JP2001287460A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 波長３００〜５００ｎｍおよび／または５０
０〜７００ｎｍのレーザーで良好な記録および再生が可
能な追記型光記録媒体を提供する。 【解決手段】 基板上に記録層として有機色素層を有す
る光記録媒体において、該有機色素層中に、下記一般式
（１）で示される化合物を含有する光記録媒体。 【化１】 〔式中、環Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄはそれぞれ独立に置換基を有
していてもよいピロール環を表し、Ｘ、Ｙはそれぞれ独
立に置換基を有していてもよいメチン基を表し、Ｍは２
価の金属原子を表し、Ｗ¹、Ｗ²はそれぞれ独立に、金属
原子Ｍに配位した置換基を有していてもよい含窒素芳香
族化合物を表す。〕

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体に関す
るものであり、特に青色および／または赤色レーザー光
により情報を記録・再生可能な追記型光記録媒体に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】コンパクトディスク（以下、ＣＤと略
す）規格に対応した追記型光記録媒体としてＣＤ−Ｒ
（ＣＤ−Ｒｅｃｏｒｄａｂｌｅ）が提案・開発されてい
ることは公知であり、音楽再生用や情報端末用として広
く普及している。

【０００３】この光記録媒体の記録・再生には一般に７
７０ｎｍ〜８３０ｎｍの近赤外半導体レーザーを用いて
おり、基板上の有機色素等からなる記録層に、ヒートモ
ードで信号記録が行われる。すなわち、記録層にレーザ
ー光が照射されると、有機色素は光吸収により熱を発生
し、この発生した熱により記録層にピットが形成され
る。そして、記録信号は、レーザー光を照射したとき
の、当該ピットが形成された部分とされていない部分と
の反射率の違いによって検知される。

【０００４】そして、レッドブックやオレンジブック等
のＣＤの規格に準拠しているため、ＣＤプレーヤーやＣ
Ｄ−ＲＯＭプレーヤーと互換性を有するという特徴を有
する。しかし上記の既存媒体の記録容量は６８０ＭＢ程
度であり、動画の記録を考慮すると容量が十分でなく、
情報量の飛躍的増加に伴い、情報記録媒体に対する高密
度化・大容量化の要求が高まっている。

【０００５】記録媒体の高密度化を行う手段としては、
記録・再生に用いるレーザー波長の短波長化及び対物レ
ンズの開口数（Ｎ．Ａ．：Numerical Aperture）を大き
くすることにより、ビームスポットを小さくすることが
挙げられる。そして、光ディスクシステムに利用される
波長６８０ｎｍ、６６０ｎｍ、６５０ｎｍ、６３５ｎｍ
等の短波長レーザーが実用化されてきた。こうして半導
体レーザーの短波長化、対物レンズの開口数大化、デー
タ圧縮技術等により、動画を長時間記録できる大容量の
光記録媒体の作成が可能となり、そこで上記レーザーに
対応した追記型光記録媒体として開発されたのが、２時
間以上の動画を記録可能な追記型のデジタルビデオディ
スク（以下、ＤＶＤ−Ｒと略す）である。ＤＶＤ−Ｒ
は、３．９ＧＢあるいは４．７ＧＢの記録容量を有する
一度書き込み可能な光記録媒体であり、この容量に合っ
た記録特性良好な光ディスクの開発が更に要望されてい
る。その際に用いられている赤色レーザーの波長は、５
５０ｎｍ〜７００ｎｍ、好ましくは６３５ｎｍ〜６６０
ｎｍ前後であり、この状況の中で提案されている光記録
媒体としては、光磁気記録媒体、相変化記録媒体、カル
コゲン酸化物系光記録媒体、有機色素系光記録媒体等が
ある。これらの中で、安価かつプロセス上容易であると
いう点で、有機色素系光記録媒体は優位性を有すると考
えられる。

【０００６】さらに、将来的にはより高密度な記録が求
められることが予想され、その情報量は１５〜３０ＧＢ
と要望されている。その記録密度を実現する為の手段と
して、より波長の短いレーザーを使用することは避けら
れない。従って、将来の有機色素系光記録媒体に用いる
記録用色素としては、３００ｎｍ〜５００ｎｍの波長範
囲において良好な記録特性を有する色素が望まれる。

【０００７】その一方で、ここ近年、青色レーザーとし
てＧａＮ系材料を用いた４１０ｎｍのレーザーや、半導
体レーザーと光導波路素子の組合せによる波長４２５ｎ
ｍのＳＨＧレーザーが開発されてきており〔例えば、日
経エレクトロニクス Ｎｏ．７０８、ｐ．１１７、１９
９８年１月２６日号〕、このようなレーザーに合わせた
青色半導体レーザー対応色素の開発が、現在展開されて
いる。

【０００８】現在まで、４００ｎｍ〜５００ｎｍの青色
レーザーで記録できる色素として、例えば、特開平４−
７４６９０号公報および特開平６−４０１６１号公報記
載のシアニン系色素化合物や、特開平７−３０４２５６
号公報および特開平８−１２７１７４号公報に記載のポ
ルフィリン系色素化合物の他、特開平４−７８５７６号
公報および特開平４−８９２７９号公報記載のポリエン
系色素化合物等が挙げられる。

【０００９】また、記録層形成用の有機色素としてポル
フィリン系色素やシアニン系色素等を主とする記録層お
よび銀を主体とする金属反射層の２層が構成された特開
平１１−５３７５８号公報に記載の光記録媒体や、媒体
構成に工夫したものとして、青色レーザーに感応するシ
アニン系色素を含有した青色レーザー感応色素層ならび
に赤色レーザー感応色素層を有することで、２波長領域
の記録を可能とする特開平１１−２０３７２９号公報記
載の光記録媒体や、青色レーザー用色素および赤色レー
ザー用色素の２種の色素を混合することで２波長領域の
記録を可能とするインジゴイド系色素化合物を用いた特
開平１１−７８２３９号公報記載の光記録媒体、シアノ
エテン系色素を用いた特開平１１−１０５４２３号公報
記載の光記録媒体、スクアリリウム系色素化合物を用い
た特開平１１−１１０８１５号公報記載の光記録媒体な
どが提案されている。

【００１０】更には、両方の波長領域レーザーに対して
記録可能な光記録媒体として、特開平１１−１０１９５
３号公報、特開平１１−１４４３１２号公報に記載のテ
トラアザポルフィリン系色素化合物を用いた光記録媒体
等がある。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】最近の状況として、波
長４００ｎｍ〜４１０ｎｍの青紫色半導体レーザーの実
用化に目処がついたことで、該レーザーを用いた大容量
追記型光記録媒体が盛んに開発され、特に高耐光性や良
好な高速記録特性を有する色素の開発が望まれている。

【００１２】しかしながら、前述の青色半導体レーザー
用光記録媒体では波長４００ｎｍ〜４１０ｎｍのレーザ
ー光に対して十分に適応していないのが実情である。す
なわち、前述の有機色素を使用した媒体では、記録した
信号の再生について、信号と雑音の比（Ｃ／Ｎ）が必ず
しも良好な値でないために、信号の読み出しが必ずしも
満足に行えないなどの問題を我々は見い出した。この問
題を克服し、波長４００ｎｍ〜４１０ｎｍのレーザー光
で高密度記録・再生可能な光記録媒体の開発が急務とな
っていた。さらに、デジタル動画像の記録再生用媒体と
して要望の強い４．７ＧＢ容量ＤＶＤ−Ｒに対応する場
合には、該媒体の記録層中に、レーザー波長６３５ｎｍ
〜６６０ｎｍに感応する有機色素を有することが必須で
ある。そのためには上述の青色レーザー波長専用の記録
用色素のみでは目的を達しえない。

【００１３】さらには、青色レーザー波長領域ならびに
赤色レーザー波長領域の２波長領域での記録・再生が可
能な特開平１１−２０３７２９号公報記載の光記録媒体
は記録層を多層とすること、特開平１１−７８２３９号
公報、特開平１１−１０５４２３号公報、特開平１１−
１１０８１５号公報記載の光記録媒体は、記録用色素を
必ず２種以上用いなければならないなど媒体作製が煩雑
であり、記録特性も未だ改善の余地がある。また、特開
平１１−１０１９５３号公報および特開平１１−１４４
３１２号公報に記載の光記録媒体は、４００ｎｍ〜４１
０ｎｍおよび６３５ｎｍ〜６６０ｎｍの双方の波長範囲
から選択される各々のレーザー光での記録再生について
は未だ最適化には至っていないのが現状である。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。すなわち、本発明は、基板上に記録層として
有機色素層を有する光記録媒体において、該有機色素
層中に下記一般式（１）で示される化合物を少なくとも
１種含有する光記録媒体、および波長３００ｎｍ〜５
００ｎｍおよび／または５００ｎｍ〜７００ｎｍ、更に
は波長４００ｎｍ〜５００ｎｍおよび／または６００ｎ
ｍ〜７００ｎｍ、殊に波長４００ｎｍ〜４１０ｎｍおよ
び／または６３５ｎｍ〜６７０ｎｍの範囲から選択され
るレーザー光により記録および再生が可能である前記
の光記録媒体に関するものである。

【００１５】

【化３】

【００１６】〔式中、環Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄはそれぞれ独立
に置換基を有していてもよいピロール環を表し、Ｘ、Ｙ
はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいメチン基を
表し、Ｍは２価の金属原子を表し、Ｗ¹、Ｗ²はそれぞれ
独立に、金属原子Ｍに配位した置換基を有していてもよ
い含窒素芳香族化合物を表す。〕

【００１７】

【発明の実施の形態】本発明は、光記録媒体の記録層中
に前記一般式（１）で表される化合物を含有することを
特徴とする光記録媒体に関し、特に波長３００ｎｍ〜５
００ｎｍおよび／または５００ｎｍ〜７００ｎｍ、更に
は波長４００ｎｍ〜５００ｎｍおよび／または６００ｎ
ｍ〜７００ｎｍ、殊に波長４００ｎｍ〜４１０ｎｍおよ
び／または６３５ｎｍ〜６７０ｎｍの範囲から選択され
るレーザー光により記録および再生が可能である新規な
光記録媒体に関するものである。

【００１８】本発明に係る光記録媒体とは、情報を記録
して再生することのできる光記録媒体を示すものであ
る。但し、ここでは適例として基板上に記録層、反射層
を有する本発明の光記録媒体に関して説明する。

【００１９】本発明の光記録媒体は、例えば、図１に示
すような基板１、記録層２、反射層３、及び保護層４が
順次積層している４層構造を有しているか、図２に示す
ような貼り合わせ構造を有している。即ち、基板１上に
記録層２が形成されており、その上に密着して反射層３
が設けられており、さらにその上に接着層５を介して保
護層４が貼り合わされている。但し、記録層２の下また
は上に別の層があっても良く、反射層の上に別の層があ
っても構わない。また、図３に示すように基板１、反射
層３、記録層２、保護層４の順に積層し、保護層側から
記録再生する構造であっても良い。また、特開平１０−
３２６４３５号公報記載のように光透過層の厚みが、光
学系のＮ．Ａ．及びレーザー波長λにより規定された媒
体構造であっても構わない。また、本発明の式（１）の
化合物については、必要に応じて特開平１１−２０３７
２９号公報記載のように記録層を２種以上有する光記録
媒体に使用することもできる。

【００２０】基板の材質としては、基本的には記録光お
よび再生光の波長で透明であればよい。例えば、ポリカ
ーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリメタクリル酸メ
チル等のアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹
脂等の高分子材料やガラス等の無機材料が利用される。
これらの基板材料は射出成形法等により円盤状に基板に
成形してもよい。必要に応じて、基板表面に案内溝やピ
ットを形成することもある。このような案内溝やピット
は、基板の成形時に付与することが望ましいが、基板の
上に紫外線硬化樹脂層を用いて付与することもできる。

【００２１】通常、光ディスクとして用いる場合は、厚
さ１．２ｍｍ程度、直径８０ないし１２０ｍｍ程度の円
盤状であってもよく、中央に直径１５ｍｍ程度の穴が開
いていても構わない。

【００２２】本発明においては、基板上に記録層を設け
るが、本発明の記録層は、一般式（１）で示される化合
物を少なくとも１種含有するものである。そして波長３
００ｎｍ〜５００ｎｍおよび／または５００ｎｍ〜７０
０ｎｍから選択される記録レーザー波長および再生レー
ザー波長に対して記録・再生が可能である。中でも、波
長４００ｎｍ〜５００ｎｍおよび／または６００ｎｍ〜
７００ｎｍ、更には波長４００ｎｍ〜４１０ｎｍおよび
／または６３５ｎｍ〜６７０ｎｍの範囲から選択される
記録レーザー波長および再生レーザー波長に対して良好
なＣ／Ｎ比を得ることができ、また、再生光安定性も良
く、高品位な信号特性が得られる光記録媒体である。

【００２３】本発明記載の一般式（１）で表される化合
物は、置換基の選択により吸光係数を保持した状態で吸
収波長を任意に選択できるため、前記レーザー光の波長
において、記録層に必要な光学定数を満足することがで
き、さらに中心金属に配位した含窒素芳香族化合物の立
体障害により分子間の会合が抑制され、有機溶剤に対す
る溶解性に優れた極めて有用な有機色素である。

【００２４】以下、本発明について、さらに詳細を述べ
る。

【００２５】本発明記載の一般式（１）で表される化合
物について、環Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄで示される置換基を有し
ていてもよいピロール環について、具体的な置換基の例
としては、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ
基、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、スル
ホン酸基、置換または無置換のアルキル基、アラルキル
基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基、アラル
キルオキシ基、アリールオキシ基、アルケニルオキシ
基、アルキルチオ基、アラルキルチオ基、アリールチオ
基、アルケニルチオ基、モノ置換アミノ基、ジ置換アミ
ノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アラルキル
オキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ア
ルケニルオキシカルボニル基、モノ置換アミノカルボニ
ル基、ジ置換アミノカルボニル基、アシルオキシ基また
はヘテロアリール基等が挙げられる。また、ピロール環
上の上の各置換基は連結して環を形成してもよく、具体
的には脂肪族縮合環、芳香族縮合環等が挙げられる。

【００２６】また、ジアザポルフィリン骨格のメソ位に
位置するＸ、Ｙで示される置換基を有していてもよいメ
チン基の具体的な置換基の例としては、それぞれ式
（３）ならびに式（４）

【００２７】

【化４】

【００２８】〔式中、Ｑ¹、Ｑ²は水素原子、ハロゲン原
子、シアノ基、置換または無置換のアルキル基、アリー
ル基を示す。〕で示される置換してもよいメチン基等が
挙げられる。Ｑ¹およびＱ²の具体的な置換基の例として
は、ハロゲン原子、アルキル基、置換または無置換のア
ルキル基、アリール基等が挙げられる。

【００２９】また、Ｗ¹、Ｗ²で表される置換基を有して
いてもよい含窒素芳香族化合物としては、置換または無
置換の５員環含窒素芳香族化合物、６員環含窒素芳香族
化合物、縮環含窒素芳香族化合物等が挙げられる。

【００３０】さらに、Ｍで表される２価の金属原子とし
ては、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐ
ｄ、Ｐｔ、Ｍｎ、Ｓｎ、Ｍｇ、Ｐｂ、Ｈｇ、Ｃｄ、Ｂ
ａ、Ｔｉ、Ｂｅ、Ｃａ等が挙げられる。

【００３１】本発明においては、一般式（１）で示され
る化合物としては、下記一般式（２）で例示される化合
物が好ましい例として挙げられる。

【００３２】

【化５】

【００３３】〔式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、
Ｒ⁷、Ｒ⁸はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、
ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、カル
ボキシル基、スルホン酸基、置換または無置換のアルキ
ル基、アラルキル基、アリール基、アルケニル基、アル
コキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、ア
ルケニルオキシ基、アルキルチオ基、アラルキルチオ
基、アリールチオ基、アルケニルチオ基、モノ置換アミ
ノ基、ジ置換アミノ基、アシル基、アルコキシカルボニ
ル基、アラルキルオキシカルボニル基、アリールオキシ
カルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、モノ置
換アミノカルボニル基、ジ置換アミノカルボニル基、ア
シルオキシ基またはヘテロアリール基を表し、Ｒ¹と
Ｒ²、Ｒ³とＲ⁴、Ｒ⁵とＲ⁶、Ｒ⁷とＲ⁸は連結基を介し
て、それぞれ併せて脂肪族または芳香族縮合環を形成し
てもよく、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰はそれぞれ独立に、水素原子、ハ
ロゲン原子、シアノ基、置換または無置換のアルキル
基、アリール基を示し、Ｍは２価の金属原子を表し、Ｚ
¹、Ｚ²、はそれぞれ独立に、金属原子Ｍに配位した置換
または無置換の５員環含窒素芳香族化合物、６員環含窒
素芳香族化合物または縮環含窒素芳香族化合物を表
す。〕

【００３４】本発明の一般式（２）で表される化合物に
おいて、Ｒ¹〜Ｒ⁸の具体例としては、水素原子；フッ素
原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン
原子；ニトロ基；シアノ基；ヒドロキシル基；アミノ
基；カルボキシル基；スルホン酸基等が挙げられる。

【００３５】Ｒ¹〜Ｒ⁸の置換または無置換の直鎖、分岐
または環状のアルキル基としては、メチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル
基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル
基、ｎ−ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、２−メチル
ブチル基、１−メチルブチル基、ネオペンチル基、１，
２−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル
基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、４−メチルペ
ンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル
基、１−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル
基、２，３−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチ
ル基、２，２−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブ
チル基、１，１−ジメチルブチル基、３−エチルブチル
基、２−エチルブチル基、１−エチルブチル基、１，
２，２−トリメチルブチル基、１，１，２−トリメチル
ブチル基、１−エチル−２−メチルプロピル基、シクロ
ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、２−メチルヘキシル基、
３−メチルヘキシル基、４−メチルヘキシル基、５−メ
チルヘキシル基、２，４−ジメチルペンチル基、ｎ−オ
クチル基、２−エチルヘキシル基、２，５−ジメチルヘ
キシル基、２，５，５−トリメチルペンチル基、２，４
−ジメチルヘキシル基、２，２，４−トリメチルペンチ
ル基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、ｎ−ノニル
基、ｎ−デシル基、４−エチルオクチル基、４−エチル
−４，５−メチルヘキシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−
ドデシル基、１，３，５，７−テトラエチルオクチル
基、４−ブチルオクチル基、６，６−ジエチルオクチル
基、ｎ−トリデシル基、６−メチル−４−ブチルオクチ
ル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、３，
５−ジメチルヘプチル基、２，６−ジメチルヘプチル
基、２，４−ジメチルヘプチル基、２，２，５，５−テ
トラメチルヘキシル基、１−シクロペンチル−２，２−
ジメチルプロピル基、１−シクロヘキシル−２，２−ジ
メチルプロピル基などの炭素数１〜１５の無置換アルキ
ル基；

【００３６】クロロメチル基、クロロエチル基、ブロモ
エチル基、ヨードエチル基、ジクロロメチル基、フルオ
ロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエ
チル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、２，２，
２−トリクロロエチル基、１，１，１，３，３，３−ヘ
キサフルオロ−２−プロピル基、ノナフルオロブチル
基、パーフルオロデシル基等のハロゲン原子で置換した
炭素数１〜１０のアルキル基；

【００３７】ヒドロキシメチル基、２−ヒドロキシエチ
ル基、４−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシ−３−
メトキシプロピル基、２−ヒドロキシ−３−クロロプロ
ピル基、２−ヒドロキシ−３−エトキシプロピル基、３
−ブトキシ−２−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキ
シ−３−シクロヘキシルオキシプロピル基、２−ヒドロ
キシプロピル基、２−ヒドロキシブチル基、４−ヒドロ
キシデカリル基などのヒドロキシ基で置換した炭素数１
〜１０のアルキル基；

【００３８】ヒドロキシメトキシメチル基、ヒドロキシ
エトキシエチル基、２−（２’−ヒドロキシ−１’−メ
チルエトキシ）−１−メチルエチル基、２−（３’−フ
ルオロ−２’−ヒドロキシプロポキシ）エチル基、２−
（３’−クロロ−２’−ヒドロキシプロポキシ）エチル
基、ヒドロキシブトキシシクロヘキシル基などのヒドロ
キシアルコキシ基で置換した炭素数２〜１０のアルキル
基；

【００３９】ヒドロキシメトキシメトキシメチル基、ヒ
ドロキシエトキシエトキシエチル基、［２’−（２’−
ヒドロキシ−１’−メチルエトキシ）−１’−メチルエ
トキシ］エトキシエチル基、［２’−（２’−フルオロ
−１’−ヒドロキシエトキシ）−１’−メチルエトキ
シ］エトキシエチル基、［２’−（２’−クロロ−１’
−ヒドロキシエトキシ）−１’−メチルエトキシ］エト
キシエチル基などのヒドロキシアルコキシアルコキシ基
で置換した炭素数３〜１０のアルキル基；

【００４０】シアノメチル基、２−シアノエチル基、４
−シアノブチル基、２−シアノ−３−メトキシプロピル
基、２−シアノ−３−クロロプロピル基、２−シアノ−
３−エトキシプロピル基、３−ブトキシ−２−シアノプ
ロピル基、２−シアノ−３−シクロヘキシルプロピル
基、２−シアノプロピル基、２−シアノブチル基などの
シアノ基で置換した炭素数２〜１０のアルキル基；

【００４１】メトキシメチル基、エトキシメチル基、プ
ロポキシメチル基、ブトキシメチル基、メトキシエチル
基、エトキシエチル基、プロポキシエチル基、ブトキシ
エチル基、ｎ−ヘキシルオキシエチル基、（４−メチル
ペントキシ）エチル基、（１，３−ジメチルブトキシ）
エチル基、（２−エチルヘキシルオキシ）エチル基、ｎ
−オクチルオキシエチル基、（３，５，５−トリメチル
ヘキシルオキシ）エチル基、（２−メチル−１−ｉｓｏ
−プロピルプロポキシ）エチル基、（３−メチル−１−
ｉｓｏ−プロピルブチルオキシ）エチル基、２−エトキ
シ−１−メチルエチル基、３−メトキシブチル基、
（３，３，３−トリフルオロプロポキシ）エチル基、
（３，３，３−トリクロロプロポキシ）エチル基などの
アルコキシ基で置換した炭素数２〜１５のアルキル基；

【００４２】メトキシメトキシメチル基、メトキシエト
キシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロポキシ
エトキシエチル基、ブトキシエトキシエチル基、シクロ
ヘキシルオキシエトキシエチル基、デシルオキシプロポ
キシエチル基、（１，２−ジメチルプロポキシエトキ
シ）エチル基、（３−メチル−１−ｉｓｏ−ブチルブト
キシエトキシ）エチル基、（２−メトキシ−１−メチル
エトキシ）エチル基、（２−ブトキシ−１−メチルエト
キシ）エチル基、２−（２’−エトキシ−１’−メチル
エトキシ）−１−メチルエチル基、（３，３，３−トリ
フルオロプロポキシ）エトキシエチル基、（３，３，３
−トリクロロプロポキシ）エトキシエチル基などのアル
コキシアルコキシ基で置換した炭素数３〜１５のアルキ
ル基；メトキシメトキシメトキシメチル基、メトキシエ
トキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエトキシエ
チル基、ブトキシエトキシエトキシエチル基、シクロヘ
キシルオキシエトキシエトキシエチル基、プロポキシプ
ロポキシプロポキシエチル基、（２，２，２−トリフル
オロエトキシ）エトキシエトキシエチル基、（２，２，
２−トリクロロエトキシ）エトキシエトキシエチル基な
どのアルコキシアルコキシアルコキシ基で置換した炭素
数４〜１５のアルキル基；

【００４３】ホルミルメチル基、２−オキソブチル基、
３−オキソブチル基、４−オキソブチル基、２，６−ジ
オキソシクロヘキサン−１−イル基、２−オキソ−５−
ｔ−ブチル−１−シクロヘキサン−１−イル基等のアシ
ル基で置換した炭素数２〜１０のアルキル基；

【００４４】ホルミルオキシメチル基、アセトキシエチ
ル基、プロピオニルオキシエチル基、ブタノイルオキシ
エチル基、バレリルオキシエチル基、（２−エチルヘキ
サノイルオキシ）エチル基、（３，５，５−トリメチル
ヘキサノイルオキシ）エチル基、（３，５，５−トリメ
チルヘキサノイルオキシ）ヘキシル基、（３−フルオロ
ブチリルオキシ）エチル基、（３−クロロブチリルオキ
シ）エチル基などのアシルオキシ基で置換した炭素数２
〜１５のアルキル基；

【００４５】ホルミルオキシメトキシメチル基、アセト
キシエトキシエチル基、プロピオニルオキシエトキシエ
チル基、バレリルオキシエトキシエチル基、（２−エチ
ルヘキサノイルオキシ）エトキシエチル基、（３，５，
５−トリメチルヘキサノイルオキシ）ブトキシエチル
基、（３，５，５−トリメチルヘキサノイルオキシ）エ
トキシエチル基、（２−フルオロプロピオニルオキシ）
エトキシエチル基、（２−クロロプロピオニルオキシ）
エトキシエチル基などのアシルオキシアルコキシ基で置
換した炭素数３〜１５のアルキル基；

【００４６】アセトキシメトキシメトキシメチル基、ア
セトキシエトキシエトキシエチル基、プロピオニルオキ
シエトキシエトキシエチル基、バレリルオキシエトキシ
エトキシエチル基、（２−エチルヘキサノイルオキシ）
エトキシエトキシエチル基、（３，５，５−トリメチル
ヘキサノイルオキシ）オキシエトキシエトキシエチル
基、（２−フルオロプロピオニルオキシ）エトキシエト
キシエチル基、（２−クロロプロピオニルオキシ）エト
キシエトキシエチル基などのアシルオキシアルコキシア
ルコキシ基で置換した炭素数５〜１５のアルキル基；

【００４７】メトキシカルボニルメチル基、エトキシカ
ルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、メト
キシカルボニルエチル基、エトキシカルボニルエチル
基、ブトキシカルボニルエチル基、（ｐ−エチルシクロ
ヘキシルオキシカルボニル）シクロヘキシル基、（２，
２，３，３−テトラフルオロプロポキシカルボニル）メ
チル基、（２，２，３，３−テトラクロロプロポキシカ
ルボニル）メチル基などのアルコキシカルボニル基で置
換した炭素数３〜１５のアルキル基；

【００４８】フェノキシカルボニルメチル基、フェノキ
シカルボニルエチル基、（４−ｔ−ブチルフェノキシカ
ルボニル）エチル基、ナフチルオキシカルボニルメチル
基、ビフェニルオキシカルボニルエチル基などのアリー
ルオキシカルボニル基で置換した炭素数８〜１５のアル
キル基；

【００４９】ベンジルオキシカルボニルメチル基、ベン
ジルオキシカルボニルエチル基、フェネチルオキシカル
ボニルメチル基、（４−シクロヘキシルオキシベンジル
オキシカルボニル）メチル基などのアラルキルオキシカ
ルボニル基で置換した炭素数９〜１５のアルキル基；

【００５０】ビニルオキシカルボニルメチル基、ビニル
オキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルメ
チル基、オクテノキシカルボニルメチル基などのアルケ
ニルオキシカルボニル基で置換した炭素数４〜１０のア
ルキル基；

【００５１】メトキシカルボニルオキシメチル基、メト
キシカルボニルオキシエチル基、エトキシカルボニルオ
キシエチル基、ブトキシカルボニルオキシエチル基、
（２，２，２−トリフルオロエトキシカルボニルオキ
シ）エチル基、（２，２，２−トリクロロエトキシカル
ボニルオキシ）エチル基などのアルコキシカルボニルオ
キシ基で置換した炭素数３〜１５のアルキル基；

【００５２】メトキシメトキシカルボニルオキシメチル
基、メトキシエトキシカルボニルオキシエチル基、エト
キシエトキシカルボニルオキシエチル基、ブトキシエト
キシカルボニルオキシエチル基、（２，２，２−トリフ
ルオロエトキシ）エトキシカルボニルオキシエチル基、
（２，２，２−トリクロロエトキシ）エトキシカルボニ
ルオキシエチル基などのアルコキシアルコキシカルボニ
ルオキシ基で置換した炭素数４〜１５のアルキル基；

【００５３】ジメチルアミノメチル基、ジエチルアミノ
メチル基、ジ−ｎ−ブチルアミノメチル基、ジ−ｎ−ヘ
キシルアミノメチル基、ジ−ｎ−オクチルアミノメチル
基、ジ−ｎ−デシルアミノメチル基、Ｎ−イソアミル−
Ｎ−メチルアミノメチル基、ピペリジノメチル基、ジ
（メトキシメチル）アミノメチル基、ジ（メトキシエチ
ル）アミノメチル基、ジ（エトキシメチル）アミノメチ
ル基、ジ（エトキシエチル）アミノメチル基、ジ（プロ
ポキシエチル）アミノメチル基、ジ（ブトキシエチル）
アミノメチル基、ビス（２−シクロヘキシルオキシエチ
ル）アミノメチル基、ジメチルアミノエチル基、ジエチ
ルアミノエチル基、ジ−ｎ−ブチルアミノエチル基、ジ
−ｎ−ヘキシルアミノエチル基、ジ−ｎ−オクチルアミ
ノエチル基、ジ−ｎ−デシルアミノエチル基、Ｎ−イソ
アミル−Ｎ−メチルアミノエチル基、ピペリジノエチル
基、ジ（メトキシメチル）アミノエチル基、ジ（メトキ
シエチル）アミノエチル基、ジ（エトキシメチル）アミ
ノエチル基、ジ（エトキシエチル）アミノエチル基、ジ
（プロポキシエチル）アミノエチル基、ジ（ブトキシエ
チル）アミノエチル基、ビス（２−シクロヘキシルオキ
シエチル）アミノエチル基、ジメチルアミノプロピル
基、ジエチルアミノプロピル基、ジ−ｎ−ブチルアミノ
プロピル基、ジ−ｎ−ヘキシルアミノプロピル基、ジ−
ｎ−オクチルアミノプロピル基、ジ−ｎ−デシルアミノ
プロピル基、Ｎ−イソアミル−Ｎ−メチルアミノプロピ
ル基、ピペリジノプロピル基、ジ（メトキシメチル）ア
ミノプロピル基、ジ（メトキシエチル）アミノプロピル
基、ジ（エトキシメチル）アミノプロピル基、ジ（エト
キシエチル）アミノプロピル基、ジ（プロポキシエチ
ル）アミノプロピル基、ジ（ブトキシエチル）アミノプ
ロピル基、ビス（２−シクロヘキシルオキシエチル）ア
ミノプロピル基、ジメチルアミノブチル基、ジエチルア
ミノブチル基、ジ−ｎ−ブチルアミノブチル基、ジ−ｎ
−ヘキシルアミノブチル基、ジ−ｎ−オクチルアミノブ
チル基、ジ−ｎ−デシルアミノブチル基、Ｎ−イソアミ
ル−Ｎ−メチルアミノブチル基、ピペリジノブチル基、
ジ（メトキシメチル）アミノブチル基、ジ（メトキシエ
チル）アミノブチル基、ジ（エトキシメチル）アミノブ
チル基、ジ（エトキシエチル）アミノブチル基、ジ（プ
ロポキシエチル）アミノブチル基、ジ（ブトキシエチ
ル）アミノブチル基、ビス（２−シクロヘキシルオキシ
エチル）アミノブチル基等のジアルキルアミノ基が置換
した炭素数３〜２０のアルキル基；

【００５４】アセチルアミノメチル基、アセチルアミノ
エチル基、プロピオニルアミノエチル基、ブタノイルア
ミノエチル基、シクロヘキサンカルボニルアミノエチル
基、ｐ−メチルシクロヘキサンカルボニルアミノエチル
基、スクシンイミノエチル基などのアシルアミノ基で置
換した炭素数３〜１０のアルキル基；

【００５５】メチルスルホンアミノメチル基、メチルス
ルホンアミノエチル基、エチルスルホンアミノエチル
基、プロピルスルホンアミノエチル基、オクチルスルホ
ンアミノエチル基などのアルキルスルホンアミノ基で置
換した炭素数２〜１０のアルキル基；

【００５６】メチルスルホニルメチル基、エチルスルホ
ニルメチル基、ブチルスルホニルメチル基、メチルスル
ホニルエチル基、エチルスルホニルエチル基、ブチルス
ルホニルエチル基、２−エチルヘキシルスルホニルエチ
ル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルスルホ
ニルメチル基、２，２，３，３−テトラクロロプロピル
スルホニルメチル基などのアルキルスルホニル基で置換
した炭素数２〜１０のアルキル基；

【００５７】ベンゼンスルホニルメチル基、ベンゼンス
ルホニルエチル基、ベンゼンスルホニルプロピル基、ベ
ンゼンスルホニルブチル基、トルエンスルホニルメチル
基、トルエンスルホニルエチル基、トルエンスルホニル
プロピル基、トルエンスルホニルブチル基、キシレンス
ルホニルメチル基、キシレンスルホニルエチル基、キシ
レンスルホニルプロピル基、キシレンスルホニルブチル
基などのアリールスルホニル基で置換した炭素数７〜１
２のアルキル基；

【００５８】チアジアゾリノメチル基、ピロリノメチル
基、ピロリジノメチル基、ピラゾリジノメチル基、イミ
ダゾリジノメチル基、オキサゾリル基、トリアゾリノメ
チル基、モルホリノメチル基、インドーリノメチル基、
ベンズイミダゾリノメチル基、カルバゾリノメチル基な
どの複素環基で置換した炭素数２〜１３のアルキル基等
が挙げられる。

【００５９】Ｒ¹〜Ｒ⁸で表される置換または無置換のア
ラルキル基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同
様な置換基を有するアラルキル基であり、好ましくは、
ベンジル基、ニトロベンジル基、シアノベンジル基、ヒ
ドロキシベンジル基、メチルベンジル基、トリフルオロ
メチルベンジル基、ナフチルメチル基、ニトロナフチル
メチル基、シアノナフチルメチル基、ヒドロキシナフチ
ルメチル基、メチルナフチルメチル基、トリフルオロメ
チルナフチルメチル基、フルオレン−９−イルエチル基
などの炭素数７〜１５のアラルキル基等が挙げられる。

【００６０】Ｒ¹〜Ｒ⁸で表される置換または無置換のア
リール基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様
な置換基を有するアリール基であり、好ましくは、フェ
ニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、ヒドロ
キシフェニル基、メチルフェニル基、トリフルオロメチ
ルフェニル基、ナフチル基、ニトロナフチル基、シアノ
ナフチル基、ヒドロキシナフチル基、メチルナフチル
基、トリフルオロメチルナフチル基、メトキシカルボニ
ルフェニル基、４−（５’−メチルベンゾキサゾール−
２’−イル）フェニル基、ジブチルアミノカルボニルフ
ェニル基などの炭素数６〜１５のアリール基等が挙げら
れる。

【００６１】Ｒ¹〜Ｒ⁸で表される置換または無置換のア
ルケニル基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同
様な置換基を有するアルケニル基であり、好ましくは、
ビニル基、プロペニル基、１−ブテニル基、ｉｓｏ−ブ
テニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、２−
メチル−１−ブテニル基、３−メチル−１−ブテニル
基、２−メチル−２−ブテニル基、２，２−ジシアノビ
ニル基、２−シアノ−２−メチルカルボキシルビニル
基、２−シアノ−２−メチルスルホンビニル基、スチリ
ル基、４−フェニル−２ブテニル基などの炭素数２〜１
０のアルケニル基が挙げられる。

【００６２】Ｒ¹〜Ｒ⁸で表される置換または無置換のア
ルコキシ基の例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ
−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、
イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブト
キシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ
基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシ基、ｓｅｃ−ペンチルオ
キシ基、シクロペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ
基、１−メチルペンチルオキシ基、２−メチルペンチル
オキシ基、３−メチルペンチルオキシ基、４−メチルペ
ンチルオキシ基、１，１−ジメチルブトキシ基、１，２
−ジメチルブトキシ基、１，３−ジメチルブトキシ基、
２，３−ジメチルブトキシ基、１，１，２−トリメチル
プロポキシ基、１，２，２−トリメチルプロポキシ基、
１−エチルブトキシ基、２−エチルブトキシ基、１−エ
チル−２−メチルプロポキシ基、シクロヘキシルオキシ
基、メチルシクロペンチルオキシ基、ｎ−へプチルオキ
シ基、１−メチルヘキシルオキシ基、２−メチルヘキシ
ルオキシ基、３−メチルヘキシルオキシ基、４−メチル
ヘキシルオキシ基、５−メチルヘキシルオキシ基、１，
１−ジメチルペンチルオキシ基、１，２−ジメチルペン
チルオキシ基、１，３−ジメチルペンチルオキシ基、
１，４−ジメチルペンチルオキシ基、２，２−ジメチル
ペンチルオキシ基、２，３−ジメチルペンチルオキシ
基、２，４−ジメチルペンチルオキシ基、３，３−ジメ
チルペンチルオキシ基、３，４−ジメチルペンチルオキ
シ基、１−エチルペンチルオキシ基、２−エチルペンチ
ルオキシ基、３−エチルペンチルオキシ基、１，１，２
−トリメチルブトキシ基、１，１，３−トリメチルブト
キシ基、１，２，３−トリメチルブトキシ基、１，２，
２−トリメチルブトキシ基、１，３，３−トリメチルブ
トキシ基、２，３，３−トリメチルブトキシ基、１−エ
チル−１−メチルブトキシ基、１−エチル−２−メチル
ブトキシ基、１−エチル−３−メチルブトキシ基、２−
エチル−１−メチルブトキシ基、２−エチル−３−メチ
ルブトキシ基、１−ｎ−プロピルブトキシ基、１−イソ
プロピルブトキシ基、１−イソプロピル−２−メチルプ
ロポキシ基、メチルシクロヘキシルオキシ基、ｎ−オク
チルオキシ基、１−メチルヘプチルオキシ基、２−メチ
ルヘプチルオキシ基、３−メチルヘプチルオキシ基、４
−メチルヘプチルオキシ基、５−メチルヘプチルオキシ
基、６−メチルヘプチルオキシ基、１，１−ジメチルヘ
キシルオキシ基、１，２−ジメチルヘキシルオキシ基、
１，３−ジメチルヘキシルオキシ基、１，４−ジメチル
ヘキシルオキシ基、１，５−ジメチルヘキシルオキシ
基、２，２−ジメチルヘキシルオキシ基、２，３−ジメ
チルヘキシルオキシ基、２，４−ジメチルヘキシルオキ
シ基、２，５−ジメチルヘキシルオキシ基、３，３−ジ
メチルヘキシルオキシ基、３，４−ジメチルヘキシルオ
キシ基、３，５−ジメチルヘキシルオキシ基、４，４−
ジメチルヘキシルオキシ基、４，５−ジメチルヘキシル
オキシ基、１−エチルヘキシルオキシ基、２−エチルヘ
キシルオキシ基、３−エチルヘキシルオキシ基、４−エ
チルヘキシルオキシ基、１−ｎ−プロピルペンチルオキ
シ基、２−ｎ−プロピルペンチルオキシ基、１−イソプ
ロピルペンチルオキシ基、２−イソプロピルペンチルオ
キシ基、１−エチル−１−メチルペンチルオキシ基、１
−エチル−２−メチルペンチルオキシ基、１−エチル−
３−メチルペンチルオキシ基、１−エチル−４−メチル
ペンチルオキシ基、２−エチル−１−メチルペンチルオ
キシ基、２−エチル−２−メチルペンチルオキシ基、２
−エチル−３−メチルペンチルオキシ基、２−エチル−
４−メチルペンチルオキシ基、３−エチル−１−メチル
ペンチルオキシ基、３−エチル−２−メチルペンチルオ
キシ基、３−エチル−３−メチルペンチルオキシ基、３
−エチル−４−メチルペンチルオキシ基、１，１，２−
トリメチルペンチルオキシ基、１，１，３−トリメチル
ペンチルオキシ基、１，１，４−トリメチルペンチルオ
キシ基、１，２，２−トリメチルペンチルオキシ基、
１，２，３−トリメチルペンチルオキシ基、１，２，４
−トリメチルペンチルオキシ基、１，３，４−トリメチ
ルペンチルオキシ基、２，２，３−トリメチルペンチル
オキシ基、２，２，４−トリメチルペンチルオキシ基、
２，３，４−トリメチルペンチルオキシ基、１，３，３
−トリメチルペンチルオキシ基、２，３，３−トリメチ
ルペンチルオキシ基、３，３，４−トリメチルペンチル
オキシ基、１，４，４−トリメチルペンチルオキシ基、
２，４，４−トリメチルペンチルオキシ基、３，４，４
−トリメチルペンチルオキシ基、１−ｎ−ブチルブトキ
シ基、１−イソブチルブトキシ基、１−ｓｅｃ−ブチル
ブトキシ基、１−ｔｅｒｔ−ブチルブトキシ基、２−ｔ
ｅｒｔ−ブチルブトキシ基、１−ｎ−プロピル−１−メ
チルブトキシ基、１−ｎ−プロピル−２−メチルブトキ
シ基、１−ｎ−プロピル−３−メチルブトキシ基、１−
イソプロピル−１−メチルブトキシ基、１−イソプロピ
ル−２−メチルブトキシ基、１−イソプロピル−３−メ
チルブトキシ基、１，１−ジエチルブトキシ基、１，２
−ジエチルブトキシ基、１−エチル−１，２−ジメチル
ブトキシ基、１−エチル−１，３−ジメチルブトキシ
基、１−エチル−２，３−ジメチルブトキシ基、２−エ
チル−１，１−ジメチルブトキシ基、２−エチル−１，
２−ジメチルブトキシ基、２−エチル−１，３−ジメチ
ルブトキシ基、２−エチル−２，３−ジメチルブトキシ
基、１，１，３，３−テトラメチルブトキシ基、１，２
−ジメチルシクロヘキシルオキシ基、１，３−ジメチル
シクロヘキシルオキシ基、１，４−ジメチルシクロヘキ
シルオキシ基、エチルシクロヘキシルオキシ基、ｎ−ノ
ニルオキシ基、３，５，５−トリメチルヘキシルオキシ
基、ｎ−デシルオキシ基、ｎ−ウンデシルオキシ基、ｎ
−ドデシルオキシ基、１−アダマンチルオキシ基、ｎ−
ペンタデシルオキシ基等の炭素数１〜１５の直鎖、分岐
又は環状の無置換アルコキシ基；

【００６３】メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ
基、エトキシエトキシ基、ｎ−プロポキシエトキシ基、
イソプロポキシエトキシ基、ｎ−ブトキシエトキシ基、
イソブトキシエトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシエトキシ
基、ｓｅｃ−ブトキシエトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ
エトキシ基、イソペンチルオキシエトキシ基、ｔｅｒｔ
−ペンチルオキシエトキシ基、ｓｅｃ−ペンチルオキシ
エトキシ基、シクロペンチルオキシエトキシ基、ｎ−ヘ
キシルオキシエトキシ基、エチルシクロヘキシルオキシ
エトキシ基、ｎ−ノニルオキシエトキシ基、（３，５，
５−トリメチルヘキシルオキシ）エトキシ基、（３，
５，５−トリメチルヘキシルオキシ）ブトキシ基、ｎ−
デシルオキシエトキシ基、ｎ−ウンデシルオキシエトキ
シ基、ｎ−ドデシルオキシエトキシ基、３−メトキシプ
ロポキシ基、３−エトキシプロポキシ基、３−（ｎ−プ
ロポキシ）プロポキシ基、２−イソプロポキシプロポキ
シ基、２−メトキシブトキシ基、２−エトキシブトキシ
基、２−（ｎ−プロポキシ）ブトキシ基、４−イソプロ
ポキシブトキシ基、デカリルオキシエトキシ基、アダマ
ンチルオキシエトキシ基等の、アルコキシ基で置換した
炭素数２〜１５のアルコキシ基；

【００６４】メトキシメトキシメトキシ基、エトキシメ
トキシメトキシ基、プロポキシメトキシメトキシ基、ブ
トキシメトキシメトキシ基、メトキシエトキシメトキシ
基、エトキシエトキシメトキシ基、プロポキシエトキシ
メトキシ基、ブトキシエトキシメトキシ基、メトキシプ
ロポキシメトキシ基、エトキシプロポキシメトキシ基、
プロポキシプロポキシメトキシ基、ブトキシプロポキシ
メトキシ基、メトキシブトキシメトキシ基、エトキシブ
トキシメトキシ基、プロポキシブトキシメトキシ基、ブ
トキシブトキシメトキシ基、メトキシメトキシエトキシ
基、エトキシメトキシエトキシ基、プロポキシメトキシ
エトキシ基、ブトキシメトキシエトキシ基、メトキシエ
トキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロ
ポキシエトキシエトキシ基、ブトキシエトキシエトキシ
基、メトキシプロポキシエトキシ基、エトキシプロポキ
シエトキシ基、プロポキシプロポキシエトキシ基、ブト
キシプロポキシエトキシ基、メトキシブトキシエトキシ
基、エトキシブトキシエトキシ基、プロポキシブトキシ
エトキシ基、ブトキシブトキシエトキシ基、メトキシメ
トキシプロポキシ基、エトキシメトキシプロポキシ基、
プロポキシメトキシプロポキシ基、ブトキシメトキシプ
ロポキシ基、メトキシエトキシプロポキシ基、エトキシ
エトキシプロポキシ基、プロポキシエトキシプロポキシ
基、ブトキシエトキシプロポキシ基、メトキシプロポキ
シプロポキシ基、エトキシプロポキシプロポキシ基、プ
ロポキシプロポキシプロポキシ基、ブトキシプロポキシ
プロポキシ基、メトキシブトキシプロポキシ基、エトキ
シブトキシプロポキシ基、プロポキシブトキシプロポキ
シ基、ブトキシブトキシプロポキシ基、メトキシメトキ
シブトキシ基、エトキシメトキシブトキシ基、プロポキ
シメトキシブトキシ基、ブトキシメトキシブトキシ基、
メトキシエトキシブトキシ基、エトキシエトキシブトキ
シ基、プロポキシシエトキシブトキシ基、ブトキシエト
キシブトキシ碁、メトキシプロポキシブトキシ基、エト
キシプロポキシブトキシ基、プロポキシプロポキシブト
キシ基、ブトキシプロポキシブトキシ基、メトキシブト
キシブトキシ基、エトキシブトキシブトキシ基、プロポ
キシブトキシブトキシ基、ブトキシブトキシブトキシ
基、（４−エチルシクロへキシルオキシ）エトキシエト
キシ基、（２−エチル−１−へキシルオキシ）エトキシ
プロポキシ基、［４−（３，５，５−トリメチルヘキシ
ルオキシ）ブトキシ］エトキシ基等の、アルコキシアル
コキシ基で置換した直鎖、分岐または環状の炭素数３〜
１５のアルコキシ基；

【００６５】メトキシカルボニルメトキシ基、エトキシ
カルボニルメトキシ基、ｎ−プロポキシカルボニルメト
キシ基、イソプロポキシカルボニルメトキシ基、（４’
−エチルシクロヘキシルオキシカルボニル）メトキシ基
等のアルコキシカルボニル基で置換した炭素数３〜１０
のアルコキシ基；

【００６６】アセチルメトキシ基、エチルカルボニルメ
トキシ基、オクチルカルボニルメトキシ基等のアシル基
で置換した炭素数３〜１０のアルコキシ基；アセチルオ
キシメトキシ基、アセチルオキシエトキシ基、アセチル
オキシヘキシルオキシ基、ブタノイルオキシシクロヘキ
シルオキシ基などのアシルオキシ基で置換した炭素数３
〜１０のアルコキシ基；

【００６７】メチルアミノメトキシ基、２−メチルアミ
ノエトキシ基、２−（２−メチルアミノエトキシ）エト
キシ基、４−メチルアミノブトキシ基、１−メチルアミ
ノプロパン−２−イルオキシ基、３−メチルアミノプロ
ポキシ基、２−メチルアミノ−２−メチルプロポキシ
基、２−エチルアミノエトキシ基、２−（２−エチルア
ミノエトキシ）エトキシ基、３−エチルアミノプロポキ
シ基、１−エチルアミノプロポキシ基、２−イソプロピ
ルアミノエトキシ基、２−（ｎ−ブチルアミノ）エトキ
シ基、３−（ｎ−ヘキシルアミノ）プロポキシ基、４−
（シクロヘキシルアミノ）ブチルオキシ基等のアルキル
アミノ基で置換した炭素数２〜１０のアルコキシ基；

【００６８】メチルアミノメトキシメトキシ基、メチル
アミノエトキシエトキシ基、メチルアミノエトキシプロ
ポキシ基、エチルアミノエトキシプロポキシ基、４−
（２’−イソブチルアミノプロポキシ）ブトキシ基等の
アルキルアミノアルコキシ基で置換した炭素数３〜１０
のアルコキシ基；

【００６９】ジメチルアミノメトキシ基、２−ジメチル
アミノエトキシ基、２−（２−ジメチルアミノエトキ
シ）エトキシ基、４−ジメチルアミノブトキシ基、１−
ジメチルアミノプロパン−２−イルオキシ基、３−ジメ
チルアミノプロポキシ基、２−ジメチルアミノ−２−メ
チルプロポキシ基、２−ジエチルアミノエトキシ基、２
−（２−ジエチルアミノエトキシ）エトキシ基、３−ジ
エチルアミノプロポキシ基、１−ジエチルアミノプロポ
キシ基、２−ジイソプロピルアミノエトキシ基、２−
（ジ−ｎ−ブチルアミノ）エトキシ基、２−ピペリジル
エトキシ基、３−（ジ−ｎ−ヘキシルアミノ）プロポキ
シ基等のジアルキルアミノ基で置換した炭素数３〜１５
のアルコキシ基；

【００７０】ジメチルアミノメトキシメトキシ基、ジメ
チルアミノエトキシエトキシ基、ジメチルアミノエトキ
シプロポキシ基、ジエチルアミノエトキシプロポキシ
基、４−（２’−ジイソブチルアミノプロポキシ）ブト
キシ基等のジアルキルアミノアルコキシ基で置換した炭
素数４〜１５のアルコキシ基；

【００７１】メチルチオメトキシ基、２−メチルチオエ
トキシ基、２−エチルチオエトキシ基、２−ｎ−プロピ
ルチオエトキシ基、２−イソプロピルチオエトキシ基、
２−ｎ−ブチルチオエトキシ基、２−イソブチルチオエ
トキシ基、（３，５，５−トリメチルヘキシルチオ）ヘ
キシルオキシ基等のアルキルチオ基で置換した炭素数２
〜１５のアルコキシ基；等が挙げられ、好ましくは、メ
トキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プ
ロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉｓｏ−ブトキシ基、ｓ
ｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペントキシ
基、ｉｓｏ−ペントキシ基、ネオペントキシ基、２−メ
チルブトキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、３，
５，５−トリメチルヘキシルオキシ基、デカリルオキシ
基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエ
トキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基な
どの炭素数１〜１０のアルコキシ基が挙げられる。

【００７２】Ｒ¹〜Ｒ⁸で表される置換または無置換のア
ラルキルオキシ基の例としては、前記に挙げたアルキル
基と同様な置換基を有するアラルキルオキシ基であり、
好ましくは、ベンジルオキシ基、ニトロベンジルオキシ
基、シアノベンジルオキシ基、ヒドロキシベンジルオキ
シ基、メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメチルベ
ンジルオキシ基、ナフチルメトキシ基、ニトロナフチル
メトキシ基、シアノナフチルメトキシ基、ヒドロキシナ
フチルメトキシ基、メチルナフチルメトキシ基、トリフ
ルオロメチルナフチルメトキシ基、フルオレン−９−イ
ルエトキシ基などの炭素数７〜１５のアラルキルオキシ
基等が挙げられる。

【００７３】Ｒ¹〜Ｒ⁸で表される置換または無置換のア
リールオキシ基の例としては、前記に挙げたアルキル基
と同様な置換基を有するアリールオキシ基であり、好ま
しくは、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−
メチルフェノキシ基、４−ｔ−ブチルフェノキシ基、２
−メトキシフェノキシ基、４−ｉｓｏ−プロピルフェノ
キシ基、ナフトキシ基などの炭素数６〜１０のアリール
オキシ基が挙げられる。

【００７４】Ｒ¹〜Ｒ⁸で表される置換または無置換のア
ルケニルオキシ基の例としては、前記に挙げたアルキル
基と同様な置換基を有するアルケニルオキシ基であり、
好ましくは、ビニルオキシ基、プロペニルオキシ基、１
−ブテニルオキシ基、ｉｓｏ−ブテニルオキシ基、１−
ペンテニルオキシ基、２−ペンテニルオキシ基、２−メ
チル−１−ブテニルオキシ基、３−メチル−１−ブテニ
ルオキシ基、２−メチル−２−ブテニルオキシ基、２，
２−ジシアノビニルオキシ基、２−シアノ−２−メチル
カルボキシルビニルオキシ基、２−シアノ−２−メチル
スルホンビニルオキシ基、スチリルオキシ基、４−フェ
ニル−２ブテニルオキシ基、シンナミルアルコキシ基な
どの炭素数２〜１０のアルケニルオキシ基が挙げられ
る。

【００７５】Ｒ¹〜Ｒ⁸で表される置換または無置換のア
ルキルチオ基の例としては、前記に挙げたアルキル基と
同様な置換基を有するアルキルチオ基であり、好ましく
は、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ
基、ｉｓｏ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｉｓ
ｏ−ブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔ−ブチル
チオ基、ｎ−ペンチルチオ基、ｉｓｏ−ペンチルチオ
基、ネオペンチルチオ基、２−メチルブチルチオ基、メ
チルカルボキシルエチルチオ基、２−エチルヘキシルチ
オ基、３，５，５−トリメチルヘキシルチオ基、デカリ
ルチオ基などの炭素数１〜１０のアルキルチオ基が挙げ
られる。

【００７６】Ｒ¹〜Ｒ⁸で表される置換または無置換のア
ラルキルチオ基の例としては、前記に挙げたアルキル基
と同様な置換基を有するアラルキルチオ基であり、好ま
しくは、ベンジルチオ基、ニトロベンジルチオ基、シア
ノベンジルチオ基、ヒドロキシベンジルチオ基、メチル
ベンジルチオ基、トリフルオロメチルベンジルチオ基、
ナフチルメチルチオ基、ニトロナフチルメチルチオ基、
シアノナフチルメチルチオ基、ヒドロキシナフチルメチ
ルチオ基、メチルナフチルメチルチオ基、トリフルオロ
メチルナフチルメチルチオ基、フルオレン−９−イルエ
チルチオ基などの炭素数７〜１２のアラルキルチオ基等
が挙げられる。

【００７７】Ｒ¹〜Ｒ⁸で表される置換または無置換のア
リールチオ基の例としては前記に挙げたアルキル基と同
様な置換基を有するアリールチオ基であり、好ましく
は、フェニルチオ基、４−メチルフェニルチオ基、２−
メトキシフェニルチオ基、４−ｔ−ブチルフェニルチオ
基、ナフチルチオ基等の炭素数６〜１０のアリールチオ
基などが挙げられる。

【００７８】Ｒ¹〜Ｒ⁸で表される置換または無置換のア
ルケニルチオ基の例としては前記に挙げたアルキル基と
同様な置換基を有するアルケニルチオ基であり、好まし
くは、ビニルチオ基、アリルチオ基、ブテニルチオ基、
ヘキサンジエニルチオ基、スチリルチオ基、シクロヘキ
セニルチオ基、デセニルチオ基等の炭素数２〜１０のア
ルケニルチオ基などが挙げられる。

【００７９】Ｒ¹〜Ｒ⁸で表される置換または無置換のモ
ノ置換アミノ基の例としては、前記に挙げたアルキル基
と同様な置換基を有するモノ置換アミノ基であり、好ま
しくは、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルア
ミノ基、ブチルアミノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシル
アミノ基、ヘプチルアミノ基、オクチルアミノ基、（２
−エチルヘキシル）アミノ基、シクロヘキシルアミノ
基、（３，５，５−トリメチルヘキシル）アミノ基、ノ
ニルアミノ基、デシルアミノ基などの炭素数１〜１０の
モノアルキルアミノ基；

【００８０】ベンジルアミノ基、フェネチルアミノ基、
（３−フェニルプロピル）アミノ基、（４−エチルベン
ジル）アミノ基、（４−イソプロピルベンジル）アミノ
基、（４−メチルベンジル）アミノ基、（４−アリルベ
ンジル）アミノ基、［４−（２−シアノエチル）ベンジ
ル］アミノ基、［４−（２−アセトキシエチル）ベンジ
ル］アミノ基などの炭素数７〜１０のモノアラルキルア
ミノ基；

【００８１】アニリノ基、ナフチルアミノ基、トルイジ
ノ基、キシリジノ基、エチルアニリノ基、イソプロピル
アニリノ基、メトキシアニリノ基、エトキシアニリノ
基、クロロアニリノ基、アセチルアニリノ基、メトキシ
カルボニルアニリノ基、エトキシカルボニルアニリノ
基、プロポキシカルボニルアニリノ基、４−メチルアニ
リノ基、４−エチルアニリノ基など、炭素数６〜１０の
モノアリールアミノ基；ビニルアミノ基、アリルアミノ
基、プロペニルアミノ基、ブテニルアミノ基、ペンテニ
ルアミノ基、ヘキセニルアミノ基、シクロヘキセニルア
ミノ基、オクタジエニルアミノ基、アダマンテニルアミ
ノ基などの炭素数２〜１０のモノアルケニルアミノ基；

【００８２】ホルミルアミノ基、メチルカルボニルアミ
ノ基、エチルカルボニルアミノ基、ｎ−プロピルカルボ
ニルアミノ基、ｉｓｏ−プロピルカルボニルアミノ基、
ｎ−ブチルカルボニルアミノ基、ｉｓｏ−ブチルカルボ
ニルアミノ基、ｓｅｃ−ブチルカルボニルアミノ基、ｔ
−ブチルカルボニルアミノ基、ｎ−ペンチルカルボニル
アミノ基、ｉｓｏ−ペンチルカルボニルアミノ基、ネオ
ペンチルカルボニルアミノ基、２−メチルブチルカルボ
ニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、メチルベンゾイル
アミノ基、エチルベンゾイルアミノ基、トリルカルボニ
ルアミノ基、プロピルベンゾイルアミノ基、４−ｔ−ブ
チルベンゾイルアミノ基、ニトロベンジルカルボニルア
ミノ基、３−ブトキシ−２−ナフトイルアミノ基、シン
ナモイルアミノ基など炭素数１〜１５のアシルアミノ基
等のモノ置換アミノ基が挙げられる。

【００８３】Ｒ¹〜Ｒ⁸で表される置換または無置換のジ
置換アミノ基の例としては、前記に挙げたアルキル基と
同様な置換基を有するジ置換アミノ基であり、好ましく
は、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、メチルエチ
ルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、
ジ−ｎ−ヘキシルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ
基、ジオクチルアミノ基、ビス（メトキシエチル）アミ
ノ基、ビス（エトキシエチル）アミノ基、ビス（プロポ
キシエチル）アミノ基、ビス（ブトキシエチル）アミノ
基、ジ（アセチルオキシエチル）アミノ基、ジ（ヒドロ
キシエチル）アミノ基、Ｎ−エチル−Ｎ−（２−シアノ
エチル）アミノ基、ジ（プロピオニルオキシエチル）ア
ミノ基などの炭素数２〜１６のジアルキルアミノ基；

【００８４】ジベンジルアミノ基、ジフェネチルアミノ
基、ビス（４−エチルベンジル）アミノ基、ビス（４−
イソプロピルベンジル）アミノ基などの炭素数１４〜２
０のジアラルキルアミノ基；ジフェニルアミノ基、ジト
リルアミノ基、Ｎ−フェニル−Ｎ−トリルアミノ基など
の炭素数１２〜１４のジアリールアミノ基；ジビニルア
ミノ基、ジアリルアミノ基、ジブテニルアミノ基、ジペ
ンテニルアミノ基、ジヘキセニルアミノ基、Ｎ−ビニル
−Ｎ−アリルアミノ基などの炭素数４〜１２のジアルケ
ニルアミノ基；

【００８５】ジホルミルアミノ基、ジ（メチルカルボニ
ル）アミノ基、ジ（エチルカルボニル）アミノ基、ジ
（ｎ−プロピルカルボニル）アミノ基、ジ（ｉｓｏ−プ
ロピルカルボニル）アミノ基、ジ（ｎ−ブチルカルボニ
ル）アミノ基、ジ（ｉｓｏ−ブチルカルボニル）アミノ
基、ジ（ｓｅｃ−ブチルカルボニル）アミノ基、ジ（ｔ
−ブチルカルボニル）アミノ基、ジ（ｎ−ペンチルカル
ボニル）アミノ基、ジ（ｉｓｏ−ペンチルカルボニル）
アミノ基、ジ（ネオペンチルカルボニル）アミノ基、ジ
（２−メチルブチルカルボニル）アミノ基、ジ（ベンゾ
イル）アミノ基、ジ（メチルベンゾイル）アミノ基、ジ
（エチルベンゾイル）アミノ基、ジ（トリルカルボニ
ル）アミノ基、ジ（プロピルベンゾイル）アミノ基、ジ
（４−ｔ−ブチルベンゾイル）アミノ基、ジ（ニトロベ
ンジルカルボニル）アミノ基、ジ（３−ブトキシ−２−
ナフトイル）アミノ基、ジ（シンナモイル）アミノ基、
コハク酸イミノ基などの炭素数２〜３０のジアシルアミ
ノ基；

【００８６】Ｎ−フェニル−Ｎ−アリルアミノ基、Ｎ−
（２−アセチルオキシエチル）−Ｎ−エチルアミノ基、
Ｎ−トリル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−ビニル−Ｎ−メ
チルアミノ基、Ｎ−ベンジル−Ｎ−アリルアミノ基等の
置換または無置換のアルキル基、アラルキル基、アリー
ル基、アルケニル基より選択した置換基を有する炭素数
３〜１０のジ置換アミノ基が挙げられる。

【００８７】Ｒ¹〜Ｒ⁸で表される置換または無置換のア
シル基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様な
置換基を有するアシル基であり、好ましくは、ホルミル
基、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ｎ−プ
ロピルカルボニル基、ｉｓｏ−プロピルカルボニル基、
ｎ−ブチルカルボニル基、ｉｓｏ−ブチルカルボニル
基、ｓｅｃ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニ
ル基、ｎ−ペンチルカルボニル基、ｉｓｏ−ペンチルカ
ルボニル基、ネオペンチルカルボニル基、２−メチルブ
チルカルボニル基、ベンゾイル基、メチルベンゾイル
基、エチルベンゾイル基、トリルカルボニル基、プロピ
ルベンゾイル基、４−ｔ−ブチルベンゾイル基、ニトロ
ベンジルカルボニル基、３−ブトキシ−２−ナフトイル
基、シンナモイル基などの炭素数１〜１５のアシル基が
挙げられる。

【００８８】Ｒ¹〜Ｒ⁸で表される置換または無置換のア
ルコキシカルボニル基の例としては、前記に挙げたアル
キル基と同様な置換基を有するアルコキシカルボニル基
であり、好ましくはメトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉｓｏ−プ
ロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｉ
ｓｏ−ブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボ
ニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペントキシカ
ルボニル基、ｉｓｏ−ペントキシカルボニル基、ネオペ
ントキシカルボニル基、２−ペントキシカルボニル基、
２−エチルヘキシルオキシカルボニル基、３，５，５−
トリメチルヘキシルオキシカルボニル基、デカリルオキ
シカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、
クロロエトキシカルボニル基、ヒドロキシメトキシカル
ボニル基、ヒドロキシエトキシカルボニル基などの炭素
数２〜１１のアルコキシカルボニル基；

【００８９】メトキシメトキシカルボニル基、メトキシ
エトキシカルボニル基、エトキシエトキシカルボニル
基、プロポキシエトキシカルボニル基、ブトキシエトキ
シカルボニル基、ペントキシエトキシカルボニル基、ヘ
キシルオキシエトキシカルボニル基、ブトキシブトキシ
カルボニル基、ヘキシルオキシブトキシカルボニル基、
ヒドロキシメトキシメトキシカルボニル基、ヒドロキシ
エトキシエトキシカルボニル基などのアルコキシ基が置
換した炭素数３〜１１のアルコキシカルボニル基；

【００９０】メトキシメトキシメトキシカルボニル基、
メトキシエトキシエトキシカルボニル基、エトキシエト
キシエトキシカルボニル基、プロポキシエトキシエトキ
シカルボニル基、ブトキシエトキシエトキシカルボニル
基、ペントキシエトキシエトキシカルボニル基、ヘキシ
ルオキシエトキシエトキシカルボニル基などのアルコキ
シアルコキシ基が置換した炭素数４〜１１のアルコキシ
カルボニル基が挙げられる。

【００９１】Ｒ¹〜Ｒ⁸で表される置換または無置換のア
ラルキルオキシカルボニル基の例としては、前記に挙げ
たアルキル基と同様な置換基を有するアラルキルオキシ
カルボニル基であり、好ましくは、ベンジルオキシカル
ボニル基、ニトロベンジルオキシカルボニル基、シアノ
ベンジルオキシカルボニル基、ヒドロキシベンジルオキ
シカルボニル基、メチルベンジルオキシカルボニル基、
トリフルオロメチルベンジルオキシカルボニル基、ナフ
チルメトキシカルボニル基、ニトロナフチルメトキシカ
ルボニル基、シアノナフチルメトキシカルボニル基、ヒ
ドロキシナフチルメトキシカルボニル基、メチルナフチ
ルメトキシカルボニル基、トリフルオロメチルナフチル
メトキシカルボニル基、フルオレン−９−イルエトキシ
カルボニル基などの炭素数８〜１６のアラルキルオキシ
カルボニル基等が挙げられる。

【００９２】Ｒ¹〜Ｒ⁸で表される置換または無置換のア
リールオキシカルボニル基の例としては、前記に挙げた
アリール基と同様な置換基を有するアリールオキシカル
ボニル基であり、好ましくは、フェノキシカルボニル
基、２−メチルフェノキシカルボニル基、４−メチルフ
ェノキシカルボニル基、４−ｔ−ブチルフェノキシカル
ボニル基、２−メトキシフェノキシカルボニル基、４−
ｉｓｏ−プロピルフェノキシカルボニル基、ナフトキシ
カルボニル基などの炭素数７〜１１のアリールオキシカ
ルボニル基が挙げられる。

【００９３】Ｒ¹〜Ｒ⁸で表される置換または無置換のア
ルケニルオキシカルボニル基の例としては、前記に挙げ
たアルキル基と同様な置換基を有するアルケニルオキシ
カルボニル基であり、好ましくは、ビニルオキシカルボ
ニル基、プロペニルオキシカルボニル基、１−ブテニル
オキシカルボニル基、ｉｓｏ−ブテニルオキシカルボニ
ル基、１−ペンテニルオキシカルボニル基、２−ペンテ
ニルオキシカルボニル基、２−メチル−１−ブテニルオ
キシカルボニル基、３−メチル−１−ブテニルオキシカ
ルボニル基、２−メチル−２−ブテニルオキシカルボニ
ル基、２，２−ジシアノビニルオキシカルボニル基、２
−シアノ−２−メチルカルボキシルビニルオキシカルボ
ニル基、２−シアノ−２−メチルスルホンビニルオキシ
カルボニル基、スチリルオキシカルボニル基、４−フェ
ニル−２−ブテニルオキシカルボニル基などの炭素数３
〜１１のアルケニルオキシカルボニル基が挙げられる。

【００９４】Ｒ¹〜Ｒ⁸で表される置換または無置換のモ
ノ置換アミノカルボニル基の例としては、前記に挙げた
アルキル基と同様な置換基を有するモノ置換アミノカル
ボニル基であり、好ましくは、メチルアミノカルボニル
基、エチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボ
ニル基、ブチルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカ
ルボニル基、ヘキシルアミノカルボニル基、ヘプチルア
ミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、（２
−エチルヘキシル）アミノカルボニル基、シクロヘキシ
ルアミノカルボニル基、（３，５，５−トリメチルヘキ
シル）アミノカルボニル基、ノニルアミノカルボニル
基、デシルアミノカルボニル基などの炭素数２〜１１の
モノアルキルアミノカルボニル基；

【００９５】ベンジルアミノカルボニル基、フェネチル
アミノカルボニル基、（３−フェニルプロピル）アミノ
カルボニル基、（４−エチルベンジル）アミノカルボニ
ル基、（４−イソプロピルベンジル）アミノカルボニル
基、（４−メチルベンジル）アミノカルボニル基、（４
−アリルベンジル）アミノカルボニル基、［４−（２−
シアノエチル）ベンジル］アミノカルボニル基、［４−
（２−アセトキシエチル）ベンジル］アミノカルボニル
基などの炭素数８〜１１のモノアラルキルアミノカルボ
ニル基；

【００９６】アニリノカルボニル基、ナフチルアミノカ
ルボニル基、トルイジノカルボニル基、キシリジノカル
ボニル基、エチルアニリノカルボニル基、イソプロピル
アニリノカルボニル基、メトキシアニリノカルボニル
基、エトキシアニリノカルボニル基、クロロアニリノカ
ルボニル基、アセチルアニリノカルボニル基、メトキシ
カルボニルアニリノカルボニル基、エトキシカルボニル
アニリノカルボニル基、プロポキシカルボニルアニリノ
カルボニル基、４−メチルアニリノカルボニル基、４−
エチルアニリノカルボニル基など、炭素数７〜１１のモ
ノアリールアミノカルボニル基；ビニルアミノカルボニ
ル基、アリルアミノカルボニル基、ブテニルアミノカル
ボニル基、ペンテニルアミノカルボニル基、ヘキセニル
アミノカルボニル基、シクロヘキセニルアミノカルボニ
ル基、オクタジエニルアミノカルボニル基、アダマンテ
ニルアミノカルボニル基、メチルビニルアミノカルボニ
ル基などの炭素数３〜１１のモノアルケニルアミノカル
ボニル基等が挙げられる。

【００９７】Ｒ¹〜Ｒ⁸で表される置換または無置換のジ
置換アミノカルボニル基の例としては、前記に挙げたア
ルキル基と同様な置換基を有するジ置換アミノカルボニ
ル基であり、好ましくは、ジメチルアミノカルボニル
基、ジエチルアミノカルボニル基、メチルエチルアミノ
カルボニル基、ジプロピルアミノカルボニル基、ジブチ
ルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−ヘキシルアミノカルボ
ニル基、ジシクロヘキシルアミノカルボニル基、ジオク
チルアミノカルボニル基、ピロリジノカルボニル基、ピ
ペリジノカルボニル基、モルホリノカルボニル基、ビス
（メトキシエチル）アミノカルボニル基、ビス（エトキ
シエチル）アミノカルボニル基、ビス（プロポキシエチ
ル）アミノカルボニル基、ビス（ブトキシエチル）アミ
ノカルボニル基、ジ（アセチルオキシエチル）アミノカ
ルボニル基、ジ（ヒドロキシエチル）アミノカルボニル
基、Ｎ−エチル−Ｎ−（２−シアノエチル）アミノカル
ボニル基、ジ（プロピオニルオキシエチル）アミノカル
ボニル基などの炭素数３〜１７のジアルキルアミノカル
ボニル基；

【００９８】ジベンジルアミノカルボニル基、ジフェネ
チルアミノカルボニル基、ビス（４−エチルベンジル）
アミノカルボニル基、ビス（４−イソプロピルベンジ
ル）アミノカルボニル基などの炭素数１５〜２１のジア
ラルキルアミノカルボニル基；ジフェニルアミノカルボ
ニル基、ジトリルアミノカルボニル基、Ｎ−フェニル−
Ｎ−トリルアミノカルボニル基などの炭素数１３〜１５
のジアリールアミノカルボニル基；

【００９９】ジビニルアミノカルボニル基、ジアリルア
ミノカルボニル基、ジブテニルアミノカルボニル基、ジ
ペンテニルアミノカルボニル基、ジヘキセニルアミノカ
ルボニル基、Ｎ−ビニル−Ｎ−アリルアミノカルボニル
基などの炭素数５〜１３のジアルケニルアミノカルボニ
ル基；Ｎ−フェニル−Ｎ−アリルアミノカルボニル基、
Ｎ−（２−アセチルオキシエチル）−Ｎ−エチルアミノ
カルボニル基、Ｎ−トリル−Ｎ−メチルアミノカルボニ
ル基、Ｎ−ビニル−Ｎ−メチルアミノカルボニル基、Ｎ
−ベンジル−Ｎ−アリルアミノカルボニル基等の置換ま
たは無置換のアルキル基、アラルキル基、アリール基、
アルケニル基より選択した置換基を有する炭素数４〜１
１のジ置換アミノカルボニル基が挙げられる。

【０１００】Ｒ¹〜Ｒ⁸で表される置換または無置換のア
シルオキシ基の例としては、前記に挙げたアルキル基と
同様な置換基を有するアシルオキシ基であり、好ましく
は、ホルミルオキシ基、メチルカルボニルオキシ基、エ
チルカルボニルオキシ基、ｎ−プロピルカルボニルオキ
シ基、ｉｓｏ−プロピルカルボニルオキシ基、ｎ−ブチ
ルカルボニルオキシ基、ｉｓｏ−ブチルカルボニルオキ
シ基、ｓｅｃ−ブチルカルボニルオキシ基、ｔ−ブチル
カルボニルオキシ基、ｎ−ペンチルカルボニルオキシ
基、ｉｓｏ−ペンチルカルボニルオキシ基、ネオペンチ
ルカルボニルオキシ基、２−メチルブチルカルボニルオ
キシ基、ベンゾイルオキシ基、メチルベンゾイルオキシ
基、エチルベンゾイルオキシ基、トリルカルボニルオキ
シ基、プロピルベンゾイルオキシ基、４−ｔ−ブチルベ
ンゾイルオキシ基、ニトロベンジルカルボニルオキシ
基、３−ブトキシ−２−ナフトイルオキシ基、シンナモ
イルオキシ基などの炭素数１〜１６のアシルオキシ基が
挙げられる。

【０１０１】Ｒ¹〜Ｒ⁸で表される置換または無置換のヘ
テロアリール基の例としては、前記に挙げたアルキル基
と同様な置換基を有するヘテロアリール基であり、好ま
しくは、フラニル基、ピロリル基、３−ピロリノ基、ピ
ラゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾ
リル基、１，２，３−オキサジアゾリル基、１，２，３
−トリアゾリル基、１，２，４−トリアゾリル基、１，
３，４−チアジアゾリル基、ピリジニル基、ピリダジニ
ル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピペラジニル
基、トリアジニル基、ベンゾフラニル基、インドーリル
基、チオナフセニル基、ベンズイミダゾリル基、ベンゾ
チアゾリル基、ベンゾトリアゾ−ル−２−イル基、ベン
ゾトリアゾール−１−イル基、プリニル基、キノリニル
基、イソキノリニル基、クマリニル基、シンノリニル
基、キノキサリニル基、ジベンゾフラニル基、カルバゾ
リル基、フェナントロニリル基、フェノチアジニル基、
フラボニル基、フタルイミド基、ナフチルイミド基、な
どの無置換ヘテロアリール基；

【０１０２】あるいは以下の置換基、即ち、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原
子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、デシル基、メトキシメチル基、エトキシエチル基、
エトキシエチル基、トリフルオロメチル基等のアルキル
基；ベンジル基、フェネチル基などのアラルキル基；フ
ェニル基、トリル基、ナフチル基、キシリル基、メシル
基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基等のアリー
ル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキ
シ基、ペントキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキ
シ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキ
シ基、２−エチルヘキシルオキシ基、３，５，５−トリ
メチルヘキシルオキシ基等のアルコキシ基；ベンジルオ
キシ基、フェネチルオキシ基などのアラルキルオキシ
基；フェノキシ基、トリルオキシ基、ナフトキシ基、キ
シリルオキシ基、メシチルオキシ基、クロロフェノキシ
基、メトキシフェノキシ基等のアリールオキシ基；ビニ
ル基、アリル基、ブテニル基、ブタジエニル基、ペンテ
ニル基、オクテニル基等のアルケニル基；ビニルオキシ
基、アリルオキシ基、ブテニルオキシ基、ブタジエニル
オキシ基、ペンテニルオキシ基、オクテニルオキシ基等
のアルケニルオキシ基；メチルチオ基、エチルチオ基、
プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキ
シルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基、デシル
チオ基、メトキシメチルチオ基、エトキシエチルチオ
基、エトキシエチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基
等のアルキルチオ基；ベンジルチオ基、フェネチルチオ
基などのアラルキルチオ基；フェニルチオ基、トリルチ
オ基、ナフチルチオ基、キシリルチオ基、メシルチオ
基、クロロフェニルチオ基、メトキシフェニルチオ基等
のアリールチオ基；ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ
基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基等のジアル
キルアミノ基；アセチル基、プロピオニル基、ブタノイ
ル基等のアシル基；メトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基等のアルコキシカルボニル基；ベンジルオキ
シカルボニル基、フェネチルオキシカルボニル基等のア
ラルキルオキシカルボニル基；フェノキシカルボニル
基、トリルオキシカルボニル基、ナフトキシカルボニル
基、キシリルオキシカルボニル基、メシルオキシカルボ
ニル基、クロロフェノキシカルボニル基、メトキシフェ
ノキシカルボニル基等のアリールオキシカルボニル基；
ビニルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル
基、ブテニルオキシカルボニル基、ブタジエニルオキシ
カルボニル基、ペンテニルオキシカルボニル基、オクテ
ニルオキシカルボニル基等のアルケニルオキシカルボニ
ル基；メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボ
ニル基、プロピルアミノカルボニル基、ブチルアミノカ
ルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、ヘキシルア
ミノカルボニル基、ヘプチルアミノカルボニル基、オク
チルアミノカルボニル基、ノニルアミノカルボニル基、
３，５，５−トリメチルヘキシルアミノカルボニル基、
２−エチルヘキシルアミノカルボニル基等の炭素数２〜
１０のモノアルキルアミノカルボニル基や、ジメチルア
ミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ジプ
ロピルアミノカルボニル基、ジブチルアミノカルボニル
基、ジペンチルアミノカルボニル基、ジヘキシルアミノ
カルボニル基、ジヘプチルアミノカルボニル基、ジオク
チルアミノカルボニル基、ピペリジノカルボニル基、モ
ルホリノカルボニル基、４−メチルピペラジノカルボニ
ル基、４−エチルピペラジノカルボニル基等の炭素数３
〜２０のジアルキルアミノカルボニル基等のアルキルア
ミノカルボニル基；フラニル基、ピロリル基、３−ピロ
リノ基、ピロリジノ基、１，３−オキソラニル基、ピラ
ゾリル基、２−ピラゾリニル基、ピラゾリジニル基、イ
ミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、１，
２，３−オキサジアゾリル基、１，２，３−トリアゾリ
ル基、１，２，４−トリアゾリル基、１，３，４−チア
ジアゾリル基、４Ｈ−ピラニル基、ピリジニル基、ピペ
リジニル基、ジオキサニル基、モルホリニル基、ピリダ
ジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピペラジニ
ル基、トリアジニル基、ベンゾフラニル基、インドーリ
ル基、チオナフセニル基、ベンズイミダゾリル基、ベン
ゾチアゾリル基、プリニル基、キノリニル基、イソキノ
リニル基、クマリニル基、シンノリニル基、キノキサリ
ニル基、ジベンゾフラニル基、カルバゾリル基、フェナ
ントロニリル基、フェノチアジニル基、フラボニル基等
の複素環基；などの置換基により置換したヘテロアリー
ル基が挙げられる。

【０１０３】Ｒ¹とＲ²、Ｒ³とＲ⁴、Ｒ⁵とＲ⁶、Ｒ⁷とＲ⁸
が連結基を介して環を形成した例としては、−ＣＨ₂−
ＣＨ₂−ＣＨ₂−ＣＨ₂−、−ＣＨ（ＮＯ₂）−ＣＨ₂−Ｃ
Ｈ₂−ＣＨ₂−、−ＣＨ（ＣＨ₃）−ＣＨ₂−ＣＨ₂−ＣＨ₂
−、−ＣＨ（Ｃｌ）−ＣＨ₂−ＣＨ₂−ＣＨ₂−等の脂肪
族縮合環； −ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（ＮＯ₂）＝ＣＨ−
ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−、
−Ｃ（Ｃ₂Ｈ₅）＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（Ｃ₂Ｈ₅）
＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｃ₂Ｈ₅）−、−ＣＨ＝Ｃ（Ｃ₂Ｈ₅）
−Ｃ（Ｃ₂Ｈ₅）＝ＣＨ−、−Ｃ（Ｃｌ）＝ＣＨ−ＣＨ＝
ＣＨ−等の芳香族縮合環が挙げられる。

【０１０４】Ｒ⁹、Ｒ¹⁰の置換基の例としては、水素原
子；シアノ基；または前述のＲ¹〜Ｒ ⁸で示されるハロゲ
ン原子、アルキル基、アリール基と同様のハロゲン原
子、置換または無置換のアルキル基、アリール基が挙げ
られる。

【０１０５】Ｚ¹、Ｚ²で表される置換または無置換の５
員環含窒素芳香族化合物の例としては、ピロール、１−
メチルピロール、３−メチルピロール、２，５−ジメチ
ルピロール、ピラゾール、Ｎ−メチルピラゾール、３−
メチルピラゾール、４−メチルピラゾール、３，５−ジ
メチルピラゾール、イミダゾール、Ｎ−メチルイミダゾ
ール、２−メチルイミダゾール、４−メチルイミダゾー
ル、１，２−ジメチルイミダゾール、オキサゾール、チ
アゾール、４−メチルチアゾール、２，４−ジメチルチ
アゾール、４，５−ジメチルチアゾール、１，２，３−
オキサジアゾール、１，２，３−トリアゾール、１，
２，４−トリアゾール、１，３，４−チアジアゾール、
２，５−ジメチル−１，３，４−チアジアゾール等が挙
げられる。

【０１０６】Ｚ¹、Ｚ²で表される置換または無置換の６
員環含窒素芳香族化合物の例としては、ピリジン、２−
メチルピリジン、３−メチルピリジン、４−メチルピリ
ジン、２，３−ジメチルピリジン、２，４−ジメチルピ
リジン、２，５−ジメチルピリジン、２，６−ジメチル
ピリジン、３，４−ジメチルピリジン、３，５−ジメチ
ルピリジン、２−クロロピリジン、３−クロロピリジ
ン、２−メトキシピリジン、ピリダジン、３−メチルピ
リダジン、ピリミジン、４−メチルピリミジン、２−ク
ロロピリミジン、ピラジン、２−メチルピラジン、２，
３−ジメチルピラジン、２，５−ジメチルピラジン、２
−メトキシピラジン、ｓ−トリアジン等が挙げられる。

【０１０７】Ｚ¹、Ｚ²で表される置換または無置換の縮
環含窒素芳香族化合物の例としては、インドール、Ｎ−
メチルインドール、２−メチルインドール、３−メチル
インドール、５−メチルインドール、１，２−ジメチル
インドール、２，３−ジメチルインドール、４−クロロ
インドール、５−クロロインドール、６−クロロインド
ール、４−メトキシインドール、５−メトキシインドー
ル、６−メトキシインドール、ベンズイミダゾール、２
−メチルベンズイミダゾール、５−メチルベンズイミダ
ゾール、５，６−ジメチルベンズイミダゾール、５−ク
ロロベンズイミダゾール、ベンゾチアゾール、２−メチ
ルベンゾチアゾール、２，５−ジメチルベンゾチアゾー
ル、２−クロロベンゾチアゾール、プリン、キノリン、
２−メチルキノリン、３−メチルキノリン、４−メチル
キノリン、６−メチルキノリン、７−メチルキノリン、
８−メチルキノリン、２，４−ジメチルキノリン、２，
６−ジメチルキノリン、２−クロロキノリン、６−クロ
ロキノリン、８−クロロキノリン、６−メトキシキノリ
ン、イソキノリン、１−メチルイソキノリン、キノキサ
リン、２−メチルキノキサリン、２，３−ジメチルキノ
キサリン、カルバゾール、Ｎ−メチルカルバゾール、ア
クリジン、９−メチルアクリジン、フェノチアジン等が
挙げられる。

【０１０８】Ｍで表される２価の金属原子の具体的な例
としては、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒ
ｈ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｍｎ、Ｓｎ、Ｍｇ、Ｐｂ、Ｈｇ、Ｃ
ｄ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｂｅ、Ｃａ等が挙げられる。

【０１０９】本発明に用いられる一般式（１）で示され
る化合物は、限定されてないが、例えば、J. Chem. So
c. (C), 22-29(1996)、J. Biochem., 121, 654-660(199
7)、Z. Physiol. Chem, 214, 145(1933)、Die Chemie d
es Pyrrols, Band II, Halfte2, pp. 411-414，Akademi
sche Verlagesellschuft, Leipzig(1940)、J. Am. Che
m. Soc., 118, 16, 3869-3882 (1996)、Helv. Chim. Ac
ta, 64(4), 1098-1112(1981)等に記載の方法に準じて製
造される。代表的には、以下のような四段階の反応にて
製造することができる。

【０１１０】まず、第一段階では、一般式（５）及び一
般式（６）で示されるジピロメタン化合物をそれぞれ酢
酸等の溶媒中、臭素により臭素化し各々一般式（７）お
よび一般式（８）で示されるジピロメテン化合物を得
る。

【０１１１】

【化６】

【０１１２】

【化７】 ［式中、Ｒ¹〜Ｒ¹⁰は、式（２）のＲ¹〜Ｒ¹⁰とそれぞれ
同一の基を表す。］

【０１１３】

【化８】

【０１１４】

【化９】 ［式中、Ｒ¹〜Ｒ¹⁰は、式（２）のＲ¹〜Ｒ¹⁰とそれぞれ
同一の基を表す。］

【０１１５】次いで第二段階では、一般式（７）および
一般式（８）で示されるジピロメテン化合物を、それぞ
れエタノール等のアルコール系溶媒および／またはジメ
チルホルムアミド等のアミド溶媒などの有機溶媒中で、
金属または半金属の酢酸塩、硫酸塩、硝酸塩またはハロ
ゲン化塩等を用い、空気などの酸化剤あるいは非存在下
で反応させることにより、一般式（９）で示されるジピ
ロメテン金属錯体を得る。

【０１１６】

【化１０】 ［式中、Ｒ¹〜Ｒ¹⁰およびＭは、式（２）のＲ¹〜Ｒ¹⁰お
よびＭとそれぞれ同一の基を表す。］

【０１１７】次いで、第三段階では、ジピロメテン金属
錯体（９）をエタノール等のアルコール系溶媒および／
またはジメチルホルムアミド等のアミド溶媒などの有機
溶媒中でアジ化ナトリウム等と反応させることにより、
一般式（１０）で示されるジアザポルフィリン化合物を
得る。

【０１１８】

【化１１】 ［式中、Ｒ¹〜Ｒ¹⁰およびＭは、式（２）のＲ¹〜Ｒ¹⁰お
よびＭとそれぞれ同一の基を表す。］

【０１１９】次いで、第四段階では、ジアザポルフィリ
ン化合物（１０）を、トルエン等の有機溶媒中で、前記
Ｚ¹、Ｚ²で示される含窒素芳香族化合物と反応させるこ
とにより、一般式（２）で示される本発明に用いられる
ジアザポルフィリン化合物を得る。

【０１２０】表−１に本発明の一般式（２）で示される
ジアザポルフィリン化合物の具体例を示す。

【０１２１】

【表１】

【０１２２】

【表２】

【０１２３】

【表３】

【０１２４】

【表４】

【０１２５】本発明の光記録媒体を構成している記録層
の色素は、実質的に１種またはそれ以上の式（１）の化
合物からなるものであり、さらに、所望に応じて波長２
９０ｎｍ〜６９０ｎｍに吸収極大を持ち、３００ｎｍ〜
７００ｎｍでの屈折率が大きい前記以外の化合物と混合
しても良い。具体的には、シアニン系化合物、スクアリ
リウム系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノ
ン系化合物、テトラピラポルフィラジン系化合物、イン
ドフェノール系化合物、ピリリウム系化合物、チオピリ
リウム系化合物、アズレニウム系化合物、トリフェニル
メタン系化合物、キサンテン系化合物、インダスレン系
化合物、インジゴ系化合物、チオインジゴ系化合物、メ
ロシアニン系化合物、チアジン系化合物、アクリジン系
化合物、オキサジン系化合物、ジピロメテン系化合物な
どがあり、複数の化合物の混合であっても良い。これら
の化合物の混合割合は、０．１質量％〜３０質量％程度
である。

【０１２６】記録層を成膜する際に、必要に応じて式
（１）で表される化合物に、クエンチャー、化合物熱分
解促進剤、紫外線吸収剤、接着剤などを混合するか、あ
るいは、そのような効果を有する化合物を式（１）で表
される化合物の置換基として導入することも可能であ
る。

【０１２７】クエンチャーの具体例としては、アセチル
アセトナート系、ビスジチオ−α−ジケトン系やビスフ
ェニルジチオール系などのビスジチオール系、チオカテ
コナール系、サリチルアルデヒドオキシム系、チオビス
フェノレート系などの金属錯体が好ましい。また、アミ
ン系も好適である。

【０１２８】化合物熱分解促進剤としては、熱減量分析
（ＴＧ分析）などにより、化合物の熱分解の促進が確認
できるのもであれば特に限定されず、例えば、金属系ア
ンチノッキング剤、メタロセン化合物、アセチルアセト
ナト系金属錯体などの金属化合物が挙げられる。金属系
アンチノッキング剤の例としては、四エチル鉛、その他
の鉛系化合物、シマントレン［Ｍｎ（Ｃ₅Ｈ₅）（ＣＯ）
₃］などのＭｎ系化合物、また、メタロセン化合物の例
としては、鉄ビスシクロペンタジエニル錯体（フェロセ
ン）をはじめ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍ
ｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｚｒ、Ｌｕ、Ｔａ、Ｗ、Ｏｓ、Ｉｒ、
Ｓｃ、Ｙなどのビスシクロペンタジエニル錯体がある。
なかでもフェロセン、ルテノセン、オスモセン、ニッケ
ロセン、チタノセンおよびそれらの誘導体は良好な熱分
解促進効果がある。

【０１２９】その他、鉄系金属化合物として、メタロセ
ンの他に、ギ酸鉄、シュウ酸鉄、ラウリル酸鉄、ナフテ
ン酸鉄、ステアリン酸鉄、酢酸鉄などの有機酸鉄化合
物、アセチルアセトナート鉄錯体、フェナントロリン鉄
錯体、ビスピリジン鉄錯体、エチレンジアミン鉄錯体、
エチレンジアミン四酢酸鉄錯体、ジエチレントリアミン
鉄錯体、ジエチレングリコールジメチルエーテル鉄錯
体、ジホスフィノ鉄錯体、ジメチルグリオキシマート鉄
錯体などのキレート鉄錯体、カルボニル鉄錯体、シアノ
鉄錯体、アンミン鉄錯体などの鉄錯体、塩化第一鉄、塩
化第二鉄、臭化第一鉄、臭化第二鉄などのハロゲン化
鉄、あるいは、硝酸鉄、硫酸鉄などの無機鉄塩類、さら
には、酸化鉄などが挙げられる。ここで用いる熱分解促
進剤は有機溶剤に可溶で、かつ、耐湿熱性及び耐光性の
良好なものが望ましい。

【０１３０】上述した各種のクエンチャー及び化合物熱
分解促進剤は、必要に応じて、１種類で用いても、２種
類以上を混合して用いても良い。

【０１３１】さらに、必要に応じて、バインダー、レベ
リング剤、消泡剤などの添加物質を加えても良い。好ま
しいバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロー
ス、ケトン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ウ
レタン樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネー
ト、ポリオレフィンなどが挙げられる。

【０１３２】記録層を基板の上に成膜する際に、基板の
耐溶剤性や反射率、記録感度などを向上させるために、
基板の上に無機物やポリマーからなる層を設けても良
い。

【０１３３】ここで、記録層における一般式（１）で示
される化合物の含有量は、記録・再生が可能な任意の量
を選択することができるが、通常、３０質量％以上、好
ましくは６０質量％以上である。尚、実質的に１００質
量％であることも好ましい。

【０１３４】記録層を設ける方法は、例えば、スピンコ
ート法、スプレー法、キャスト法、スライド法、カーテ
ン法、エクストルージョン法、ワイヤー法、グラビア
法、スプレッド法、ローラーコート法、ナイフ法、浸漬
法などの塗布法、スパッタ法、化学蒸着法、真空蒸着法
などが挙げられるが、スピンコート法が簡便で好まし
い。

【０１３５】スピンコート法などの塗布法を用いる場合
には、一般式（１）で示される化合物を１〜４０質量
％、好ましくは３〜３０質量％となるように溶媒に溶解
あるいは分散させた塗布液を用いるが、この際、溶媒は
基板にダメージを与えないものを選ぶことが好ましい。
例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコ
ール、オクタフルオロペンタノール、アリルアルコー
ル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラフル
オロプロパノールなどのアルコール系溶媒、ヘキサン、
ヘプタン、オクタン、デカン、シクロヘキサン、メチル
シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシク
ロヘキサンなどの脂肪族または脂環式炭化水素系溶媒、
トルエン、キシレン、ベンゼンなどの芳香族炭化水素系
溶媒、四塩化炭素、クロロホルム、テトラクロロエタ
ン、ジブロモエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、
ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソプロピル
エーテル、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、アセト
ン、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノンなどの
ケトン系溶媒、酢酸エチル、乳酸メチルなどのエステル
系溶媒、水などが挙げられる。これらは単独で用いても
良く、あるいは、複数混合しても良い。

【０１３６】なお、必要に応じて、記録層の化合物を高
分子薄膜などに分散して用いたりすることもできる。

【０１３７】また、基板にダメージを与えない溶媒を選
択できない場合は、スパッタ法、化学蒸着法や真空蒸着
法などが有効である。

【０１３８】記録層の膜厚は、３０ｎｍ〜１０００ｎｍ
であるが、好ましくは５０ｎｍ〜３００ｎｍである。記
録層の膜厚を３０ｎｍより薄くすると、熱拡散が大きい
ため記録できないか、記録信号に歪が発生する上、信号
振幅が小さくなる場合がある。また、膜厚が１０００ｎ
ｍより厚い場合は反射率が低下し、再生信号特性が悪化
する場合がある。

【０１３９】次に記録層の上に、好ましくは５０ｎｍ〜
３００ｎｍの厚さの反射層を形成する。反射率を高める
ためや密着性をよくするために、記録層と反射層の間に
反射増幅層や接着層を設けることができる。反射層の材
料としては、再生光の波長で反射率の十分高いもの、例
えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐ
ｔ、ＴａおよびＰｄの金属を単独あるいは合金にして用
いることが可能である。この中でもＡｕ、Ａｇ、Ａｌは
反射率が高く反射層の材料として適している。青色レー
ザーでの記録・再生を行う場合には、ＡｌまたはＡｇが
好適である。これ以外でも下記のものを含んでいても良
い。例えば、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、
Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇ
ａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ
などの金属および半金属を挙げることができる。また、
ＡｇまたはＡｌを主成分とするものは反射率の高い反射
層が容易に得られるため好適である。金属以外の材料で
低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜
を形成し、反射層として用いることも可能である。

【０１４０】反射層を形成する方法としては、例えば、
スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真
空蒸着法などが挙げられる。また、基板の上や反射層の
下に反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上など
のために公知の無機系または有機系の中間層、接着層を
設けることもできる。

【０１４１】さらに、反射層の上に形成する保護層の材
料としては反射層を外力から保護するものであれば特に
限定しない。無機物質としては、ＳｉＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄、
ＭｇＦ₂、ＡｌＮ、ＳｎＯ₂などが挙げられる。また、有
機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線
硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂などを挙げることができ
る。熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などは適当な溶媒に溶
解して塗布液を調整した後に、この塗布液を塗布し、乾
燥することによって形成することができる。紫外線硬化
性樹脂はそのままもしくは適当な溶媒に溶解して塗布液
を調製した後にこの塗布液を塗布し、紫外線を照射して
硬化させることによって形成することができる。紫外線
硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、
エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレートなど
のアクリレート樹脂を用いることができる。これらの材
料は単独であるいは混合して用いても良く、１層だけで
なく多層膜にして用いても良い。

【０１４２】保護層の形成の方法としては、記録層と同
様にスピンコート法やキャスト法などの塗布法やスパッ
タ法や化学蒸着法などの方法が用いられるが、この中で
もスピンコート法が好ましい。

【０１４３】保護層の膜厚は、一般には０．１μｍ〜１
００μｍの範囲であるが、本発明においては、３μｍ〜
３０μｍであり、より好ましくは、５μｍ〜２０μｍで
ある。

【０１４４】保護層の上にさらにレーベルなどの印刷を
行うこともできる。

【０１４５】また、反射層面に保護シートまたは基板を
貼り合わせる、あるいは反射層面相互を内側とし対向さ
せ、光記録媒体２枚を貼り合わせるなどの手段を用いて
も良い。

【０１４６】基板鏡面側に、表面保護やごみ等の付着防
止のために紫外線硬化性樹脂、無機系薄膜等を成膜して
も良い。

【０１４７】ここで、本発明で言う波長３００ｎｍ〜５
００ｎｍおよび５００〜７００ｎｍのレーザーは、特に
制限はないが、例えば、可視光領域の広範囲で波長選択
のできる色素レーザーや、Ｈｅ−Ｎｅレーザー（６３３
ｎｍ）、窒素レーザー（３３７ｎｍ）等のガスレーザ
ー、波長４４５ｎｍのヘリウムカドミウムレーザー、波
長４５７ｎｍあるいは４８８ｎｍのアルゴンレーザー等
のイオンレーザー、波長４００〜４１０ｎｍののＧａＮ
系レーザー、ＣｒドープしたＬｉＳｎＡｌＦ₆を用いた
波長８６０ｎｍの赤外線レーザーの第２高調波４３０ｎ
ｍを発振するレーザー他、波長４１５、４２５、６０
２、６１２、６３５、６４７、６５０、６６０、６７
０、６８０ｎｍ等の可視半導体レーザー等の半導体レー
ザー等があげられる。本発明では、上述の半導体レーザ
ー等を記録または再生を行う記録層の感応する波長に応
じて適宜選択することができる。高密度記録および再生
は各々、上述の該半導体レーザーから選択される１波長
または複数波長において可能となる。

【０１４８】

【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れによりなんら限定されるものではない。

【０１４９】実施例１ 一般式（１）で表される化合物のうち、表１記載の化合
物（１−１）０．２ｇをジメチルシクロヘキサン１０ｍ
ｌに溶解し、色素溶液を調製した。基板は、ポリカーボ
ネート樹脂製で連続した案内溝（トラックピッチ：０．
７４ｍｍ）を有する外径１２０ｍｍφ、厚さ０．６ｍｍ
の円盤状のものを用いた。この基板上に色素溶液を回転
速度１５００ｍｉｎ^-1でスピンコートし、７０℃３時間
乾燥して、記録層を形成した。この記録層上にバルザー
ス社製スパッタ装置（ＣＤＩ−９００）を用いてＡｇを
スパッタし、厚さ１００ｎｍの反射層を形成した。スパ
ッタガスにはアルゴンガスを用いた。スパッタ条件は、
スパッタパワー２．５Ｋｗ、スパッタガス圧１．３３Ｐ
ａ（１．０×１０^-2Ｔｏｒｒ）で行った。

【０１５０】さらに反射層の上に紫外線硬化樹脂ＳＤ−
１７（大日本インキ化学工業製）をスピンコートした
後、紫外線照射して厚さ５ｍｍの保護層を形成した。更
に、保護層の上に紫外線硬化樹脂ＳＤ−３０１（大日本
インキ化学工業製）をスピンコートした後、前記基板と
同様なポリカーボネート樹脂基板をのせ、紫外線照射し
て基板を貼り合わせ、光記録媒体を作製した。

【０１５１】以上のようにして記録層が形成された光記
録媒体について、以下のように評価試験を行った。

【０１５２】波長４０３ｎｍ、開口数０．６５の青色レ
ーザーヘッドを搭載した評価機により記録周波数９．７
ＭＨｚ、レーザーパワー８．５ｍＷ、線速９．０ｍ／
ｓ、最短ピット長０．４６μｍとして記録を行った。良
好にピットが形成され、記録できた。記録後、同評価装
置により、線速９．０ｍ／ｓで再生を行ったところ、Ｃ
／Ｎ比［ｄＢ］４０ｄＢ以上であり、ピットを読み取る
ことができた。

【０１５３】また、４万ルクスのＸｅ光を１００時間当
てる耐光性試験を行った。試験後も、ピットを読み取る
ことができた。

【０１５４】更に湿度８５％ＲＨ、８０℃の雰囲気下で
放置する耐湿熱性試験を２００時間行った。試験後もピ
ットを読み取ることができた。

【０１５５】実施例２ 実施例１に従い作製した光記録媒体を評価するにあた
り、０．６ｍｍ厚に対応した波長６３５ｎｍ半導体レー
ザーヘッドを搭載した評価機を用いて、線速３．５ｍ／
ｓ、レーザーパワー８ｍＷで最短ピット長０．４０μｍ
になるように記録を行った。良好にピットを形成し、記
録できた。記録後、同評価装置を用いて再生を行ったと
ころ、ピットを読み取ることができた。

【０１５６】また、耐光性試験および耐湿熱性試験を行
った結果、試験後もピットを読み取ることができた。

【０１５７】実施例３〜７ 記録層に化合物（１−３７）〜（１−４１）を用いるこ
と以外は実施例１と同様にして光記録媒体を作製し、実
施例１と同様に記録と再生を行った。良好にピットを形
成し、また、ピットを読み取ることができた。

【０１５８】また、耐光性試験および耐湿熱性試験を行
った結果、試験後も、ピットを読み取ることができた。

【０１５９】実施例８ 一般式（１）で表される化合物のうち、表１記載の化合
物（１−２）をポリカーボネート樹脂製で連続した案内
溝（トラックピッチ：０．７４μｍ）を有する外径１２
０ｍｍφ、厚さ０．６ｍｍの円盤状の基板上に、真空蒸
着法にて厚さ７０ｎｍとなるように成膜した。

【０１６０】この記録層の上にバルザース社製スパッタ
装置（ＣＤＩ−９００）を用いて銀をスパッタし、厚さ
１００ｎｍの反射層を形成した。スパッタガスにはアル
ゴンガスを用いた。スパッタ条件は、スパッタパワー
２．５ｋＷ、スパッタガス圧１．３３Ｐａ（１．０×１
０^-2Ｔｏｒｒ）で行った。

【０１６１】さらに、反射層の上に紫外線硬化樹脂ＳＤ
−１７（大日本インキ化学工業製）をスピンコートした
後、紫外線照射して厚さ５ｍｍの保護層を形成した。更
に、保護層の上に紫外線硬化樹脂ＳＤ−３０１（大日本
インキ化学工業製）をスピンコートした後、前記基板と
同様な案内溝のないポリカーボネート樹脂基板をのせ、
紫外線照射して基板を貼り合わせ、光記録媒体を作製し
た。

【０１６２】次に、実施例１と同様に記録と再生を行っ
た。良好にピットを形成し、また、ピットを読み取るこ
とができた。

【０１６３】また、耐光性試験および耐湿熱性試験を行
った結果、試験後も、ピットを読み取ることができた。

【０１６４】実施例９〜４２ 記録層に化合物（１−３）〜（１−３６）を用いること
以外は実施例８と同様にして光記録媒体を作製し、実施
例８と同様に記録と再生を行った。良好にピットを形成
し、また、ピットを読み取ることができた。

【０１６５】また、耐光性試験および耐湿熱性試験を行
った結果、試験後も、ピットを読み取ることができた。

【０１６６】比較例１ 化合物（１−１）の代わりに、式（ａ）

【０１６７】

【化１２】

【０１６８】の化合物を用いた以外は、実施例１と同様
にして、光記録媒体を作製し、実施例１と同様に記録と
再生を行った。信号特性が悪く（Ｃ／Ｎ比［ｄＢ］４０
ｄＢ未満）、ピットの読み取りが困難であった。

【０１６９】比較例２ 化合物（１−１）の代わりに、式（ｂ）

【０１７０】

【化１３】

【０１７１】の化合物を用いた以外は、実施例１と同様
にして、光記録媒体を作製し、実施例１と同様に記録と
再生を行った。Ｃ／Ｎ比が３０ｄＢ以下と劣悪であっ
た。

【０１７２】上述の実施例１〜４２と比較例１〜２との
記録特性の比較から明らかなとおり、本発明の光記録媒
体は、青色レーザー波長領域ならびに赤色レーザー波長
領域のいずれにおいても、記録再生が可能であり、耐光
性および耐湿熱性とも優れている。

【０１７３】このことから、本発明で規定する構造の化
合物を含有する記録層は、波長３００〜５００ｎｍおよ
び／または５００〜７００ｎｍから選択されるレーザー
光による信号記録が可能であり、本発明の光記録媒体は
波長３００〜５００ｎｍおよび／または５００〜７００
ｎｍから選択されるレーザー光を記録再生に用いる光記
録媒体に用いることができる。

【０１７４】

【発明の効果】本発明によれば、一般式（１）で示され
る化合物を記録層として用いることにより、高密度光記
録媒体として非常に注目されている波長３００〜５００
ｎｍレーザーでの記録および再生、ならびに映画等２時
間以上の動画の録画用に用いられる波長５００〜７００
ｎｍでの記録および再生が可能な追記型光記録媒体を提
供することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光記録媒体の一構成例を示す模式図で
ある。

【図２】本発明の光記録媒体の他の一構成例を示す模式
図である。

【図３】本発明の光記録媒体の更に他の一構成例を示す
模式図である。

【符号の説明】

１ ：基板 ２ ：記録層 ３ ：反射層 ４ ：保護層 ５ ：接着層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小木曽 章 千葉県袖ヶ浦市長浦580番地32 三井化学 株式会社内 (72)発明者 塚原 宇 千葉県袖ヶ浦市長浦580番地32 三井化学 株式会社内 (72)発明者 井上 忍 千葉県袖ヶ浦市長浦580番地32 三井化学 株式会社内 (72)発明者 三沢 伝美 千葉県袖ヶ浦市長浦580番地32 三井化学 株式会社内 (72)発明者 小池 正士 千葉県袖ヶ浦市長浦580番地32 三井化学 株式会社内 Ｆターム(参考） 2H111 EA03 FB42 HA14 5D029 JA04

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板上に記録層として有機色素層を有す
   る光記録媒体において、該有機色素層中に、一般式
   （１）で示されるジアザポルフィリン系化合物を少なく
   とも１種含有する光記録媒体。 【化１】 〔式中、環Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄはそれぞれ独立に置換基を有
   していてもよいピロール環を表し、Ｘ、Ｙはそれぞれ独
   立に置換基を有していてもよいメチン基を表し、Ｍは２
   価の金属原子を表し、Ｗ¹、Ｗ²はそれぞれ独立に、金属
   原子Ｍに配位した置換基を有していてもよい含窒素芳香
   族化合物を表す。〕
2. 【請求項２】 ジアザポルフィリン化合物が一般式
   （２）で表される請求項１記載の光記録媒体。 【化２】 〔式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸はそ
   れぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シ
   アノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、
   スルホン酸基、置換または無置換のアルキル基、アラル
   キル基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基、ア
   ラルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルケニルオキ
   シ基、アルキルチオ基、アラルキルチオ基、アリールチ
   オ基、アルケニルチオ基、モノ置換アミノ基、ジ置換ア
   ミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アラルキ
   ルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
   アルケニルオキシカルボニル基、モノ置換アミノカルボ
   ニル基、ジ置換アミノカルボニル基、アシルオキシ基ま
   たはヘテロアリール基を表し、Ｒ¹とＲ²、Ｒ³とＲ⁴、Ｒ
   ⁵とＲ⁶、Ｒ⁷とＲ⁸は連結基を介して、それぞれ併せて脂
   肪族または芳香族縮合環を形成してもよく、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰
   はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ
   基、置換または無置換のアルキル基、アリール基を示
   し、Ｍは２価の金属原子を表し、Ｚ¹、Ｚ²はそれぞれ独
   立に、金属原子Ｍに配位した置換または無置換の５員環
   含窒素芳香族化合物、６員環含窒素芳香族化合物または
   縮環含窒素芳香族化合物を表す。〕
3. 【請求項３】 波長３００ｎｍ〜５００ｎｍおよび／ま
   たは５００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲から選択されるレー
   ザー光に対して記録および再生が可能である請求項１の
   光記録媒体。
4. 【請求項４】 波長４００ｎｍ〜５００ｎｍおよび／ま
   たは６００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲から選択されるレー
   ザー光により記録および再生が可能である請求項１の光
   記録媒体。
5. 【請求項５】 波長４００ｎｍ〜４１０ｎｍおよび／ま
   たは６３５ｎｍ〜６７０ｎｍの範囲から選択されるレー
   ザー光により記録および再生が可能である請求項１の光
   記録媒体。