JP5261756B1 - Multilayer wiring board - Google Patents

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Abstract

【課題】低コストで薄型化を図り、基板強度を低下させずに接続信頼性を向上させる。
【解決手段】多層配線基板1は、少なくとも一方の面に配線12,32が形成され導電性ペーストビア13,33が形成された第1及び第3プリント配線基板10,30を第2プリント配線基板20と共に積層してなり、電子部品端子19及び電子部品端子19と端子ピッチが異なる基板端子39を有すると共に、電子部品90が搭載される基板である。電子部品90の搭載部の下部に、第1プリント配線基板10よりも配線ピッチが小さい第4プリント配線基板40が内蔵され、第4プリント配線基板40は、第1プリント配線基板10の導電性ペーストビア13を介して電子部品端子19と接続され、その両面に電子部品90との接続ピッチを拡大させる配線パターン42,43が形成されている。
【選択図】図1
To reduce the thickness at low cost and improve the connection reliability without reducing the strength of the substrate.
A multilayer wiring board 1 includes first and third printed wiring boards 10 and 30 having wirings 12 and 32 formed on at least one surface and conductive paste vias 13 and 33 formed on the second printed wiring board. 20 is a substrate on which an electronic component 90 is mounted while having an electronic component terminal 19 and a substrate terminal 39 having a terminal pitch different from that of the electronic component terminal 19. A fourth printed wiring board 40 having a wiring pitch smaller than that of the first printed wiring board 10 is built in a lower portion of the mounting portion of the electronic component 90, and the fourth printed wiring board 40 is a conductive paste of the first printed wiring board 10. Wiring patterns 42 and 43 that are connected to the electronic component terminal 19 through the via 13 and expand the connection pitch with the electronic component 90 are formed on both sides thereof.
[Selection] Figure 1

Description

この発明は、電子部品が搭載される多層配線基板に関する。   The present invention relates to a multilayer wiring board on which electronic components are mounted.

近年の電子機器の小型化に伴い、半導体チップ等の電子部品の高密度化や小型化及び電子部品端子の狭ピッチ化などが進んでいる。これに付随して、電子部品を実装する配線基板の実装面積の縮小化や微細化も進展している。このような現状の下、配線基板の多層化も推し進められており、層間接続における接続信頼性の確保は必須の要件となっている。   With recent miniaturization of electronic devices, the density and size of electronic components such as semiconductor chips and the pitch of electronic component terminals have been reduced. Accompanying this, reduction and miniaturization of the mounting area of the wiring board on which the electronic components are mounted are also progressing. Under such circumstances, multilayered wiring boards are being promoted, and ensuring connection reliability in interlayer connection is an essential requirement.

配線基板を多層化した構造の多層配線基板は、例えば微細な配線ピッチを有する電子部品を、マザーボードなどの比較的配線ピッチが粗い実装基板に実装するためのインターポーザを備えた基板として用いられることがある(特許文献1,2参照)。   A multilayer wiring board having a multilayered wiring board structure may be used as a board having an interposer for mounting an electronic component having a fine wiring pitch, for example, on a mounting board having a relatively coarse wiring pitch such as a mother board. Yes (see Patent Documents 1 and 2).

再公表特許WO2007/129545号公報Republished patent WO2007 / 129545 特開2008−60609号公報JP 2008-60609 A

しかしながら、上述した特許文献1に開示された従来技術の多層配線基板では、インターポーザである耐熱性基板がシリコン(Si)基板からなるため、電子部品端子数が増えれば増えるほど薄型化が難しく、結果として基板全体の厚みが増してしまうという問題がある。また、上記の従来技術は基本的にはビルドアップ型であり、製造コストも高い。   However, in the conventional multilayer wiring board disclosed in Patent Document 1 described above, since the heat-resistant substrate as an interposer is made of a silicon (Si) substrate, it is difficult to reduce the thickness as the number of electronic component terminals increases. There is a problem that the thickness of the entire substrate increases. Further, the above-described conventional technology is basically a build-up type, and the manufacturing cost is high.

また、上述した特許文献2に開示された従来技術の多層配線基板では、プリント基板からなるインターポーザを最表層に配置しているため、コスト及び物理的安定性の面で改良の余地を有する。   Moreover, in the multilayer wiring board of the prior art disclosed in Patent Document 2 described above, the interposer made of a printed circuit board is arranged on the outermost layer, so there is room for improvement in terms of cost and physical stability.

この発明は、上述した従来技術による問題点を解消し、低コストで薄型化を図り、基板強度を低下させずに接続信頼性を向上させることができる多層配線基板を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a multilayer wiring board capable of solving the above-described problems caused by the prior art, reducing the thickness at low cost, and improving the connection reliability without reducing the board strength. .

本発明に係る多層配線基板は、少なくとも一方の面に配線パターンが形成され導電性ペーストビアが形成された複数の配線基板を、接着層を介して積層してなり、電子部品端子及び前記電子部品端子と端子ピッチが異なる基板端子を有すると共に、前記電子部品端子を介して電子部品が搭載される多層配線基板において、前記複数の配線基板は、同様の厚さの第1の配線基板、第2の配線基板、第3の配線基板及び第4の配線基板を有し、前記第2の配線基板は、前記第4の配線基板が収容される開口部を有し、前記開口部に収容された前記第4の配線基板と共に前記第1の配線基板及び前記第3の配線基板の間に配置され、前記第4の配線基板は、前記第1の配線基板、前記第2の配線基板及び前記第3の配線基板よりも配線ピッチが小さく、前記電子部品の搭載部の下部前記1の配線基板及び前記第3の配線基板の間に内蔵され、前記第1の配線基板の導電性ペーストビアを介して前記電子部品端子と接続され、その両面に前記電子部品端子から前記基板端子へと前記端子ピッチを拡大させるパターンが形成され、前記両面のパターンを接続するビアを有することを特徴とする。 A multilayer wiring board according to the present invention is formed by laminating a plurality of wiring boards having a wiring pattern formed on at least one surface and a conductive paste via formed via an adhesive layer, and an electronic component terminal and the electronic component In the multilayer wiring board having board terminals having terminal pitches different from those of the terminals and mounting electronic parts via the electronic part terminals, the plurality of wiring boards are a first wiring board and a second wiring board having the same thickness. Wiring board, a third wiring board, and a fourth wiring board, and the second wiring board has an opening in which the fourth wiring board is accommodated, and is accommodated in the opening. The fourth wiring board is disposed between the first wiring board and the third wiring board together with the fourth wiring board, and the fourth wiring board includes the first wiring board, the second wiring board, and the second wiring board. The wiring pitch is smaller than 3 wiring boards , Wherein the lower portion of the mounting portion of the electronic component is embedded between the first wiring board and the third wiring board, it is connected to the electronic component terminal via the conductive paste via the previous SL first wiring board A pattern for enlarging the terminal pitch from the electronic component terminal to the board terminal is formed on both sides thereof, and a via for connecting the patterns on both sides is provided.

本発明に係る多層配線基板によれば、電子部品の搭載部の下部に、第1の配線基板を介して、インターポーザとしての第の配線基板が内蔵され、第の配線基板には、両面に電子部品端子から基板端子へと端子ピッチを拡大させるパターンが形成され、両面のパターンを接続するビアを有するものとなっている。このように、導電性ペーストビアが形成された第1の配線基板を積層する際の内蔵電子部品と同様の工程で電子部品と接続されるインターポーザとしての第の配線基板を内蔵しているので、従来のものと比較して低コストで薄型化を図ることができると共に、基板強度を低下させずに接続信頼性を向上させることができる。 According to the multilayer wiring board according to the present invention, the lower portion of the mounting portion of the electronic component, through the first wiring board, a built-in fourth wiring board as an interposer, a fourth wiring board, double-sided A pattern for expanding the terminal pitch from the electronic component terminal to the board terminal is formed and has vias for connecting the patterns on both sides. As described above, since the fourth wiring board as the interposer connected to the electronic component is built in the same process as the built-in electronic component when the first wiring board formed with the conductive paste via is laminated, In addition, the thickness can be reduced at a lower cost than the conventional one, and the connection reliability can be improved without reducing the substrate strength.

本発明の一実施形態においては、前記第4の配線基板は、単層であり、また、前記第1の配線基板前記第2の配線基板、前記第3の配線基板及び前記第4の配線基板は、樹脂基板により形成されたものである。 In one embodiment of the present invention, the fourth wiring board is a single layer, and the first wiring board , the second wiring board , the third wiring board, and the fourth wiring board. The substrate is formed of a resin substrate.

本発明の他の実施形態においては、前記電子部品端子のうち、最も外側の電子部品端子は、前記電子部品が搭載される前記第1の配線基板の前記電子部品端子と連続するパターンによって端子ピッチを拡大されて前記第の配線基板を介さずに前記導電性ペーストビアを介して前記基板端子と接続されている。 In another embodiment of the present invention, among the electronic component terminals, the outermost electronic component terminal has a terminal pitch according to a pattern continuous with the electronic component terminal of the first wiring board on which the electronic component is mounted. And is connected to the substrate terminal via the conductive paste via without passing through the fourth wiring board.

本発明によれば、低コストで薄型化を図り、基板強度を低下させずに接続信頼性を向上させることができる。また、効率的に配線ピッチを拡大することもできる。   According to the present invention, it is possible to reduce the thickness at a low cost and to improve the connection reliability without reducing the substrate strength. Also, the wiring pitch can be expanded efficiently.

本発明の一実施形態に係る多層配線基板の構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the multilayer wiring board which concerns on one Embodiment of this invention. 同多層配線基板の内蔵されるプリント配線基板における両面の配線パターンの一部を示す平面図である。It is a top view which shows a part of wiring pattern of both surfaces in the printed wiring board with which the same multilayer wiring board is incorporated. 同プリント配線基板の一方の面の配線パターンの一部を示す平面図である。It is a top view which shows a part of wiring pattern of one side of the printed wiring board. 同プリント配線基板の他方の面の配線パターンの一部を示す平面図である。It is a top view which shows a part of wiring pattern of the other surface of the printed wiring board. 同多層配線基板の製造工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing process of the multilayer wiring board. 同多層配線基板の製造工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing process of the multilayer wiring board. 同多層配線基板の製造工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing process of the multilayer wiring board. 同多層配線基板の製造工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing process of the multilayer wiring board. 同多層配線基板を製造工程毎に示す断面図である。It is sectional drawing which shows the same multilayer wiring board for every manufacturing process. 同多層配線基板を製造工程毎に示す断面図である。It is sectional drawing which shows the same multilayer wiring board for every manufacturing process. 同多層配線基板を製造工程毎に示す断面図である。It is sectional drawing which shows the same multilayer wiring board for every manufacturing process. 同多層配線基板を製造工程毎に示す断面図である。It is sectional drawing which shows the same multilayer wiring board for every manufacturing process.

以下、添付の図面を参照して、この発明の実施の形態に係る多層配線基板を詳細に説明する。   Hereinafter, a multilayer wiring board according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

図1は、本発明の一実施形態に係る多層配線基板の構造を示す断面図である。図1に示すように、本実施形態に係る多層配線基板1は、第1の配線基板である第1プリント配線基板10と、第2プリント配線基板20と、第3プリント配線基板30とを熱圧着により一括積層した多層構造を備えている。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing the structure of a multilayer wiring board according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the multilayer wiring board 1 according to the present embodiment heats a first printed wiring board 10, a second printed wiring board 20, and a third printed wiring board 30 that are first wiring boards. It has a multilayer structure that is laminated together by crimping.

また、多層配線基板1は、第2プリント配線基板20の第2樹脂基材21に形成された開口部29内に、第1及び第3プリント配線基板10,30間に挟まれた状態で内蔵された第2の配線基板である第4プリント配線基板40を備えている。第4プリント配線基板40の配線ピッチは、後述するように、第1〜第3プリント配線基板10,20,30のそれよりも遙かに小さい。なお、多層配線基板1には、第1プリント配線基板10上に実装された電子部品90が備えられている。   In addition, the multilayer wiring board 1 is built in an opening 29 formed in the second resin base material 21 of the second printed wiring board 20 while being sandwiched between the first and third printed wiring boards 10 and 30. A fourth printed wiring board 40, which is the second wiring board formed, is provided. The wiring pitch of the fourth printed wiring board 40 is much smaller than that of the first to third printed wiring boards 10, 20, and 30, as will be described later. The multilayer wiring board 1 includes an electronic component 90 mounted on the first printed wiring board 10.

第1〜第3プリント配線基板10〜30は、それぞれ第1樹脂基材11、第2樹脂基材21及び第3樹脂基材31と、これら第1〜第3樹脂基材11〜31の少なくとも片面に形成された配線12,22,32とを備える。また、第1及び第3プリント配線基板10,30は、それぞれ第1及び第3樹脂基材11,31に形成された50〜150μm程度の径のビアホール2,3内に充填形成された導電性ペーストビア13,33を備える。   The 1st-3rd printed wiring boards 10-30 are the 1st resin base material 11, the 2nd resin base material 21, and the 3rd resin base material 31, and at least of these 1st-3rd resin base materials 11-31, respectively. Wirings 12, 22, and 32 formed on one side are provided. The first and third printed wiring boards 10 and 30 are electrically conductively filled in via holes 2 and 3 having a diameter of about 50 to 150 μm formed in the first and third resin base materials 11 and 31, respectively. Paste vias 13 and 33 are provided.

更に、第2プリント配線基板20は、第2樹脂基材21に形成された100μm程度の径のビアホール4内に第2樹脂基材21の両面を導通するように形成されためっきビア23を備える。これら第1〜第3プリント配線基板10〜30は、例えば片面銅張積層板(片面CCL)や両面銅張積層板(両面CCL)等を用いることができる。   Further, the second printed wiring board 20 includes a plating via 23 formed so as to conduct both surfaces of the second resin substrate 21 in the via hole 4 having a diameter of about 100 μm formed in the second resin substrate 21. . These 1st-3rd printed wiring boards 10-30 can use a single-sided copper clad laminated board (single-sided CCL), a double-sided copper clad laminated board (double-sided CCL), etc., for example.

本例では、第2プリント配線基板20が両面CCLに基づき形成され、それ以外の第1及び第3プリント配線基板10,30が片面CCLに基づき形成されている。従って、第2プリント配線基板20の配線22は第2樹脂基材21の両面に形成され、めっきビア23はこれら両面の配線22を層間接続している。   In this example, the second printed wiring board 20 is formed based on the double-sided CCL, and the other first and third printed wiring boards 10 and 30 are formed based on the single-sided CCL. Accordingly, the wirings 22 of the second printed wiring board 20 are formed on both surfaces of the second resin base material 21, and the plating vias 23 connect these wirings 22 on both surfaces to each other.

なお、めっきビア23は、例えば一方の配線22を貫通させることなく、他方の配線22側から形成した貫通孔内にめっきを施した構造のLVHのめっきビアからなるもので、例えば銅(Cu)めっきにより形成されている。従って、一方の配線22上にはめっき層が形成されている。   The plating via 23 is made of an LVH plating via having a structure in which a through hole formed from the other wiring 22 side is plated without penetrating one wiring 22, for example, copper (Cu). It is formed by plating. Therefore, a plating layer is formed on one wiring 22.

その他、図示は省略するが、第2プリント配線基板20には、貫通孔内をめっきするめっきビア23の代わりに、貫通孔内に導電性ペーストを充填させた構造のビアを形成したり、配線22間を貫通する貫通穴内にめっきを施した構造のめっきスルーホールを形成したりしても良い。   In addition, although illustration is omitted, a via having a structure in which a conductive paste is filled in the through hole is formed on the second printed wiring board 20 instead of the plating via 23 for plating the inside of the through hole. A plated through hole having a structure in which plating is performed may be formed in a through hole penetrating between the two.

一方、第4プリント配線基板40は、第4樹脂基材41と、この第4樹脂基材41の両面に形成された配線パターン42,43と、第4樹脂基材41に形成された10〜30μm程度の径のビアホール5内にめっき形成されて、これら配線パターン42,43を導通するフィルドめっきビア44とを備えている。   On the other hand, the fourth printed wiring board 40 includes a fourth resin base 41, wiring patterns 42 and 43 formed on both surfaces of the fourth resin base 41, and 10 to 10 formed on the fourth resin base 41. Plating is formed in the via hole 5 having a diameter of about 30 μm, and a filled plating via 44 that conducts the wiring patterns 42 and 43 is provided.

配線パターン42,43は、電子部品90と多層配線基板1との接続ピッチを拡大させるようなパターンに形成され、ここでは上方の配線パターン42のパターンピッチよりも下方の配線パターン43のパターンピッチの方が広くなるように形成されている。本例では、第1〜第3プリント配線基板10,20,30の配線12,22,32の配線ピッチが80μmであるのに対し、第4プリント配線基板の配線パターン42,43の配線ピッチは、20μm程度に設定されている。   The wiring patterns 42 and 43 are formed in a pattern that increases the connection pitch between the electronic component 90 and the multilayer wiring board 1. Here, the pattern pitch of the lower wiring pattern 43 is lower than the pattern pitch of the upper wiring pattern 42. It is formed to be wider. In this example, the wiring pitch of the wiring patterns 42 and 43 of the fourth printed wiring board is 80 μm while the wiring pitch of the wirings 12, 22 and 32 of the first to third printed wiring boards 10, 20 and 30 is 80 μm. , About 20 μm.

ここで、配線パターン42,43の配置態様について説明する。図2は、多層配線基板1の第4プリント配線基板40における両面の配線パターン42,43の一部を示す平面図である。また、図3は第4プリント配線基板40の一方の面の配線パターン42の一部を示す平面図、図4は第4プリント配線基板40の他方の面の配線パターン43の一部を示す平面図である。なお、これら図2〜図4における配線パターン42,43は、その配置態様をより把握し易くするために、図1における第4プリント配線基板40とはレイアウトや寸法等を異にして表示している。なお、図示の例は、配線パターン42,43の角の部分を一部示したものであって、実際には、縦方向下側及び横方向左側にも同様のパターンが連続する。   Here, the arrangement | positioning aspect of the wiring patterns 42 and 43 is demonstrated. FIG. 2 is a plan view showing part of the wiring patterns 42 and 43 on both sides of the fourth printed wiring board 40 of the multilayer wiring board 1. 3 is a plan view showing a part of the wiring pattern 42 on one side of the fourth printed wiring board 40, and FIG. 4 is a plan view showing a part of the wiring pattern 43 on the other side of the fourth printed wiring board 40. FIG. The wiring patterns 42 and 43 in FIGS. 2 to 4 are displayed with a layout and dimensions different from those of the fourth printed wiring board 40 in FIG. 1 in order to make it easier to grasp the arrangement mode. Yes. The illustrated example shows a part of the corners of the wiring patterns 42 and 43. Actually, the same pattern continues on the lower side in the vertical direction and the left side in the horizontal direction.

すなわち、図2に示すように、配線パターン42,43は、第4樹脂基材41にそれぞれパターンピッチが異なるようにパターン形成されているので、図示のように非常に細かくレイアウトして平面方向外側に引き出すことが可能となる。レイアウトの設計条件によって、例えば一方の面の配線パターン42において8行×8列分の電子部品端子19の端子ピッチを拡大することができるので、他方の面の配線パターン43と合わせると、16行×16列分の端子ピッチを一層分の厚みで拡大させることが可能となる。このような微細なレイアウトは、シリコンインターポーザ等では実現するためには厚みが著しく増すこととなるが、本実施形態の多層配線基板1であれば、一層分の厚みであっても、図3及び図4に示すように、微細な配線パターン42,43が短絡等することなく効率的に配線ピッチを拡大することができる。   That is, as shown in FIG. 2, the wiring patterns 42 and 43 are formed on the fourth resin base 41 so that the pattern pitches are different from each other. It becomes possible to pull out. Depending on the layout design conditions, for example, the terminal pitch of the electronic component terminals 19 for 8 rows × 8 columns in the wiring pattern 42 on one surface can be enlarged, so that when combined with the wiring pattern 43 on the other surface, 16 rows It becomes possible to enlarge the terminal pitch for x16 rows with a thickness of one layer. Such a fine layout requires a significant increase in thickness in order to be realized by a silicon interposer or the like. However, the multilayer wiring board 1 of the present embodiment has a thickness of one layer, as shown in FIG. As shown in FIG. 4, the wiring pitch can be efficiently expanded without causing a short circuit or the like of the fine wiring patterns 42 and 43.

第1〜第4樹脂基材11〜41は、それぞれ例えば厚さ25μm程度の樹脂フィルムにより形成されている。ここで、樹脂フィルムとしては、例えばポリイミド(PI)、ポリオレフィン(PO)、液晶ポリマー(LCP)などからなる樹脂フィルムや、熱硬化性のエポキシ樹脂(EP)からなる樹脂フィルム等を用いることができる。   The first to fourth resin base materials 11 to 41 are each formed of a resin film having a thickness of about 25 μm, for example. Here, as the resin film, for example, a resin film made of polyimide (PI), polyolefin (PO), liquid crystal polymer (LCP) or the like, a resin film made of thermosetting epoxy resin (EP), or the like can be used. .

電子部品90は、例えばICチップなどの半導体部品や受動部品等であり、再配線を施したWLP(Wafer Level Package)からなる。電子部品90の電極形成面91bには、図示しないパッド上に形成された複数の再配線電極91が設けられている。また、再配線電極91の周囲の電極形成面91b上には、図示しない絶縁層が形成されている。なお、配線12,22,32は、銅箔などの導電材をパターン形成してなる。   The electronic component 90 is, for example, a semiconductor component such as an IC chip, a passive component, or the like, and includes a WLP (Wafer Level Package) subjected to rewiring. A plurality of rewiring electrodes 91 formed on pads (not shown) are provided on the electrode forming surface 91b of the electronic component 90. An insulating layer (not shown) is formed on the electrode formation surface 91b around the rewiring electrode 91. The wirings 12, 22, and 32 are formed by patterning a conductive material such as copper foil.

導電性ペーストビア13,33を形成する導電性ペーストは、金、銀、銅、アルミニウム、鉄等から選択される少なくとも1種類の低電気抵抗の金属粒子と、錫、ビスマス、インジウム、鉛等から選択される少なくとも1種類の低融点の金属粒子とを含む。導電性ペーストは、例えばこれらの金属粒子に、エポキシ、アクリル、ウレタン等を主成分とするバインダ成分を混合したペーストからなる。   The conductive paste forming the conductive paste vias 13 and 33 is made of at least one kind of low electrical resistance metal particles selected from gold, silver, copper, aluminum, iron, etc., and tin, bismuth, indium, lead, etc. And at least one low melting point metal particle selected. The conductive paste is made of, for example, a paste obtained by mixing these metal particles with a binder component mainly composed of epoxy, acrylic, urethane, or the like.

このように構成された導電性ペーストは、含有された低融点の金属粒子が200℃以下で溶融し合金を形成することができ、特に銅や銀などとは金属間化合物を形成することができる特性を備える。従って、導電性ペーストビア13,33と配線12,22,32,42,43及びめっきビア23との接続部は、一括積層の熱圧着時に金属間化合物により合金化される。   In the conductive paste thus configured, the contained low melting point metal particles can be melted at 200 ° C. or less to form an alloy, and particularly an intermetallic compound can be formed with copper or silver. With characteristics. Therefore, the connection portions between the conductive paste vias 13 and 33 and the wirings 12, 22, 32, 42, and 43 and the plating vias 23 are alloyed by an intermetallic compound at the time of batch lamination.

この場合、導電性ペーストは、金属粒子同士が接触することで電気的接続が行われる特性となる。導電性ペーストのビアホール2,3内への充填方法としては、例えば印刷工法、スピン塗布工法、スプレー塗布工法、ディスペンス工法、ラミネート工法、及びこれらを併用した工法などを採用することができる。   In this case, the conductive paste has a characteristic that electrical connection is made when the metal particles come into contact with each other. As a method of filling the conductive paste into the via holes 2 and 3, for example, a printing method, a spin coating method, a spray coating method, a dispensing method, a laminating method, and a method using these in combination can be employed.

なお、第1〜第4プリント配線基板10〜40は、予め第1及び第3プリント配線基板10,30に設けられた接着層9を介して積層されている。接着層9は、例えば熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂からなる。第4プリント配線基板40の配線パターン42,43及びフィルドめっきビア44は、第1〜第3プリント配線基板10〜30の配線12,22,32及び導電性ペーストビア13,33並びにめっきビア23と比べて、非常にファインピッチに形成されている。また、多層配線基板1は、第1プリント配線基板10の表面側に形成された電子部品端子19と、第3プリント配線基板30の裏面側に形成された基板端子39とを備える。   In addition, the 1st-4th printed wiring boards 10-40 are laminated | stacked via the contact bonding layer 9 provided in the 1st and 3rd printed wiring boards 10 and 30 previously. The adhesive layer 9 is made of, for example, a thermosetting resin or a thermoplastic resin. The wiring patterns 42 and 43 and the filled plating via 44 of the fourth printed wiring board 40 are the wirings 12, 22, and 32 of the first to third printed wiring boards 10 to 30, the conductive paste vias 13 and 33, and the plating via 23. In comparison, it is formed with a very fine pitch. The multilayer wiring board 1 includes an electronic component terminal 19 formed on the front surface side of the first printed wiring board 10 and a board terminal 39 formed on the back surface side of the third printed wiring board 30.

これら電子部品端子19及び基板端子39は、例えば半田などからなり、第1プリント配線基板10の第1樹脂基材11の表面側に形成された配線12上のソルダーレジスト18が被覆していない部分や、第3プリント配線基板30の第3樹脂基材31の裏面側に形成された配線32上のソルダーレジスト38が被覆していない部分に形成されている。   The electronic component terminal 19 and the board terminal 39 are made of, for example, solder, and are portions not covered by the solder resist 18 on the wiring 12 formed on the surface side of the first resin base 11 of the first printed wiring board 10. Or, the solder resist 38 on the wiring 32 formed on the back surface side of the third resin base 31 of the third printed wiring board 30 is formed in a portion not covered.

電子部品端子19は、電子部品90の再配線電極91と接続され、基板端子39は、実装基板のランドと接続される。電子部品端子19は、再配線電極91に配置ピッチ合わせて狭い端子ピッチで形成され、基板端子39は、電子部品端子19の端子ピッチよりも広い端子ピッチで形成されている。   The electronic component terminal 19 is connected to the rewiring electrode 91 of the electronic component 90, and the board terminal 39 is connected to the land of the mounting board. The electronic component terminals 19 are formed with a narrow terminal pitch in accordance with the arrangement pitch of the rewiring electrodes 91, and the substrate terminals 39 are formed with a terminal pitch wider than the terminal pitch of the electronic component terminals 19.

このように構成された多層配線基板1においては、第1プリント配線基板10において、電子部品90の最外側の再配線電極91と接続される電子部品端子19が形成された配線12が、電子部品90の搭載部を中心として平面方向外側に広がるようにレイアウトされて形成され、その配線12の外側端部近傍の下方に導電性ペーストビア13が形成されている。   In the multilayer wiring board 1 configured as described above, the wiring 12 in which the electronic component terminal 19 connected to the outermost rewiring electrode 91 of the electronic component 90 is formed on the first printed wiring board 10 is the electronic component. The conductive paste via 13 is formed below the vicinity of the outer end of the wiring 12 so as to spread outward in the plane direction centering on the mounting portion 90.

一方、第1プリント配線基板10において、その他の内側の電子部品端子19が形成された配線12は、再配線電極91の配置ピッチとほぼ合わせたレイアウトで形成され、その配線12の下方に導電性ペーストビア13が形成されている。従って、この第1プリント配線基板10では、第1段目で最外側の電子部品端子19とその内側の電子部品端子19との端子ピッチが広がるように配線12及び導電性ペーストビア13が形成されている。   On the other hand, in the first printed wiring board 10, the wiring 12 on which the other inner electronic component terminals 19 are formed is formed in a layout substantially matched with the arrangement pitch of the rewiring electrodes 91, and the conductive property is formed below the wiring 12. Paste vias 13 are formed. Therefore, in the first printed wiring board 10, the wiring 12 and the conductive paste via 13 are formed so that the terminal pitch between the outermost electronic component terminal 19 and the inner electronic component terminal 19 is widened in the first stage. ing.

次に、第2プリント配線基板20においては、配線22及びめっきビア23により、配線22と接続される導電性ペーストビア13よりもめっきビア23と接続される導電性ペーストビア13の方が平面方向外側に配置されるようにレイアウトがなされている。これと共に、第2プリント配線基板20においては、開口部29内に収容された第4プリント配線基板40において、上記内側の電子部品端子19が形成された配線12の下方に形成された導電性ペーストビア13が配線パターン42と接続される。   Next, in the second printed wiring board 20, the conductive paste via 13 connected to the plating via 23 is more planar than the conductive paste via 13 connected to the wiring 22 by the wiring 22 and the plating via 23. The layout is arranged to be arranged outside. At the same time, in the second printed wiring board 20, the conductive paste formed below the wiring 12 in which the inner electronic component terminal 19 is formed in the fourth printed wiring board 40 accommodated in the opening 29. The via 13 is connected to the wiring pattern 42.

第4プリント配線基板40には、上述したようにこの配線パターン42よりもパターンピッチが広い配線パターン43が形成され、これらがフィルドめっきビア44により接続されているので、配線パターン42と接続される導電性ペーストビア13よりも配線パターン43と接続される導電性ペーストビア33の方が平面方向外側に配置されるようにレイアウトがなされている。従って、第4プリント配線基板40では、上述した最外側の電子部品端子19の内側に形成された電子部品端子19の端子ピッチがそれぞれ広がるようになる。   As described above, the fourth printed wiring board 40 is formed with the wiring pattern 43 having a wider pattern pitch than the wiring pattern 42 and is connected to the wiring pattern 42 by the filled plating via 44. The layout is such that the conductive paste via 33 connected to the wiring pattern 43 is arranged on the outer side in the plane direction than the conductive paste via 13. Accordingly, in the fourth printed wiring board 40, the terminal pitch of the electronic component terminals 19 formed inside the outermost electronic component terminals 19 is increased.

このように、第2プリント配線基板20及びこれに内蔵された第4プリント配線基板40によって、電子部品端子19の端子ピッチは、第2段目でほぼ全てが拡大される。従って、第3プリント配線基板30においては、導電性ペーストビア33の配置ピッチに合わせるように配線32及び基板端子39を形成するだけで良い。   Thus, the second printed wiring board 20 and the fourth printed wiring board 40 built in the second printed wiring board 20 increase the terminal pitch of the electronic component terminals 19 almost entirely in the second stage. Therefore, in the third printed wiring board 30, it is only necessary to form the wiring 32 and the board terminal 39 so as to match the arrangement pitch of the conductive paste vias 33.

従って、本実施形態に係る多層配線基板1によれば、従来のシリコンインターポーザと比較して電子部品端子19の数が増えても薄型化が可能で、基板全体の厚みを抑えることが可能となる。また、第4プリント配線基板40を内蔵するため、最表層に配置するようなものと比較して基板全体の強度を維持して接続信頼性を向上させることが可能となる。   Therefore, according to the multilayer wiring board 1 according to the present embodiment, the thickness can be reduced even if the number of the electronic component terminals 19 is increased as compared with the conventional silicon interposer, and the thickness of the entire board can be suppressed. . In addition, since the fourth printed wiring board 40 is built in, it is possible to improve the connection reliability while maintaining the strength of the entire board as compared with the case where the fourth printed wiring board 40 is disposed on the outermost layer.

更に、第2プリント配線基板20の一部に第4プリント配線基板40を内蔵するため、第2プリント配線基板20全体を第4プリント配線基板40のようにファインピッチで形成する場合と比較して、安価に形成することができる。このため、低コストで薄型化を図り、基板強度を低下させずに接続信頼性を向上させることが可能となる。なお、第4プリント配線基板40を安価に製造することが可能となれば、第2プリント配線基板20に代えて第1及び第3プリント配線基板10,30間の全面に第4プリント配線基板40を配置した構造としても良い。   Furthermore, since the fourth printed wiring board 40 is built in a part of the second printed wiring board 20, compared with the case where the entire second printed wiring board 20 is formed at a fine pitch like the fourth printed wiring board 40. Can be formed inexpensively. For this reason, it is possible to reduce the thickness at low cost and to improve the connection reliability without reducing the substrate strength. If it is possible to manufacture the fourth printed wiring board 40 at a low cost, the fourth printed wiring board 40 is provided on the entire surface between the first and third printed wiring boards 10 and 30 instead of the second printed wiring board 20. It is good also as a structure which has arranged.

次に、本実施形態に係る多層配線基板1の製造方法について説明する。
図5〜図8は、多層配線基板1の製造工程を示すフローチャートである。図9〜図12は、多層配線基板1を製造工程毎に示す断面図である。なお、図5及び図9は、第1プリント配線基板10について、図6及び図10は、第2プリント配線基板20について、図7及び図11は、第4プリント配線基板40について、図8及び図12は、多層配線基板1の最終工程についてそれぞれの製造工程を示している。第3プリント配線基板30については、第1プリント配線基板10と同様の工程で製造することができるので、特に明記しない限りは説明を省略する。
Next, a method for manufacturing the multilayer wiring board 1 according to this embodiment will be described.
5 to 8 are flowcharts showing manufacturing steps of the multilayer wiring board 1. 9-12 is sectional drawing which shows the multilayer wiring board 1 for every manufacturing process. 5 and 9 show the first printed wiring board 10, FIGS. 6 and 10 show the second printed wiring board 20, FIGS. 7 and 11 show the fourth printed wiring board 40, and FIG. FIG. 12 shows each manufacturing process for the final process of the multilayer wiring board 1. The third printed wiring board 30 can be manufactured in the same process as that of the first printed wiring board 10, and therefore the description is omitted unless otherwise specified.

まず、図5を参照しながら第1プリント配線基板10の製造工程について説明する。図9(a)に示すように、第1樹脂基材11の一方の面にベタ状態の銅箔等からなる導体層8が形成された片面CCLを準備する(ステップS100)。次に、導体層8上にフォトリソグラフィによりエッチングレジストを形成した後にエッチングを行って、図9(b)に示すように、配線12等の配線パターンを形成する(ステップS102)。   First, the manufacturing process of the first printed wiring board 10 will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 9A, a single-sided CCL in which a conductor layer 8 made of a solid copper foil or the like is formed on one surface of the first resin substrate 11 is prepared (step S100). Next, after forming an etching resist on the conductor layer 8 by photolithography, etching is performed to form a wiring pattern such as the wiring 12 as shown in FIG. 9B (step S102).

ステップS100にて使用する片面CCLは、例えば厚さ12μm程度の銅箔からなる導体層8に、厚さ25μm程度の第1樹脂基材11を貼り合わせた構造からなる。この片面CCLとしては、例えば公知のキャスティング法により、銅箔にポリイミドのワニスを塗布してそのワニスを硬化させて作製されたものを使用することができる。   The single-sided CCL used in step S100 has a structure in which the first resin base material 11 having a thickness of about 25 μm is bonded to the conductor layer 8 made of, for example, a copper foil having a thickness of about 12 μm. As this single-sided CCL, for example, a material produced by applying a polyimide varnish to a copper foil and curing the varnish by a known casting method can be used.

その他、片面CCLとしては、ポリイミドフィルム上にシード層をスパッタリングにより形成し、めっきにより銅を成長させて導体層8を形成したものや、圧延或いは電解銅箔とポリイミドフィルムとを接着材により貼り合わせて作製されたものなどを用いることもできる。   In addition, as single-sided CCL, a seed layer is formed on a polyimide film by sputtering, and copper is grown by plating to form a conductor layer 8, or a rolled or electrolytic copper foil and a polyimide film are bonded together with an adhesive. It is also possible to use the one produced by the above.

なお、第1樹脂基材11は必ずしもポリイミドからなるものである必要はなく、上記のように液晶ポリマー等のプラスチックフィルムからなるものであってもよい。また、ステップS102でのエッチングには塩化第二鉄や塩化第二銅などを主成分とするエッチャントを用いることができる。   Note that the first resin base 11 does not necessarily need to be made of polyimide, and may be made of a plastic film such as a liquid crystal polymer as described above. In addition, an etchant mainly composed of ferric chloride or cupric chloride can be used for the etching in step S102.

配線12を形成したら、図9(c)に示すように、第1樹脂基材11の配線12形成面側と反対側の面に、接着材9a及びマスク材7を加熱圧着により貼り付ける(ステップS104)。ステップS104にて貼り付けられる接着材9aとしては、例えば厚さ25μm程度のエポキシ系熱硬化性フィルムを用いることができる。加熱圧着には真空ラミネータを用い、減圧下の雰囲気中にて接着材9aが硬化しない温度で0.3MPaの圧力によりプレスしてこれらを貼り合わせることが挙げられる。   After the wiring 12 is formed, as shown in FIG. 9C, the adhesive 9a and the mask material 7 are attached to the surface of the first resin base 11 opposite to the wiring 12 formation surface by thermocompression bonding (step) S104). For example, an epoxy thermosetting film having a thickness of about 25 μm can be used as the adhesive material 9a attached in step S104. For thermocompression bonding, a vacuum laminator is used, and the adhesive 9a is pressed under a pressure of 0.3 MPa at a temperature at which the adhesive 9a is not cured in a reduced pressure atmosphere.

なお、接着層9や接着材9aに用いられる層間接着材は、エポキシ系の熱硬化性樹脂のみならず、アクリル系の接着材や、熱可塑性ポリイミドなどに代表される熱可塑性接着材などが挙げられる。また、層間接着材は必ずしもフィルム状である必要はなく、ワニス状の樹脂を塗布したものであってもよい。マスク材7は、上述した樹脂フィルムやPET,PENなどのプラスチックフィルムの他、UV照射によって接着や剥離が可能な各種フィルムを用いることができる。   The interlayer adhesive used for the adhesive layer 9 and the adhesive 9a is not only an epoxy thermosetting resin, but also an acrylic adhesive, a thermoplastic adhesive represented by thermoplastic polyimide, and the like. It is done. Further, the interlayer adhesive does not necessarily need to be in the form of a film, and may be obtained by applying a varnish-like resin. As the mask material 7, in addition to the above-described resin film and plastic films such as PET and PEN, various films that can be bonded and peeled off by UV irradiation can be used.

そして、貼り付けたマスク材7側から、配線12に向かって、例えばUV−YAGレーザ装置を用いてレーザ光を照射して、マスク材7、接着材9a及び第1樹脂基材11を貫通するビアホール2を所定箇所に形成する(ステップS106)。このときのビアホール2は、直径が50μm〜150μm程度となるように形成される。なお、ビアホール2内には、形成後にプラズマデスミア等のデスミア処理が施される。   Then, laser light is irradiated from the attached mask material 7 side toward the wiring 12 using, for example, a UV-YAG laser device, and penetrates the mask material 7, the adhesive material 9 a, and the first resin base material 11. The via hole 2 is formed at a predetermined location (step S106). The via hole 2 at this time is formed to have a diameter of about 50 μm to 150 μm. The via hole 2 is subjected to desmearing such as plasma desmear after the formation.

ステップS106にて形成されるビアホール2は、その他、炭酸ガスレーザ(COレーザ)やエキシマレーザなどで形成してもよいし、ドリル加工や化学的なエッチングなどにより形成してもよい。また、デスミア処理は、CF及びO(四フッ化メタン+酸素)の混合ガスにより行うことができるが、Ar(アルゴン)などのその他の不活性ガスを用いることもでき、いわゆるドライ処理ではなく、薬液を用いたウェットデスミア処理としてもよい。 In addition, the via hole 2 formed in step S106 may be formed by a carbon dioxide laser (CO 2 laser), an excimer laser, or the like, or may be formed by drilling or chemical etching. The desmear treatment can be performed with a mixed gas of CF 4 and O 2 (tetrafluoromethane + oxygen), but other inert gas such as Ar (argon) can also be used. Alternatively, wet desmear treatment using a chemical solution may be used.

その後、図9(d)に示すように、形成したビアホール2内に、例えばスクリーン印刷により導電性ペーストを充填して導電性ペーストビア13を形成し(ステップS108)、マスク材7を剥離して除去し(ステップS110)、図9(e)に示すように、配線12及び導電性ペーストビア13が形成されると共に、接着層9が備えられた第1樹脂基材11を有する第1プリント配線基板10を形成する。なお、上記と同様の処理を行って、大きさや配置ピッチの異なる配線32や導電性ペーストビア33を有する第3プリント配線基板30を製造して準備しておく。   Thereafter, as shown in FIG. 9D, the formed via hole 2 is filled with a conductive paste by, for example, screen printing to form a conductive paste via 13 (step S108), and the mask material 7 is peeled off. After removing (step S110), as shown in FIG. 9 (e), the first printed wiring having the first resin base material 11 provided with the adhesive layer 9 while the wiring 12 and the conductive paste via 13 are formed. A substrate 10 is formed. The third printed wiring board 30 having wirings 32 and conductive paste vias 33 having different sizes and arrangement pitches is manufactured and prepared by performing the same process as described above.

次に、図6を参照しながら第2プリント配線基板20の製造工程について説明する。なお、既に説明した箇所には同一の符号を附して説明を割愛する場合があり、各ステップの具体的な処理内容については上述した内容を適用可能であるとする。まず、図10(a)に示すように、第2樹脂基材21の両面に導体層8が形成された両面銅張積層板(両面CCL)を準備し(ステップS120)、図10(b)に示すように、所定箇所にビアホール4を形成して(ステップS122)、例えばプラズマデスミア処理を行う。   Next, the manufacturing process of the second printed wiring board 20 will be described with reference to FIG. In addition, the part already demonstrated may attach | subject the same code | symbol, and may omit description, and suppose that the content mentioned above is applicable to the specific processing content of each step. First, as shown to Fig.10 (a), the double-sided copper clad laminated board (double-sided CCL) by which the conductor layer 8 was formed on both surfaces of the 2nd resin base material 21 was prepared (step S120), and FIG.10 (b) As shown in FIG. 5, via holes 4 are formed at predetermined positions (step S122), and for example, plasma desmear processing is performed.

次に、図10(c)に示すように、第2樹脂基材21の片面にパネルめっき処理を施して(ステップS124)、導体層8上及びビアホール4内にめっき層23aを形成する。なお、図10(c)においては、上側の導体層8上のめっき層は図示を省略している。ビアホール4内のめっき層23aは後にめっきビア23として用いられるものであり、第2樹脂基材21の両面の導体層8を電気的に導通している。   Next, as shown in FIG. 10C, panel plating is performed on one surface of the second resin base material 21 (step S <b> 124) to form a plating layer 23 a on the conductor layer 8 and in the via hole 4. In FIG. 10C, the plating layer on the upper conductor layer 8 is not shown. The plated layer 23 a in the via hole 4 is used later as the plated via 23 and electrically connects the conductor layers 8 on both surfaces of the second resin base material 21.

そして、図10(d)に示すように、第2樹脂基材21の両面にエッチング等により配線22やめっきビア23などの配線パターンを形成する(ステップS126)。最後に、図10(e)に示すように、第4プリント配線基板40が内蔵される部分の第2樹脂基材21をUVレーザなどにより除去し、開口部29を形成して(ステップS128)、第2プリント配線基板20を形成する。   Then, as shown in FIG. 10D, wiring patterns such as wirings 22 and plating vias 23 are formed on both surfaces of the second resin base material 21 by etching or the like (step S126). Finally, as shown in FIG. 10E, the portion of the second resin base material 21 in which the fourth printed wiring board 40 is built is removed by a UV laser or the like to form an opening 29 (step S128). Then, the second printed wiring board 20 is formed.

次に、図7を参照しながら第4プリント配線基板40の製造工程について説明する。
図11(a)に示すように、まず、ポリイミド樹脂フィルムなどからなる第4樹脂基材41を準備し(ステップS130)、図11(b)に示すように、第4樹脂基材41の所定箇所にエキシマレーザ等を用いて直径10μm〜30μm程度のビアホール5を形成する(ステップS132)。
Next, the manufacturing process of the fourth printed wiring board 40 will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 11A, first, a fourth resin substrate 41 made of a polyimide resin film or the like is prepared (step S130), and as shown in FIG. A via hole 5 having a diameter of about 10 μm to 30 μm is formed at a location using an excimer laser or the like (step S132).

ビアホール5を形成したら、プラズマデスミア等のデスミア処理を行って(ステップS134)、図示しないめっきレジストを形成して、例えばセミアディティブ法により、図11(c)に示すように、配線パターン42,43及びフィルドめっきビア44を形成する(ステップS138)。   After the via hole 5 is formed, a desmear process such as plasma desmear is performed (step S134), a plating resist (not shown) is formed, and wiring patterns 42 and 43 are formed by, for example, a semi-additive method as shown in FIG. Then, a filled plating via 44 is formed (step S138).

そして、めっきレジストを除去し(ステップS140)、最後に、図11(d)に示すように、図示しないダイサー等の機器を用いて所定の大きさに切断して個片化し(ステップS142)、第4プリント配線基板40を複数製造する。   Then, the plating resist is removed (step S140), and finally, as shown in FIG. 11 (d), it is cut into a predetermined size using an unillustrated device such as a dicer (step S142). A plurality of fourth printed wiring boards 40 are manufactured.

こうして、第1〜第4プリント配線基板10〜40を作製したら、図12(a)に示すように、第4プリント配線基板40の配線パターン42と第1プリント配線基板10の導電性ペーストビア13とを、電子部品用実装機を用いて位置合わせし、第1プリント配線基板10の接着層9及び導電性ペーストビア13の導電性ペーストが硬化していない状態で、第4プリント配線基板40を第1プリント配線基板10に仮留め接着する。   When the first to fourth printed wiring boards 10 to 40 are manufactured in this way, the wiring pattern 42 of the fourth printed wiring board 40 and the conductive paste via 13 of the first printed wiring board 10 are prepared as shown in FIG. Are aligned using an electronic component mounting machine, and the fourth printed wiring board 40 is mounted in a state where the adhesive layer 9 of the first printed wiring board 10 and the conductive paste of the conductive paste via 13 are not cured. Temporarily bonded to the first printed wiring board 10.

その後、図8に示すように、各プリント配線基板10〜40を位置決めし、積層する(ステップS150)。そして、例えば真空キュアプレス機を用いて、1kPa以下の減圧雰囲気中にて加熱加圧することで熱圧着により一括積層する(ステップS152)。これにより、図12(b)に示すような多層配線基板1を製造する。このとき、層間の各接着層9や各樹脂基材11〜41等の硬化と同時に、ビアホールに充填された導電性ペーストの硬化及び合金化が行われる。従って、導電性ペーストと接する配線等との間には、上述したように金属間化合物の合金層が形成される。   Then, as shown in FIG. 8, each printed wiring board 10-40 is positioned and laminated | stacked (step S150). Then, for example, using a vacuum curing press, heat lamination is performed in a reduced-pressure atmosphere of 1 kPa or less to perform batch lamination by thermocompression bonding (step S152). Thereby, the multilayer wiring board 1 as shown in FIG. At this time, the conductive paste filled in the via hole is cured and alloyed simultaneously with the curing of the adhesive layers 9 between the layers, the resin base materials 11 to 41, and the like. Therefore, an intermetallic compound alloy layer is formed between the conductive paste and the wiring in contact with the conductive paste as described above.

その後、図12(c)に示すように、多層配線基板1における第1プリント配線基板10及び第3プリント配線基板30の配線12,32側の第1及び第3樹脂基材11,31上に、ソルダーレジスト18,38をパターン形成する。最後に、各配線12,32上に電子部品端子19及び基板端子39となるバンプを形成して、電子部品端子19に電子部品90の再配線電極91を接続して実装すれば、図1に示すような多層配線基板1が完成する。   Thereafter, as shown in FIG. 12C, on the first and third resin bases 11 and 31 on the wirings 12 and 32 side of the first printed wiring board 10 and the third printed wiring board 30 in the multilayer wiring board 1. The solder resists 18 and 38 are patterned. Finally, bumps to be the electronic component terminals 19 and substrate terminals 39 are formed on the wirings 12 and 32, and the rewiring electrodes 91 of the electronic components 90 are connected to the electronic component terminals 19 and mounted. A multilayer wiring board 1 as shown is completed.

このように、本実施形態に係る多層配線基板1は、上記のような簡単な製造工程で製造することができる。特に、第4プリント配線基板40は、電子部品を搭載するための通常の電子部品用実装機を用いてプリント配線基板に搭載し、一括積層により多層配線基板1内に内蔵することができるため、低コストで薄型化を図りつつ基板強度を下げずに接続信頼性を向上させることができる多層配線基板1を容易に製造することが可能となる。   Thus, the multilayer wiring board 1 according to the present embodiment can be manufactured by the simple manufacturing process as described above. In particular, the fourth printed wiring board 40 can be mounted on the printed wiring board using a normal electronic component mounting machine for mounting electronic components, and can be built in the multilayer wiring board 1 by batch lamination. It is possible to easily manufacture the multilayer wiring board 1 capable of improving connection reliability without reducing the substrate strength while reducing the thickness at a low cost.

1 多層配線基板
2,3,4,5 ビアホール
7 マスク材
8 導体層
9 接着層
10 第1プリント配線基板
11 第1樹脂基材
12,22,32 配線
13,33 導電性ペーストビア
18,38 ソルダーレジスト
19 電子部品端子
20 第2プリント配線基板
21 第2樹脂基材
23 めっきビア
30 第3プリント配線基板
31 第3樹脂基材
39 基板端子
40 第4プリント配線基板
41 第4樹脂基材
42,43 配線パターン
44 フィルドめっきビア
90 電子部品
91 再配線電極
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Multilayer wiring board 2, 3, 4, 5 Via hole 7 Mask material 8 Conductor layer 9 Adhesive layer 10 1st printed wiring board 11 1st resin base material 12, 22, 32 Wiring 13,33 Conductive paste via | veer 18,38 Solder Resist 19 Electronic component terminal 20 Second printed circuit board 21 Second resin substrate 23 Plating via 30 Third printed circuit board 31 Third resin substrate 39 Board terminal 40 Fourth printed circuit board 41 Fourth resin substrate 42, 43 Wiring pattern 44 Filled plating via 90 Electronic component 91 Rewiring electrode

Claims (4)

少なくとも一方の面に配線パターンが形成され導電性ペーストビアが形成された複数の配線基板を、接着層を介して積層してなり、電子部品端子及び前記電子部品端子と端子ピッチが異なる基板端子を有すると共に、前記電子部品端子を介して電子部品が搭載される多層配線基板において、
前記複数の配線基板は、同様の厚さの第1の配線基板、第2の配線基板、第3の配線基板及び第4の配線基板を有し、
前記第2の配線基板は、前記第4の配線基板が収容される開口部を有し、前記開口部に収容された前記第4の配線基板と共に前記第1の配線基板及び前記第3の配線基板の間に配置され、
前記第4の配線基板は、前記第1の配線基板、前記第2の配線基板及び前記第3の配線基板よりも配線ピッチが小さく、前記電子部品の搭載部の下部前記1の配線基板及び前記第3の配線基板の間に内蔵され、前記第1の配線基板の導電性ペーストビアを介して前記電子部品端子と接続され、その両面に前記電子部品端子から前記基板端子へと前記端子ピッチを拡大させるパターンが形成され、前記両面のパターンを接続するビアを有する
ことを特徴とする多層配線基板。
A plurality of wiring boards each having a wiring pattern formed on at least one surface and conductive paste vias are stacked via an adhesive layer, and electronic component terminals and board terminals having terminal pitches different from those of the electronic component terminals are provided. And having a multilayer wiring board on which electronic components are mounted via the electronic component terminals,
The plurality of wiring boards include a first wiring board, a second wiring board, a third wiring board, and a fourth wiring board having the same thickness,
The second wiring board has an opening in which the fourth wiring board is accommodated, and the first wiring board and the third wiring together with the fourth wiring board accommodated in the opening. Placed between the substrates,
The fourth wiring substrate, the first wiring board, the second wiring board and smaller wiring pitch than the third wiring board, the first wiring substrate at the bottom of the mounting portion of the electronic component and the third is built between the wiring substrate, is pre SL connected to the first of the electronic component terminal via the conductive paste via the wiring board, the terminal and from the electronic component terminal on both sides thereof to the substrate terminal A multilayer wiring board, wherein a pattern for increasing the pitch is formed and has vias connecting the patterns on both sides.
前記第4の配線基板は、単層であるThe fourth wiring board is a single layer.
ことを特徴とする請求項1記載の多層配線基板。The multilayer wiring board according to claim 1, wherein:
前記第1の配線基板前記第2の配線基板、前記第3の配線基板及び前記第4の配線基板は、樹脂基板により形成されたものである
ことを特徴とする請求項1又は2記載の多層配線基板。
The said 1st wiring board , the said 2nd wiring board , the said 3rd wiring board, and the said 4th wiring board are formed with the resin substrate. The Claim 1 or 2 characterized by the above-mentioned. Multilayer wiring board.
前記電子部品端子のうち、最も外側の電子部品端子は、前記電子部品が搭載される前記第1の配線基板の前記電子部品端子と連続するパターンによって端子ピッチを拡大されて前記第の配線基板を介さずに前記導電性ペーストビアを介して前記基板端子と接続されている
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項記載の多層配線基板。
Out of the electronic component terminals, the outermost electronic component terminal is expanded in terminal pitch by a pattern continuous with the electronic component terminal of the first wiring substrate on which the electronic component is mounted, and the fourth wiring substrate. The multilayer wiring board according to any one of claims 1 to 3, wherein the multilayer wiring board is connected to the board terminal via the conductive paste via without passing through the board.
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