JP2001316136A

JP2001316136A - レーザ光硬化システム

Info

Publication number: JP2001316136A
Application number: JP2001066192A
Authority: JP
Inventors: Justin Thompson; ジヤステイン・トンプソン
Original assignee: Alcatel CIT SA; Alcatel SA
Current assignee: Alcatel CIT SA; Alcatel Lucent SAS
Priority date: 2000-03-31
Filing date: 2001-03-09
Publication date: 2001-11-13
Also published as: US6463872B1; DK1138642T3; CN1233583C; ATE271531T1; EP1138642B1; CN1315297A; EP1138642A1; DE60104351T2; DE60104351D1

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】光ファイバまたは光ファイバリボンに塗布さ
れた被覆材を硬化させるためのシステムおよび方法を提
供すること。【解決手段】本発明によるシステムは、所定の波長ま
たは波長範囲を有し、被覆材を一様に硬化させるため
に、様々な角度からファイバまたはリボンに照射される
複数のレーザビームを出力するためのレーザ硬化装置１
８を使用している。システムは、レーザビームを放出す
る少なくとも１つのレーザ２２と、レーザビームを複数
の出力ビームに分割するためのスプリッタ２６と、出力
ビームが様々な角度から光ファイバの被覆材に照射され
るように、出力ビームを反射する反射器配列とを含んで
いる。反射器は複数のミラーを備えているか、あるいは
別法としてハウジング２４を備えている。ハウジング
は、光ファイバをほぼ取り囲み、ハウジングの内面の少
なくとも一部は、レーザビームを反射するようになって
いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、１つまたは複数の
レーザを用いて、光ファイバまたは光ファイバリボンの
被覆材を硬化させるための方法および装置に関する。よ
り詳細には、本発明は、複数のレーザビームが様々な角
度からファイバに照射され、ファイバ被覆材をより一様
に硬化させる方法および装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】通常、光ファイバの製造においては、別
工程で製造されるガラスプリフォームロッドが、ロッド
を垂直にして、一定の速度で炉に移される。炉はプリフ
ォームを軟らかくし、線引きタワーの底部に設けられた
キャプスタンによって、プリフォームロッドの溶融端か
ら光ファイバが線引きされる。

【０００３】光ファイバの表面は、傷による損傷を受け
やすく、線引き後、いかなる面にも触れることなく、光
ファイバに被覆を施さなければならない。液体被覆材を
ひとたび塗布すると、光ファイバがキャプスタンに達す
る前に、速やかに硬化させなければならない。通常、被
覆材は光硬化によって硬化される。

【０００４】単一の被覆材が塗布される場合もあるが、
通常、一次被覆材および二次被覆材を含む２種類の被覆
材が塗布される。一次被覆材はガラスファイバに直接塗
布され、一次被覆材が硬化すると、ガラスファイバのク
ッションとして軟らかく、迎合的な物質が形成され、フ
ァイバの曲げ、敷設あるいはスプール時に生じる応力を
緩和し、ガラスファイバを保護している。二次被覆材
は、一次被覆材の上に塗布され、保護外層として、製造
時および使用時におけるガラスファイバの損傷を防止し
ている。

【０００５】移動中の光ファイバに被覆材が塗布される
と、通常、紫外線放射への露光によって被覆材が硬化さ
れる。被覆システムの中には、一次被覆材を塗布した
後、二次被覆材を塗布する前に、紫外線エネルギーへの
露光によって一次被覆材を硬化させているシステムもあ
る。光ファイバ製造における重要な検討事項は、被覆工
程時におけるファイバ中の熱量を最小にすることであ
る。例えば、光ファイバ上の被覆材率は、被覆材が硬化
し始める温度の関数であることが分かっている。被覆材
に過度の量の赤外線が放射されると、好ましくない熱が
発生し、結果的に生じる被覆材率に悪影響を与えること
がある。

【０００６】光ファイバ製造における他の重要な検討事
項は、線引き工程の結果、既にファイバ自体が極めて熱
くなっていることである。被覆ダイに流動体に入る際の
ファイバの温度が高すぎると熱境界層が形成され、被覆
材が不安定になる原因となり、および／または、ファイ
バが全く被覆されない状態を招く恐れがある。ランプか
ら熱を加えることによるファイバの冷却率の低下が、熱
境界層形成の機会を増加させている。すなわち、ファイ
バの周囲が冷たいほど、速くファイバが冷却される。リ
ボン工程においては、被覆ダイに入るファイバの温度が
室温であるため、この既存の熱は問題にはならないが、
被覆材率など最終材料特性の変化の原因になる潜在的な
問題があり、また、以下で考察するように、エネルギー
を浪費して無駄な波長放射を発生する、という問題があ
る。

【０００７】紫外線硬化は、紫外線の放射強度および放
射波長、ならびに紫外線硬化性材料中の光イニシエータ
および光増感剤の対応吸収作用を利用したものである。
従来の照射装置は、広範囲の波長を放出するランプを利
用しており、そのピーク照射における波長は、１つまた
は複数の波長か、あるいは狭帯域の波長である。このよ
うなランプでは、出力の大半が、硬化工程には役に立た
ない広帯域の波長で照射されるという単純な理由によ
り、ある程度の無効性は避けられない。また、通常この
ようなランプには、ランプを冷却するための、ランプコ
ンフィギュレーションを通り抜ける大量の冷却空気が必
要である。この冷却空気は、ランプ電球と光ファイバま
たは光ファイバリボン間の領域を通って流れる。この光
ファイバまたは光ファイバリボンを、以下、基板（すな
わち、基板は光ファイバ上、または光ファイバリボン上
のいずれかにある）という。この冷却空気中の酸素が、
放出される紫外線放射の一部と反応してオゾンが形成さ
れる。このオゾンは安全に係わるため、処理しなければ
ならない。この酸素との反応に消費される紫外線放射は
基板に達することはなく、無効として失われる。従来の
ランプが発生する放射熱を発生しないレーザシステムで
は、レーザと基板間の領域における冷却空気流は不要で
ある。したがって、窒素などの不活性ガスでこの領域を
充填し、紫外線放射を浪費する酸素を、この領域から排
除することができる。このことを念頭におくと、レーザ
には放射の浪費がなく、また、放射の引き渡しがより効
率的になるように、レーザを使用することができる。

【０００８】米国特許第４，８１２，１５０に、レーザ
を用いた光ファイバの被覆材硬化が開示されているが、
この特許では、単一レーザビームが光ファイバの片面に
照射されるので被覆材の加熱が不均一になる。この方法
で光ファイバ、特に光ファイバリボンを硬化させると、
一方の面の硬化が、もう一方の面の硬化より速いため、
基板が彎曲する原因になることがある。さらに、レーザ
ビームの局部集中による過大熱が発生し、そのため被覆
材率が好ましくない結果になることがある。（記載され
ている熱発生レーザではなく）紫外線硬化性レーザを、
この従来技術に記載されている配置で用いると、レーザ
出力波長の比較的狭い帯域への局部化により、ほとんど
加熱することがない。しかし、不均一硬化による潜在的
な彎曲の問題は、光ファイバまたは光ファイバリボンの
片面にレーザが集中する場合、如何なる波長のレーザに
も等しく該当する問題である。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
関連技術の欠点を解決することである。特に、本発明の
目的は、硬化中の被覆材の温度が好ましい範囲に維持さ
れる、光ファイバ基板に塗布される被覆材を硬化させる
ためのシステムおよび方法を提供することである。

【００１０】本発明の目的はさらに、被覆材を硬化させ
るために使用するビームの波長が、重合効率を最適に
し、かつ、エネルギーの浪費が最小（すなわち、光イニ
シエータ／光増感剤を活性化させない波長を作り出すた
めにエネルギーが消費され、かつ、従来のランプシステ
ムにおける酸素によって吸収される紫外線放射を発生す
るためにエネルギーが消費される）になるように制御さ
れる、光ファイバ基板の被覆材を硬化させるシステムお
よび方法を提供することである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明は、所定の波長ま
たは波長範囲を有し、被覆材を一様に硬化させるため
に、様々な角度からファイバに照射される複数のレーザ
ビームを出力するためのレーザ硬化装置を提供すること
によって、上記の目的およびその他の目的ならびに利点
を実現している。

【００１２】本発明の一態様によれば、システムは、レ
ーザビームを放出する少なくとも１つのレーザと、レー
ザビームを複数の出力ビームに分割するためのスプリッ
タと、出力ビームが、様々な角度から光ファイバの被覆
材に照射されるように、出力ビームを反射する反射器装
置とを含んでいる。反射器装置は複数のミラーを備えて
いるか、あるいは別法としてハウジングを備えている。
ハウジングは、光ファイバをほぼ取り囲み、ハウジング
の内面の少なくとも一部は、レーザビームを反射するよ
うになっている。

【００１３】スプリッタは、ビームを分割するためのビ
ームスプリッタ、または他の相当手段を含んでいる。レ
ーザビームの波長は、２５０〜４５０ｎｍの範囲にある
ことが好ましいが、最適波長は、硬化させる材料中に使
用される個々の光イニシエータ／光増感剤によって決ま
る。例えば、波長が短いほどエネルギーが大きく、一般
的により速い硬化速度をもたらしている。また、波長が
長いほど、顔料などの汚染物を通り抜け、より適切に透
過する傾向にある。したがって、一般的に長い波長は、
被覆材料が着色されている場合には、より適切である。

【００１４】本発明の他の態様によれば、システムは、
ファイバ基板に照射される第２のレーザビームを出力す
るための第２のレーザを含んでいる。第２のレーザの波
長範囲は、異なる深さで硬化させるために、第１のレー
ザの波長範囲とは別の波長範囲を持たせることができ
る。あるいは、同じ波長範囲を持たせ、追加エネルギー
をもたらすことによって、必要な露光時間を短縮するこ
とができる（製造速度を速くすることができる）。

【００１５】本発明のさらに他の態様によれば、光ファ
イバ基板の被覆材を硬化させる方法には、ビームが様々
な角度で基板に照射されるように、少なくとも１つのレ
ーザから放出される複数のビームを基板に向けて導くス
テップが含まれている。

【００１６】本発明の上記の目的およびその他の目的な
らびに利点は、添付の図面に照らして行う、好ましい実
施形態についての詳細説明により、より明確になるであ
ろう。添付の図面において、同じ参照番号は、全図を通
して同じ部品あるいは対応部品を示している。

【００１７】

【発明の実施の形態】本発明の第１の実施形態につい
て、図１を参照しながら説明する。図１（ａ）は、ファ
イバ線引きシステム１０を示したものであり、ファイバ
１２が、従来のプリフォーム１４から線引きされ、ファ
イバに被覆材を塗布するための被覆装置１６を通過して
いる。被覆材が施された光ファイバ１２は、次に、レー
ザ硬化装置１８を通過して被覆材が硬化された後、巻取
り２０で巻き取られる。図１（ｂ）は、リボン製造シス
テム１０’を示したもので、複数の光ファイバ１４’
が、すべてのファイバに同時に被覆材を塗布するための
被覆装置１６’を通して引っ張られ、リボン１２’が製
造される。次に、リボン１２’は、レーザ硬化装置１８
を通過して被覆材が硬化された後、巻取り２０で巻き取
られる。これらの図には、被覆装置および硬化装置がそ
れぞれ１台しか示されていないが、本発明が、単一被覆
材の塗布および硬化に制限されないことは理解されよ
う。例えば、一次被覆装置および二次被覆装置のそれぞ
れ下流側に配置された２台のレーザ硬化装置１８にする
ことができる。

【００１８】次に、図２を参照しながら、本発明の第１
の実施形態によるレーザ硬化装置１８について説明す
る。硬化装置１８は、レーザ２２、硬化ハウジング２４
およびビームスプリッタ２６を含んでいる。硬化ハウジ
ング２４の形状は、光ファイバリボンの被覆材硬化用と
して使用する場合、通常、だ円形状であり、ハウジング
の内面には反射コーティングが施されている。別法とし
ては、ミラーをハウジング内に選択的に配置し、角度を
付けることもできる。

【００１９】本発明によれば、被覆材が施された光ファ
イバ１２またはリボン１２’は、ハウジング２４を通過
している。レーザ２２が、レーザビーム２８を放出し、
レーザビーム２８は、ビームスプリッタ２６によって複
数の出力ビーム３０に分割され、出力ビーム３０は、出
力ビームが様々な角度で光ファイバ１２に照射されるよ
うに、ハウジング２４の反射内面（またはミラー）で反
射される。したがって、レーザビームが複数の側から光
ファイバに照射され、より一様な硬化をもたらしてい
る。

【００２０】さらに、硬化用としてレーザビームを使用
することにより、赤外線その他無用な波長放出を著しく
低減しつつ、被覆材の硬化に有効で正確な波長または波
長範囲で、ファイバを照射することができる。したがっ
て、被覆材の温度をより正確に制御することができ、上
記で考察した被覆材の安定および被覆材率に関する問題
の原因になるような温度上昇を招くことはない。また、
本発明による照射の場合、硬化工程に無益な波長帯域の
放射生成にエネルギーを浪費することがないため、より
少ないエネルギーで、所望の強度を所望の波長帯域で発
生させることができる。また、低温レーザシステムのた
め、硬化露光領域における従来の冷却空気流中の酸素を
除去することができ、生成された放射をより効率良く、
基板に引き渡すことができる。

【００２１】本発明の他の利点は、ランプを用いた従来
の硬化と比較して、ライン速度を速くすることができる
ことである。特に、レーザから放出されるビームが、好
ましい波長で、ファイバ周囲の複数の位置からファイバ
に照射されるため、被覆材の硬化が従来の配置よりも速
く、そのため、ライン速度を速くすることができる。

【００２２】図３は、本発明によるレーザ硬化装置の第
２の実施形態を示したものである。この実施形態による
レーザ硬化装置１８は、ファイバ１２またはリボン１
２’に、反対側からそれぞれ一対のレーザビーム２８、
２８’を放出する一対のレーザ２２、２２’を含んでい
る。この実施例には２つのレーザしか示されていない
が、本発明がこの点に関して制限されることはなく、第
１の実施形態のように、ビームスプリッタを有する単一
レーザを用いた装置、あるいはこの実施形態のように、
２つ以上のレーザを用いた装置をもカバーしていること
は、当然理解されよう。この実施形態では２つの個別の
レーザ２２および２２’を利用しているため、第１の実
施形態のように、ビームスプリッタまたはビーム反射器
を含む必要はない。しかし、ファイバに照射される出力
ビーム数を増やすために、この２つの実施形態を組み合
わせ、複数のレーザおよびビームスプリッタを持たせる
こともできる。

【００２３】図４は、本発明の第３の実施形態を示した
ものである。この実施形態におけるレーザ硬化装置１８
は、第１の実施形態におけるだ円形硬化ハウジング２４
に代わって、ミラーを含んでいる。そのためレーザ硬化
装置１８は、レーザ２２、ビームスプリッタ２６、およ
び複数のミラー３２を含んでいる。レーザ２２がレーザ
ビーム２８を放出し、それが複数の出力ビーム３０に分
割されている。２本の出力ビーム３０が、ミラー３２の
反射面で反射され、光ファイバ１２またはリボン１２’
の背面（すなわち、ビームを出力するためのレーザと反
対側の基板面）に照射されている。第３の出力ビーム３
４は、そのまま光ファイバまたはリボンに導かれ、ファ
イバまたはリボンの前面（すなわち、ビームを出力する
ためのレーザ側の基板面）に直接、照射されている。

【００２４】図５は、本発明のさらに他の実施形態を示
したもので、それぞれ図３および図４に示す第２および
第３の実施形態を組み合わせたものである。特に、本発
明のこの実施形態による硬化装置は、それぞれレーザ２
２、２２’、ビームスプリッタ２６、２６’、および一
対のミラー３２、３２’を含む２つのレーザシステム、
を含んでいる。レーザ２２および２２’が、レーザビー
ム２８および２８’をそれぞれ放出し、ビームスプリッ
タ２６および２６’によって複数の出力ビームに分割さ
れている。２本の出力ビーム３０および３０’は、ミラ
ー３２および３２’の反射面で反射され、光ファイバ１
２の背面（すなわち、ビームを出力するためのレーザと
反対側のファイバ面）に照射されている。第３のビーム
３４および３４’は、そのまま光ファイバに導かれ、フ
ァイバの前面（すなわち、ビームを出力するためのレー
ザ側のファイバ面）に直接、照射されている。レーザシ
ステムは、４本の反射ビーム３０および２本の直接ビー
ム３４を含む合計６本の出力ビームが、様々な角度から
ファイバに照射され、被覆材が一様に硬化するように、
ファイバ１２に対して対称に配置されている。基板１２
および１２’の周囲をさらに一様に照射させるために、
任意の数のビームおよび反射器を持たせることも、本発
明の範囲内である。

【００２５】実例の中には、２種類の波長または２種類
の波長範囲を用いて被覆材を硬化させることが好ましい
場合もある。例えば、光ファイバリボンを製造する場
合、リボン構造をロックインさせるために、リボン１
２’を比較的短い波長で照射して表面の硬化を促進し、
次に、重合物質中により深く透過する比較的長い波長を
照射することによって硬化を完了することが望ましい場
合もある。特に、被覆材が着色されている場合、上記の
方法が望ましい。この実施形態の場合、表面を硬化させ
るために先ず第１のレーザ２２を励起して比較的短い波
長で照射し、次に第２のレーザ２２’を励起して比較的
長い波長で照射し、硬化を完了することができる。

【００２６】本発明は特定の波長範囲に限定されるもの
ではないが、本発明によれば、好ましい波長範囲は２５
０〜４５０ｎｍである。既に指摘したように、異なる波
長を用いて被覆材を硬化させることが望ましい場合があ
る。この場合、初期硬化に好ましい波長範囲は３５０ｎ
ｍ未満であり、最終硬化に好ましい波長範囲は３５０〜
４５０ｎｍである。

【００２７】図６は、本発明の他の実施形態を示したも
のである。この実施形態では、反射器および／またはミ
ラー、およびビームスプリッタが、紫外線光ファイババ
ンドル４０に置き換えられている。紫外線光ファイババ
ンドル４０は、とりわけ紫外線スペクトルの低波長用と
して製作される特殊な紫外線光ファイバ４１で構成する
必要がある。例えば、電気通信に使用される標準光ファ
イバは、もっと長い１，３１０ｎｍまたは１，５５０ｎ
ｍ近辺の波長の光特性を最適化するために設計されてい
る。一方、被覆材重合用に用いられる紫外線放射の波長
は、通常、２５０〜４５０ｎｍである。レーザ２２は、
レーザ２２のビームが、ファイバ４１の各々の一端から
なるファイババンドル４０中に導かれるように配置され
る。ファイババンドル４０のファイバ４１の他端はそれ
ぞれ、ファイバ４１の一端から放出されたビーム部分
が、特定の方向および角度から基板１２または１２’に
導かれるように配置される。それにより紫外線光ファイ
バ４１の各々にレーザが分割され、これらのファイバを
通して基板１２または１２’に導かれる。

【００２８】現在、好ましいと考えられる実施形態に関
して本発明を説明してきたが、本発明は、本明細書で開
示した実施形態に限定されるものではない。本発明は、
特許請求の範囲に記載のクレームの精神および範囲内に
含まれる様々な変更および等価配列をカバーしている。
上記特許請求の範囲に記載のクレームの範囲を最大限に
解釈し、これらすべての変更、等価構造および等価機能
を包含するものとする。

【図面の簡単な説明】

【図１ａ】本発明による光ファイバのためのオンライン
被覆システムを示す線図である。

【図１ｂ】本発明による光ファイバリボンのためのオン
ライン被覆システムを示す線図である。

【図２】本発明の第１の実施形態によるレーザ硬化装置
を示す線図である。

【図３】本発明の第２の実施形態によるレーザ硬化装置
を示す線図である。

【図４】本発明の第３の実施形態によるレーザ硬化装置
を示す線図である。

【図５】本発明の第４の実施形態によるレーザ硬化装置
を示す線図である。

【図６】本発明の第５の実施形態によるレーザ硬化装置
を示す線図である。

【符号の説明】

１０ファイバ線引きシステム１０’ リボン製造システム１２、１４’ （光）ファイバ１２’ リボン１４従来のプリフォーム１６、１６’ 被覆装置１８レーザ硬化装置２０巻取り２２、２２’ レーザ２４硬化ハウジング２６、２６’ ビームスプリッタ（ビームスプリッタ）２８、２８’ レーザビーム３０、３０’ 出力ビーム３２、３２’ ミラー３４、３４’ 第３の出力ビーム４０紫外線光ファイババンドル４１紫外線光ファイバ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光ファイバまたは光ファイバリボンに塗
布される被覆材を硬化させるためのシステムであって、レーザビームを出力するためのレーザと、前記レーザビームを複数の出力ビームに分割するための
スプリッタと、前記出力ビームが、前記光ファイバまたは光ファイバリ
ボンの前記被覆材に様々な角度から照射されるように、
前記出力ビームを反射する反射器装置とを備える、被覆
材を硬化させるためのシステム。
【請求項２】前記反射器装置が複数のミラーを備え
る、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】前記反射器装置が、前記光ファイバをほ
ぼ取り囲むハウジングを備え、前記ハウジングの内面の
少なくとも一部が、前記レーザによって放出された波長
を反射する、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】前記スプリッタがビームスプリッタから
なる、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】前記レーザビームの波長が、２５０〜３
５０ｎｍの第１の範囲と、３５０〜４５０ｎｍの第２の
範囲の一方にある、請求項４に記載のシステム。
【請求項６】さらに、前記ファイバまたはリボンに照
射される第２のレーザビームを出力するための第２のレ
ーザを備える、請求項５に記載のシステム。
【請求項７】前記第２のレーザの波長範囲が、前記第
１の範囲と第２の範囲の他方にある、請求項６に記載の
システム。
【請求項８】さらに、前記第２のレーザビームを複数
の第２の出力ビームに分割するための第２のビームスプ
リッタと、前記第２の出力ビームが、前記光ファイバま
たはリボンの前記被覆材に様々な角度から照射されるよ
うに、前記第２の出力ビームを反射するための第２の反
射器装置とを備える、請求項６に記載のシステム。
【請求項９】前記第２の反射器装置が複数のミラーを
備える、請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】光ファイバまたはリボンに塗布される
被覆材を硬化させるためのシステムであって、それぞれ複数のレーザビームを出力する複数のレーザを
備え、前記出力ビームが、前記光ファイバまたはリボン
の前記被覆材に様々な角度から照射される、被覆材を硬
化させるためのシステム。
【請求項１１】さらに、前記出力ビームを反射する少
なくとも１つの反射器を備え、前記様々な角度を制御す
る、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】前記出力ビームが、２５０〜４５０ｎ
ｍの範囲内に波長を有する、請求項１０に記載のシステ
ム。
【請求項１３】前記レーザの第１の前記出力ビーム
が、２５０〜３５０ｎｍの第１の範囲に波長を有し、前
記レーザの第２の前記出力ビームが、３５０〜４５０ｎ
ｍの第２の範囲に波長を有する、請求項１０に記載のシ
ステム。
【請求項１４】前記レーザの第１の前記出力ビームの
波長が、前記レーザの第２の前記出力ビームの波長と異
なる、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１５】光ファイバまたはリボンに塗布される
被覆材を硬化させる方法であって、少なくとも１つのレーザによって放出された複数のビー
ムを、前記複数のビームが、前記光ファイバまたはリボ
ンに様々な角度で照射されるように、前記光ファイバま
たはリボンに向けて導くステップを含む、被覆材を硬化
させる方法。
【請求項１６】前記複数のビームが、２５０〜４５０
ｎｍの範囲に波長を有する、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】前記複数の波長ビームが、異なる波長
を有する、請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】光ファイバまたはリボンに塗布される
被覆材を硬化させるためのシステムであって、レーザビームを出力するためのレーザを備え、前記レー
ザビームが、前記ファイバまたはリボンに様々な角度か
ら照射する複数の出力ビームに分割される、被覆材を硬
化させるためのシステム。
【請求項１９】光ファイバ基板または光ファイバリボ
ン基板に塗布される被覆材を硬化させるためのシステム
であって、レーザビームを出力するためのレーザと、レーザ紫外線放射を、複数の異なる方向から前記光ファ
イバまたは前記光ファイバリボンに向けて導くための紫
外線光ファイババンドルとを備える、被覆材を硬化させ
るためのシステム。
【請求項２０】前記紫外線光ファイババンドルが、放
出された放射に対する導波路として働き、それにより、
レーザから前記光ファイバまたは前記光ファイバリボン
へ、放射ビームを前記異なる方向からチャネリングす
る、請求項１９に記載のシステム。
【請求項２１】多数のレーザ放射源が使用される、請
求項２０に記載のシステム。
【請求項２２】前記多数のレーザが、すべて同じ波長
を放出する、請求項２１に記載のシステム。
【請求項２３】前記多数のレーザが、２種類以上の異
なる波長または波長帯域で放出する、請求項２１に記載
のシステム。
【請求項２４】前記多数のレーザが、共通放射導波路
として、同じ紫外線光ファイババンドルとともに使用さ
れる、請求項２１に記載のシステム。
【請求項２５】前記多数のレーザが、それぞれのレー
ザ放射に対する導波路として個別に働く、個別の紫外線
光ファイババンドルとともに使用される、請求項２１に
記載のシステム。