JP2001312821A - 磁気転写方法 - Google Patents
磁気転写方法Info
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- JP2001312821A JP2001312821A JP2000130306A JP2000130306A JP2001312821A JP 2001312821 A JP2001312821 A JP 2001312821A JP 2000130306 A JP2000130306 A JP 2000130306A JP 2000130306 A JP2000130306 A JP 2000130306A JP 2001312821 A JP2001312821 A JP 2001312821A
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/86—Re-recording, i.e. transcribing information from one magnetisable record carrier on to one or more similar or dissimilar record carriers
- G11B5/865—Re-recording, i.e. transcribing information from one magnetisable record carrier on to one or more similar or dissimilar record carriers by contact "printing"
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/596—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following for track following on disks
- G11B5/59633—Servo formatting
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 磁気転写用マスター担体とスレーブ媒体とを
接触して磁気転写する方法において、転写信号の信号品
位が高い磁気転写方法を提供する。 【解決手段】 磁気記録情報が記録された磁性層を有す
る磁気転写用マスター担体と転写を受けるスレーブ媒体
とを密着させて磁気転写用マスター担体の磁気記録情報
をスレーブ媒体に転写する磁気転写方法において、予め
スレーブ媒体の磁化をトラック方向に初期直流磁化した
後、磁気転写用マスター担体として飽和磁化（Ｍｓ）と
磁性層厚（δ）の積（Ｍｓ・δ）が０．０２５Ｔ・μｍ
（２０Ｇ・μｍ）以上、２．３Ｔ・μｍ（１８３０Ｇ・
μｍ）以下である磁性材料を用いて、初期直流磁化した
スレーブ媒体とを密着させスレーブ面の初期直流磁化方
向と逆向きの方向に転写用磁界を印加し磁気転写をおこ
なう磁気転写方法。
接触して磁気転写する方法において、転写信号の信号品
位が高い磁気転写方法を提供する。 【解決手段】 磁気記録情報が記録された磁性層を有す
る磁気転写用マスター担体と転写を受けるスレーブ媒体
とを密着させて磁気転写用マスター担体の磁気記録情報
をスレーブ媒体に転写する磁気転写方法において、予め
スレーブ媒体の磁化をトラック方向に初期直流磁化した
後、磁気転写用マスター担体として飽和磁化（Ｍｓ）と
磁性層厚（δ）の積（Ｍｓ・δ）が０．０２５Ｔ・μｍ
（２０Ｇ・μｍ）以上、２．３Ｔ・μｍ（１８３０Ｇ・
μｍ）以下である磁性材料を用いて、初期直流磁化した
スレーブ媒体とを密着させスレーブ面の初期直流磁化方
向と逆向きの方向に転写用磁界を印加し磁気転写をおこ
なう磁気転写方法。
Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は、大容量、高記録密
度の磁気記録再生装置用の磁気記録媒体への記録情報の
磁気転写方法に関し、特に大容量、高記録密度の磁気記
録媒体へのサーボ信号、アドレス信号、その他通常の映
像信号、音声信号、データ信号等の記録に用いられる磁
気転写方法に関する。
度の磁気記録再生装置用の磁気記録媒体への記録情報の
磁気転写方法に関し、特に大容量、高記録密度の磁気記
録媒体へのサーボ信号、アドレス信号、その他通常の映
像信号、音声信号、データ信号等の記録に用いられる磁
気転写方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】デジタル画像の利用の進展等で、パソコ
ン等で取り扱う情報量が飛躍的に増加している。情報量
の増加によって、情報を記録する大容量で安価で、しか
も記録、読み出し時間の短い磁気記録媒体が求められて
いる。ハードディスク等の高密度記録媒体や、ＺＩＰ
（Ｉｏｍｅｇａ社）等の大容量のリムーバル型の磁気記
録媒体では、フロッピー（登録商標）ディスクに比べて
情報記録領域は狭トラックで構成されており、狭いトラ
ック幅を正確に磁気ヘッドを走査し、信号の記録と再生
を高Ｓ／Ｎ比で行うためには、トラッキングサーボ技術
を用いて正確な走査を行うことが必要である。
ン等で取り扱う情報量が飛躍的に増加している。情報量
の増加によって、情報を記録する大容量で安価で、しか
も記録、読み出し時間の短い磁気記録媒体が求められて
いる。ハードディスク等の高密度記録媒体や、ＺＩＰ
（Ｉｏｍｅｇａ社）等の大容量のリムーバル型の磁気記
録媒体では、フロッピー（登録商標）ディスクに比べて
情報記録領域は狭トラックで構成されており、狭いトラ
ック幅を正確に磁気ヘッドを走査し、信号の記録と再生
を高Ｓ／Ｎ比で行うためには、トラッキングサーボ技術
を用いて正確な走査を行うことが必要である。
【０００３】そこで、ハードディスク、リムーバル型の
磁気記録媒体のような大容量の磁気記録媒体では、ディ
スク１周に対して、一定の角度間隔でトラッキング用サ
ーボ信号やアドレス情報信号、再生クロック信号等が記
録された領域を設けており、磁気ヘッドは、一定間隔で
これらの信号を再生することにより、ヘッドの位置を確
認、修正しながら正確にトラック上を走査している。こ
れらの信号は、磁気記録媒体の製造時にプリフォーマッ
トと称してあらかじめ磁気記録媒体に記録する方法が行
われている。
磁気記録媒体のような大容量の磁気記録媒体では、ディ
スク１周に対して、一定の角度間隔でトラッキング用サ
ーボ信号やアドレス情報信号、再生クロック信号等が記
録された領域を設けており、磁気ヘッドは、一定間隔で
これらの信号を再生することにより、ヘッドの位置を確
認、修正しながら正確にトラック上を走査している。こ
れらの信号は、磁気記録媒体の製造時にプリフォーマッ
トと称してあらかじめ磁気記録媒体に記録する方法が行
われている。
【０００４】トラッキング用サーボ信号やアドレス情報
信号、再生クロック信号等の記録には正確な位置決め精
度が要求されるので、磁気記録媒体をドライブに組み込
んだ後、専用のサーボ記録装置を用いて厳密に位置制御
された磁気ヘッドによりプリフォーマット記録が行われ
ている。しかしながら、磁気ヘッドによるサーボ信号や
アドレス情報信号、再生クロック信号のプリフォーマッ
ト記録においては、専用のサーボ記録装置を用いて磁気
ヘッドを厳密に位置制御しながら記録を行うために、プ
リフォーマット記録に長時間を要している。また、磁気
記録密度の増大に伴ってプリフォーマット記録すべき信
号量が多くなり、さらに長時間を要することになる。し
たがって磁気記録媒体の製造において、サーボ信号等の
プリフォーマット記録工程に要する費用の製造コストに
占める割合が大きくなるので、この工程での低コスト化
が望まれている。一方、１トラックずつプリフォーマッ
ト情報を記録せずに、プリフォーマット情報をマスター
担体からスレーブ媒体への磁気転写で行う方式も提案さ
れている。例えば、特開昭６３−１８３６２３号公報、
特開平１０−４０５４４号公報および特開平１０−２６
９５６６号公報に転写技術が紹介されている。
信号、再生クロック信号等の記録には正確な位置決め精
度が要求されるので、磁気記録媒体をドライブに組み込
んだ後、専用のサーボ記録装置を用いて厳密に位置制御
された磁気ヘッドによりプリフォーマット記録が行われ
ている。しかしながら、磁気ヘッドによるサーボ信号や
アドレス情報信号、再生クロック信号のプリフォーマッ
ト記録においては、専用のサーボ記録装置を用いて磁気
ヘッドを厳密に位置制御しながら記録を行うために、プ
リフォーマット記録に長時間を要している。また、磁気
記録密度の増大に伴ってプリフォーマット記録すべき信
号量が多くなり、さらに長時間を要することになる。し
たがって磁気記録媒体の製造において、サーボ信号等の
プリフォーマット記録工程に要する費用の製造コストに
占める割合が大きくなるので、この工程での低コスト化
が望まれている。一方、１トラックずつプリフォーマッ
ト情報を記録せずに、プリフォーマット情報をマスター
担体からスレーブ媒体への磁気転写で行う方式も提案さ
れている。例えば、特開昭６３−１８３６２３号公報、
特開平１０−４０５４４号公報および特開平１０−２６
９５６６号公報に転写技術が紹介されている。
【０００５】特開昭６３−１８３６２３号公報や特開平
１０−４０５４４号公報に記載の方法では、磁気転写用
マスター担体として基板の表面に情報信号に対応する凸
凹形状が形成され、凸凹形状の少なくとも凸部表面に強
磁性薄膜が形成された磁気転写用マスター担体の表面
を、強磁性薄膜あるいは強磁性粉を含有する組成物の塗
布層が形成されたシート状もしくはディスク状磁気記録
媒体の表面に接触、あるいは更に交流バイアス磁界、あ
るいは直流磁界を印加して凸部表面を構成する強磁性材
料を励起することにより、凸凹形状に対応する磁化パタ
ーンを磁気記録媒体に記録するものである。
１０−４０５４４号公報に記載の方法では、磁気転写用
マスター担体として基板の表面に情報信号に対応する凸
凹形状が形成され、凸凹形状の少なくとも凸部表面に強
磁性薄膜が形成された磁気転写用マスター担体の表面
を、強磁性薄膜あるいは強磁性粉を含有する組成物の塗
布層が形成されたシート状もしくはディスク状磁気記録
媒体の表面に接触、あるいは更に交流バイアス磁界、あ
るいは直流磁界を印加して凸部表面を構成する強磁性材
料を励起することにより、凸凹形状に対応する磁化パタ
ーンを磁気記録媒体に記録するものである。
【０００６】この方法は、磁気転写用マスター担体の凸
部表面をプリフォーマットするべき磁気記録媒体、すな
わちスレーブ媒体に密着させて同時に凸部を構成する強
磁性材料を励磁することにより、スレーブ媒体に所定の
プリフォーマット情報の記録を形成する転写方法であ
り、磁気転写用マスター担体とスレーブ媒体との相対的
な位置を変化させることなく静的に記録を行うことがで
き、正確なプリフォーマット記録が可能であり、しかも
記録に要する時間も極めて短時間であるという特徴を有
している。また、この磁気転写方法は磁気転写用マスタ
ー担体とスレーブ媒体の両者を静止した状態で接触させ
て転写する方式であるため、サーボ信号記録工程での磁
気転写用マスター担体、スレーブ媒体ともに破損が発生
することが少なく、高い耐久性が期待される方式であ
る。
部表面をプリフォーマットするべき磁気記録媒体、すな
わちスレーブ媒体に密着させて同時に凸部を構成する強
磁性材料を励磁することにより、スレーブ媒体に所定の
プリフォーマット情報の記録を形成する転写方法であ
り、磁気転写用マスター担体とスレーブ媒体との相対的
な位置を変化させることなく静的に記録を行うことがで
き、正確なプリフォーマット記録が可能であり、しかも
記録に要する時間も極めて短時間であるという特徴を有
している。また、この磁気転写方法は磁気転写用マスタ
ー担体とスレーブ媒体の両者を静止した状態で接触させ
て転写する方式であるため、サーボ信号記録工程での磁
気転写用マスター担体、スレーブ媒体ともに破損が発生
することが少なく、高い耐久性が期待される方式であ
る。
【０００７】磁気転写用マスター担体に用いる磁性体と
しては軟磁性材料が使用される。そして、当初は、磁性
層の透磁率が転写特性に大きく影響を与えていると考
え、材料の選択に当たっては高透磁率を優先することが
行われていた。しかし、信号品位はマージナルな領域で
あり、更なる信号品位の向上が必要であった。また、良
好な磁気転写信号品質を実現しうる転写磁界強度領域が
非常に狭く、設備面で実用上問題があった。
しては軟磁性材料が使用される。そして、当初は、磁性
層の透磁率が転写特性に大きく影響を与えていると考
え、材料の選択に当たっては高透磁率を優先することが
行われていた。しかし、信号品位はマージナルな領域で
あり、更なる信号品位の向上が必要であった。また、良
好な磁気転写信号品質を実現しうる転写磁界強度領域が
非常に狭く、設備面で実用上問題があった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、磁気転写用
マスター担体に記録された記録情報をスレーブ媒体に転
写する際に、転写された信号の品位を高め、転写磁界強
度領域が広い磁気転写方法を提供することを課題とする
ものである。
マスター担体に記録された記録情報をスレーブ媒体に転
写する際に、転写された信号の品位を高め、転写磁界強
度領域が広い磁気転写方法を提供することを課題とする
ものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の課題は、磁気記
録媒体に磁気転写を行う方法において、磁気転写用マス
ター担体の磁性材料の飽和磁化（Ｍｓ）と磁性層厚
（δ）の積（Ｍｓ・δ）が０．０２５Ｔ・μｍ（２０Ｇ
・μｍ）以上、２．３Ｔ・μｍ（１８３０Ｇ・μｍ）以
下とすることによって解決することができる。また、磁
気記録情報が記録された磁性層を有する磁気転写用マス
ター担体と転写を受けるスレーブ媒体とを密着させて磁
気転写用マスター担体の磁気記録情報をスレーブ媒体に
転写する磁気転写方法において、予めスレーブ媒体の磁
化をトラック方向に初期直流磁化した後、磁気転写用マ
スター担体と初期直流磁化したスレーブ媒体とを密着さ
せスレーブ面の初期直流磁化方向と逆向きの方向に転写
用磁界を印加し磁気転写をおこなう前記の磁気転写方法
である。また、磁気記録媒体が前記の方法によってサー
ボ信号を記録したものである磁気記録媒体である。
録媒体に磁気転写を行う方法において、磁気転写用マス
ター担体の磁性材料の飽和磁化（Ｍｓ）と磁性層厚
（δ）の積（Ｍｓ・δ）が０．０２５Ｔ・μｍ（２０Ｇ
・μｍ）以上、２．３Ｔ・μｍ（１８３０Ｇ・μｍ）以
下とすることによって解決することができる。また、磁
気記録情報が記録された磁性層を有する磁気転写用マス
ター担体と転写を受けるスレーブ媒体とを密着させて磁
気転写用マスター担体の磁気記録情報をスレーブ媒体に
転写する磁気転写方法において、予めスレーブ媒体の磁
化をトラック方向に初期直流磁化した後、磁気転写用マ
スター担体と初期直流磁化したスレーブ媒体とを密着さ
せスレーブ面の初期直流磁化方向と逆向きの方向に転写
用磁界を印加し磁気転写をおこなう前記の磁気転写方法
である。また、磁気記録媒体が前記の方法によってサー
ボ信号を記録したものである磁気記録媒体である。
【００１０】
【発明の実施の形態】すなわち本発明においては、磁気
記録媒体に磁気転写法を行う方法において、磁気記録媒
体に磁気転写を行う方法において、磁気転写用マスター
担体の磁性材料の飽和磁化（Ｍｓ）と磁性層厚（δ）の
積（Ｍｓ・δ）が０．０２５Ｔ・μｍ（２０Ｇ・μｍ）
以上、２．３Ｔ・μｍ（１８３０Ｇ・μｍ）以下である
磁性材科を磁気転写用マスター担体の磁性層にして使用
し記録した場合には、転写信号の品位向上を行うと共
に、磁気転写の際の転写磁界領域の狭さを改善できるこ
とを見出した。
記録媒体に磁気転写法を行う方法において、磁気記録媒
体に磁気転写を行う方法において、磁気転写用マスター
担体の磁性材料の飽和磁化（Ｍｓ）と磁性層厚（δ）の
積（Ｍｓ・δ）が０．０２５Ｔ・μｍ（２０Ｇ・μｍ）
以上、２．３Ｔ・μｍ（１８３０Ｇ・μｍ）以下である
磁性材科を磁気転写用マスター担体の磁性層にして使用
し記録した場合には、転写信号の品位向上を行うと共
に、磁気転写の際の転写磁界領域の狭さを改善できるこ
とを見出した。
【００１１】磁気転写用マスター担体の磁性材料として
は軟磁性材科が使用される。当初は磁性層への磁界の進
入し易さ、すなわち透磁率が転写特性に大きく影響を与
えていると考え、高透磁率を優先として磁性材料の選択
を行っていた。また、信号品位はマージナルな領域であ
り更なる信号品位の向上が必要であった。また、良好な
磁気転写信号品質を実現しうる転写磁界領域が非常に狭
く、設備面で実用上問題があった。
は軟磁性材科が使用される。当初は磁性層への磁界の進
入し易さ、すなわち透磁率が転写特性に大きく影響を与
えていると考え、高透磁率を優先として磁性材料の選択
を行っていた。また、信号品位はマージナルな領域であ
り更なる信号品位の向上が必要であった。また、良好な
磁気転写信号品質を実現しうる転写磁界領域が非常に狭
く、設備面で実用上問題があった。
【００１２】しかしながら、磁気転写用マスター担体と
スレーブ媒体と転写を受けるスレーブ媒体とを密着させ
て磁気転写用マスター担体の磁気記録情報をスレーブ媒
体に転写する磁気転写方法においては、磁気転写用マス
ター担体の記録情報のパターン上の磁界をパターン内に
収束、パターン端で放出することで、パターン部外のス
レーブ媒体の磁化を反転させることによってスレーブ媒
体に対して記録情報を転写するものである。
スレーブ媒体と転写を受けるスレーブ媒体とを密着させ
て磁気転写用マスター担体の磁気記録情報をスレーブ媒
体に転写する磁気転写方法においては、磁気転写用マス
ター担体の記録情報のパターン上の磁界をパターン内に
収束、パターン端で放出することで、パターン部外のス
レーブ媒体の磁化を反転させることによってスレーブ媒
体に対して記録情報を転写するものである。
【００１３】この転写方法では磁気転写用マスター担体
の磁化状態は飽和領域であるため、不飽和領域での透磁
率、比透磁率など磁性層の特性は転写特性に大きな影響
を与える可能性は小さいものと考えられる。飽和領域で
磁気転写用マスター担体の磁性層の特性を支配するの
は、飽和磁化などの大きさである。また、単位体積当た
りの磁束収束量は磁性材料の飽和磁化に比例し、磁気転
写では実際にパターンから発せられる磁束量が転写特性
に影響を与える。そのため飽和磁化（Ｍｓ）だけではな
く磁性層厚（δ）も特性に影響を与えると考えられる。
そこで、飽和磁化（Ｍｓ）、膜厚（δ）の積（Ｍｓ・
δ）で表現される面磁気モーメントをパラメーターとし
転写磁界範囲、信号品位の評価を行ったところ、Ｍｓ・
δには最適な範囲があることを見出したものである。
の磁化状態は飽和領域であるため、不飽和領域での透磁
率、比透磁率など磁性層の特性は転写特性に大きな影響
を与える可能性は小さいものと考えられる。飽和領域で
磁気転写用マスター担体の磁性層の特性を支配するの
は、飽和磁化などの大きさである。また、単位体積当た
りの磁束収束量は磁性材料の飽和磁化に比例し、磁気転
写では実際にパターンから発せられる磁束量が転写特性
に影響を与える。そのため飽和磁化（Ｍｓ）だけではな
く磁性層厚（δ）も特性に影響を与えると考えられる。
そこで、飽和磁化（Ｍｓ）、膜厚（δ）の積（Ｍｓ・
δ）で表現される面磁気モーメントをパラメーターとし
転写磁界範囲、信号品位の評価を行ったところ、Ｍｓ・
δには最適な範囲があることを見出したものである。
【００１４】Ｍｓ・δが０．０２５Ｔ・μｍ（２０Ｇ・
μｍ）未満の領域では転写磁界がマスターパターン内に
収束せず、信号間の磁化反転境界領域が広がり、その結
果信号品位が低下し、また転写磁界領域が狭くなること
がわかった。一方、Ｍｓ・δが２．３Ｔ・μｍ（１８３
０Ｇ・μｍ）を超える領域では、転写磁界領域、信号品
位は向上するが、磁気転写に使用する電磁石の磁極の残
留磁化により転写磁界を印加しない場合でもわずかにス
レーブ媒体を磁化する転写磁界が発生してしまう。その
ため磁気転写後にスレーブ媒体を取り出した際に、転写
信号が乱れ、信号品位が低下することがわかった。
μｍ）未満の領域では転写磁界がマスターパターン内に
収束せず、信号間の磁化反転境界領域が広がり、その結
果信号品位が低下し、また転写磁界領域が狭くなること
がわかった。一方、Ｍｓ・δが２．３Ｔ・μｍ（１８３
０Ｇ・μｍ）を超える領域では、転写磁界領域、信号品
位は向上するが、磁気転写に使用する電磁石の磁極の残
留磁化により転写磁界を印加しない場合でもわずかにス
レーブ媒体を磁化する転写磁界が発生してしまう。その
ため磁気転写後にスレーブ媒体を取り出した際に、転写
信号が乱れ、信号品位が低下することがわかった。
【００１５】以上の解析結果を踏まえ、磁気転写用マス
ター磁性材料の飽和磁化（Ｍｓ）と磁性層厚（δ）の積
（Ｍｓ・δ）が０．０２５Ｔ・μｍ（２０Ｇ・μｍ）以
上、２．３Ｔ・μｍ（１８３０Ｇ・μｍ）以下である磁
性材料を磁気転写用マスター担体として使用すること
で、記録した信号品位の向上、転写磁界領域を拡張でき
ることを見出した。
ター磁性材料の飽和磁化（Ｍｓ）と磁性層厚（δ）の積
（Ｍｓ・δ）が０．０２５Ｔ・μｍ（２０Ｇ・μｍ）以
上、２．３Ｔ・μｍ（１８３０Ｇ・μｍ）以下である磁
性材料を磁気転写用マスター担体として使用すること
で、記録した信号品位の向上、転写磁界領域を拡張でき
ることを見出した。
【００１６】本発明の磁気転写方法に使用する磁気転写
用マスター担体は、以下の方法によって作製することが
できる。磁気転写用マスター担体の基板としては、シリ
コン、アルミニウム、ガラス、合成樹脂等の表面が平滑
な部材を用いることができる。まず、これらの基板上に
フォトレジストを塗布し、磁気転写により形成するパタ
ーンに合致したレジストパターンをパターン露光、ある
いは直接けがきにより形成する。パターン露光の場合は
反応性エッチング、またはアルゴンプラズマ等による物
理的エッチング、または液体によるエッチングにより、
基板上にパターンを形成する。
用マスター担体は、以下の方法によって作製することが
できる。磁気転写用マスター担体の基板としては、シリ
コン、アルミニウム、ガラス、合成樹脂等の表面が平滑
な部材を用いることができる。まず、これらの基板上に
フォトレジストを塗布し、磁気転写により形成するパタ
ーンに合致したレジストパターンをパターン露光、ある
いは直接けがきにより形成する。パターン露光の場合は
反応性エッチング、またはアルゴンプラズマ等による物
理的エッチング、または液体によるエッチングにより、
基板上にパターンを形成する。
【００１７】次いで、スパッタリングにより磁性層を所
定の部分に、所定の厚さに成膜する。その後、フォトレ
ジストをリフトオフで除去する。また、磁気転写の際に
スレーブ媒体と接触する凸状の磁性層のみをフォトファ
ブリケーションで作製しても良い。
定の部分に、所定の厚さに成膜する。その後、フォトレ
ジストをリフトオフで除去する。また、磁気転写の際に
スレーブ媒体と接触する凸状の磁性層のみをフォトファ
ブリケーションで作製しても良い。
【００１８】また微細加工を行う方法として射出成形法
を用いても良い。射出成形法について説明すると、フォ
トレジストを塗布したガラス基板を回転しながら、サー
ボ信号に対応して変調したレーザーを照射しフォトレジ
ストをガラス面全体に露光する。該レジストを現像し
て、ガラス基板を現像しガラスに凹凸を形成する。次い
で、レジストを除去して凹凸を形成したガラス基板上に
めっきを行い、凹凸が形成されためっき原盤を作製す
る。めっき板材料としては、ニッケルもしくはニッケル
合金を使用することができる。また、めっき原盤の耐久
性を向上させるために、ダイヤモンド状炭素等の炭素膜
をスパッタリング等によって形成しても良い。
を用いても良い。射出成形法について説明すると、フォ
トレジストを塗布したガラス基板を回転しながら、サー
ボ信号に対応して変調したレーザーを照射しフォトレジ
ストをガラス面全体に露光する。該レジストを現像し
て、ガラス基板を現像しガラスに凹凸を形成する。次い
で、レジストを除去して凹凸を形成したガラス基板上に
めっきを行い、凹凸が形成されためっき原盤を作製す
る。めっき板材料としては、ニッケルもしくはニッケル
合金を使用することができる。また、めっき原盤の耐久
性を向上させるために、ダイヤモンド状炭素等の炭素膜
をスパッタリング等によって形成しても良い。
【００１９】めっき原盤を使用し射出成形などの方法に
より、パターン形成した樹脂基板を作製する。樹脂材料
としてはポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート
等のアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル・塩化ビニル共重合
体などの塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、アモルファス
ポリオレフィンおよびポリエステルなどが使用可能であ
る。耐湿性、寸法安定性および価格等の点からポリカー
ボネートが好ましい。また、形成しためっき原盤にバリ
がある場合はバーニシュまたはポリッシュにより除去す
る。パターンの溝深さは５０〜１０００ｎｍの範囲が好
ましい。より好ましくは２００〜５００ｎｍの範囲であ
る。
より、パターン形成した樹脂基板を作製する。樹脂材料
としてはポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート
等のアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル・塩化ビニル共重合
体などの塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、アモルファス
ポリオレフィンおよびポリエステルなどが使用可能であ
る。耐湿性、寸法安定性および価格等の点からポリカー
ボネートが好ましい。また、形成しためっき原盤にバリ
がある場合はバーニシュまたはポリッシュにより除去す
る。パターンの溝深さは５０〜１０００ｎｍの範囲が好
ましい。より好ましくは２００〜５００ｎｍの範囲であ
る。
【００２０】磁性材料としてはＣｏ、Ｃｏ合金（ＣｏＮ
ｉ、ＣｏＮｉＺｒ、ＣｏＮｂＴａＺｒ等）、Ｆｅ、Ｆｅ
合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＣｏ、Ｎｉ、ＦｅＮｉＭｏ、Ｆｅ
ＡｌＳｉ、ＦｅＡｌ、ＦｅＴａＮ）、Ｎｉ、Ｎｉ合金
（ＮｉＦｅ）が用いることができる。特に好ましくはＦ
ｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉである。
ｉ、ＣｏＮｉＺｒ、ＣｏＮｂＴａＺｒ等）、Ｆｅ、Ｆｅ
合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＣｏ、Ｎｉ、ＦｅＮｉＭｏ、Ｆｅ
ＡｌＳｉ、ＦｅＡｌ、ＦｅＴａＮ）、Ｎｉ、Ｎｉ合金
（ＮｉＦｅ）が用いることができる。特に好ましくはＦ
ｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉである。
【００２１】また、本発明の磁気転写方法に使用する磁
気転写用マスター担体の磁性層の形成に先だって、非磁
性の下地層を設けることが好ましく、下地層の結晶構造
と格子常数を磁性層のそれに一致させることが好まし
い。下地層を形成する材料としては、Ｃｒ、ＣｒＴｉ、
ＣｏＣｒ、ＣｒＴａ、ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ、Ｒｕ等を挙
げることができる。
気転写用マスター担体の磁性層の形成に先だって、非磁
性の下地層を設けることが好ましく、下地層の結晶構造
と格子常数を磁性層のそれに一致させることが好まし
い。下地層を形成する材料としては、Ｃｒ、ＣｒＴｉ、
ＣｏＣｒ、ＣｒＴａ、ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ、Ｒｕ等を挙
げることができる。
【００２２】また、磁性層上にダイヤモンド状炭素（Ｄ
ＬＣ）等の保護膜を設けても良く、潤滑剤層を設けても
良い。特に保護膜として５〜３０ｎｍのダイヤモンド状
炭素膜と潤滑剤が存在することが更に好ましい。潤滑剤
が存在すると、磁気転写用マスター担体とスレーブ媒体
との接触過程で生じるずれを補正する際に摩擦が生じた
場合にも、耐久性を高めることが可能となる。
ＬＣ）等の保護膜を設けても良く、潤滑剤層を設けても
良い。特に保護膜として５〜３０ｎｍのダイヤモンド状
炭素膜と潤滑剤が存在することが更に好ましい。潤滑剤
が存在すると、磁気転写用マスター担体とスレーブ媒体
との接触過程で生じるずれを補正する際に摩擦が生じた
場合にも、耐久性を高めることが可能となる。
【００２３】磁気転写用マスター担体の磁性材料として
は磁気転写用マスター担体の磁性材料の飽和磁化（Ｍ
ｓ）と磁性層厚（δ）の積（Ｍｓ・δ）が０．０２５Ｔ
・μｍ（２０Ｇ・μｍ）以上、２．３Ｔ・μｍ（１８３
０Ｇ・μｍ）以下であることが望ましい。更に好ましく
は０．０５Ｔ・μｍ（４０Ｇ・μｍ）以上、２．０Ｔ・
μｍ（１５９１Ｇ・μｍ）以下の範囲である。マスター
磁性層のＭｓ・δの調整は磁性層材料飽和磁化、磁性層
厚、作製温度、スパッタリング時の使用気体の種類等の
調整によって行うことができる。Ｃｒ、Ｔｉ等の非磁性
元素の添加量を調整することによりＭｓを調整すること
ができる。また作製温度を調整することで、マスター磁
性層の均一性を調整し、Ｍｓを調整することも可能であ
る。
は磁気転写用マスター担体の磁性材料の飽和磁化（Ｍ
ｓ）と磁性層厚（δ）の積（Ｍｓ・δ）が０．０２５Ｔ
・μｍ（２０Ｇ・μｍ）以上、２．３Ｔ・μｍ（１８３
０Ｇ・μｍ）以下であることが望ましい。更に好ましく
は０．０５Ｔ・μｍ（４０Ｇ・μｍ）以上、２．０Ｔ・
μｍ（１５９１Ｇ・μｍ）以下の範囲である。マスター
磁性層のＭｓ・δの調整は磁性層材料飽和磁化、磁性層
厚、作製温度、スパッタリング時の使用気体の種類等の
調整によって行うことができる。Ｃｒ、Ｔｉ等の非磁性
元素の添加量を調整することによりＭｓを調整すること
ができる。また作製温度を調整することで、マスター磁
性層の均一性を調整し、Ｍｓを調整することも可能であ
る。
【００２４】また、ＦｅＣｏ（原子比６５：３５）を用
いた場合には、作製温度を２０℃〜２００℃の間に設定
することで、２．０〜２．３Ｔの範囲でＭｓを調整する
こともできる。また磁性層をアルゴンと酸素、窒素など
の混合雰囲気中で作製することにより磁性層を酸化、あ
るいは窒化させて、磁性層のＭｓを調整する。Ｍｓの大
きさは酸素・窒素の分圧で調整することができる。ま
た、好ましい磁性層厚は５０ｎｍ以上、８００ｎｍ以
下、更に好ましくは１００ｎｍ以上、５００ｎｍ以下で
ある。
いた場合には、作製温度を２０℃〜２００℃の間に設定
することで、２．０〜２．３Ｔの範囲でＭｓを調整する
こともできる。また磁性層をアルゴンと酸素、窒素など
の混合雰囲気中で作製することにより磁性層を酸化、あ
るいは窒化させて、磁性層のＭｓを調整する。Ｍｓの大
きさは酸素・窒素の分圧で調整することができる。ま
た、好ましい磁性層厚は５０ｎｍ以上、８００ｎｍ以
下、更に好ましくは１００ｎｍ以上、５００ｎｍ以下で
ある。
【００２５】以下に、本発明に使用するスレーブ媒体に
ついて説明する。スレーブ媒体としては、強磁性金属粒
子を結合剤中に分散した塗布型磁気記録媒体、あるいは
基板上に強磁性金属薄膜を形成した金属薄膜型磁気記録
媒体を用いることができる。塗布型磁気記録媒体として
は、Ｚｉｐ（アイオメガ社）用記録媒体であるＺｉｐ１
００、Ｚｉｐ２５０、あるいはＨｉＦＤと呼ばれる高密
度フロッピーディスクなどの磁気記録媒体が挙げられ
る。
ついて説明する。スレーブ媒体としては、強磁性金属粒
子を結合剤中に分散した塗布型磁気記録媒体、あるいは
基板上に強磁性金属薄膜を形成した金属薄膜型磁気記録
媒体を用いることができる。塗布型磁気記録媒体として
は、Ｚｉｐ（アイオメガ社）用記録媒体であるＺｉｐ１
００、Ｚｉｐ２５０、あるいはＨｉＦＤと呼ばれる高密
度フロッピーディスクなどの磁気記録媒体が挙げられ
る。
【００２６】スレーブ媒体の保磁力Ｈｃが１０３ｋＡ／
ｍ（１３００Ｏｅ）以上、３１３ｋＡ／ｍ（４０００Ｏ
ｅ）未満であることが好ましく、更に１２７ｋＡ／ｍ
（１６００Ｏｅ）以上、２３９ｋＡ／ｍ（３０００Ｏ
ｅ）未満であることがより好ましい。スレーブ媒体の保
磁力Ｈｃが１０３ｋＡ／ｍ未満では、６．４５ｃｍ2あ
たり１Ｇｂ（１ギガビット／平方インチ）以上の高密度
記録情報を保持することはできない。逆に３１３ｋＡ／
ｍ）以上では、スレーブ媒体に記録可能な磁気記録ヘッ
ドが存在しない。金属薄膜型磁気記録媒体としては、磁
性材料として、Ｃｏ、Ｃｏ合金（ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣ
ｒ、ＣｏＰｔＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒＮｂＴａ、ＣｏＣ
ｒＢ、ＣｏＮｉ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、Ｆｅ
Ｐｔ、ＦｅＣｏＮｉ）を用いることができる。磁束密度
が大きく、磁気転写用マスター担体の磁性層と同じ方
向、すなわち面内記録なら面内方向、垂直なら垂直方向
の磁気異方性を有していることが明瞭な転写が行えるた
め好ましい。
ｍ（１３００Ｏｅ）以上、３１３ｋＡ／ｍ（４０００Ｏ
ｅ）未満であることが好ましく、更に１２７ｋＡ／ｍ
（１６００Ｏｅ）以上、２３９ｋＡ／ｍ（３０００Ｏ
ｅ）未満であることがより好ましい。スレーブ媒体の保
磁力Ｈｃが１０３ｋＡ／ｍ未満では、６．４５ｃｍ2あ
たり１Ｇｂ（１ギガビット／平方インチ）以上の高密度
記録情報を保持することはできない。逆に３１３ｋＡ／
ｍ）以上では、スレーブ媒体に記録可能な磁気記録ヘッ
ドが存在しない。金属薄膜型磁気記録媒体としては、磁
性材料として、Ｃｏ、Ｃｏ合金（ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣ
ｒ、ＣｏＰｔＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒＮｂＴａ、ＣｏＣ
ｒＢ、ＣｏＮｉ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、Ｆｅ
Ｐｔ、ＦｅＣｏＮｉ）を用いることができる。磁束密度
が大きく、磁気転写用マスター担体の磁性層と同じ方
向、すなわち面内記録なら面内方向、垂直なら垂直方向
の磁気異方性を有していることが明瞭な転写が行えるた
め好ましい。
【００２７】磁性層の下部、すなわち基板側に必要な磁
気異方性を形成するために非磁性の下地層を設けること
が好ましく、結晶構造と格子常数を磁性層に合致させる
ことが好ましい。具体的には、下地層形成用材料として
は、Ｃｒ、ＣｒＴｉ、ＣｏＣｒ、ＣｒＴａ、ＣｒＭｏ、
Ｎｉ、Ｒｕ等を挙げることができる。
気異方性を形成するために非磁性の下地層を設けること
が好ましく、結晶構造と格子常数を磁性層に合致させる
ことが好ましい。具体的には、下地層形成用材料として
は、Ｃｒ、ＣｒＴｉ、ＣｏＣｒ、ＣｒＴａ、ＣｒＭｏ、
Ｎｉ、Ｒｕ等を挙げることができる。
【００２８】
【実施例】以下に実施例を示し本発明を説明する。 実施例１ ３．５型磁気転写用マスター担体には、シリコンウエハ
ー円盤を基板としＦｅＣｏ（原子比Ｆｅ：Ｃｏ＝７０：
３０）からなる厚さ２００ｎｍの磁性層を形成した。パ
ターンは円盤中心から半径方向２０ｍｍ〜４０ｍｍの位
置まで幅５μｍの等間隔の放射状ライン、ライン間隔は
半径方向２０ｍｍの最内周位置で８μｍ間隔とした。磁
性層はスパッタリング装置（アネルバ社製７３０Ｈ）で
直流スパッタリング法を使用し、作製温度は２５℃、ア
ルゴンスパッタリング圧５．０×１０-4Ｐａ（０．３６
ｍＴｏｒｒ）、投入電力２．８０Ｗ／ｃｍ2とした。
ー円盤を基板としＦｅＣｏ（原子比Ｆｅ：Ｃｏ＝７０：
３０）からなる厚さ２００ｎｍの磁性層を形成した。パ
ターンは円盤中心から半径方向２０ｍｍ〜４０ｍｍの位
置まで幅５μｍの等間隔の放射状ライン、ライン間隔は
半径方向２０ｍｍの最内周位置で８μｍ間隔とした。磁
性層はスパッタリング装置（アネルバ社製７３０Ｈ）で
直流スパッタリング法を使用し、作製温度は２５℃、ア
ルゴンスパッタリング圧５．０×１０-4Ｐａ（０．３６
ｍＴｏｒｒ）、投入電力２．８０Ｗ／ｃｍ2とした。
【００２９】膜厚の調整は、マーキングを施したシリコ
ン基板上に磁性材料を１０分間成膜する。この試料をア
セトンで洗浄し、マーキング部を除去する。この部分に
発生した膜厚段差を接触式段差計で膜厚を測定し、膜厚
とスパッタリング時間の関係からスパッタリング速度を
算出する。次いで、目標膜厚に必要な時間をスパッタリ
ング速度から計算し、必要時間成膜する。
ン基板上に磁性材料を１０分間成膜する。この試料をア
セトンで洗浄し、マーキング部を除去する。この部分に
発生した膜厚段差を接触式段差計で膜厚を測定し、膜厚
とスパッタリング時間の関係からスパッタリング速度を
算出する。次いで、目標膜厚に必要な時間をスパッタリ
ング速度から計算し、必要時間成膜する。
【００３０】スレーブ媒体には、市販のアイオメガ社Ｚ
ｉｐ２５０用塗布型磁気記録媒体（富士写真フイルム
製）を使用した。スレーブ媒体の保磁力Ｈｃは１９９ｋ
Ａ／ｍ（２５０００ｅ）であった。スレーブ媒体を３９
８ｋＡ／ｍ（５０００Ｏｅ）で初期直流磁化した後、磁
気転写用マスター担体とスレーブ媒体とを密着して、初
期直流磁化とは反対の方向に１９９ｋＡ／ｍ（２５００
Ｏｅ）の強度の転写磁界を印加して記録情報をスレーブ
媒体へ転写した。得られたスレーブ媒体を以下の評価方
法によって評価を行い、磁気転写情報の評価を行った。
ｉｐ２５０用塗布型磁気記録媒体（富士写真フイルム
製）を使用した。スレーブ媒体の保磁力Ｈｃは１９９ｋ
Ａ／ｍ（２５０００ｅ）であった。スレーブ媒体を３９
８ｋＡ／ｍ（５０００Ｏｅ）で初期直流磁化した後、磁
気転写用マスター担体とスレーブ媒体とを密着して、初
期直流磁化とは反対の方向に１９９ｋＡ／ｍ（２５００
Ｏｅ）の強度の転写磁界を印加して記録情報をスレーブ
媒体へ転写した。得られたスレーブ媒体を以下の評価方
法によって評価を行い、磁気転写情報の評価を行った。
【００３１】実施例２ 実施例１記載の磁気転写用マスター担体の磁性層厚を４
００ｎｍに変更した点を除き実施例１と同様にして実施
例２の磁気転写用マスター担体を作製し実施例１と同様
に磁気転写を行って評価を行った。
００ｎｍに変更した点を除き実施例１と同様にして実施
例２の磁気転写用マスター担体を作製し実施例１と同様
に磁気転写を行って評価を行った。
【００３２】実施例３ 実施例１記載の磁気転写用マスター担体の磁性層をＣｏ
ＦｅＮｉ（原子比６５：２２：１３）に変更した点を除
き実施例１と同様に実施例３の磁気転写用マスター担体
を作製し実施例１と同様に磁気転写を行って評価を行っ
た。
ＦｅＮｉ（原子比６５：２２：１３）に変更した点を除
き実施例１と同様に実施例３の磁気転写用マスター担体
を作製し実施例１と同様に磁気転写を行って評価を行っ
た。
【００３３】実施例４ 実施例１記載の磁気転写用マスター担体の磁性層をＮｉ
に変更した点を除き実施例１と同様に実施例４の磁気転
写用マスター担体を作製して実施例１と同様に磁気転写
を行って以下の評価方法によって評価を行った。
に変更した点を除き実施例１と同様に実施例４の磁気転
写用マスター担体を作製して実施例１と同様に磁気転写
を行って以下の評価方法によって評価を行った。
【００３４】実施例５ 実施例１記載の磁気転写用マスター担体の磁性層のスパ
ッタリング雰囲気をアルゴン分圧５．０×１０-4Ｐａ
（０．３６ｍＴｏｒｒ）、酸素圧力３．０×１０
-5（０．０２２ｍＴｏｒｒ）に変更した点を除き実施例
１と同様に実施例５の磁気転写用マスター担体を作製し
て実施例１と同様に磁気転写を行って評価を行った。
ッタリング雰囲気をアルゴン分圧５．０×１０-4Ｐａ
（０．３６ｍＴｏｒｒ）、酸素圧力３．０×１０
-5（０．０２２ｍＴｏｒｒ）に変更した点を除き実施例
１と同様に実施例５の磁気転写用マスター担体を作製し
て実施例１と同様に磁気転写を行って評価を行った。
【００３５】実施例６ 実施例１記載の磁気転写用マスター担体の磁性層のスパ
ッタリング雰囲気をアルゴン分圧５．０×１０-4Ｐａ
（０．３６ｍＴｏｒｒ）、窒素圧力３．０×１０
-5（０．０２２ｍＴｏｒｒ）に変更した点を除き実施例
１と同様に実施例６の磁気転写用マスター担体を作製し
て実施例１と同様に磁気転写を行って評価を行った。
ッタリング雰囲気をアルゴン分圧５．０×１０-4Ｐａ
（０．３６ｍＴｏｒｒ）、窒素圧力３．０×１０
-5（０．０２２ｍＴｏｒｒ）に変更した点を除き実施例
１と同様に実施例６の磁気転写用マスター担体を作製し
て実施例１と同様に磁気転写を行って評価を行った。
【００３６】比較例１ 実施例４記載の磁気転写用マスター担体の磁性層の厚さ
を１００ｎｍに変更した点を除き実施例４と同様に比較
例１の磁気転写用マスター担体を作製して実施例１と同
様にして磁気転写を行って評価を行った。
を１００ｎｍに変更した点を除き実施例４と同様に比較
例１の磁気転写用マスター担体を作製して実施例１と同
様にして磁気転写を行って評価を行った。
【００３７】比較例２ 実施例１記載の磁気転写用マスター担体の磁性層の厚さ
を３０ｎｍに変更した点を除き実施例１と同様に比較例
２の磁気転写用マスター担体を作製して実施例１と同様
にして磁気転写を行って評価を行った。
を３０ｎｍに変更した点を除き実施例１と同様に比較例
２の磁気転写用マスター担体を作製して実施例１と同様
にして磁気転写を行って評価を行った。
【００３８】比較例３ 実施例１記載の磁気転写用マスター担体の磁性層の厚さ
を８００ｎｍに変更した点を除き実施例１と同様に比較
例３の磁気転写用マスター担体を作製して実施例１と同
様にして磁気転写を行って評価を行った。
を８００ｎｍに変更した点を除き実施例１と同様に比較
例３の磁気転写用マスター担体を作製して実施例１と同
様にして磁気転写を行って評価を行った。
【００３９】比較例４ 実施例１記載の磁気転写用マスター担体の磁性層の厚さ
を１０００ｎｍに変更した点を除き実施例１と同様に比
較例４の磁気転写用マスター担体を作製して実施例１と
同様にして磁気転写を行って評価を行った。
を１０００ｎｍに変更した点を除き実施例１と同様に比
較例４の磁気転写用マスター担体を作製して実施例１と
同様にして磁気転写を行って評価を行った。
【００４０】比較例５ 実施例３記載の磁気転写用マスター担体の磁性層のスパ
ッタリング雰囲気を酸素に変更した点を除き実施例３と
同様に比較例５の磁気転写用マスター担体を作製して実
施例１と同様にして磁気転写を行って評価を行った。
ッタリング雰囲気を酸素に変更した点を除き実施例３と
同様に比較例５の磁気転写用マスター担体を作製して実
施例１と同様にして磁気転写を行って評価を行った。
【００４１】比較例６ 実施例１記載の磁気転写用マスター担体の磁性層のスパ
ッタリング雰囲気を酸素に変更した点を除き実施例１と
同様に比較例５の磁気転写用マスター担体を作製して実
施例１と同様にして磁気転写を行って評価を行った。
ッタリング雰囲気を酸素に変更した点を除き実施例１と
同様に比較例５の磁気転写用マスター担体を作製して実
施例１と同様にして磁気転写を行って評価を行った。
【００４２】（評価方法） １．飽和磁化の測定とＭｓ・δの演算 磁性層の飽和磁化（Ｍｓ）は試料振動型磁力計（ＶＳ
Ｍ）により測定を行う。また、試料を８ｍｍ×６ｍｍの
大きさに切り出し、この面積とスパッタリング速度から
計算した磁性層厚（δ）から体積、飽和磁化を算出す
る。上記方法により求めたＭｓおよびδの積からＭｓ・
δを算出した。 ２．転写磁界領域の広さの測定 磁気転写後のスレーブ担体を磁気現像液（シグマハイケ
ミカル社製シグマーカーＱ）を１５倍に希釈し、スレー
ブ媒体上に滴下、乾燥させ、現像を行う。現像後の磁気
転写像を目視で確認し、信号が発生・消失した各磁界強
度間の差を転写磁界領域とした。 ３．電磁変換特性の測定 電磁変換特性測定装置（協同電子製：ＳＳ−６０）によ
りスレーブ媒体の転写信号の信号品位の評価を行った。
装置の再生信号をデジタルオシロスコープ（レクロイ社
製ＬＣ３３４ＡＭ）に入力し、信号の半値幅（ＰＷ５
０）により評価した。ＰＷ５０が３００ｎｍ以下であれ
ば良好、それ以上では不良とした。
Ｍ）により測定を行う。また、試料を８ｍｍ×６ｍｍの
大きさに切り出し、この面積とスパッタリング速度から
計算した磁性層厚（δ）から体積、飽和磁化を算出す
る。上記方法により求めたＭｓおよびδの積からＭｓ・
δを算出した。 ２．転写磁界領域の広さの測定 磁気転写後のスレーブ担体を磁気現像液（シグマハイケ
ミカル社製シグマーカーＱ）を１５倍に希釈し、スレー
ブ媒体上に滴下、乾燥させ、現像を行う。現像後の磁気
転写像を目視で確認し、信号が発生・消失した各磁界強
度間の差を転写磁界領域とした。 ３．電磁変換特性の測定 電磁変換特性測定装置（協同電子製：ＳＳ−６０）によ
りスレーブ媒体の転写信号の信号品位の評価を行った。
装置の再生信号をデジタルオシロスコープ（レクロイ社
製ＬＣ３３４ＡＭ）に入力し、信号の半値幅（ＰＷ５
０）により評価した。ＰＷ５０が３００ｎｍ以下であれ
ば良好、それ以上では不良とした。
【００４３】
【表１】 Ｍｓ・δ 転写磁界領域 信号品位 ＰＷ５０ 面磁気モーメント(T・μm) （ｋＡ／ｍ） （ｎｍ） 実施例１ ０．４ ２００ 良好 ２８８ 実施例２ ０．８ ２２３ 良好 ２７４ 実施例３ ０．４２ １７９ 良好 ２８２ 実施例４ ０．１ １４３ 良好 ２９９ 実施例５ ０．０６ ２１０ 良好 ２７６ 実施例６ ０．０４ ２０３ 良好 ２７７ 比較例１ ０．０１５ ６４ 不良 ３１５ 比較例２ ０．０２ ８１ 不良 ３１９ 比較例３ ２．４ ２２３ 不良 ３０４ 実施例４ ３．２ ２２７ 不良 ３０９ 比較例５ ０．０１ ２１ 不良 ４１２ 実施例６ ０．００６ １６ 不良 ３９５
【００４４】
【発明の効果】以上のように、本発明の磁気転写用マス
ター担体を用いた磁気転写方法によって、ハードディス
ク、大容量リムーバブルディスク媒体、大容量フレキシ
ブル媒体等のディスク状媒体に、短時間に生産性良く、
トラッキング用サーボ信号やアドレス情報信号、再生ク
ロック信号等のプリフォーマット記録を転写信号の品位
の低下をきたすことなく安定した磁気転写を行うことが
できる。
ター担体を用いた磁気転写方法によって、ハードディス
ク、大容量リムーバブルディスク媒体、大容量フレキシ
ブル媒体等のディスク状媒体に、短時間に生産性良く、
トラッキング用サーボ信号やアドレス情報信号、再生ク
ロック信号等のプリフォーマット記録を転写信号の品位
の低下をきたすことなく安定した磁気転写を行うことが
できる。
Claims (3)
- 【請求項１】 磁気記録媒体に磁気転写を行う方法にお
いて、磁気転写用マスター担体の磁性材料の飽和磁化
（Ｍｓ）と磁性層厚（δ）の積（Ｍｓ・δ）が０．０２
５Ｔ・μｍ（２０Ｇ・μｍ）以上、２．３Ｔ・μｍ（１
８３０Ｇ・μｍ）以下であることを特徴とする磁気転写
方法。 - 【請求項２】 磁気記録情報が記録された磁性層を有す
る磁気転写用マスター担体と転写を受けるスレーブ媒体
とを密着させて磁気転写用マスター担体の磁気記録情報
をスレーブ媒体に転写する磁気転写方法において、予め
スレーブ媒体の磁化をトラック方向に初期直流磁化した
後、磁気転写用マスター担体と初期直流磁化したスレー
ブ媒体とを密着させスレーブ面の初期直流磁化方向と逆
向きの方向に転写用磁界を印加し磁気転写を行うことを
特徴とする請求項１記載の磁気転写方法。 - 【請求項３】 磁気記録媒体が請求項１ないし２のいず
れかに記載の方法によってサーボ信号を記録したもので
あることを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000130306A JP3973187B2 (ja) | 2000-04-28 | 2000-04-28 | 磁気転写方法 |
| CN01110262A CN1321970A (zh) | 2000-04-28 | 2001-04-03 | 磁复录方法 |
| KR1020010019753A KR20010099688A (ko) | 2000-04-28 | 2001-04-13 | 자기전사방법 |
| DE60138064T DE60138064D1 (de) | 2000-04-28 | 2001-04-25 | Magnetische Übertragungsmethode |
| EP01109485A EP1150280B1 (en) | 2000-04-28 | 2001-04-25 | Magnetic transfer method |
| SG200102392A SG98027A1 (en) | 2000-04-28 | 2001-04-27 | Magnetic transfer method |
| US09/843,889 US7236317B2 (en) | 2000-04-28 | 2001-04-30 | Magnetic transfer method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000130306A JP3973187B2 (ja) | 2000-04-28 | 2000-04-28 | 磁気転写方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001312821A true JP2001312821A (ja) | 2001-11-09 |
| JP3973187B2 JP3973187B2 (ja) | 2007-09-12 |
Family
ID=18639436
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000130306A Expired - Fee Related JP3973187B2 (ja) | 2000-04-28 | 2000-04-28 | 磁気転写方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7236317B2 (ja) |
| EP (1) | EP1150280B1 (ja) |
| JP (1) | JP3973187B2 (ja) |
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