JP2001304428A - 止め弁 - Google Patents
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- disk
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- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K1/00—Lift valves or globe valves, i.e. cut-off apparatus with closure members having at least a component of their opening and closing motion perpendicular to the closing faces
- F16K1/32—Details
- F16K1/34—Cutting-off parts, e.g. valve members, seats
- F16K1/44—Details of seats or valve members of double-seat valves
- F16K1/443—Details of seats or valve members of double-seat valves the seats being in series
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- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/8593—Systems
- Y10T137/86493—Multi-way valve unit
- Y10T137/86718—Dividing into parallel flow paths with recombining
- Y10T137/86759—Reciprocating
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- Control Of Combustion (AREA)
- Magnetically Actuated Valves (AREA)
- Sliding Valves (AREA)
- Self-Closing Valves And Venting Or Aerating Valves (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ガス流出を効果的に阻止することができる止
め弁を提供する。 【解決手段】 止め弁は、直径D1を備えた上方の弁座
7と直径D2を備えた下方の弁座8を有し、閉鎖された
状態において密閉すべき流体の貫流を阻止するダブルデ
ィスク型弁体12、11、10、14を備えている。外
径D2と内径D1によって形成されたダブルディスク型
弁体の環状面(D2−D1)には、密閉すべき流体が印
加され、閉鎖力を発生する。環状面は、直径D3(D1
<D3<D2)によって2つの領域10、14に分割さ
れ、これにより閉鎖力は、上方の弁座7と下方の弁座8
に分配される。
め弁を提供する。 【解決手段】 止め弁は、直径D1を備えた上方の弁座
7と直径D2を備えた下方の弁座8を有し、閉鎖された
状態において密閉すべき流体の貫流を阻止するダブルデ
ィスク型弁体12、11、10、14を備えている。外
径D2と内径D1によって形成されたダブルディスク型
弁体の環状面(D2−D1)には、密閉すべき流体が印
加され、閉鎖力を発生する。環状面は、直径D3(D1
<D3<D2)によって2つの領域10、14に分割さ
れ、これにより閉鎖力は、上方の弁座7と下方の弁座8
に分配される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、止め弁、更に詳細
には、直径がそれぞれ異なる上方の弁座と下方の弁座を
備えたダブル弁座と、閉鎖状態において密閉すべき流体
が通過するのを阻止(遮断)するダブルディスク型弁体
とを有する止め弁に関する。
には、直径がそれぞれ異なる上方の弁座と下方の弁座を
備えたダブル弁座と、閉鎖状態において密閉すべき流体
が通過するのを阻止(遮断)するダブルディスク型弁体
とを有する止め弁に関する。
【0002】
【従来の技術】たとえば、DE3146590及びEP
0645562から、両座弁が知られている。DE31
46590には、弁座の内径が比較的顕著に異なるよう
に設計された両座弁が記載されている。それによって弁
ディスク間に圧力がかかった場合、内径が大きい上方の
弁ディスクの開放する力は、下方の弁ディスクの閉鎖す
る力よりも大きくなる。
0645562から、両座弁が知られている。DE31
46590には、弁座の内径が比較的顕著に異なるよう
に設計された両座弁が記載されている。それによって弁
ディスク間に圧力がかかった場合、内径が大きい上方の
弁ディスクの開放する力は、下方の弁ディスクの閉鎖す
る力よりも大きくなる。
【0003】特に、ガスバーナー及びガス器具用の自動
止め弁として使用するために、それに対して適用される
DIN EN161の規格によって、この種の弁を認可
するための検査基準が定められている。それによれば、
両座弁のクラス分けに関して、ガスの入口側圧力の作用
によって密閉力が減少しない場合には、両座弁は、クラ
スA、BまたはCの弁であると定義されている。この定
義によれば、同じクラスの弁であっても入口側圧力が上
昇した場合遮断特性が異なるようになる。たとえばクラ
スBのディスク弁に対して、検査に関与する部品が機能
しなくなるまで圧力を印加することができる場合には、
規格に合格した両座弁であっても、弁固有の最大検査圧
力を上回った後には、もはや密閉性は保証されなくな
る。その理由は、密閉力はほぼ閉鎖ばね力によって発生
され、公知の構造のものでは、大きい弁座径と小さい弁
座径間の差面積から得られる閉鎖力への寄与成分を、両
弁座の阻止圧力が同程度に上昇するように変換すること
ができないからである。さらに、差面積に発生する力
は、弁を開放する際には、打ち勝つようにしなければな
らない。従って、特にソレノイド駆動装置では、差面積
はできるだけ小さく抑えられ、それによって動的な押圧
力が静的なばね付勢力に加わる割合が減少する。
止め弁として使用するために、それに対して適用される
DIN EN161の規格によって、この種の弁を認可
するための検査基準が定められている。それによれば、
両座弁のクラス分けに関して、ガスの入口側圧力の作用
によって密閉力が減少しない場合には、両座弁は、クラ
スA、BまたはCの弁であると定義されている。この定
義によれば、同じクラスの弁であっても入口側圧力が上
昇した場合遮断特性が異なるようになる。たとえばクラ
スBのディスク弁に対して、検査に関与する部品が機能
しなくなるまで圧力を印加することができる場合には、
規格に合格した両座弁であっても、弁固有の最大検査圧
力を上回った後には、もはや密閉性は保証されなくな
る。その理由は、密閉力はほぼ閉鎖ばね力によって発生
され、公知の構造のものでは、大きい弁座径と小さい弁
座径間の差面積から得られる閉鎖力への寄与成分を、両
弁座の阻止圧力が同程度に上昇するように変換すること
ができないからである。さらに、差面積に発生する力
は、弁を開放する際には、打ち勝つようにしなければな
らない。従って、特にソレノイド駆動装置では、差面積
はできるだけ小さく抑えられ、それによって動的な押圧
力が静的なばね付勢力に加わる割合が減少する。
【0004】弁は、純粋に静的な圧力によって負荷を受
ける他に、動的な圧力にもさらされる。このような動的
な圧力は、弁閉鎖時に発生し、特に流速が比較的大きい
場合に現れ、最大の運転圧力の1.5倍を越える場合が
ある。弁はまた、前段に接続されている高圧制御器がそ
の出口側圧力を上回った場合にも、高い入口側圧力にさ
らされる。
ける他に、動的な圧力にもさらされる。このような動的
な圧力は、弁閉鎖時に発生し、特に流速が比較的大きい
場合に現れ、最大の運転圧力の1.5倍を越える場合が
ある。弁はまた、前段に接続されている高圧制御器がそ
の出口側圧力を上回った場合にも、高い入口側圧力にさ
らされる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、弁に
示されている破壊圧力までは止め弁からのガス流出を効
果的に阻止することができる、冒頭で述べた種類の止め
弁を提供することである。
示されている破壊圧力までは止め弁からのガス流出を効
果的に阻止することができる、冒頭で述べた種類の止め
弁を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】この課題は、本発明によ
れば、直径D1の上方の弁座(7)と直径D2の下方の
弁座(8)を有し、各直径が異なる(D1<D2)ダブ
ル弁座と、閉鎖状態において密閉すべき流体が通過する
のを阻止するダブルディスク型弁体(12、11、1
0、14)と、を有する止め弁において、密閉すべき流
体が印加されるとともに閉鎖力を発生する、外径D2と
内径D1から形成されたダブルディスク型弁体(12、
11、10、14)の環状面(D2−D1)が、直径D
3(D1<D3<D2)によって少なくとも2つの領域
(10、14)に分割されており、それにより閉鎖力が
上方の弁座(7)と下方の弁座(8)に分配される構成
によって解決される。
れば、直径D1の上方の弁座(7)と直径D2の下方の
弁座(8)を有し、各直径が異なる(D1<D2)ダブ
ル弁座と、閉鎖状態において密閉すべき流体が通過する
のを阻止するダブルディスク型弁体(12、11、1
0、14)と、を有する止め弁において、密閉すべき流
体が印加されるとともに閉鎖力を発生する、外径D2と
内径D1から形成されたダブルディスク型弁体(12、
11、10、14)の環状面(D2−D1)が、直径D
3(D1<D3<D2)によって少なくとも2つの領域
(10、14)に分割されており、それにより閉鎖力が
上方の弁座(7)と下方の弁座(8)に分配される構成
によって解決される。
【0007】本発明の核心は、入口側圧力の作用面とし
て各弁座の直径差に対応する環状の差面が形成されるこ
とである。この差面は、分割されているが、弾性的に、
かつ圧密に結合されていて、それぞれの密閉力成分を大
きい弁座直径ないしは小さい弁座直径に直接または間接
的に伝達する。その場合、DIN EN161に基づく
背圧検査を満たさなければならない閉鎖ばね力は、両弁
座に分離して作用し、初期の阻止圧力を発生する。
て各弁座の直径差に対応する環状の差面が形成されるこ
とである。この差面は、分割されているが、弾性的に、
かつ圧密に結合されていて、それぞれの密閉力成分を大
きい弁座直径ないしは小さい弁座直径に直接または間接
的に伝達する。その場合、DIN EN161に基づく
背圧検査を満たさなければならない閉鎖ばね力は、両弁
座に分離して作用し、初期の阻止圧力を発生する。
【0008】両座弁は、シングルディスク弁に比較し
て、構成部品が多くなり、高い製造精度が要求される、
という欠点はあるが、要求される開放エネルギと必要な
弁体積に関しては、軽量で電力消費の少ない同流量のシ
ングルディスク弁に比較して、重要な利点を有してお
り、この弁構造が将来的にも有望である。両座弁の平均
座径は、シングルディスク弁の座径の70%しかなく、
ソレノイド駆動を最適化するのに重要な往復動も、両座
弁では同様に70%に減少する。
て、構成部品が多くなり、高い製造精度が要求される、
という欠点はあるが、要求される開放エネルギと必要な
弁体積に関しては、軽量で電力消費の少ない同流量のシ
ングルディスク弁に比較して、重要な利点を有してお
り、この弁構造が将来的にも有望である。両座弁の平均
座径は、シングルディスク弁の座径の70%しかなく、
ソレノイド駆動を最適化するのに重要な往復動も、両座
弁では同様に70%に減少する。
【0009】ダブルディスク弁の構造に基づく対向する
受圧面による力のバランスにより、シングルディスク弁
と比較した場合、開放力を必要とする受圧面は大きい座
面と小さい座面の差に対応する環状面に減少され、それ
によって特に許容運転圧力が高く公称幅が大きい弁で
は、開放力を顕著に削減できる。
受圧面による力のバランスにより、シングルディスク弁
と比較した場合、開放力を必要とする受圧面は大きい座
面と小さい座面の差に対応する環状面に減少され、それ
によって特に許容運転圧力が高く公称幅が大きい弁で
は、開放力を顕著に削減できる。
【0010】本発明の他の好ましい実施形態が、従属請
求項に請求されている。
求項に請求されている。
【0011】
【発明の実施の形態】本発明に基づく装置ないしは本発
明に基づく方法の好ましい実施形態を、以下の図面を用
いて詳細に説明する。
明に基づく方法の好ましい実施形態を、以下の図面を用
いて詳細に説明する。
【0012】図1には、止め弁1の縦断面が図示されて
いる。止め弁は矢印2によって示される方向に密閉すべ
き流体が貫流する。簡単にするために、弁箱3を個々の
構成部分に分割することは、避けている。同様に、弁を
開放するための駆動源の図示も省略されている。その代
りに矢印4aによって衝き駆動ないしは押し駆動用ユニ
ットが、そして矢印4bによって引張り駆動用のユニッ
トが、模式的に図示されている。弁棒5は、それぞれア
クチュエータ構造に従って弁棒の密閉構造も兼ねる2つ
のブッシュ6a、6bによって案内され、それにより弁
体自体が径方向に変位するのがほぼ防止される。あるい
は、駆動源とは反対の側の弁棒端部を、弁箱内へ入れる
こともでき、その場合には、弁棒の密閉は不要になる。
いる。止め弁は矢印2によって示される方向に密閉すべ
き流体が貫流する。簡単にするために、弁箱3を個々の
構成部分に分割することは、避けている。同様に、弁を
開放するための駆動源の図示も省略されている。その代
りに矢印4aによって衝き駆動ないしは押し駆動用ユニ
ットが、そして矢印4bによって引張り駆動用のユニッ
トが、模式的に図示されている。弁棒5は、それぞれア
クチュエータ構造に従って弁棒の密閉構造も兼ねる2つ
のブッシュ6a、6bによって案内され、それにより弁
体自体が径方向に変位するのがほぼ防止される。あるい
は、駆動源とは反対の側の弁棒端部を、弁箱内へ入れる
こともでき、その場合には、弁棒の密閉は不要になる。
【0013】弁箱内には、2つの弁座7と8が同心でか
つ弁棒の軸に対して垂直に形成されており、その間隔は
通常製造工具に関連していて百分の1ミリメートルの範
囲にある高い精度を有している。弁座間隔がこのような
精度を有しているにもかかわらず、またダブルディスク
型弁体の2つの弾性シール面の間隔をキャリブレーショ
ンしても、従来のダブルディスク型弁体では、入口側圧
力が上昇するにつれて発生する動的な密閉力を両弁座に
分配することはできない。その結果、所定の圧力から
は、2つの弁座の一方に密閉性がなくなり始める。
つ弁棒の軸に対して垂直に形成されており、その間隔は
通常製造工具に関連していて百分の1ミリメートルの範
囲にある高い精度を有している。弁座間隔がこのような
精度を有しているにもかかわらず、またダブルディスク
型弁体の2つの弾性シール面の間隔をキャリブレーショ
ンしても、従来のダブルディスク型弁体では、入口側圧
力が上昇するにつれて発生する動的な密閉力を両弁座に
分配することはできない。その結果、所定の圧力から
は、2つの弁座の一方に密閉性がなくなり始める。
【0014】これは、本発明によれば、図1に示す弁体
構造により、以下のようにして、すなわち、入口側圧力
が印加されて閉鎖力を形成する外径D2と内径D1から
形成された環状面を、直径D3によって2つの領域に分
割することによって、回避することができる。入口側圧
力が印加される矢印9で示した内側の円環は、スペーサ
11を介して小ディスク12と緊密に結合された大ディ
スク10の一部なので、入口側圧力に応じた阻止圧力が
弁座7に形成される。
構造により、以下のようにして、すなわち、入口側圧力
が印加されて閉鎖力を形成する外径D2と内径D1から
形成された環状面を、直径D3によって2つの領域に分
割することによって、回避することができる。入口側圧
力が印加される矢印9で示した内側の円環は、スペーサ
11を介して小ディスク12と緊密に結合された大ディ
スク10の一部なので、入口側圧力に応じた阻止圧力が
弁座7に形成される。
【0015】矢印13は、D2とD3から形成される外
側の円環に加わる入口側圧力を示し、この圧力に依存し
た密閉力が弁座8に発生する。環状面D2/D3はディ
スクリング14の一部であり、ディスクリング14は弁
座に対して軸方向のシール機能を行なうとともに、直径
D3のところで大きいディスク10に対して径方向のシ
ール機能を果たす。従ってディスクリング14には、図
示したように、密閉材としてのエラストマー(弾性物
質)15が形成されている。また、大きいディスク10
は、O−リング16によって弁棒5に対して流体が通過
しないようにシールされている。
側の円環に加わる入口側圧力を示し、この圧力に依存し
た密閉力が弁座8に発生する。環状面D2/D3はディ
スクリング14の一部であり、ディスクリング14は弁
座に対して軸方向のシール機能を行なうとともに、直径
D3のところで大きいディスク10に対して径方向のシ
ール機能を果たす。従ってディスクリング14には、図
示したように、密閉材としてのエラストマー(弾性物
質)15が形成されている。また、大きいディスク10
は、O−リング16によって弁棒5に対して流体が通過
しないようにシールされている。
【0016】小さいディスク12は、弁座7と弁棒5に
対してシールを行なうエラストマーの密閉材17で被覆
されている。
対してシールを行なうエラストマーの密閉材17で被覆
されている。
【0017】大ディスク10に対するディスクリング1
4の軸方向の位置は、ほぼ構成部材12、17、11の
往復動方向における許容誤差によって決まり、弁箱内の
弁座間隔の許容誤差にはあまり依存しない。弁体が開放
するとき、大きいディスクの段部18は、先に少し移動
した後にディスクリング14を密閉材15とともに移動
させる。
4の軸方向の位置は、ほぼ構成部材12、17、11の
往復動方向における許容誤差によって決まり、弁箱内の
弁座間隔の許容誤差にはあまり依存しない。弁体が開放
するとき、大きいディスクの段部18は、先に少し移動
した後にディスクリング14を密閉材15とともに移動
させる。
【0018】上記の規格によれば、ガスバーナー用の弁
はそれぞれの圧力での背圧検査の際に予め定められた漏
れ率内になければならない。この検査圧力は、同じ環状
面で、大きいディスク10とディスクリング14の出口
圧力側の面だけに作用する。
はそれぞれの圧力での背圧検査の際に予め定められた漏
れ率内になければならない。この検査圧力は、同じ環状
面で、大きいディスク10とディスクリング14の出口
圧力側の面だけに作用する。
【0019】背圧が印加されたとき、弁体は弁座から離
れようとするが、このときの密閉効果は、対応した大き
な阻止圧力を弁座に与えることによってのみ、維持する
ことができる。これは、閉鎖ばね19のばね力の所定成
分を大ディスク10、スペーサ11を介して小ディスク
12に伝達し、ばね力の他の成分をディスクばね20を
介してディスクリング14へ伝達させることによって、
得られる。
れようとするが、このときの密閉効果は、対応した大き
な阻止圧力を弁座に与えることによってのみ、維持する
ことができる。これは、閉鎖ばね19のばね力の所定成
分を大ディスク10、スペーサ11を介して小ディスク
12に伝達し、ばね力の他の成分をディスクばね20を
介してディスクリング14へ伝達させることによって、
得られる。
【0020】衝撃駆動のあと、たとえば閉鎖ばね19に
よって元の状態に戻さなければならない場合には、閉鎖
ばね力によって復帰エネルギーを得なければならず、従
って、閉鎖ばねは、背圧検査の条件だけを満たせばよい
ディスクばね20よりも強く設計しなければならない。
よって元の状態に戻さなければならない場合には、閉鎖
ばね力によって復帰エネルギーを得なければならず、従
って、閉鎖ばねは、背圧検査の条件だけを満たせばよい
ディスクばね20よりも強く設計しなければならない。
【0021】駆動装置がソレノイドである場合には、最
大検査圧力が150ミリバール(mb)の場合、円環D
2/D1に作用する純粋な圧力成分は、減少する。
大検査圧力が150ミリバール(mb)の場合、円環D
2/D1に作用する純粋な圧力成分は、減少する。
【0022】検査圧力がなくなった後は、背圧検査の要
請のみに従って定められた閉鎖ばね力によって、弁座面
7と8に所定の阻止圧力が発生される。
請のみに従って定められた閉鎖ばね力によって、弁座面
7と8に所定の阻止圧力が発生される。
【0023】ダブルディスク型弁体に入口側圧力が印加
されると、閉鎖ばねによって発生される阻止圧力は入口
側圧力の数倍増大する。この増幅率は、弁座7と8を載
置する密閉材の載置面に対するそれぞれの部分円環面D
2/D3ないしD3/D1の比率によって形成される。
たとえば弁座エッジbが0.5mmの幅であると仮定
し、D2とD3並びにD3とD1によって形成される2
つの円環の幅がそれぞれ2mmとすると、約4の増幅率
が得られる。すなわち、1ミリバールの入口側圧力によ
って4ミリバールの阻止圧力が発生され、それによっ
て、この種のダブルディスク弁は、シングルディスク弁
とまったく同様に、入口側圧力が増大するにつれて、密
閉性が増大していき、強度限界に達する。
されると、閉鎖ばねによって発生される阻止圧力は入口
側圧力の数倍増大する。この増幅率は、弁座7と8を載
置する密閉材の載置面に対するそれぞれの部分円環面D
2/D3ないしD3/D1の比率によって形成される。
たとえば弁座エッジbが0.5mmの幅であると仮定
し、D2とD3並びにD3とD1によって形成される2
つの円環の幅がそれぞれ2mmとすると、約4の増幅率
が得られる。すなわち、1ミリバールの入口側圧力によ
って4ミリバールの阻止圧力が発生され、それによっ
て、この種のダブルディスク弁は、シングルディスク弁
とまったく同様に、入口側圧力が増大するにつれて、密
閉性が増大していき、強度限界に達する。
【0024】増幅率がD/(4b)で計算され、閉鎖ば
ね力を減少させ、電磁力を減少させるために、弁座幅を
できるだけ小さくしなければならないシングルディスク
弁とは異なり、本発明によるダブルディスク弁では、弁
横断面を減少させることなしに、環状面を選択すること
ができる。比較のため、D=50mmでb=0.5mm
とすると、シングルディスク弁の場合には、増幅率は2
5となる。しかし入口側圧力が高い場合には、この増幅
率によって、密閉材としてのエラストマーには、部分的
に高負荷がかかることになる。本発明によるダブルディ
スク弁では、環状面を圧力値に合わせることによって、
密閉材の最大圧縮量を大幅に減少させることができる。
ね力を減少させ、電磁力を減少させるために、弁座幅を
できるだけ小さくしなければならないシングルディスク
弁とは異なり、本発明によるダブルディスク弁では、弁
横断面を減少させることなしに、環状面を選択すること
ができる。比較のため、D=50mmでb=0.5mm
とすると、シングルディスク弁の場合には、増幅率は2
5となる。しかし入口側圧力が高い場合には、この増幅
率によって、密閉材としてのエラストマーには、部分的
に高負荷がかかることになる。本発明によるダブルディ
スク弁では、環状面を圧力値に合わせることによって、
密閉材の最大圧縮量を大幅に減少させることができる。
【0025】図2には、閉鎖ばね21のみが組み込まれ
ており、そのばね力が、ばね21を支点に揺動する揺動
部材(リング)22を介して大きいディスク10とディ
スクリング14に、等分されて、あるいは予め定められ
た比で伝達される他の種類の力の分配例が図示されてい
る。
ており、そのばね力が、ばね21を支点に揺動する揺動
部材(リング)22を介して大きいディスク10とディ
スクリング14に、等分されて、あるいは予め定められ
た比で伝達される他の種類の力の分配例が図示されてい
る。
【0026】図3には、特に設計が簡単になり、ばね力
を調整できる好ましい実施形態が図示されている。弁の
種類に応じて設定される閉鎖ばね力は、ディスクリング
14を介して大きい弁座8に、また大きいディスク10
を介して小さい弁座7に、分離して設定することができ
る。2つの分離した閉鎖ばね23と24を組み込むこと
によって、このような構成のダブルディスク型弁体に、
更に安全上重要な利点が生じる。
を調整できる好ましい実施形態が図示されている。弁の
種類に応じて設定される閉鎖ばね力は、ディスクリング
14を介して大きい弁座8に、また大きいディスク10
を介して小さい弁座7に、分離して設定することができ
る。2つの分離した閉鎖ばね23と24を組み込むこと
によって、このような構成のダブルディスク型弁体に、
更に安全上重要な利点が生じる。
【0027】図4には、加硫成形された密閉材26によ
り、弁座8と弁棒5に対してシールを行なうとともに、
ディスクリング114と大きなディスク110を、密閉
性をもたせ、かつ許容誤差を吸収させて可動結合するこ
とによって、大ディスク110をディスクリング114
にゴム弾性的に結合させる密閉材26からなる結合部材
25を用いたダブルディスク型弁体の好ましい実施形態
が図示されている。平坦な穴あきディスクとして形成さ
れているディスクばね120は、閉鎖ばねによって大デ
ィスク110に押圧されるとともに、ディスクリング1
14と一体的に結合されており、かつ止めリング32を
介して軸方向に保持される。それによって、ディスクリ
ング114は、弁座から離れた後、大きいディスクに対
して常に同じ位置を占めることになる。図4には、弁体
の閉鎖位置が図示されている。付勢されたディスクばね
120により、弁座の領域の密閉材は圧縮され、それに
より対応する規格の背圧検査の条件が満たされる。大デ
ィスクに対応する結合部材25の部分27を少し高くす
ることによって、すでに説明した弁体の構成部材の往復
動方向における許容誤差を吸収することができる。
り、弁座8と弁棒5に対してシールを行なうとともに、
ディスクリング114と大きなディスク110を、密閉
性をもたせ、かつ許容誤差を吸収させて可動結合するこ
とによって、大ディスク110をディスクリング114
にゴム弾性的に結合させる密閉材26からなる結合部材
25を用いたダブルディスク型弁体の好ましい実施形態
が図示されている。平坦な穴あきディスクとして形成さ
れているディスクばね120は、閉鎖ばねによって大デ
ィスク110に押圧されるとともに、ディスクリング1
14と一体的に結合されており、かつ止めリング32を
介して軸方向に保持される。それによって、ディスクリ
ング114は、弁座から離れた後、大きいディスクに対
して常に同じ位置を占めることになる。図4には、弁体
の閉鎖位置が図示されている。付勢されたディスクばね
120により、弁座の領域の密閉材は圧縮され、それに
より対応する規格の背圧検査の条件が満たされる。大デ
ィスクに対応する結合部材25の部分27を少し高くす
ることによって、すでに説明した弁体の構成部材の往復
動方向における許容誤差を吸収することができる。
【0028】図5は、大ディスクとディスクリングの他
の好ましい実施形態を示しており、この例では、ディス
クリング214上にのみ、特に加硫成形された密閉材2
15が設けられる。密閉材215は、径方向内側へ向か
って延び撓んだところで薄片28になるように形成され
ており、かつカバー30によって押圧される隆起部29
を介して大きいディスク210の入口圧力側をシールし
ている。カバー30は、外側輪郭部31を有しており、
高い圧力がかかった場合、その外側輪郭部で薄片28の
厚さが薄くなった撓み部分が包囲されて保持され、それ
により、密閉材の過剰応力を取り除くことができる。止
めリング132は、開放された状態において大きいディ
スクに対する揺動部材222(揺動部材22と同様にば
ねを支点に揺動する)の上方軸方向の移動を制限し、ダ
ブルディスク型弁体が開放するとき、ディスクリングを
連動させるのに用いられる。ディスクリングは、開放の
際には、後から移動し、閉鎖の際には先に移動する。
の好ましい実施形態を示しており、この例では、ディス
クリング214上にのみ、特に加硫成形された密閉材2
15が設けられる。密閉材215は、径方向内側へ向か
って延び撓んだところで薄片28になるように形成され
ており、かつカバー30によって押圧される隆起部29
を介して大きいディスク210の入口圧力側をシールし
ている。カバー30は、外側輪郭部31を有しており、
高い圧力がかかった場合、その外側輪郭部で薄片28の
厚さが薄くなった撓み部分が包囲されて保持され、それ
により、密閉材の過剰応力を取り除くことができる。止
めリング132は、開放された状態において大きいディ
スクに対する揺動部材222(揺動部材22と同様にば
ねを支点に揺動する)の上方軸方向の移動を制限し、ダ
ブルディスク型弁体が開放するとき、ディスクリングを
連動させるのに用いられる。ディスクリングは、開放の
際には、後から移動し、閉鎖の際には先に移動する。
【0029】図6は、揺動リング(揺動部材)22ない
し222の部分上面図を示している。揺動リングは、内
径部34において一周する結合部材によって一体化され
る多数の「2個所で支持されるセグメント」からなって
いる。揺動部材をセグメント33に分割することによっ
て、付勢力が均一に分配されるとともに、ディスクリン
グ214は、大きいディスクに対して容易に変位するこ
とが可能になる。
し222の部分上面図を示している。揺動リングは、内
径部34において一周する結合部材によって一体化され
る多数の「2個所で支持されるセグメント」からなって
いる。揺動部材をセグメント33に分割することによっ
て、付勢力が均一に分配されるとともに、ディスクリン
グ214は、大きいディスクに対して容易に変位するこ
とが可能になる。
【0030】図7は、図3と4に示すダブルディスク型
弁体の他の実施形態を示しており、この例では、特に入
口側圧力が高い場合に備えてディスク35が組み込まれ
る。ディスク35は、密閉材26の薄くなった撓み領域
25を支えるとともに、弾性的な密閉材26に対するば
ね24の閉鎖力を分配する分配プレートとしての機能を
有し、それにより、入口側圧力が印加されたとき、長手
方向の変形が減少される。ばねディスク36は、たとえ
ばフランジによって、ばねディスクと一体的に結合され
ているディスクリング314に閉鎖ばね力を伝達する。
このような結合により、開放時には、入口側圧力に抗し
てディスクリングを移動させることができる。
弁体の他の実施形態を示しており、この例では、特に入
口側圧力が高い場合に備えてディスク35が組み込まれ
る。ディスク35は、密閉材26の薄くなった撓み領域
25を支えるとともに、弾性的な密閉材26に対するば
ね24の閉鎖力を分配する分配プレートとしての機能を
有し、それにより、入口側圧力が印加されたとき、長手
方向の変形が減少される。ばねディスク36は、たとえ
ばフランジによって、ばねディスクと一体的に結合され
ているディスクリング314に閉鎖ばね力を伝達する。
このような結合により、開放時には、入口側圧力に抗し
てディスクリングを移動させることができる。
【0031】図8は、図7に示す弁体の技術的に好まし
い実施形態を示している。ばねディスク36と大きなデ
ィスク310間の間隔37は、十分の一ミリメートルの
程度なので、図7に示すばねディスク36には、静的な
シール38と動的に作用するシール39が設けられ、こ
れらのシールは、撓み部分が破壊された場合に機能を発
揮する。両シールは、たとえば加硫成形され、ガス用に
認可された密閉材から形成されている。
い実施形態を示している。ばねディスク36と大きなデ
ィスク310間の間隔37は、十分の一ミリメートルの
程度なので、図7に示すばねディスク36には、静的な
シール38と動的に作用するシール39が設けられ、こ
れらのシールは、撓み部分が破壊された場合に機能を発
揮する。両シールは、たとえば加硫成形され、ガス用に
認可された密閉材から形成されている。
【0032】本発明は、図示されて説明された実施形態
に限定されるものではないことは、もちろんである。
に限定されるものではないことは、もちろんである。
【0033】
【発明の効果】以上説明したように、本発明では、外径
と内径から形成されたダブルディスク型弁体の環状面
が、少なくとも2つの領域に分割されており、それによ
り閉鎖力が上方の弁座と下方の弁座に分配されるので、
止め弁からのガス流出を確実に遮断することができる。
と内径から形成されたダブルディスク型弁体の環状面
が、少なくとも2つの領域に分割されており、それによ
り閉鎖力が上方の弁座と下方の弁座に分配されるので、
止め弁からのガス流出を確実に遮断することができる。
【図1】本発明の止め弁を概略的に示す縦断面図であ
る。
る。
【図2】閉鎖ばねを備えたダブルディスク型弁体の他の
実施形態を示す縦断面図である。
実施形態を示す縦断面図である。
【図3】変化された閉鎖ばねを備えたダブルディスク型
弁体の他の実施形態を示す縦断面図である。
弁体の他の実施形態を示す縦断面図である。
【図4】ダブルディスク型弁体の他の好ましい実施形態
を示す部分縦断面図である。
を示す部分縦断面図である。
【図5】ダブルディスク型弁体の大きい方のディスクの
他の好ましい実施形態を示す部分縦断面図である。
他の好ましい実施形態を示す部分縦断面図である。
【図6】図5に示す揺動リングの部分上面図である。
【図7】ダブルディスク型弁体の他の好ましい実施形態
を示す部分縦断面図である。
を示す部分縦断面図である。
【図8】図7に示す弁体の他の実施形態を示す部分縦断
面図である。
面図である。
1 止め弁 3 弁箱 5 弁棒 7、8 弁座 10 大ディスク 12 小ディスク 14 ディスクリング 15 エラストマー 19 閉鎖ばね 20 ディスクばね
Claims (9)
- 【請求項1】 直径D1の上方の弁座(7)と直径D2
の下方の弁座(8)を有し、各直径が異なる(D1<D
2)ダブル弁座と、 閉鎖状態において密閉すべき流体が通過するのを阻止す
るダブルディスク型弁体(12、11、10、14)
と、 を有する止め弁において、 密閉すべき流体が印加されるとともに閉鎖力を発生す
る、外径D2と内径D1から形成されたダブルディスク
型弁体(12、11、10、14)の環状面(D2−D
1)が、直径D3(D1<D3<D2)によって少なく
とも2つの領域(10、14)に分割されており、それ
により閉鎖力が上方の弁座(7)と下方の弁座(8)に
分配されることを特徴とする止め弁。 - 【請求項2】 下方の弁座(8)を閉じるダブルディス
ク型弁体(12、11、10、14)のディスクが、内
部ディスク(10)と、この内部ディスクを包囲するデ
ィスクリング(14)から構成され、内部ディスク(1
0)に作用する部分閉鎖力(9)が上方の弁座(7)
に、またディスクリング(14)に作用する部分閉鎖力
(13)が下方の弁座(8)に伝達されることを特徴と
する請求項1に記載の止め弁。 - 【請求項3】 ダブルディスク型弁体(12、11、1
0、14)の阻止圧力が、ダブルディスク型弁体(1
2、11、10、14)の少なくとも第1の領域(1
0)に作用する閉鎖力(19、21、24)によって発
生され、また、手段(20、22、23、120、22
2)を介して少なくとも第2の領域(14)にも同様に
閉鎖力が発生されることを特徴とする請求項1または2
に記載の止め弁。 - 【請求項4】 少なくとも第1の領域(10)の閉鎖力
が、閉鎖ばね(19、21、24)によって発生される
ことを特徴とする請求項3に記載の止め弁。 - 【請求項5】 閉鎖力(20、22、120、222)
を発生させる手段が、少なくとも第1の領域(10)の
閉鎖力と協働することを特徴とする請求項3または4に
記載の止め弁。 - 【請求項6】 閉鎖力(23)を発生させる手段が、閉
鎖ばねであることを特徴とする請求項3または4に記載
の止め弁。 - 【請求項7】 少なくとも第1の領域(10)の閉鎖力
が、ディスクばね(20、120)または揺動部材(2
2、222)を介して、少なくとも第2の領域(14)
へ伝達可能であることを特徴とする請求項5に記載の止
め弁。 - 【請求項8】 少なくとも2つの領域(10、14)
が、共通の密閉材と結合されていることを特徴とする請
求項1から7のいずれか1項に記載の止め弁。 - 【請求項9】 少なくとも2つの領域(10、14)間
の撓み領域が、手段(31)によって支えられることを
特徴とする請求項8に記載の止め弁。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH20000639/00 | 2000-04-03 | ||
CH6392000 | 2000-04-03 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001304428A true JP2001304428A (ja) | 2001-10-31 |
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ID=4525307
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001097961A Pending JP2001304428A (ja) | 2000-04-03 | 2001-03-30 | 止め弁 |
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---|---|
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EP (1) | EP1143176B1 (ja) |
JP (1) | JP2001304428A (ja) |
AT (1) | ATE352737T1 (ja) |
CZ (1) | CZ20011119A3 (ja) |
DE (1) | DE50111924D1 (ja) |
Cited By (2)
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---|---|---|---|---|
JP2003056723A (ja) * | 2001-08-09 | 2003-02-26 | Yoshitake Inc | 複座弁の弁体構造 |
JP2013087856A (ja) * | 2011-10-18 | 2013-05-13 | Pacific Ind Co Ltd | 流量制御弁 |
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DE102011118343A1 (de) * | 2011-11-11 | 2013-05-16 | Festo Ag & Co. Kg | Ventil zur Steuerung von Fluidströmen |
US9995486B2 (en) | 2011-12-15 | 2018-06-12 | Honeywell International Inc. | Gas valve with high/low gas pressure detection |
US9074770B2 (en) | 2011-12-15 | 2015-07-07 | Honeywell International Inc. | Gas valve with electronic valve proving system |
US8947242B2 (en) | 2011-12-15 | 2015-02-03 | Honeywell International Inc. | Gas valve with valve leakage test |
US9846440B2 (en) | 2011-12-15 | 2017-12-19 | Honeywell International Inc. | Valve controller configured to estimate fuel comsumption |
US9557059B2 (en) | 2011-12-15 | 2017-01-31 | Honeywell International Inc | Gas valve with communication link |
US8899264B2 (en) | 2011-12-15 | 2014-12-02 | Honeywell International Inc. | Gas valve with electronic proof of closure system |
US8905063B2 (en) | 2011-12-15 | 2014-12-09 | Honeywell International Inc. | Gas valve with fuel rate monitor |
US9835265B2 (en) | 2011-12-15 | 2017-12-05 | Honeywell International Inc. | Valve with actuator diagnostics |
US8839815B2 (en) | 2011-12-15 | 2014-09-23 | Honeywell International Inc. | Gas valve with electronic cycle counter |
US9851103B2 (en) | 2011-12-15 | 2017-12-26 | Honeywell International Inc. | Gas valve with overpressure diagnostics |
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CN106567953B (zh) * | 2016-11-07 | 2019-04-02 | 武汉船用机械有限责任公司 | 蒸汽调节阀 |
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2001
- 2001-03-02 DE DE50111924T patent/DE50111924D1/de not_active Expired - Lifetime
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- 2001-03-02 EP EP01105069A patent/EP1143176B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-13 US US09/804,970 patent/US6401753B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-27 CZ CZ20011119A patent/CZ20011119A3/cs unknown
- 2001-03-30 JP JP2001097961A patent/JP2001304428A/ja active Pending
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CZ20011119A3 (cs) | 2001-11-14 |
EP1143176A2 (de) | 2001-10-10 |
US20010035219A1 (en) | 2001-11-01 |
ATE352737T1 (de) | 2007-02-15 |
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