayer connection means between the metal layer which becomes the conductor circuit by penetrating the insulating layer and another.

【0018】請求項2の配線回路基板は、請求項1記載
の配線回路基板において、上記突起の表面に表面処理剤
として導電性ペースト材料がコーティングされたことを
特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, there is provided the wired circuit board according to the first aspect, wherein the surface of the projection is coated with a conductive paste material as a surface treating agent.

【0019】請求項3の配線回路基板の製造方法は、突
起形成用の金属層上にそれとは別の金属から成るエッチ
ングバリア層を形成し、該エッチングバリア層上に導体
回路となる金属層を形成したものを用意する工程と、上
記突起形成用の金属層を、上記エッチングバリア層を侵
さないエッチング液により選択的にエッチングすること
により突起を形成する工程と、上記エッチングバリア層
のみを上記突起をマスクとして上記導体回路を成す金属
層を侵さないエッチング液で除去する工程と、上記導体
回路を成す金属層の上記突起形成側の面に層間絶縁用の
絶縁層を形成して該突起を上記導体回路に接続された層
間接続手段とする工程と、を有することを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a printed circuit board, comprising: forming an etching barrier layer made of another metal on a metal layer for forming projections; and forming a metal layer serving as a conductor circuit on the etching barrier layer. A step of preparing the formed layer, a step of selectively etching the metal layer for forming the projections with an etchant that does not attack the etching barrier layer, and a step of forming the projections. Using a mask as a mask to remove with an etchant that does not attack the metal layer forming the conductor circuit, and forming an insulating layer for interlayer insulation on the surface on the protrusion formation side of the metal layer forming the conductor circuit, and forming the protrusion on the surface. Forming interlayer connection means connected to the conductor circuit.

【0020】請求項4の配線回路基板の製造方法は、突
起形成用の金属層上にそれとは別の金属から成るエッチ
ングバリア層を形成し、該エッチングバリア層上に導体
回路となる金属層を形成したものを用意し、上記突起形
成用の金属層を、上記エッチングバリア層を侵さないエ
ッチング液により選択的にエッチングすることにより突
起を形成し、上記導体回路を成す金属層の上記突起形成
側の面に層間絶縁用の絶縁層を形成して該突起を上記導
体回路に接続された層間接続手段とし、そして、上記導
体回路となる上記エッチングバリア層上の金属層を該エ
ッチングバリア層と共にエッチングマスク層をマスクと
する選択エッチングにより除去することによって導体回
路を形成することを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a printed circuit board, comprising: forming an etching barrier layer made of another metal on a metal layer for forming projections; and forming a metal layer serving as a conductor circuit on the etching barrier layer. The formed metal is prepared, and the metal layer for forming the protrusions is selectively etched by an etchant that does not attack the etching barrier layer to form the protrusions, and the protrusion forming side of the metal layer forming the conductor circuit is formed. Forming an insulating layer for interlayer insulation on the surface of the substrate, using the protrusions as interlayer connection means connected to the conductor circuit, and etching the metal layer on the etching barrier layer to be the conductor circuit together with the etching barrier layer. A conductor circuit is formed by removing by selective etching using the mask layer as a mask.

【0021】請求項5の配線回路基板の製造方法は、請
求項3又は4記載の配線回路基板の製造方法において、
上記ベースメタルからなる層を選択的にエッチングして
上記突起を形成する際に、エッチングマスクとして例え
ば半田メッキ、銀メッキ、金メッキ或いはパラジウムメ
ッキ等により形成した金属層を用い、上記突起の形成後
においても上記エッチングマスクとして用いた金属層を
残存させてその金属層で突起表面を全面的に覆う状態に
することを特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a wired circuit board according to the third aspect.
When forming the protrusions by selectively etching the layer made of the base metal, for example, using a metal layer formed by, for example, solder plating, silver plating, gold plating, or palladium plating as an etching mask, after forming the protrusions Also, the metal layer used as the etching mask is left, and the surface of the projection is entirely covered with the metal layer.

【0022】請求項6の配線回路基板の製造方法は、請
求項1の配線回路基板の上記突起及び上記層間絶縁膜が
形成された側の面に、上記導体回路とは別の導体回路形
成用の金属箔を積層して加圧することにより一体化し、
その後、導体回路形成用の金属層及び金属箔を選択的に
エッチングすることにより両面に導体回路を形成するこ
とを特徴とする。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a printed circuit board according to the first aspect of the present invention, wherein the surface of the printed circuit board on which the protrusions and the interlayer insulating film are formed is different from the conductive circuit. The metal foil is laminated and pressurized to be integrated,
Thereafter, a conductive circuit is formed on both surfaces by selectively etching the metal layer and the metal foil for forming the conductive circuit.

【0023】請求項7の配線回路基板の製造方法は、請
求項6の配線回路基板の製造方法により製造された配線
回路基板の両面に、請求項1の配線回路基板を、この配
線回路基板の突起及び層間絶縁膜の形成された側が内側
を向くようにサンドイッチ状に重ねて積層して加圧する
ことにより一体化し、その一体化をされたものの両面に
位置する2個の金属層を選択的にエッチングすることに
より両面に導体回路を形成することを特徴とする。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a printed circuit board, comprising the steps of: The two metal layers located on both sides of the integrated body are selectively integrated by pressing and laminating them in a sandwich shape so that the side on which the protrusions and the interlayer insulating film are formed faces inside. A conductor circuit is formed on both surfaces by etching.

【0024】請求項8の配線回路基板、請求項9の配線
回路基板の製造方法は、一層又は多層の導体回路の一方
の主面に開口を有した絶縁層を介してベースメタルから
なり、上記開口を通じて上記導体回路と電気的に接続さ
れた突起を有し、上記絶縁層の該突起が形成された側に
層間絶縁膜を形成した2個の配線回路基板を、突起及び
層間絶縁膜が形成された側が内側を向くように直接に又
は配線回路基板を介して積層して加圧することにより一
体化してなる、或いは一体化する。
According to a eighth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a printed circuit board, comprising a base metal via an insulating layer having an opening in one main surface of a single-layer or multilayer conductive circuit. Two wiring circuit boards each having a projection electrically connected to the conductor circuit through an opening, and having an interlayer insulating film formed on the side of the insulating layer where the projection is formed, are formed with the projection and the interlayer insulating film. The layers are laminated directly or through a printed circuit board so that the cut side faces inward, and are integrated by pressing, or are integrated.

【0025】請求項10の配線回路基板は、請求項7の
配線回路基板の両面にLSIチップ若しくはパッケージ
を搭載してなることを特徴とする。
According to a tenth aspect of the present invention, an LSI chip or a package is mounted on both surfaces of the wired circuit board of the seventh aspect.

【0026】請求項11の配線回路基板は、導体回路を
成す金属層上に、該金属層とは同じ金属から成る上下導
体間接続用突起が、選択的に形成され、上記導体回路の
上記突起が形成された側の面に層間絶縁層が形成され、
上記上下導体間接続用突起が上記絶縁層を貫通して上記
導体回路となる金属層と他との層間接続手段を成してい
ることを特徴とする。
According to a eleventh aspect of the present invention, in the printed circuit board, a projection for connecting the upper and lower conductors made of the same metal as the metal layer is selectively formed on a metal layer forming the conductor circuit. An interlayer insulating layer is formed on the surface on which the is formed,
The connection protrusion between the upper and lower conductors penetrates the insulating layer to form interlayer connection means with the metal layer serving as the conductor circuit.

【0027】請求項12の配線回路基板は、第1の導体
回路を成す金属層上に、該金属層とは同じ金属から成る
突起が、選択的に形成され、上記導体回路の上記突起が
形成された側の面に層間絶縁層が該突起に貫通された状
態で形成され、上記突起及び上記層間絶縁層の表面に金
属層からなる第2の導体回路が形成され、上記第1と第
2の導体回路が上記突起を介して電気的に接続されたこ
とを特徴とする。
According to a twelfth aspect of the present invention, a projection made of the same metal as the metal layer is selectively formed on the metal layer forming the first conductor circuit, and the projection of the conductor circuit is formed. A second conductor circuit made of a metal layer is formed on the surface of the protrusion and the surface of the interlayer insulating layer, and the first and second conductive circuits are formed on the surface of the protrusion and the interlayer insulating layer. Are electrically connected via the protrusions.

【0028】請求項13の配線回路基板は、請求項12
の配線回路基板において、上記第2の導体回路を成す金
属層の上記上下導体間接続用突起と対応する部分に該突
起の頂部における径よりも小さな径の孔が形成されてな
ることを特徴とする。
According to a thirteenth aspect of the present invention, there is provided the printed circuit board according to the twelfth aspect.
In the printed circuit board of (1), a hole having a diameter smaller than the diameter at the top of the projection is formed in a portion of the metal layer forming the second conductor circuit corresponding to the projection for connection between the upper and lower conductors. I do.

【0029】請求項14の配線回路基板は、請求項1
1、12又は13記載の配線回路基板において、上記突
起が槍状に形成されたことを特徴とする。
According to a fourteenth aspect of the present invention, there is provided the printed circuit board according to the first aspect.
14. The printed circuit board according to 1, 12, or 13, wherein the protrusion is formed in a spear shape.

【0030】請求項15の配線回路基板は、請求項1
1、12又は13記載の配線回路基板において、上記突
起がコニーデ状(富士山状)に形成されたことを特徴と
する。
According to a fifteenth aspect of the present invention, there is provided the printed circuit board according to the first aspect.
14. The printed circuit board according to 1, 12, or 13, wherein the protrusion is formed in a conide shape (Mt. Fuji shape).

【0031】請求項16の配線回路基板は、請求項1
1、12又は13記載の配線回路基板において、上記突
起が鼓状に形成されたことを特徴とする。
According to a sixteenth aspect of the present invention, there is provided the printed circuit board according to the first aspect.
14. The printed circuit board according to 1, 12, or 13, wherein the protrusion is formed in a drum shape.

【0032】請求項17の配線回路基板は、請求項1
1、12、13、14、15又は16記載の配線回路基
板において、上記突起の表面が粗化或いはつぶメッキさ
れたことを特徴とする。
According to a seventeenth aspect of the present invention, there is provided the printed circuit board according to the first aspect.
The printed circuit board according to any one of 1, 12, 13, 14, 15 and 16, wherein the surface of the projection is roughened or crushed.

【0033】請求項18の配線回路基板は、請求項1
1、12、13、14、15、16又は17記載の配線
回路基板において、突起が銅からなり、その表面が電解
クロメート処理されてなることを特徴とする。
[0033] The printed circuit board according to claim 18 is characterized in that:
The printed circuit board according to 1, 12, 13, 14, 15, 16 or 17, wherein the projection is made of copper and the surface thereof is subjected to electrolytic chromate treatment.

【0034】請求項19の配線回路基板は、導体回路を
成す金属層と突起を形成するための金属板を用意し、そ
の一方の表面に選択的にマスク膜を形成する工程と、該
マスク膜をマスクとして上記金属板をハーフエッチング
することにより導体回路となる金属層とその上記一方の
表面に一体に選択的に形成された突起を形成する工程
と、上記導体回路となる金属層の上記突起が形成された
側の表面に層間絶縁層を該突起により貫通されるように
形成する工程と、上記絶縁層及び突起の表面に金属層を
形成する工程と、上記絶縁層の両方の表面の金属層を同
時又は異時に選択的にパターニングすることにより配線
膜を形成する工程と、を有することを特徴とする。
In the wiring circuit board according to the present invention, a step of preparing a metal layer forming a conductive circuit and a metal plate for forming a projection, and selectively forming a mask film on one surface thereof, Forming a metal layer to be a conductor circuit by half-etching the metal plate with the mask as a mask and a projection integrally formed selectively on the one surface of the metal layer; and forming the projection on the metal layer to be the conductor circuit. A step of forming an interlayer insulating layer on the surface on which is formed by the projections, a step of forming a metal layer on the surfaces of the insulating layer and the projections, and a step of forming a metal layer on both surfaces of the insulating layer. Forming a wiring film by selectively patterning the layers simultaneously or at different times.

【0035】請求項20の配線回路基板は、請求項12
記載の配線回路基板において、上記上下導体間接続用突
起と上記金属層との間に異方性導電膜を介在させたこと
を特徴とする。
According to a twentieth aspect of the present invention, there is provided the printed circuit board according to the twelfth aspect.
In the printed circuit board described above, an anisotropic conductive film is interposed between the upper and lower conductor connecting protrusions and the metal layer.

【0036】請求項21の配線回路基板の製造方法は、
請求項19記載の配線回路基板の製造方法において、金
属層を積層する前に、上記突起と該金属層との間に異方
性導電膜を介在させる工程を有することを特徴とする。
The method of manufacturing a printed circuit board according to claim 21 is
The method of manufacturing a printed circuit board according to claim 19, further comprising a step of interposing an anisotropic conductive film between the protrusion and the metal layer before laminating the metal layer.

【0037】請求項22の配線回路基板は、金属層の表
面に多数の金属からなる導体間接続用突起を一定の間隔
をおいて配列された格子の各交点上に配置し、上記金属
層の上記導体間接続用突起が形成された表面上に層間絶
縁層を該導体間接続用突起に貫通された状態で設け、上
記層間絶縁層の上記上下導体間接続用突起を含む表面に
金属層を形成してなることを特徴とする。
According to a twenty-second aspect of the present invention, there is provided the printed circuit board, wherein a plurality of inter-conductor connecting projections made of a plurality of metals are arranged on respective intersections of a grid arranged at regular intervals on the surface of the metal layer. An interlayer insulating layer is provided on the surface on which the inter-conductor connection projections are formed in a state penetrated by the inter-conductor connection projections, and a metal layer is formed on the surface of the inter-layer insulation layer including the upper and lower conductor connection projections. It is characterized by being formed.

【0038】請求項23の配線回路基板は、金属層の表
面に多数の金属からなる導体間接続用突起を配置し、上
記金属層の上記導体間接続用突起が形成された表面上に
層間絶縁層を該突起に貫通された状態で設け、上記層間
絶縁層の上記導体間接続用突起を含む表面に上記金属層
とは別の金属層を形成してなる配線回路基板であって、
上記各上下導体間接続用突起を、上記基板両面から加圧
したとき各上下導体間接続用突起が均一な加圧力を受け
るように配置してなることを特徴とする。
According to a twenty-third aspect of the present invention, there is provided the printed circuit board, wherein a plurality of metal-to-conductor connection projections are arranged on the surface of the metal layer, and an interlayer insulating projection is formed on the surface of the metal layer where the connection-to-conductor connection projections are formed. A wiring circuit board comprising a layer provided in a state penetrated by the projections, and a metal layer different from the metal layer formed on a surface of the interlayer insulating layer including the inter-conductor connection projections,
The upper and lower conductor connecting protrusions are arranged such that the upper and lower conductor connecting protrusions receive a uniform pressing force when pressed from both sides of the substrate.

【0039】請求項24の配線回路基板は、金属層の表
面に多数の金属からなる導体間接続用突起を配置し、上
記金属層の上記導体間接続用突起が形成された表面上に
層間絶縁層を該突起に貫通された状態で設け、上記層間
絶縁層の上記導体間接続用突起を含む表面に上記金属層
とは別の金属層を形成してなる配線回路基板であって、
上記上下導体間接続用突起の周辺又は上下導体間が密集
した密集領域の周辺に上下導体間接続用突起よりも背の
小さなダミー突起を配置してなることを特徴とする。
According to a twenty-fourth aspect of the present invention, in the printed circuit board, a large number of metal-to-conductor connection protrusions are arranged on the surface of the metal layer, and an interlayer insulating protrusion is formed on the surface of the metal layer where the connection-to-conductor connection protrusions are formed. A wiring circuit board comprising a layer provided in a state penetrated by the projections, and a metal layer different from the metal layer formed on a surface of the interlayer insulating layer including the inter-conductor connection projections,
A dummy projection smaller in height than the upper and lower conductor connecting projections is arranged around the upper and lower conductor connecting projections or around a dense area where the upper and lower conductors are densely arranged.

【0040】請求項25の配線回路基板は、金属層の表
面に多数の金属からなる導体間接続用突起を配置し、上
記金属層の上記導体間接続用突起が形成された表面上に
層間絶縁層を該突起に貫通された状態で設け、上記層間
絶縁層の上記導体間接続用突起を含む表面に上記金属層
とは別の金属層を形成してなる配線回路基板であって、
上下導体間接続用突起が複数通りの異なる高さを持つよ
うにされたことを特徴とする。
According to a twenty-fifth aspect of the present invention, in the printed circuit board, a large number of metal-to-conductor connection projections are arranged on the surface of the metal layer, and an interlayer insulating film is formed on the surface of the metal layer where the connection-to-conductor connection projections are formed. A wiring circuit board comprising a layer provided in a state penetrated by the projections, and a metal layer different from the metal layer formed on a surface of the interlayer insulating layer including the inter-conductor connection projections,
The connection protrusion between the upper and lower conductors has a plurality of different heights.

【0041】請求項26の配線回路基板は、金属層の表
面に多数の金属からなる導体間接続用突起を配置し、上
記金属層の上記導体間接続用突起が形成された表面上に
層間絶縁層を該突起に貫通された状態で設け、上記層間
絶縁層の上記導体間接続用突起を含む表面に上記金属層
とは別の金属層を形成してなる配線回路基板であって、
上下導体間接続用突起が複数通りの異なる径を持つよう
にされたことを特徴とする。
In the printed circuit board according to the twenty-sixth aspect, a plurality of inter-conductor connection projections made of a metal are arranged on a surface of a metal layer, and an interlayer insulating is formed on a surface of the metal layer on which the inter-conductor connection projections are formed. A wiring circuit board comprising a layer provided in a state penetrated by the projections, and a metal layer different from the metal layer formed on a surface of the interlayer insulating layer including the inter-conductor connection projections,
The connection between the upper and lower conductors has a plurality of different diameters.

【0042】請求項27の配線回路基板は、金属層の表
面に多数の金属からなる導体間接続用突起を配置し、上
記金属層の上記導体間接続用突起が形成された表面上に
層間絶縁層を該突起に貫通された状態で設け、上記層間
絶縁層の上記導体間接続用突起を含む表面に上記金属層
とは別の金属層を形成してなる配線回路基板であって、
上下導体間接続用突起と同じ材料で同じ高さで形成され
たスペーサを有することを特徴とする。
According to a twenty-seventh aspect of the present invention, there is provided the printed circuit board, wherein a large number of metal-to-conductor connection protrusions are arranged on the surface of the metal layer, and an interlayer insulating film is provided on the surface of the metal layer on which the connection-to-conductor connection protrusions are formed. A wiring circuit board comprising a layer provided in a state penetrated by the projections, and a metal layer different from the metal layer formed on a surface of the interlayer insulating layer including the inter-conductor connection projections,
It is characterized by having a spacer formed of the same material and at the same height as the projection for connecting the upper and lower conductors.

【0043】請求項28の配線回路基板の製造方法は、
金属層の表面に多数の金属からなる導体間接続用突起を
配置し、上記金属層の上記導体間接続用突起が形成され
た表面上に層間絶縁層を該突起に貫通された状態で設
け、上記層間絶縁層の上記導体間接続用突起を含む表面
に上記金属層とは別の金属層を形成してなり、上下導体
間接続用突起と同じ材料で同じ高さで形成されたスペー
サを有する配線回路基板の製造方法であって、上記上下
導体間接続用突起と同じ工程でスペーサを形成すること
を特徴とする。
The method of manufacturing a printed circuit board according to claim 28 is
A plurality of inter-conductor connection protrusions made of a metal are arranged on the surface of the metal layer, and an interlayer insulating layer is provided on the surface of the metal layer where the inter-conductor connection protrusions are formed, in a state where the inter-layer insulation layer is penetrated by the protrusions, A metal layer different from the metal layer is formed on the surface of the interlayer insulating layer including the inter-conductor connection protrusions, and has a spacer formed of the same material and at the same height as the upper and lower inter-conductor connection protrusions. A method for manufacturing a printed circuit board, characterized in that a spacer is formed in the same step as the step for connecting the upper and lower conductors.

【0044】請求項29の配線回路基板は、金属層の表
面に多数の金属からなる導体間接続用突起を配置し、上
記金属層の上記導体間接続用突起が形成された表面上に
層間絶縁層を該突起に貫通された状態で設け、上記層間
絶縁層の上記導体間接続用突起を含む表面に上記金属層
とは別の金属層を形成してなり、上記上下導体間接続用
突起と同じ材料で同じ高さに形成された認識マークを有
することを特徴とする。
According to a twenty-ninth aspect of the present invention, in the printed circuit board, a large number of metal-to-conductor connection protrusions are arranged on the surface of the metal layer, and an interlayer insulating film is formed on the surface of the metal layer where the connection-to-conductor connection protrusions are formed. A layer is provided in a state penetrated by the projections, and a metal layer different from the metal layer is formed on the surface of the interlayer insulating layer including the inter-conductor connection projections. It is characterized by having recognition marks formed of the same material at the same height.

【0045】請求項30の配線回路基板の製造方法は、
金属層の表面に多数の金属からなる導体間接続用突起を
配置し、上記金属層の上記導体間接続用突起が形成され
た表面上に層間絶縁層を該突起に貫通された状態で設
け、上記層間絶縁層の上記導体間接続用突起を含む表面
に上記金属層とは別の金属層を形成してなり、上記上下
導体間接続用突起と同じ材料で同じ高さに形成された認
識マークを有する配線回路基板の製造方法であって、上
記上下導体間接続用突起と同じ工程で認識マークを形成
することを特徴とする。
A method for manufacturing a printed circuit board according to claim 30 is characterized in that:
A plurality of inter-conductor connection protrusions made of a metal are arranged on the surface of the metal layer, and an interlayer insulating layer is provided on the surface of the metal layer where the inter-conductor connection protrusions are formed, in a state where the inter-layer insulation layer is penetrated by the protrusions, A recognition mark formed by forming a metal layer different from the metal layer on the surface of the interlayer insulating layer including the inter-conductor connection protrusions, and formed of the same material and at the same height as the upper and lower conductor connection protrusions Wherein the recognition mark is formed in the same step as the step of connecting the upper and lower conductor connecting protrusions.

【0046】請求項31の配線回路基板は、絶縁性樹脂
からなるベースの上下両表面に金属層からなる導体回路
が形成され、上記両表面の配線間を電気的に接続するス
ルーホールが上記ベースを成す絶縁性樹脂に形成された
コアとなる回路基板と、上記回路基板の両表面に、それ
ぞれ、金属層からなり選択的に形成された上下導体間接
続用突起を有する配線回路の突起形成側の面に絶縁層が
該上下導体間接続用突起によって貫通された状態で形成
された別の回路基板を、その上下導体間接続用突起の先
端が上記金属層からなる配線回路に接続される状態で積
層した配線回路基板であって、上記上下導体間接続用突
起と上記配線回路とが導電ペースト又は貴金属層を介し
て接続されたことを特徴とする。
According to a thirty-first aspect of the printed circuit board, a conductor circuit formed of a metal layer is formed on both upper and lower surfaces of the base made of an insulating resin, and the through holes for electrically connecting the wirings on both surfaces are formed on the base. And a circuit board serving as a core formed of an insulating resin, and a wiring circuit having a protrusion for connection between upper and lower conductors formed of a metal layer on both surfaces of the circuit board, respectively. The other circuit board formed with the insulating layer penetrated by the upper and lower conductor connecting projections on the surface of the above is connected to the wiring circuit composed of the metal layer with the top end of the upper and lower conductor connecting projections Wherein the upper and lower conductor connecting protrusions and the wiring circuit are connected via a conductive paste or a noble metal layer.

【0047】請求項32の配線回路基板は、導体回路を
成す金属層上に、該金属層とは同じ金属から成る上下導
体間接続用突起が、選択的に形成され、上記導体回路の
上記上下導体間接続用突起が形成された側の面に層間絶
縁層が該上下導体間接続用突起によって貫通された状態
で形成され、上記層間絶縁層上に、上記導体回路とは別
の導体回路を成す金属層の一表面に上記上下導体間接続
用突起と対応して半田、導電ペースト又は貴金属膜が形
成されたものの上記一表面が、その半田、導電ペースト
又は貴金属膜に上記上下導体間接続用突起が接続される
ように積層されてなることを特徴とする。
According to a thirty-second aspect of the present invention, in the printed circuit board, a connecting protrusion between the upper and lower conductors made of the same metal as the metal layer is selectively formed on the metal layer forming the conductive circuit. An inter-layer insulating layer is formed on the surface on the side where the inter-conductor connection projection is formed by being penetrated by the upper and lower inter-conductor connection projections, and a conductor circuit different from the conductor circuit is formed on the inter-layer insulation layer. Although the solder, conductive paste or noble metal film is formed on one surface of the metal layer corresponding to the projection for connection between the upper and lower conductors, the one surface is connected to the solder, conductive paste or noble metal film for connection between the upper and lower conductors. The projections are stacked so as to be connected.

【0048】請求項33の配線回路基板の製造方法は、
導体回路を成す金属層上に、該金属層とは同じ金属から
成る上下導体間接続用突起が選択的に形成され、上記導
体回路の上記上下導体間接続用突起が形成された側の面
に層間絶縁層が該上下導体間接続用突起によって貫通さ
れた状態で形成され、上記層間絶縁層上に、上記導体回
路とは別の導体回路を成す金属層の一表面に上記上下導
体間接続用突起と対応して半田、導電ペースト又は貴金
属膜が形成したものの上記一表面が、その半田、導電ペ
ースト又は貴金属膜に上記上下導体間接続用突起が接続
されるように積層されてなる配線回路基板の製造方法に
おいて、導体回路となる金属層上に、該金属層とは同じ
金属から成る上下導体間接続用突起が選択的に形成した
ものの上下導体間接続用突起形成側に、層間絶縁層を介
して、上記導体回路とは別の導体回路となる金属層上に
上記上下導体間接続用突起に対応して半田、導電ペース
ト又は貴金属膜を印刷したものの該半田、導電ペースト
又は貴金属膜形成側を当てて加圧することにより、上記
各上下導体間接続用突起が上記層間絶縁層を突き破って
対応する半田、導電ペースト又は貴金属膜に接続された
状態を形成して積層することを特徴とする。
A method for manufacturing a printed circuit board according to claim 33 is
Upper and lower conductor connection protrusions made of the same metal as the metal layer are selectively formed on the metal layer forming the conductor circuit, and the upper and lower conductor connection protrusions of the conductor circuit are formed on the surface of the conductor circuit. An interlayer insulating layer is formed in a state penetrated by the upper and lower conductor connecting projections, and the upper and lower conductor connecting protrusions are formed on one surface of a metal layer forming a conductor circuit different from the conductor circuit on the interlayer insulating layer. A wiring circuit board having a surface on which a solder, a conductive paste, or a noble metal film is formed corresponding to the protrusion, the one surface being laminated such that the connection protrusion between the upper and lower conductors is connected to the solder, the conductive paste, or the noble metal film In the manufacturing method, the upper and lower conductor connection projections made of the same metal as the metal layer are selectively formed on the metal layer to be the conductor circuit, but the interlayer insulation layer is formed on the upper and lower conductor connection projection formation side. Through the conductor times A solder, a conductive paste or a noble metal film is printed on a metal layer to be a conductor circuit different from the upper and lower conductor connecting protrusions, and the solder, the conductive paste or the noble metal film forming side is pressed and pressed. Accordingly, the upper and lower conductor connection projections are formed in a state in which they pierce the interlayer insulating layer and are connected to the corresponding solder, conductive paste or noble metal film.

【0049】請求項34の配線回路基板は、金属層に上
下導体間接続用突起を形成したものに層間絶縁膜を介し
て導体回路を成す或いは導体回路となる金属層、又は回
路基板を積層した配線回路基板において、上記層間絶縁
膜として異方性導電膜を用いたことを特徴とする。
According to a thirty-fourth aspect of the present invention, there is provided a printed circuit board comprising a metal layer having projections for connecting the upper and lower conductors formed thereon, and a metal layer or a circuit board forming a conductor circuit or a conductor circuit laminated via an interlayer insulating film. In the printed circuit board, an anisotropic conductive film is used as the interlayer insulating film.

【0050】[0050]

【発明の実施の形態】以下、本発明を図示実施形態に従
って詳細に説明する。図1(A)〜(G)及び図2
(H)〜(K)は本発明配線回路基板の製造方法の第1
の実施の形態を工程順に示す断面図である。 (A)図1(A)に示すように、ベース材(例えばガラ
スエポキシプリプレグ)20を用意する。該ベース材2
0は厚さ例えば100μmの突起形成用の銅層(突起形
成用金属層)21の一方の主面に例えばニッケルからな
るエッチングバリア層(厚さ例えば2μm)22を例え
ばメッキにより形成し、該エッチングバリア層22の表
面に導体回路形成用銅箔(導体回路形成用金属箔、厚さ
例えば18μm)23を形成してなる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail with reference to the illustrated embodiments. 1 (A) to 1 (G) and FIG.
(H) to (K) show the first method of manufacturing the wired circuit board of the present invention.
FIG. 4 is a cross-sectional view showing the embodiment in the order of steps. (A) As shown in FIG. 1A, a base material (for example, glass epoxy prepreg) 20 is prepared. The base material 2
Reference numeral 0 denotes an etching barrier layer (for example, 2 μm in thickness) made of, for example, nickel formed on one main surface of a copper layer for projection formation (a metal layer for projection formation) 21 having a thickness of, for example, 100 μm by plating, for example. On the surface of the barrier layer 22, a copper foil for forming a conductor circuit (metal foil for forming a conductor circuit, thickness of, for example, 18 μm) 23 is formed.

【0051】(B)次に、図1(B)に示すように、上
記突起形成用の銅層21の表面にレジスト膜24を選択
的に形成する。このレジスト膜24は突起を形成すべき
部分を覆うように形成する。 (C)次に、上記レジスト膜24をマスクとして上記銅
層21をエッチングすることにより、突起25、25、
・・・を形成する。このエッチングはウェットエッチン
グにより行うこととし、使用するエッチング液はニッケ
ルからなるところの上記エッチングバリア層22を侵し
得ないが、銅層21を侵食できるエッチング液を用い
る。
(B) Next, as shown in FIG. 1B, a resist film 24 is selectively formed on the surface of the copper layer 21 for forming the protrusions. The resist film 24 is formed so as to cover a portion where a projection is to be formed. (C) Next, by etching the copper layer 21 using the resist film 24 as a mask, the protrusions 25, 25,
.. Are formed. This etching is performed by wet etching, and an etching solution to be used is an etching solution which cannot attack the etching barrier layer 22 made of nickel but can attack the copper layer 21.

【0052】(D)次に、上記エッチングにおけるエッ
チングマスクとして用いたレジスト膜24を除去する。
図1(D)はエッチングマスク除去後の状態を示す。 (E)次に、図1(E)に示すように、上記エッチング
バリア層22を、上記突起25、25、・・・をマスク
としてエッチングする。このエッチングには、突起2
5、25、・・・を成す金属(本実施の形態では銅)を
侵さないが、エッチングバリア層22を成す金属(本実
施の形態ではニッケル)を侵すエッチング液(ニッケル
剥離液)を使用する。
(D) Next, the resist film 24 used as an etching mask in the above etching is removed.
FIG. 1D shows a state after the etching mask is removed. (E) Next, as shown in FIG. 1E, the etching barrier layer 22 is etched using the protrusions 25, 25,... As a mask. In this etching, projection 2
Use an etchant (nickel stripper) that does not attack the metal (copper in the present embodiment) that forms 5, 25,... But does attack the metal (nickel in the present embodiment) that forms the etching barrier layer 22. .

【0053】(F)次に、図1(E)に示すように、必
要に応じ上記各突起25、25、・・・の頂部(上部)
に薄く導電性ペースト26を塗布し、硬化させる。この
工程は不可欠ではない。但し、この工程により、突起2
5、25、・・・と後で形成される銅箔との接続の信頼
度を非常に高めることができる。
(F) Next, as shown in FIG. 1 (E), the tops (upper portions) of the respective projections 25, 25,.
A thin conductive paste 26 is applied and cured. This step is not essential. However, due to this step, the protrusion 2
The reliability of connection between 5, 25,... And a copper foil to be formed later can be greatly increased.

【0054】(G)次に、絶縁剤シートを、上記銅層2
1の上記突起25、25、・・・が形成された側の面に
熱ローラで圧着することにより、図1(G)に示すよう
に、該絶縁剤シートからなる層間絶縁層27を形成す
る。この場合、突起25、25、・・・の上部が突出す
るように絶縁剤シートとしてその突起25、25、・・
・の高さ(導電性ペースト26を塗布した場合はそのペ
ースト26をも含めた高さ)よりも適宜薄いものを用い
る。さもないと、突起25、25、・・・による層間接
続を確実に行うことができないからである。この工程に
より、銅箔23上に層間絶縁層27が形成され、更に、
上記銅箔23とエッチングバリア層22、22、・・・
を介して接続された突起25、25、・・・が上記層間
絶縁層27を貫通してその表面から突出した積層体28
が構成される。この工程は、エポキシ樹脂が軟化する温
度で行い、すぐに室温にもどし、実質的にエポキシの硬
化反応がないようにする。
(G) Next, the insulating material sheet is applied to the copper layer 2
By pressing with a heat roller on the surface on which the projections 25, 25,... Are formed, an interlayer insulating layer 27 made of the insulating sheet is formed as shown in FIG. . In this case, the projections 25, 25,... Are formed as insulating sheets so that the upper portions of the projections 25, 25,.
(If the conductive paste 26 is applied, the height including the paste 26) is appropriately used. Otherwise, interlayer connection by the projections 25, 25,... Cannot be reliably performed. By this step, an interlayer insulating layer 27 is formed on the copper foil 23, and further,
The copper foil 23 and the etching barrier layers 22, 22, ...
Are connected to each other through the interlayer insulating layer 27 and project from the surface thereof.
Is configured. This step is performed at a temperature at which the epoxy resin softens, and is immediately returned to room temperature so that there is substantially no epoxy curing reaction.

【0055】(H)、(I)次に、図2(H)に示すよ
うに、上記積層体28の、層間絶縁層27が形成され、
突起25、25、・・・の頂部が突出する側に、例えば
厚さ18μm程度の銅箔(導体形成用の金属層)29を
臨ませ、図2(I)に示すように、積層プレスにて熱圧
着することにより積層する。この工程により、層間絶縁
層27の両主面に形成された金属層23、29を上記突
起25、25・・・により層間接続した積層体30が構
成される。
(H), (I) Next, as shown in FIG. 2H, an interlayer insulating layer 27 of the laminate 28 is formed.
A copper foil (metal layer for forming a conductor) 29 having a thickness of, for example, about 18 μm faces the side on which the tops of the projections 25, 25... Protrude, and as shown in FIG. And laminate by thermocompression bonding. By this step, a laminated body 30 is formed in which the metal layers 23, 29 formed on both main surfaces of the interlayer insulating layer 27 are connected to each other by the above-mentioned protrusions 25, 25,.

【0056】(J)、(K)次に、図2(J)に示すよ
うに、上記金属層23、29の表面にエッチングマスク
となるレジスト膜24、24を形成し、その後、該レジ
スト膜24、24をマスクとして上記金属層23、29
をエッチングすることにより導体回路31、32を形成
する。これにより、両面の導体回路31、32が突起2
5、25、・・・により層間接続された、図1(K)に
示すような配線回路基板33が出来上がる。この配線回
路基板33が本発明配線回路基板の第1の実施の形態で
ある。
(J), (K) Next, as shown in FIG. 2 (J), resist films 24, 24 serving as etching masks are formed on the surfaces of the metal layers 23, 29, and thereafter, the resist films 24, 24 are formed. 24, 24 as a mask, the metal layers 23, 29
Are etched to form conductor circuits 31 and 32. As a result, the conductor circuits 31 and 32 on both surfaces are
A wiring circuit board 33 as shown in FIG. This printed circuit board 33 is a first embodiment of the printed circuit board of the present invention.

【0057】このような第1の実施の形態によれば、突
起25を構成し得る厚い(例えば50〜200μm)突
起形成用金属層である銅層21を少なくとも含むベース
材20をベースとして加工を始めるので、変形等の不具
合が生じにくく、且つ、寸法の安定性が高いという利点
がある。そして、寸法の安定性があるが故に、突起形成
後における突起の位置ずれが生じないため、例えば図2
1、図22に示す従来例における孔2内の導電性ペース
ト3(謂わばスルーホール)が位置ずれして上下導体回
路5・5間のとるべき接続がとれないという類の問題は
生じない。従って、微小径の突起25を高密度に配設
し、且つ導体回路間の層間接続を確実にとる超高密度配
線回路基板33を得ることができる。
According to the first embodiment, processing is performed based on the base material 20 including at least the copper layer 21 which is a thick (for example, 50 to 200 μm) projection forming metal layer capable of forming the projection 25. Since starting, there is an advantage that defects such as deformation hardly occur and dimensional stability is high. Further, since there is no positional deviation of the protrusion after the formation of the protrusion due to the dimensional stability, for example, FIG.
1, there is no problem in that the conductive paste 3 (so-called through hole) in the hole 2 in the conventional example shown in FIG. Therefore, it is possible to obtain an ultra-high-density wiring circuit board 33 in which the projections 25 having a small diameter are arranged at high density and the interlayer connection between the conductor circuits is ensured.

【0058】また、突起25は例えば銅等からなる銅層
21により形成するので、その形成に要する材料費は安
くて済み、従って、突起25の配設密度を高め、配設数
を増やしても、従来におけるように銀等貴金属を主材料
とする高価な導電性ペーストを使用するため配線回路基
板が高価になることはなく、配線回路基板の低価格化に
大きく寄与する。
Further, since the projections 25 are formed by the copper layer 21 made of, for example, copper, the material cost required for the formation is low, and therefore, even if the arrangement density of the projections 25 is increased and the number of the projections 25 is increased. In addition, since an expensive conductive paste containing a noble metal such as silver as a main material is used as in the related art, the cost of the printed circuit board does not increase, which greatly contributes to a reduction in the price of the printed circuit board.

【0059】また、突起25は銅層21の選択的にエッ
チングにより形成するので、突起25の高さは銅層21
の厚さにより決まり、この銅層21の厚さは極めて均一
性を高く製造できるので、突起25の高さを均一にでき
る。従って、図23に示す従来例におけるような、導電
性ペーストにより印刷により突起11を形成するために
突起11の高さが不均一になって上下導体回路間の接続
が不完全になる虞があるとか、図21、図22に示す従
来例におけるような導電性ペースト3の硬化過程での溶
剤成分の揮散により上部が凹部になり、上下導体回路間
の接続が不完全になる虞があると言う問題は生じない。
従って、突起25の微細化、高密度化が進んでも上下導
体回路間の確実な接続が期待でき、歩留まり、信頼性の
向上を図ることができる。
Since the projections 25 are formed by selectively etching the copper layer 21, the height of the projections 25 is
The thickness of the copper layer 21 can be manufactured with extremely high uniformity, so that the height of the projections 25 can be made uniform. Therefore, as in the conventional example shown in FIG. 23, since the projections 11 are formed by printing with a conductive paste, the heights of the projections 11 become uneven, and there is a possibility that the connection between the upper and lower conductor circuits may be incomplete. In other words, the solvent component volatilizes during the process of curing the conductive paste 3 as in the conventional example shown in FIGS. 21 and 22, and the upper portion becomes a concave portion, and the connection between the upper and lower conductor circuits may be incomplete. No problem.
Therefore, even if the projections 25 become finer and higher in density, reliable connection between the upper and lower conductor circuits can be expected, and the yield and reliability can be improved.

【0060】図3(A)〜(F)は本発明配線回路基板
の製造方法の第2の実施の形態を工程順に示すものであ
る。 (A)図1(A)〜(D)に示すと同じ方法で、突起2
5を形成した状態にする。図3(A)はその突起25が
形成された状態を示す。
FIGS. 3A to 3F show a second embodiment of the method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention in the order of steps. (A) In the same manner as shown in FIGS.
5 is formed. FIG. 3A shows a state in which the projection 25 is formed.

【0061】(B)次に、図3(B)に示すように、必
要に応じ上記各突起25、25、・・・の頂部(上部)
に薄く導電性ペースト26を塗布し、硬化させる。この
工程は不可欠ではない。但し、この工程により、突起2
5、25、・・・と後で形成される銅箔との接続の信頼
度を非常に高めることができる。尚、本実施の形態にお
いては、突起25、25、・・・をマスクとしてエッチ
ングバリア層22を除去することはしない。このエッチ
ングバリア層22は、後の説明で明らかになるが、金属
層23を選択的にエッチングすることによりパターニン
グして導体回路を形成するときに金属層23と共に同時
にエッチングすることにより不要部分の除去が為され
る。これが図1、図2に示す第1の実施の形態との大き
な相違である。
(B) Next, as shown in FIG. 3 (B), the tops (upper parts) of the respective projections 25, 25,.
A thin conductive paste 26 is applied and cured. This step is not essential. However, due to this step, the protrusion 2
The reliability of connection between 5, 25,... And a copper foil to be formed later can be greatly increased. Note that, in the present embodiment, the etching barrier layer 22 is not removed using the projections 25, 25,... As a mask. As will become clear later, the etching barrier layer 22 is etched simultaneously with the metal layer 23 when the conductive layer is formed by patterning by selectively etching the metal layer 23 to remove unnecessary portions. Is performed. This is a major difference from the first embodiment shown in FIGS.

【0062】(C)次に、図3(C)に示すように、層
間絶縁膜27を形成する。28はこの形成工程終了後に
おける積層体である。 (D)次に、図3(D)に示すように、その積層体28
に銅箔(導体形成用の金属層)29を積層プレスにて熱
圧着で積層することにより、層間絶縁層27の両主面に
形成された金属層23、29を上記突起25、25・・
・により層間接続した積層体30が構成される。
(C) Next, as shown in FIG. 3C, an interlayer insulating film 27 is formed. Reference numeral 28 denotes a laminate after the completion of the forming step. (D) Next, as shown in FIG.
By laminating a copper foil (metal layer for forming a conductor) 29 on the main surface of the interlayer insulating layer 27 by thermocompression bonding, the metal layers 23 and 29 formed on both main surfaces of the interlayer insulating layer 27 are formed on the protrusions 25, 25.
The laminated body 30 connected between layers is constituted by (1).

【0063】(E)次に、図3(E)に示すように、上
記金属層23、29の表面にエッチングマスクとなるレ
ジスト膜24、24を形成し、その後、該レジスト膜2
4、24をマスクとして上記金属層23、29をエッチ
ングすることにより導体回路31、32を形成するが、
更に、そのエッチングにより金属層23と接するところ
のニッケルからなるエッチングバリア層22をも同時に
エッチングする。これにより、両面の導体回路31、3
2が突起25、25、・・・により層間接続された配線
回路基板33が出来上がる。
(E) Next, as shown in FIG. 3 (E), resist films 24, 24 serving as etching masks are formed on the surfaces of the metal layers 23, 29.
Conductive circuits 31, 32 are formed by etching the metal layers 23, 29 using the masks 4 and 24 as masks.
Further, the etching also etches the etching barrier layer 22 made of nickel in contact with the metal layer 23 by the etching. Thereby, the conductor circuits 31, 3 on both sides are provided.
A printed circuit board 33 in which the layers 2 are interconnected by the protrusions 25, 25,... Is completed.

【0064】(F)その後、図3(F)に示すように、
エッチングマスクとして用いたレジスト膜24、24を
除去する。その除去後における配線回路基板33が本発
明配線回路基板の第2の実施の形態である。尚、この導
体回路31、32を形成するところのレジスト膜24、
24をマスクとするエッチングは当然のことながら、ニ
ッケル系金属も銅系金属もエッチングできるエッチング
液を使用して行う。すると、ニッケルからなるエッチン
グバリア層22を金属層23と共に同じレジスト膜24
をマスクとする1回の選択的エッチングにより選択的に
除去するので、突起25形成後これをマスクとしてエッ
チングバリア層22を選択的に除去する必要がなく、従
って、工程数の低減を図ることができるという利点があ
る。
(F) Thereafter, as shown in FIG.
The resist films 24 used as the etching mask are removed. The printed circuit board 33 after the removal is a second embodiment of the printed circuit board of the present invention. In addition, the resist film 24 where the conductor circuits 31 and 32 are formed,
Naturally, etching using 24 as a mask is performed using an etchant capable of etching both nickel-based metal and copper-based metal. Then, the etching barrier layer 22 made of nickel is formed into the same resist film 24 together with the metal layer 23.
Is selectively removed by one-time selective etching using a mask as a mask, so that it is not necessary to selectively remove the etching barrier layer 22 using the protrusion 25 as a mask after the formation of the protrusion 25, and therefore the number of steps can be reduced. There is an advantage that you can.

【0065】図3に示す第2の実施の形態によれば、図
1、図2に示した第1の実施の形態によると同様の利点
を得ることができるのみならず、エッチングバリア層2
2を金属層23と共に同じレジスト膜24をマスクとす
る1回の選択的エッチングにより選択的に除去できるの
で、第1の実施の形態よりも工程数の低減を図ることが
できるという利点もある。
According to the second embodiment shown in FIG. 3, not only the same advantages as in the first embodiment shown in FIGS. 1 and 2 can be obtained, but also the etching barrier layer 2 can be obtained.
2 can be selectively removed together with the metal layer 23 by a single selective etching using the same resist film 24 as a mask, so that there is an advantage that the number of steps can be reduced as compared with the first embodiment.

【0066】図4(A)〜(C)は本発明配線回路基板
の製造方法の第3の実施の形態を工程順に示すものであ
る。本実施の形態は、第1の実施の形態により製造され
た配線回路基板33の両面に、第1の実施の形態におけ
る工程(A)から工程(G)迄の工程でつくられた積層
体28、28を積層し、該各積層体28、28の金属層
23、23を選択的エッチングによりパターニングして
導体回路を形成し、4層の導体回路を得るものである。
FIGS. 4A to 4C show a third embodiment of the method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention in the order of steps. This embodiment is different from the first embodiment in that the laminated bodies 28 formed on the both sides of the printed circuit board 33 in the steps (A) to (G) of the first embodiment are formed. , 28 are laminated, and the metal layers 23, 23 of the respective laminates 28, 28 are patterned by selective etching to form conductor circuits, thereby obtaining four-layer conductor circuits.

【0067】(A)先ず、図4(A)に示すように上記
配線回路基板33の両面に上記積層体28、28を突起
25及び層間絶縁層27が形成された面が配線回路基板
33側を向くように対向させ位置決めして臨ませる。そ
して、積層プレスにより熱圧着により積層一体化する。 (B)次に、図4(B)に示すように、上記積層体2
8、28の金属層23、23上にレジスト膜24、24
を選択的に形成する。
(A) First, as shown in FIG. 4 (A), the surfaces of the printed circuit board 33 on which the protrusions 25 and the interlayer insulating layer 27 are formed on both sides of the laminates 28, 28 are placed on the printed circuit board 33 side. Facing each other so as to face. Then, they are laminated and integrated by thermocompression bonding using a lamination press. (B) Next, as shown in FIG.
Resist films 24, 24 on the metal layers 23, 23
Are formed selectively.

【0068】(C)上記レジスト膜24、24をマスク
として上記金属層23、23をエッチングすることによ
り導体回路35、35を形成する。これにより配線回路
基板36が出来上がる。この配線回路基板36が本発明
配線回路基板の第2の実施の形態である。この実施の形
態によれば、導体回路を4層有する配線回路基板36を
得ることができ、より一層の高密度化を図ることができ
る。
(C) Conductive circuits 35, 35 are formed by etching the metal layers 23, using the resist films 24, 24 as a mask. Thus, the printed circuit board 36 is completed. This printed circuit board 36 is a second embodiment of the printed circuit board of the present invention. According to this embodiment, a printed circuit board 36 having four layers of conductor circuits can be obtained, and further higher density can be achieved.

【0069】図5(A)〜(G)及び図6(H)〜
(I)は本発明配線回路基板の製造方法の第4の実施の
形態を工程順に示す断面図である。 (A)図1(A)に示すベース材と同じベース材20を
用意し、その後、後で突起(25、25、・・・)とな
る、銅層21の表面に、レジスト膜24を塗布し、その
露光、現像により図5(A)に示すようにパターニング
する。具体的には、各突起(25、25、・・・)とな
る部分のみが開口し、突起(25、25、・・・)を形
成しない部分を覆うようにレジスト膜24をパターニン
グする。 (B)次に、図5(B)に示すように、上記レジスト膜
24をマスクとして電解メッキ法で半田メッキ層(厚さ
例えば20μm)37、37、・・・を形成する。半田
メッキ層は例えば錫Sn/鉛Pb或いは錫Sn/銀Ag
/銅Cu等からなる。尚、金Au、銀Ag或いはパラジ
ウムPdのメッキ層を形成する場合もある。 (C)次に、図5(C)に示すように、上記レジスト膜
24を剥離する。 (D)次に、図5(D)に示すように、上記半田メッキ
層37、37、・・・をマスクとして上記銅からなる金
属層21を選択的にエッチングすることにより突起2
5、25、・・・を形成する。 (E)次に、図5(E)に示すように、ニッケルからな
るエッチングバリア層22を剥離する。
FIGS. 5A to 5G and FIGS.
(I) is sectional drawing which shows 4th Embodiment of the manufacturing method of the printed circuit board of this invention in order of a process. (A) A base material 20 which is the same as the base material shown in FIG. 1 (A) is prepared, and then a resist film 24 is applied to the surface of the copper layer 21 which will become projections (25, 25,...) Later. Then, patterning is performed as shown in FIG. 5A by exposure and development. Specifically, the resist film 24 is patterned so that only the portions that become the projections (25, 25,...) Are opened, and the portions where the projections (25, 25,...) Are not formed are covered. (B) Next, as shown in FIG. 5B, solder plating layers (thickness, for example, 20 μm) 37, 37,... Are formed by electrolytic plating using the resist film 24 as a mask. The solder plating layer is, for example, tin Sn / lead Pb or tin Sn / silver Ag
/ Copper Cu or the like. In some cases, a plating layer of gold Au, silver Ag, or palladium Pd may be formed. (C) Next, as shown in FIG. 5C, the resist film 24 is peeled off. (D) Next, as shown in FIG. 5D, the metal layer 21 made of copper is selectively etched using the solder plating layers 37, 37,.
5, 25,... Are formed. (E) Next, as shown in FIG. 5E, the etching barrier layer 22 made of nickel is peeled off.

【0070】(F)次に、半田リフロー処理により、図
5(F)に示すように、上記半田メッキ層37、37、
・・・で突起25、25、・・・の表面を覆うような状
態にする。 (G)次に、絶縁剤シートを、上記突起25、25、・
・・が形成された側の面に熱ローラで圧着することによ
り、図5(G)に示すように、該絶縁剤シートからなる
層間絶縁層27を形成する。この場合、突起25、2
5、・・・の上部が突出するように絶縁剤シートとして
その突起25、25、・・・の半田メッキ層36をも含
めた高さよりも適宜薄いものを用いる。さもないと、突
起25、25、・・・の頂部が層間絶縁層27の表面か
ら突出せず、上下導体回路間を確実に接続することがで
きないからである。この工程でできた積層体を28aと
する。
(F) Next, as shown in FIG. 5 (F), the solder plating layers 37, 37,
.. Cover the surfaces of the projections 25, 25,. (G) Next, the insulating sheet is attached to the projections 25, 25,.
By pressing with a heat roller on the surface on the side where... Are formed, an interlayer insulating layer 27 made of the insulating sheet is formed as shown in FIG. In this case, the projections 25, 2
Are appropriately thinner than the heights of the projections 25, 25,... Including the solder plating layer 36, so that the upper portions of the projections 5,. Otherwise, the tops of the projections 25, 25,... Do not protrude from the surface of the interlayer insulating layer 27, and the upper and lower conductor circuits cannot be reliably connected. The laminate formed in this step is designated as 28a.

【0071】(H)次に、第6図(H)に示すように、
上記積層体28の、層間絶縁層27が形成され、突起2
5、25、・・・の頂部が突出する側に、例えば厚さ1
8μm程度の導体回路形成用の金属層を成す銅箔29を
臨ませる。 (I)その後、積層プレスにて熱圧着することにより積
層し、上記銅箔29及び上記金属層23上にレジスト膜
を選択的に形成し、該レジスト膜をマスクとして上記銅
箔29及び金属層23をエッチングすることにより導体
回路31、32を形成する。これにより配線回路基板3
3aができる。この配線回路基板33aが本発明配線回
路基板の第3の実施の形態である。
(H) Next, as shown in FIG.
The interlayer insulating layer 27 of the laminate 28 is formed, and the protrusion 2
5, 25,... Have a thickness of 1
A copper foil 29 forming a metal layer for forming a conductor circuit of about 8 μm is exposed. (I) Thereafter, lamination is performed by thermocompression bonding using a laminating press, a resist film is selectively formed on the copper foil 29 and the metal layer 23, and the copper foil 29 and the metal layer are formed using the resist film as a mask. Conductive circuits 31 and 32 are formed by etching 23. Thereby, the printed circuit board 3
3a is done. This printed circuit board 33a is a third embodiment of the printed circuit board of the present invention.

【0072】本実施の形態は、図1、図2に示した実施
の形態とは、銅層21を選択的エッチングして突起2
5、25、・・・を形成する際にエッチングマスクとし
てレジスト膜24に代えて半田メッキ層36を用い、そ
の後、その半田メッキ層36を除去することなく残存さ
せ、絶縁シートからなる層間絶縁層27を形成する前
に、半田リフローにより突起25、25、・・・をその
半田メッキ層36で覆う状態にするという点で相違す
る。従って、本実施の形態によれば、図1、図2に示し
た実施の形態のように各突起25、25、・・・上部に
導電性ペースト26を塗布すると言うことが必要ではな
くなる。その点でのみ、本実施の形態は図1、図2の実
施の形態と異なり、外には相違点はない。
This embodiment is different from the embodiment shown in FIGS. 1 and 2 in that the copper layer 21 is selectively etched to form the protrusions 2.
When forming 5, 25,..., The solder plating layer 36 is used instead of the resist film 24 as an etching mask, and then the solder plating layer 36 is left without being removed to form an interlayer insulating layer made of an insulating sheet. Are formed in such a manner that the protrusions 25, 25,... Therefore, according to the present embodiment, it is not necessary to apply the conductive paste 26 on the protrusions 25, 25,... As in the embodiment shown in FIGS. Only in this respect, the present embodiment is different from the embodiments of FIGS. 1 and 2 and there is no difference outside.

【0073】図7(A)〜(E)は本発明配線回路基板
の第6の実施の形態を工程順に示す断面図である。 (A)先ず、図7(A)に示すように、例えば銅等の金
属板からなる単層構造のベース材51を用意し、その一
方の表面にレジスト膜52を選択的に形成する。
FIGS. 7A to 7E are sectional views showing a sixth embodiment of the printed circuit board of the present invention in the order of steps. (A) First, as shown in FIG. 7A, a base material 51 having a single-layer structure made of a metal plate such as copper is prepared, and a resist film 52 is selectively formed on one surface thereof.

【0074】(B)次に、図7(B)に示すように、上
記レジスト膜52をマスクとして上記ベース材51をそ
の上記表面からハーフエッチングすることにより上下導
体間接続用突起53を形成する。尚、ハーフエッチング
とは、文字通り厚さの2分の1エッチングするというこ
とではなく、回路層となる部分を残してエッチングする
ことを意味します。 (C)次に、図7(C)に示すように、上記突起53の
頂部に必要に応じて導電ペースト、半田、或いは金等の
貴金属、或いは異方性導電膜等接続性を向上させる或い
は接続性について信頼度を高める膜54をコーティング
する。該膜54は不可欠というわけではないが、接続性
或いは信頼性をより高くする必要のある場合には設ける
と良い。
(B) Next, as shown in FIG. 7 (B), the base material 51 is half-etched from the surface thereof using the resist film 52 as a mask to form projections 53 for connecting the upper and lower conductors. . Note that half-etching does not literally mean half-thickness etching, but rather etching while leaving a portion that will become a circuit layer. (C) Next, as shown in FIG. 7 (C), if necessary, a conductive paste, solder, a noble metal such as gold, or an anisotropic conductive film may be used to improve the connectivity, or A film 54 for improving the reliability of the connectivity is coated. The film 54 is not indispensable, but may be provided when it is necessary to improve the connectivity or the reliability.

【0075】(D)次に、図7(D)に示すように、銅
等からなる金属箔56を上記ベース材51の上記一方の
表面に層間絶縁膜55を介して積層する。 (E)次に、図7(E)に示すように、上記ベース材5
1の他方の表面部と、上記金属箔56の表面を選択的に
エッチングすることにより導体回路を形成する。これに
より、図1(K)に示すのと実質的に同じ配線回路基板
が出来上がる。従って、この配線回路基板を図4(C)
に示す実施の形態の配線回路基板36に配線回路基板3
3に代えて用いることができる。即ち、配線回路基板3
3を使用する部分には総てそれに代えて本配線回路基板
を用いることができる。
(D) Next, as shown in FIG. 7D, a metal foil 56 made of copper or the like is laminated on the one surface of the base member 51 via an interlayer insulating film 55. (E) Next, as shown in FIG.
A conductive circuit is formed by selectively etching the other surface portion of the first and the surface of the metal foil. Thus, a printed circuit board substantially the same as that shown in FIG. 1K is completed. Therefore, this printed circuit board is not shown in FIG.
The printed circuit board 3 according to the embodiment shown in FIG.
3 can be used instead. That is, the printed circuit board 3
The printed circuit board can be used in place of all the parts where 3 is used.

【0076】また、銅等の金属箔56を形成する前の状
態の配線回路基板を、図4に示す実施の形態の配線回路
基板28に代えて用いることができる。更に、上記金属
箔56を形成する前の状態の配線回路基板を、図8に示
す配線回路基板46と同様に多層配線化してより集積密
度を高めることもできる。
The printed circuit board before the formation of the metal foil 56 of copper or the like can be used in place of the printed circuit board 28 of the embodiment shown in FIG. Further, the wiring circuit board in a state before the formation of the metal foil 56 can be multi-layered in the same manner as the wiring circuit board 46 shown in FIG. 8 to further increase the integration density.

【0077】このような配線回路基板の製造方法によれ
ば、ベース材としてエッチングバリア層のある多層構造
のものを用いる必要はなく、且つ、エッチングバリア層
を除去する工程が必要なので、配線回路基板の製造コス
トの低減を図ることができる。
According to such a method of manufacturing a printed circuit board, it is not necessary to use a multilayered structure having an etching barrier layer as a base material, and a step of removing the etching barrier layer is required. Can be reduced in manufacturing cost.

【0078】尚、突起53の形成後、その先端部を粗化
して針状の棘が多数できるようにして、金属箔56から
なる導体回路との接続性を高めるようにしても良い。粗
化はスプレーエッチングや、CZ処理により為し得る。
また、つぶ銅メッキにより粗化することもできる。ま
た、突起53を含め銅の表面全面を電解クロメート処理
して電解クロメート膜を形成し、以て突起53、銅表面
の酸化防止性を向上させ、酸化による銅箔の品質低下を
防止するようにしても良い。
After the formation of the projection 53, the tip of the projection 53 may be roughened so that a large number of needle-like spines are formed, thereby improving the connection with the conductor circuit made of the metal foil 56. Roughening can be performed by spray etching or CZ processing.
Further, it can be roughened by crushed copper plating. Further, the entire surface of the copper including the projections 53 is subjected to electrolytic chromate treatment to form an electrolytic chromate film, thereby improving the antioxidant properties of the projections 53 and the copper surface and preventing the copper foil from being deteriorated due to oxidation. May be.

【0079】尚、図7に示した配線回路基板の上下導体
間接続用突起53はその形状がコニーデ状(富士山状)
であったが、必ずしもこのようにすることは不可欠では
なく、図8(A)に示すように鼓状にしても良い(53
aは鼓状の突起を示す。)。エッチング条件を変えるこ
とにより突起の形状は変わり、鼓状の突起53aを形成
することもできる。この突起53aは頂部の面が広いの
で、半田、導電ペースト処理などがやりやすく、また、
導体回路との接続性を良好にし易いという利点がある。
The projection 53 for connecting the upper and lower conductors of the printed circuit board shown in FIG. 7 has a conide shape (Mt. Fuji shape).
However, this is not indispensable, and a drum shape may be used as shown in FIG.
a shows a drum-shaped projection. ). By changing the etching conditions, the shape of the protrusion changes, and a drum-shaped protrusion 53a can be formed. Since the projection 53a has a wide top surface, it is easy to perform soldering, conductive paste processing, and the like.
There is an advantage that it is easy to improve the connectivity with the conductor circuit.

【0080】また、図8(B)に示すように、槍状の突
起57を形成するようにしても良い。このように槍状の
突起57は先が尖っているので層間絶縁膜55の貫通
性、特にガラスクロス入りのプリプレグに対する貫通性
を向上させ易く、且つ導体回路に食い込み易いので、導
体回路との接続性を高くできるという利点がある。この
ような槍状突起57は、形成すべき突起よりもレジスト
マスクの径を小さくしてエッチングすることにより形成
できる。或いは、一旦コニーデ状或いは鼓状の突起をレ
ジスト膜等をマスクとする選択的エッチング(勿論ハー
フエッチング)により形成した後、そのマスクを除去
し、再度エッチング(勿論ハーフエッチング)をするこ
とにより形成することができる。
As shown in FIG. 8B, a spear-shaped projection 57 may be formed. Since the spear-shaped projection 57 has a sharp point, it is easy to improve the penetrating property of the interlayer insulating film 55, particularly to the prepreg containing glass cloth, and it is easy to bite into the conductor circuit. There is an advantage that the property can be increased. Such a spear-shaped projection 57 can be formed by etching the resist mask with a smaller diameter than the projection to be formed. Alternatively, a conide-shaped or drum-shaped projection is formed by selective etching (of course, half-etching) using a resist film or the like as a mask, then the mask is removed, and etching is again performed (of course, half-etching). be able to.

【0081】図9は本発明配線回路基板の突起53、5
7或いは25(突起25については図1〜図6参照)を
格子の各交点上に配置したことに特徴のある実施の形態
の要部を示す斜視図である。本実施形態においては、所
定の間隔をおいて縦横に(観念的に)設けたラインから
なる格子の各交点上に突起例えば57を配置することと
したものであり、それ以外の点では他の実施の形態と異
なるところはない。
FIG. 9 shows the projections 53, 5 on the printed circuit board of the present invention.
FIG. 7 is a perspective view showing a main part of an embodiment characterized in that 7 or 25 (see FIGS. 1 to 6 for the projection 25) is arranged on each intersection of the lattice. In the present embodiment, projections, for example, 57 are arranged on each intersection of a grid of lines arranged vertically and horizontally (ideally) at predetermined intervals, and other projections are arranged at other points. There is no difference from the embodiment.

【0082】このような配線回路基板によれば、配線回
路基板の機種の如何を問わず、両面の導体回路を選択的
エッチングにより形成するよりも前の段階までは、量産
しておき、その後、機種に応じて異なるパターンの導体
回路を形成することとすることができるので、特定の突
起だけ層間接続用に利用し、その他のものは回路を構成
しないようにすることにより、或いは少しオーバーエッ
チングすることにより不要な突起をエッチングにより取
り除くことができ、他品種の配線回路基板についてその
生産性を高めることができる。
According to such a printed circuit board, regardless of the type of the printed circuit board, mass production is performed before the conductor circuits on both surfaces are formed by selective etching, and thereafter, Depending on the model, conductor patterns of different patterns can be formed, so only specific protrusions are used for interlayer connection, and others are not constituted by circuits, or slightly over-etched As a result, unnecessary projections can be removed by etching, and the productivity of other types of printed circuit boards can be increased.

【0083】図10は突起例えば57等を、金属層例え
ば56等を層間絶縁膜55を介して積層するときの加圧
力が各突起毎に均一になるように配置した実施形態を示
すもので、このような実施の形態によれば、積層時のプ
レス圧の面内均一性を向上させることができるので、突
起57のつぶれの度合いの均一性を高めることができ、
また、配線板の板圧の均一度を向上させ、配線回路基板
の信頼度を高めることができる。
FIG. 10 shows an embodiment in which the protrusions 57 and the like are arranged so that the pressing force when the metal layer such as 56 is laminated via the interlayer insulating film 55 becomes uniform for each protrusion. According to such an embodiment, since the in-plane uniformity of the press pressure at the time of lamination can be improved, the uniformity of the degree of crushing of the projection 57 can be improved,
Further, the uniformity of the plate pressure of the wiring board can be improved, and the reliability of the printed circuit board can be increased.

【0084】図11は上下導体間接続用突起例えば57
の配置密度が一定でなく、疎の領域と、密の領域がある
場合における密の領域の周りに、上下導体間接続用突起
57よりも背の低いダミー突起58を配置し以て上下導
体間接続用突起57の径、高さの均一性を高めるように
した実施の形態の要部を示す断面図である。即ち、密集
領域においては周辺部と中央部ではエッチング液のスプ
レー後の液の流れが異なるためにエッチングレートが異
なり、液の流れの速い周辺部の突起の方がエッチングレ
ートが高く、径が小さく且つ低くなりがちである。そこ
で、その周囲を回路には直接関与しない(回路を構成し
ない)ダミー突起58で囲むことにより周辺部の上下導
体間接続用突起57に対するエッチングレートを低く
し、以て周辺部の上下導体間接続用突起57も中央部の
上下導体間接続用突起57と同じ径、同じ高さにしよう
とするのが本実施の形態である。ダミー突起58がエッ
チング後消失するように他の突起57よりもマスクとな
るレジスト径を小さくすることも効果的である。
FIG. 11 shows a projection for connecting the upper and lower conductors, for example, 57
In the case where the arrangement density of the first and second conductors is not constant, a dummy projection 58 shorter than the upper and lower conductor connection projections 57 is arranged around the dense area and the dense area when there is a dense area. It is sectional drawing which shows the principal part of embodiment which made uniform the diameter and height of the connection projection 57. That is, in the dense area, the peripheral portion and the central portion have different etching rates due to the different flow of the liquid after the spraying of the etching liquid, and the peripheral portion having a faster liquid flow has a higher etching rate and a smaller diameter in the peripheral portion. And it tends to be low. Therefore, the surrounding area is surrounded by dummy projections 58 that do not directly participate in the circuit (ie, do not constitute the circuit), thereby lowering the etching rate for the upper and lower conductor connection projections 57 in the peripheral portion, thereby reducing the peripheral upper and lower conductor connection. In the present embodiment, the projection 57 for connection is also made to have the same diameter and the same height as the projection 57 for connection between the upper and lower conductors at the center. It is also effective to make the resist diameter serving as a mask smaller than the other protrusions 57 so that the dummy protrusions 58 disappear after etching.

【0085】また、上下導体間接続用突起間の間隔が大
きい場合には、突起の周辺部と中央とでエッチングレー
トに違いが生じるので、それによる弊害が生じる。そこ
で、各上下導体間接続用突起57に対してそのまわりに
ダミー突起58を配置するようにしても良い。図12
(A)〜(D)はそのような各別の例を示す平面図であ
る。
If the distance between the upper and lower conductor connection projections is large, the etching rate is different between the periphery and the center of the projection, which causes adverse effects. Therefore, a dummy protrusion 58 may be arranged around each of the upper and lower conductor connection protrusions 57. FIG.
(A) to (D) are plan views showing such different examples.

【0086】図12(A)、(B)に示すものは各上下
導体間接続用突起57の周りにリング状のダミー突起5
8を形成したものであり、そのうち(A)に示すものは
各隣接ダミー突起58が離間しているもの、(B)に示
すものは、隣接ダミー突起58同士が部分的に重なるよ
うにしたものである。
FIGS. 12A and 12B show a ring-shaped dummy projection 5 around each upper and lower conductor connection projection 57.
8A, in which (A) shows that the adjacent dummy projections 58 are separated, and (B) shows that the adjacent dummy projections 58 partially overlap each other. It is.

【0087】図12(C)、(D)に示すものは各上下
導体間接続用突起57の周りに複数のダミー突起58を
配置したものであり、(C)に示すものは各突起57の
周りの一つの円形ライン上のみに複数のダミー突起58
を配置したものであり、(D)に示すものは各突起57
を取り巻く円形ライン58aよりも外側領域に所定間隔
で縦横にダミー突起58を配置したものである。
FIGS. 12C and 12D show a case where a plurality of dummy projections 58 are arranged around each of the upper and lower conductor connecting projections 57, and FIG. A plurality of dummy projections 58 are provided only on one surrounding circular line.
Are arranged, and those shown in FIG.
, Dummy protrusions 58 are arranged at predetermined intervals in a region outside the circular line 58a surrounding the dummy protrusions 58a.

【0088】図13は上下導体間接続用突起、例えば5
3として高さの異なるもの53h、53lを混在させた
実施の形態を示す断面図であり、高さの異なる上下導体
間接続用突起、例えば53を混在させるのは、段差のあ
る接合面に各上下導体間接続用突起、例えば53を接合
させることができるようにするためである。図13にお
いて、60は段差のある接合面を有するコア基板であ
る。該コア基板60は通常工法による両面配線板のスル
ーホールに銅ペースト100を充填し、硬化してなり、
銅ペースト100と銅配線部54との高さが異なる。そ
して、このコア基板60の両面に突起53を上下導体間
接続手段とする配線回路基板が積層されるのである。そ
して、高い突起53hが銅ペースト110に、低い突起
53lが銅配線部54にそれぞれ接続される。
FIG. 13 shows a projection for connecting the upper and lower conductors, for example, 5
FIG. 3 is a cross-sectional view showing an embodiment in which different heights 53h and 53l are mixed as 3, and the upper and lower conductor connection projections having different heights, for example, 53 are mixed on a joint surface having a step. This is because the upper and lower conductor connection projections, for example, 53 can be joined. In FIG. 13, reference numeral 60 denotes a core substrate having a stepped joint surface. The core substrate 60 is formed by filling the through-holes of the double-sided wiring board with the copper paste 100 by a normal method, and curing the same.
The heights of the copper paste 100 and the copper wiring portion 54 are different. Then, on both surfaces of the core substrate 60, a printed circuit board using the protrusions 53 as a means for connecting the upper and lower conductors is laminated. The high protrusion 53h is connected to the copper paste 110, and the low protrusion 53l is connected to the copper wiring portion 54.

【0089】尚、高さの異なる突起53h、53lを形
成することは、ベース材51の表面を選択的エッチング
するときに用いるレジスト膜によるマスクの各マスク部
分の径を異ならせ、高い突起53aを形成すべき部分を
覆うマスク部分の径を大きく、低い突起53bを形成す
べき部分を覆うマスク部分の径を小さくすることによ
り、可能である。
The formation of the projections 53h and 53l having different heights makes the diameter of each mask portion of a mask made of a resist film used when selectively etching the surface of the base material 51 different, thereby forming the high projections 53a. This is possible by enlarging the diameter of the mask portion covering the portion to be formed and decreasing the diameter of the mask portion covering the portion where the low protrusion 53b is to be formed.

【0090】ところで、図13に示す配線回路基板にお
いては、コア基板60の銅配線膜54には導電ペース
ト、半田或いは貴金属等の被膜が形成されておらず、こ
れに銅からなる突起、例えば53(或いは57)が直接
的に接続されている。このような形態でも本発明は実施
できるのである。このことは、高い突起53aと、低い
突起53bを有する形態に対しても、突起53(或いは
57)の高さが均一な形態に対しても当てはまる。
In the printed circuit board shown in FIG. 13, the copper wiring film 54 of the core substrate 60 is not formed with a coating of conductive paste, solder, noble metal, or the like. (Or 57) are directly connected. The present invention can be implemented in such a form. This applies to the form having the high protrusions 53a and the low protrusions 53b and the form in which the heights of the protrusions 53 (or 57) are uniform.

【0091】そして、銅配線膜54に導電ペースト、半
田或いは貴金属等の被膜を介することなく銅からなる突
起、例えば53(或いは57)を直接的に接続したタイ
プのものにおいては、図13において破線で示すよう
に、同配線膜54に突起、例えば53(或いは57)の
頂部における径よりも小さな孔54aを形成するように
しても良い。このようにすると、突起53(或いは5
7)が銅配線膜54と接続されるとき突起53(或いは
57)の頂部がその孔54aに突き当たってこれを崩
し、突起53と金属膜54との接続をより強固にするこ
とができるからである。勿論、孔54aを形成すること
は、図13に示すような高さの異なる突起53h、53
lを有する実施の形態においてであろうと、均一な高さ
の突起53を有する実施の形態であろうと極めて有効で
ある。
In the case of a type in which a projection made of copper, for example, 53 (or 57) is directly connected to the copper wiring film 54 without a coating of a conductive paste, solder, or a noble metal, a broken line in FIG. As shown by, a hole 54a smaller than the diameter at the top of the projection, for example, 53 (or 57) may be formed in the wiring film 54. By doing so, the protrusion 53 (or 5
When 7) is connected to the copper wiring film 54, the top of the projection 53 (or 57) abuts the hole 54a and breaks it, and the connection between the projection 53 and the metal film 54 can be further strengthened. is there. Of course, the formation of the hole 54a can be achieved by the projections 53h and 53h having different heights as shown in FIG.
It is very effective whether the embodiment has the projections 53 of uniform height, regardless of whether the embodiment has the l.

【0092】図12(A)、(B)は上下導体間接続用
突起、例えば57等と同じ材料及び同じ高さのスペーサ
61を突起を形成する工程の中で形成し、配線回路基板
の銅ベース材51からなる導体回路と、該配線回路基板
に積層される図12では図示しないコア基板等との間隔
を所定どおりに一定に保ち絶縁層の厚さを予め設定した
所定位置にさせ、延いては回路板のインピーダンスコン
トロール性を高めるようにした実施の形態の導体回路形
成前における要部を示すもので、(A)は斜視図、
(B)は断面図である。
FIGS. 12A and 12B show a process for forming a spacer 61 having the same material and the same height as the upper and lower conductor connection protrusions, for example, 57, in the process of forming the protrusions. The distance between the conductor circuit composed of the base material 51 and the core substrate or the like (not shown in FIG. 12) laminated on the printed circuit board is kept constant as predetermined, and the thickness of the insulating layer is set at a predetermined position, and FIG. 3A is a perspective view showing a main part before a conductor circuit is formed according to an embodiment in which the impedance controllability of a circuit board is enhanced.
(B) is a sectional view.

【0093】即ち、銅ベース材51の選択的エッチング
により突起を形成し、それを上下導体間の接続用として
用いるが、絶縁シートはもともと厚み公差の良いもので
はなく、また積層時の温度、圧力で出来上がり厚みが変
動するので、絶縁層厚の一定化が難しいものであった。
そのため、それに積層される銅箔、コア基板との間の間
隔が一定にならず、インピーダンスコントロールが難し
かった。そこで、突起と同じ工程でスペーサ61を適宜
な場所に形成してプレ筋に各スペーサ61がコア基板に
ぶつかる迄押圧し残余の絶縁材を周辺に押し出すことに
より上下の銅パターン間の間隔を一定にし、インピーダ
ンスコントロール性を高めるようにするのが本実施の形
態なのである。スペーサ61は例えば格子状に或いは枠
状に形成する等設けるパターンは導体回路の形成に支障
を来さない限りどのように形成しても良い。尚、このス
ペーサ61を接地ラインとして静電シールドに用いるよ
うにすることもできる。
That is, projections are formed by selective etching of the copper base material 51 and are used for connection between the upper and lower conductors. However, the insulating sheet does not originally have a good thickness tolerance, and the temperature and pressure during lamination are not good. Therefore, it is difficult to stabilize the thickness of the insulating layer because the finished thickness varies.
Therefore, the distance between the copper foil and the core substrate laminated thereon is not constant, and it is difficult to control the impedance. Therefore, the spacer 61 is formed at an appropriate place in the same process as the projection, and the spacer is pressed against the pre-stripe until the spacer 61 hits the core substrate, and the remaining insulating material is extruded to the periphery to keep the distance between the upper and lower copper patterns constant. In this embodiment, the impedance controllability is improved. The spacer 61 may be formed in any pattern as long as it does not hinder the formation of the conductor circuit, for example, by forming a pattern in a lattice shape or a frame shape. The spacer 61 can be used as a ground line for an electrostatic shield.

【0094】図15は上下導体間接続用突起として径の
大きいもの53xと径の小さいもの53yを混在させ
て、径の大きい上下導体間接続用突起53xを大電流を
通す上下導体間接続用として、径の小さい上下導体間接
続用突起53yを小電流を通す上下導体間接続用として
用いるようにした実施の形態の要部を示す断面図であ
る。
FIG. 15 shows a large diameter 53x and a small diameter 53y mixed as upper and lower conductor connection projections, and a large diameter upper and lower conductor connection projection 53x for upper and lower conductor connection through which a large current flows. FIG. 13 is a cross-sectional view showing a main part of an embodiment in which a projection 53y for connection between upper and lower conductors having a small diameter is used for connection between upper and lower conductors for passing a small current.

【0095】本実施の形態によれば、小電流でも大電流
でも同じ小ささの上下導体間接続用突起に通すことによ
り大電流を通す上下導体間接続用突起で無視できない電
圧降下が生じたり、発熱が生じたりするおそれがなくな
り、また、小電流でも大電流でも同じ大きさの比較的大
きな上下導体間接続用突起に通すことにより小電流を通
す突起が無駄に大きな面積を専有して集積度向上の妨げ
になるというおそれもなくなる。
According to the present embodiment, even when a small current or a large current is passed through the upper and lower conductor connecting projections having the same size, a not negligible voltage drop occurs at the upper and lower conductor connecting protrusions through which a large current flows. Eliminates the risk of heat generation, and allows small currents and large currents to pass through relatively large upper and lower conductor connection projections of the same size. There is no danger of hindering improvement.

【0096】図16(A)〜(C)は突起例えば53、
57等と同時に位置合わせ用マーク、或いは機種等用の
認識マーク63を形成するという実施の形態の要部を示
すもので、(A)は突起のある側に銅箔等を層間絶縁膜
を介して積層する前の段階における斜視図、(B)はマ
ークの一例63aである、位置合わせ用マークのパター
ン図、(C)はマークの別の例63bである、位置合わ
せ用マークのパターン図である。
FIGS. 16A to 16C show a projection 53, for example.
57A shows a main part of an embodiment in which a positioning mark or a model recognition mark 63 is formed at the same time as 57 and the like. FIG. (B) is a pattern diagram of a positioning mark, which is an example 63a of a mark, and (C) is a pattern diagram of a positioning mark, which is another example 63b of a mark. is there.

【0097】本実施の形態は、突起、例えば53、57
等を形成するとき同時にマーク63を形成するので、マ
ーク63は突起、例えば53、57等と同じ材料からな
り同じ高さを有する。本実施の形態によれば、マーク6
3を突起、例えば53、57等と同時に形成するので、
マーク63を形成するために特別の工程を有しないとい
う利点があると共に、マーク63と各突起とは同一工程
で形成するので、マーク63と各突起との位置関係のず
れは最小に抑えることができる。
In this embodiment, projections, for example, 53, 57
Since the mark 63 is formed at the same time when the mark 63 is formed, the mark 63 is made of the same material as the protrusions, for example, 53, 57, and has the same height. According to the present embodiment, the mark 6
Since 3 is formed simultaneously with the projections, for example, 53, 57, etc.
There is an advantage that there is no special process for forming the mark 63, and the mark 63 and each projection are formed in the same process, so that the positional relationship between the mark 63 and each projection can be minimized. it can.

【0098】図17(A)〜(D)は本発明配線回路基
板の製造方法の第8の実施の形態を工程順に示す断面図
である。 (A)先ず、図17(A)に示すように、コア基板70
を用意する。71は樹脂からなる絶縁基板、72はその
両面に形成された導体回路で、銅からなる。73は上下
導体間接続用スルーホールである。このコア基板20の
両面に突起53或いは57を有する配線回路基板が積層
されるのである。
FIGS. 17A to 17D are sectional views showing an eighth embodiment of the method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention in the order of steps. (A) First, as shown in FIG.
Prepare Reference numeral 71 denotes an insulating substrate made of resin, and 72 denotes a conductor circuit formed on both surfaces thereof, which is made of copper. 73 is a through hole for connection between the upper and lower conductors. The printed circuit board having the protrusions 53 or 57 on both surfaces of the core substrate 20 is laminated.

【0099】(B)次に、上記コア基板20の上下両面
の導体回路72のうちの少なくとも積層しようとする配
線回路基板の突起と接続される部分に、図17(A)に
示すように、導電ペースト、半田或いは貴金属からなる
層74を形成する。 (C)次に、図17(C)に示すように、上記コア基板
20の上下両面に配線回路基板75を各突起、例えば5
3が導体回路72の対応する部分に接するようにして層
間絶縁膜55を介して積層する。
(B) Next, at least portions of the conductor circuits 72 on the upper and lower surfaces of the core substrate 20 which are to be connected to the projections of the printed circuit board to be laminated, as shown in FIG. A layer 74 made of a conductive paste, solder, or a noble metal is formed. (C) Next, as shown in FIG. 17C, a printed circuit board 75 is provided on each of the upper and lower surfaces of the core substrate 20 with each protrusion, for example, 5.
3 are laminated via the interlayer insulating film 55 such that the contact portions 3 are in contact with the corresponding portions of the conductor circuit 72.

【0100】(D)次に、図17(D)に示すように、
上下両面の配線回路基板75各々のベース材51を選択
的エッチングことによりパターニングして導体回路を形
成する。これにより2個の配線回路基板75及びコア基
板20によりビルドアップしたより高集積化し、且つ突
起と導体回路との接続に関して信頼度の高い配線回路基
板を得ることができる。
(D) Next, as shown in FIG.
The base material 51 of each of the upper and lower wiring circuit boards 75 is patterned by selective etching to form a conductor circuit. As a result, it is possible to obtain a highly integrated wiring circuit board which is built up with the two wiring circuit boards 75 and the core substrate 20 and which has high reliability in connection between the protrusions and the conductor circuits.

【0101】尚、各配線回路基板75のベース材51の
選択的エッチングによる導体回路の形成は、配線回路基
板75のコア基板20両面への積層の前に行うようにし
ても良い。
The formation of the conductor circuit by selective etching of the base material 51 of each printed circuit board 75 may be performed before the wiring circuit board 75 is laminated on both surfaces of the core substrate 20.

【0102】図18(A)、(B)は上記実施例におい
て、導体回路72の上記突起、例えば53或いは57と
対応する部分に該突起53の頂部の径よりも大きな孔7
2aを形成することとした例を示すものであり、(A)
は断面図、(B)は導体回路72の突起と接続される部
分の形状を示す平面図である。このような例によれば、
突起53を孔72aに、導電ペースト、半田或いは貴金
属からなる層74を介して部分的に挿入させることがで
きるので、接続強度をより強めることができ、信頼度を
高めることができる。
FIGS. 18A and 18B show a hole 7 having a diameter larger than the diameter of the top of the projection 53 in a portion corresponding to the projection, for example, 53 or 57, of the conductor circuit 72 in the above embodiment.
2A shows an example in which 2a is formed, and FIG.
FIG. 3B is a cross-sectional view, and FIG. 3B is a plan view showing a shape of a portion connected to a protrusion of the conductor circuit 72. According to such an example,
Since the protrusion 53 can be partially inserted into the hole 72a via the layer 74 made of a conductive paste, solder, or a noble metal, the connection strength can be further increased, and the reliability can be increased.

【0103】図18(C)は導電ペースト、半田或いは
貴金属からなる層74の形成後、表面を研磨して該層7
4の導体回路72上の部分を除去し、上記孔72a内の
みに導電ペースト、半田或いは貴金属74が存在するよ
うにした例を示す断面図である。この場合、例えば配線
回路基板75を積層するとき突起53或いは57がその
孔72a内の導電ペースト、半田或いは貴金属74に突
き刺さった状態で導体回路72と接続される。
FIG. 18C shows that after forming a layer 74 made of a conductive paste, solder or a noble metal, the surface is polished to form the layer 7.
4 is a cross-sectional view showing an example in which a portion on the conductor circuit 72 of No. 4 is removed so that a conductive paste, solder, or a noble metal 74 exists only in the hole 72a. In this case, for example, when the printed circuit boards 75 are stacked, the projections 53 or 57 are connected to the conductor circuit 72 in a state where the projections 53 or 57 pierce the conductive paste, the solder or the noble metal 74 in the holes 72a.

【0104】図19(A)〜(C)は本発明配線回路基
板の製造方法の第10の実施の形態を工程順に示す断面
図である。 (A)図19(A)に示すように、配線回路基板の突
起、例えば53或いは57等のある側の面に層間絶縁膜
55を介して積層する銅箔として、上記突起と接続され
るべき部分に予め導電ペースト、半田乃至貴金属(例え
ば金)等の接続性を向上乃至確保する金属膜76を形成
したもの56を用意する。
FIGS. 19A to 19C are sectional views showing a tenth embodiment of the method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention in the order of steps. (A) As shown in FIG. 19 (A), a copper foil to be laminated via a interlayer insulating film 55 on a surface of a printed circuit board having a protrusion, for example, 53 or 57, should be connected to the protrusion. A part 56 in which a metal film 76 such as a conductive paste, a solder or a noble metal (for example, gold) for improving or securing the connectivity is previously formed on a portion is prepared.

【0105】(B)次に、図19(B)に示すように、
上記銅箔56の上記金属膜76形成側の面を層間絶縁膜
55を介してベース材51の突起53形成側の面に臨ま
せる。 (C)次に、図19(C)に示すように、上記銅箔56
を層間絶縁膜55を介して突起、例えば53のあるベー
ス材51を積層する。すると、突起、例えば53が層間
絶縁膜55を突き破り、金属膜76に接した状態にな
る。
(B) Next, as shown in FIG.
The surface of the copper foil 56 on the side where the metal film 76 is formed faces the surface of the base material 51 on the side where the protrusion 53 is formed via the interlayer insulating film 55. (C) Next, as shown in FIG.
The base material 51 having a protrusion, for example, 53 is laminated via an interlayer insulating film 55. Then, the protrusion, for example, 53 breaks through the interlayer insulating film 55 and comes into contact with the metal film 76.

【0106】その後は、図示はしないが、ベース材51
と銅箔56を同時乃至異時に選択的エッチングすること
により両面に導体回路を形成する。このような実施の形
態によれば、突起、例えば53と銅箔56からなる導体
回路との接続性を良好にすることができる。
Thereafter, although not shown, the base member 51 is not shown.
And copper foil 56 are simultaneously or selectively etched to form conductive circuits on both surfaces. According to such an embodiment, it is possible to improve the connectivity between the projections, for example, 53 and the conductor circuit made of the copper foil 56.

【0107】図20は本発明配線回路基板の層間絶縁膜
55として異方性導電膜55aを用いる実施の形態を示
す断面図である。本実施の形態によれば、層間絶縁膜と
して金属粒子を分散させた異方性導電膜55aを用いる
ので、突起53と銅箔56とにより挟まれている部分に
おいてはその部分における上下方向の加圧力により突起
53銅箔56との間に導電粒子が介在し、その粒子が押
圧されることにより両面に突き刺さる等接続の信頼を向
上させ、導電性を帯びるが、それ以外の部分では絶縁性
を保持する。従って、突起53と銅箔56との接続性を
異方性導電膜55aにより確保することができ、且つ層
間絶縁膜に要求される絶縁性も確保できる。
FIG. 20 is a sectional view showing an embodiment in which an anisotropic conductive film 55a is used as the interlayer insulating film 55 of the printed circuit board of the present invention. According to the present embodiment, since the anisotropic conductive film 55a in which metal particles are dispersed is used as the interlayer insulating film, the portion sandwiched between the projection 53 and the copper foil 56 is subjected to vertical addition at that portion. The conductive particles are interposed between the projection 53 and the copper foil 56 by the pressure, and the particles are pressed to improve the reliability of the connection such as piercing on both surfaces, and have conductivity. Hold. Therefore, the connectivity between the projection 53 and the copper foil 56 can be ensured by the anisotropic conductive film 55a, and the insulation required for the interlayer insulating film can also be ensured.

【0108】尚、異方性導電膜を突起上、例えば53上
のみに形成し、層間絶縁膜は普通の絶縁性樹脂により形
成するようにしても良い。その場合は、突起と例えば銅
箔56との間の電気的接続はその異方性導電膜によりと
り、絶縁は普通の絶縁性樹脂により確保することにな
る。
Incidentally, the anisotropic conductive film may be formed only on the projection, for example, only on the projection 53, and the interlayer insulating film may be formed of a normal insulating resin. In that case, the electrical connection between the projection and, for example, the copper foil 56 is established by the anisotropic conductive film, and the insulation is ensured by the ordinary insulating resin.

【0109】[0109]

【発明の効果】請求項1の配線回路基板によれば、導体
回路からなる金属層上に、該金属層とは別の金属から成
るエッチングバリア層を介して金属から成る突起が、選
択的に形成されており、上記エッチングバリア層により
導体回路となる上記金属層の侵食を防止しつつ金属層の
選択的エッチングにより上記突起を形成できる。従っ
て、ベース材として少なくとも突起の高さ或いはそれ以
上の厚さを有するものを使用して配線回路基板を得るこ
とができる。依って、製造過程でベース材が折れ曲がっ
たり、変形したりする虞が少なくなる。また、寸法が製
造過程で変動するおそれがなく、突起の位置が横方向に
ずれるおそれがないので、突起を微細に形成し、配設密
度を高めても突起の位置ずれに起因して上下導体回路間
の層間接続不良が生じるおそれがなく、歩留まり、信頼
度が高くなる。
According to the printed circuit board of the first aspect, the projection made of the metal is selectively formed on the metal layer made of the conductor circuit via the etching barrier layer made of a metal different from the metal layer. The protrusions can be formed by selective etching of the metal layer while preventing the metal layer serving as a conductor circuit from being eroded by the etching barrier layer. Therefore, a printed circuit board can be obtained by using a base material having at least the height of the protrusion or a thickness greater than that. Therefore, the possibility that the base material is bent or deformed during the manufacturing process is reduced. Also, since the dimensions do not fluctuate in the manufacturing process and the positions of the projections do not shift in the horizontal direction, even if the projections are formed finely and the arrangement density is increased, the upper and lower conductors may be displaced due to the displacement of the projections. There is no danger of interlayer connection failure between circuits, and the yield and reliability are increased.

【0110】更に、突起を金属層により形成することが
でき、金属層を例えば銅等比較的低価格材料で形成する
ことができるので、従来の孔を埋める或いは印刷により
形成された導電性ペーストを上下導体回路間接続手段と
して用いた場合よりも配線回路基板の低価格化を図るこ
とができる。また、上述したように、突起を金属層の選
択的エッチングにより形成するので、高さを均一にで
き、高さの不均一による上下導体回路間接続不良の発生
するおそれがない。また、突起が導体回路を成す金属層
と一体的であるから、従来よりも突起形成部の機械的強
度を強めることができる。
Further, since the projections can be formed by a metal layer and the metal layer can be formed by a relatively low-cost material such as copper, a conductive paste formed by filling a conventional hole or by printing can be used. The cost of the printed circuit board can be reduced as compared with the case where it is used as the connection means between the upper and lower conductor circuits. Further, as described above, since the protrusions are formed by selective etching of the metal layer, the height can be made uniform, and there is no possibility that a connection failure between the upper and lower conductor circuits due to the unevenness of the height will occur. Further, since the protrusion is integrated with the metal layer forming the conductor circuit, the mechanical strength of the protrusion forming portion can be increased as compared with the related art.

【0111】請求項2の配線回路基板によれば、上記突
起の表面に表面処理剤として導電性ペースト材料がコー
ティングしたので、突起と導体回路の接合性をその導電
性ペーストにより高めることができる。
According to the second aspect of the present invention, since the conductive paste material is coated on the surface of the protrusion as a surface treatment agent, the bonding property between the protrusion and the conductive circuit can be enhanced by the conductive paste.

【0112】請求項3の配線回路基板の製造方法によれ
ば、突起形成用の金属層上にエッチングバリア層を形成
し、該エッチングバリア層上に導体回路となる金属層を
形成したものを用意し、上記突起形成用の金属層を、上
記エッチングバリア層を侵さないエッチング液により選
択的にエッチングすることにより突起を形成し、上記エ
ッチングバリア層のみを上記突起をマスクとして上記導
体回路を成す金属層を侵さないエッチング液で除去し、
上記導体回路を成す金属層の上記突起形成側の面に層間
絶縁用の絶縁層を形成して該突起を上記導体回路に接続
された層間接続手段とするので、請求項1の配線回路基
板を得ることができ、請求項1の配線回路基板について
述べたと同様の効果を奏する。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a printed circuit board, wherein an etching barrier layer is formed on a metal layer for forming projections, and a metal layer serving as a conductor circuit is formed on the etching barrier layer. Then, the metal layer for forming the protrusions is selectively etched with an etchant that does not attack the etching barrier layer to form the protrusions, and only the etching barrier layer is formed of the metal forming the conductor circuit using the protrusions as a mask. Remove with an etchant that does not attack the layer,
2. The printed circuit board according to claim 1, wherein an insulating layer for interlayer insulation is formed on the surface of the metal layer forming the conductor circuit on the side on which the protrusion is formed, and the protrusion is used as interlayer connection means connected to the conductor circuit. Thus, the same effects as those described for the wired circuit board of claim 1 can be obtained.

【0113】請求項4の配線回路基板の製造方法によれ
ば、請求項3の配線回路基板の製造方法における突起を
マスクとするエッチングバリア層の選択的エッチングを
行わないで、導体回路を成す金属層の選択的エッチング
の際にその金属層と共に上記エッチングバリア層をもエ
ッチングすることととするので、エッチングバリア層の
不要部分を除去するためだけの工程をなくすことができ
る。従って、製造工程の低減を図ることができる。
According to the method of manufacturing a printed circuit board of the present invention, the metal forming the conductive circuit can be obtained without performing the selective etching of the etching barrier layer using the projections as a mask in the method of manufacturing the printed circuit board of the present invention. Since the etching barrier layer is etched together with the metal layer in the selective etching of the layer, a step only for removing an unnecessary portion of the etching barrier layer can be eliminated. Therefore, the number of manufacturing steps can be reduced.

【0114】請求項5の配線回路基板の製造方法によれ
ば、請求項3又は4記載の配線回路基板の製造方法にお
いて、上記ベースメタルからなる層を選択的にエッチン
グして上記突起を形成する際に、エッチングマスクとし
て金属層を用い、上記突起の形成後においても上記エッ
チングマスクとして用いた金属層を残存させてその金属
層で突起表面を全面的に覆う状態にするので、各突起上
部に導電性ペーストを塗布する面倒な作業をしなくて
も、エッチングマスクとして用いた金属層を該各突起と
導体回路との間の接続性を高める手段として用いること
ができる。
According to the method of manufacturing a printed circuit board of claim 5, in the method of manufacturing a printed circuit board of claim 3 or 4, the layer made of the base metal is selectively etched to form the protrusion. At this time, a metal layer is used as an etching mask, and even after the formation of the projections, the metal layer used as the etching mask is left so as to cover the entire surface of the projection with the metal layer. The metal layer used as an etching mask can be used as a means for improving the connectivity between each of the protrusions and the conductor circuit without performing a troublesome operation of applying the conductive paste.

【0115】請求項6の配線回路基板の製造方法によれ
ば、請求項1の配線回路基板と金属箔を積層し、該配線
回路基板の金属層と該金属箔を共に選択的にエッチング
することにより、層間絶縁膜により層間絶縁された導体
回路を両面に有し、その導体回路間を層間絶縁膜を貫通
する突起で電気的に接続した配線回路基板を得ることが
できる。
According to the method of manufacturing a printed circuit board of claim 6, the printed circuit board of claim 1 and a metal foil are laminated, and both the metal layer of the printed circuit board and the metal foil are selectively etched. Accordingly, it is possible to obtain a printed circuit board having conductor circuits on both sides insulated by an interlayer insulating film and electrically connecting the conductor circuits by protrusions penetrating the interlayer insulating film.

【0116】請求項7の配線回路基板の製造方法によれ
ば、請求項6の配線回路基板の製造方法により製造され
た配線回路基板の両面に、請求項1の配線回路基板を積
層し、加圧して一体化し、その上で一体化されたものの
両面に存在する金属層を選択的にエッチングすることに
より両面に導体回路を形成するので、4層の導体回路を
有する配線回路基板を得ることができる。
According to the method of manufacturing a printed circuit board of claim 7, the printed circuit board of claim 1 is laminated on both sides of the printed circuit board manufactured by the method of manufacturing a printed circuit board of claim 6. The conductor circuit is formed on both sides by selectively etching the metal layers present on both sides of the integrated one on top of the integrated circuit, so that a printed circuit board having four layers of conductor circuits can be obtained. it can.

【0117】請求項8の配線回路基板、請求項9の配線
回路基板の製造方法によれば、一層又は多層の導体回路
の一方の主面に開口を有した絶縁層を介してベースメタ
ルからなり、上記開口を通じて上記導体回路と電気的に
接続された突起を有し、上記絶縁層の該突起が形成され
た側に層間絶縁膜を形成した2個の配線回路基板を、突
起及び層間絶縁膜が形成された側が内側を向くように直
接に又は配線回路基板を介して積層加圧されて一体化す
るので、配線回路基板の導体回路の層数を極めて多くす
ることができ、実装密度を高めることができる。
According to the method of manufacturing a printed circuit board of claim 8 and the method of manufacturing a printed circuit board of claim 9, the single-layer or multi-layer conductive circuit is formed of a base metal via an insulating layer having an opening on one main surface. Two wiring circuit boards each having a projection electrically connected to the conductor circuit through the opening, and forming an interlayer insulating film on the side of the insulating layer where the projection is formed; Is directly or indirectly laminated via a printed circuit board so that the side on which the printed circuit board faces inward is integrated, so that the number of conductive circuit layers of the printed circuit board can be extremely increased, and the mounting density can be increased. be able to.

【0118】請求項10の配線回路基板によれば、請求
項8の配線回路基板の両面にLSIチップ若しくはパッ
ケージを搭載したので、LSIチップ若しくはパッケー
ジを高密度に実装した配線回路基板を得ることができ
る。そして、パッドが配線膜と一体なので、パットオン
ビアの構造強化が可能であり、配線回路基板の小型化も
容易となる。
According to the tenth aspect of the present invention, since the LSI chip or the package is mounted on both sides of the wired circuit board of the eighth aspect, it is possible to obtain a wired circuit board on which the LSI chip or the package is mounted at a high density. it can. Since the pad is integrated with the wiring film, the structure of the pad-on-via can be strengthened, and the size of the wiring circuit board can be easily reduced.

【0119】請求項11の配線回路基板によれば、導体
回路を成す金属層上に、該金属層とは同じ金属から成る
上下導体間接続用突起を形成したので、金属層及びそれ
に選択的に形成される突起を成すベース材として単層構
造のものを用いることができるので、材料費を節減でき
る。そして、突起をベース材のハーフエッチングにより
形成することが可能となり、延いてはエッチングバリア
層を除去する工程が必要ではなくなるので、工数の低減
を図ることができる。従って、配線回路基板の低価格化
を図ることができる。
According to the eleventh aspect of the present invention, since the upper and lower conductor connection projections made of the same metal as the metal layer are formed on the metal layer forming the conductor circuit, the metal layer and the metal layer can be selectively formed thereon. Since a material having a single-layer structure can be used as a base material forming a projection to be formed, material costs can be reduced. Then, the projections can be formed by half-etching the base material, which eliminates the need for a step of removing the etching barrier layer, thereby reducing man-hours. Therefore, the cost of the printed circuit board can be reduced.

【0120】請求項12の配線回路基板によれば、請求
項11の配線回路基板と同様に、金属層及びそれに選択
的に形成される突起を成すベース材として単層構造のも
のを用いることができるので、材料費を節減することが
可能となり、工数の低減を図ることができる。従って、
配線回路基板の低価格化を図ることができる。
According to the printed circuit board of the twelfth aspect, similarly to the printed circuit board of the eleventh aspect, it is possible to use a metal layer and a base material constituting a projection selectively formed thereon with a single layer structure. As a result, material costs can be reduced, and man-hours can be reduced. Therefore,
The cost of the printed circuit board can be reduced.

【0121】請求項13の配線回路基板によれば、金属
膜の突起と対応する部分に、その突起の頂部よりも小さ
い径の孔を形成したので、その突起が金属膜と接続され
るとき突起の頂部がその孔に突き当たってこれを崩し、
突起と金属膜との接続をより強固にすることができる。
従って、接続をより強固にし、接続の信頼性を向上させ
ることができる。
According to the printed circuit board of the thirteenth aspect, since a hole having a diameter smaller than the top of the projection is formed in a portion corresponding to the projection of the metal film, the projection is formed when the projection is connected to the metal film. The top of the hole hits the hole and breaks it,
The connection between the projection and the metal film can be further strengthened.
Therefore, the connection can be strengthened and the reliability of the connection can be improved.

【0122】請求項14の配線回路基板によれば、上下
導体間接続用突起が槍状に形成されているので、突起に
より層間絶縁膜を、通常使用されるガラスクロス入りガ
ラエポプリプレグにおいては効果的且つ確実に突き破
り、更には積層される金属層に突き刺さり、突起と金属
層との接続性をより確実なものにできる。
According to the fourteenth aspect of the present invention, since the projection for connecting the upper and lower conductors is formed in a spear shape, the interlayer insulating film is effectively formed by the projection in a glass cloth containing glass epoxy prepreg which is generally used. In addition, the metal layer can be reliably pierced, and further pierced into the metal layer to be laminated, so that the connection between the projection and the metal layer can be further ensured.

【0123】請求項15の配線回路基板よれば、上下導
体間接続用がコニーデ状なので、その頂部を平面にで
き、突起高さが不均一になるおそれがなく、また、導体
回路を成すベース材とそれに層間絶縁膜を介して積層さ
れる導体回路を成す金属層との間隔を上下導体間接続用
により一定の値に確保できる。
According to the fifteenth aspect of the present invention, since the connection between the upper and lower conductors is in a conide shape, the top can be made flat, there is no possibility that the height of the projections will be nonuniform, and the base material forming the conductor circuit will be described. The distance between the upper conductor and the metal layer forming the conductor circuit laminated with the interlayer insulating film interposed therebetween can be maintained at a constant value for connection between the upper and lower conductors.

【0124】請求項16の配線回路基板によれば、上下
導体間接続用突起が鼓状なので、その頂部の平面の面積
をより広くでき、より確実に導体回路を成すベース材・
金属層間の間隔を一定に確保する効果をより確実に得る
ことができる。
According to the sixteenth aspect of the present invention, since the protrusion for connecting the upper and lower conductors is in the shape of a drum, the plane area of the top can be made larger and the base material and the base material which form the conductor circuit more reliably.
The effect of ensuring a constant spacing between metal layers can be obtained more reliably.

【0125】請求項17の配線回路基板によれば、上下
導体間接続用突起の表面が粗化或いはつぶメッキされて
いるので、その頂部と金属層間の接続性をより高めるこ
とができる。
According to the seventeenth aspect of the present invention, since the upper and lower conductor connection projections are roughened or crushed, the connectivity between the top and the metal layer can be further improved.

【0126】請求項18の配線回路基板によれば、上下
導体間接続用突起が銅からなり、その表面が電解クロメ
ート処理されているので、金属層の表面が酸化されるこ
とを防止することができ、延いては該突起と金属層との
電気的接続の信頼度を高めることができる。
According to the printed circuit board of the eighteenth aspect, the projection for connecting the upper and lower conductors is made of copper, and the surface thereof is subjected to electrolytic chromate treatment, so that the surface of the metal layer can be prevented from being oxidized. Thus, the reliability of the electrical connection between the protrusion and the metal layer can be increased.

【0127】請求項19の配線回路基板の製造方法によ
れば、金属板(ベース材)その一方の表面に選択的にマ
スク膜を形成し、これをマスクとして上記金属板をハー
フエッチングすることにより導体回路となる金属層と突
起を形成し、上記導体回路となる金属層の上記突起が形
成された側の表面に層間絶縁層を介して金属層を積層
し、上記層間絶縁層の両方の表面の金属層を同時又は異
時に選択的にパターニングすることにより配線膜を形成
するので、請求項12の配線回路基板を得ることができ
る。
According to the nineteenth aspect of the present invention, a mask film is selectively formed on one surface of a metal plate (base material), and the metal plate is half-etched using the mask film as a mask. Forming a metal layer and a projection to be a conductor circuit, and laminating a metal layer via an interlayer insulation layer on the surface of the metal layer to be a conductor circuit on the side where the projection is formed; Since the wiring film is formed by selectively patterning the metal layers at the same time or at different times, the wired circuit board according to claim 12 can be obtained.

【0128】請求項20の配線回路基板によれば、上下
導体間接続用突起とそれに接続された金属層との間に異
方性導電膜を介在させたので、該上下導体間接続用突起
と金属層との接続を異方性導電膜中の金属粒子を介する
ことにより確実にとることができる。
According to the twentieth aspect of the present invention, since the anisotropic conductive film is interposed between the upper and lower conductor connecting protrusions and the metal layer connected to the upper and lower conductor connecting protrusions, The connection with the metal layer can be reliably established through the metal particles in the anisotropic conductive film.

【0129】請求項21の配線回路基板の製造方法によ
れば、金属層を積層する前に突起と該金属層との間に異
方性導電膜を介在させる工程を設けたので、請求項20
の配線回路基板を得ることができる。
According to the method of manufacturing a printed circuit board of the present invention, the step of interposing an anisotropic conductive film between the projection and the metal layer is provided before the metal layer is laminated.
Can be obtained.

【0130】請求項22の配線回路基板によれば、金属
層の表面に多数の金属からなる導体間接続用突起を一定
の間隔をもった格子の交点上に配置したので、配線回路
基板の機種の如何を問わず、両面の導体回路を選択的エ
ッチングにより形成するよりも前の段階までは、標準品
として量産しておき、その後、機種に応じて異なるパタ
ーンの導体回路を形成することとすることができるの
で、他品種の配線回路基板についてその生産性を高める
ことができる。それと共に、マスクも品種により変える
必要がなく、銅エッチング量も少なくて済むことから、
他品種少量生産から少品種大量生産まで対応することが
でき、経済性向上に大きく寄与する。
According to the printed circuit board of the present invention, a large number of inter-conductor connection projections made of metal are arranged on the intersections of the grid with a fixed interval on the surface of the metal layer. Regardless of whether or not the conductor circuit on both sides is mass-produced as a standard product until the stage before it is formed by selective etching, a conductor circuit having a different pattern is formed depending on the model. Therefore, the productivity of other types of printed circuit boards can be improved. At the same time, there is no need to change the mask depending on the product type, and the copper etching amount can be reduced.
It can handle small-volume production of other varieties to large-volume production of small varieties, greatly contributing to improved economic efficiency.

【0131】請求項23の配線回路基板によれば、各上
下導体間接続用突起を、上記基板両面から加圧したとき
各上下導体間接続用突起が均一な加圧力を受けるように
配置したので、各突起の潰れ具合を均一にすることがで
き、延いては接続性を均一にすることができ、信頼度を
高めることができる。
According to the twenty-third aspect of the present invention, each of the upper and lower conductor connecting projections is arranged such that each of the upper and lower conductor connecting projections receives a uniform pressing force when pressed from both sides of the substrate. In addition, the degree of crushing of each projection can be made uniform, and hence the connectivity can be made uniform, and the reliability can be increased.

【0132】請求項24の配線回路基板によれば、各上
下導体間接続用密集領域の周辺部には密集した上下導体
間接続用突起とは別に小さいダミー突起を配置したの
で、密集領域の周辺部の上下導体間接続用のエッチング
レートを中央部の上下導体間接続用並に小さくすること
が可能となり、上下導体間接続用のエッチングレートの
均一化を図ることができ、延いては各上下導体間接続用
の径、高さの均一化を図ることができる。
According to the twenty-fourth aspect of the present invention, small dummy projections are arranged in the peripheral portion of each of the densely connected areas between the upper and lower conductors in addition to the densely arranged projections for the connection between the upper and lower conductors. The etching rate for the connection between the upper and lower conductors of the portion can be made as small as that for the connection between the upper and lower conductors in the center portion, and the etching rate for the connection between the upper and lower conductors can be made uniform. The diameter and height for connecting conductors can be made uniform.

【0133】請求項25の配線回路基板によれば、導体
間接続用突起が複数通りの異なる高さを持つので、段差
のある接合面、或いは銅ペーストと銅パターン面等、接
合機構の異なる面に支障なく積層することが可能とな
る。
According to the printed circuit board of the twenty-fifth aspect, since the inter-conductor connection projections have a plurality of different heights, different surfaces having different bonding mechanisms, such as a stepped bonding surface or a copper paste and copper pattern surface. Can be stacked without any trouble.

【0134】請求項26の配線回路基板によれば、導体
間接続用突起が複数通りの異なる径を持つようにされた
ので、通る電流に応じて大電流が通る突起は径を大きく
し、小電流が通る突起は径を小さくすることができ、小
さな径の突起に大きな電流が流れて電圧降下が生じた
り、ジュール熱が発生したり、小さな電流しか流れない
のに径が大きいため突起が無駄に面積を専有するという
問題の生じるおそれがない。
According to the twenty-sixth aspect of the present invention, the projections for connecting conductors have a plurality of different diameters, so that the projections through which a large current passes have a large diameter and a small diameter depending on the current passing therethrough. The diameter of the projection through which the current passes can be reduced, and a large current flows through the projection with a small diameter, causing a voltage drop or generating Joule heat. There is no possibility that the problem of occupying the area will occur.

【0135】請求項27の配線回路基板は、上下導体間
接続用突起と同じ材料で同じ高さで形成されたスペーサ
を有するので、該スペーサによりベース材と金属層との
間隔を一定にし、インピーダンスコントロール性を高め
ることができる。また、このスペーサを接地して静電シ
ールドに用いるようにすることもできる。
Since the printed circuit board according to the present invention has a spacer formed of the same material and at the same height as the upper and lower conductor connecting projections, the spacer makes the distance between the base material and the metal layer constant, thereby reducing the impedance. Controllability can be improved. Also, this spacer can be grounded and used for an electrostatic shield.

【0136】請求項28の配線回路基板の製造方法は、
上下導体間接続用突起と同じ工程でスペーサを形成する
ので、このスペーサによりベース材と金属層との間隔を
確保することのできる請求項27の配線回路基板を工程
を増すことなく形成することができる。
The method for manufacturing a printed circuit board according to claim 28 is characterized in that
Since the spacer is formed in the same step as the upper and lower conductor connecting projections, the spacer can secure the space between the base material and the metal layer. Thus, the printed circuit board according to claim 27 can be formed without increasing the number of steps. it can.

【0137】請求項29の配線回路基板は、認識マーク
を有するので、位置合わせや機種の認識を該認識マーク
により為し得る。
Since the printed circuit board according to the present invention has the recognition mark, the alignment and the recognition of the model can be performed by the recognition mark.

【0138】請求項30の配線回路基板の製造方法は、
上記上下導体間接続用突起と同じ工程で認識マークを形
成するので、工程数を増すことなく認識マークを形成し
た請求項29の配線回路基板を得ることができる。
A method for manufacturing a printed circuit board according to claim 30 is characterized in that:
Since the recognition mark is formed in the same step as the step for connecting the upper and lower conductors, the printed circuit board according to claim 29 in which the recognition mark is formed without increasing the number of steps can be obtained.

【0139】請求項31の配線回路基板によれば、絶縁
性ベースの上下両表面の導体回路間を電気的に接続する
スルーホールが形成されコアとなる回路基板の両表面
に、金属層からなり選択的に形成された上下導体間接続
用突起を有する配線回路の突起形成側の面に絶縁層が該
上下導体間接続用突起によって貫通された状態で形成さ
れた別の回路基板を、その上下導体間接続用突起の先端
が上記金属層からなる配線回路に接続される状態で積層
した配線回路基板において、上記上下導体間接続用突起
と上記配線回路とが導電ペースト、半田又は貴金属層を
介して接続したので、ビルドアップにより高集積化しつ
つ、回路基板間の電気的接続性、接続の信頼性を高める
ことができる。
According to the printed circuit board of the thirty-first aspect, through-holes for electrically connecting the conductive circuits on the upper and lower surfaces of the insulating base are formed, and both surfaces of the core circuit board are formed of metal layers. Another circuit board formed with an insulating layer penetrated by the upper and lower conductor connecting protrusions on the surface on the protrusion forming side of the wiring circuit having the selectively formed upper and lower conductor connecting protrusions, In a printed circuit board laminated with the ends of the inter-conductor connection projections connected to the wiring circuit made of the metal layer, the upper and lower conductor connection projections and the wiring circuit are connected via a conductive paste, solder or a noble metal layer. Therefore, the electrical connection between the circuit boards and the reliability of the connection can be improved while achieving high integration by build-up.

【0140】請求項32の配線回路基板によれば、導体
回路を成す金属層にそれと同じ金属から成る上下導体間
接続用突起が選択的に形成されたものに層間絶縁膜を介
して積層された導体回路を成す金属層に、上記上下導体
間接続用突起と接する半田、導電ペースト又は貴金属膜
を設けたので、金属層と突起とを該半田、導電ペースト
又は貴金属膜を介して接続することができ、その間の電
気的接続性を良好にできる。
According to the printed circuit board of the present invention, the metal layer forming the conductor circuit is selectively laminated with the upper and lower conductor connection projections made of the same metal as the metal layer via the interlayer insulating film. Since the metal layer forming the conductor circuit is provided with a solder, a conductive paste or a noble metal film that comes into contact with the upper and lower conductor connecting protrusions, the metal layer and the protrusion can be connected via the solder, the conductive paste or the noble metal film. And electrical connection therebetween can be improved.

【0141】請求項33の配線回路基板の製造方法によ
れば、導体回路となる金属層上に該金属層とは同じ金属
から成る上下導体間接続用突起が選択的に形成したもの
の上下導体間接続用突起形成側に、層間絶縁層を介し
て、上記導体回路とは別の導体回路となる金属層上に上
記上下導体間接続用突起に対応して半田、導電ペースト
又は貴金属膜を形成したものを積層するので、請求項3
4、35の配線回路基板を得ることができる。
According to the method of manufacturing a printed circuit board of the present invention, the upper and lower conductors are selectively formed on the metal layer to be the conductor circuit and the upper and lower conductor connection protrusions made of the same metal as the metal layer are selectively formed. On the connection protrusion forming side, a solder, a conductive paste, or a noble metal film was formed on a metal layer to be a conductor circuit different from the conductor circuit, corresponding to the connection protrusion between the upper and lower conductors via an interlayer insulating layer. Claim 3
4, 35 printed circuit boards can be obtained.

【0142】請求項34の配線回路基板は、層間絶縁膜
として異方性導電膜を用いたので、突起と金属層との間
に介在してもその層間絶縁膜が受ける加圧力により導電
性を帯びるので、突起と金属層との間を確実に電気的に
接続することができる。
In the printed circuit board according to the thirty-fourth aspect, since an anisotropic conductive film is used as an interlayer insulating film, even if the conductive film is interposed between the protrusion and the metal layer, the conductive property is maintained by the pressure applied to the interlayer insulating film. Since it is tinged, it is possible to reliably electrically connect the projection and the metal layer.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(A)〜(G)は本発明配線回路基板の製造方
法の第1の実施の形態の工程(A)〜(G)を順に示す
断面図である。
FIGS. 1A to 1G are cross-sectional views sequentially showing steps (A) to (G) of a first embodiment of a method for manufacturing a printed circuit board of the present invention.

【図2】(H)〜(K)は上記第1の実施の形態の工程
(H)〜(K)を順に示す断面図である。
FIGS. 2 (H) to 2 (K) are cross-sectional views sequentially showing steps (H) to (K) of the first embodiment.

【図3】(A)〜(F)は本発明配線回路基板の製造方
法の第2の実施の形態を工程順に示す断面図である。
FIGS. 3A to 3F are sectional views showing a second embodiment of the method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention in the order of steps.

【図4】(A)〜(C)は本発明配線回路基板の製造方
法の第3の実施の形態を工程順に示す断面図である。
FIGS. 4A to 4C are cross-sectional views showing a third embodiment of the method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention in the order of steps.

【図5】(A)〜(G)は本発明配線回路基板の製造方
法の第4の実施の形態の工程(A)〜(G)を順に示す
断面図である。
FIGS. 5A to 5G are sectional views sequentially showing steps (A) to (G) of a fourth embodiment of the method of manufacturing a wired circuit board according to the present invention.

【図6】(H)、(I)は上記第5の実施の形態の工程
(H)〜(I)を順に示す断面図である。
FIGS. 6H and 6I are cross-sectional views sequentially showing steps (H) to (I) of the fifth embodiment.

【図7】(A)〜(E)は本発明配線回路基板の第6の
実施の形態を工程順に示す断面図である。
FIGS. 7A to 7E are sectional views showing a sixth embodiment of the printed circuit board of the present invention in the order of steps.

【図8】(A)、(B)は本発明配線回路基板の上下導
体間接続用突起の各別の例を示す断面図である。
FIGS. 8A and 8B are cross-sectional views showing another example of the upper and lower conductor connecting projections of the printed circuit board of the present invention.

【図9】本発明配線回路基板の突起を格子の各交点上に
配置した実施の形態の要部を示す斜視図である。
FIG. 9 is a perspective view showing a main part of the embodiment in which protrusions of the printed circuit board of the present invention are arranged on each intersection of the lattice.

【図10】本発明配線回路基板の積層時に各突起が受け
る加圧力が各突起毎に均一になるように配置した実施の
形態を示す斜視図である。
FIG. 10 is a perspective view showing an embodiment in which the pressure applied to each projection during lamination of the printed circuit board of the present invention is arranged so as to be uniform for each projection.

【図11】本発明配線回路基板の上下導体間接続用突起
の高さ、径を均一にするために、エッチングレートを均
一にするためのダミー突起を設けた実施の形態を示す断
面図である。
FIG. 11 is a cross-sectional view showing an embodiment in which dummy projections for making the etching rate uniform are provided in order to make the height and diameter of the upper and lower conductor connecting protrusions of the printed circuit board of the present invention uniform. .

【図12】(A)〜(D)はダミー突起を設けた別の各
別の実施の形態を示す平面図である。
12 (A) to 12 (D) are plan views showing different embodiments provided with dummy projections.

【図13】本発明配線回路基板の高さの異なる上下導体
間接続用突起を混在させて段差のある接合面に対応させ
た実施の形態を示す断面図である。
FIG. 13 is a sectional view showing an embodiment in which upper and lower conductor connection projections having different heights of the printed circuit board of the present invention are mixed to correspond to a junction surface having a step.

【図14】(A)、(B)は本発明配線回路基板の突起
と同じ材料、高さのスペーサを設けた実施の形態を示す
もので、(A)は斜視図、(B)は断面図である。
14A and 14B show an embodiment in which a spacer having the same material and height as the protrusions of the printed circuit board of the present invention is provided, wherein FIG. 14A is a perspective view, and FIG. FIG.

【図15】本発明配線回路基板の径の異なる上下導体間
接続用突起を混在させた実施の形態を示す断面図であ
る。
FIG. 15 is a cross-sectional view showing an embodiment in which upper and lower conductor connection projections having different diameters of the wired circuit board of the present invention are mixed.

【図16】(A)〜(C)は本発明配線回路基板の突起
と同じ材料からなる認識マークを設けた実施の形態を示
すもので、(A)は斜視図、(B)は認識マークの平面
図、(C)は(B)のものとはパターンの異なる別の認
識マークの平面図である。
16A to 16C show an embodiment in which recognition marks made of the same material as the protrusions of the printed circuit board of the present invention are provided, wherein FIG. 16A is a perspective view, and FIG. (C) is a plan view of another recognition mark having a different pattern from that of (B).

【図17】(A)〜(D)は本発明配線回路基板の製造
方法の第7の実施の形態を工程順に示す断面図である。
17A to 17D are sectional views showing a seventh embodiment of the method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention in the order of steps.

【図18】(A)〜(C)は導体回路の突起と対応する
部分に該突起頂部の径よりも大きな孔を形成することと
した例を示すものであり、(A)は断面図、(B)は導
体回路の突起と接続される部分の形状を示す平面図、
(C)は導電ペースト、半田或いは貴金属からなる層の
形成後、表面を研磨して該層の導体回路上の部分を除去
し、上記孔内のみに導電ペースト、半田或いは貴金属が
存在するようにした例を示す断面図である。
18A to 18C show an example in which a hole larger than the diameter of the top of the projection is formed in a portion corresponding to the projection of the conductor circuit, and FIG. (B) is a plan view showing a shape of a portion connected to the projection of the conductor circuit,
(C) is to form a layer made of conductive paste, solder or precious metal, and then to polish the surface to remove a portion of the layer on the conductive circuit, so that the conductive paste, solder or precious metal is present only in the hole. It is sectional drawing which shows the example which performed.

【図19】(A)〜(C)は本発明配線回路基板の製造
方法の第8の実施の形態を工程順に示す断面図である。
FIGS. 19A to 19C are cross-sectional views illustrating an eighth embodiment of the method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention in the order of steps.

【図20】本発明配線回路基板の層間絶縁膜として異方
性導電膜を用いた実施の形態を示す断面図である。
FIG. 20 is a sectional view showing an embodiment using an anisotropic conductive film as an interlayer insulating film of the printed circuit board of the present invention.

【図21】(A)〜(F)は高密度実装用配線回路基板
に関する一つの従来例を説明するためのもので、配線回
路基板の製造方法の工程(A)〜(F)を順に示す断面
図である。
FIGS. 21A to 21F are views for explaining one conventional example relating to a printed circuit board for high-density mounting, and show steps (A) to (F) of a method of manufacturing a printed circuit board in order; It is sectional drawing.

【図22】上記従来例の配線回路基板の製造方法の工程
(G)〜(I)を順に示す断面図である。
FIG. 22 is a cross-sectional view showing, in order, steps (G) to (I) of the method of manufacturing the conventional printed circuit board.

【図23】(A)〜(G)は高密度実装用配線回路基板
に関する別の従来例を説明するためのもので、配線回路
基板の製造方法を工程順(A)〜(G)に示す断面図で
ある。
FIGS. 23A to 23G are views for explaining another conventional example relating to a printed circuit board for high-density mounting, and show a method of manufacturing a printed circuit board in the order of steps (A) to (G). It is sectional drawing.

【符号の説明】 20・・・ベース材、21、21a・・・突起形成用金
属層(銅層)、22・・・エッチングバリア層、23・
・・導体回路形成用金属層(銅箔)、25・・・突起、
26・・・導電性ペースト、27・・・層間絶縁膜、2
8・・・積層体、29・・・導体回路形成用金属層(銅
箔)、30・・・積層体、31、32・・・導体回路、
33、33a・・・配線回路基板、35・・・導体回
路、36・・・配線回路基板、37・・・突起形成用マ
スク兼突起被覆半田メッキ膜、40・・・絶縁膜、41
・・・開口、42・・・導体回路、43・・・絶縁膜、
44・・・開口、45・・・突起状端子、46、47・
・・配線回路基板、48・・・LSIチップ、51・・
・ベース材(銅からなる金属層)、53、57・・・上
下導体間接続用突起、54・・・導体ペースト、半田或
いは貴金属膜、55・・・層間絶縁膜、55a・・・層
間絶縁膜を成す異方性導電膜、56・・・金属層、58
・・・ダミー突起、61・・・スペーサ、63・・・認
識マーク、70・・・コアの配線回路基板、72・・・
金属層、72a・・・孔、73・・・スルーホール、7
4・・・導電ペースト、半田或いは貴金属膜。
[Description of Signs] 20: base material, 21, 21a: metal layer (copper layer) for forming projections, 22: etching barrier layer, 23
..Metal layer (copper foil) for forming conductor circuit, 25...
26: conductive paste, 27: interlayer insulating film, 2
8 ... laminated body, 29 ... metal layer (copper foil) for conductor circuit formation, 30 ... laminated body, 31, 32 ... conductor circuit,
33, 33a: Wiring circuit board, 35: Conductor circuit, 36: Wiring circuit board, 37: Projection forming mask / projection coating solder plating film, 40: Insulating film, 41
... Opening, 42 ... Conductor circuit, 43 ... Insulating film,
44 ... opening, 45 ... projecting terminal, 46, 47
..Wiring circuit boards, 48 ... LSI chips, 51 ..
-Base material (metal layer made of copper), 53, 57: Projection for connection between upper and lower conductors, 54: Conductor paste, solder or noble metal film, 55: Interlayer insulation film, 55a: Interlayer insulation Anisotropic conductive film forming film, 56... Metal layer, 58
... Dummy projection, 61 ... Spacer, 63 ... Recognition mark, 70 ... Core printed circuit board, 72 ...
Metal layer, 72a ... hole, 73 ... through hole, 7
4 ... conductive paste, solder or noble metal film.

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図7[Correction target item name] Fig. 7

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図7】 FIG. 7

【手続補正3】[Procedure amendment 3]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図8[Correction target item name] Fig. 8

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図8】 FIG. 8

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図9[Correction target item name] Fig. 9

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図9】 FIG. 9

【手続補正5】[Procedure amendment 5]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図10[Correction target item name] FIG.

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図10】 FIG. 10

【手続補正6】[Procedure amendment 6]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図11[Correction target item name] FIG.

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図11】 FIG. 11

【手続補正7】[Procedure amendment 7]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図12[Correction target item name] FIG.

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図12】 FIG.

【手続補正8】[Procedure amendment 8]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図13[Correction target item name] FIG.

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図13】 FIG. 13

【手続補正9】[Procedure amendment 9]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図14[Correction target item name] FIG.

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図14】 FIG. 14

【手続補正10】[Procedure amendment 10]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図15[Correction target item name] FIG.

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図15】 FIG.

【手続補正11】[Procedure amendment 11]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図16[Correction target item name] FIG.

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図16】 FIG. 16

【手続補正12】[Procedure amendment 12]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図17[Correction target item name] FIG.

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図17】 FIG.

【手続補正13】[Procedure amendment 13]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図18[Correction target item name] FIG.

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図18】 FIG.

【手続補正14】[Procedure amendment 14]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図19[Correction target item name] FIG.

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図19】 FIG.

【手続補正15】[Procedure amendment 15]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図20[Correction target item name] FIG.

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図20】 FIG.

【手続補正16】[Procedure amendment 16]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図21[Correction target item name] FIG.

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図21】 FIG. 21

【手続補正17】[Procedure amendment 17]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図22[Correction target item name] FIG.

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図22】 FIG.

【手続補正18】[Procedure amendment 18]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図23[Correction target item name] FIG.

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図23】 FIG. 23

【手続補正19】[Procedure amendment 19]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図24[Correction target item name] FIG.

【補正方法】削除[Correction method] Deleted

【手続補正20】[Procedure amendment 20]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図25[Correction target item name] Fig. 25

【補正方法】削除[Correction method] Deleted

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 1/11 H05K 3/06 A 3/06 K 3/38 B 3/38 3/40 K 3/40 H01L 23/12 F Fターム(参考) 5E317 AA24 BB02 BB11 CC22 CC25 CC53 CC60 CD23 CD25 GG11 GG14 5E338 AA02 AA03 AA16 AA18 CC01 CD03 DD12 DD22 DD32 EE41 5E339 AB02 AD03 AD05 BC01 BC02 BD03 BD05 BE13 BE15 CD05 CE15 5E343 AA02 AA12 BB08 BB16 BB22 BB24 BB34 BB54 BB67 BB72 DD01 DD75 EE54 EE55 GG01 5E346 AA12 AA15 AA22 AA35 AA43 AA60 BB01 BB16 CC08 CC32 CC40 DD03 DD12 DD32 DD34 EE02 EE06 EE17 EE19 FF24 GG22 GG25 GG27 GG28 HH07 HH11 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H05K 1/11 H05K 3/06 A 3/06 K 3/38 B 3/38 3/40 K 3/40 H01L 23/12 FF term (Reference) 5E317 AA24 BB02 BB11 CC22 CC25 CC53 CC60 CD23 CD25 GG11 GG14 5E338 AA02 AA03 AA16 AA18 CC01 CD03 DD12 DD22 DD32 EE41 5E339 AB02 AD03 AD05 BC01 BC02 BD03 BD05 BE13 BE15 CD05 AB15A15A BB22 BB24 BB34 BB54 BB67 BB72 DD01 DD75 EE54 EE55 GG01 5E346 AA12 AA15 AA22 AA35 AA43 AA60 BB01 BB16 CC08 CC32 CC40 DD03 DD12 DD32 DD34 EE02 EE06 EE17 EE19 FF24 GG22 GG25 GG27 HGG GG25 H

Claims (37)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 導体回路となる金属層上に、該金属層と
は別の金属から成るエッチングバリア層を介して金属か
ら成る突起が、選択的に形成され、 上記導体回路の上記突起が形成された側の面に層間絶縁
層が形成され、 上記突起が上記絶縁層を貫通して上記導体回路となる金
属層と他との層間接続手段を成していることを特徴とす
る配線回路基板。
1. A projection made of a metal is selectively formed on a metal layer to be a conductor circuit via an etching barrier layer made of a metal different from the metal layer, and the projection of the conductor circuit is formed. A wiring circuit board, characterized in that an interlayer insulating layer is formed on the surface on the side of the substrate, and the protrusions penetrate the insulating layer and constitute a means for interlayer connection between the metal layer serving as the conductor circuit and the other. .
【請求項2】 上記突起の表面に表面処理剤として導電
性ペースト材料がコーティングされたことを特徴とする
請求項1記載の配線回路基板。
2. The printed circuit board according to claim 1, wherein the surface of the projection is coated with a conductive paste material as a surface treatment agent.
【請求項3】 突起形成用の金属層上にそれとは別の金
属から成るエッチングバリア層を形成し、該エッチング
バリア層上に導体回路となる金属層を形成したものを用
意する工程と、 上記突起形成用の金属層を、上記エッチングバリア層を
侵さないエッチング液により選択的にエッチングするこ
とにより突起を形成する工程と、 上記エッチングバリア層のみを上記突起をマスクとして
上記導体回路を成す金属層を侵さないエッチング液で除
去する工程と、 上記導体回路を成す金属層の上記突起形成側の面に層間
絶縁用の絶縁層を形成して該突起を上記導体回路に接続
された層間接続手段とする工程と、 を有することを特徴とする配線回路基板の製造方法。
3. A step of forming an etching barrier layer made of another metal on a metal layer for forming projections and forming a metal layer to be a conductor circuit on the etching barrier layer; Forming a projection by selectively etching the metal layer for forming the projection with an etchant that does not attack the etching barrier layer; and forming the conductor circuit using only the etching barrier layer as a mask and the projection. Removing with an etchant that does not invade the conductive circuit; and an interlayer connecting means for forming an insulating layer for interlayer insulation on the surface of the metal layer forming the conductive circuit on the side of the protrusion and connecting the protrusion to the conductive circuit. A method for manufacturing a printed circuit board, comprising:
【請求項4】 突起形成用の金属層上にそれとは別の金
属から成るエッチングバリア層を形成し、該エッチング
バリア層上に導体回路となる金属層を形成したものを用
意する工程と、 上記突起形成用の金属層を、上記エッチングバリア層を
侵さないエッチング液により選択的にエッチングするこ
とにより突起を形成する工程と、 上記導体回路を成す金属層の上記突起形成側の面に層間
絶縁用の絶縁層を形成して該突起を上記導体回路に接続
された層間接続手段とする工程と、 上記導体回路となる上記エッチングバリア層上の金属層
を該エッチングバリア層と共にエッチングマスク層をマ
スクとする選択エッチングにより除去することによって
導体回路を形成する工程と、 を有することを特徴とする配線回路基板の製造方法。
4. A step of forming an etching barrier layer made of another metal on a metal layer for forming projections and forming a metal layer to be a conductor circuit on the etching barrier layer; Forming a projection by selectively etching the metal layer for forming a projection with an etchant that does not attack the etching barrier layer; and forming an interlayer insulating layer on the surface of the metal layer forming the conductor circuit on the side where the projection is formed. Forming an insulating layer of the above and forming the protrusions as interlayer connection means connected to the conductor circuit; and forming a metal layer on the etching barrier layer to be the conductor circuit together with the etching barrier layer using an etching mask layer as a mask. Forming a conductive circuit by removing the conductive circuit by selective etching.
【請求項5】 上記突起形成用の金属層を選択的にエッ
チングして上記突起を形成する際に、エッチングマスク
として金属層を用い、 上記突起の形成後においても上記エッチングマスクとし
て用いた金属層を残存させてその金属層で突起表面を全
面的に覆う状態にすることを特徴とする請求項3又は4
記載の配線回路基板の製造方法。
5. A metal layer used as an etching mask when the projections are formed by selectively etching the metal layer for forming the projections, and the metal layer used as the etching mask even after the formation of the projections. 5. A state in which the surface of the protrusion is entirely covered with the metal layer by leaving the metal layer.
The manufacturing method of the printed circuit board according to the above.
【請求項6】 請求項1記載の配線回路基板の上記突起
及び上記層間絶縁膜が形成された側の面に、上記導体回
路とは別の導体回路を形成する導体回路形成用の金属箔
を積層して加圧加熱することにより一体化し、 その後、上記導体回路形成用の金属層及び導体回路形成
用の金属箔を選択的にエッチングすることにより両面に
導体回路を形成することを特徴とする配線回路基板の製
造方法。
6. A conductive circuit forming metal foil for forming a conductor circuit different from the conductor circuit on a surface of the printed circuit board according to claim 1 on which the protrusions and the interlayer insulating film are formed. It is characterized by laminating and integrating by heating under pressure, and thereafter, by selectively etching the metal layer for forming the conductor circuit and the metal foil for forming the conductor circuit, conductor circuits are formed on both surfaces. Manufacturing method of printed circuit board.
【請求項7】 請求項6の配線回路基板の製造方法によ
り製造された第1の配線回路基板と、導体回路形成用金
属層上に、該金属層とは別の金属から成るエッチングバ
リア層を介して金属から成る突起が、選択的に形成さ
れ、上記導体回路の上記突起が形成された側の面に層間
絶縁層が形成され、上記突起が上記絶縁層を貫通して上
記導体回路となる金属層と他との層間接続手段を成して
いる2個の第2の配線回路基板を用意し、 上記第1の配線回路基板の両面に、上記2個の第2の配
線回路基板を、この配線回路基板の突起及び層間絶縁膜
の形成された側の面が内側を向くようにサンドイッチ状
に重ねて積層して加圧加熱することにより一体化し、 上記一体化されたものの両面に位置する2つの導体回路
形成用金属層を選択的にエッチングすることにより両面
に導体回路を形成することを特徴とする配線回路基板の
製造方法。
7. An etching barrier layer made of a metal different from the metal layer on the first printed circuit board manufactured by the method for manufacturing a printed circuit board according to claim 6, and a metal layer for forming a conductor circuit. A protrusion made of a metal is selectively formed, and an interlayer insulating layer is formed on the surface of the conductor circuit on the side where the protrusion is formed, and the protrusion penetrates the insulating layer to form the conductor circuit. Preparing two second printed circuit boards forming an interlayer connection means between a metal layer and another, and mounting the two second printed circuit boards on both surfaces of the first printed circuit board, The printed circuit board is stacked and laminated in a sandwich shape such that the surface on the side where the protrusions and the interlayer insulating film are formed face inward, integrated by pressing and heating, and located on both surfaces of the integrated body. Selectively etch two conductor circuit forming metal layers Method of manufacturing a printed circuit board and forming a conductor circuit on both sides by Rukoto.
【請求項8】 一層又は多層の導体回路の一方の主面に
開口を有した絶縁層を介して導体形成用金属層からなり
上記開口を通じて上記導体回路と電気的に接続された突
起を形成し上記絶縁層の該突起が形成された側に層間絶
縁膜を形成した2個の配線回路基板を、突起及び層間絶
縁膜が形成された側が内側を向くように直接に又は配線
回路基板を介して積層加圧されて一体化されたことを特
徴とする配線回路基板。
8. A single-layer or multi-layer conductor circuit comprising a conductor-forming metal layer via an insulating layer having an opening on one main surface thereof, and a projection electrically connected to the conductor circuit through the opening. The two wiring circuit boards each having an interlayer insulating film formed on the side of the insulating layer on which the protrusion is formed, directly or via the wiring circuit board so that the side on which the protrusion and the interlayer insulating film are formed faces inward. A printed circuit board characterized by being laminated and pressed to be integrated.
【請求項9】 一層又は多層の導体回路の一方の主面に
開口を有した絶縁層を介して導体回路形成用金属層から
なり上記開口を通じて上記導体回路と電気的に接続され
た突起を形成し上記絶縁層の該突起が形成された側に層
間絶縁膜を形成した2個の配線回路基板を用意し、 上記2個の配線回路基板を上記突起及び層間絶縁膜が形
成された側が内側を向くようにして直接に又は別の配線
回路基板を介して積層加圧して一体化することを特徴と
する配線回路基板の製造方法
9. A projection formed of a metal layer for forming a conductor circuit via an insulating layer having an opening on one main surface of a single-layer or multilayer conductor circuit and electrically connected to the conductor circuit through the opening. Then, two printed circuit boards having an interlayer insulating film formed on the side of the insulating layer on which the protrusions are formed are prepared, and the two printed circuit boards are arranged such that the side on which the protrusions and the interlayer insulating film are formed has an inner side. A method for manufacturing a printed circuit board, comprising: stacking and integrating the printed circuit board directly or through another printed circuit board so as to face the printed circuit board.
【請求項10】 請求項8に記載された配線回路基板の
両面にLSIチップ若しくはパッケージを搭載されてな
ることを特徴とする配線回路基板。
10. A printed circuit board comprising: an LSI chip or a package mounted on both sides of the printed circuit board according to claim 8.
【請求項11】 導体回路を成す金属層上に、該金属層
とは同じ金属から成る上下導体間接続用突起が、選択的
に形成され、 上記導体回路の上記突起が形成された側の面に層間絶縁
層が形成され、 上記上下導体間接続用突起が上記絶縁層を貫通して上記
導体回路となる金属層と他との層間接続手段を成してい
ることを特徴とする配線回路基板。
11. An upper and lower conductor connection protrusion made of the same metal as the metal layer is selectively formed on a metal layer forming a conductor circuit, and a surface of the conductor circuit on a side on which the protrusion is formed. A wiring circuit board, wherein the upper and lower conductor connecting projections penetrate the insulating layer to form an interlayer connecting means with the metal layer which becomes the conductor circuit. .
【請求項12】 第1の導体回路を成す金属層上に、該
金属層とは同じ金属から成る上下導体間接続用突起が、
選択的に形成され、 上記導体回路の上記突起が形成された側の面に層間絶縁
層が該突起に貫通された状態で形成され、 上記突起及び上記層間絶縁層の表面に金属層からなる第
2の導体回路が形成され、 上記第1と第2の導体回路が上記突起を介して電気的に
接続されたことを特徴とする配線回路基板。
12. A projection for connecting upper and lower conductors made of the same metal as the metal layer on a metal layer forming the first conductor circuit.
An interlayer insulating layer is formed selectively on the surface of the conductor circuit on the side where the protrusion is formed, in a state where the interlayer insulating layer is penetrated by the protrusion, and the surface of the protrusion and the interlayer insulating layer is formed of a metal layer. A printed circuit board, wherein two conductor circuits are formed, and the first and second conductor circuits are electrically connected via the protrusions.
【請求項13】 上記第2の導体回路を成す金属層の上
記上下導体間接続用突起と対応する部分に該突起の頂部
における径よりも小さな径の孔が形成されてなることを
特徴とする請求項12記載の配線回路基板。
13. A metal layer forming the second conductor circuit, wherein a hole having a diameter smaller than the diameter at the top of the projection is formed in a portion corresponding to the projection for connection between the upper and lower conductors. The printed circuit board according to claim 12.
【請求項14】 上記突起が槍状に形成されたことを特
徴とする請求項11、12又は13記載の配線回路基
板。
14. The printed circuit board according to claim 11, wherein the projection is formed in a spear shape.
【請求項15】 上記突起がコニーデ状に形成されたこ
とを特徴とする請求項11、12又は13記載の配線回
路基板。
15. The printed circuit board according to claim 11, wherein the projection is formed in a conide shape.
【請求項16】 上記突起が鼓状に形成されたことを特
徴とする請求項11、12又は13記載の配線回路基
板。
16. The printed circuit board according to claim 11, wherein the projection is formed in a drum shape.
【請求項17】 上記突起の表面が粗化或いはつぶメッ
キされたことを特徴とする請求項11、12、13、1
4、15又は16記載の配線回路基板。
17. The method according to claim 11, wherein the surface of the projection is roughened or crushed.
17. The printed circuit board according to 4, 15, or 16.
【請求項18】 突起が銅からなり、その表面が電解ク
ロメート処理されてなることを特徴とする請求項11、
12、13、14、15、16又は17記載の配線回路
基板。
18. The projection according to claim 11, wherein the projection is made of copper, and its surface is subjected to electrolytic chromate treatment.
The printed circuit board according to 12, 13, 14, 15, 16 or 17.
【請求項19】 導体回路を成す金属層と突起を形成す
るための金属板を用意し、その一方の表面に選択的にマ
スク膜を形成する工程と、 上記マスク膜をマスクとして上記金属板をハーフエッチ
ングすることにより導体回路となる金属層とその上記一
方の表面に一体に選択的に形成された突起を形成する工
程と、 上記導体回路となる金属層の上記突起が形成された側の
表面に層間絶縁層を介して金属層を積層する工程と、 上記絶縁層の両方の表面の金属層を同時又は異時に選択
的にパターニングすることにより配線膜を形成する工程
と、 を有することを特徴とする配線回路基板の製造方法。
19. A step of preparing a metal layer for forming a conductive layer and a metal plate for forming a projection, selectively forming a mask film on one surface thereof, and using the mask film as a mask to form the metal plate. Forming a metal layer to be a conductor circuit by half-etching and a projection selectively formed integrally on the one surface of the metal layer; and a surface of the metal layer to be the conductor circuit on a side on which the projection is formed. Laminating a metal layer with an interlayer insulating layer interposed therebetween; and forming a wiring film by selectively patterning the metal layers on both surfaces of the insulating layer simultaneously or at different times. Manufacturing method of a printed circuit board.
【請求項20】 上記上下導体間接続用突起とそれに接
続される上記金属層との間に異方性導電層を介在させた
ことを特徴とする請求項12又は13記載の配線回路基
板の製造方法。
20. The printed circuit board according to claim 12, wherein an anisotropic conductive layer is interposed between the upper and lower conductor connecting projections and the metal layer connected thereto. Method.
【請求項21】 金属層を積層する前に、上記突起と該
金属層との間に異方性導電膜を介在させる工程を有する
ことを特徴とする請求項19記載の配線回路基板の製造
方法。
21. The method according to claim 19, further comprising a step of interposing an anisotropic conductive film between the protrusion and the metal layer before laminating the metal layer. .
【請求項22】 金属層の表面に多数の金属からなる導
体間接続用突起を一定の間隔をおいて配列された格子の
各交点上に配置し、 上記金属層の上記導体間接続用突起が形成された表面上
に層間絶縁層を該導体間接続用突起に貫通された状態で
設け、 上記層間絶縁層の上記上下導体間接続用突起を含む表面
に金属層を形成してなることを特徴とする配線回路基
板。
22. A plurality of inter-conductor connection projections made of a plurality of metals are arranged on the surface of a metal layer at respective intersections of a grid arranged at regular intervals, and the inter-conductor connection projections of the metal layer are An interlayer insulating layer is provided on the formed surface in a state of being penetrated by the inter-conductor connection projections, and a metal layer is formed on a surface of the inter-layer insulation layer including the upper and lower conductor connection projections. Printed circuit board.
【請求項23】 金属層の表面に多数の金属からなる導
体間接続用突起を配置し、 上記金属層の上記導体間接続用突起が形成された表面上
に層間絶縁層を該突起に貫通された状態で設け、 上記層間絶縁層の上記導体間接続用突起を含む表面に上
記金属層とは別の金属層を形成してなる配線回路基板で
あって、 上記各上下導体間接続用突起を、上記基板両面から加圧
したとき各上下導体間接続用突起が均一な加圧力を受け
るように配置してなることを特徴とする配線回路基板。
23. A plurality of inter-conductor connection projections made of a plurality of metals are arranged on a surface of a metal layer, and an interlayer insulating layer is penetrated by the projections on the surface of the metal layer on which the inter-conductor connection projections are formed. A wiring circuit board formed by forming a metal layer different from the metal layer on the surface of the interlayer insulating layer including the inter-conductor connection protrusions, wherein the upper and lower conductor connection protrusions are provided. A wiring circuit board, wherein the connection projections between the upper and lower conductors are arranged to receive a uniform pressing force when pressure is applied from both sides of the board.
【請求項24】 金属層の表面に多数の金属からなる導
体間接続用突起を配置し、 上記金属層の上記導体間接続用突起が形成された表面上
に層間絶縁層を該突起に貫通された状態で設け、 上記層間絶縁層の上記導体間接続用突起を含む表面に上
記金属層とは別の金属層を形成してなる配線回路基板で
あって、 上記上下導体間接続用突起の周辺又は上下導体間が密集
した密集領域の周辺に上下導体間接続用突起よりも背の
小さなダミー突起を配置してなることを特徴とする配線
回路基板。
24. A plurality of inter-conductor connection protrusions made of metal are arranged on a surface of a metal layer, and an interlayer insulating layer is penetrated by the protrusions on the surface of the metal layer on which the inter-conductor connection protrusions are formed. A wiring circuit board having a metal layer different from the metal layer formed on the surface of the interlayer insulating layer including the inter-conductor connection projections, wherein the periphery of the upper and lower conductor connection projections is provided. Alternatively, a printed circuit board characterized by arranging a dummy projection smaller in height than a connection projection between upper and lower conductors around a dense area where the upper and lower conductors are densely arranged.
【請求項25】 金属層の表面に多数の金属からなる導
体間接続用突起を配置し、 上記金属層の上記導体間接続用突起が形成された表面上
に層間絶縁層を該突起に貫通された状態で設け、 上記層間絶縁層の上記導体間接続用突起を含む表面に上
記金属層とは別の金属層を形成してなる配線回路基板で
あって、 上下導体間接続用突起が複数通りの異なる高さを持つよ
うにされたことを特徴とする配線回路基板
25. An inter-conductor connection projection made of a large number of metals is arranged on the surface of a metal layer, and an interlayer insulating layer is penetrated by the projection on the surface of the metal layer on which the inter-conductor connection projection is formed. A wiring circuit board formed by forming a metal layer different from the metal layer on the surface of the interlayer insulating layer including the inter-conductor connection projections, wherein a plurality of upper and lower inter-conductor connection projections are provided. Printed circuit board characterized by having different heights
【請求項26】 金属層の表面に多数の金属からなる導
体間接続用突起を配置し、 上記金属層の上記導体間接続用突起が形成された表面上
に層間絶縁層を該突起に貫通された状態で設け、 上記層間絶縁層の上記導体間接続用突起を含む表面に上
記金属層とは別の金属層を形成してなる配線回路基板で
あって、 上下導体間接続用突起が複数通りの異なる径を持つよう
にされたことを特徴とする配線回路基板
26. An inter-conductor connection projection made of a large number of metals is disposed on a surface of a metal layer, and an interlayer insulating layer is penetrated by the projection on a surface of the metal layer on which the inter-conductor connection projection is formed. A wiring circuit board formed by forming a metal layer different from the metal layer on the surface of the interlayer insulating layer including the inter-conductor connection projections, wherein a plurality of upper and lower inter-conductor connection projections are provided. Printed circuit board characterized by having different diameters
【請求項27】 金属層の表面に多数の金属からなる導
体間接続用突起を配置し、 上記金属層の上記導体間接続用突起が形成された表面上
に層間絶縁層を該突起に貫通された状態で設け、 上記層間絶縁層の上記導体間接続用突起を含む表面に上
記金属層とは別の金属層を形成してなる配線回路基板で
あって、 上下導体間接続用突起と同じ材料で同じ高さで形成され
たスペーサを有することを特徴とする配線回路基板
27. An inter-conductor connection projection made of a large number of metals is arranged on the surface of a metal layer, and an interlayer insulating layer is penetrated by the projection on the surface of the metal layer on which the inter-conductor connection projection is formed. A wiring circuit board formed by forming a metal layer different from the metal layer on the surface of the interlayer insulating layer including the inter-conductor connection protrusions, the same material as the upper and lower conductor connection protrusions Printed circuit board having spacers formed at the same height
【請求項28】 金属層の表面に多数の金属からなる導
体間接続用突起を配置し、 上記金属層の上記導体間接続用突起が形成された表面上
に層間絶縁層を該突起に貫通された状態で設け、 上記層間絶縁層の上記導体間接続用突起を含む表面に上
記金属層とは別の金属層を形成してなり、 上下導体間接続用突起と同じ材料で同じ高さで形成され
たスペーサを有する配線回路基板の製造方法であって、 上記上下導体間接続用突起と同じ工程でスペーサを形成
することを特徴とする配線回路基板の製造方法。
28. A plurality of inter-conductor connection projections made of a plurality of metals are arranged on a surface of a metal layer, and an interlayer insulating layer is penetrated by the projections on the surface of the metal layer on which the inter-conductor connection projections are formed. A metal layer different from the metal layer is formed on the surface of the interlayer insulating layer including the inter-conductor connection protrusions, and is formed of the same material and at the same height as the upper and lower conductor connection protrusions A method for manufacturing a printed circuit board having a spacer formed, wherein the spacer is formed in the same step as the step of connecting the upper and lower conductors.
【請求項29】 金属層の表面に多数の金属からなる導
体間接続用突起を配置し、 上記金属層の上記導体間接続用突起が形成された表面上
に層間絶縁層を該突起に貫通された状態で設け、 上記層間絶縁層の上記導体間接続用突起を含む表面に上
記金属層とは別の金属層を形成してなる、 上記上下導体間接続用突起と同じ材料で同じ高さに形成
された認識マークを有することを特徴とする配線回路基
板。
29. A plurality of inter-conductor connection protrusions made of metal are arranged on a surface of a metal layer, and an interlayer insulating layer is penetrated by the protrusions on the surface of the metal layer on which the inter-conductor connection protrusions are formed. A metal layer different from the metal layer is formed on the surface of the interlayer insulating layer including the inter-conductor connection projections. The same material and the same height as the upper and lower inter-conductor connection projections are used. A printed circuit board having a recognition mark formed thereon.
【請求項30】 金属層の表面に多数の金属からなる導
体間接続用突起を配置し、上記金属層の上記導体間接続
用突起が形成された表面上に層間絶縁層を該突起に貫通
された状態で設け、上記層間絶縁層の上記導体間接続用
突起を含む表面に上記金属層とは別の金属層を形成して
なり、上記上下導体間接続用突起と同じ材料で同じ高さ
に形成された認識マークを有する配線回路基板の製造方
法であって、 上記上下導体間接続用突起と同じ工程で認識マークを形
成することを特徴とする配線回路基板の製造方法。
30. A plurality of inter-conductor connection projections made of a metal are arranged on a surface of a metal layer, and an interlayer insulating layer is penetrated by the projections on the surface of the metal layer on which the inter-conductor connection projections are formed. A metal layer different from the metal layer is formed on the surface of the interlayer insulating layer including the inter-conductor connection projections, and is made of the same material and has the same height as the upper and lower inter-conductor connection projections. What is claimed is: 1. A method for manufacturing a printed circuit board having a formed recognition mark, wherein the recognition mark is formed in the same step as the step for connecting the upper and lower conductors.
【請求項31】 絶縁性樹脂からなるベースの上下両表
面に金属層からなる配線回路が形成され、上記両表面の
配線間を電気的に接続するスルーホールが上記ベースを
成す絶縁性樹脂に形成されたコアとなる回路基板と、 上記回路基板の両表面に、それぞれ、金属層からなり選
択的に形成された上下導体間接続用突起を有する配線回
路の突起形成側の面に絶縁層が該上下導体間接続用突起
によって貫通された状態で形成された別の回路基板を、
その上下導体間接続用突起の先端が上記金属層からなる
配線回路に接続される状態で積層した配線回路基板であ
って、 上記上下導体間接続用突起と上記配線回路とが導電ペー
スト又は貴金属層を介して接続されたことを特徴とする
配線回路基板。
31. A wiring circuit made of a metal layer is formed on both upper and lower surfaces of a base made of an insulating resin, and through holes for electrically connecting wires on both surfaces are formed in the insulating resin forming the base. A circuit board serving as a core, and an insulating layer formed on a surface on the protrusion forming side of a wiring circuit having upper and lower conductor connection protrusions formed of a metal layer on both surfaces of the circuit board, respectively. Another circuit board formed in a state penetrated by the upper and lower conductor connection projections,
A wiring circuit board laminated in a state where tips of the upper and lower conductor connecting projections are connected to a wiring circuit made of the metal layer, wherein the upper and lower conductor connecting projections and the wiring circuit are made of a conductive paste or a noble metal layer. A printed circuit board, wherein the printed circuit board is connected to the printed circuit board.
【請求項32】 絶縁性樹脂からなるベースの上下両表
面に金属層からなる配線回路が形成され、上記両表面の
配線間を電気的に接続するスルーホールが上記ベースを
成す絶縁性樹脂に形成されたコアとなる回路基板と、該
回路基板の両表面に、それぞれ、金属層からなり選択的
に形成された上下導体間接続用突起を有する配線回路の
突起形成側の面に絶縁層が該上下導体間接続用突起によ
って貫通された状態で形成された別の回路基板を、その
上下導体間接続用突起の先端が上記金属層からなる配線
回路に導電ペースト又は貴金属層を介して接続された状
態で積層された配線回路基板の製造方法であって、 上記コアとなる回路基板と、その両表面に別の回路基板
を積層する前に、予め該コアとなる回路基板の配線回路
を成す金属層の表面に、導電ペースト又は貴金属層を形
成しておくことを特徴とする配線回路基板の製造方法。
32. Wiring circuits made of a metal layer are formed on both upper and lower surfaces of a base made of an insulating resin, and through holes for electrically connecting wirings on both surfaces are formed in the insulating resin forming the base. A circuit board serving as a core, and an insulating layer formed on a surface on a protrusion forming side of a wiring circuit having upper and lower conductor connection protrusions formed of a metal layer on both surfaces of the circuit board, respectively. Another circuit board formed in a state penetrated by the upper and lower conductor connecting projections was connected to the wiring circuit made of the metal layer via a conductive paste or a noble metal layer at the tip of the upper and lower conductor connecting projections. A method for manufacturing a wired circuit board laminated in a state, wherein a metal forming a wiring circuit of the circuit board serving as the core in advance before laminating another circuit board on both surfaces of the circuit board serving as the core On the surface of the layer Method of manufacturing a printed circuit board, characterized in that previously formed the conductive paste or a noble metal layer.
【請求項33】 導体回路を成す金属層上に、該金属層
とは同じ金属から成る上下導体間接続用突起が、選択的
に形成され、 上記導体回路の上記上下導体間接続用突起が形成された
側の面に層間絶縁層が該上下導体間接続用突起によって
貫通された状態で形成され、 上記層間絶縁層上に、上記導体回路とは別の導体回路を
成す金属層の一表面に上記上下導体間接続用突起と対応
して半田、導電ペースト又は貴金属膜が形成されたもの
の上記一表面が、その半田、導電ペースト又は貴金属膜
に上記上下導体間接続用突起が接続されるように積層さ
れてなることを特徴とする配線回路基板。
33. An upper and lower conductor connection projection made of the same metal as the metal layer is selectively formed on a metal layer forming a conductor circuit, and the upper and lower conductor connection projection of the conductor circuit is formed. An interlayer insulating layer is formed in a state penetrated by the upper and lower conductor connecting protrusions on the surface on the side of the metal layer, and on one surface of a metal layer forming a conductor circuit different from the conductor circuit on the interlayer insulating layer. Although the solder, conductive paste or noble metal film is formed corresponding to the upper and lower conductor connecting projections, the one surface is connected to the solder, conductive paste or noble metal film by the upper and lower conductor connecting protrusions. A printed circuit board characterized by being laminated.
【請求項34】 上記別の導体回路を成す金属膜の上記
上下導体間接続用突起と対応と対応する部分に大きい孔
を有することを特徴とする請求項33記載の配線回路基
板。
34. The printed circuit board according to claim 33, wherein the metal film forming the another conductor circuit has a large hole at a portion corresponding to the protrusion between the upper and lower conductors.
【請求項35】 導体回路を成す金属層上に、該金属層
とは同じ金属から成る上下導体間接続用突起が、選択的
に形成され、 上記導体回路の上記上下導体間接続用突起が形成された
側の面に層間絶縁層が該上下導体間接続用突起によって
貫通された状態で形成され、 上記層間絶縁層上に、上記導体回路とは別の導体回路を
成す金属層の一表面に上記上下導体間接続用突起と対応
して半田、導電ペースト又は貴金属膜が形成されたもの
の上記一表面が、その半田、導電ペースト又は貴金属膜
に上記上下導体間接続用突起が接続されるように積層さ
れてなることを特徴とする配線回路基板。
35. An upper and lower conductor connection projection made of the same metal as the metal layer is selectively formed on a metal layer forming a conductor circuit, and the upper and lower conductor connection projection of the conductor circuit is formed. An interlayer insulating layer is formed in a state penetrated by the upper and lower conductor connecting protrusions on the surface on the side of the metal layer, and on one surface of a metal layer forming a conductor circuit different from the conductor circuit on the interlayer insulating layer. Although the solder, conductive paste or noble metal film is formed corresponding to the upper and lower conductor connecting projections, the one surface is connected to the solder, conductive paste or noble metal film by the upper and lower conductor connecting protrusions. A printed circuit board characterized by being laminated.
【請求項36】 導体回路を成す金属層上に、該金属層
とは同じ金属から成る上下導体間接続用突起が選択的に
形成され、上記導体回路の上記上下導体間接続用突起が
形成された側の面に層間絶縁層が該上下導体間接続用突
起によって貫通された状態で形成され、上記層間絶縁層
上に、上記導体回路とは別の導体回路を成す金属層の一
表面に上記上下導体間接続用突起と対応して半田、導電
ペースト又は貴金属膜が形成したものの上記一表面が、
その半田、導電ペースト又は貴金属膜に上記上下導体間
接続用突起が接続されるように積層されてなる配線回路
基板の製造方法において、 導体回路となる金属層上に、該金属層とは同じ金属から
成る上下導体間接続用突起が選択的に形成したものの上
下導体間接続用突起形成側に、層間絶縁層を介して、上
記導体回路とは別の導体回路となる金属層上に上記上下
導体間接続用突起に対応して半田、導電ペースト又は貴
金属膜を印刷したものの該半田、導電ペースト又は貴金
属膜形成側を当てて加圧することにより、上記各上下導
体間接続用突起が上記層間絶縁層を突き破って対応する
半田、導電ペースト又は貴金属膜に接続された状態を形
成して積層することを特徴とする配線回路基板の製造方
法。
36. A connecting protrusion between upper and lower conductors made of the same metal as the metal layer is selectively formed on a metal layer forming a conductive circuit, and the connecting protrusion between upper and lower conductors of the conductive circuit is formed. An interlayer insulating layer is formed on the surface of the metal layer forming a conductor circuit different from the conductor circuit on the interlayer insulation layer. Although the solder, conductive paste or noble metal film is formed in correspondence with the upper and lower conductor connection projections, the one surface is
In a method for manufacturing a printed circuit board, wherein the solder, conductive paste, or noble metal film is laminated so that the above-mentioned protrusion for connection between upper and lower conductors is connected, the same metal as the metal layer is formed on a metal layer to be a conductor circuit The upper and lower conductors are selectively formed on the side of the upper and lower conductor connection projections formed on the metal layer to be a conductor circuit different from the conductor circuit via an interlayer insulating layer. The solder, conductive paste or noble metal film forming side is printed in correspondence with the inter-connecting projections, and the solder, the conductive paste or the noble metal film forming side is pressed and pressed, so that each of the upper and lower conductor connecting projections becomes the interlayer insulating layer. And forming a state of being connected to the corresponding solder, conductive paste or noble metal film, and laminating the same.
【請求項37】 金属層に上下導体間接続用突起を形成
したものに層間絶縁膜を介して導体回路を成す或いは導
体回路となる金属層、又は回路基板を積層した配線回路
基板において、 上記層間絶縁膜として異方性導電膜を用いたことを特徴
とする配線回路基板。
37. A printed circuit board in which a conductor circuit is formed or formed as a conductor circuit via an interlayer insulating film on a metal layer having projections for connecting the upper and lower conductors formed thereon, or a printed circuit board in which a circuit board is laminated. A printed circuit board characterized by using an anisotropic conductive film as an insulating film.
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