JP2001305543A - 液晶表示装置、マスク及び液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
液晶表示装置、マスク及び液晶表示装置の製造方法Info
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- JP2001305543A JP2001305543A JP2000114332A JP2000114332A JP2001305543A JP 2001305543 A JP2001305543 A JP 2001305543A JP 2000114332 A JP2000114332 A JP 2000114332A JP 2000114332 A JP2000114332 A JP 2000114332A JP 2001305543 A JP2001305543 A JP 2001305543A
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- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 本発明の目的は、液晶表示装置にどのような
方向の線分や、単色の領域あるいは文字を表示させて
も、表示像の視野角依存性を改善することにある。 【解決手段】 第１の配向特性を有する第１の単位配向
領域６及びその第１の配向特性と異なる第２の配向特性
を有する第２の単位配向領域８がマトリクスの行列位置
に混在して配置された配向膜１０を含み、第１及び第２
の単位配向領域６、８があらゆる方向の直線に沿って混
在するように、第１及び第２の単位配向領域６、８が配
設した配向膜１０を含む液晶表示装置を構成した。配向
膜に異なる配向特性を有する複数種類の配向領域を形成
するのに適したマスクを使用した。
方向の線分や、単色の領域あるいは文字を表示させて
も、表示像の視野角依存性を改善することにある。 【解決手段】 第１の配向特性を有する第１の単位配向
領域６及びその第１の配向特性と異なる第２の配向特性
を有する第２の単位配向領域８がマトリクスの行列位置
に混在して配置された配向膜１０を含み、第１及び第２
の単位配向領域６、８があらゆる方向の直線に沿って混
在するように、第１及び第２の単位配向領域６、８が配
設した配向膜１０を含む液晶表示装置を構成した。配向
膜に異なる配向特性を有する複数種類の配向領域を形成
するのに適したマスクを使用した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置、並び
に配向膜形成用のマスク、及び液晶表示装置の製造方法
に関し、より詳しくは特に、視野角特性を改善した液晶
表示装置とその製造方法に関する。
に配向膜形成用のマスク、及び液晶表示装置の製造方法
に関し、より詳しくは特に、視野角特性を改善した液晶
表示装置とその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置には一般に、その画面を見
る角度や方向が異なると、コントラスト比や表示色が変
化するなどの視野角依存性がある。このような液晶表示
装置の視野角を広げる技術の一つに、配向膜に、異なる
配向特性を有する２種類の配向領域を適宜作成する方法
がある。この方法は、図９に示すように、たとえば下基
板の樹脂膜１に、所定の分子配向方向および所定のプレ
チルト角を有する配向領域２と、その方向とは１８０°
異なる分子配向方向および所定のプレチルト角を有する
配向領域３とを形成して、配向膜４とするものである。
る角度や方向が異なると、コントラスト比や表示色が変
化するなどの視野角依存性がある。このような液晶表示
装置の視野角を広げる技術の一つに、配向膜に、異なる
配向特性を有する２種類の配向領域を適宜作成する方法
がある。この方法は、図９に示すように、たとえば下基
板の樹脂膜１に、所定の分子配向方向および所定のプレ
チルト角を有する配向領域２と、その方向とは１８０°
異なる分子配向方向および所定のプレチルト角を有する
配向領域３とを形成して、配向膜４とするものである。
【０００３】配向膜４に配向領域２と配向領域３とを配
置する形態として、たとえば特開平５ー２３２４４１号
は図１０に示すように、画素単位で配向領域（Ａ）２と
配向領域（Ｂ）３とを市松模様状に配置することを開示
している。この発明によれば、液晶表示装置が縦又は横
の線を表示するときは、異なる配向特性を有する配向領
域（Ａ）２と配向領域（Ｂ）３とによって線を表示する
ことになるため、その線の視野角を広げることができ
る。ところが、液晶表示装置が、配向領域（Ａ）２のみ
又は配向領域（Ｂ）３のみを通る１画素幅の細い斜線を
表示するときは、配向特性が一種類であるため、視野角
依存性を改善することができない。
置する形態として、たとえば特開平５ー２３２４４１号
は図１０に示すように、画素単位で配向領域（Ａ）２と
配向領域（Ｂ）３とを市松模様状に配置することを開示
している。この発明によれば、液晶表示装置が縦又は横
の線を表示するときは、異なる配向特性を有する配向領
域（Ａ）２と配向領域（Ｂ）３とによって線を表示する
ことになるため、その線の視野角を広げることができ
る。ところが、液晶表示装置が、配向領域（Ａ）２のみ
又は配向領域（Ｂ）３のみを通る１画素幅の細い斜線を
表示するときは、配向特性が一種類であるため、視野角
依存性を改善することができない。
【０００４】さらに、樹脂膜１に配向領域（Ａ）２と配
向領域（Ｂ）３とを市松模様状に形成するには、フォト
リソグラフィー法によりレジストパターンを樹脂膜１上
に形成した後、イオン・ビームの照射などにより形成す
ることができる。しかし、フォトリソグラフィー法はレ
ジストの塗布、露光、現像の後、配向処理をし、さらに
レジストの除去の各工程を繰り返す必要がある。このた
め、配向膜４の製造に時間とコストを要するだけでな
く、レジストの除去工程で、配向膜４の配向面を損傷す
る可能性があるなどの問題があった。
向領域（Ｂ）３とを市松模様状に形成するには、フォト
リソグラフィー法によりレジストパターンを樹脂膜１上
に形成した後、イオン・ビームの照射などにより形成す
ることができる。しかし、フォトリソグラフィー法はレ
ジストの塗布、露光、現像の後、配向処理をし、さらに
レジストの除去の各工程を繰り返す必要がある。このた
め、配向膜４の製造に時間とコストを要するだけでな
く、レジストの除去工程で、配向膜４の配向面を損傷す
る可能性があるなどの問題があった。
【０００５】この問題を解決するには、フォトレジスト
を使用せずに、所定の開口パターンを備えたマスクを用
いるのが好ましい。すなわち、マスクを樹脂膜１上に重
ねて配向処理をし、マスクの開口内の樹脂膜１に所定の
分子配向方向を与えるとともに、異なる種類の配向領域
を形成する箇所を遮蔽するのである。上述の配向膜４を
形成するマスクの場合、たとえば配向領域（Ａ）２に対
応する箇所を開口させ、配向領域（Ｂ）３に対応する箇
所を遮蔽した市松模様状のマスクを作成することにな
る。しかし、液晶表示装置の開口率が高く、且つ画素ピ
ッチが２００μｍ程度である場合、個々の配向領域
（Ｂ）３を遮蔽する矩形のマスク領域同士を接続する対
角の部分の幅を１０μｍ以下にする必要がある。しか
し、このようなマスクを、液晶パネル大の面積で精度良
く製作することは非常に困難である。
を使用せずに、所定の開口パターンを備えたマスクを用
いるのが好ましい。すなわち、マスクを樹脂膜１上に重
ねて配向処理をし、マスクの開口内の樹脂膜１に所定の
分子配向方向を与えるとともに、異なる種類の配向領域
を形成する箇所を遮蔽するのである。上述の配向膜４を
形成するマスクの場合、たとえば配向領域（Ａ）２に対
応する箇所を開口させ、配向領域（Ｂ）３に対応する箇
所を遮蔽した市松模様状のマスクを作成することにな
る。しかし、液晶表示装置の開口率が高く、且つ画素ピ
ッチが２００μｍ程度である場合、個々の配向領域
（Ｂ）３を遮蔽する矩形のマスク領域同士を接続する対
角の部分の幅を１０μｍ以下にする必要がある。しか
し、このようなマスクを、液晶パネル大の面積で精度良
く製作することは非常に困難である。
【０００６】市松模様状のマスクを製作する上での困難
を解決するには、たとえば図１１に示すように、行ごと
又は列ごとに、画素単位又はカラー表示装置ではサブ画
素単位に、直線状に配向特性を変える方法が考えられ
る。この場合、たとえば配向領域（Ａ）２に対応する箇
所にスリット状の開口を有し、配向領域（Ｂ）３に対応
する箇所を遮蔽する遮蔽部が形成されたマスクを作製す
ることになる。しかし、配向膜全域にわたる長さのスリ
ットと遮蔽部（遮蔽部及びスリットの幅：数１０μｍ×
長さ：数１００mm）をマスクに設けることは、強度的に
問題がある。また、液晶表示装置をコンピューターの表
示装置として利用する場合、１つの画素幅からなる直線
を表示する可能性があるが、この液晶表示装置で配向領
域（Ａ）２のみ、又は配向領域（Ｂ）３のみで直線を表
示する場合、その直線の視野角特性は改善されない。
を解決するには、たとえば図１１に示すように、行ごと
又は列ごとに、画素単位又はカラー表示装置ではサブ画
素単位に、直線状に配向特性を変える方法が考えられ
る。この場合、たとえば配向領域（Ａ）２に対応する箇
所にスリット状の開口を有し、配向領域（Ｂ）３に対応
する箇所を遮蔽する遮蔽部が形成されたマスクを作製す
ることになる。しかし、配向膜全域にわたる長さのスリ
ットと遮蔽部（遮蔽部及びスリットの幅：数１０μｍ×
長さ：数１００mm）をマスクに設けることは、強度的に
問題がある。また、液晶表示装置をコンピューターの表
示装置として利用する場合、１つの画素幅からなる直線
を表示する可能性があるが、この液晶表示装置で配向領
域（Ａ）２のみ、又は配向領域（Ｂ）３のみで直線を表
示する場合、その直線の視野角特性は改善されない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、液晶
表示装置にどのような方向の線分や、単色の領域あるい
は文字を表示させても、表示像の視野角依存性を改善し
た液晶表示装置を提供することである。
表示装置にどのような方向の線分や、単色の領域あるい
は文字を表示させても、表示像の視野角依存性を改善し
た液晶表示装置を提供することである。
【０００８】また、本発明の他の目的は、配向膜に異な
る配向特性を有する複数種類の配向領域を形成するのに
適したマスクを提供することである。
る配向特性を有する複数種類の配向領域を形成するのに
適したマスクを提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置
は、第１の配向特性を有する第１の単位配向領域及び前
記第１の配向特性と異なる第２の配向特性を有する第２
の単位配向領域がマトリクスの行列位置に混在して配置
された配向膜を含み、前記第１及び第２の単位配向領域
があらゆる方向の直線に沿って混在するように、前記第
１及び第２の単位配向領域が配設されている。液晶表示
装置は１画素で一つの点を表し、またカラー表示の場合
は３個のサブ画素で一つの点を表す。１の単位配向領域
は、１又は複数の画素、あるいは１又は複数のサブ画素
で構成され、１の配向領域は、１の単位配向領域又は複
数の単位配向領域の集合で構成される。配向特性は、液
晶の種類によって異なるが、ツイステッドネマティック
液晶である場合、分子配向方向及びプレチルト角の組み
合わせによって決定付けられる。２種類以上の単位配向
領域は、少なくとも液晶表示装置が表示し得る線分の中
に含まれていればよいが、その線分は短い方が好まし
い。
は、第１の配向特性を有する第１の単位配向領域及び前
記第１の配向特性と異なる第２の配向特性を有する第２
の単位配向領域がマトリクスの行列位置に混在して配置
された配向膜を含み、前記第１及び第２の単位配向領域
があらゆる方向の直線に沿って混在するように、前記第
１及び第２の単位配向領域が配設されている。液晶表示
装置は１画素で一つの点を表し、またカラー表示の場合
は３個のサブ画素で一つの点を表す。１の単位配向領域
は、１又は複数の画素、あるいは１又は複数のサブ画素
で構成され、１の配向領域は、１の単位配向領域又は複
数の単位配向領域の集合で構成される。配向特性は、液
晶の種類によって異なるが、ツイステッドネマティック
液晶である場合、分子配向方向及びプレチルト角の組み
合わせによって決定付けられる。２種類以上の単位配向
領域は、少なくとも液晶表示装置が表示し得る線分の中
に含まれていればよいが、その線分は短い方が好まし
い。
【００１０】得られた液晶表示装置が最小線幅である１
画素の連なりで直線を表示する場合、１画素が１単位配
向領域であるときも、複数画素が１単位配向領域である
ときも、最小線幅の直線を構成する単位配向領域の連な
りには異なる２種類以上の単位配向領域が含まれる。し
たがって、液晶表示装置に、あらゆる方向の線分や、単
色の領域あるいは文字を表示させても、その線分などは
少なくとも２種類の配向特性を有する単位配向領域によ
って表示されることになるため、表示像の視野角依存性
が改善される。
画素の連なりで直線を表示する場合、１画素が１単位配
向領域であるときも、複数画素が１単位配向領域である
ときも、最小線幅の直線を構成する単位配向領域の連な
りには異なる２種類以上の単位配向領域が含まれる。し
たがって、液晶表示装置に、あらゆる方向の線分や、単
色の領域あるいは文字を表示させても、その線分などは
少なくとも２種類の配向特性を有する単位配向領域によ
って表示されることになるため、表示像の視野角依存性
が改善される。
【００１１】本発明のマスクは、第１の配向特性を有す
る第１の単位配向領域及び前記第１の配向特性と異なる
第２の配向特性を有する第２の単位配向領域が、あらゆ
る方向の直線に沿って混在するように、前記第１及び第
２の単位配向領域がマトリクスの行列位置に混在して配
置された液晶表示装置の配向膜を形成するためのマスク
にして、前記第１の配向特性を有する第１の単位配向領
域から成る配向領域を形成するための複数の開口と、前
記第２の配向特性を有する第２の単位配向領域から成る
配向領域が形成されるべき部分を遮蔽する遮蔽部とを備
え、前記開口の各々は、前記第１の単位配向領域の所定
の組合せと対応する形状を有し、前記遮蔽部は物理的に
連続しており、前記開口及び前記遮蔽部は、前記マスク
を横切るあらゆる方向の直線が必ず少なくとも１つの前
記開口及び前記遮蔽部の両方を通るように形成されてい
る。
る第１の単位配向領域及び前記第１の配向特性と異なる
第２の配向特性を有する第２の単位配向領域が、あらゆ
る方向の直線に沿って混在するように、前記第１及び第
２の単位配向領域がマトリクスの行列位置に混在して配
置された液晶表示装置の配向膜を形成するためのマスク
にして、前記第１の配向特性を有する第１の単位配向領
域から成る配向領域を形成するための複数の開口と、前
記第２の配向特性を有する第２の単位配向領域から成る
配向領域が形成されるべき部分を遮蔽する遮蔽部とを備
え、前記開口の各々は、前記第１の単位配向領域の所定
の組合せと対応する形状を有し、前記遮蔽部は物理的に
連続しており、前記開口及び前記遮蔽部は、前記マスク
を横切るあらゆる方向の直線が必ず少なくとも１つの前
記開口及び前記遮蔽部の両方を通るように形成されてい
る。
【００１２】得られたマスクの遮蔽部は物理的に連続し
ており、特に、マスクを構成する部材の最小幅が配向領
域の幅とされている。このため、マスクの面積の大小あ
るいはマスク内の位置に関わらず強度を維持することが
できる。したがって、マスクの製造が容易にでき、ま
た、マスクの繰り返し使用に耐えることができる。さら
に、配向処理の方法として、原子ビームなどの照射に限
定されず、マスクに機械的外力が加わるラビング法に
も、本発明のマスクを使用することができる。
ており、特に、マスクを構成する部材の最小幅が配向領
域の幅とされている。このため、マスクの面積の大小あ
るいはマスク内の位置に関わらず強度を維持することが
できる。したがって、マスクの製造が容易にでき、ま
た、マスクの繰り返し使用に耐えることができる。さら
に、配向処理の方法として、原子ビームなどの照射に限
定されず、マスクに機械的外力が加わるラビング法に
も、本発明のマスクを使用することができる。
【００１３】さらに、本発明の液晶表示装置の製造方法
は、対向して配置され、対向面に配向膜を有する１対の
基板を有する液晶表示装置を製造する方法において、配
向処理によって配向膜となる基材膜を一方の表面にそれ
ぞれ有する第１及び第２の基板を準備するステップと、
第１の配向特性を有する第１の単位配向領域から成る配
向領域を形成するための複数の開口と、前記第２の配向
特性を有する第２の単位配向領域から成る配向領域が形
成されるべき部分を遮蔽する遮蔽部とを備えるマスクを
準備するステップと、前記第１の基板の前記基材膜の表
面に所定の方向から配向処理を施すステップと、前記第
１の基板の前記基材膜の表面に前記マスクを重ね合わ
せ、固定するステップと、前記マスクの開口によって露
出された前記第１の基板の基材膜に、前記所定の方向と
平面角で約９０度異なる方向から配向処理を施すステッ
プと、前記第２の基板の前記基材膜の表面上に前記所定
の方向と同一の方向から配向処理を施すステップと、前
記第２の基板の前記基材膜の表面に、前記マスクを反転
させて重ね合わせ、固定するステップと、前記マスクの
前記開口によって露出された前記第２の基板の基材膜
に、前記所定の方向と平面角で約９０度異なる方向と同
一の方向から配向処理を施すステップと、を含む。
は、対向して配置され、対向面に配向膜を有する１対の
基板を有する液晶表示装置を製造する方法において、配
向処理によって配向膜となる基材膜を一方の表面にそれ
ぞれ有する第１及び第２の基板を準備するステップと、
第１の配向特性を有する第１の単位配向領域から成る配
向領域を形成するための複数の開口と、前記第２の配向
特性を有する第２の単位配向領域から成る配向領域が形
成されるべき部分を遮蔽する遮蔽部とを備えるマスクを
準備するステップと、前記第１の基板の前記基材膜の表
面に所定の方向から配向処理を施すステップと、前記第
１の基板の前記基材膜の表面に前記マスクを重ね合わ
せ、固定するステップと、前記マスクの開口によって露
出された前記第１の基板の基材膜に、前記所定の方向と
平面角で約９０度異なる方向から配向処理を施すステッ
プと、前記第２の基板の前記基材膜の表面上に前記所定
の方向と同一の方向から配向処理を施すステップと、前
記第２の基板の前記基材膜の表面に、前記マスクを反転
させて重ね合わせ、固定するステップと、前記マスクの
前記開口によって露出された前記第２の基板の基材膜
に、前記所定の方向と平面角で約９０度異なる方向と同
一の方向から配向処理を施すステップと、を含む。
【００１４】本発明の液晶表示装置の製造方法は、対を
なす少なくとも２種類の配向領域を有する配向膜を、マ
スクを反転させることを除いて、それぞれ同じ配向処理
を施すことによって容易に形成することができる。特
に、原子ビームなどを利用することによって、微細な配
向パターンを備えた配向膜を正確に形成することができ
る。また、上述の本発明のマスクを使用することによ
り、原子ビームなどの照射に限定されず、ラビングにも
使用することができ、配向処理方法の組み合わせも可能
となり、応用が広がる。
なす少なくとも２種類の配向領域を有する配向膜を、マ
スクを反転させることを除いて、それぞれ同じ配向処理
を施すことによって容易に形成することができる。特
に、原子ビームなどを利用することによって、微細な配
向パターンを備えた配向膜を正確に形成することができ
る。また、上述の本発明のマスクを使用することによ
り、原子ビームなどの照射に限定されず、ラビングにも
使用することができ、配向処理方法の組み合わせも可能
となり、応用が広がる。
【００１５】
【発明の実施の形態】次に、本発明に係る液晶表示装
置、並びに配向膜形成用のマスク、及び液晶表示装置の
製造方法の実施の形態を図面に基づいて詳しく説明す
る。
置、並びに配向膜形成用のマスク、及び液晶表示装置の
製造方法の実施の形態を図面に基づいて詳しく説明す
る。
【００１６】図１（ａ）に一例を示すように、本発明に
係る液晶表示装置の配向膜１０は、第１の配向特性を有
する第１の単位配向領域６及びその第１の配向特性と異
なる第２の配向特性を有する第２の単位配向領域８がマ
トリクスの行列位置に混在して配置され、それら第１及
び第２の単位配向領域６、８があらゆる方向の直線に沿
って混在するように、第１及び第２の単位配向領域６、
８が配設されている。そして、１又は複数の第１の単位
配向領域６によって第１の配向領域１２が構成され、ま
た、１又は複数の第２の単位配向領域８によって第２の
配向領域１４が構成される。また、この配向膜１０にお
ける配向領域１２，１４から成る配置パターンは、同図
１（ｂ）に示す最小の単位である基準パターン１６の繰
り返しで現される。
係る液晶表示装置の配向膜１０は、第１の配向特性を有
する第１の単位配向領域６及びその第１の配向特性と異
なる第２の配向特性を有する第２の単位配向領域８がマ
トリクスの行列位置に混在して配置され、それら第１及
び第２の単位配向領域６、８があらゆる方向の直線に沿
って混在するように、第１及び第２の単位配向領域６、
８が配設されている。そして、１又は複数の第１の単位
配向領域６によって第１の配向領域１２が構成され、ま
た、１又は複数の第２の単位配向領域８によって第２の
配向領域１４が構成される。また、この配向膜１０にお
ける配向領域１２，１４から成る配置パターンは、同図
１（ｂ）に示す最小の単位である基準パターン１６の繰
り返しで現される。
【００１７】１つの単位配向領域６又は８は、通常、表
示上の一単位である１画素に対応する大きさであるが、
たとえば２画素を１つの単位配向領域６，８とすること
も可能である。また、カラー表示の場合、３つのサブ画
素の一つ一つを１つの単位配向領域６，８とすること
も、あるいは２つ又は３つのサブ画素を合わせた全体と
して１つの単位配向領域６，８とすることもできる。画
素又はサブ画素は縦横にマトリクスに配置されており、
それに対応して、単位配向領域６，８もマトリクスの行
列位置に混在するように配置されている。
示上の一単位である１画素に対応する大きさであるが、
たとえば２画素を１つの単位配向領域６，８とすること
も可能である。また、カラー表示の場合、３つのサブ画
素の一つ一つを１つの単位配向領域６，８とすること
も、あるいは２つ又は３つのサブ画素を合わせた全体と
して１つの単位配向領域６，８とすることもできる。画
素又はサブ画素は縦横にマトリクスに配置されており、
それに対応して、単位配向領域６，８もマトリクスの行
列位置に混在するように配置されている。
【００１８】配向膜１０は、ポリイミド樹脂などから成
る樹脂膜、あるいはカーボン膜などから成る無機質膜、
などの基材膜に配向処理が施されて形成される。基材膜
は一般的に、ガラス基板などの透光性基板の上に、ＩＴ
Ｏ(Indium Tin Oxide)などから成る透明電極などが形成
され、その透明電極の上に樹脂が塗布され、あるいは無
機質が被着されて形成される。具体的には、たとえばポ
リイミド樹脂膜の場合、その前駆体であるポリアミド樹
脂を電極層の上に被着させた後、イミド化させて得られ
る。また、無機質膜の場合、材質としてたとえば、ダイ
アモンド型水素添加炭素、アモルファス水素添加ケイ
素、SiC 、 SiO2 、ガラス、Si3 N 4 、Al2O 3 、CeO 2
、 SnO2 、 ZnTiO2 などが用いられ、蒸着、スパッ
タ、イオンビーム成膜、化学蒸着、プラズマＣＶＤなど
の手法により、成膜される。
る樹脂膜、あるいはカーボン膜などから成る無機質膜、
などの基材膜に配向処理が施されて形成される。基材膜
は一般的に、ガラス基板などの透光性基板の上に、ＩＴ
Ｏ(Indium Tin Oxide)などから成る透明電極などが形成
され、その透明電極の上に樹脂が塗布され、あるいは無
機質が被着されて形成される。具体的には、たとえばポ
リイミド樹脂膜の場合、その前駆体であるポリアミド樹
脂を電極層の上に被着させた後、イミド化させて得られ
る。また、無機質膜の場合、材質としてたとえば、ダイ
アモンド型水素添加炭素、アモルファス水素添加ケイ
素、SiC 、 SiO2 、ガラス、Si3 N 4 、Al2O 3 、CeO 2
、 SnO2 、 ZnTiO2 などが用いられ、蒸着、スパッ
タ、イオンビーム成膜、化学蒸着、プラズマＣＶＤなど
の手法により、成膜される。
【００１９】基材膜に２種類の配向領域を施す配向処理
は、所定の配置パターンに異なる配向特性を有する２種
類の配向領域１２，１４を形成することができれば如何
なる方法でもよい。すなわち、配向膜１０に２種類の配
向領域を形成する方法は、たとえばレジスト法を用いて
もよいが、後述するように、マスクによる方法が生産性
に優れ、且つ配向膜１０に与える損傷の可能性が低いな
どの点で好ましい。
は、所定の配置パターンに異なる配向特性を有する２種
類の配向領域１２，１４を形成することができれば如何
なる方法でもよい。すなわち、配向膜１０に２種類の配
向領域を形成する方法は、たとえばレジスト法を用いて
もよいが、後述するように、マスクによる方法が生産性
に優れ、且つ配向膜１０に与える損傷の可能性が低いな
どの点で好ましい。
【００２０】また、配向膜１０の配向処理は、ラビング
法を用いることも可能であるが、原子ビーム、イオン・
ビーム、電子ビームなどのビームの照射や、紫外線の照
射による方法が、所定の微細な配置パターンにしたがっ
て、一定の分子配向方向及び一定のプレチルト角を確実
に形成することができるなどの点で最も好ましい。基材
膜が樹脂膜である場合は、上記いずれの方法でも配向さ
せることができる。一方、基材膜が無機質膜である場合
は、原子ビーム、イオン・ビームなどの照射によって配
向させることができる。この中でも、原子ビームが最も
好ましい。イオン・ビームは正又は負の電荷を有してい
るため、配向膜が電荷を帯びたり、あるいはビームの照
射方向が安定して一定方向にならないなどの問題があ
る。これに対して、イオン・ビームを電気的に中性にし
た原子ビームがこれらの問題がなく好ましい。
法を用いることも可能であるが、原子ビーム、イオン・
ビーム、電子ビームなどのビームの照射や、紫外線の照
射による方法が、所定の微細な配置パターンにしたがっ
て、一定の分子配向方向及び一定のプレチルト角を確実
に形成することができるなどの点で最も好ましい。基材
膜が樹脂膜である場合は、上記いずれの方法でも配向さ
せることができる。一方、基材膜が無機質膜である場合
は、原子ビーム、イオン・ビームなどの照射によって配
向させることができる。この中でも、原子ビームが最も
好ましい。イオン・ビームは正又は負の電荷を有してい
るため、配向膜が電荷を帯びたり、あるいはビームの照
射方向が安定して一定方向にならないなどの問題があ
る。これに対して、イオン・ビームを電気的に中性にし
た原子ビームがこれらの問題がなく好ましい。
【００２１】配向膜１０に形成される２種類の配向領域
１２，１４は、同一の分子配向方向及び所定の分子プレ
チルト角を有する配向領域１２と、その配向方向とは１
８０°異なる分子配向方向及び所定のプレチルト角を有
する配向領域１４とから構成されている。たとえばツイ
ステッドネマチック（ＴＮ）液晶である場合、配向領域
１２の配向方向は、横方向（方位角０°）から４５°方
向とされるのが好ましい。この場合、下基板の配向領域
１２に対応する上基板の配向領域１２の配向方向は、下
基板の配向方向４５°から９０°捻じれた１３５°方向
となる。このとき、９０°方向と１８０°方向の視野角
依存性が大きく現れ、それぞれの方向で最大と最小にな
る。
１２，１４は、同一の分子配向方向及び所定の分子プレ
チルト角を有する配向領域１２と、その配向方向とは１
８０°異なる分子配向方向及び所定のプレチルト角を有
する配向領域１４とから構成されている。たとえばツイ
ステッドネマチック（ＴＮ）液晶である場合、配向領域
１２の配向方向は、横方向（方位角０°）から４５°方
向とされるのが好ましい。この場合、下基板の配向領域
１２に対応する上基板の配向領域１２の配向方向は、下
基板の配向方向４５°から９０°捻じれた１３５°方向
となる。このとき、９０°方向と１８０°方向の視野角
依存性が大きく現れ、それぞれの方向で最大と最小にな
る。
【００２２】一方、配向領域１４の配向方向は、２２５
°方向とされる。そして、下基板の配向領域１４に対応
する上基板の配向領域１４の配向方向は、下基板の配向
方向２２５°から９０°捻じれた３１５°方向となる。
このとき、１８０°方向と９０°方向の視野角依存性が
大きく現れ、それぞれの方向で最大と最小になる。した
がって、液晶表示装置が直線などを表示する表示部の中
に、視野角依存性が反対の配向領域１２と１４の両者が
存在することによって、その表示部の視野角依存性が改
善される。
°方向とされる。そして、下基板の配向領域１４に対応
する上基板の配向領域１４の配向方向は、下基板の配向
方向２２５°から９０°捻じれた３１５°方向となる。
このとき、１８０°方向と９０°方向の視野角依存性が
大きく現れ、それぞれの方向で最大と最小になる。した
がって、液晶表示装置が直線などを表示する表示部の中
に、視野角依存性が反対の配向領域１２と１４の両者が
存在することによって、その表示部の視野角依存性が改
善される。
【００２３】配向膜１０に形成されている配向領域１２
と１４は、液晶表示装置が任意の方向の直線を表示した
とき、その直線を構成する複数の配向領域に両者が必ず
含まれるように配置されている。ここで、直線とは、配
向膜１０の全面にわたって、任意の位置に横、縦、斜め
の各方向に描いた真っ直ぐの線を言い、配向膜１０の一
部分に表示される長さの短い線分を含まない。たとえ
ば、同図１（ａ）に基づいて説明すれば、横方向１行目
の直線は図上、向かって左から単位配向領域６、８、
６、６、８、８、…の順で構成される。また、同じく縦
方向１列目の直線は図上、上から単位配向領域６、８、
６、６、８、６、…の順で構成される。
と１４は、液晶表示装置が任意の方向の直線を表示した
とき、その直線を構成する複数の配向領域に両者が必ず
含まれるように配置されている。ここで、直線とは、配
向膜１０の全面にわたって、任意の位置に横、縦、斜め
の各方向に描いた真っ直ぐの線を言い、配向膜１０の一
部分に表示される長さの短い線分を含まない。たとえ
ば、同図１（ａ）に基づいて説明すれば、横方向１行目
の直線は図上、向かって左から単位配向領域６、８、
６、６、８、８、…の順で構成される。また、同じく縦
方向１列目の直線は図上、上から単位配向領域６、８、
６、６、８、６、…の順で構成される。
【００２４】したがって、任意の直線を構成する連続し
た配向領域は、第１の単位配向領域６のみ、あるいは第
２の単位配向領域８のみによって構成されることはな
く、少なくとも第２及び第１の単位配向領域８又は６が
含まれており、視野角依存性が改善される。任意の直線
を構成する連続した配向領域は、常に２種類の第１及び
第２の単位配向領域６、８が交互に繰り返し配置される
のが最も好ましいが、あらゆる方向の直線に対してその
ような第１及び第２の単位配向領域６、８の配置を得る
のは不可能である。そこで、任意の直線を構成する連続
した配向領域には、少なくとも２種類の第１及び第２の
単位配向領域６、８が混在して配置されるように設定さ
れる。
た配向領域は、第１の単位配向領域６のみ、あるいは第
２の単位配向領域８のみによって構成されることはな
く、少なくとも第２及び第１の単位配向領域８又は６が
含まれており、視野角依存性が改善される。任意の直線
を構成する連続した配向領域は、常に２種類の第１及び
第２の単位配向領域６、８が交互に繰り返し配置される
のが最も好ましいが、あらゆる方向の直線に対してその
ような第１及び第２の単位配向領域６、８の配置を得る
のは不可能である。そこで、任意の直線を構成する連続
した配向領域には、少なくとも２種類の第１及び第２の
単位配向領域６、８が混在して配置されるように設定さ
れる。
【００２５】トリクスの横方向の最小線幅を構成する１
行又は隣接する２行に含まれる第１の単位配向領域６の
面積と、第２の単位配向領域８の面積との比の値が約３
０〜７０％、好ましくは約４５〜５５％、最も好ましく
は５０％がよい。また、マトリクスの縦方向の最小線幅
を構成する１列又は隣接する２列に含まれる第１の単位
配向領域６の面積と、第２の単位配向領域８の面積との
比の値が約３０〜７０％、好ましくは約４５〜５５％、
最も好ましくは５０％がよい。さらに、第１の単位配向
領域６の総面積と、第２の単位配向領域８の総面積との
比の値は約３０〜７０％、好ましくは約４５〜５５％、
最も好ましくは５０％がよい。横方向や縦方向の線は使
用頻度が多く、たとえば表などの視野角依存性が改善さ
れる。また、第１の単位配向領域６の総面積と、第２の
単位配向領域８の総面積との比の値がほぼ５０％であれ
ば、画像などの視野角依存性が改善される。
行又は隣接する２行に含まれる第１の単位配向領域６の
面積と、第２の単位配向領域８の面積との比の値が約３
０〜７０％、好ましくは約４５〜５５％、最も好ましく
は５０％がよい。また、マトリクスの縦方向の最小線幅
を構成する１列又は隣接する２列に含まれる第１の単位
配向領域６の面積と、第２の単位配向領域８の面積との
比の値が約３０〜７０％、好ましくは約４５〜５５％、
最も好ましくは５０％がよい。さらに、第１の単位配向
領域６の総面積と、第２の単位配向領域８の総面積との
比の値は約３０〜７０％、好ましくは約４５〜５５％、
最も好ましくは５０％がよい。横方向や縦方向の線は使
用頻度が多く、たとえば表などの視野角依存性が改善さ
れる。また、第１の単位配向領域６の総面積と、第２の
単位配向領域８の総面積との比の値がほぼ５０％であれ
ば、画像などの視野角依存性が改善される。
【００２６】第１及び第２の単位配向領域６、８は、上
述の所定の条件を満たすように配向膜１０に配置されれ
ばよく、特に限定されるものではない。ただし、配向膜
１０のサイズが変化する毎に、第１及び第２の単位配向
領域６、８の配置を設計する必要がある。このため、第
１及び第２の配向特性を有する第１及び第２の単位配向
領域６、８から成る配向領域１２、１４は、たとえば上
記図１（ｂ）に示すように、第１及び第２の単位配向領
域６、８の所定の組合せからなる一定の基準パターン１
６の繰り返しで構成されるのが好ましい。
述の所定の条件を満たすように配向膜１０に配置されれ
ばよく、特に限定されるものではない。ただし、配向膜
１０のサイズが変化する毎に、第１及び第２の単位配向
領域６、８の配置を設計する必要がある。このため、第
１及び第２の配向特性を有する第１及び第２の単位配向
領域６、８から成る配向領域１２、１４は、たとえば上
記図１（ｂ）に示すように、第１及び第２の単位配向領
域６、８の所定の組合せからなる一定の基準パターン１
６の繰り返しで構成されるのが好ましい。
【００２７】このように構成された配向膜は、それぞれ
の配向領域が対向するように対をなして配設され、その
２つの配向膜の間に液晶が封入されて液晶表示装置が構
成される。得られた液晶表示装置に縦横斜めの線画など
を表示させたとき、いずれの線についても１種類の配向
領域のみで構成されることはなく、全体として視野角依
存性が改善され、その線画の視覚角度が変わっても色や
コントラストにほとんど変化が生じない。
の配向領域が対向するように対をなして配設され、その
２つの配向膜の間に液晶が封入されて液晶表示装置が構
成される。得られた液晶表示装置に縦横斜めの線画など
を表示させたとき、いずれの線についても１種類の配向
領域のみで構成されることはなく、全体として視野角依
存性が改善され、その線画の視覚角度が変わっても色や
コントラストにほとんど変化が生じない。
【００２８】以上、本発明の配向膜とその配向膜を含む
液晶表示装置について、その実施形態の一例を説明した
が、本発明は例示に限定されるものではない。
液晶表示装置について、その実施形態の一例を説明した
が、本発明は例示に限定されるものではない。
【００２９】たとえば、図２（ａ）に示すように、配向
膜１８に形成される２種類の配向領域１２、１４の配置
パターンは、一方の配向領域１４の配置パターンを配向
膜１８の周囲を除き、対称な十字形の繰り返しからなる
形状で構成することができる。この十字形の配置パター
ンは、縦に配向領域１４を構成する第２の単位配向領域
（８）が４行並び、その両側中央部に第２の単位配向領
域（８）が２行１列ずつ配置された形状をなし、その十
字形の配置パターンが千鳥状に配されている。この配向
膜１８の配置パターンは、同図２（ｂ）に示すような基
準パターン２０又は同図２（ｃ）に示すような基準パタ
ーン２２を適宜反転させるなどによって配置した構造と
して得られる。
膜１８に形成される２種類の配向領域１２、１４の配置
パターンは、一方の配向領域１４の配置パターンを配向
膜１８の周囲を除き、対称な十字形の繰り返しからなる
形状で構成することができる。この十字形の配置パター
ンは、縦に配向領域１４を構成する第２の単位配向領域
（８）が４行並び、その両側中央部に第２の単位配向領
域（８）が２行１列ずつ配置された形状をなし、その十
字形の配置パターンが千鳥状に配されている。この配向
膜１８の配置パターンは、同図２（ｂ）に示すような基
準パターン２０又は同図２（ｃ）に示すような基準パタ
ーン２２を適宜反転させるなどによって配置した構造と
して得られる。
【００３０】この配向膜１８の配置パターンにおいて
は、２種類の配向領域１２、１４のそれぞれ面積比が５
０：５０であり、縦方向１列における第１及び第２の単
位配向領域６、８の面積の比が５０：５０であり、さら
に横方向に隣接する２行毎における面積比が５０：５０
である。したがって、この配向膜１８を用いて製造した
液晶表示装置が画像などを表示するとき、その液晶表示
装置を見る角度が変わったとしても、コントラストの変
化などがなく、広い視野角が得られる。また、１つの配
向領域１２、１４が１つの画素である場合、１つの画素
幅からなる線分をどの方向に点灯させても、１種類の配
向領域１２、１４のみが点灯することはなく、線分の方
向に限らず広い視野角が得られる。
は、２種類の配向領域１２、１４のそれぞれ面積比が５
０：５０であり、縦方向１列における第１及び第２の単
位配向領域６、８の面積の比が５０：５０であり、さら
に横方向に隣接する２行毎における面積比が５０：５０
である。したがって、この配向膜１８を用いて製造した
液晶表示装置が画像などを表示するとき、その液晶表示
装置を見る角度が変わったとしても、コントラストの変
化などがなく、広い視野角が得られる。また、１つの配
向領域１２、１４が１つの画素である場合、１つの画素
幅からなる線分をどの方向に点灯させても、１種類の配
向領域１２、１４のみが点灯することはなく、線分の方
向に限らず広い視野角が得られる。
【００３１】また、図３（ａ）に示すように、配向膜２
４に形成される２種類の配向領域１２、１４の配置パタ
ーンは、一方の配向領域１４の配置パターンを前述の図
２（ａ）に示した配置パターンの十字形を縦横短くした
対称な形状の繰り返しからなる形状で構成することがで
きる。この配向膜２４の配置パターンは、同図３（ｂ）
に示すような対称な基準パターン２６の繰り返しとして
得られる。本例においても、前述の図２に示す配置パタ
ーンと同様の作用・効果が得られる。
４に形成される２種類の配向領域１２、１４の配置パタ
ーンは、一方の配向領域１４の配置パターンを前述の図
２（ａ）に示した配置パターンの十字形を縦横短くした
対称な形状の繰り返しからなる形状で構成することがで
きる。この配向膜２４の配置パターンは、同図３（ｂ）
に示すような対称な基準パターン２６の繰り返しとして
得られる。本例においても、前述の図２に示す配置パタ
ーンと同様の作用・効果が得られる。
【００３２】以上、本発明に係る配向膜の一例を示した
が、上述の例示に限定されるものではない。すなわち、
本発明の配向膜は、第１の配向特性を有する第１の単位
配向領域及びその第１の配向特性と異なる第２の配向特
性を有する第２の単位配向領域がマトリクスの行列位置
に混在して配置された配向膜を含み、第１及び第２の単
位配向領域があらゆる方向の直線に沿って混在するよう
に、第１及び第２の単位配向領域が配設されていればよ
い。したがって、この条件を満たすように２種類の配向
領域が配設された配向膜は無数に得られる。このよう
に、任意の方向の直線を構成する複数の配向領域は常に
２種類の単位配向領域を含むようにすることにより、視
野角依存性を改善することができる。
が、上述の例示に限定されるものではない。すなわち、
本発明の配向膜は、第１の配向特性を有する第１の単位
配向領域及びその第１の配向特性と異なる第２の配向特
性を有する第２の単位配向領域がマトリクスの行列位置
に混在して配置された配向膜を含み、第１及び第２の単
位配向領域があらゆる方向の直線に沿って混在するよう
に、第１及び第２の単位配向領域が配設されていればよ
い。したがって、この条件を満たすように２種類の配向
領域が配設された配向膜は無数に得られる。このよう
に、任意の方向の直線を構成する複数の配向領域は常に
２種類の単位配向領域を含むようにすることにより、視
野角依存性を改善することができる。
【００３３】また、上述の配向膜は２種類の配向領域１
２、１４を形成した場合について説明したが、たとえば
配向領域１４の配置パターンのそれぞれについてプレチ
ルト角を変えて配向処理することも可能である。さら
に、下基板の配向膜と上基板の配向膜との組み合わせに
おいて、配向領域１２、１４のプレチルト角を適宜変え
ることにより、複数種類の配向領域を配向膜に形成する
ことができる。
２、１４を形成した場合について説明したが、たとえば
配向領域１４の配置パターンのそれぞれについてプレチ
ルト角を変えて配向処理することも可能である。さら
に、下基板の配向膜と上基板の配向膜との組み合わせに
おいて、配向領域１２、１４のプレチルト角を適宜変え
ることにより、複数種類の配向領域を配向膜に形成する
ことができる。
【００３４】上述の配向膜１０に形成される２種類の配
向領域１２，１４は、従来公知の手法を用いて形成する
ことができ、たとえば前述したように、フォトレジスト
を用いて形成することができる。このレジストを用いる
方法は工程が複雑でコストが高くなるなどの欠点がある
が、そのような欠点のないマスクを用いる方法が最も好
ましい。
向領域１２，１４は、従来公知の手法を用いて形成する
ことができ、たとえば前述したように、フォトレジスト
を用いて形成することができる。このレジストを用いる
方法は工程が複雑でコストが高くなるなどの欠点がある
が、そのような欠点のないマスクを用いる方法が最も好
ましい。
【００３５】たとえば前記図１に示す配置パターンを有
する配向領域１２、１４を形成するために、マスクに形
成されるマスクパターンは、２種類の配向領域１２，１
４のうちいずれか一方の配向領域１２又は１４が示す配
置パターンと同一である。本例においては、配向領域１
４に対応する箇所が開口とされていて、図４（ａ）に示
されるマスク２８は、斜線の付された箇所が開口３０で
あり、斜線が付された箇所以外の下地の色で現される箇
所がマスクの遮蔽部３２である。
する配向領域１２、１４を形成するために、マスクに形
成されるマスクパターンは、２種類の配向領域１２，１
４のうちいずれか一方の配向領域１２又は１４が示す配
置パターンと同一である。本例においては、配向領域１
４に対応する箇所が開口とされていて、図４（ａ）に示
されるマスク２８は、斜線の付された箇所が開口３０で
あり、斜線が付された箇所以外の下地の色で現される箇
所がマスクの遮蔽部３２である。
【００３６】同図に示されるマスク２８は、周囲にフレ
ーム部３４を備え、その内側に第１の配向特性を有する
第１の単位配向領域６から成る配向領域１２を形成する
ための複数の開口３０と、第２の配向特性を有する第２
の単位配向領域８から成る配向領域１４が形成されるべ
き部分を遮蔽する遮蔽部３２とを備え、開口３０の各々
は、第１の単位配向領域６の所定の組合せと対応する形
状を有し、遮蔽部３２は物理的に連続しており、開口３
０及び遮蔽部３２は、マスク２８を横切るあらゆる方向
の直線が必ず少なくとも１つの開口３０及び遮蔽部３２
の両方を通るように形成されている。このマスク２８の
遮蔽部３２の幅は少なくとも１つの第１の単位配向領域
６の幅とされている。第１及び第２の単位配向領域６、
８の幅はたとえば８０μｍ程度であり、したがって遮蔽
部３２の最小線幅はそれと同じだけあり、マスク２８の
製作が容易にできる。また、一定の線幅以上の幅を備え
た遮蔽部３２が縦横に繋がってマスク２８を形成してい
るため、大面積のマスク２８を製作しても、マスク２８
の中心部分の強度を充分維持でき、歪が少なく、長期間
の繰り返し使用に耐えることができる。
ーム部３４を備え、その内側に第１の配向特性を有する
第１の単位配向領域６から成る配向領域１２を形成する
ための複数の開口３０と、第２の配向特性を有する第２
の単位配向領域８から成る配向領域１４が形成されるべ
き部分を遮蔽する遮蔽部３２とを備え、開口３０の各々
は、第１の単位配向領域６の所定の組合せと対応する形
状を有し、遮蔽部３２は物理的に連続しており、開口３
０及び遮蔽部３２は、マスク２８を横切るあらゆる方向
の直線が必ず少なくとも１つの開口３０及び遮蔽部３２
の両方を通るように形成されている。このマスク２８の
遮蔽部３２の幅は少なくとも１つの第１の単位配向領域
６の幅とされている。第１及び第２の単位配向領域６、
８の幅はたとえば８０μｍ程度であり、したがって遮蔽
部３２の最小線幅はそれと同じだけあり、マスク２８の
製作が容易にできる。また、一定の線幅以上の幅を備え
た遮蔽部３２が縦横に繋がってマスク２８を形成してい
るため、大面積のマスク２８を製作しても、マスク２８
の中心部分の強度を充分維持でき、歪が少なく、長期間
の繰り返し使用に耐えることができる。
【００３７】上述のマスク２８は図４（ｂ）に示す基準
パターン３６の繰り返しになっている。この基準パター
ン３６は、最小線幅が１つの単位配向領域６の幅（具体
的に例示すれば、８０μｍ程度）であり、基準パターン
３６及びそれによる必要とする面積のマスク２８の製作
が容易に可能である。特に、大面積のマスク２８を製作
しても、中心部分の強度は損なわれない。また、基準パ
ターン３６は、それ自体の開口３０の総面積と遮蔽部３
２の総面積との比が５０：５０で構成されていて、基準
パターン３６を繰り返して縦横に形成することで、開口
３０の総面積と遮蔽部３２の総面積との比が５０：５０
のマスク２８を構成することができる。
パターン３６の繰り返しになっている。この基準パター
ン３６は、最小線幅が１つの単位配向領域６の幅（具体
的に例示すれば、８０μｍ程度）であり、基準パターン
３６及びそれによる必要とする面積のマスク２８の製作
が容易に可能である。特に、大面積のマスク２８を製作
しても、中心部分の強度は損なわれない。また、基準パ
ターン３６は、それ自体の開口３０の総面積と遮蔽部３
２の総面積との比が５０：５０で構成されていて、基準
パターン３６を繰り返して縦横に形成することで、開口
３０の総面積と遮蔽部３２の総面積との比が５０：５０
のマスク２８を構成することができる。
【００３８】さらに、基準パターン３６についても、開
口３０又は遮蔽部３２のいずれかについて、単位配向領
域６、８の１つ分の幅で任意の方向の直線を引いたと
き、開口３０だけ、あるいは遮蔽部３２だけで直線を構
成することができず、他方の遮蔽部３２又は開口３０で
直線が遮られるように構成されている。したがって、か
かる基準パターン３６で構成したマスク２８を用いて製
造した配向膜１０を用いると、液晶表示装置として通常
考えられる点灯パターン、たとえば線分、単色の領域あ
るいは文字を表示する場合において、視野角特性が改善
される。
口３０又は遮蔽部３２のいずれかについて、単位配向領
域６、８の１つ分の幅で任意の方向の直線を引いたと
き、開口３０だけ、あるいは遮蔽部３２だけで直線を構
成することができず、他方の遮蔽部３２又は開口３０で
直線が遮られるように構成されている。したがって、か
かる基準パターン３６で構成したマスク２８を用いて製
造した配向膜１０を用いると、液晶表示装置として通常
考えられる点灯パターン、たとえば線分、単色の領域あ
るいは文字を表示する場合において、視野角特性が改善
される。
【００３９】以上、本発明のマスクの一例を説明した
が、その他、前述の図２、図３などに示す配向膜の配置
パターンに対応させて、各種のマスクを構成することが
できる。また、マスクの材質や厚みなどは、配向方法と
して、ラビング法によるか、あるいは原子ビーム、イオ
ン・ビーム、あるいは紫外線の照射によるかによって、
適宜選定されるものであり、限定されない。
が、その他、前述の図２、図３などに示す配向膜の配置
パターンに対応させて、各種のマスクを構成することが
できる。また、マスクの材質や厚みなどは、配向方法と
して、ラビング法によるか、あるいは原子ビーム、イオ
ン・ビーム、あるいは紫外線の照射によるかによって、
適宜選定されるものであり、限定されない。
【００４０】次に、本発明のマスクを使用した液晶表示
装置の製造方法を、特に、配向膜の製作手順を中心に説
明する。一例として、前記図１に示す配向膜１０を前記
図４に示すマスクを用いて製作する例を示す。
装置の製造方法を、特に、配向膜の製作手順を中心に説
明する。一例として、前記図１に示す配向膜１０を前記
図４に示すマスクを用いて製作する例を示す。
【００４１】液晶表示装置は下基板と上基板との間に形
成されたセルギャップに液晶が充填されて構成される。
下基板は、ガラス基板などの基板の上にＴＦＴ( thin f
ilm transistor )アレイなどの駆動素子と電極などが形
成され、さらに最上層に配向膜が形成される。この配向
膜１０は、図５（ａ）に示すように、配向膜となる基材
膜３８の全面に矢印Ａの方向に原子ビームを照射して、
一定方向にプレチルト角を有する配向膜４０を形成す
る。原子ビームの照射方向Ａは横軸（方位角０°）から
平面角で１３５度の方向で、所定のプレチルト角が得ら
れるように設定される。
成されたセルギャップに液晶が充填されて構成される。
下基板は、ガラス基板などの基板の上にＴＦＴ( thin f
ilm transistor )アレイなどの駆動素子と電極などが形
成され、さらに最上層に配向膜が形成される。この配向
膜１０は、図５（ａ）に示すように、配向膜となる基材
膜３８の全面に矢印Ａの方向に原子ビームを照射して、
一定方向にプレチルト角を有する配向膜４０を形成す
る。原子ビームの照射方向Ａは横軸（方位角０°）から
平面角で１３５度の方向で、所定のプレチルト角が得ら
れるように設定される。
【００４２】次いで、同図（ｂ）に示すように、全面に
プレチルト角が形成された配向膜４０（基材膜３８）の
上に、前記図４に示すマスク２８を重ね合わせて固定す
る。そして、マスク２８の上から前述の１３５度の方向
から平面角で９０度異なる方向、すなわち横軸（方位角
０°）から平面角で４５度の方向（矢印Ｂ）から、所定
のプレチルト角が得られるように原子ビームを照射す
る。その結果、マスク２８の遮蔽部３２で覆い隠された
配向膜４０（基材膜３８）表面の配向は変化を受けない
が、開口３０によって露出させられている配向膜４０
（基材膜３８）表面の配向は原子ビームの照射によって
４５度の方向で、所定のプレチルト角を有するように変
化させられる。
プレチルト角が形成された配向膜４０（基材膜３８）の
上に、前記図４に示すマスク２８を重ね合わせて固定す
る。そして、マスク２８の上から前述の１３５度の方向
から平面角で９０度異なる方向、すなわち横軸（方位角
０°）から平面角で４５度の方向（矢印Ｂ）から、所定
のプレチルト角が得られるように原子ビームを照射す
る。その結果、マスク２８の遮蔽部３２で覆い隠された
配向膜４０（基材膜３８）表面の配向は変化を受けない
が、開口３０によって露出させられている配向膜４０
（基材膜３８）表面の配向は原子ビームの照射によって
４５度の方向で、所定のプレチルト角を有するように変
化させられる。
【００４３】基材膜３８（配向膜４０）の上からマスク
２８を取り除くと、前記図１に示すように、配向領域１
２と１４がそれぞれ所定のパターンに配設された配向膜
１０が得られる。
２８を取り除くと、前記図１に示すように、配向領域１
２と１４がそれぞれ所定のパターンに配設された配向膜
１０が得られる。
【００４４】一方、上基板は、ガラス基板などの透光性
基板の上にカラーフィルターと透明電極などが形成さ
れ、さらに最上層に配向膜が形成される。この配向膜
は、図５（ｃ）に示すように、前述と同様に、配向膜と
なる基材膜４２の全面に矢印Ａの方向に原子ビームを照
射して、一定方向にプレチルト角を有する配向膜４４を
形成する。原子ビームの照射方向は前述と同様に設定さ
れる。
基板の上にカラーフィルターと透明電極などが形成さ
れ、さらに最上層に配向膜が形成される。この配向膜
は、図５（ｃ）に示すように、前述と同様に、配向膜と
なる基材膜４２の全面に矢印Ａの方向に原子ビームを照
射して、一定方向にプレチルト角を有する配向膜４４を
形成する。原子ビームの照射方向は前述と同様に設定さ
れる。
【００４５】次いで、得られた上基板の配向膜４４の上
に、先に使用した図４に示すマスク２８を左右反転させ
て重ね合せ、固定する。そして、前述と同様に、マスク
２８の上から前述の１３５度の方向から平面角で９０度
異なる方向、すなわち横軸（方位角０°）から平面角で
４５度の方向（矢印Ｂ）から、所定のプレチルト角が得
られるように原子ビームを照射する。その結果、マスク
２８の遮蔽部３２で覆い隠された配向膜４４（基材膜４
２）表面のプレチルト角は変化を受けないが、開口３０
によって露出させられている配向膜４４（基材膜４２）
表面の配向は、原子ビームの照射によって横軸（方位角
０°）から平面角で４５度の方向で、所定のプレチルト
角を有するように変化させられる。得られた基材膜４２
からマスク２８を取り除くと、図１に示す配向領域１
２、１４の配置パターンとは左右反転した配置パターン
の配向膜４６が得られる。
に、先に使用した図４に示すマスク２８を左右反転させ
て重ね合せ、固定する。そして、前述と同様に、マスク
２８の上から前述の１３５度の方向から平面角で９０度
異なる方向、すなわち横軸（方位角０°）から平面角で
４５度の方向（矢印Ｂ）から、所定のプレチルト角が得
られるように原子ビームを照射する。その結果、マスク
２８の遮蔽部３２で覆い隠された配向膜４４（基材膜４
２）表面のプレチルト角は変化を受けないが、開口３０
によって露出させられている配向膜４４（基材膜４２）
表面の配向は、原子ビームの照射によって横軸（方位角
０°）から平面角で４５度の方向で、所定のプレチルト
角を有するように変化させられる。得られた基材膜４２
からマスク２８を取り除くと、図１に示す配向領域１
２、１４の配置パターンとは左右反転した配置パターン
の配向膜４６が得られる。
【００４６】図６に示すように、得られた下基板の配向
膜１０と上基板の配向膜４６とを向かい合わせ、一定の
セルギャップを開けて配置し、さらにそれぞれの配置パ
ターンが対応するように位置決めされる。そして、配向
膜１０と４６の周囲を封止した後、セルギャップ内にツ
イステッドネマティック（ＴＮ）液晶が充填され、常法
により液晶表示装置が製造される。
膜１０と上基板の配向膜４６とを向かい合わせ、一定の
セルギャップを開けて配置し、さらにそれぞれの配置パ
ターンが対応するように位置決めされる。そして、配向
膜１０と４６の周囲を封止した後、セルギャップ内にツ
イステッドネマティック（ＴＮ）液晶が充填され、常法
により液晶表示装置が製造される。
【００４７】得られた液晶表示装置は、２種類の配向特
性の異なる配向領域１２、１４が形成されている。従来
の単一の配向領域から成る液晶表示装置の場合は、図７
に示すように、法線に対する天頂角で現される視角をＬ
１からＬ２のように大きくすると、図８（ａ）に示すよ
うに、コントラストが逆転するリバースチルト現象が現
れる方向がある。それに対し、本発明の液晶表示装置
は、同図８（ｂ）に示すように、連続した表示領域の中
に２種類の配向特性の異なる単位配向領域が形成される
と、どの向きに視角を移動させてもリバースチルト現象
が現れないようになり、視野角特性が改善される。
性の異なる配向領域１２、１４が形成されている。従来
の単一の配向領域から成る液晶表示装置の場合は、図７
に示すように、法線に対する天頂角で現される視角をＬ
１からＬ２のように大きくすると、図８（ａ）に示すよ
うに、コントラストが逆転するリバースチルト現象が現
れる方向がある。それに対し、本発明の液晶表示装置
は、同図８（ｂ）に示すように、連続した表示領域の中
に２種類の配向特性の異なる単位配向領域が形成される
と、どの向きに視角を移動させてもリバースチルト現象
が現れないようになり、視野角特性が改善される。
【００４８】以上、本発明の液晶表示装置の製造方法を
説明したが、上述の方法に限定されるものではない。た
とえば、図５において、下基板の基材膜３８あるいは上
基板の基材膜４２に原子ビームにより配向処理を施して
いたが、基材膜３８、４２が樹脂膜である場合は、その
他、ラビングあるいはイオン・ビーム、電子ビームや紫
外線の照射などによって配向処理をしてもよい。なお、
基材膜３８、４２がカーボン膜などの無機質膜の場合
は、アルゴン・イオン・ビームなどのイオン・ビーム、
あるいはそれを電気的に中性にした原子ビームが用いら
れる。また、基材膜３８、４２の上にマスク２８を重ね
合わせ、その開口３０で露出させられた基材膜３８、４
２の配向方向を上書きして変更する場合、原子ビーム以
外に、イオン・ビームや紫外線の照射によって配向処理
を施してもよい。
説明したが、上述の方法に限定されるものではない。た
とえば、図５において、下基板の基材膜３８あるいは上
基板の基材膜４２に原子ビームにより配向処理を施して
いたが、基材膜３８、４２が樹脂膜である場合は、その
他、ラビングあるいはイオン・ビーム、電子ビームや紫
外線の照射などによって配向処理をしてもよい。なお、
基材膜３８、４２がカーボン膜などの無機質膜の場合
は、アルゴン・イオン・ビームなどのイオン・ビーム、
あるいはそれを電気的に中性にした原子ビームが用いら
れる。また、基材膜３８、４２の上にマスク２８を重ね
合わせ、その開口３０で露出させられた基材膜３８、４
２の配向方向を上書きして変更する場合、原子ビーム以
外に、イオン・ビームや紫外線の照射によって配向処理
を施してもよい。
【００４９】本発明が適用される液晶表示装置は、ツイ
ステッドネマティック（ＴＮ:twistednematic ）液晶表
示方式に限定されるものではなく、たとえば垂直配向
（ＶＡ：vertical alignment）方式や面内スイッチング
(ＩＰＳ：in plane switching)方式などであってもよ
い。これらの場合、配向方向やプレチルト角、あるいは
充填される液晶などは前述の例示と異なる。
ステッドネマティック（ＴＮ:twistednematic ）液晶表
示方式に限定されるものではなく、たとえば垂直配向
（ＶＡ：vertical alignment）方式や面内スイッチング
(ＩＰＳ：in plane switching)方式などであってもよ
い。これらの場合、配向方向やプレチルト角、あるいは
充填される液晶などは前述の例示と異なる。
【００５０】その他、特にマスクを用いて配向処理を行
う場合、微細な配置パターンに対応して基材膜を配向さ
せることができれば、いかなる方法を用いてもよいな
ど、本発明はその趣旨を逸脱しない範囲内で、当業者の
知識に基づき種々なる改良、修正、変形を加えた態様で
実施し得るものである。
う場合、微細な配置パターンに対応して基材膜を配向さ
せることができれば、いかなる方法を用いてもよいな
ど、本発明はその趣旨を逸脱しない範囲内で、当業者の
知識に基づき種々なる改良、修正、変形を加えた態様で
実施し得るものである。
【００５１】
【発明の効果】本発明の液晶表示装置は、第１及び第２
の単位配向領域が、あらゆる方向の直線に沿って混在す
るように、第１及び第２の単位配向領域が配設されてい
る。したがって、液晶表示装置にどのような方向の線分
や、単色の領域あるいは文字を表示させても、その線分
などは少なくとも２種類の配向特性を有する第１及び第
２の単位配向領域によって表示されることになるため、
表示箇所の視野角依存性が改善される。
の単位配向領域が、あらゆる方向の直線に沿って混在す
るように、第１及び第２の単位配向領域が配設されてい
る。したがって、液晶表示装置にどのような方向の線分
や、単色の領域あるいは文字を表示させても、その線分
などは少なくとも２種類の配向特性を有する第１及び第
２の単位配向領域によって表示されることになるため、
表示箇所の視野角依存性が改善される。
【００５２】また、本発明のマスクは、第１の配向特性
を有する第１の単位配向領域から成る配向領域を形成す
るための複数の開口と、第２の配向特性を有する第２の
単位配向領域から成る配向領域が形成されるべき部分を
遮蔽する遮蔽部とを備え、開口の各々は、第１の単位配
向領域の所定の組合せと対応する形状を有し、遮蔽部は
物理的に連続しており、開口及び遮蔽部は、マスクを横
切るあらゆる方向の直線が必ず少なくとも１つの開口及
び遮蔽部の両方を通るように形成されている。したがっ
て、マスクを構成する部材の最小幅が単位配向領域の幅
であるため、マスクの面積の大小あるいはマスク内の位
置に関わらず強度を維持することができる。このため、
マスクの製造が容易にでき、また、マスクの繰り返し使
用に耐えることができる。
を有する第１の単位配向領域から成る配向領域を形成す
るための複数の開口と、第２の配向特性を有する第２の
単位配向領域から成る配向領域が形成されるべき部分を
遮蔽する遮蔽部とを備え、開口の各々は、第１の単位配
向領域の所定の組合せと対応する形状を有し、遮蔽部は
物理的に連続しており、開口及び遮蔽部は、マスクを横
切るあらゆる方向の直線が必ず少なくとも１つの開口及
び遮蔽部の両方を通るように形成されている。したがっ
て、マスクを構成する部材の最小幅が単位配向領域の幅
であるため、マスクの面積の大小あるいはマスク内の位
置に関わらず強度を維持することができる。このため、
マスクの製造が容易にでき、また、マスクの繰り返し使
用に耐えることができる。
【００５３】さらに、本発明の液晶表示装置の製造方法
は、対をなす基板のうち、一方の基板の配向膜を、配向
膜となる基材膜の全面を配向処理した後、マスクを重ね
て異なる配向処理をし、他方の基板の配向膜を、同様に
配向膜となる基材膜の全面を配向処理した後、マスクを
反転させて重ねて異なる配向処理をする。この製造方法
によって、対をなす少なくとも２種類の配向領域を有す
る配向膜を、それぞれ同じ配向処理を施すことによって
容易に形成することができる。特に、原子ビームなどを
利用することによって、微細な配置パターンを備えた配
向膜を正確に形成することができる。
は、対をなす基板のうち、一方の基板の配向膜を、配向
膜となる基材膜の全面を配向処理した後、マスクを重ね
て異なる配向処理をし、他方の基板の配向膜を、同様に
配向膜となる基材膜の全面を配向処理した後、マスクを
反転させて重ねて異なる配向処理をする。この製造方法
によって、対をなす少なくとも２種類の配向領域を有す
る配向膜を、それぞれ同じ配向処理を施すことによって
容易に形成することができる。特に、原子ビームなどを
利用することによって、微細な配置パターンを備えた配
向膜を正確に形成することができる。
【図１】（ａ）は本発明に係る配向膜の一例を示す模式
図であり、（ｂ）は（ａ）の配向膜の基準パターンを示
す模式図である。
図であり、（ｂ）は（ａ）の配向膜の基準パターンを示
す模式図である。
【図２】（ａ）は本発明に係る配向膜の他の一例を示す
模式図であり、（ｂ）は（ａ）の配向膜の基準パターン
を示す模式図である。
模式図であり、（ｂ）は（ａ）の配向膜の基準パターン
を示す模式図である。
【図３】（ａ）は本発明に係る配向膜の他の一例を示す
模式図であり、（ｂ）は（ａ）の配向膜の基準パターン
を示す模式図である。
模式図であり、（ｂ）は（ａ）の配向膜の基準パターン
を示す模式図である。
【図４】（ａ）は図１（ａ）に示す配向膜を形成するた
めのマスクの一例を示す模式図であり、（ｂ）は（ａ）
の配向膜の基準パターンを示す模式図である。
めのマスクの一例を示す模式図であり、（ｂ）は（ａ）
の配向膜の基準パターンを示す模式図である。
【図５】本発明に係る配向膜の製造工程を示す模式図で
あり、（ａ）及び（ｂ）は下基板の配向膜、（ｃ）及び
（ｄ）は上基板の配向膜のそれぞれの製造工程を示す模
式図である。
あり、（ａ）及び（ｂ）は下基板の配向膜、（ｃ）及び
（ｄ）は上基板の配向膜のそれぞれの製造工程を示す模
式図である。
【図６】下基板の配向膜と上基板の配向膜を重ね合わせ
たときの配向領域及び配向方向を説明するための模式図
である。
たときの配向領域及び配向方向を説明するための模式図
である。
【図７】液晶表示装置を看者が見る視角を示す説明図で
ある。
ある。
【図８】液晶表示装置の視角特性を示す図であり、
（ａ）は単一の配向領域の場合、（ｂ）は２種類の配向
領域の場合を示す。
（ａ）は単一の配向領域の場合、（ｂ）は２種類の配向
領域の場合を示す。
【図９】視野角依存性を改善するための分割配向法を示
す模式図である。
す模式図である。
【図１０】２種類の配向領域を形成する方法の一例を示
す模式図である。
す模式図である。
【図１１】２種類の配向領域を形成する方法の他の一例
を示す模式図である。
を示す模式図である。
６，８：単位配向領域 １０，１８，２４，４０，４４，４６：配向膜 １２，１４：配向領域 １６，２０，２２，２６：基準パターン ２８：マスク ３０：開口 ３２：遮蔽部 ３８，４２：基材膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中野 宏毅 滋賀県野洲郡野洲町大字市三宅800番地 日本アイ・ビー・エム株式会社 野洲事業 所内 Ｆターム(参考） 2H090 HB02Y HB06Y HB07Y HB08Y HC11 HC13 KA05 MA10 MA12 MB01
Claims (18)
- 【請求項１】 第１の配向特性を有する第１の単位配向
領域及び前記第１の配向特性と異なる第２の配向特性を
有する第２の単位配向領域がマトリクスの行列位置に混
在して配置された配向膜を含む液晶表示装置において、
前記第１及び第２の単位配向領域があらゆる方向の直線
に沿って混在するように、前記第１及び第２の単位配向
領域が配設されている液晶表示装置。 - 【請求項２】 前記マトリクスの横方向の最小線幅を構
成する１行又は隣接する２行に含まれる前記第１の単位
配向領域の面積と、前記第２の単位配向領域の面積との
比の値が約３０〜７０％の範囲にある請求項１に記載す
る液晶表示装置。 - 【請求項３】 前記マトリクスの縦方向の最小線幅を構
成する１列又は隣接する２列に含まれる前記第１の単位
配向領域の面積と、前記第２の単位配向領域の面積との
比の値が約３０〜７０％の範囲にある請求項１又は請求
項２に記載する液晶表示装置。 - 【請求項４】 前記第１の単位配向領域の総面積と、前
記第２の単位配向領域の総面積との比の値が約４５〜５
５％の範囲にある請求項１乃至請求項３のいずれかに記
載する液晶表示装置。 - 【請求項５】 前記第１及び第２の配向特性を有する第
１及び第２の単位配向領域から成る配向領域が、前記第
１及び第２の単位配向領域の所定の組合せからなる一定
の基準パターンの繰り返しで構成される請求項１乃至請
求項４のいずれかに記載する液晶表示装置。 - 【請求項６】 前記第１及び第２の単位配向領域の各々
は、１若しくは複数の画素、又は、１若しくは複数のサ
ブ画素の大きさで構成される請求項１乃至請求項５のい
ずれかに記載する液晶表示装置。 - 【請求項７】 前記配向膜は、樹脂膜又は無機質膜であ
る請求項１乃至請求項６のいずれかに記載する液晶表示
装置。 - 【請求項８】 前記液晶表示装置の液晶は、ツイステッ
ドネマティック形である請求項１乃至請求項７のいずれ
かに記載する液晶表示装置。 - 【請求項９】 前記配向領域は原子ビーム、イオン・ビ
ーム又は紫外線の照射によって形成されている請求項１
乃至請求項８のいずれかに記載する液晶表示装置。 - 【請求項１０】 第１の配向特性を有する第１の単位配
向領域及び前記第１の配向特性と異なる第２の配向特性
を有する第２の単位配向領域が、あらゆる方向の直線に
沿って混在するように、前記第１及び第２の単位配向領
域がマトリクスの行列位置に混在して配置された液晶表
示装置の配向膜を形成するためのマスクにして、前記第
１の配向特性を有する第１の単位配向領域から成る配向
領域を形成するための複数の開口と、前記第２の配向特
性を有する第２の単位配向領域から成る配向領域が形成
されるべき部分を遮蔽する遮蔽部とを備え、前記開口の
各々は、前記第１の単位配向領域の所定の組合せと対応
する形状を有し、前記遮蔽部は物理的に連続しており、
前記開口及び前記遮蔽部は、前記マスクを横切るあらゆ
る方向の直線が必ず少なくとも１つの前記開口及び前記
遮蔽部の両方を通るように形成されているマスク。 - 【請求項１１】 前記マトリクスの横方向の１行又は隣
接する２行に含まれる前記第１の単位配向領域と対応す
る前記開口の領域の面積と、前記第２の単位配向領域と
対応する前記遮蔽部の領域の面積との比の値が約３０〜
７０％の範囲にある請求項１１に記載するマスク。 - 【請求項１２】 前記マトリクスの縦方向の１列又は隣
接する２列に含まれる前記第１の単位配向領域と対応す
る前記開口の領域の面積と、前記第２の単位配向領域と
対応する前記遮蔽部の領域の面積との比の値が約３０〜
７０％の範囲にある請求項１０又は請求項１１に記載す
るマスク。 - 【請求項１３】 前記開口の総面積と前記遮蔽部の総面
積との比の値が約４５〜５５％の範囲にある請求項１０
乃至請求項１２のいずれかに記載するマスク。 - 【請求項１４】 前記開口及び遮蔽部が、前記第１及び
第２の単位配向領域の所定の組合せと対応する基準パタ
ーンの繰り返しで構成されている請求項１０乃至請求項
１３のいずれかに記載するマスク。 - 【請求項１５】 対向して配置され、対向面に配向膜を
有する１対の基板を有する液晶表示装置を製造する方法
において、配向処理によって配向膜となる基材膜を一方
の表面にそれぞれ有する第１及び第２の基板を準備する
ステップと、第１の配向特性を有する第１の単位配向領
域から成る配向領域を形成するための複数の開口と、前
記第２の配向特性を有する第２の単位配向領域から成る
配向領域が形成されるべき部分を遮蔽する遮蔽部とを備
えるマスクを準備するステップと、前記第１の基板の前
記基材膜の表面に所定の方向から配向処理を施すステッ
プと、前記第１の基板の前記基材膜の表面に前記マスク
を重ね合わせ、固定するステップと、前記マスクの開口
によって露出された前記第１の基板の基材膜に、前記所
定の方向と平面角で約９０度異なる方向から配向処理を
施すステップと、前記第２の基板の前記基材膜の表面上
に前記所定の方向と同一の方向から配向処理を施すステ
ップと、前記第２の基板の前記基材膜の表面に、前記マ
スクを反転させて重ね合わせ、固定するステップと、前
記マスクの前記開口によって露出された前記第２の基板
の基材膜に、前記所定の方向と平面角で約９０度異なる
方向と同一の方向から配向処理を施すステップとを含む
液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項１６】 前記配向膜となる基材膜が、ダイアモ
ンド型水素添加炭素、アモルファス水素添加ケイ素、Si
C 、 SiO2 、ガラス、Si3 N 4 、Al2 O 3 、CeO 2 、 Sn
O2 、及び ZnTiO2 からなる群から選択される材料で形
成される請求項１５に記載する液晶表示装置の製造方
法。 - 【請求項１７】 前記配向処理を施すステップが、原子
ビーム、イオン・ビーム又は紫外線を照射するステップ
である請求項１５又は請求項１６に記載する液晶表示装
置の製造方法。 - 【請求項１８】 前記マスクが、第１の配向特性を有す
る第１の単位配向領域及び前記第１の配向特性と異なる
第２の配向特性を有する第２の単位配向領域が、あらゆ
る方向の直線に沿って混在するように、前記第１及び第
２の単位配向領域がマトリクスの行列位置に混在して配
置された配向膜を形成するためのマスクであって、前記
開口の各々は、前記第１の単位配向領域の所定の組合せ
と対応する形状を有し、前記遮蔽部は物理的に連続して
おり、前記開口及び前記遮蔽部は、前記マスクを横切る
あらゆる方向の直線が必ず少なくとも１つの前記開口及
び前記遮蔽部の両方を通るように形成されている請求項
１５乃至請求項１７のいずれかに記載する液晶表示装置
の製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000114332A JP4483014B2 (ja) | 2000-04-14 | 2000-04-14 | マスク及び液晶表示装置の製造方法 |
| TW090107573A TWI304508B (en) | 2000-04-14 | 2001-03-29 | A liquid crystal display and a mask for forming an alignment film and a method for producing a liquid crystal display |
| US09/681,468 US6611307B2 (en) | 2000-04-14 | 2001-04-12 | Liquid crystal display having two alignment domains, mask, and method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000114332A JP4483014B2 (ja) | 2000-04-14 | 2000-04-14 | マスク及び液晶表示装置の製造方法 |
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|---|---|
| JP2001305543A true JP2001305543A (ja) | 2001-10-31 |
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|---|---|---|---|
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