JP5261756B1 - Multilayer wiring board - Google Patents
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Abstract
【課題】低コストで薄型化を図り、基板強度を低下させずに接続信頼性を向上させる。
【解決手段】多層配線基板1は、少なくとも一方の面に配線12,32が形成され導電性ペーストビア13,33が形成された第1及び第3プリント配線基板10,30を第2プリント配線基板20と共に積層してなり、電子部品端子19及び電子部品端子19と端子ピッチが異なる基板端子39を有すると共に、電子部品90が搭載される基板である。電子部品90の搭載部の下部に、第1プリント配線基板10よりも配線ピッチが小さい第4プリント配線基板40が内蔵され、第4プリント配線基板40は、第1プリント配線基板10の導電性ペーストビア13を介して電子部品端子19と接続され、その両面に電子部品90との接続ピッチを拡大させる配線パターン42,43が形成されている。
【選択図】図1To reduce the thickness at low cost and improve the connection reliability without reducing the strength of the substrate.
A multilayer wiring board 1 includes first and third printed wiring boards 10 and 30 having wirings 12 and 32 formed on at least one surface and conductive paste vias 13 and 33 formed on the second printed wiring board. 20 is a substrate on which an electronic component 90 is mounted while having an electronic component terminal 19 and a substrate terminal 39 having a terminal pitch different from that of the electronic component terminal 19. A fourth printed wiring board 40 having a wiring pitch smaller than that of the first printed wiring board 10 is built in a lower portion of the mounting portion of the electronic component 90, and the fourth printed wiring board 40 is a conductive paste of the first printed wiring board 10. Wiring patterns 42 and 43 that are connected to the electronic component terminal 19 through the via 13 and expand the connection pitch with the electronic component 90 are formed on both sides thereof.
[Selection] Figure 1
Description
この発明は、電子部品が搭載される多層配線基板に関する。 The present invention relates to a multilayer wiring board on which electronic components are mounted.
近年の電子機器の小型化に伴い、半導体チップ等の電子部品の高密度化や小型化及び電子部品端子の狭ピッチ化などが進んでいる。これに付随して、電子部品を実装する配線基板の実装面積の縮小化や微細化も進展している。このような現状の下、配線基板の多層化も推し進められており、層間接続における接続信頼性の確保は必須の要件となっている。 With recent miniaturization of electronic devices, the density and size of electronic components such as semiconductor chips and the pitch of electronic component terminals have been reduced. Accompanying this, reduction and miniaturization of the mounting area of the wiring board on which the electronic components are mounted are also progressing. Under such circumstances, multilayered wiring boards are being promoted, and ensuring connection reliability in interlayer connection is an essential requirement.
配線基板を多層化した構造の多層配線基板は、例えば微細な配線ピッチを有する電子部品を、マザーボードなどの比較的配線ピッチが粗い実装基板に実装するためのインターポーザを備えた基板として用いられることがある(特許文献1,2参照)。 A multilayer wiring board having a multilayered wiring board structure may be used as a board having an interposer for mounting an electronic component having a fine wiring pitch, for example, on a mounting board having a relatively coarse wiring pitch such as a mother board. Yes (see Patent Documents 1 and 2).
しかしながら、上述した特許文献1に開示された従来技術の多層配線基板では、インターポーザである耐熱性基板がシリコン(Si)基板からなるため、電子部品端子数が増えれば増えるほど薄型化が難しく、結果として基板全体の厚みが増してしまうという問題がある。また、上記の従来技術は基本的にはビルドアップ型であり、製造コストも高い。 However, in the conventional multilayer wiring board disclosed in Patent Document 1 described above, since the heat-resistant substrate as an interposer is made of a silicon (Si) substrate, it is difficult to reduce the thickness as the number of electronic component terminals increases. There is a problem that the thickness of the entire substrate increases. Further, the above-described conventional technology is basically a build-up type, and the manufacturing cost is high.
また、上述した特許文献2に開示された従来技術の多層配線基板では、プリント基板からなるインターポーザを最表層に配置しているため、コスト及び物理的安定性の面で改良の余地を有する。
Moreover, in the multilayer wiring board of the prior art disclosed in
この発明は、上述した従来技術による問題点を解消し、低コストで薄型化を図り、基板強度を低下させずに接続信頼性を向上させることができる多層配線基板を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a multilayer wiring board capable of solving the above-described problems caused by the prior art, reducing the thickness at low cost, and improving the connection reliability without reducing the board strength. .
本発明に係る多層配線基板は、少なくとも一方の面に配線パターンが形成され導電性ペーストビアが形成された複数の配線基板を、接着層を介して積層してなり、電子部品端子及び前記電子部品端子と端子ピッチが異なる基板端子を有すると共に、前記電子部品端子を介して電子部品が搭載される多層配線基板において、前記複数の配線基板は、同様の厚さの第1の配線基板、第2の配線基板、第3の配線基板及び第4の配線基板を有し、前記第2の配線基板は、前記第4の配線基板が収容される開口部を有し、前記開口部に収容された前記第4の配線基板と共に前記第1の配線基板及び前記第3の配線基板の間に配置され、前記第4の配線基板は、前記第1の配線基板、前記第2の配線基板及び前記第3の配線基板よりも配線ピッチが小さく、前記電子部品の搭載部の下部の前記1の配線基板及び前記第3の配線基板の間に内蔵され、前記第1の配線基板の導電性ペーストビアを介して前記電子部品端子と接続され、その両面に前記電子部品端子から前記基板端子へと前記端子ピッチを拡大させるパターンが形成され、前記両面のパターンを接続するビアを有することを特徴とする。 A multilayer wiring board according to the present invention is formed by laminating a plurality of wiring boards having a wiring pattern formed on at least one surface and a conductive paste via formed via an adhesive layer, and an electronic component terminal and the electronic component In the multilayer wiring board having board terminals having terminal pitches different from those of the terminals and mounting electronic parts via the electronic part terminals, the plurality of wiring boards are a first wiring board and a second wiring board having the same thickness. Wiring board, a third wiring board, and a fourth wiring board, and the second wiring board has an opening in which the fourth wiring board is accommodated, and is accommodated in the opening. The fourth wiring board is disposed between the first wiring board and the third wiring board together with the fourth wiring board, and the fourth wiring board includes the first wiring board, the second wiring board, and the second wiring board. The wiring pitch is smaller than 3 wiring boards , Wherein the lower portion of the mounting portion of the electronic component is embedded between the first wiring board and the third wiring board, it is connected to the electronic component terminal via the conductive paste via the previous SL first wiring board A pattern for enlarging the terminal pitch from the electronic component terminal to the board terminal is formed on both sides thereof, and a via for connecting the patterns on both sides is provided.
本発明に係る多層配線基板によれば、電子部品の搭載部の下部に、第1の配線基板を介して、インターポーザとしての第4の配線基板が内蔵され、第4の配線基板には、両面に電子部品端子から基板端子へと端子ピッチを拡大させるパターンが形成され、両面のパターンを接続するビアを有するものとなっている。このように、導電性ペーストビアが形成された第1の配線基板を積層する際の内蔵電子部品と同様の工程で電子部品と接続されるインターポーザとしての第4の配線基板を内蔵しているので、従来のものと比較して低コストで薄型化を図ることができると共に、基板強度を低下させずに接続信頼性を向上させることができる。 According to the multilayer wiring board according to the present invention, the lower portion of the mounting portion of the electronic component, through the first wiring board, a built-in fourth wiring board as an interposer, a fourth wiring board, double-sided A pattern for expanding the terminal pitch from the electronic component terminal to the board terminal is formed and has vias for connecting the patterns on both sides. As described above, since the fourth wiring board as the interposer connected to the electronic component is built in the same process as the built-in electronic component when the first wiring board formed with the conductive paste via is laminated, In addition, the thickness can be reduced at a lower cost than the conventional one, and the connection reliability can be improved without reducing the substrate strength.
本発明の一実施形態においては、前記第4の配線基板は、単層であり、また、前記第1の配線基板、前記第2の配線基板、前記第3の配線基板及び前記第4の配線基板は、樹脂基板により形成されたものである。 In one embodiment of the present invention, the fourth wiring board is a single layer, and the first wiring board , the second wiring board , the third wiring board, and the fourth wiring board. The substrate is formed of a resin substrate.
本発明の他の実施形態においては、前記電子部品端子のうち、最も外側の電子部品端子は、前記電子部品が搭載される前記第1の配線基板の前記電子部品端子と連続するパターンによって端子ピッチを拡大されて前記第4の配線基板を介さずに前記導電性ペーストビアを介して前記基板端子と接続されている。 In another embodiment of the present invention, among the electronic component terminals, the outermost electronic component terminal has a terminal pitch according to a pattern continuous with the electronic component terminal of the first wiring board on which the electronic component is mounted. And is connected to the substrate terminal via the conductive paste via without passing through the fourth wiring board.
本発明によれば、低コストで薄型化を図り、基板強度を低下させずに接続信頼性を向上させることができる。また、効率的に配線ピッチを拡大することもできる。 According to the present invention, it is possible to reduce the thickness at a low cost and to improve the connection reliability without reducing the substrate strength. Also, the wiring pitch can be expanded efficiently.
以下、添付の図面を参照して、この発明の実施の形態に係る多層配線基板を詳細に説明する。 Hereinafter, a multilayer wiring board according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
図1は、本発明の一実施形態に係る多層配線基板の構造を示す断面図である。図1に示すように、本実施形態に係る多層配線基板1は、第1の配線基板である第1プリント配線基板10と、第2プリント配線基板20と、第3プリント配線基板30とを熱圧着により一括積層した多層構造を備えている。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing the structure of a multilayer wiring board according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the multilayer wiring board 1 according to the present embodiment heats a first printed
また、多層配線基板1は、第2プリント配線基板20の第2樹脂基材21に形成された開口部29内に、第1及び第3プリント配線基板10,30間に挟まれた状態で内蔵された第2の配線基板である第4プリント配線基板40を備えている。第4プリント配線基板40の配線ピッチは、後述するように、第1〜第3プリント配線基板10,20,30のそれよりも遙かに小さい。なお、多層配線基板1には、第1プリント配線基板10上に実装された電子部品90が備えられている。
In addition, the multilayer wiring board 1 is built in an opening 29 formed in the second
第1〜第3プリント配線基板10〜30は、それぞれ第1樹脂基材11、第2樹脂基材21及び第3樹脂基材31と、これら第1〜第3樹脂基材11〜31の少なくとも片面に形成された配線12,22,32とを備える。また、第1及び第3プリント配線基板10,30は、それぞれ第1及び第3樹脂基材11,31に形成された50〜150μm程度の径のビアホール2,3内に充填形成された導電性ペーストビア13,33を備える。
The 1st-3rd printed wiring boards 10-30 are the 1st
更に、第2プリント配線基板20は、第2樹脂基材21に形成された100μm程度の径のビアホール4内に第2樹脂基材21の両面を導通するように形成されためっきビア23を備える。これら第1〜第3プリント配線基板10〜30は、例えば片面銅張積層板(片面CCL)や両面銅張積層板(両面CCL)等を用いることができる。
Further, the second printed
本例では、第2プリント配線基板20が両面CCLに基づき形成され、それ以外の第1及び第3プリント配線基板10,30が片面CCLに基づき形成されている。従って、第2プリント配線基板20の配線22は第2樹脂基材21の両面に形成され、めっきビア23はこれら両面の配線22を層間接続している。
In this example, the second printed
なお、めっきビア23は、例えば一方の配線22を貫通させることなく、他方の配線22側から形成した貫通孔内にめっきを施した構造のLVHのめっきビアからなるもので、例えば銅(Cu)めっきにより形成されている。従って、一方の配線22上にはめっき層が形成されている。
The plating via 23 is made of an LVH plating via having a structure in which a through hole formed from the
その他、図示は省略するが、第2プリント配線基板20には、貫通孔内をめっきするめっきビア23の代わりに、貫通孔内に導電性ペーストを充填させた構造のビアを形成したり、配線22間を貫通する貫通穴内にめっきを施した構造のめっきスルーホールを形成したりしても良い。
In addition, although illustration is omitted, a via having a structure in which a conductive paste is filled in the through hole is formed on the second printed
一方、第4プリント配線基板40は、第4樹脂基材41と、この第4樹脂基材41の両面に形成された配線パターン42,43と、第4樹脂基材41に形成された10〜30μm程度の径のビアホール5内にめっき形成されて、これら配線パターン42,43を導通するフィルドめっきビア44とを備えている。
On the other hand, the fourth printed
配線パターン42,43は、電子部品90と多層配線基板1との接続ピッチを拡大させるようなパターンに形成され、ここでは上方の配線パターン42のパターンピッチよりも下方の配線パターン43のパターンピッチの方が広くなるように形成されている。本例では、第1〜第3プリント配線基板10,20,30の配線12,22,32の配線ピッチが80μmであるのに対し、第4プリント配線基板の配線パターン42,43の配線ピッチは、20μm程度に設定されている。
The
ここで、配線パターン42,43の配置態様について説明する。図2は、多層配線基板1の第4プリント配線基板40における両面の配線パターン42,43の一部を示す平面図である。また、図3は第4プリント配線基板40の一方の面の配線パターン42の一部を示す平面図、図4は第4プリント配線基板40の他方の面の配線パターン43の一部を示す平面図である。なお、これら図2〜図4における配線パターン42,43は、その配置態様をより把握し易くするために、図1における第4プリント配線基板40とはレイアウトや寸法等を異にして表示している。なお、図示の例は、配線パターン42,43の角の部分を一部示したものであって、実際には、縦方向下側及び横方向左側にも同様のパターンが連続する。
Here, the arrangement | positioning aspect of the
すなわち、図2に示すように、配線パターン42,43は、第4樹脂基材41にそれぞれパターンピッチが異なるようにパターン形成されているので、図示のように非常に細かくレイアウトして平面方向外側に引き出すことが可能となる。レイアウトの設計条件によって、例えば一方の面の配線パターン42において8行×8列分の電子部品端子19の端子ピッチを拡大することができるので、他方の面の配線パターン43と合わせると、16行×16列分の端子ピッチを一層分の厚みで拡大させることが可能となる。このような微細なレイアウトは、シリコンインターポーザ等では実現するためには厚みが著しく増すこととなるが、本実施形態の多層配線基板1であれば、一層分の厚みであっても、図3及び図4に示すように、微細な配線パターン42,43が短絡等することなく効率的に配線ピッチを拡大することができる。
That is, as shown in FIG. 2, the
第1〜第4樹脂基材11〜41は、それぞれ例えば厚さ25μm程度の樹脂フィルムにより形成されている。ここで、樹脂フィルムとしては、例えばポリイミド(PI)、ポリオレフィン(PO)、液晶ポリマー(LCP)などからなる樹脂フィルムや、熱硬化性のエポキシ樹脂(EP)からなる樹脂フィルム等を用いることができる。
The first to fourth
電子部品90は、例えばICチップなどの半導体部品や受動部品等であり、再配線を施したWLP(Wafer Level Package)からなる。電子部品90の電極形成面91bには、図示しないパッド上に形成された複数の再配線電極91が設けられている。また、再配線電極91の周囲の電極形成面91b上には、図示しない絶縁層が形成されている。なお、配線12,22,32は、銅箔などの導電材をパターン形成してなる。
The
導電性ペーストビア13,33を形成する導電性ペーストは、金、銀、銅、アルミニウム、鉄等から選択される少なくとも1種類の低電気抵抗の金属粒子と、錫、ビスマス、インジウム、鉛等から選択される少なくとも1種類の低融点の金属粒子とを含む。導電性ペーストは、例えばこれらの金属粒子に、エポキシ、アクリル、ウレタン等を主成分とするバインダ成分を混合したペーストからなる。
The conductive paste forming the
このように構成された導電性ペーストは、含有された低融点の金属粒子が200℃以下で溶融し合金を形成することができ、特に銅や銀などとは金属間化合物を形成することができる特性を備える。従って、導電性ペーストビア13,33と配線12,22,32,42,43及びめっきビア23との接続部は、一括積層の熱圧着時に金属間化合物により合金化される。
In the conductive paste thus configured, the contained low melting point metal particles can be melted at 200 ° C. or less to form an alloy, and particularly an intermetallic compound can be formed with copper or silver. With characteristics. Therefore, the connection portions between the
この場合、導電性ペーストは、金属粒子同士が接触することで電気的接続が行われる特性となる。導電性ペーストのビアホール2,3内への充填方法としては、例えば印刷工法、スピン塗布工法、スプレー塗布工法、ディスペンス工法、ラミネート工法、及びこれらを併用した工法などを採用することができる。 In this case, the conductive paste has a characteristic that electrical connection is made when the metal particles come into contact with each other. As a method of filling the conductive paste into the via holes 2 and 3, for example, a printing method, a spin coating method, a spray coating method, a dispensing method, a laminating method, and a method using these in combination can be employed.
なお、第1〜第4プリント配線基板10〜40は、予め第1及び第3プリント配線基板10,30に設けられた接着層9を介して積層されている。接着層9は、例えば熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂からなる。第4プリント配線基板40の配線パターン42,43及びフィルドめっきビア44は、第1〜第3プリント配線基板10〜30の配線12,22,32及び導電性ペーストビア13,33並びにめっきビア23と比べて、非常にファインピッチに形成されている。また、多層配線基板1は、第1プリント配線基板10の表面側に形成された電子部品端子19と、第3プリント配線基板30の裏面側に形成された基板端子39とを備える。
In addition, the 1st-4th printed wiring boards 10-40 are laminated | stacked via the
これら電子部品端子19及び基板端子39は、例えば半田などからなり、第1プリント配線基板10の第1樹脂基材11の表面側に形成された配線12上のソルダーレジスト18が被覆していない部分や、第3プリント配線基板30の第3樹脂基材31の裏面側に形成された配線32上のソルダーレジスト38が被覆していない部分に形成されている。
The
電子部品端子19は、電子部品90の再配線電極91と接続され、基板端子39は、実装基板のランドと接続される。電子部品端子19は、再配線電極91に配置ピッチ合わせて狭い端子ピッチで形成され、基板端子39は、電子部品端子19の端子ピッチよりも広い端子ピッチで形成されている。
The
このように構成された多層配線基板1においては、第1プリント配線基板10において、電子部品90の最外側の再配線電極91と接続される電子部品端子19が形成された配線12が、電子部品90の搭載部を中心として平面方向外側に広がるようにレイアウトされて形成され、その配線12の外側端部近傍の下方に導電性ペーストビア13が形成されている。
In the multilayer wiring board 1 configured as described above, the
一方、第1プリント配線基板10において、その他の内側の電子部品端子19が形成された配線12は、再配線電極91の配置ピッチとほぼ合わせたレイアウトで形成され、その配線12の下方に導電性ペーストビア13が形成されている。従って、この第1プリント配線基板10では、第1段目で最外側の電子部品端子19とその内側の電子部品端子19との端子ピッチが広がるように配線12及び導電性ペーストビア13が形成されている。
On the other hand, in the first printed
次に、第2プリント配線基板20においては、配線22及びめっきビア23により、配線22と接続される導電性ペーストビア13よりもめっきビア23と接続される導電性ペーストビア13の方が平面方向外側に配置されるようにレイアウトがなされている。これと共に、第2プリント配線基板20においては、開口部29内に収容された第4プリント配線基板40において、上記内側の電子部品端子19が形成された配線12の下方に形成された導電性ペーストビア13が配線パターン42と接続される。
Next, in the second printed
第4プリント配線基板40には、上述したようにこの配線パターン42よりもパターンピッチが広い配線パターン43が形成され、これらがフィルドめっきビア44により接続されているので、配線パターン42と接続される導電性ペーストビア13よりも配線パターン43と接続される導電性ペーストビア33の方が平面方向外側に配置されるようにレイアウトがなされている。従って、第4プリント配線基板40では、上述した最外側の電子部品端子19の内側に形成された電子部品端子19の端子ピッチがそれぞれ広がるようになる。
As described above, the fourth printed
このように、第2プリント配線基板20及びこれに内蔵された第4プリント配線基板40によって、電子部品端子19の端子ピッチは、第2段目でほぼ全てが拡大される。従って、第3プリント配線基板30においては、導電性ペーストビア33の配置ピッチに合わせるように配線32及び基板端子39を形成するだけで良い。
Thus, the second printed
従って、本実施形態に係る多層配線基板1によれば、従来のシリコンインターポーザと比較して電子部品端子19の数が増えても薄型化が可能で、基板全体の厚みを抑えることが可能となる。また、第4プリント配線基板40を内蔵するため、最表層に配置するようなものと比較して基板全体の強度を維持して接続信頼性を向上させることが可能となる。
Therefore, according to the multilayer wiring board 1 according to the present embodiment, the thickness can be reduced even if the number of the
更に、第2プリント配線基板20の一部に第4プリント配線基板40を内蔵するため、第2プリント配線基板20全体を第4プリント配線基板40のようにファインピッチで形成する場合と比較して、安価に形成することができる。このため、低コストで薄型化を図り、基板強度を低下させずに接続信頼性を向上させることが可能となる。なお、第4プリント配線基板40を安価に製造することが可能となれば、第2プリント配線基板20に代えて第1及び第3プリント配線基板10,30間の全面に第4プリント配線基板40を配置した構造としても良い。
Furthermore, since the fourth printed
次に、本実施形態に係る多層配線基板1の製造方法について説明する。
図5〜図8は、多層配線基板1の製造工程を示すフローチャートである。図9〜図12は、多層配線基板1を製造工程毎に示す断面図である。なお、図5及び図9は、第1プリント配線基板10について、図6及び図10は、第2プリント配線基板20について、図7及び図11は、第4プリント配線基板40について、図8及び図12は、多層配線基板1の最終工程についてそれぞれの製造工程を示している。第3プリント配線基板30については、第1プリント配線基板10と同様の工程で製造することができるので、特に明記しない限りは説明を省略する。
Next, a method for manufacturing the multilayer wiring board 1 according to this embodiment will be described.
5 to 8 are flowcharts showing manufacturing steps of the multilayer wiring board 1. 9-12 is sectional drawing which shows the multilayer wiring board 1 for every manufacturing process. 5 and 9 show the first printed
まず、図5を参照しながら第1プリント配線基板10の製造工程について説明する。図9(a)に示すように、第1樹脂基材11の一方の面にベタ状態の銅箔等からなる導体層8が形成された片面CCLを準備する(ステップS100)。次に、導体層8上にフォトリソグラフィによりエッチングレジストを形成した後にエッチングを行って、図9(b)に示すように、配線12等の配線パターンを形成する(ステップS102)。
First, the manufacturing process of the first printed
ステップS100にて使用する片面CCLは、例えば厚さ12μm程度の銅箔からなる導体層8に、厚さ25μm程度の第1樹脂基材11を貼り合わせた構造からなる。この片面CCLとしては、例えば公知のキャスティング法により、銅箔にポリイミドのワニスを塗布してそのワニスを硬化させて作製されたものを使用することができる。
The single-sided CCL used in step S100 has a structure in which the first
その他、片面CCLとしては、ポリイミドフィルム上にシード層をスパッタリングにより形成し、めっきにより銅を成長させて導体層8を形成したものや、圧延或いは電解銅箔とポリイミドフィルムとを接着材により貼り合わせて作製されたものなどを用いることもできる。
In addition, as single-sided CCL, a seed layer is formed on a polyimide film by sputtering, and copper is grown by plating to form a
なお、第1樹脂基材11は必ずしもポリイミドからなるものである必要はなく、上記のように液晶ポリマー等のプラスチックフィルムからなるものであってもよい。また、ステップS102でのエッチングには塩化第二鉄や塩化第二銅などを主成分とするエッチャントを用いることができる。
Note that the
配線12を形成したら、図9(c)に示すように、第1樹脂基材11の配線12形成面側と反対側の面に、接着材9a及びマスク材7を加熱圧着により貼り付ける(ステップS104)。ステップS104にて貼り付けられる接着材9aとしては、例えば厚さ25μm程度のエポキシ系熱硬化性フィルムを用いることができる。加熱圧着には真空ラミネータを用い、減圧下の雰囲気中にて接着材9aが硬化しない温度で0.3MPaの圧力によりプレスしてこれらを貼り合わせることが挙げられる。
After the
なお、接着層9や接着材9aに用いられる層間接着材は、エポキシ系の熱硬化性樹脂のみならず、アクリル系の接着材や、熱可塑性ポリイミドなどに代表される熱可塑性接着材などが挙げられる。また、層間接着材は必ずしもフィルム状である必要はなく、ワニス状の樹脂を塗布したものであってもよい。マスク材7は、上述した樹脂フィルムやPET,PENなどのプラスチックフィルムの他、UV照射によって接着や剥離が可能な各種フィルムを用いることができる。
The interlayer adhesive used for the
そして、貼り付けたマスク材7側から、配線12に向かって、例えばUV−YAGレーザ装置を用いてレーザ光を照射して、マスク材7、接着材9a及び第1樹脂基材11を貫通するビアホール2を所定箇所に形成する(ステップS106)。このときのビアホール2は、直径が50μm〜150μm程度となるように形成される。なお、ビアホール2内には、形成後にプラズマデスミア等のデスミア処理が施される。
Then, laser light is irradiated from the attached
ステップS106にて形成されるビアホール2は、その他、炭酸ガスレーザ(CO2レーザ)やエキシマレーザなどで形成してもよいし、ドリル加工や化学的なエッチングなどにより形成してもよい。また、デスミア処理は、CF4及びO2(四フッ化メタン+酸素)の混合ガスにより行うことができるが、Ar(アルゴン)などのその他の不活性ガスを用いることもでき、いわゆるドライ処理ではなく、薬液を用いたウェットデスミア処理としてもよい。
In addition, the via
その後、図9(d)に示すように、形成したビアホール2内に、例えばスクリーン印刷により導電性ペーストを充填して導電性ペーストビア13を形成し(ステップS108)、マスク材7を剥離して除去し(ステップS110)、図9(e)に示すように、配線12及び導電性ペーストビア13が形成されると共に、接着層9が備えられた第1樹脂基材11を有する第1プリント配線基板10を形成する。なお、上記と同様の処理を行って、大きさや配置ピッチの異なる配線32や導電性ペーストビア33を有する第3プリント配線基板30を製造して準備しておく。
Thereafter, as shown in FIG. 9D, the formed via
次に、図6を参照しながら第2プリント配線基板20の製造工程について説明する。なお、既に説明した箇所には同一の符号を附して説明を割愛する場合があり、各ステップの具体的な処理内容については上述した内容を適用可能であるとする。まず、図10(a)に示すように、第2樹脂基材21の両面に導体層8が形成された両面銅張積層板(両面CCL)を準備し(ステップS120)、図10(b)に示すように、所定箇所にビアホール4を形成して(ステップS122)、例えばプラズマデスミア処理を行う。
Next, the manufacturing process of the second printed
次に、図10(c)に示すように、第2樹脂基材21の片面にパネルめっき処理を施して(ステップS124)、導体層8上及びビアホール4内にめっき層23aを形成する。なお、図10(c)においては、上側の導体層8上のめっき層は図示を省略している。ビアホール4内のめっき層23aは後にめっきビア23として用いられるものであり、第2樹脂基材21の両面の導体層8を電気的に導通している。
Next, as shown in FIG. 10C, panel plating is performed on one surface of the second resin base material 21 (step S <b> 124) to form a
そして、図10(d)に示すように、第2樹脂基材21の両面にエッチング等により配線22やめっきビア23などの配線パターンを形成する(ステップS126)。最後に、図10(e)に示すように、第4プリント配線基板40が内蔵される部分の第2樹脂基材21をUVレーザなどにより除去し、開口部29を形成して(ステップS128)、第2プリント配線基板20を形成する。
Then, as shown in FIG. 10D, wiring patterns such as
次に、図7を参照しながら第4プリント配線基板40の製造工程について説明する。
図11(a)に示すように、まず、ポリイミド樹脂フィルムなどからなる第4樹脂基材41を準備し(ステップS130)、図11(b)に示すように、第4樹脂基材41の所定箇所にエキシマレーザ等を用いて直径10μm〜30μm程度のビアホール5を形成する(ステップS132)。
Next, the manufacturing process of the fourth printed
As shown in FIG. 11A, first, a
ビアホール5を形成したら、プラズマデスミア等のデスミア処理を行って(ステップS134)、図示しないめっきレジストを形成して、例えばセミアディティブ法により、図11(c)に示すように、配線パターン42,43及びフィルドめっきビア44を形成する(ステップS138)。
After the via
そして、めっきレジストを除去し(ステップS140)、最後に、図11(d)に示すように、図示しないダイサー等の機器を用いて所定の大きさに切断して個片化し(ステップS142)、第4プリント配線基板40を複数製造する。
Then, the plating resist is removed (step S140), and finally, as shown in FIG. 11 (d), it is cut into a predetermined size using an unillustrated device such as a dicer (step S142). A plurality of fourth printed
こうして、第1〜第4プリント配線基板10〜40を作製したら、図12(a)に示すように、第4プリント配線基板40の配線パターン42と第1プリント配線基板10の導電性ペーストビア13とを、電子部品用実装機を用いて位置合わせし、第1プリント配線基板10の接着層9及び導電性ペーストビア13の導電性ペーストが硬化していない状態で、第4プリント配線基板40を第1プリント配線基板10に仮留め接着する。
When the first to fourth printed
その後、図8に示すように、各プリント配線基板10〜40を位置決めし、積層する(ステップS150)。そして、例えば真空キュアプレス機を用いて、1kPa以下の減圧雰囲気中にて加熱加圧することで熱圧着により一括積層する(ステップS152)。これにより、図12(b)に示すような多層配線基板1を製造する。このとき、層間の各接着層9や各樹脂基材11〜41等の硬化と同時に、ビアホールに充填された導電性ペーストの硬化及び合金化が行われる。従って、導電性ペーストと接する配線等との間には、上述したように金属間化合物の合金層が形成される。
Then, as shown in FIG. 8, each printed wiring board 10-40 is positioned and laminated | stacked (step S150). Then, for example, using a vacuum curing press, heat lamination is performed in a reduced-pressure atmosphere of 1 kPa or less to perform batch lamination by thermocompression bonding (step S152). Thereby, the multilayer wiring board 1 as shown in FIG. At this time, the conductive paste filled in the via hole is cured and alloyed simultaneously with the curing of the
その後、図12(c)に示すように、多層配線基板1における第1プリント配線基板10及び第3プリント配線基板30の配線12,32側の第1及び第3樹脂基材11,31上に、ソルダーレジスト18,38をパターン形成する。最後に、各配線12,32上に電子部品端子19及び基板端子39となるバンプを形成して、電子部品端子19に電子部品90の再配線電極91を接続して実装すれば、図1に示すような多層配線基板1が完成する。
Thereafter, as shown in FIG. 12C, on the first and
このように、本実施形態に係る多層配線基板1は、上記のような簡単な製造工程で製造することができる。特に、第4プリント配線基板40は、電子部品を搭載するための通常の電子部品用実装機を用いてプリント配線基板に搭載し、一括積層により多層配線基板1内に内蔵することができるため、低コストで薄型化を図りつつ基板強度を下げずに接続信頼性を向上させることができる多層配線基板1を容易に製造することが可能となる。
Thus, the multilayer wiring board 1 according to the present embodiment can be manufactured by the simple manufacturing process as described above. In particular, the fourth printed
1 多層配線基板
2,3,4,5 ビアホール
7 マスク材
8 導体層
9 接着層
10 第1プリント配線基板
11 第1樹脂基材
12,22,32 配線
13,33 導電性ペーストビア
18,38 ソルダーレジスト
19 電子部品端子
20 第2プリント配線基板
21 第2樹脂基材
23 めっきビア
30 第3プリント配線基板
31 第3樹脂基材
39 基板端子
40 第4プリント配線基板
41 第4樹脂基材
42,43 配線パターン
44 フィルドめっきビア
90 電子部品
91 再配線電極
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
Claims (4)
前記複数の配線基板は、同様の厚さの第1の配線基板、第2の配線基板、第3の配線基板及び第4の配線基板を有し、
前記第2の配線基板は、前記第4の配線基板が収容される開口部を有し、前記開口部に収容された前記第4の配線基板と共に前記第1の配線基板及び前記第3の配線基板の間に配置され、
前記第4の配線基板は、前記第1の配線基板、前記第2の配線基板及び前記第3の配線基板よりも配線ピッチが小さく、前記電子部品の搭載部の下部の前記1の配線基板及び前記第3の配線基板の間に内蔵され、前記第1の配線基板の導電性ペーストビアを介して前記電子部品端子と接続され、その両面に前記電子部品端子から前記基板端子へと前記端子ピッチを拡大させるパターンが形成され、前記両面のパターンを接続するビアを有する
ことを特徴とする多層配線基板。 A plurality of wiring boards each having a wiring pattern formed on at least one surface and conductive paste vias are stacked via an adhesive layer, and electronic component terminals and board terminals having terminal pitches different from those of the electronic component terminals are provided. And having a multilayer wiring board on which electronic components are mounted via the electronic component terminals,
The plurality of wiring boards include a first wiring board, a second wiring board, a third wiring board, and a fourth wiring board having the same thickness,
The second wiring board has an opening in which the fourth wiring board is accommodated, and the first wiring board and the third wiring together with the fourth wiring board accommodated in the opening. Placed between the substrates,
The fourth wiring substrate, the first wiring board, the second wiring board and smaller wiring pitch than the third wiring board, the first wiring substrate at the bottom of the mounting portion of the electronic component and the third is built between the wiring substrate, is pre SL connected to the first of the electronic component terminal via the conductive paste via the wiring board, the terminal and from the electronic component terminal on both sides thereof to the substrate terminal A multilayer wiring board, wherein a pattern for increasing the pitch is formed and has vias connecting the patterns on both sides.
ことを特徴とする請求項1記載の多層配線基板。The multilayer wiring board according to claim 1, wherein:
ことを特徴とする請求項1又は2記載の多層配線基板。 The said 1st wiring board , the said 2nd wiring board , the said 3rd wiring board, and the said 4th wiring board are formed with the resin substrate. The Claim 1 or 2 characterized by the above-mentioned. Multilayer wiring board.
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項記載の多層配線基板。 Out of the electronic component terminals, the outermost electronic component terminal is expanded in terminal pitch by a pattern continuous with the electronic component terminal of the first wiring substrate on which the electronic component is mounted, and the fourth wiring substrate. The multilayer wiring board according to any one of claims 1 to 3, wherein the multilayer wiring board is connected to the board terminal via the conductive paste via without passing through the board.
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