JP2001316717A - 真空精錬容器のランス挿入口地金取り方法とその装置 - Google Patents
真空精錬容器のランス挿入口地金取り方法とその装置Info
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- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Treatment Of Steel In Its Molten State (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 真空精錬中に不活性ガスを容器内に吹き込む
ものであるため、脱ガスを行いながら不活性ガスを供給
することになり、操業を阻害して設備の効率を低下させ
てしまう。 【解決手段】 真空精錬容器Ｃの運転を停止して真空容
器Ｃ内を復圧した直後、ランス挿入口３の周囲からラン
ス５に向けて高圧気体Ｐを噴射することによってランス
挿入口３に付着した地金Ｇを容器内に取り除くように
し、地金Ｇがまだ高温で柔らかい間に、酸素等の高圧気
体Ｐによって操業を阻害することなく付着した地金Ｇを
除去するようにする。
ものであるため、脱ガスを行いながら不活性ガスを供給
することになり、操業を阻害して設備の効率を低下させ
てしまう。 【解決手段】 真空精錬容器Ｃの運転を停止して真空容
器Ｃ内を復圧した直後、ランス挿入口３の周囲からラン
ス５に向けて高圧気体Ｐを噴射することによってランス
挿入口３に付着した地金Ｇを容器内に取り除くように
し、地金Ｇがまだ高温で柔らかい間に、酸素等の高圧気
体Ｐによって操業を阻害することなく付着した地金Ｇを
除去するようにする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本願発明は、ＲＨ真空脱ガス
装置やＶＤＯ炉などの真空精錬容器のランス挿入口やラ
ンスへ付着した地金を取り除くための真空精錬容器のラ
ンス挿入口地金取り装置に関するものである。
装置やＶＤＯ炉などの真空精錬容器のランス挿入口やラ
ンスへ付着した地金を取り除くための真空精錬容器のラ
ンス挿入口地金取り装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来から、ＲＨ真空脱ガス装置やＶＤＯ
炉での含クロム鋼、例えばステンレス鋼の脱炭精錬にお
いては、脱炭ガス容器のランス挿入口から酸素ランスを
挿入して溶鋼に酸素を吹き付け、真空によるＣＯガス分
圧の低下によってＣｒの酸化を抑制しながら脱炭が行わ
れている。
炉での含クロム鋼、例えばステンレス鋼の脱炭精錬にお
いては、脱炭ガス容器のランス挿入口から酸素ランスを
挿入して溶鋼に酸素を吹き付け、真空によるＣＯガス分
圧の低下によってＣｒの酸化を抑制しながら脱炭が行わ
れている。
【０００３】しかし、ランス挿入口の上部にシール装置
を装着した精錬容器を用いて真空精錬すると、減圧によ
る溶鋼の脱炭反応でＣＯガスが活発に発生し、容器の内
周面に細かい飛散溶鋼（スプラッシュ）が付着し、この
溶鋼が堆積して地金として形成されてしまう。このよう
な地金は容器の内周面だけでなく、ランス挿入口の内部
まで形成される場合がある。
を装着した精錬容器を用いて真空精錬すると、減圧によ
る溶鋼の脱炭反応でＣＯガスが活発に発生し、容器の内
周面に細かい飛散溶鋼（スプラッシュ）が付着し、この
溶鋼が堆積して地金として形成されてしまう。このよう
な地金は容器の内周面だけでなく、ランス挿入口の内部
まで形成される場合がある。
【０００４】このようにランス挿入口に地金が付着した
場合、ランスが抜けなくなってしまうので、ランス挿入
口から取り外さなければならなくなり、高熱下での重作
業が必要となる。そのため、設備の稼働率低下を招いて
しまう。
場合、ランスが抜けなくなってしまうので、ランス挿入
口から取り外さなければならなくなり、高熱下での重作
業が必要となる。そのため、設備の稼働率低下を招いて
しまう。
【０００５】そこで、実公平６−３８１０８号公報記載
の考案では、図５に示すように、このような真空精錬容
器５１に設けられたランス挿入口５２の内周面に炉内方
向に向けて開口する複数個のガス吹出しノズル５３を設
け、真空精錬中にこのノズル５３から不活性ガス５４を
吹出すことによって、溶鋼のスプラッシュがランス挿入
口５２に侵入するのを防止して地金５５の付着を防止し
ようとしている。
の考案では、図５に示すように、このような真空精錬容
器５１に設けられたランス挿入口５２の内周面に炉内方
向に向けて開口する複数個のガス吹出しノズル５３を設
け、真空精錬中にこのノズル５３から不活性ガス５４を
吹出すことによって、溶鋼のスプラッシュがランス挿入
口５２に侵入するのを防止して地金５５の付着を防止し
ようとしている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来技術では、真空精錬中に不活性ガス５４を容器内（槽
内）に吹き込むものであるため、脱ガスを行いながら不
活性ガスを容器内に吹き込むことになり、操業を阻害し
て設備の効率を低下させてしまう。
来技術では、真空精錬中に不活性ガス５４を容器内（槽
内）に吹き込むものであるため、脱ガスを行いながら不
活性ガスを容器内に吹き込むことになり、操業を阻害し
て設備の効率を低下させてしまう。
【０００７】
【課題を解決するための手段】そこで、前記課題を解決
するために、本願発明の真空精錬容器のランス挿入口地
金取り方法は、真空精錬容器の運転を停止して容器内を
復圧した直後、ランス挿入口の周囲からランスに向けて
高圧気体を噴射することによって、ランス挿入口に付着
した地金を容器内に取り除くようにしている。この高圧
気体としては、例えば、酸素（Ｏ2 ），窒素（Ｎ2 ），
アルゴン（Ａｒ），圧空、およびそれらの混合物等が用
いられる。このようにすれば、操業を阻害することな
く、地金がまだ高温で柔らかい間に、高圧気体によって
付着した地金を除去することができる。しかも、操業中
に高圧気体を吹き込まないので、不活性ガスのみなら
ず、酸素（Ｏ2 ）や圧空等の利用も可能である。特に、
酸素を混入させることにより、大きな地金除去効果を得
ることができる。
するために、本願発明の真空精錬容器のランス挿入口地
金取り方法は、真空精錬容器の運転を停止して容器内を
復圧した直後、ランス挿入口の周囲からランスに向けて
高圧気体を噴射することによって、ランス挿入口に付着
した地金を容器内に取り除くようにしている。この高圧
気体としては、例えば、酸素（Ｏ2 ），窒素（Ｎ2 ），
アルゴン（Ａｒ），圧空、およびそれらの混合物等が用
いられる。このようにすれば、操業を阻害することな
く、地金がまだ高温で柔らかい間に、高圧気体によって
付着した地金を除去することができる。しかも、操業中
に高圧気体を吹き込まないので、不活性ガスのみなら
ず、酸素（Ｏ2 ）や圧空等の利用も可能である。特に、
酸素を混入させることにより、大きな地金除去効果を得
ることができる。
【０００８】また、高圧気体に剥離剤を混入させて噴射
することにより、地金の除去効果を上げることができ
る。この剥離剤としては、例えば、石灰（ＣａＯ）等の
粉体が用いられる。
することにより、地金の除去効果を上げることができ
る。この剥離剤としては、例えば、石灰（ＣａＯ）等の
粉体が用いられる。
【０００９】さらに、高圧気体をランス外面の接線方向
に噴射することにより、ランスの外面に沿って流れる高
圧気体により地金を効果的に除去することができる。
に噴射することにより、ランスの外面に沿って流れる高
圧気体により地金を効果的に除去することができる。
【００１０】一方、本願発明における真空精錬容器のラ
ンス挿入口地金取り装置にあっては、容器に設けられた
ランス挿入口からランスを挿入した真空精錬容器のラン
ス挿入口地金取り装置において、前記ランス挿入口の周
囲に、ランスに向けて開口する高圧気体噴射口を設け、
該高圧気体噴射口から噴射する高圧気体を真空容器の復
圧後に噴射する制御手段を設けている。この高圧気体噴
射口の配置としては、周方向に均等配置するのが好まし
い。この構成によれば、容器内を復圧後に、ランス挿入
口の周囲に設けた高圧気体噴射口からランスに付着した
地金を効果的に除去することができ、真空精錬容器の操
業を害することなく地金を除去することができる。
ンス挿入口地金取り装置にあっては、容器に設けられた
ランス挿入口からランスを挿入した真空精錬容器のラン
ス挿入口地金取り装置において、前記ランス挿入口の周
囲に、ランスに向けて開口する高圧気体噴射口を設け、
該高圧気体噴射口から噴射する高圧気体を真空容器の復
圧後に噴射する制御手段を設けている。この高圧気体噴
射口の配置としては、周方向に均等配置するのが好まし
い。この構成によれば、容器内を復圧後に、ランス挿入
口の周囲に設けた高圧気体噴射口からランスに付着した
地金を効果的に除去することができ、真空精錬容器の操
業を害することなく地金を除去することができる。
【００１１】また、高圧気体に剥離剤を混入させる混入
手段を設ければ、地金の除去効果を高めることができ
る。剥離剤としては、例えば、石灰（ＣａＯ）等の粉体
が用いられる。
手段を設ければ、地金の除去効果を高めることができ
る。剥離剤としては、例えば、石灰（ＣａＯ）等の粉体
が用いられる。
【００１２】さらに、高圧気体に付着防止剤を混入させ
る混入手段を設ければ、同じ装置を利用して、事前に付
着防止剤をランス挿入口やランスに吹き付けておくこと
ができ、地金の除去効果を上げることができる。この付
着防止剤としては、水ガラス、地盤改良剤等が用いられ
る。
る混入手段を設ければ、同じ装置を利用して、事前に付
着防止剤をランス挿入口やランスに吹き付けておくこと
ができ、地金の除去効果を上げることができる。この付
着防止剤としては、水ガラス、地盤改良剤等が用いられ
る。
【００１３】その上、高圧気体噴射口を、高圧気体をラ
ンス外面の接線方向に噴射するように配設すれば、ラン
スの外面に沿って流れる高圧気体により剥離効果を上げ
て地金を効果的に除去することができる。
ンス外面の接線方向に噴射するように配設すれば、ラン
スの外面に沿って流れる高圧気体により剥離効果を上げ
て地金を効果的に除去することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本願発明の一実施形態を図
面に基づいて説明する。図１は本願発明の第１実施形態
を示す真空精錬容器のランス挿入口地金取り装置におけ
るランス挿入口部の断面図であり、図２は図１に示すＡ
−Ａ断面図である。
面に基づいて説明する。図１は本願発明の第１実施形態
を示す真空精錬容器のランス挿入口地金取り装置におけ
るランス挿入口部の断面図であり、図２は図１に示すＡ
−Ａ断面図である。
【００１５】図１に示すように、真空精錬容器Ｃは、そ
の外郭を形成する鉄皮１の内側に内張耐火物２が設けら
れ、その上部にランス挿入口３（この明細書では、Ｏ2
用、ＰＢ用、バーナ等加熱用、合金投入用、測温サンプ
リング用等を含む）が設けられている。このランス挿入
口３の上部にはシール装置４が設けられており、このシ
ール装置４によってランス挿入口３とランス５との間が
密封されている。
の外郭を形成する鉄皮１の内側に内張耐火物２が設けら
れ、その上部にランス挿入口３（この明細書では、Ｏ2
用、ＰＢ用、バーナ等加熱用、合金投入用、測温サンプ
リング用等を含む）が設けられている。このランス挿入
口３の上部にはシール装置４が設けられており、このシ
ール装置４によってランス挿入口３とランス５との間が
密封されている。
【００１６】そして、このランス挿入口３には、周方向
からランス５に向かって開口する高圧気体噴射口６が設
けられている。この実施形態における高圧気体噴射口６
は、図２に示すように、ランス挿入口３の周囲に９０°
間隔で４個が均等配置されている。この高圧気体噴射口
６は、必要に応じて設ければよく、また均等配置に限ら
れるものでもない。
からランス５に向かって開口する高圧気体噴射口６が設
けられている。この実施形態における高圧気体噴射口６
は、図２に示すように、ランス挿入口３の周囲に９０°
間隔で４個が均等配置されている。この高圧気体噴射口
６は、必要に応じて設ければよく、また均等配置に限ら
れるものでもない。
【００１７】さらに、この実施形態では、高圧気体噴射
口６が、ランス外周の接線方向Ｄに向けて開口するよう
に設けられており、噴射した高圧気体Ｐがランス５の外
周の接線方向Ｄに噴射されるように構成されている。従
って、噴射された高圧気体Ｐは、ランス５の外周に沿っ
てランス挿入口３内を旋回して容器内側へと噴射される
こととなる。この高圧気体噴射口６には高圧気体供給管
７が接続されており、図示しない高圧気体供給装置から
高圧気体Ｐが供給されている。この高圧気体Ｐとして
は、酸素（Ｏ2 ），窒素（Ｎ2 ），アルゴン（Ａｒ），
圧空、およびそれらの混合物等が用いられる。また、こ
の高圧気体Ｐの圧力としては、例えば、５〜１０ｋｇ／
ｃｍ2 程度の圧力で、連続的に噴射される。
口６が、ランス外周の接線方向Ｄに向けて開口するよう
に設けられており、噴射した高圧気体Ｐがランス５の外
周の接線方向Ｄに噴射されるように構成されている。従
って、噴射された高圧気体Ｐは、ランス５の外周に沿っ
てランス挿入口３内を旋回して容器内側へと噴射される
こととなる。この高圧気体噴射口６には高圧気体供給管
７が接続されており、図示しない高圧気体供給装置から
高圧気体Ｐが供給されている。この高圧気体Ｐとして
は、酸素（Ｏ2 ），窒素（Ｎ2 ），アルゴン（Ａｒ），
圧空、およびそれらの混合物等が用いられる。また、こ
の高圧気体Ｐの圧力としては、例えば、５〜１０ｋｇ／
ｃｍ2 程度の圧力で、連続的に噴射される。
【００１８】このようなランス挿入口地金取り装置Ｍ1
によれば、真空精錬容器Ｃとして精錬作業を行った後、
真空容器Ｃの内部を復圧し、その直後に高圧気体噴射口
６から高圧気体Ｐを噴射すれば、この高圧気体Ｐによっ
てランス挿入口３に付着した地金Ｇを吹き飛ばして除去
することができる。この容器内を復圧後に高圧気体Ｐを
噴射するための制御は、真空精錬作業を制御する図示し
ない制御装置（制御手段）によって行われる。
によれば、真空精錬容器Ｃとして精錬作業を行った後、
真空容器Ｃの内部を復圧し、その直後に高圧気体噴射口
６から高圧気体Ｐを噴射すれば、この高圧気体Ｐによっ
てランス挿入口３に付着した地金Ｇを吹き飛ばして除去
することができる。この容器内を復圧後に高圧気体Ｐを
噴射するための制御は、真空精錬作業を制御する図示し
ない制御装置（制御手段）によって行われる。
【００１９】このように、操業直後の、付着した地金Ｇ
がまだ高温で柔らかい間に高圧気体Ｐを噴射して地金Ｇ
を除去するので、通常の操業を阻害することなく、付着
した地金Ｇの効果的な除去ができる。しかも、本願発明
によれば、操業中に吹き込まないので、不活性ガスのみ
ならず、酸素や圧空等の気体を利用することも可能であ
り、特に、酸素が混入されていれば、地金除去効果を大
きくできる。
がまだ高温で柔らかい間に高圧気体Ｐを噴射して地金Ｇ
を除去するので、通常の操業を阻害することなく、付着
した地金Ｇの効果的な除去ができる。しかも、本願発明
によれば、操業中に吹き込まないので、不活性ガスのみ
ならず、酸素や圧空等の気体を利用することも可能であ
り、特に、酸素が混入されていれば、地金除去効果を大
きくできる。
【００２０】また、このように噴射する高圧気体Ｐの圧
力や噴射時間を調整することにより、ランス挿入口３の
みならず、その下方のランス５に付いた地金Ｇも除去す
ることができる。
力や噴射時間を調整することにより、ランス挿入口３の
みならず、その下方のランス５に付いた地金Ｇも除去す
ることができる。
【００２１】図３は本願発明の第２実施形態を示す真空
精錬容器のランス挿入口地金取り装置におけるランス挿
入口部の断面図であり、この実施形態のランス挿入口地
金取り装置Ｍ2 は、高圧気体噴射口６をランス挿入口３
側から容器内へ向けて傾斜させて開口させている。その
ため、この実施形態のランス挿入口地金取り装置Ｍ2に
よれば、高圧気体噴射口６から噴射した高圧気体Ｐがラ
ンス５の外周に沿ってランス挿入口３内を旋回して容器
内の下方へと噴射され易くなるとともに、噴射した高圧
気体Ｐがランス５の下方まで達してランス５の外周に付
着した地金Ｇも効果的に除去することができる。他の作
用は上述した第１実施形態と同様であるため、省略す
る。
精錬容器のランス挿入口地金取り装置におけるランス挿
入口部の断面図であり、この実施形態のランス挿入口地
金取り装置Ｍ2 は、高圧気体噴射口６をランス挿入口３
側から容器内へ向けて傾斜させて開口させている。その
ため、この実施形態のランス挿入口地金取り装置Ｍ2に
よれば、高圧気体噴射口６から噴射した高圧気体Ｐがラ
ンス５の外周に沿ってランス挿入口３内を旋回して容器
内の下方へと噴射され易くなるとともに、噴射した高圧
気体Ｐがランス５の下方まで達してランス５の外周に付
着した地金Ｇも効果的に除去することができる。他の作
用は上述した第１実施形態と同様であるため、省略す
る。
【００２２】図４は本願発明の第３実施形態を示す構成
図である。この第３実施形態は、上述した第１，第２実
施形態における真空精錬容器のランス挿入口地金取り装
置Ｍ 1 ，Ｍ2 において、高圧気体Ｐ中に剥離剤又は付着
防止剤を混入させて噴射するように構成したものであ
る。
図である。この第３実施形態は、上述した第１，第２実
施形態における真空精錬容器のランス挿入口地金取り装
置Ｍ 1 ，Ｍ2 において、高圧気体Ｐ中に剥離剤又は付着
防止剤を混入させて噴射するように構成したものであ
る。
【００２３】図示するように、剥離剤を気体８中に混入
させて供給するホッパ９と、付着防止剤を気体８中に混
入させて供給するホッパ１０とが設けられ、これらのホ
ッパ９，１０の下流側に、これら剥離剤又は付着防止剤
が混入された気体８を高圧気体Ｐ中に混入させる混入手
段たる混合ホッパ１１が設けられている。そして、この
混合ホッパ１１によって高圧気体Ｐ中に剥離剤又は付着
防止剤が混入され、高圧気体供給管７へと供給されるよ
うに構成されている。
させて供給するホッパ９と、付着防止剤を気体８中に混
入させて供給するホッパ１０とが設けられ、これらのホ
ッパ９，１０の下流側に、これら剥離剤又は付着防止剤
が混入された気体８を高圧気体Ｐ中に混入させる混入手
段たる混合ホッパ１１が設けられている。そして、この
混合ホッパ１１によって高圧気体Ｐ中に剥離剤又は付着
防止剤が混入され、高圧気体供給管７へと供給されるよ
うに構成されている。
【００２４】この剥離剤としては、石灰（ＣａＯ）等が
用いられ、付着防止剤としては、水ガラス、地盤改良剤
等が用いられる。なお、他の構成は上述した第１実施形
態と同一であるため、同一の符号を付してその説明は省
略する。
用いられ、付着防止剤としては、水ガラス、地盤改良剤
等が用いられる。なお、他の構成は上述した第１実施形
態と同一であるため、同一の符号を付してその説明は省
略する。
【００２５】この第３実施形態のランス挿入口地金取り
装置Ｍ3 のように、高圧気体Ｐ中に剥離剤を混入させれ
ば、高圧気体Ｐによる剥離効果を向上させることがで
き、また、高圧気体Ｐ中に付着防止剤を混入させれば、
同じ装置を利用して、操業前に付着防止剤をランス挿入
口３とランス５に吹き付けておくことにより、操業中に
地金Ｇが付着し難くできるとともに、付着した地金Ｇの
除去が容易に行えるようにできる。
装置Ｍ3 のように、高圧気体Ｐ中に剥離剤を混入させれ
ば、高圧気体Ｐによる剥離効果を向上させることがで
き、また、高圧気体Ｐ中に付着防止剤を混入させれば、
同じ装置を利用して、操業前に付着防止剤をランス挿入
口３とランス５に吹き付けておくことにより、操業中に
地金Ｇが付着し難くできるとともに、付着した地金Ｇの
除去が容易に行えるようにできる。
【００２６】なお、上述した実施形態は一実施形態であ
り、本願発明の要旨を損なわない範囲での種々の変更は
可能であり、本願発明は上述した実施形態に限定される
ものではない。
り、本願発明の要旨を損なわない範囲での種々の変更は
可能であり、本願発明は上述した実施形態に限定される
ものではない。
【００２７】
【発明の効果】本願発明は、以上説明したような形態で
実施され、以下に記載するような効果を奏する。
実施され、以下に記載するような効果を奏する。
【００２８】操業後に容器内を復圧した後で高圧気体を
吹き付けて地金を除去するので、操業時の効率低下を招
くことなく付着した地金の効果的な除去が可能となる。
吹き付けて地金を除去するので、操業時の効率低下を招
くことなく付着した地金の効果的な除去が可能となる。
【図１】本願発明の第１実施形態を示す真空精錬容器の
ランス挿入口地金取り装置におけるランス挿入口部の断
面図である。
ランス挿入口地金取り装置におけるランス挿入口部の断
面図である。
【図２】図１に示すＡ−Ａ断面図である。
【図３】本願発明の第２実施形態を示す真空精錬容器の
ランス挿入口地金取り装置におけるランス挿入口部の断
面図である。
ランス挿入口地金取り装置におけるランス挿入口部の断
面図である。
【図４】本願発明の第３実施形態を示す構成図である。
【図５】従来の真空精錬容器のランス挿入口部における
断面図である。
断面図である。
１…鉄皮 ２…内張耐火物 ３…ランス挿入口 ４…シール装置 ５…ランス ６…高圧気体噴射口 ７…高圧気体供給管 ８…気体 ９，１０…ホッパ １１…混合ホッパ Ｇ…地金 Ｐ…高圧気体 Ｄ…接線方向 Ｍ1,Ｍ2 …ランス挿入口地金取り装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｆ２７Ｄ 23/02 Ｆ２７Ｄ 23/02 Ｆターム(参考） 4K001 AA10 BA23 DA05 EA02 EA03 GB03 JA01 4K002 AA03 BF02 BF04 4K013 CA04 CA15 CA19 CE01 CE04 CE09 4K056 AA02 BA04 CA02 EA01 EA03
Claims (7)
- 【請求項１】 真空精錬容器の運転を停止して容器内を
復圧した直後、ランス挿入口の周囲からランスに向けて
高圧気体を噴射することによって、ランス挿入口に付着
した地金を容器内に取り除く真空精錬容器のランス挿入
口地金取り方法。 - 【請求項２】 高圧気体に剥離剤を混入させて噴射する
ことを特徴とする請求項１記載の真空精錬容器のランス
挿入口地金取り方法。 - 【請求項３】 高圧気体をランス外面の接線方向に噴射
することを特徴とする請求項１又は請求項２記載の真空
精錬容器のランス挿入口地金取り方法。 - 【請求項４】 容器に設けられたランス挿入口からラン
スを挿入した真空精錬容器のランス挿入口地金取り装置
において、 前記ランス挿入口の周囲に、ランスに向けて開口する高
圧気体噴射口を設け、該高圧気体噴射口から噴射する高
圧気体を真空容器の復圧後に噴射する制御手段を設けた
ことを特徴とする真空精錬容器のランス挿入口地金取り
装置。 - 【請求項５】 高圧気体に剥離剤を混入させる混入手段
を設けたことを特徴とする請求項４記載の真空精錬容器
のランス挿入口地金取り装置。 - 【請求項６】 高圧気体に付着防止剤を混入させる混入
手段を設けたことを特徴とする請求項４又は請求項５記
載の真空精錬容器のランス挿入口地金取り装置。 - 【請求項７】 高圧気体噴射口を、高圧気体をランス外
面の接線方向に噴射するように配設したことを特徴とす
る請求項４〜６のいずれか１項に記載の真空精錬容器の
ランス挿入口地金取り装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000131214A JP3515043B2 (ja) | 2000-04-28 | 2000-04-28 | 真空精錬容器のランス挿入口地金取り方法とその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000131214A JP3515043B2 (ja) | 2000-04-28 | 2000-04-28 | 真空精錬容器のランス挿入口地金取り方法とその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001316717A true JP2001316717A (ja) | 2001-11-16 |
| JP3515043B2 JP3515043B2 (ja) | 2004-04-05 |
Family
ID=18640151
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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| KR200460059Y1 (ko) | 2009-03-19 | 2012-05-02 | 현대제철 주식회사 | 전기로 천정용 선회 고정구조체의 에어커튼장치 |
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| KR101623207B1 (ko) * | 2009-07-21 | 2016-05-23 | 주식회사 포스코 | 진공 탈가스 설비의 ｔｏｂ 홀 막힘 방지 장치 |
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2000
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