JP2001308234A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置の製造方法

Info

Publication number
JP2001308234A
JP2001308234A JP2000122770A JP2000122770A JP2001308234A JP 2001308234 A JP2001308234 A JP 2001308234A JP 2000122770 A JP2000122770 A JP 2000122770A JP 2000122770 A JP2000122770 A JP 2000122770A JP 2001308234 A JP2001308234 A JP 2001308234A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor chip
semiconductor
sheet
wafer
semiconductor device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2000122770A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroaki Koujimoto
浩章 椛本
Minoru Aoyanagi
稔 青柳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissan Motor Co Ltd
Original Assignee
Nissan Motor Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissan Motor Co Ltd filed Critical Nissan Motor Co Ltd
Priority to JP2000122770A priority Critical patent/JP2001308234A/ja
Publication of JP2001308234A publication Critical patent/JP2001308234A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体チップと放熱板との取り付け工数を低
減させることで、製造コストを安価にすることを可能と
した半導体装置の製造方法を提供する。 【解決手段】 複数の半導体チップが形成されたウエハ
をダイシングシート9に貼り付けて、各半導体チップ2
のみを分割し、(c)でダイシングシート9を伸長す
る。伸長する前の位置を相似的に保ったまま広げた半導
体チップ2に、半導体チップの集合の全体輪郭よりも大
きいサイズの放熱用円板14を貼り付ける。そして、
(d)で個々のサイズの放熱板3に分割すると、1個の
半導体チップとその半導体チップより大きい1枚の放熱
板とを有する半導体装置が、ウエハ単位の一括処理で製
造できる。また、同様の製造方法で、4個の半導体チッ
プと、その4個の半導体チップを並べた大きさよりも大
きい1枚の放熱板とを有するマルチモジュール型の半導
体装置を製造することもできる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の製造
方法に係り、特に半導体チップに放熱板を装着したウエ
ハレベルCSP(chip size packag
e)などの製造に適した半導体装置の製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】半導体チップが動作すると電力が消費さ
れチップが発熱する。チップがある温度を超えると正常
な動作をしなくなるため、発生した熱を除去し、チップ
の温度を一定以下に保つ必要がある。
【0003】半導体チップに放熱板を装着して放熱を図
る方法としては、電子回路が形成されたウエハにウエハ
と同サイズの放熱板を貼りあわせ、その後に個々のチッ
プに分割する方法がある。この場合は、半導体チップと
放熱板が同サイズになる。
【0004】しかし、半導体チップに取り付けられた放
熱板がチップと同サイズの場合は、放熱板がない半導体
チップと比較して放熱効率がほとんど向上せず、放熱板
や接着剤の材料の選定方法によっては、チップの厚みが
増した分だけ逆に放熱効率が悪化してしまう。
【0005】そこで、ウエハを複数の半導体チップに分
割した後に、個々の半導体チップにチップより大きいサ
イズの放熱板を個々に取り付けて半導体装置を製造する
方法が特開平10−284634号公報により知られて
いる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
10−284634号公報に開示された技術では、個片
状態のCSP素子を一つ一つ取り出して、その個片状態
のCSP素子に対して個別に放熱板を取り付けているた
めに、結果として製造コストが増加するという問題があ
る。以上から本発明の目的は、半導体チップと放熱板と
の取り付け工数を低減させることで、製造コストを安価
にすることを可能とした半導体装置の製造方法を提供す
ることである。
【0007】
【課題を解決するための手段】このため、請求項1記載
の発明は、複数の半導体チップが形成されたウエハを伸
長可能なシートに貼り付ける工程と、前記ウエハをシー
ト上で前記半導体チップごとに分割する工程と、前記シ
ートを伸ばす工程と、前記シート上の複数の半導体チッ
プに1枚の放熱板を取り付ける工程と、前記半導体チッ
プから前記シートを取り外す工程と、前記放熱板を分割
する工程とを備えたものとした。
【0008】請求項2記載の発明は、複数の半導体チッ
プが形成されたウエハに保護膜を形成する工程と、前記
ウエハを伸長可能なシートに貼り付ける工程と、前記ウ
エハをシート上で前記半導体チップごとに分割する工程
と、前記シートを伸ばす工程と、前記シート上の複数の
半導体チップに1枚の放熱板を取り付ける工程と、前記
保護膜を溶融除去して前記半導体チップから前記シート
を取り外す工程と、前記放熱板を分割する工程とを備え
たものとした。
【0009】請求項3記載の発明は、複数の半導体チッ
プが形成されたウエハを伸長可能なシートに貼り付ける
行程と、前記ウエハをシート上で前記半導体チップごと
に分割する行程と、前記シートを伸ばす行程と、前記シ
ート上の複数の半導体チップに、少なくとも一つのガイ
ドマークが形成されている1枚の放熱板を取り付ける行
程と、前記放熱板に形成されたガイドマークと、前記半
導体チップとの位置を測定する行程と、前記半導体チッ
プから前記シートを取り外す行程と、前記放熱板を分割
する行程とを備えたものとした。
【0010】
【発明の効果】請求項1記載の発明では、複数の半導体
チップが貼り付いた伸長可能なシートを伸ばした状態で
放熱板を貼り付けて分割するので、半導体チップと放熱
板との取り付け工数を低減させることができ、製造コス
トを安価にすることが可能である。
【0011】請求項2記載の発明では、上記請求項1の
発明の効果に加え、ウエハに保護膜を形成する工程およ
び保護膜を溶融除去する工程を備えたので、半導体チッ
プから容易にシートを取り外すことができる。
【0012】請求項3記載の発明では、シート上の複数
の半導体チップに、少なくとも一つのガイドマークが形
成されている1枚の放熱板を取り付け、放熱板に形成さ
れたガイドマークと、前記半導体チップとの位置を測定
するようにしたので、請求項1記載の発明の効果に加
え、半導体チップの放熱板に対する位置のずれを放熱板
を分割する前に、一括して容易に測定することができ
る。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明をウエハレベルCS
P半導体装置の製造に適用した第1の実施例を、図面を
参照しながら説明する。ここで、CSPとは、半導体チ
ップの外形寸法とほぼ同寸法の外形寸法の小型パッケー
ジをさし、ウエハレベルCSPとは、ウエハ単位で製造
されるCSPのことをいう。
【0014】図1に示すように、本実施例により製造さ
れる半導体装置1は、半導体チップ2と、半導体チップ
2に取り付けられた放熱板3とからなり、半導体チップ
2は、半導体基体4と、半導体基体4の表面に形成され
たパシベーション膜(passivation fil
m)5と、そのパシベーション膜5上に形成された回路
6および実装基板への電気的接続のためのバンプ(bu
mp)7とからなる。なお、放熱板3は、半導体チップ
2における回路6などの形成面と反対側の面(裏面)に
接着剤18で貼り付けられている。
【0015】次に、半導体装置1の製造工程のフローチ
ャートを図2に示す。なお、図2のフローチャートの説
明の中で、必要に応じて図3および図4を参照する。ス
テップ101では、半導体基体4となるウエハの片面に
パシベーション膜5を形成し、その上に回路6およびバ
ンプ7を形成して、複数の半導体チップ2を形成する。
ステップ102では、ウエハにおける回路6などの形成
面に、レジストを塗布して保護膜を形成する。具体的に
は、高速で回転しているウエハ上にレジスト溶液をたら
して、薄く一様に塗布(スピンコート)する。
【0016】ステップ103では、複数の半導体チップ
2が形成されたウエハ8の保護膜の形成面を伸長性のあ
るダイシングシート9に貼り付け、そのダイシングシー
ト9をダイシングフレーム10で固定する(図3の
(a))。ステップ104では、ダイシングソー11に
より、ダイシングフレーム10で固定したダイシングシ
ート9は切らずに、ウエハ8に形成した各半導体チップ
2のみ当該半導体チップ2間で切断して、分割する(図
3の(b))。
【0017】ステップ105では、分割された半導体チ
ップ2が貼り付いたままのダイシングシート9を、エキ
スパンドアッパーリング12とエキスパンドロワーリン
グ13で固定し、伸長する(図4の(c))。なお、図
3の(b)および図4では、ウエハ8の半導体チップ2
を形成しない端片は図示省略している。ダイシングシー
ト9を伸長することによって、ダイシングシート9に貼
り付いた個片状態の半導体チップ2を同心円状に広げ
る。広げられた半導体チップ2は、伸長前の半導体チッ
プ2の位置を相似的に保つ。このとき、一つの半導体チ
ップ2に対し図1に示した所定の大きさを持った一つの
放熱板3を貼り付けた半導体装置1が得られるように、
ダイシングシート9の伸長の程度を決める。
【0018】ステップ106では、ダイシングシート9
上の半導体チップ2の全体輪郭よりも大きいサイズのシ
リコン素材の放熱用円板14を、ダイシングシート15
に貼り付け、ダイシングフレーム16で固定する(図4
の(d)参照)。なお、放熱用円板14には、あらかじ
め分割のためのガイドマーク17(図5参照)を形成し
ておく。ステップ107では、前ステップでダイシング
シート15に貼り付けた放熱用円板14を、ステップ1
05で伸長したダイシングシート9上の半導体チップ2
の集合の裏面の全体に、接着剤18で貼り付ける。
【0019】ステップ108では、有機溶剤で保護膜を
溶融除去し、半導体チップ2からダイシングシート9を
取り外す。ステップ109では、ダイシングシート9を
伸長したときの伸長のバラツキによって生じる半導体チ
ップ2の位置ずれを測定する。具体的には、図5に示す
ように、ガイドマーク17および分割線19、20を基
準にして、半導体チップ2の4つの角のうち2つの角の
座標を測定する。
【0020】ステップ110では、ダイシングフレーム
16で固定したダイシングシート15上の放熱用円板1
4の隣接する半導体チップ2間を切断して、一つの半導
体チップ2に対して一つの放熱板3を持つような所定の
サイズに分割する(図4の(d))。すなわち、ダイシ
ングシート9が伸長された分だけ、半導体チップ2に対
して大きいサイズの放熱板3を持つことになる。最後に
ダイシングシート15を取り外して、半導体装置1を得
る。以上により、半導体チップ2より大きい放熱板3を
持った半導体装置1をウエハ単位の一括処理で製造でき
る。また、半導体チップ2の位置の測定は、放熱用円板
14を分割する前に行なうので、それらの測定もウエハ
単位で一括してできる。
【0021】次に、本発明をマルチモジュール型のウエ
ハレベルCSP半導体装置の製造に適用した第2の実施
例を、図面を参照しながら説明する。この実施例は、図
6に示すように、4個の半導体チップ22(22A〜2
2D)を一組として、これにその全体の輪郭より大きな
放熱板23を取り付けてマルチモジュール化した半導体
装置21を作成するものである。
【0022】以下、半導体装置21の製造過程を示す。
上記の第1の実施例のステップ101およびステップ1
02と同様に、ウエハに複数の半導体チップ22を形成
し、その上に保護膜を形成する。但し、この実施例で
は、後述のように、縦2列且つ横2列に隣り合う4個の
半導体チップ22(22A〜22D)の組が順番に並ぶ
ように、半導体チップを形成する。
【0023】それから、図7の(a)に示すように、複
数の半導体チップ22が形成されたウエハ24を伸長可
能なダイシングシート25に貼り付け、そのダイシング
シート25をダイシングフレーム26で固定する。そし
て、第1の実施例のステップ104と同様に、ダイシン
グシート25を切らずに、ウエハ24に形成した各半導
体チップ22のみ当該半導体チップ22間で切断して、
分割する。
【0024】次に、図7の(b)に示すように、分割さ
れた半導体チップ22が貼り付いたままのダイシングシ
ート25を、エキスパンドアッパーリング27とエキス
パンドロワーリング28で固定し、伸長して、半導体チ
ップ22を同心円状に広げる。このとき、4個の半導体
チップ22(22A〜22D)に対して図6に示した所
定の大きさを持った一つの放熱板23を貼り付けた半導
体装置21が得られるように、ダイシングシート25の
伸長の程度を決める。なお、図7の(b)および図8で
は、ウエハ24の半導体チップ22を形成しない端片は
図示省略している。これらの図7の(a)および図7の
(b)に示した過程は、それぞれ図3の(a)および図
4の(c)と同様である。
【0025】一方、第1の実施例のステップ106と同
様に、ダイシングシート25上の半導体チップ22の集
合の全体輪郭よりも大きいサイズのシリコン素材の放熱
用円板29を、ダイシングシート30に貼り付け、ダイ
シングフレーム31で固定する(図8参照)。さらに、
第1の実施例のステップ107〜109と同様に、放熱
用円板29を半導体チップ22の集合の裏面の全体に貼
り付け、有機溶剤で保護膜を溶融除去し半導体チップ2
2の集団からダイシングシート25を取り外して、ダイ
シングシート25を伸長したときの伸長のバラツキによ
って生じる半導体チップ22の位置ずれを測定する。
【0026】そして、図8に示すように、ダイシングフ
レーム31で固定したダイシングシート30上の放熱用
円板29の隣接する4個の半導体チップ22(22A〜
22D)を分割する。最後にダイシングシート30を取
り外して、半導体装置21を得る。以上により、マルチ
モジュール型の半導体装置21をウエハ単位の一括処理
で製造できる。この半導体装置21は、4個の半導体チ
ップ22(22A〜22D)にそれぞれ違う機能を持た
せることもできるし、また同じ機能を持たせることもで
きる。
【0027】なお、本発明に係る半導体装置の製造方法
は、上記の各実施例に示す形態に限定されるものではな
い。例えば、保護膜の形成は、レジストを塗布する以外
の方法でも良い。また、放熱用円板は、セラミック素材
や金属素材でも良く、さらに、放熱用円板の片面に、放
熱効果を向上させるためのフィン形状を事前に作り込ん
でおいても良い。半導体チップの放熱板に対する位置ず
れの測定は、ガイドマークおよび分割線を基準にして、
半導体チップの1つの角の座標と1辺の角度を測定して
も良い。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例により製造された半導体
装置を示す図である。
【図2】本発明の第1の実施例における半導体装置の製
造工程のフローを示す図である。
【図3】本発明の第1の実施例における半導体装置の製
造過程を示す説明図である。
【図4】本発明の第1の実施例における半導体装置の製
造過程を示す説明図である。
【図5】本発明の第1の実施例における半導体チップの
位置測定の概要図である。
【図6】本発明の第2の実施例により製造されたマルチ
モジュール型の半導体装置を示す図である。
【図7】本発明の第2の実施例における半導体装置の製
造過程を示す説明図である。
【図8】本発明の第2の実施例における半導体装置の製
造過程を示す説明図である。
【符号の説明】
1、21 半導体装置 2、22 半導体チップ 3、23 放熱板 4 半導体基体 5 パシベーション膜 6 回路 7 バンプ 8、24 ウエハ 9、25 ダイシングシート 10、26 ダイシングフレーム 11 ダイシングソー 12、27 エキスパンドアッパーリング 13、28 エキスパンドロワーリング 14、29 放熱用円板 15、30 ダイシングシート 16、31 ダイシングフレーム 17 ガイドマーク 18 接着剤

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の半導体チップが形成されたウエハ
    を伸長可能なシートに貼り付ける工程と、前記ウエハを
    シート上で前記半導体チップごとに分割する工程と、前
    記シートを伸ばす工程と、前記シート上の複数の半導体
    チップに1枚の放熱板を取り付ける工程と、前記半導体
    チップから前記シートを取り外す工程と、前記放熱板を
    分割する工程とを備えたことを特徴とする半導体装置の
    製造方法。
  2. 【請求項2】 複数の半導体チップが形成されたウエハ
    に保護膜を形成する工程と、前記ウエハを伸長可能なシ
    ートに貼り付ける工程と、前記ウエハをシート上で前記
    半導体チップごとに分割する工程と、前記シートを伸ば
    す工程と、前記シート上の複数の半導体チップに1枚の
    放熱板を取り付ける工程と、前記保護膜を溶融除去して
    前記半導体チップから前記シートを取り外す工程と、前
    記放熱板を分割する工程とを備えたことを特徴とする半
    導体装置の製造方法。
  3. 【請求項3】 複数の半導体チップが形成されたウエハ
    を伸長可能なシートに貼り付ける行程と、前記ウエハを
    シート上で前記半導体チップごとに分割する行程と、前
    記シートを伸ばす行程と、前記シート上の複数の半導体
    チップに、少なくとも一つのガイドマークが形成されて
    いる1枚の放熱板を取り付ける行程と、前記放熱板に形
    成されたガイドマークと、前記半導体チップとの位置を
    測定する行程と、前記半導体チップから前記シートを取
    り外す行程と、前記放熱板を分割する行程と、を備えた
    ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
JP2000122770A 2000-04-24 2000-04-24 半導体装置の製造方法 Withdrawn JP2001308234A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000122770A JP2001308234A (ja) 2000-04-24 2000-04-24 半導体装置の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000122770A JP2001308234A (ja) 2000-04-24 2000-04-24 半導体装置の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001308234A true JP2001308234A (ja) 2001-11-02

Family

ID=18633212

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000122770A Withdrawn JP2001308234A (ja) 2000-04-24 2000-04-24 半導体装置の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001308234A (ja)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006059146A (ja) * 2004-08-20 2006-03-02 Toppan Forms Co Ltd 半導体部品およびその製造方法
JP2006195795A (ja) * 2005-01-14 2006-07-27 Hitachi Chem Co Ltd Icタグインレット及びicタグインレットの製造方法
JP2006195796A (ja) * 2005-01-14 2006-07-27 Hitachi Chem Co Ltd Icタグ及びicタグインレット
JP2006294714A (ja) * 2005-04-07 2006-10-26 Hitachi Kokusai Electric Inc Paモジュールの放熱板
JP2012156330A (ja) * 2011-01-26 2012-08-16 Hitachi Chem Co Ltd 積層シート及び半導体装置の製造方法
US9735325B2 (en) 2014-09-16 2017-08-15 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor device and manufacturing method of semiconductor device
WO2017168828A1 (ja) * 2016-03-31 2017-10-05 古河電気工業株式会社 電子デバイスパッケージ用テープ
JP2018190888A (ja) * 2017-05-10 2018-11-29 リンテック株式会社 離間装置および離間方法
US10553752B2 (en) 2015-12-02 2020-02-04 Samsung Electronics Co., Ltd. Light-emitting device and display device including the same
CN114975248A (zh) * 2022-07-29 2022-08-30 山东中清智能科技股份有限公司 一种晶圆封装方法及管芯封装体

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006059146A (ja) * 2004-08-20 2006-03-02 Toppan Forms Co Ltd 半導体部品およびその製造方法
JP2006195795A (ja) * 2005-01-14 2006-07-27 Hitachi Chem Co Ltd Icタグインレット及びicタグインレットの製造方法
JP2006195796A (ja) * 2005-01-14 2006-07-27 Hitachi Chem Co Ltd Icタグ及びicタグインレット
JP4737505B2 (ja) * 2005-01-14 2011-08-03 日立化成工業株式会社 Icタグインレット及びicタグインレットの製造方法
JP2006294714A (ja) * 2005-04-07 2006-10-26 Hitachi Kokusai Electric Inc Paモジュールの放熱板
JP4584757B2 (ja) * 2005-04-07 2010-11-24 株式会社日立国際電気 Paモジュールの放熱板
JP2012156330A (ja) * 2011-01-26 2012-08-16 Hitachi Chem Co Ltd 積層シート及び半導体装置の製造方法
US9735325B2 (en) 2014-09-16 2017-08-15 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor device and manufacturing method of semiconductor device
US10553752B2 (en) 2015-12-02 2020-02-04 Samsung Electronics Co., Ltd. Light-emitting device and display device including the same
WO2017168828A1 (ja) * 2016-03-31 2017-10-05 古河電気工業株式会社 電子デバイスパッケージ用テープ
JP2017183642A (ja) * 2016-03-31 2017-10-05 古河電気工業株式会社 電子デバイスパッケージ用テープ
JP2018190888A (ja) * 2017-05-10 2018-11-29 リンテック株式会社 離間装置および離間方法
JP6996046B2 (ja) 2017-05-10 2022-01-17 リンテック株式会社 離間装置および離間方法
TWI769220B (zh) * 2017-05-10 2022-07-01 日商琳得科股份有限公司 離間裝置及離間方法
CN114975248A (zh) * 2022-07-29 2022-08-30 山东中清智能科技股份有限公司 一种晶圆封装方法及管芯封装体
CN114975248B (zh) * 2022-07-29 2022-10-25 山东中清智能科技股份有限公司 一种晶圆封装方法及管芯封装体

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6686225B2 (en) Method of separating semiconductor dies from a wafer
US7975377B2 (en) Wafer scale heat slug system
EP0883192A2 (en) Grooved semiconductor die for flip-chip sink attachment
SG90205A1 (en) Process for producing semiconductor device
US8058706B2 (en) Delamination resistant packaged die having support and shaped die having protruding lip on support
KR102222415B1 (ko) 열 스프레더를 구비한 집적회로 패키징 시스템 및 그 제조 방법
JP2001308234A (ja) 半導体装置の製造方法
JP2009164206A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP2010232471A (ja) 半導体装置の製造方法および半導体装置
US8101470B2 (en) Foil based semiconductor package
KR100652442B1 (ko) 반도체 칩 및 그 제조 방법
TW200425361A (en) Method for producing an integrated circuit with a rewiring device and corresponding integrated circuit
JP6482454B2 (ja) 電子部品の製造方法ならびに電子部品製造装置
JP2007012755A (ja) 半導体装置および半導体装置集合体
JP2007180273A (ja) 半導体装置の製造方法
WO2009023649A1 (en) Packaged integrated circuits and methods to form a packaged integrated circuit
WO2002056376A2 (en) Method of integrating a heat spreader and a semiconductor, and package formed thereby
JPS59220947A (ja) 半導体装置の製造方法
US10304716B1 (en) Package structure and manufacturing method thereof
US20090189255A1 (en) Wafer having heat dissipation structure and method of fabricating the same
JPH097975A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP2007243104A (ja) 半導体ウェハ
JP2003234312A (ja) 半導体装置の製造方法
TWI241699B (en) A method of mounting a heat dissipation plate on a backside of a chip
CN117577542A (zh) 一种晶圆级芯片封装体的封装方法及芯片封装体

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20070703