|
TWI287530B
(en)
*
|
2003-04-24 |
2007-10-01 |
Mitsui Chemicals Inc |
Coating solutions for forming porous silica
|
|
JP4580674B2
(ja)
*
|
2004-04-13 |
2010-11-17 |
裕子 石栗 |
微細な高純度金属酸化物の製造方法
|
|
JP4781693B2
(ja)
*
|
2004-06-14 |
2011-09-28 |
花王株式会社 |
磁気ディスク基板のナノスクラッチの低減方法
|
|
JP3659965B1
(ja)
*
|
2004-08-06 |
2005-06-15 |
日本化学工業株式会社 |
高純度コロイダルシリカの製造方法
|
|
JP2006104354A
(ja)
*
|
2004-10-06 |
2006-04-20 |
Nippon Chem Ind Co Ltd |
研磨用組成物、その製造方法及び該研磨用組成物を用いる研磨方法
|
|
JP2006202932A
(ja)
*
|
2005-01-20 |
2006-08-03 |
Nippon Chem Ind Co Ltd |
研磨用組成物、その製造方法及び該研磨用組成物を用いる研磨方法
|
|
EP1966410B1
(en)
*
|
2005-09-26 |
2018-12-26 |
Planar Solutions LLC |
Ultrapure colloidal silica for use in chemical mechanical polishing applications
|
|
JP5373250B2
(ja)
*
|
2006-02-07 |
2013-12-18 |
日本化学工業株式会社 |
半導体ウエハ研磨用組成物の製造方法
|
|
JP2008270584A
(ja)
*
|
2007-04-23 |
2008-11-06 |
Nippon Chem Ind Co Ltd |
半導体ウエハ研磨用組成物及び研磨加工方法
|
|
JP2009188058A
(ja)
*
|
2008-02-04 |
2009-08-20 |
Nippon Chem Ind Co Ltd |
半導体ウエハ研磨用コロイダルシリカおよびその製造方法
|
|
TWI579237B
(zh)
*
|
2011-09-16 |
2017-04-21 |
日產化學工業股份有限公司 |
經精製的活性矽酸液及二氧化矽溶膠之製造方法
|
|
TWI681929B
(zh)
|
2011-12-28 |
2020-01-11 |
日揮觸媒化成股份有限公司 |
高純度氧化矽溶膠及其製造方法
|
|
TWI650408B
(zh)
*
|
2012-01-16 |
2019-02-11 |
日商福吉米股份有限公司 |
研磨用組成物，其製造方法，矽基板之製造方法及矽基板
|
|
CN108349741B
(zh)
*
|
2015-10-20 |
2022-02-08 |
日产化学工业株式会社 |
经纯化的硅酸水溶液的制造方法
|
|
JP7505304B2
(ja)
|
2020-07-08 |
2024-06-25 |
三菱ケミカル株式会社 |
シリカ粒子の製造装置、シリカ粒子の製造方法、シリカゾルの製造方法、シリカゾル中の中間生成物の抑制方法及び研磨方法
|
|
KR102657883B1
(ko)
*
|
2021-08-02 |
2024-04-17 |
(주)에이스나노켐 |
규산의 금속 불순물 제거 방법, 고순도 규산 및 고순도 콜로이달 실리카
|
|
KR102650839B1
(ko)
*
|
2021-09-01 |
2024-03-26 |
(주)에이스나노켐 |
고순도 콜로이달 실리카의 제조방법 및 고순도 실리카
|
|
CN113929102B
(zh)
*
|
2021-11-24 |
2023-06-20 |
航天特种材料及工艺技术研究所 |
一种利用螯合原理制备高纯硅酸的方法
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