JP2001318049A - 合成石英ガラスの光透過率測定方法および光学装置 - Google Patents
合成石英ガラスの光透過率測定方法および光学装置Info
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- JP2001318049A JP2001318049A JP2001055220A JP2001055220A JP2001318049A JP 2001318049 A JP2001318049 A JP 2001318049A JP 2001055220 A JP2001055220 A JP 2001055220A JP 2001055220 A JP2001055220 A JP 2001055220A JP 2001318049 A JP2001318049 A JP 2001318049A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】波長１６５ｎｍ以下における合成石英ガラスの
光透過率を精度良く測定する方法を得る。 【解決手段】波長１６５ｎｍ以下における合成石英ガラ
スの光透過率の測定方法において、合成石英ガラス試料
内の温度ばらつきを±１℃以内に制御した状態で測定す
る。
光透過率を精度良く測定する方法を得る。 【解決手段】波長１６５ｎｍ以下における合成石英ガラ
スの光透過率の測定方法において、合成石英ガラス試料
内の温度ばらつきを±１℃以内に制御した状態で測定す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、合成石英ガラスの
光透過率の測定方法に関する。
光透過率の測定方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、半導体デバイス製造用ステッ
パのレンズやフォトマスクなどの用途で、合成石英ガラ
ス光学部材が使用されており、その光透過率を精密に測
定することは重要である。
パのレンズやフォトマスクなどの用途で、合成石英ガラ
ス光学部材が使用されており、その光透過率を精密に測
定することは重要である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ごく短波長の
光、すなわち、波長１６５ｎｍ以下の光領域において、
その光透過率を精密に測定する試みは少なかった。本発
明は、波長１６５ｎｍ以下における合成石英ガラスの光
透過率を精度良く測定する方法を提供することを目的と
する。本発明は、また、合成石英ガラスを光学部材とし
て用いるとともに安定した光量が得られる、波長１６５
ｎｍ以下の光を光源とする光学装置の提供を目的とす
る。
光、すなわち、波長１６５ｎｍ以下の光領域において、
その光透過率を精密に測定する試みは少なかった。本発
明は、波長１６５ｎｍ以下における合成石英ガラスの光
透過率を精度良く測定する方法を提供することを目的と
する。本発明は、また、合成石英ガラスを光学部材とし
て用いるとともに安定した光量が得られる、波長１６５
ｎｍ以下の光を光源とする光学装置の提供を目的とす
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、波長１６
５ｎｍ以下における合成石英ガラスの光透過率に影響を
与える因子について詳細な検討を行った結果、合成石英
ガラスの温度および温度ばらつきがこの因子となること
を知見した。
５ｎｍ以下における合成石英ガラスの光透過率に影響を
与える因子について詳細な検討を行った結果、合成石英
ガラスの温度および温度ばらつきがこの因子となること
を知見した。
【０００５】すなわち本発明の第１は、波長１６５ｎｍ
以下における合成石英ガラスの光透過率の測定方法にお
いて、合成石英ガラス試料内の温度ばらつきを±１℃以
内、好ましくは±０．５℃以内に制御した状態で測定す
ることを特徴とする合成石英ガラスの光透過率の測定方
法である。
以下における合成石英ガラスの光透過率の測定方法にお
いて、合成石英ガラス試料内の温度ばらつきを±１℃以
内、好ましくは±０．５℃以内に制御した状態で測定す
ることを特徴とする合成石英ガラスの光透過率の測定方
法である。
【０００６】合成石英ガラスの温度が高くなればなるほ
ど、波長１６５ｎｍ以下における光透過率は低下し、逆
に温度が低くなればなるほど、波長１６５ｎｍ以下にお
ける光透過率は上昇する。このことから波長１６５ｎｍ
以下における光透過率およびそのばらつきを安定して測
定するためには、温度ばらつきを±１℃以内に制御す
る。こうすると、温度に起因する合成石英ガラスにおけ
る光透過率のばらつき、すなわち最大光透過率と最小光
透過率との差をおおよそ１％以下に抑制できる。
ど、波長１６５ｎｍ以下における光透過率は低下し、逆
に温度が低くなればなるほど、波長１６５ｎｍ以下にお
ける光透過率は上昇する。このことから波長１６５ｎｍ
以下における光透過率およびそのばらつきを安定して測
定するためには、温度ばらつきを±１℃以内に制御す
る。こうすると、温度に起因する合成石英ガラスにおけ
る光透過率のばらつき、すなわち最大光透過率と最小光
透過率との差をおおよそ１％以下に抑制できる。
【０００７】本発明の光透過率測定方法は、試料室およ
び試料室内部の雰囲気における温度ばらつきが±１℃以
内に制御可能な分光光度計を用いることにより、実施で
きる。具体的には、温度制御された窒素ガスを試料室内
に流し、温度が安定したところで光透過率を測定すれば
よい。
び試料室内部の雰囲気における温度ばらつきが±１℃以
内に制御可能な分光光度計を用いることにより、実施で
きる。具体的には、温度制御された窒素ガスを試料室内
に流し、温度が安定したところで光透過率を測定すれば
よい。
【０００８】本発明の光透過率測定方法は、比較的大型
の光学部材、たとえば、１００ｍｍ角以上の光学部材に
用いると効果が大きい。たとえば、ステッパ用フォトマ
スクなどである。また、Ｆ2レーザに対応する波長１５
７．６ｎｍにおける光透過率を測定するうえで、本発明
は効果が高い。
の光学部材、たとえば、１００ｍｍ角以上の光学部材に
用いると効果が大きい。たとえば、ステッパ用フォトマ
スクなどである。また、Ｆ2レーザに対応する波長１５
７．６ｎｍにおける光透過率を測定するうえで、本発明
は効果が高い。
【０００９】また本発明の第２は、合成石英ガラスを光
学部材として使用し、かつ波長１６５ｎｍ以下の光を光
源とした光学装置において、該合成石英ガラスは、ＯＨ
基含有量が１０ｐｐｍ以下かつＯＨ基含有量ばらつきが
３ｐｐｍ以下であって実質的に還元型欠陥を含有しない
ものであり、該合成石英ガラスの温度を３０℃以下、お
よびその温度ばらつきを±１℃以内、好ましくは±０．
５℃以内に制御する手段を備えることを特徴とする光学
装置である。
学部材として使用し、かつ波長１６５ｎｍ以下の光を光
源とした光学装置において、該合成石英ガラスは、ＯＨ
基含有量が１０ｐｐｍ以下かつＯＨ基含有量ばらつきが
３ｐｐｍ以下であって実質的に還元型欠陥を含有しない
ものであり、該合成石英ガラスの温度を３０℃以下、お
よびその温度ばらつきを±１℃以内、好ましくは±０．
５℃以内に制御する手段を備えることを特徴とする光学
装置である。
【００１０】ここで、光学装置とは、半導体デバイス製
造用のステッパなどである。また、温度ばらつきを制御
する手段としては、温度制御された窒素ガスを合成石英
ガラス光学部材近傍に流し、温度を安定させる手段など
が採用できる。
造用のステッパなどである。また、温度ばらつきを制御
する手段としては、温度制御された窒素ガスを合成石英
ガラス光学部材近傍に流し、温度を安定させる手段など
が採用できる。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明の光学装置の光学部材とし
て使用する合成石英ガラスの温度が３０℃を超えると、
波長１６５ｎｍ以下における光透過率が低下するおそれ
がある。本発明の光学装置には、特に、温度２５℃にお
ける波長１５７．６ｎｍでの内部光透過率が７０％／ｃ
ｍ以上であるＦ2レーザリソグラフィ用合成石英ガラス
を用いることが、好ましい。
て使用する合成石英ガラスの温度が３０℃を超えると、
波長１６５ｎｍ以下における光透過率が低下するおそれ
がある。本発明の光学装置には、特に、温度２５℃にお
ける波長１５７．６ｎｍでの内部光透過率が７０％／ｃ
ｍ以上であるＦ2レーザリソグラフィ用合成石英ガラス
を用いることが、好ましい。
【００１２】本発明では、上記のような合成石英ガラス
の組成と温度制御を採用することにより、合成石英ガラ
ス内における光透過率のばらつき、すなわち最大光透過
率と最小光透過率との差は、おおよそ３％以下に抑える
ことが好ましい。
の組成と温度制御を採用することにより、合成石英ガラ
ス内における光透過率のばらつき、すなわち最大光透過
率と最小光透過率との差は、おおよそ３％以下に抑える
ことが好ましい。
【００１３】本発明において、光学装置に使用される合
成石英ガラス中の塩素含有量は、波長１６５ｎｍ以下の
光透過率に影響を与えるため、少ない方が好ましい。具
体的には１０ｐｐｍ以下、さらには１ｐｐｍ以下である
ことが好ましい。
成石英ガラス中の塩素含有量は、波長１６５ｎｍ以下の
光透過率に影響を与えるため、少ない方が好ましい。具
体的には１０ｐｐｍ以下、さらには１ｐｐｍ以下である
ことが好ましい。
【００１４】また、本発明において、光学装置に使用さ
れる合成石英ガラス中の三員環構造、四員環構造などの
歪んだ構造は、波長１６５ｎｍ以下の光透過率に影響を
与えるため、少ない方が好ましい。具体的にはレーザラ
マンスペクトルにおける４９５ｃｍ-1の散乱ピーク強度
Ｉ1および６０６ｃｍ-1の散乱ピーク強度Ｉ2が、４４０
ｃｍ-1の散乱ピーク強度Ｉ0に対してそれぞれＩ1／Ｉ0
≦０．５９、Ｉ2／Ｉ0≦０．１４であることが好まし
い。
れる合成石英ガラス中の三員環構造、四員環構造などの
歪んだ構造は、波長１６５ｎｍ以下の光透過率に影響を
与えるため、少ない方が好ましい。具体的にはレーザラ
マンスペクトルにおける４９５ｃｍ-1の散乱ピーク強度
Ｉ1および６０６ｃｍ-1の散乱ピーク強度Ｉ2が、４４０
ｃｍ-1の散乱ピーク強度Ｉ0に対してそれぞれＩ1／Ｉ0
≦０．５９、Ｉ2／Ｉ0≦０．１４であることが好まし
い。
【００１５】
【実施例】四塩化ケイ素（ＳｉＣｌ4）を、酸素と水素
の体積比が四塩化ケイ素を１として１５：２５となる酸
水素火炎中で加水分解させ、形成されたＳｉＯ2微粒子
を基材上に堆積させて直径３５０ｍｍ、長さ６００ｍｍ
の多孔質石英ガラス体を作製した。この多孔質石英ガラ
ス体を雰囲気制御可能な電気炉に設置し、表１に示す脱
水処理条件にて多孔質石英ガラス体を保持することによ
り、多孔質石英ガラス体の脱水（ＯＨ基含有量の低減
化）を行った。
の体積比が四塩化ケイ素を１として１５：２５となる酸
水素火炎中で加水分解させ、形成されたＳｉＯ2微粒子
を基材上に堆積させて直径３５０ｍｍ、長さ６００ｍｍ
の多孔質石英ガラス体を作製した。この多孔質石英ガラ
ス体を雰囲気制御可能な電気炉に設置し、表１に示す脱
水処理条件にて多孔質石英ガラス体を保持することによ
り、多孔質石英ガラス体の脱水（ＯＨ基含有量の低減
化）を行った。
【００１６】続いて圧力１５０Ｐａ以下の減圧に保持し
た状態で１４５０℃まで昇温し、この温度にて１０時間
保持し透明石英ガラス体（直径１８０ｍｍ、長さ４００
ｍｍ）を作製した。得られた透明石英ガラス体を、カー
ボン製発熱体を有する電気炉内で、軟化点以上の１７５
０℃に加熱して自重変形を行わせ、２００ｍｍ角で２５
０ｍｍ長のブロック形状に成形し、合成石英ガラスブロ
ックを得た。
た状態で１４５０℃まで昇温し、この温度にて１０時間
保持し透明石英ガラス体（直径１８０ｍｍ、長さ４００
ｍｍ）を作製した。得られた透明石英ガラス体を、カー
ボン製発熱体を有する電気炉内で、軟化点以上の１７５
０℃に加熱して自重変形を行わせ、２００ｍｍ角で２５
０ｍｍ長のブロック形状に成形し、合成石英ガラスブロ
ックを得た。
【００１７】例１〜５の合成石英ガラスブロックの長さ
方向の中心付近から２００ｍｍ角で１０ｍｍ厚の評価用
試料を切出し、ＯＨ基含有量および還元型欠陥の有無を
下記の方法に従って求め、表１に記載した。
方向の中心付近から２００ｍｍ角で１０ｍｍ厚の評価用
試料を切出し、ＯＨ基含有量および還元型欠陥の有無を
下記の方法に従って求め、表１に記載した。
【００１８】なお本方法により得られた合成石英ガラス
中の塩素含有量は５ｐｐｍ以下、歪んだ構造について
は、Ｉ1／Ｉ0≦０．５９、Ｉ2／Ｉ0≦０．１４といずれ
も充分低いレベルであった。
中の塩素含有量は５ｐｐｍ以下、歪んだ構造について
は、Ｉ1／Ｉ0≦０．５９、Ｉ2／Ｉ0≦０．１４といずれ
も充分低いレベルであった。
【００１９】歪み構造の解析方法は以下のように行っ
た。まず例えば波長５１４．５ｎｍのアルゴンイオンレ
ーザを励起光として、１０００〜７２０ｃｍ-1の波数範
囲でその合成石英ガラスのラマンスペクトルを取得す
る。すると、Ｓｉ−Ｏを１単位として立体六員環を形成
する基本骨格振動に基づいた非常にブロードなピークが
約４２０ｃｍ-1に現れる。それと重複して、約４９５ｃ
ｍ-1には平面四員環構造（Ｄ１とも称される）に基づく
ピークが、それらとはほぼ独立して約６０５ｃｍ-1には
平面三員環構造（Ｄ２とも称される）に基づくピークが
現れる。四員環構造、三員環構造ともに石英ガラスの立
体六員環構造を歪ませる。
た。まず例えば波長５１４．５ｎｍのアルゴンイオンレ
ーザを励起光として、１０００〜７２０ｃｍ-1の波数範
囲でその合成石英ガラスのラマンスペクトルを取得す
る。すると、Ｓｉ−Ｏを１単位として立体六員環を形成
する基本骨格振動に基づいた非常にブロードなピークが
約４２０ｃｍ-1に現れる。それと重複して、約４９５ｃ
ｍ-1には平面四員環構造（Ｄ１とも称される）に基づく
ピークが、それらとはほぼ独立して約６０５ｃｍ-1には
平面三員環構造（Ｄ２とも称される）に基づくピークが
現れる。四員環構造、三員環構造ともに石英ガラスの立
体六員環構造を歪ませる。
【００２０】すなわちＤ１、Ｄ２ピークとも、石英ガラ
ス中の歪み構造が大きいほど強度が大きくなる傾向を持
つ。故に、そのスペクトルにピーク分離を行い、立体六
員環の基本骨格振動ピーク強度に対する、各Ｄ１、Ｄ２
ピークの強度比を求めると、歪み構造が定量的に求めら
れる。スペクトルのベースラインに二次関数を、Ｄ１、
Ｄ２ピークにはローレンツ関数を、その他に３つのガウ
ス関数を用いて、実スペクトルに対してカーブフィッテ
ィングすると、ほぼ１００％の精度でスペクトルが再現
される。
ス中の歪み構造が大きいほど強度が大きくなる傾向を持
つ。故に、そのスペクトルにピーク分離を行い、立体六
員環の基本骨格振動ピーク強度に対する、各Ｄ１、Ｄ２
ピークの強度比を求めると、歪み構造が定量的に求めら
れる。スペクトルのベースラインに二次関数を、Ｄ１、
Ｄ２ピークにはローレンツ関数を、その他に３つのガウ
ス関数を用いて、実スペクトルに対してカーブフィッテ
ィングすると、ほぼ１００％の精度でスペクトルが再現
される。
【００２１】この方法は特開平１１−２３０８３０に詳
細に記載されている。３つのガウス関数を用いたピーク
を合成して得られたピークが、その合成石英ガラスの立
体六員環の基本骨格振動ピークに相当する。これをピー
ク強度Ｉ0とした。次にローレンツ関数を用いてピーク
分離されたＤ１、Ｄ２ピークの強度、すなわちＩ1、Ｉ2
を求めた。以上よりＩ0に対するＩ1、Ｉ2のピーク強度
比を用いて「歪み構造」の指標値とした。
細に記載されている。３つのガウス関数を用いたピーク
を合成して得られたピークが、その合成石英ガラスの立
体六員環の基本骨格振動ピークに相当する。これをピー
ク強度Ｉ0とした。次にローレンツ関数を用いてピーク
分離されたＤ１、Ｄ２ピークの強度、すなわちＩ1、Ｉ2
を求めた。以上よりＩ0に対するＩ1、Ｉ2のピーク強度
比を用いて「歪み構造」の指標値とした。
【００２２】（評価１：ＯＨ基含有量）例１〜５の評価
用試料の２００ｍｍ角の面内において２５ｍｍ間隔で計
３６点の赤外分光光度計による測定を行い、波長２．７
μｍにおける吸収ピークからＯＨ基含有量を求め、ＯＨ
基含有量の最大値と最小値を求めた（J.P.Wiliams et.a
l., Ceramic Bulletin, 55(5), 524, 1976）。本法によ
る検出限界は０．１ｐｐｍである。
用試料の２００ｍｍ角の面内において２５ｍｍ間隔で計
３６点の赤外分光光度計による測定を行い、波長２．７
μｍにおける吸収ピークからＯＨ基含有量を求め、ＯＨ
基含有量の最大値と最小値を求めた（J.P.Wiliams et.a
l., Ceramic Bulletin, 55(5), 524, 1976）。本法によ
る検出限界は０．１ｐｐｍである。
【００２３】(評価２：還元型欠陥)例１〜５の評価用試
料の２００ｍｍ角の中央付近より２０ｍｍ×２０ｍｍ×
３ｍｍの試料、および２０ｍｍ×２０ｍｍ×１０ｍｍの
試料を切り出し、それぞれ２０ｍｍ角の２面を鏡面研磨
し、試料の温度を２５℃に保持した状態で真空紫外分光
光度計（分光計器社製「ＵＶ２０１Ｍ」、以下同じ）に
より波長１６３ｎｍにおける光透過率を測定した。厚み
３ｍｍおよび厚み１０ｍｍの２種類の試料の波長１６３
ｎｍ光透過率Ｔ1、Ｔ2より、波長１６３ｎｍにおける内
部光透過率Ｔ 163を式（１）に従って求め、式（２）の
条件が満足するかどうかを調べた。式（２）の条件を満
たさない場合、すなわち式（２）の左辺の値が右辺の値
より小さい場合は、還元型欠陥が存在することを意味す
る。
料の２００ｍｍ角の中央付近より２０ｍｍ×２０ｍｍ×
３ｍｍの試料、および２０ｍｍ×２０ｍｍ×１０ｍｍの
試料を切り出し、それぞれ２０ｍｍ角の２面を鏡面研磨
し、試料の温度を２５℃に保持した状態で真空紫外分光
光度計（分光計器社製「ＵＶ２０１Ｍ」、以下同じ）に
より波長１６３ｎｍにおける光透過率を測定した。厚み
３ｍｍおよび厚み１０ｍｍの２種類の試料の波長１６３
ｎｍ光透過率Ｔ1、Ｔ2より、波長１６３ｎｍにおける内
部光透過率Ｔ 163を式（１）に従って求め、式（２）の
条件が満足するかどうかを調べた。式（２）の条件を満
たさない場合、すなわち式（２）の左辺の値が右辺の値
より小さい場合は、還元型欠陥が存在することを意味す
る。
【００２４】
【数１】
【００２５】（評価３：波長１５７．６ｎｍでの内部光
透過率）例１〜５の評価用試料のＯＨ基含有量が最大で
あった箇所より２０ｍｍ×２０ｍｍ×３ｍｍの試料、お
よび２０ｍｍ×２０ｍｍ×１０ｍｍの試料を切り出し、
それぞれ２０ｍｍ角の２面を鏡面研磨し、試料の温度を
２５℃に保持した状態で真空紫外分光光度計により波長
１５７．６ｎｍにおける光透過率を測定し、表１に記載
した。厚み３ｍｍおよび厚み１０ｍｍの２種類の試料の
波長１５７．６ｎｍ光透過率Ｔ1、Ｔ2より、波長１５
７．６ｎｍにおける内部光透過率Ｔ157.6を式（３）に
従って求めた。なお測定に際して、試料の温度は２５±
０．５℃の範囲に制御した。
透過率）例１〜５の評価用試料のＯＨ基含有量が最大で
あった箇所より２０ｍｍ×２０ｍｍ×３ｍｍの試料、お
よび２０ｍｍ×２０ｍｍ×１０ｍｍの試料を切り出し、
それぞれ２０ｍｍ角の２面を鏡面研磨し、試料の温度を
２５℃に保持した状態で真空紫外分光光度計により波長
１５７．６ｎｍにおける光透過率を測定し、表１に記載
した。厚み３ｍｍおよび厚み１０ｍｍの２種類の試料の
波長１５７．６ｎｍ光透過率Ｔ1、Ｔ2より、波長１５
７．６ｎｍにおける内部光透過率Ｔ157.6を式（３）に
従って求めた。なお測定に際して、試料の温度は２５±
０．５℃の範囲に制御した。
【００２６】
【数２】
【００２７】例４および例５の合成石英ガラスは、光透
過率が低く、本発明の光学装置の光学部材として用いる
のには適当ではない。
過率が低く、本発明の光学装置の光学部材として用いる
のには適当ではない。
【００２８】（評価４：温度およびそのばらつき）例２
および例３にて得られた評価用試料（１０ｍｍ厚）の波
長１５７．６ｎｍでの光透過率を、表２に示すさまざま
な温度ばらつきのもとで、２５ｍｍ間隔で計３６点測定
した。ここで測定には、温度制御された窒素ガスを試料
室の中にパージすることにより試料の温度およびそのば
らつきを制御できる真空紫外分光光度計を使用した。実
質的に還元型欠陥を含有しない合成石英ガラス（１０ｍ
ｍ厚）の波長１５７．６ｎｍでの光透過率はＯＨ基含有
量より式（４）を用いて計算できる。計算値と実測値と
を表２に示した。
および例３にて得られた評価用試料（１０ｍｍ厚）の波
長１５７．６ｎｍでの光透過率を、表２に示すさまざま
な温度ばらつきのもとで、２５ｍｍ間隔で計３６点測定
した。ここで測定には、温度制御された窒素ガスを試料
室の中にパージすることにより試料の温度およびそのば
らつきを制御できる真空紫外分光光度計を使用した。実
質的に還元型欠陥を含有しない合成石英ガラス（１０ｍ
ｍ厚）の波長１５７．６ｎｍでの光透過率はＯＨ基含有
量より式（４）を用いて計算できる。計算値と実測値と
を表２に示した。
【００２９】合成石英ガラス内の温度ばらつきを±１℃
以内に抑えることにより、例２および例３では、波長１
５７．６ｎｍでの光透過率のばらつきが約３％以内に抑
えられていることがわかる。真空紫外分光光度計により
測定した波長１５７．６ｎｍでの光透過率のばらつきが
ＯＨ基含有量のばらつきより計算される値とほぼ等しく
なることがもっとも好ましい。
以内に抑えることにより、例２および例３では、波長１
５７．６ｎｍでの光透過率のばらつきが約３％以内に抑
えられていることがわかる。真空紫外分光光度計により
測定した波長１５７．６ｎｍでの光透過率のばらつきが
ＯＨ基含有量のばらつきより計算される値とほぼ等しく
なることがもっとも好ましい。
【００３０】
【数３】
【００３１】
【表１】
【００３２】
【表２】
【００３３】
【発明の効果】本発明によれば、合成石英ガラスの波長
１６５ｎｍ以下における光透過率を精度良く測定する方
法が得られる。また、合成石英ガラスを光学部材として
用いるとともに安定して光量を得ることのできる、波長
１６５ｎｍ以下の光を光源とする光学装置が得られる。
１６５ｎｍ以下における光透過率を精度良く測定する方
法が得られる。また、合成石英ガラスを光学部材として
用いるとともに安定して光量を得ることのできる、波長
１６５ｎｍ以下の光を光源とする光学装置が得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１５Ｄ ５１６Ｅ (72)発明者 齋藤 和也 愛知県名古屋市天白区久方２−12−１ 豊 田工業大学内 (72)発明者 下平 憲昭 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社内 (72)発明者 生田 順亮 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社内 (72)発明者 菊川 信也 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社内 (72)発明者 吉沢 修平 東京都千代田区有楽町一丁目12番１号 旭 硝子株式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】波長１６５ｎｍ以下における合成石英ガラ
スの光透過率測定方法において、合成石英ガラス試料内
の温度ばらつきを±１℃以内に制御した状態で測定する
ことを特徴とする合成石英ガラスの光透過率測定方法。 - 【請求項２】合成石英ガラス試料の大きさが１００ｍｍ
角以上である請求項１記載の合成石英ガラスの光透過率
測定方法。 - 【請求項３】合成石英ガラスを光学部材として使用し、
かつ波長１６５ｎｍ以下の光を光源とした光学装置にお
いて、該合成石英ガラスは、ＯＨ基含有量が１０ｐｐｍ
以下かつＯＨ基含有量ばらつきが３ｐｐｍ以下であって
実質的に還元型欠陥を含有しないものであり、該合成石
英ガラスの温度を３０℃以下、およびその温度ばらつき
を±１℃以内に制御する手段を備えることを特徴とする
光学装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001055220A JP2001318049A (ja) | 2000-03-01 | 2001-02-28 | 合成石英ガラスの光透過率測定方法および光学装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000055527 | 2000-03-01 | ||
| JP2000-55527 | 2000-03-01 | ||
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|---|---|---|---|---|
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