JP2001308006A - マイクロリソグラフィー照明系および上記照明系を備えたマイクロリソグラフィ投影露光装置 - Google Patents

マイクロリソグラフィー照明系および上記照明系を備えたマイクロリソグラフィ投影露光装置

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JP2001308006A
JP2001308006A JP2001094888A JP2001094888A JP2001308006A JP 2001308006 A JP2001308006 A JP 2001308006A JP 2001094888 A JP2001094888 A JP 2001094888A JP 2001094888 A JP2001094888 A JP 2001094888A JP 2001308006 A JP2001308006 A JP 2001308006A
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Japan
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illumination system
microlithographic
optical element
lens
plane
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Application number
JP2001094888A
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English (en)
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Johannes Wangler
ヨハネス・ヴァングラー
Jess Kohler
イェス・ケーラー
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Carl Zeiss SMT GmbH
Carl Zeiss AG
Original Assignee
Carl Zeiss SMT GmbH
Carl Zeiss AG
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 オフアクシス視界を有するレンズ径最小の投
影レンズを使用できる照明系を開示する。 【解決手段】 定常的に細分化される面によって全光束
（ＬＢ）を検知する光学素子または上記光学素子と等価
な光学素子を視界近傍に配置し、光軸に非対称に構成す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光軸と、光軸に対
称に配置された光学素子と、像面とを有するマイクロリ
ソグラフィ照明系に関する。
【０００２】本発明は、更に、この種の照明系を有する
マイクロリソグラフィ投影露光装置に関する。
【０００３】
【従来の技術】この種の照明系および投影露光装置は、
例えば、本出願人のドイツ特許公開第１９８５５１０６
号およびこの公報に引用の刊行物から公知である。
【０００４】ヨーロッパ特許公開第０９６４２８２号に
も、投影露光装置のこの種の照明系が記載されている。
この場合、投影レンズは、上記公報の請求項１４，１５
の特徴記載部分に開示の特徴にもとづき構成されてい
る。照明系および投影レンズは、共通の光軸（上記特許
の図１のＡ）を有する。
【０００５】ミラーを備えた対物レンズは、同時に、光
軸のまわりに調心された、口径食なしで視野面およびひ
とみ面を有することはできない（物理的分光器を使用す
る場合は除いて）。従って、例えば、ヨーロッパ特許公
開第０９６４２８２号の場合、物体面（オブジェクトフ
ィールド）および像面は、光軸外にある長方形状であ
る。
【０００６】非対称照明系によって形成された照明区画
は、上記公報の図２に示した如く、軸線外の長方形を含
む。
【０００７】この円形区画は、長方形を同心に囲む最小
円形区画よりも明らかに大きい。マイクロリソグラフィ
でも慣用の部分環形状の物体面および像面についても同
様である。
【０００８】光学系のレンズおよびミラーの寸法は、視
野とともに増大する。視野とともに、像エラーまたは修
正作業も増加する。
【０００９】例えば、１９３ｎｍまたは１５７ｎｍのエ
キシマレーザによるマイクロリソグラフィのための高出
力ＶＵＶ光学系の場合、光学材料（石英ガラスおよびフ
ッ化物単結晶）の入手性およびレンズ径の増大に伴う材
料費増が問題となる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の課題
は、オフアクシス（軸外れ）視界を有するレンズ径最小
の投影レンズを使用できる照明系を開示することにあ
る。
【００１１】光軸を投影レンズのオフアクシス視野に調
心し、しかも、上記投影レンズの光軸に対して平行にシ
フトした非対称照明系を使用した場合、下記の問題点が
生ずる。
【００１２】非対称素子からなる光学系の結像誤差は非
対称である。しかも照明系の小形化のために照明系の光
軸および投影レンズの光軸を相互に平行にシフトした場
合、双方の誤差は、対称性同一でなく、従って、相殺さ
れない。この場合、マイクロリソグラフィ投影露光装置
では遠隔調心誤差が特に重大である。
【００１３】さて、本発明にもとづき、照明系および投
影レンズを、光軸シフトにも拘わらず、レチクル面の各
結像誤差分布の対称性について、相互に適合させる。
【００１４】相互の傾動は、基本的に現れない。
【００１５】対物レンズにおいて、光軸に対して回転対
称でない要素すなわち素子は、品質が重要であるパタン
伝送に対して必然的に影響を与えることになる。
【００１６】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、照明系に
視野近傍に配置し且つ光軸に非対称に構成した光学素子
によって解決される。この素子は、例えば照明系の蜂の
巣状コンデンサに使用される如き軸線外ラスタ素子とは
異なる。即ち、本発明に係る素子の場合、全光束は、定
常的に細分化される横断面によって捕捉される。このよ
うな素子は、特に、レンズ、プリズム、プレートおよび
ミラーであり、何れも、回転対称の非球面および自由形
状面を有する。作用同一のフレネルレンズ、二元光学素
子または段状光学素子、反射素子およびこれらの組合せ
も等価である。
【００１７】請求項２において、非対称に構成した素子
が、照明系の像面または像面と共役の視野面に隣接させ
て配置されていることを示して、上記素子の位置を詳細
に特定した。
【００１８】従属請求項３−６に、本発明の意味におけ
る概念“視野近傍”の具体性を更に示した。修正素子
（非対称に構成した光学素子）は、機能的条件から、正
確にレチクル面内にあるのが合目的的である。更に、技
術的考量においてアパーチャ近傍にない異なる箇所にお
ける非対称反射光学素子の配置を誘起することになる光
学設計の一般的要件を考慮すべきである。
【００１９】従属請求項７−１０の本発明の好ましい実
施態様の場合、偏心球面レンズまたは回転対称非球面レ
ンズ（例えば、トーラスレンズ）またはくさびプレート
（プリズム）および上記形状と組合せたまたは上記形状
とは無関係の自由形状修正面（一般的に非球面）を設け
る。
【００２０】光学系の調整時にマイクロメートルの範囲
に偏心される公知の調心レンズとは異なり、製造公差を
有する構成した系を構造的に理想的に非対称の目標系に
近づけるため、本発明にもとづき、１ｍｍを越える比較
的大きい偏心度が好ましい。
【００２１】請求項１１にもとづき、非対称または偏心
素子は、照明系を成端するＲＥＭＡ対物レンズに、好ま
しくは、ＲＥＭＡ対物レンズの最初のまたは最後の素子
として、視野近傍に配置する。更に、概念“視野近傍”
は、先行請求項の意味と理解されたい。
【００２２】請求項１２にもとづき、照明系は、所定の
偏差で遠隔調心され、かくして、対応する投影レンズに
適合される。
【００２３】このような照明系を他の慣用の系と組合せ
れば、請求項１３に記載の本発明に係る投影露光装置が
得られる。系の構成部材の数は、もちろん、確定的では
なく、光学的コア構造群に限定される。
【００２４】この場合、反射系対物レンズ以外に、好ま
しくは、請求項１４に開示の如きカタディオプトリック
対物レンズが対象となる。この場合、カタディオプトリ
ック対物レンズの好ましい実施例は、請求項１５にもと
づき、厳密に、１つの凹面鏡と少なくとも２つの折り返
しミラーとを有する形式のもの−例えば、ヨーロッパ特
許公開第０９６４２８２号参照−または請求項１６にも
とづき折り返しミラーがなくすべての光学素子の対称軸
が連続である形式のものである。
【００２５】適切な対物レンズ、即ち、多数の湾曲ミラ
ーを含む反射系対物レンズまたはこれから誘導したカタ
ディオプトリック対物レンズは、例えば、ヨーロッパ特
許公開第０７７９５２８号または米国特許第４７９１０
３５号にも記載されている。
【００２６】本発明に係る系の極めて有利な特徴は、請
求項１７、１８の対象である。上記請求項にもとづき、
照明系の光軸および投影レンズの光軸は、平行にシフト
させるか、何れも伝送すべき物体面を含みレチクルにお
いて合致する像円および物円は、異なる大きさを有し、
更に詳細に云えば、照明系の物体面はより小さい。かく
して、照明系の製造時にすべての利点が得られる。
【００２７】請求項１９に、請求項１２にもとづく照明
系の遠隔調心と適合させた投影レンズの対物レンズ側の
遠隔調心を示した。この操作には、本発明を好ましい態
様で適用できる。
【００２８】本発明に係るマイクロリソグラフィパタン
化法は請求項２０の対象である。
【００２９】
【発明の実施の形態】図面を参照して本発明を詳細に説
明する。
【００３０】図１のレンズ略断面図に、本発明に係る投
影露光装置の実施形態を示した。
【００３１】光源ＬＳは、通常、例えば、波長が１９３
ｎｍまたは１５７ｎｍのエキシマレーザまたはたの慣用
のＵＶ波長の光源である。照明系ＩＬＬの光軸はＯＡＩ
は、光源ＬＳの軸線に合わせて、すなわち調心して設け
てある。この光軸ＯＡＩは、実用的な寸法および高い安
定性を有する装置が得られるよう、通常の如く、折り返
しミラーで屈曲させることもできる。
【００３２】照明系ＩＬＬの従属系ＩＳは、ビーム形
成、光伝送値向上、照明種類（通常、リングアパーチ
ャ、双極、４極）およびコヒーレント性の設定および均
一化に役立つ。
【００３３】視野面には、レチクルＲｅｔを照明する視
野ＯＦを、場合によっては、可変に限定するレチクル・
マスク系ＲＥＭＡが設けてある。
【００３４】均一フィルタＵＦをマスク系の近傍に設置
して、レチクル面の照明強度の一様性を確保する。この
フィルタは、平面板上に金属層を蒸着することによって
吸収フィルタとして作製できる。
【００３５】マスクの後ろのＲＥＭＡ対物レンズＲＯ
は、レチクルまたはＲＥＭＡによって限定された視野を
レチクル面またはレチクルＲｅｔ上に境界鮮鋭に結像す
るのに役立つ。このレンズは、光軸ＯＡＩに調心したレ
ンズからなる部分ＲＯ’と、光軸ＯＡＩに関して非対称
の視野近傍の適合素子ＡＥとからなる。この場合、後者
は、距離ａを置いてレチクル面Ｒｅｔに隣接する。アパ
ーチャ面ＩＡと適合素子ＡＥとの間には、必ず、少なく
とも１つのレンズＩＡＬが設けてある。素子ＡＥは、光
軸ＯＡＩに対して△ＡＥだけシフトしている。ＲＥＭＡ
対物レンズの範囲には、定常的に細分化される光学的界
面を介して非対称適合素子ＡＥを通過する光束ＬＢも模
式的に示してある。即ち、装置は、多数のレンズを光軸
に並置した蜂の巣状コンデンサに慣用の如きレンズアレ
イとは対比できない。
【００３６】レチクル面には、結像すべきパタンのマス
クを担持するレチクルＲｅｔが、位置決め及び駆動系Ｏ
Ｒｅｔによって保持されている。
【００３７】次いで、投影レンズＰ、この場合、凹面鏡
Ｍ１と、２つの折り返しミラーＦＭ１，ＦＭ２と，レン
ズ群ＬＧ１，ＬＧ２，ＬＧ３とを有するカタディオプト
リック系が設けてある。投影系Ｐの光軸ＯＡＰは、折り
返しミラーＦＭ１，ＦＭ２によって副軸ＯＡＰ’へ方向
変更される。物体面ＯＦ、中間像Ｉｍｉおよび像面に配
置され操作系ＯＷによって位置決め、駆動されるウエフ
ァＷ上の像Ｉｍは、それぞれ、投影レンズＰの光軸ＯＡ
Ｐに対して側方へシフトされている。このシフトは、物
体面ＯＦにおいて数値△ｙを有し、凹面鏡Ｍ１およびレ
ンズ群ＬＧ２の範囲で往復運動する光束を折り返しミラ
ーＦＭ１，ＦＭ２によって分離するために必要である。
【００３８】投影露光装置の上記構成およびその多数の
バリエーションは、基本的に、例えば、上記刊行物から
公知である。
【００３９】特殊性は、レチクル面Ｒｅｔにおける照明
系ＩＬＬの光軸ＯＡＩおよび投影レンズＰのＯＡＰの平
行シフトおよび照明系ＩＬＬの適合素子ＡＥである。
【００４０】図２は、達成される効果を示すレチクル面
Ｒｅｔの断面図である。
【００４１】細長い長方形の、例えば、３５×１１０ｍ
ｍ２の物体面ＯＦは、−１：５投影レンズＰによってウ
エファ・スキャナに適合されており−投影レンズＰの光
軸ＯＡＰに対して側方へ数値△ｙだけシフトされてい
る。この物体面は、光軸ＯＡＰのまわりの半径ＲＰの円
に縁で接触して描かれる。この円は、結像ジオメトリお
よび結像誤差に重要な投影レンズＰの物体面をなすが、
この物体面は、もちろん、上述の理由から十分には利用
できない。
【００４２】半径ＲＰの同一の円は、通常、照明系の像
面である（ヨーロッパ特許公開第０９６４２８２号参
照）。
【００４３】従って、通常、少なくともＲＥＭＡ対物レ
ンズは、このために必要な構造寸法および対応する修正
作業を必要とする。
【００４４】しかしながら、本発明にもとづき、照明系
ＩＬＬは、半径ＲＩと、ＲＥＭＡ系ＲＥＭＡの結像によ
って生ずる長方形ＯＦ、即ち、投影レンズＰによって利
用される物体面ＯＦとを含む。その中心は、照明系ＩＬ
Ｌの光軸ＯＡＩ上にあり、投影レンズＰの光軸ＯＡＰに
対してまさに物体面ＯＦのシフト△ｙだけシフトされて
いる。
【００４５】もちろん、妥協案として、双方の光軸ＯＡ
Ｉ，ＯＡＰの異なる側方シフトを選択することもでき
る。しかしながら、この場合、照明系ＩＬＬの結像誤差
の減少は最適ではない。
【００４６】図３，４を参照して、適合素子ＡＥを含む
ＲＥＭＡ対物レンズＲＯの実施形態を説明する。
【００４７】マイクロリソグラフィの開発度の高い投影
レンズＰは、両側で遠隔調心される。結像性質の最適化
のため、ひとみの擾乱（アパーチャ面の変形）は小さ
く、従って、遠隔調心の物側偏差は許容される。かくし
て、光軸ＯＡＰの平行線に対する主放射角の約０．１〜
５０ｍｒａｄの偏差が生じ、この偏差は、光軸ＯＡＰに
対して回転対称であり、物体の高さとともに変化する。
【００４８】このひとみ関数または遠隔調心の偏差は、
照明系ＩＬＬによって、特に、ＲＥＭＡ対物レンズＲＯ
によって補償される。これは、例えば、ドイツ特許拡開
第１２９６５３９８３号に記載されている。
【００４９】図３にレンズ断面図として示した結像倍率
−２，０のＲＥＭＡ対物レンズＲＯは、像面半径ＲＩ＝
５７．７ｍｍを有し、即ち、像面７×２２ｍｍ2、縮小
率１：５のスキャナに適切である。表１に、上記ＲＥＭ
Ａ対物レンズＲＯの構造データを示した。図３に、例と
して、適合素子ＡＥの視野近傍に関する寸法の指示のた
めに請求項６に開示した量“中心ビームのアパーチャ周
縁光束の高さＨＲ”および“視界周縁ビームの主光束の
高さＨＨ”を記入した。視野面ＲｅｔおよびＲＥＭＡに
おいてＨＲ＝０であり、アパーチャ面ＩＡにおいてＨＨ
＝０である。例として選択した適合素子ＡＥの位置で
は、視野周縁ビームのすべての光束は、明らかに、中心
ビームのすべての光束よりも大きい高さを有する。
【００５０】請求項５の特徴記載部分に開示した、像面
にフーリエ変換されたアパーチャ面ＩＡと適合素子ＡＥ
との間にあり光軸ＯＡＩに調心されたレンズ素子をＩＡ
Ｌで示した。
【００５１】図４に、投影レンズＰの典型的なひとみ関
数を示した。このひとみ関数には、上述のＲＥＭＡ対物
レンズが適合されている。主光束の理想的な平行な推移
に対して、ｍｒａｄの範囲の偏差が生ずる。しかしなが
ら、推移は、均一に同心ではなく、即ち、角度は、主光
束の高さに比例して増大するのではなく、正負の偏差を
有する非線形推移を示す。
【００５２】矢状高さプロフィル(Pfeilhoehenprofil)
ｚ（ｈ）（図４）を有する図３の適合素子ＡＥ（修正非
球面）は、まさに、ひとみ関数の上記推移を補償でき
る。表２に、この矢状高さプロフィルｚ（ｈ）の正確な
データを示した。
【００５３】適合素子ＡＥの最小厚さは、１ｍｍであ
り、レチクルＲｅｔとは反対側の面（図１の２０）は平
面である。上記素子ＡＥは、光軸ＯＡＩに関して非対称
であり、かくして、投影レンズＰの光軸ＯＡＰに調心さ
れる。即ち、上記素子は、ＲＥＭＡ対物レンズＲＥＭＡ
の光軸ＯＡＩに対して△ＡＥ＝△ｙ＝４２.０ｍｍだけ
シフトされている。このシフト量は、適切であるが、絶
対的ではなく、他のパラメータに応じて最適化できると
云える。
【００５４】適合素子ＡＥは、構造的に、光束ＩＡＬに
よるその照明に対応して、光軸ＯＡＩのまわりに回転対
称にカットすれぱ、ＲＥＭＡ対物レンズＲＯの通常の円
筒形のソケットに容易に取付けることができる。
【００５５】従って、投影レンズＰのひとみ関数に対す
る照明系ＩＬＬのひとみ関数の残存誤差は、利用した長
方形物体面ＯＦにおいて、なお±０.２ｍｒａｄであ
る。即ち、１桁の減少が達成される。
【００５６】ＲＥＭＡ対物レンズＯＲ’の他の品質特徴
に対する適合素子ＡＥ’の妨害作用は最小である。なぜ
ならば、適合素子は、視野面の近傍にあるからである。
利用した物体面ＯＦにわたる照明の均一性の変化は、
１，５％よりも小さく、しかも、照明アパーチャとは無
関係である。これは、適合させた均一フィルタ（図１の
ＵＦ）によって更に改善できる。ＲＥＭＡ絞りのエッジ
結像の鮮鋭さは、３００μｍの公差範囲内にある。必要
に応じて、他の修正手段を使用でき、レンズまたはレン
ズ群の特に傾動および偏心を最小量に最適化する調整技
術を利用できる。
【００５７】入射ひとみを均一に調心すれば、修正球面
で十分であろう。
【００５８】適合素子ＡＥからレチクル面Ｒｅｔまでの
距離は、レチクルＲｅｔの良好な操作のためのできる限
り大きい自由作業距離と、最小距離における像面の主光
束角度分布に対する適合素子のもちろん最適な作用との
間の妥協点である。この距離の上限値は、８０ｍｍであ
る。
【００５９】 表１ ＲＥＭＡ対物レンズ（結像倍率β＝−２）の面ナンバー、曲率半径および厚さ 波長：λ＝１５７，６３ｎｍ，レンズ材料：フッ化カルシウム アパーチャ：ＮＡ’＝０．１５ ｎｏ． ｒ（ｍｍ） ｄ（ｍｍ） 1 ∞ 44.1466 REMA 2 - 46.2216 49.9488 3 - 82.3304 0.5706 4 - 166.6123 17.5396 5 - 116.4438 0.5545 6 - 699.5416 19.8220 7 - 200.1951 0.8479 8 309.4913 23.5149 9 - 1273.1979 57.3418 10 104.5163 39.8319 11 80.0414 163.4516 12 - 205.4711 39.9773 13 - 152.3686 187.0236 14 409.6726 20.2073 15 293.7478 49.9905 16 572.9306 32.3789 17 - 897.2471 18.3879 18 334.4892 45.8774 19 36393.5512 357.6868 20 ∞ 1.0000 AE'非対称素子 21 ∞ 30.0000 22 ∞ Ret
【００６０】 表２ 投影レンズＰの光軸ＯＡＰの距離ｈの関数としての、非対称に配置した反射素子 ＡＥ’の矢状高さｚ−中心厚さ１，００００ｍｍ ｈ（ｍｍ） ｚ（ｍｍ） 2.500 0.00060 5.000 0.00225 7.500 0.00495 10.000 0.00869 12.500 0.01343 15.000 0.01921 17.500 0.02601 20.000 0.03372 22.500 0.04229 25.000 0.05168 27.500 0.06182 30.000 0.07270 32.500 0.08422 35.000 0.09629 37.500 0.10880 40.000 0.12168 42.500 0.13485 45.000 0.14820 47.500 0.16162 50.000 0.17498 52.500 0.18816 55.000 0.20107 57.500 0.21353 60.000 0.22538 62.500 0.23651 65.000 0.24679 67.500 0.25605 70.000 0.26416 72.500 0.27082 75.000 0.27589 77.500 0.27927 80.000 0.28078 82.500 0.28004 85.000 0.27758
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る投影露光装置のレンズ略断面図で
ある。
【図２】レチクル面に沿う投影露光装置の横断面図であ
る。
【図３】ＲＥＭＡ対物レンズの断面図である。
【図４】投影レンズのひとみ関数および修正非球面（非
対称適合素子）の半径方向高さプロフィルを示す図面で
ある。
【符号の説明】 ＩＬＬ マイクロリソグラフィ照明系 ＯＡＩ，ＯＡＰ 光軸 ＬＢ 光束 Ｒｅｔ 像面 ＡＥ 光学素子 Ｐ 投影レンズ ＬＳ 光源 ＲＥＭＡ レチクル・マスク系 ＲＯ ＲＥＭＡ対物レンズ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/20 ５２１ Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１５Ｄ

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 光軸（ＯＡＩ）と、その光軸に対称に配
    置された光学素子と、光束（ＬＢ）と、像面（Ｒｅｔ）
    とを有するマイクロリソグラフィ照明系（ＩＬＬ）にお
    いて、定常的に細分化される面によって全光束（ＬＢ）
    を検知する光学素子または上記光学素子（ＡＥ）と等価
    な光学素子が、視野近傍に配置され、光軸（ＯＡＩ）に
    非対称に構成されていることを特徴とするマイクロリソ
    グラフィ照明系（ＩＬＬ）。
  2. 【請求項２】 非対称光学素子（ＡＥ）が、像面（Ｒｅ
    ｔ）または像面と共役の平面に隣接させて配置されてい
    ることを特徴とする請求項１のマイクロリソグラフィ照
    明系（ＩＬＬ）。
  3. 【請求項３】 非対称光学素子（ＡＥ）から像面（Ｒｅ
    ｔ）までの距離が、８０ｍｍよりも小さいことを特徴と
    する請求項１または２のマイクロリソグラフィ照明系
    （ＩＬＬ）。
  4. 【請求項４】 非対称光学素子（ＡＥ）から像面（Ｒｅ
    ｔ）までの距離が、像視野の直径（２ＲＩ）の０．８倍
    よりも小さいことを特徴とする請求項１−３の少なくと
    も１つに記載のマイクロリソグラフィ照明系（ＩＬ
    Ｌ）。
  5. 【請求項５】 非対称光学素子（ＡＥ）と像視野にフー
    リエ変換された平面（ＩＡ）との間には、少なくとも１
    つの調心された光学素子（ＩＡＬ）が設けてあることを
    特徴とする先行請求項の少なくとも１つに記載のマイク
    ロリソグラフィ照明系（ＩＬＬ）。
  6. 【請求項６】 非対称光学素子（ＡＥ）が、視界周縁ビ
    ームの主光束の高さ（ＨＨ）が中心ビームのアパーチャ
    周縁光束の高さ（ＨＲ）よりも大きい、好ましくは、２
    倍となる光路箇所にあることを特徴とする先行請求項の
    少なくとも１つに記載のマイクロリソグラフィ照明系。
  7. 【請求項７】 非対称光学素子（ＡＥ）が、本質的に、
    偏心度（△ＡＥ）が１ｍｍよりも大きい偏心球面レンズ
    であることを特徴とする先行請求項の少なくとも１つに
    記載のマイクロリソグラフィ照明系。
  8. 【請求項８】 非対称光学素子（ＡＥ）が、本質的に、
    偏心度（△ＡＥ）が１ｍｍよりも大きい偏心回転対称非
    球面レンズであることを特徴とする先行請求項の少なく
    とも１つに記載のマイクロリソグラフィ照明系。
  9. 【請求項９】 非対称光学素子（ＡＥ）が、くさび板で
    あることを特徴とする先行請求項の少なくとも１つに記
    載のマイクロリソグラフィ照明系。
  10. 【請求項１０】 非対称光学素子（ＡＥ）が、自由形状
    修正面を有することを特徴とする先行請求項の少なくと
    も１つに記載のマイクロリソグラフィ照明系。
  11. 【請求項１１】 該照明系が、レチクルマスク（ＲＥＭ
    Ａ）およびＲＥＭＡ対物レンズ（ＲＯ）を有し、ＲＥＭ
    Ａ対物レンズ（ＲＯ）の非対称光学素子（ＡＥ）が、Ｒ
    ＥＭＡ対物レンズ（ＲＯ）に、特にＲＥＭＡ対物レンズ
    （ＲＯ）の最初のまたは最後の素子として、レチクル・
    マスク（ＲＥＭＡ）の物体面の近傍にまたはマイクロリ
    ソグラフィ・マスクの像面（Ｒｅｔ）の近傍に設けてあ
    ることを特徴とする先行請求項の少なくとも１つに記載
    のマイクロリソグラフィ照明系。
  12. 【請求項１２】 該照明系が、像面（Ｒｅｔ）におい
    て、主放射角の最大偏差が０．１−５０ｍｒａｄになる
    よう遠隔調心されていることを特徴とする先行請求項の
    少なくとも１つに記載のマイクロリソグラフィ照明系。
  13. 【請求項１３】 光源（ＬＳ）と、先行請求項の１つに
    記載の照明系（ＩＬＬ）と、レチクル位置決め及び駆動
    系（ＯＲｅｔ）と、光軸（ＯＡＰ）および光軸に対して
    偏心された物体面（ＯＦ）を備えた投影レンズ（Ｐ）
    と、ウエファ位置決め及び駆動系（ＯＷ）とを有するマ
    イクロリソグラフィ投影露光装置。
  14. 【請求項１４】 投影レンズ（Ｐ）が、カタディオプト
    リック対物レンズであることを特徴とする請求項１３の
    マイクロリソグラフィ投影露光装置。
  15. 【請求項１５】 投影レンズ（Ｐ）が、厳密に、１つの
    凹面鏡（Ｍ１）と少なくとも２つの折り返しミラー（Ｆ
    Ｍ１，ＦＭ２）とを有することを特徴とする請求項１４
    のマイクロリソグラフィ投影露光装置。
  16. 【請求項１６】 投影レンズ（Ｐ）が、対称面（ＯＡ
    Ｐ）を有し、すべての光学素子の光学的作用面の湾曲
    が、場合による製造偏差を除いて、上記対称面に関して
    回転対称であることを特徴とする請求項１３のマイクロ
    リソグラフィ投影露光装置。
  17. 【請求項１７】 照明系（ＩＬＬ）の光軸（ＯＡＩ）お
    よび投影レンズ（Ｐ）が、平行ズレ（△ｙ）を有するこ
    とを特徴とする請求項１３−１７の少なくとも１つに記
    載のマイクロリソグラフィ投影露光装置。
  18. 【請求項１８】 照明系（ＩＬＬ）の像円半径（ＲＩ）
    が、投影レンズ（Ｐ）の物円半径（ＲＰ）よりも小さい
    ことを特徴とする請求項１３−１７の少なくとも１つに
    記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置。
  19. 【請求項１９】 投影レンズ（Ｐ）が、使用した物体面
    （ＯＦ）にわたって光軸（ＯＡＰ）に対する平行線から
    の主放射角の最大偏差が０．１〜５０ｍｒａｄになるよ
    う遠隔調心されているのことを特徴とする請求項１３〜
    １８の１つに記載のマイクロリソグラフィ投影露光装
    置。
  20. 【請求項２０】 マイクロリソグラフィパタン化法にお
    いて、先行請求項の少なくとも１つに記載の照明系また
    は投影露光装置を使用して基板上の感光性フィルムを投
    影露光する操作工程を特徴とする方法。
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