JP2001288162A - トリチオールおよびその製造方法 - Google Patents
トリチオールおよびその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 低臭気で、取扱い作業性が優れると共に、容
易な合成方法で得ることのできるトリチオール化合物お
よびその製造方法を提供する。 【解決手段】 下記一般式（１）で表わされるトリチオ
ールおよびその製造方法。 【化１】 （式中、 R1、R2は同一又は異なる基であり、かつそれ
は水素原子、炭素数１〜３のアルキル基又はフェニル基
である。またｊ、ｈ、ｍは同一又は異なる１〜３の整数
であり、ｋは０又は１である。）
易な合成方法で得ることのできるトリチオール化合物お
よびその製造方法を提供する。 【解決手段】 下記一般式（１）で表わされるトリチオ
ールおよびその製造方法。 【化１】 （式中、 R1、R2は同一又は異なる基であり、かつそれ
は水素原子、炭素数１〜３のアルキル基又はフェニル基
である。またｊ、ｈ、ｍは同一又は異なる１〜３の整数
であり、ｋは０又は１である。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、低臭気で取扱い易
く、しかも容易に製造することのできるトリチオールお
よびその製造方法に関する。
く、しかも容易に製造することのできるトリチオールお
よびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ポリチオール、またはその重合物は、建
築用のポリサルファイド系シーリング材、含ハロゲンポ
リマーやジエン系ゴムの架橋剤、光学用樹脂などの分野
でその基材として使われてきた。従来から知られている
ポリチオールとしては、エタンジチオール、ジエチレン
チオグリコール、トリエチレンチオグリコール、２，
４，６−トリメルカプト−Ｓ−トリアジン、ペンタエリ
スリトールテトラキス（メルカプトプロピオネート）、
ペンタエリスリトールテトラキス（チオグリコレート）
等が知られている。
築用のポリサルファイド系シーリング材、含ハロゲンポ
リマーやジエン系ゴムの架橋剤、光学用樹脂などの分野
でその基材として使われてきた。従来から知られている
ポリチオールとしては、エタンジチオール、ジエチレン
チオグリコール、トリエチレンチオグリコール、２，
４，６−トリメルカプト−Ｓ−トリアジン、ペンタエリ
スリトールテトラキス（メルカプトプロピオネート）、
ペンタエリスリトールテトラキス（チオグリコレート）
等が知られている。
【０００３】しかし、エタンジチオール、ジエチレンチ
オグリコール、トリエチレンチオグリコールのような二
価のチオールでは臭気が著しいため、取扱い作業性に問
題があり、またポリマー原料として用いる場合には未反
応残留分による臭気の問題があった。また、２，４，６
−トリメルカプト−Ｓ−トリアジンは、固体であるた
め、臭気の問題は少ないが、黄色に着色しているため色
相が問題になる分野では使用に適さないものであった。
オグリコール、トリエチレンチオグリコールのような二
価のチオールでは臭気が著しいため、取扱い作業性に問
題があり、またポリマー原料として用いる場合には未反
応残留分による臭気の問題があった。また、２，４，６
−トリメルカプト−Ｓ−トリアジンは、固体であるた
め、臭気の問題は少ないが、黄色に着色しているため色
相が問題になる分野では使用に適さないものであった。
【０００４】一方、ペンタエリスリトールテトラキス
（メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトール
テトラキス（チオグリコレート）等のチオカルボン酸類
は、臭気は比較的少なく、粘度もある程度あるため、取
扱い作業性の面ではより好ましい化合物である。しか
し、光学用樹脂などより高い屈折率が求められる分野で
は、充分なものではなかった。
（メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトール
テトラキス（チオグリコレート）等のチオカルボン酸類
は、臭気は比較的少なく、粘度もある程度あるため、取
扱い作業性の面ではより好ましい化合物である。しか
し、光学用樹脂などより高い屈折率が求められる分野で
は、充分なものではなかった。
【０００５】最近になってかかる欠点を改良するため、
作業性がより良く、かつ光学特性等に優れたポリチオー
ルの提案がなされている。例えば、特開平２−１５３３
０２号公報では、C(CH2SCH2CH2SH)4が、また特開平２−
２７０８５９号公報では1，2−ビス[(2-メルカプトエチ
ル)チオ]−3−メルカプトプロパンが開示されている。
作業性がより良く、かつ光学特性等に優れたポリチオー
ルの提案がなされている。例えば、特開平２−１５３３
０２号公報では、C(CH2SCH2CH2SH)4が、また特開平２−
２７０８５９号公報では1，2−ビス[(2-メルカプトエチ
ル)チオ]−3−メルカプトプロパンが開示されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
２−１５３３０２号公報や特開平２−２７０８５９号公
報に記載されたポリチオールは、いずれの場合も合成工
程数が多く、また反応物中に含まれる副生物が多いとい
う問題があった。本発明の目的は、前述の従来技術の欠
点を改善して、低臭気で、取扱い作業性が優れると共
に、容易な合成方法で得ることのできるトリチオールお
よびその製造方法を提供することにある。
２−１５３３０２号公報や特開平２−２７０８５９号公
報に記載されたポリチオールは、いずれの場合も合成工
程数が多く、また反応物中に含まれる副生物が多いとい
う問題があった。本発明の目的は、前述の従来技術の欠
点を改善して、低臭気で、取扱い作業性が優れると共
に、容易な合成方法で得ることのできるトリチオールお
よびその製造方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】第１の発明は、下記一般
式（１）
式（１）
【０００８】
【化２】 （式中、 R1、R2は同一又は異なる基であり、かつそれ
は水素原子、炭素数１〜３のアルキル基又はフェニル基
である。またｊ、ｈ、ｍは同一又は異なる１〜３の整数
であり、ｋは０又は１である。）で表わされるトリチオ
ールである。
は水素原子、炭素数１〜３のアルキル基又はフェニル基
である。またｊ、ｈ、ｍは同一又は異なる１〜３の整数
であり、ｋは０又は１である。）で表わされるトリチオ
ールである。
【０００９】第２の発明は、不飽和アルデヒド又は不飽
和ケトンとジチオールとから触媒存在下または使用せず
に反応させるトリチオールの製造方法において、不飽和
アルデヒドないし不飽和ケトンが下記一般式（２） Ｒ3−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−Ｒ4 ・…（２） （式中、 R3、R4は同一もしくは異なる基であり、かつ
それは水素原子、炭素数１〜３のアルキル基又はフェニ
ル基である。）で表されるものであり、かつジチオール
が下記一般式（３） ＨＳ（ＣＨ2ＣＨ2Ｓ）nＨ ・…（３） （ｎは１〜３の整数である。）で表されるものであるこ
とを特徴とする第１の発明のトリチオールの製造方法で
ある。
和ケトンとジチオールとから触媒存在下または使用せず
に反応させるトリチオールの製造方法において、不飽和
アルデヒドないし不飽和ケトンが下記一般式（２） Ｒ3−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−Ｒ4 ・…（２） （式中、 R3、R4は同一もしくは異なる基であり、かつ
それは水素原子、炭素数１〜３のアルキル基又はフェニ
ル基である。）で表されるものであり、かつジチオール
が下記一般式（３） ＨＳ（ＣＨ2ＣＨ2Ｓ）nＨ ・…（３） （ｎは１〜３の整数である。）で表されるものであるこ
とを特徴とする第１の発明のトリチオールの製造方法で
ある。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の一般式（１）で表される
トリチオールにおいて、式中、 R1、R2は同一もしくは
異なる基であり、かつそれは水素原子、炭素数１〜３の
アルキル基又はフェニル基である。アルキル基の炭素数
が４以上になると合成収率が低下する。またｊ、ｈ、ｍ
は同一又は異なる１〜３の整数であり、ｋは０又は１で
ある。ｊ、ｈ、ｍが４以上になると原料のジチオールの
合成が難しくなる。
トリチオールにおいて、式中、 R1、R2は同一もしくは
異なる基であり、かつそれは水素原子、炭素数１〜３の
アルキル基又はフェニル基である。アルキル基の炭素数
が４以上になると合成収率が低下する。またｊ、ｈ、ｍ
は同一又は異なる１〜３の整数であり、ｋは０又は１で
ある。ｊ、ｈ、ｍが４以上になると原料のジチオールの
合成が難しくなる。
【００１１】前記トリチオールとして具体的には、次の
ようなものが挙げられる。HSCH2CH2SCH2CH2CH(SCH2CH2S
H)2、HSCH2CH2SCH(CH3)CH(SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH2C
H2SCH2CH2CH(SCH2CH2SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH2CH2SCH
(CH3)CH(SCH2CH2SCH 2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH2CH2SCH2CH2
SCH2CH2CH(SCH2CH2SCH2CH2SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH2C
H2SCH2CH2SCH(CH3)CH(SCH2CH2SCH2CH2SCH2CH2SH)2、HSC
H2CH2SCH2CH2C(CH3)(SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH(CH3)C
(CH3)(SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH2CH2SCH2CH2C(CH3)(SC
H2CH2SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH2CH2SCH(CH3)C(CH3)(SC
H2CH2SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH2CH2SCH2CH2SCH2CH2C(C
H3)(SCH2CH2SCH2CH2SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH2CH2SCH2
CH2SCH(CH3)C(CH3)(SCH2CH2SCH2CH2SCH2CH2SH)2、HSCH2
CH2SCH(CH3)CH2CH(SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH(CH2CH3)C
H(SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH2CH2SCH(CH3)CH2CH(SCH2CH
2SCH2CH2SH )2、HSCH2CH2SCH2CH2SCH(CH2CH3)CH(SCH2CH
2SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH2CH2SCH2CH2SCH(CH3)CH2CH
(SCH2CH2SCH2CH2SCH 2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH2CH2SCH2CH2
SCH(CH2CH3)CH(SCH2CH2SCH2CH2SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2S
CH(C6H5)CH2CH(SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH(CH2C6H5)CH
(SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH2CH2SCH(C6H5)CH2CH(SCH2CH
2SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH2CH2SCH(CH2C6H5)CH(SCH2CH
2SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH2CH2SCH2CH2SCH(C6H5)CH2CH
(SCH2CH2SCH2CH2SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH2CH2SCH2CH2
SCH(CH2C6H5)CH(SCH2CH2SCH2CH 2SCH2CH2SH)2。
ようなものが挙げられる。HSCH2CH2SCH2CH2CH(SCH2CH2S
H)2、HSCH2CH2SCH(CH3)CH(SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH2C
H2SCH2CH2CH(SCH2CH2SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH2CH2SCH
(CH3)CH(SCH2CH2SCH 2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH2CH2SCH2CH2
SCH2CH2CH(SCH2CH2SCH2CH2SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH2C
H2SCH2CH2SCH(CH3)CH(SCH2CH2SCH2CH2SCH2CH2SH)2、HSC
H2CH2SCH2CH2C(CH3)(SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH(CH3)C
(CH3)(SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH2CH2SCH2CH2C(CH3)(SC
H2CH2SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH2CH2SCH(CH3)C(CH3)(SC
H2CH2SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH2CH2SCH2CH2SCH2CH2C(C
H3)(SCH2CH2SCH2CH2SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH2CH2SCH2
CH2SCH(CH3)C(CH3)(SCH2CH2SCH2CH2SCH2CH2SH)2、HSCH2
CH2SCH(CH3)CH2CH(SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH(CH2CH3)C
H(SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH2CH2SCH(CH3)CH2CH(SCH2CH
2SCH2CH2SH )2、HSCH2CH2SCH2CH2SCH(CH2CH3)CH(SCH2CH
2SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH2CH2SCH2CH2SCH(CH3)CH2CH
(SCH2CH2SCH2CH2SCH 2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH2CH2SCH2CH2
SCH(CH2CH3)CH(SCH2CH2SCH2CH2SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2S
CH(C6H5)CH2CH(SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH(CH2C6H5)CH
(SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH2CH2SCH(C6H5)CH2CH(SCH2CH
2SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH2CH2SCH(CH2C6H5)CH(SCH2CH
2SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH2CH2SCH2CH2SCH(C6H5)CH2CH
(SCH2CH2SCH2CH2SCH2CH2SH)2、HSCH2CH2SCH2CH2SCH2CH2
SCH(CH2C6H5)CH(SCH2CH2SCH2CH 2SCH2CH2SH)2。
【００１２】本発明の一般式（１）で表されるトリチオ
ールの製造法は、一般式（２）で表される不飽和アルデ
ヒドないし不飽和ケトンと、一般式(3)で表されるジチ
オールの１種又は２種以上の混合物とを原料として合成
される。前記不飽和アルデヒドないし不飽和ケトンとし
ては、例えばアクロレイン、クロトンアルデヒド、桂皮
アルデヒド、メチルビニルケトンが挙げられる。また前
記ジチオールとしてはエタンジチオール、２，２'−チ
オジエタンチオール、ジメルカプトトリエチレンジスル
フィド等が挙げられる。不飽和アルデヒドないし不飽和
ケトンとジチオールとの反応比率は、前記不飽和アルデ
ヒドないし不飽和ケトン１モルに対してジチオールが通
常２〜１０モル、好ましくは2．5〜６モルの範囲であ
る。
ールの製造法は、一般式（２）で表される不飽和アルデ
ヒドないし不飽和ケトンと、一般式(3)で表されるジチ
オールの１種又は２種以上の混合物とを原料として合成
される。前記不飽和アルデヒドないし不飽和ケトンとし
ては、例えばアクロレイン、クロトンアルデヒド、桂皮
アルデヒド、メチルビニルケトンが挙げられる。また前
記ジチオールとしてはエタンジチオール、２，２'−チ
オジエタンチオール、ジメルカプトトリエチレンジスル
フィド等が挙げられる。不飽和アルデヒドないし不飽和
ケトンとジチオールとの反応比率は、前記不飽和アルデ
ヒドないし不飽和ケトン１モルに対してジチオールが通
常２〜１０モル、好ましくは2．5〜６モルの範囲であ
る。
【００１３】前記反応は、無触媒で行うこともできる
が、触媒を使用する方がより有効であり、チオール基の
不飽和基への付加反応またはカルボニル基のチオケター
ル化反応によって目的のトリチオールを得ることができ
る。前記触媒としては、酸触媒、塩基触媒、またはラジ
カル発生剤が使用される。
が、触媒を使用する方がより有効であり、チオール基の
不飽和基への付加反応またはカルボニル基のチオケター
ル化反応によって目的のトリチオールを得ることができ
る。前記触媒としては、酸触媒、塩基触媒、またはラジ
カル発生剤が使用される。
【００１４】酸触媒としては、例えば、塩酸、硫酸、ｐ
−トルエンスルフォン酸、メタンスルフォン酸、酢酸、
メタクリル酸、アクリル酸、酸型イオン交換樹脂、塩化
アルミニウム、塩化チタン、塩化スズ等が挙げられ、こ
れらの中の１種ないし２種以上を混合して用いることが
できる。
−トルエンスルフォン酸、メタンスルフォン酸、酢酸、
メタクリル酸、アクリル酸、酸型イオン交換樹脂、塩化
アルミニウム、塩化チタン、塩化スズ等が挙げられ、こ
れらの中の１種ないし２種以上を混合して用いることが
できる。
【００１５】塩基触媒としては、例えば、トリエチルア
ミン、モルホリン、ジエチルアミン、ピペリジン、ピリ
ジン、トリエチレンジアミン、１，８−ジアザビシクロ
（５，４，０）ウンデセン−７、１，８−ジアザビシク
ロ（５，４，０）ウンデセン−７塩等のアミン類やナト
リウムメトキシド、ナトリウムブトキシド等が挙げら
れ、これらの中の１種ないし２種以上を混合して用いる
ことができる。酸触媒ないし塩基触媒の使用量は、触媒
種、反応温度によっても異なるが、通常１０重量％以
下、好ましくは０．０００５〜５重量％の範囲である。
ミン、モルホリン、ジエチルアミン、ピペリジン、ピリ
ジン、トリエチレンジアミン、１，８−ジアザビシクロ
（５，４，０）ウンデセン−７、１，８−ジアザビシク
ロ（５，４，０）ウンデセン−７塩等のアミン類やナト
リウムメトキシド、ナトリウムブトキシド等が挙げら
れ、これらの中の１種ないし２種以上を混合して用いる
ことができる。酸触媒ないし塩基触媒の使用量は、触媒
種、反応温度によっても異なるが、通常１０重量％以
下、好ましくは０．０００５〜５重量％の範囲である。
【００１６】前記ラジカル発生剤としては、例えば過酸
化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、ジイソプロピルジカ
ーボネート、ｔ−ブチルペルオキシー２ーエチルヘキサ
ノエート、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、ｔ−ペル
オキシジイソブチレート、アゾビスイソブチロニトリ
ル、アゾビスジメチルバレロニトリル等が挙げられ、こ
れらの中の１種ないし２種以上を混合して用いることも
できる。また、ラジカル発生剤は触媒として単独使用し
ても良いが、前記酸ないし塩基触媒と併用使用すること
もできる。ラジカル発生剤の使用量は、原料組成物に対
して通常１０重量％以下、好ましくは０．０１〜５重量
％の範囲である。
化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、ジイソプロピルジカ
ーボネート、ｔ−ブチルペルオキシー２ーエチルヘキサ
ノエート、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、ｔ−ペル
オキシジイソブチレート、アゾビスイソブチロニトリ
ル、アゾビスジメチルバレロニトリル等が挙げられ、こ
れらの中の１種ないし２種以上を混合して用いることも
できる。また、ラジカル発生剤は触媒として単独使用し
ても良いが、前記酸ないし塩基触媒と併用使用すること
もできる。ラジカル発生剤の使用量は、原料組成物に対
して通常１０重量％以下、好ましくは０．０１〜５重量
％の範囲である。
【００１７】本発明のトリチオールの製造方法では、必
要に応じてベンゼン、トルエン、クロロホルム、塩化メ
チレン等の有機溶媒を総原料に対して通常３００重量％
以下、好ましくは２０〜２００重量％の範囲で用いても
差し支えない。
要に応じてベンゼン、トルエン、クロロホルム、塩化メ
チレン等の有機溶媒を総原料に対して通常３００重量％
以下、好ましくは２０〜２００重量％の範囲で用いても
差し支えない。
【００１８】本発明のトリチオールの製造方法における
反応条件としては、反応温度が通常−３０〜１００℃、
好ましくは−１０〜８０℃の範囲であり、反応時間が通
常０．０５〜２４時間、好ましくは０．１〜６時間の範
囲である。反応は、空気ないし不活性ガスのいずれの雰
囲気下でも実施できるが、チオールの酸素による変性を
防ぐ目的で不活性ガス気流下で行うことが好ましい。
反応条件としては、反応温度が通常−３０〜１００℃、
好ましくは−１０〜８０℃の範囲であり、反応時間が通
常０．０５〜２４時間、好ましくは０．１〜６時間の範
囲である。反応は、空気ないし不活性ガスのいずれの雰
囲気下でも実施できるが、チオールの酸素による変性を
防ぐ目的で不活性ガス気流下で行うことが好ましい。
【００１９】反応終了後、無触媒の場合は反応物を蒸
留、溶媒抽出、カラムクロマト等の方法により未反応原
料や溶媒を除去・精製して目的物を得ることができる。
また触媒を用いる場合は中和洗浄、酸性吸着剤または塩
基性吸着剤などで反応物中の触媒を除去した後、無触媒
の場合と同様な方法で精製する。
留、溶媒抽出、カラムクロマト等の方法により未反応原
料や溶媒を除去・精製して目的物を得ることができる。
また触媒を用いる場合は中和洗浄、酸性吸着剤または塩
基性吸着剤などで反応物中の触媒を除去した後、無触媒
の場合と同様な方法で精製する。
【００２０】
【発明の効果】本発明のトリチオールおよびその製造方
法によれば、低臭気で、取り扱い易いポリチオールが提
供されるため、建築用シーリング材、含ハロゲンポリマ
ーやジエン系ゴムの架橋剤、光学用樹脂などの原料とし
て有用である。また、複雑な工程がなく１段階で容易に
製造することができる。
法によれば、低臭気で、取り扱い易いポリチオールが提
供されるため、建築用シーリング材、含ハロゲンポリマ
ーやジエン系ゴムの架橋剤、光学用樹脂などの原料とし
て有用である。また、複雑な工程がなく１段階で容易に
製造することができる。
【００２１】
【実施例】以下、本発明を参考例および実施例により詳
細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。 実施例１ 温度計、滴下ロート、攪拌機を備えた２００ｃｃの四つ
口フラスコ中に２，２'−チオジエタンチオール０．９
モルを仕込み、２０℃に保ちながら１時間窒素置換した
後、アクロレイン０．３モルを滴下ロートより１時間か
けて室温で滴下した。さらに６０℃で１０時間反応させ
た後、メタノール洗浄、そして脱メタノールの精製処理
を行った。収率は７５％であった。
細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。 実施例１ 温度計、滴下ロート、攪拌機を備えた２００ｃｃの四つ
口フラスコ中に２，２'−チオジエタンチオール０．９
モルを仕込み、２０℃に保ちながら１時間窒素置換した
後、アクロレイン０．３モルを滴下ロートより１時間か
けて室温で滴下した。さらに６０℃で１０時間反応させ
た後、メタノール洗浄、そして脱メタノールの精製処理
を行った。収率は７５％であった。
【００２２】得られた化合物の赤外吸収スペクトル分析
によりアクロレインに見られる１６１０ｃｍ-1（ＣＨ2
＝ＣＨ−に基づく特性吸収スペクトル）の消失、１７０
０ｃｍ-1（−ＨＣ＝Ｏに基づくＣ＝Ｏ特性吸収スペクト
ル）の消失が確認され、２５４５ｃｍ-1（−ＳＨに基づ
く特性吸収スペクトル）の存在が確認された。また、H
−NMRでは、アクロレインに見られる９．４５〜９．６
０ppm（−ＨＣ＝Ｏのメチンプロトン）、５．９〜６．
９ppm（ＣＨ2＝ＣＨ−のメチンおよびメチレンプロト
ン）が消失しており、２．６〜３．０ppm（−ＳＣＨ2Ｃ
Ｈ2Ｓ−のメチレンプロトン）、新しく３．７ppm（Ｓ−
ＣＨ−Ｓのメチンプロトン）が確認された。
によりアクロレインに見られる１６１０ｃｍ-1（ＣＨ2
＝ＣＨ−に基づく特性吸収スペクトル）の消失、１７０
０ｃｍ-1（−ＨＣ＝Ｏに基づくＣ＝Ｏ特性吸収スペクト
ル）の消失が確認され、２５４５ｃｍ-1（−ＳＨに基づ
く特性吸収スペクトル）の存在が確認された。また、H
−NMRでは、アクロレインに見られる９．４５〜９．６
０ppm（−ＨＣ＝Ｏのメチンプロトン）、５．９〜６．
９ppm（ＣＨ2＝ＣＨ−のメチンおよびメチレンプロト
ン）が消失しており、２．６〜３．０ppm（−ＳＣＨ2Ｃ
Ｈ2Ｓ−のメチレンプロトン）、新しく３．７ppm（Ｓ−
ＣＨ−Ｓのメチンプロトン）が確認された。
【００２３】さらに、GPCにより分子量が５０１である
と確認した。以上の結果から、反応により得られた化合
物を以下の通り推定した。 HSCH2CH2SCH2CH2SCH2CH2CH(SCH2CH2SCH2CH2SH)2
と確認した。以上の結果から、反応により得られた化合
物を以下の通り推定した。 HSCH2CH2SCH2CH2SCH2CH2CH(SCH2CH2SCH2CH2SH)2
【００２４】実施例２ アクロレインの代わりにメチルビニルケトンを原料とし
て用い、触媒として３５％塩酸５gを用いること以外は
実施例１と全く同様に行った。収率は７９％であった。
得られた化合物の赤外吸収スペクトル分析によりメチル
ビニルケトンに見られる１６０５ｃｍ-1（ＣＨ2＝ＣＨ
−に基づく特性吸収スペクトル）の消失、１７００ｃｍ
-1（−Ｃ＝Ｏに基づく特性吸収スペクトル）の消失が確
認され、２５４３ｃｍ-1（−ＳＨに基づく特性吸収スペ
クトル）の存在が確認された。
て用い、触媒として３５％塩酸５gを用いること以外は
実施例１と全く同様に行った。収率は７９％であった。
得られた化合物の赤外吸収スペクトル分析によりメチル
ビニルケトンに見られる１６０５ｃｍ-1（ＣＨ2＝ＣＨ
−に基づく特性吸収スペクトル）の消失、１７００ｃｍ
-1（−Ｃ＝Ｏに基づく特性吸収スペクトル）の消失が確
認され、２５４３ｃｍ-1（−ＳＨに基づく特性吸収スペ
クトル）の存在が確認された。
【００２５】また、H−NMRでは、メチルビニルケトンに
見られる５．８〜６．５ppm（ＣＨ2＝ＣＨ−のメチンお
よびメチレンプロトン）が消失しており、２．６〜３．
０ppmには（−ＳＣＨ2ＣＨ2Ｓ−のメチレンプロト
ン）、新しく３．５ppmに（−ＣＨ（ＣＨ3）Ｃ（Ｃ
Ｈ3）のメチンプロトン）が確認された。さらに、GPCに
より分子量が５１５であると確認した。以上の結果か
ら、反応により得られた化合物を以下の通り推定した。 HSCH2CH2SCH2CH2SCH(CH3)C(CH3)(SCH2CH2SCH2CH2SH)2
見られる５．８〜６．５ppm（ＣＨ2＝ＣＨ−のメチンお
よびメチレンプロトン）が消失しており、２．６〜３．
０ppmには（−ＳＣＨ2ＣＨ2Ｓ−のメチレンプロト
ン）、新しく３．５ppmに（−ＣＨ（ＣＨ3）Ｃ（Ｃ
Ｈ3）のメチンプロトン）が確認された。さらに、GPCに
より分子量が５１５であると確認した。以上の結果か
ら、反応により得られた化合物を以下の通り推定した。 HSCH2CH2SCH2CH2SCH(CH3)C(CH3)(SCH2CH2SCH2CH2SH)2
【００２６】実施例３ 不飽和アルデヒドとして桂皮アルデヒド、触媒としてモ
ルホリン１g、溶媒としてベンゼン５０ccを用いた以外
は実施例１と全く同様に反応させ、反応を終了させた。
その後、中和洗浄、溶媒除去を行い、さらにメタノール
により精製を行った。収率は、６３％であった。得られ
た化合物の赤外吸収スペクトル分析により桂皮アルデヒ
ドに見られる２７５０、２８００ｃｍ-1（−ＣＨ＝Ｏに
基づくＣＨ特性吸収スペクトル）の消失、１６８０ｃｍ
-1（−ＨＣ＝Ｏに基づくＣ＝Ｏ特性吸収スペクトル）の
消失が確認され、２５４６ｃｍ-1（ＳＨ特性吸収スペク
トル）、１４００〜１６００cm-1付近にはフェニル基特
性吸収スペクトルの存在が確認された。
ルホリン１g、溶媒としてベンゼン５０ccを用いた以外
は実施例１と全く同様に反応させ、反応を終了させた。
その後、中和洗浄、溶媒除去を行い、さらにメタノール
により精製を行った。収率は、６３％であった。得られ
た化合物の赤外吸収スペクトル分析により桂皮アルデヒ
ドに見られる２７５０、２８００ｃｍ-1（−ＣＨ＝Ｏに
基づくＣＨ特性吸収スペクトル）の消失、１６８０ｃｍ
-1（−ＨＣ＝Ｏに基づくＣ＝Ｏ特性吸収スペクトル）の
消失が確認され、２５４６ｃｍ-1（ＳＨ特性吸収スペク
トル）、１４００〜１６００cm-1付近にはフェニル基特
性吸収スペクトルの存在が確認された。
【００２７】また、H−NMRでは、桂皮アルデヒドに見ら
れる９．５ppm（−ＣＨ＝Ｏのメチンプロトン）が消失
しており、２．６〜３．０ppm（−ＳＣＨ2ＣＨ2Ｓ−の
メチレンプロトン）、７．３ppm（フェニル基のメチン
プロトン）が、新しく１．５〜２．２ppm（−CH(CH2C6H
5)のメチンプロトン）、２．４〜２．６ppm（−CH(CH 2C
6H5)−のメチレンプロトン）が確認された。さらに、GP
Cにより分子量が５６３であると確認した。以上の結果
から、反応により得られた化合物を以下の通り推定し
た。 HSCH2CH2SCH2CH2SCH(CH2C6H5)CH(SCH2CH2SCH2CH2SH)2
れる９．５ppm（−ＣＨ＝Ｏのメチンプロトン）が消失
しており、２．６〜３．０ppm（−ＳＣＨ2ＣＨ2Ｓ−の
メチレンプロトン）、７．３ppm（フェニル基のメチン
プロトン）が、新しく１．５〜２．２ppm（−CH(CH2C6H
5)のメチンプロトン）、２．４〜２．６ppm（−CH(CH 2C
6H5)−のメチレンプロトン）が確認された。さらに、GP
Cにより分子量が５６３であると確認した。以上の結果
から、反応により得られた化合物を以下の通り推定し
た。 HSCH2CH2SCH2CH2SCH(CH2C6H5)CH(SCH2CH2SCH2CH2SH)2
【００２８】実施例４ ジチオールとしてエタンジチオールを原料として、触媒
として酸性イオン交換樹脂5gを用いた以外実施例１と全
く同様に反応させ、触媒をろ過除去した後メタノールに
よる精製を行った。収率は87％であった。得られた化合
物の赤外吸収スペクトル分析により1610ｃｍ-1（−ＣＨ
2＝ＣＨ−に基づく特性吸収スペクトル）の消失、1700
ｃｍ-1（−ＨＣ＝Ｏに基づくＣ＝Ｏ特性吸収スペクト
ル）の消失が確認され、2546ｃｍ-1（−ＳＨ特性吸収ス
ペクトル）の存在が確認された。
として酸性イオン交換樹脂5gを用いた以外実施例１と全
く同様に反応させ、触媒をろ過除去した後メタノールに
よる精製を行った。収率は87％であった。得られた化合
物の赤外吸収スペクトル分析により1610ｃｍ-1（−ＣＨ
2＝ＣＨ−に基づく特性吸収スペクトル）の消失、1700
ｃｍ-1（−ＨＣ＝Ｏに基づくＣ＝Ｏ特性吸収スペクト
ル）の消失が確認され、2546ｃｍ-1（−ＳＨ特性吸収ス
ペクトル）の存在が確認された。
【００２９】また、H−NMRでは、アクロレインに見られ
る９．４５〜９．６０ppm（−ＣＨ＝Ｏのメチンプロト
ン）、５．９〜６．９ppm（ＣＨ2＝ＣＨ−のメチンおよ
びメチレンプロトン）が消失しており、２．５〜３．１
ppm（−ＳＣＨ2ＣＨ2Ｓ−のメチレンプロトン）、新し
く３．６ppmに（Ｓ−ＣＨ−Ｓのメチンプロトン）が確
認された。さらに、GPCにより分子量が３２１であると
確認した。以上の結果から、反応により得られた化合物
を以下の通り推定した。 HSCH2CH2SCH(CH3)CH(SCH2CH2SH)2
る９．４５〜９．６０ppm（−ＣＨ＝Ｏのメチンプロト
ン）、５．９〜６．９ppm（ＣＨ2＝ＣＨ−のメチンおよ
びメチレンプロトン）が消失しており、２．５〜３．１
ppm（−ＳＣＨ2ＣＨ2Ｓ−のメチレンプロトン）、新し
く３．６ppmに（Ｓ−ＣＨ−Ｓのメチンプロトン）が確
認された。さらに、GPCにより分子量が３２１であると
確認した。以上の結果から、反応により得られた化合物
を以下の通り推定した。 HSCH2CH2SCH(CH3)CH(SCH2CH2SH)2
【００３０】実施例１〜4の各トリチオールは、各原料
のジチオールから容易に合成できる上、原料のジチオー
ルに比較してより低臭気の化合物になっており、種々の
工業用途で使用されるポリチオールとして有用である。
のジチオールから容易に合成できる上、原料のジチオー
ルに比較してより低臭気の化合物になっており、種々の
工業用途で使用されるポリチオールとして有用である。
Claims (2)
- 【請求項１】 下記一般式（１） 【化１】 （式中、 R1、R2は同一又は異なる基であり、かつそれ
は水素原子、炭素数１〜３のアルキル基又はフェニル基
である。またｊ、ｈ、ｍは同一又は異なる１〜３の整数
であり、ｋは０又は１である。）で表わされるトリチオ
ール。 - 【請求項２】 不飽和アルデヒド又は不飽和ケトンとジ
チオールとから触媒存在下または使用せずに反応させる
トリチオールの製造方法において、不飽和アルデヒドな
いし不飽和ケトンが下記一般式（２） Ｒ3−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−Ｒ4 ・…（２） （式中、 R3、R4は同一もしくは異なる基であり、かつ
それは水素原子、炭素数１〜３のアルキル基又はフェニ
ル基である。）で表されるものであり、かつジチオール
が下記一般式（３） ＨＳ（ＣＨ2ＣＨ2Ｓ）nＨ ・…（３） （ｎは１〜３の整数である。）で表されるものであるこ
とを特徴とするトリチオールの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000100371A JP2001288162A (ja) | 2000-04-03 | 2000-04-03 | トリチオールおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000100371A JP2001288162A (ja) | 2000-04-03 | 2000-04-03 | トリチオールおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001288162A true JP2001288162A (ja) | 2001-10-16 |
Family
ID=18614591
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000100371A Pending JP2001288162A (ja) | 2000-04-03 | 2000-04-03 | トリチオールおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001288162A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003089488A1 (fr) * | 2002-04-19 | 2003-10-30 | Mitsui Chemicals, Inc. | Materiau optique a base de thio-urethane |
-
2000
- 2000-04-03 JP JP2000100371A patent/JP2001288162A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003089488A1 (fr) * | 2002-04-19 | 2003-10-30 | Mitsui Chemicals, Inc. | Materiau optique a base de thio-urethane |
| US7244808B2 (en) | 2002-04-19 | 2007-07-17 | Mitsui Chemicals, Inc. | Thiourethane-based optical material |
| CN100343299C (zh) * | 2002-04-19 | 2007-10-17 | 三井化学株式会社 | 硫代氨基甲酸乙酯系光学材料 |
| US7396900B2 (en) | 2002-04-19 | 2008-07-08 | Mitsui Chemicals, Inc. | Thiourethane-based optical material |
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