JP2001313361A - 半導体集積回路用リードフレーム - Google Patents

半導体集積回路用リードフレーム

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JP2001313361A JP2000168248A JP2000168248A JP2001313361A JP 2001313361 A JP2001313361 A JP 2001313361A JP 2000168248 A JP2000168248 A JP 2000168248A JP 2000168248 A JP2000168248 A JP 2000168248A JP 2001313361 A JP2001313361 A JP 2001313361A
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Koji Otake
康治 大竹
Yoshimi Kawakami
義美 川上
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AZUMA DENKA KK
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Abstract

(57)【要約】 【課題】半導体集積回路用リードフレーム用に供するP
PF(Palladium Pre Plating
Lead Frame)において使用されるパラジウム
の価格高騰に伴うコスト低減を目的にした代替めっき構
成を提供する。 【解決手段】下地ニッケルめっきを全面に施した銅合金
等のリードフレームにおいて、少なくともアウターリー
ド部表面に極薄の金を全面にめっきし、インナーリード
一部(接合部)にのみ選択的に金めっきする構造とし
た。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体集積回路用リ
ードフレームに関する。
【0002】
【従来の技術】半導体集積回路用リードフレームには、
集積回路を組立る際に半導体チップとの接合性、半導体
チップとインナーリードを接続するワイヤーボンディン
グ性、更にはアウターリードと印刷回路基板の端子との
半田付け性に優れていることが要求される。このため、
従来より主としてリードフレームの半導体チップ搭載部
とインナーリード部に厚さ2〜5μmの部分Agめっき
を施したものを集積回路を組立後、アウターリード部に
外装半田めっきして使用してきた。しかしながら、近
年、半導体集積回路の小型高性能化が進むに連れ、リー
ド間隔の微小化により、これら従来品はしばしばインナ
ーリード部のAgが封止樹脂壁を伝わって拡散析出し隣
接のアウターリード端子と短絡する、所謂マイグレーシ
ョン現象を生ずる欠点がある。そのため、最近ではAg
めっきの代わりに下地にNiめっきを施しその上にPd
めっき、または更にそのPdの上にAuめっきしたリー
ドフレームが使用されている。このものはマイグレーシ
ョン現象を生ずることもなく、またアウターリード部に
外装半田めっきをしなくとも良好な半田付け性を有する
利点がある。
【0003】
【本発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記
下地にNiめっきを施しその上にPdめっき、または更
にそのPdの上にAuめっきしたリードフレームは価格
変動の激しいPdを使用していることから、特に表面積
の大きい60ピン以上のQFPなどの多ピンリードフレ
ームではPdの価格高騰によりコストが著しく高い問題
がある。本発明はこの問題を解決し、製造コストが従来
品に比し20%以上安い新しい半導体集積回路用リード
フレームを提供することを目的として開発したものであ
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明においては、エッチング加工またはプレス
打ち抜き加工により成形されたリードフレーム素材表面
に厚さ0.3〜1.5μmの可尭性に優れた下地Niめ
っきを施した後、ワイヤーボンディングされる全てのイ
ンナーリードの先端部にリング状に0.01〜0.5μ
mの比較的厚いAuめっきを、更にアウターリード部に
は0.003〜0.02μmの極薄Auめっき、または
0.01〜3重量%のNi、Coのいずれかもしくは両
方を含有する極薄硬質Au合金めっきを施こすことによ
り、集積回路を組立る際の半導体チップとの接合性、半
導体チップとインナーリードを接続するワイヤーボンデ
ィング性、更にはアウターリードと印刷回路基板の端子
との半田付け性に優れ、かつコストの安いリードフレー
ムを実現した。
【0005】
【実施例】以下に本発明の最適な実施例を添付図面に基
づいて詳細に説明する。第1図に示すリードフレーム1
において、2は半導体チップが搭載されるアイランド、
3はインナーリード、4はアウターリード、5はダムバ
ーである。リードフレーム 1には後述する所定の金属
めっき皮膜が形成された後、アイランド部2に半導体チ
ップが搭載され、この半導体チップとインナーリード3
とが細いAuワイヤーでワイヤーボンディングにより接
続され、半導体チップ、Auワイヤーおよびインナーリ
ードが封止樹脂により封止されて半導体集積回路が完成
される。この半導体集積回路を印刷回路基板に実装する
ときに該半導体集積回路のアウターリード4が所定位置
に半田付けされる。
【0006】本発明では144ピンのQFPリードフレ
ームの素材上の全面に0.6μmの下地Niめっき皮膜
を形成した後、インナーリードの先端部にリング状に厚
さ0.2μmのAuめっきを、アウターリードには厚さ
0.01μmのNi含有率0.3重量%のAu−Ni合
金めっきを施した。
【0007】ここで、下地Niめっきの厚さは0.3μ
m以下では耐食性の点で劣り、1.5μmを超えるとア
ウターリードを曲げ加工した際に微小な割れを生じやす
い。また、Niめっきは可尭性に優れたスルファミン酸
ニッケル液を用いるとよい。
【0008】インナーリードのAuめっき厚さはワイヤ
ーボンディングの強度安定度ならびに経済性の点から
0.01〜0.5μmが適切である。また、アウターリ
ードのAuめっきは樹脂封止加工の際に金型により削ら
れる可能性があるので、軟質の純金めっき被膜より0.
01〜3重量%のNi、Coのいずれかもしくは両方を
含有せしめた耐摩耗性に優れた硬質金合金めっきが望ま
しい。
【0009】
【発明の効果】本発明の半導体集積回路用リードフレー
ムは、以下に記載される様に優れた特性を有すると共に
経済的に極めて有利なものであり、工業的に有利なもの
である。
【0010】このものの半導体チップとの接合性、半導
体チップとインナーリードを接続するワイヤーボンディ
ング性、更にはアウターリードと印刷回路基板の端子と
の半田付け性について、従来品である0.5μmNi全
面めっき上に0.02μmPd全面めっきされ更にその
上に0.008μm全面Auめっきされた144ピンQ
FPリードフレーム品(比較例1)と性能ならびにコス
トを比較した結果、第1表の如く、本発明品は従来品と
同等以上の特性を有し、かつコスト的に従来品より優れ
ていることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【図1】半導体集積回路用リードフレームの説明図であ
る。
【図2】インナーリード部ならびにアウターリード部断
面図である。
【符号の説明】
1・・・・リードフレーム 6・・・・素材 2・・・・アイランド 7・・・・インナーリー
ド先端部部分Auめっき 3・・・・インナーリード 8・・・・Niめっき 4・・・・アウターリード 9・・・・アウターリー
ド部Auめっき 5・・・・ダムバー

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体集積回路に用いるリードフレーム
    において、素材表面に厚さ0.3〜1.5μmの可尭性
    に優れた下地Niめっきを施した後、ワイヤーボンディ
    ングされる全てのインナーリードの先端部にリング状に
    0.01〜0.5μmの比較的厚いAuめっきを、また
    すくなくともアウターリード部には0.003〜0.0
    2μmの極薄Auめっき、または0.01〜3重量%の
    Ni、Coのいずれかもしくは両方を含有する極薄硬質
    Au合金めっきを施したことを特徴とする半導体集積回
    路用リードフレーム。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100641512B1 (ko) 2002-12-30 2006-10-31 동부일렉트로닉스 주식회사 반도체 패키지 공정에서의 리드 프레임 구조
JP2008218472A (ja) * 2007-02-28 2008-09-18 Denso Corp 半導体装置

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KR100641512B1 (ko) 2002-12-30 2006-10-31 동부일렉트로닉스 주식회사 반도체 패키지 공정에서의 리드 프레임 구조
JP2008218472A (ja) * 2007-02-28 2008-09-18 Denso Corp 半導体装置
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