JP2001284782A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2001284782A5 JP2001284782A5 JP2000091934A JP2000091934A JP2001284782A5 JP 2001284782 A5 JP2001284782 A5 JP 2001284782A5 JP 2000091934 A JP2000091934 A JP 2000091934A JP 2000091934 A JP2000091934 A JP 2000091934A JP 2001284782 A5 JP2001284782 A5 JP 2001284782A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solder
- electronic component
- bonding
- wiring board
- printed wiring
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Description
【発明の名称】接合構造及びその製造方法
【特許請求の範囲】
【請求項1】2つの被接合部材間を各々接合層を介してはんだ接合する接合構造において、
上記2つの被接合部材の少なくとも一方側の接合層外周に厚さ方向に断面積が変曲する凹部を形成したことを特徴とする接合構造。
【請求項2】接合層は、はんだより外部からの応力に強い材料からなることを特徴とする請求項1記載の接合構造。
【請求項3】はんだ接合部の寸法が小さい一方の接合層にのみ凹部を形成したことを特徴とする請求項1記載の接合構造。
【請求項4】2つの被接合部材間を各々接合層を介してはんだ接合する接合構造の製造方法において、
上記被接合部材の表面上に形成した導電パターンをはんだに接合させる箇所のみを開口部として露出させてエッチングレジストでマスクする第1工程と、
上記開口部及びこの周囲の導電パターンをエッチングして上記開口部の周囲にアンダーカットを形成する第2工程と、
上記第2工程でエッチングした上記開口部及びこの周囲の導電パターン上に、はんだより外部からの応力に強い材料を積層して、外周に凹部を有する上記接合層を形成する第3工程と
を備えたことを特徴とする接合構造の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明はプリント配線板とこれに実装する電子部品とを接合する接合構造及びその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
はんだボール(球状はんだ)を接合部材として電子部品をプリント配線板へはんだ接合する際には、プリント配線板へはんだボールを接合するためのランドを設けて、そこにはんだボールを溶融させて接合している。このようにして電子部品が実装されたプリント配線板は、様々な環境下で運用されるために周囲環境温度や電子部品の自己発熱などで熱が加わることにより、電子部品、及びプリント配線板のそれぞれが有する線膨張係数の違いによってせん断方向の力が発生し、はんだ接合部にせん断応力が付加される。
【0003】
図11、図12、及び図13は上記のような従来のはんだ接合構造を示す断面図である。図において、1は電子部品、2はNiめっき層3とともに電子部品1のはんだボール接合部であるランドを構成する銅箔、3はこの銅箔2上に設けたNiめっき層で、4は溶融したはんだボール5が電子部品1側のランドを超えて流れないようにマスクするソルダレジストである。5はNiめっき層3及びNiめっき層6に接合させたはんだボール、6は銅箔7とともにプリント配線板9のはんだボール接合部であるランドを構成するNiめっき層、7はNiめっき層6が表面上に形成された銅箔で、8は溶融したはんだボール5がプリント配線板9側のランドを超えて流れないようにマスクするソルダレジストである。9は電子部品1をはんだ接合により実装するプリント配線板である。また、電子部品1のはんだボール接合部のランド寸法(ランド面積)をa、プリント配線板9のランド寸法(ランド面積)をbとする。
【0004】
次に概要について説明する。
先ず、図11に示すようにa<bであると、周囲環境温度や電子部品1の自己発熱などで熱が加わることによって電子部品1とプリント配線板9のはんだ接合部にせん断方向の力が加わる。このせん断応力は接合面積の小さい電子部品1のはんだボール接合部に集中するために、応力の不均衡が発生して応力的に不利である電子部品1のはんだボール接合部が破断する。
【0005】
逆に、図12に示すようにa>bであると、周囲環境温度や電子部品1の自己発熱などで熱が加わることによって接合面積の小さいプリント配線板9のランド側にせん断応力が集中する。このため、上記と同様に、応力の不均衡が発生して応力的に不利となるプリント配線板9のランド側のはんだボール接合部が破断する。
【0006】
このような応力集中による応力分布の不均衡を防ぐため、多くの場合、図13に示すようにa=bとして、周囲環境温度や電子部品1の自己発熱などで熱が加わることによって発生するせん断応力の均衡を保ち、この応力が各はんだボール接合部に集中することを防いでいた。
【0007】
この他のせん断応力によるはんだボール接合部の破断に対する対策として、特開平4−245448号公報に開示されたはんだ接合方法がある。このはんだ接合方法は、接合部材にプラスチック粒子を配合したはんだを使用し、周囲環境温度や電子部品の自己発熱などで熱が加わることによって応力が生じると、このプラスチック粒子が変形することで発生したせん断応力を吸収し、はんだボール接合部の破断を防止していた。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
従来のはんだ接合方法及びはんだ接合構造は以上のように構成されているので、はんだ接合部の信頼性を確保するために、電子部品1のはんだボール接合部寸法とプリント配線板のランド側のはんだボール接合部寸法とを同一にするのが一般的であったが、このような構成をとるとはんだ接合部の高密度化に対応できないという課題があった。
【0009】
上記課題を具体的に説明すると、近年の電子機器の小型化にともなってプリント配線板9上の配線や電子部品1内の配線の微細化、及びはんだ接合する端子間のピッチの縮小、配線密度の増大化が求められており、これらの配線経路を確保するためには電子部品1のはんだボール接合部寸法とプリント配線板9のランド側のはんだボール接合部寸法を小型化する必要がある。
このとき、小型化されるにともなって、電子部品1のはんだボール接合部及びプリント配線板9のはんだボール接合部を同一寸法とすると、これらの位置を精度良く合わせなければならない。
また、電子部品1のはんだボール接合部、及びプリント配線板9のはんだボール接合部のはんだとの接合面積が小さくなることから接合強度が減少する。
このため、プリント配線板9や電子部品1内の配線構造が制約を受けることから、両はんだボール接合部の寸法を同一にする構成にできない場合があった。
【0010】
また、上記両はんだボール接合部の寸法を同一にしなくともよい特開平4−245448号公報に開示されるはんだ接合方法では、はんだ中のプラスチック粒子分布を均一にしなければならず製造が容易でなく、コストがかかるという課題があった。また、このようなプラスチック粒子が配合されたペースト状はんだは印刷法やディスペンスにより被接合部材間に供給されていたが、簡易に微細な被接合部材間に供給することが可能なはんだボールにする構成は開示されておらず、信頼性に問題があった。
【0011】
この発明は上記のような課題を解決するためになされたもので、電子部品及び/若しくはプリント配線板におけるはんだ接合構造の接合層の外周に切り欠いたような凹状を設けて、せん断応力が接合層内に集中するようにしてはんだ接合部にかかる応力を緩和させる接合構造及びその製造方法を得ることを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】
この発明に係る接合構造は、2つの被接合部材の少なくとも一方側の接合層外周に厚さ方向に断面積が変曲する凹部を形成したものである。
【0013】
この発明に係る接合構造は、接合層がはんだより外部からの応力に強い材料からなるものである。
【0014】
この発明に係る接合構造は、はんだ接合部の寸法が小さい一方の接合層にのみ凹部を形成したものである。
【0015】
この発明に係るはんだ接合構造の製造方法は、被接合部材の表面上に形成した導電パターンをはんだに接合させる箇所のみを開口部として露出させてエッチングレジストでマスクする第1工程と、上記開口部及びこの周囲の導電パターンをエッチングして上記開口部の周囲にアンダーカットを形成する第2工程と、上記第2工程でエッチングした上記開口部及びこの周囲の導電パターン上に、はんだより外部からの応力に強い材料を積層して、外周に凹部を有する上記接合層を形成する第3工程とを備えるものである。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施の一形態を説明する。
実施の形態1.
図1はこの発明の実施の形態1によるはんだ接合構造を示す断面図であり、図2は周囲環境の変化や電子部品の自己発熱などによる温度変化で生じたせん断応力が図1のはんだ接合構造に加わったときの状態を説明する断面図である。図において、1ははんだボール5を介して接合される電子部品(被接合部材)、2はNiめっき層3aとともに電子部品1のはんだボール接合部であるランドを構成する銅箔、3aはこの銅箔2上に設けたNiめっき層(接合層)で、はんだボール5側及び電子部品1側の各端面の面積より両端面間の断面積が小さくなるように外周に切り欠いたような凹状10を形成している。4aは溶融したはんだボール5が電子部品1側のランド(Niめっき層3a)を超えて流れないようにマスクするソルダレジストである。5は溶融することでNiめっき層3a及びNiめっき層6と接合するはんだボール、6は銅箔7とともにプリント配線板9のはんだボール接合部であるランドを構成するNiめっき層、7はNiめっき層6が表面上に形成された銅箔で、8は溶融したはんだボール5がプリント配線板9側のランドを超えて流れないようにマスクするソルダレジストである。9は電子部品1をはんだ接合により実装するプリント配線板(被接合部材)である。10はNiめっき層3aの外周に形成した凹状である。また、プリント配線板9のランド側のはんだボール接合部寸法(ランド面積)をa、電子部品1のはんだボール接合部寸法(ランド面積)をbとする。
【0017】
次に概要について説明する。
先ず、電子部品1のパッケージベース基板の端子部について説明する。パッケージベース基板の銅箔からなる導電パターン上には、ソルダレジストで端子部とする部分のみを開口して被覆されており、この開口部の銅箔2の表面上にNiめっき層3aが設けられている。さらに、このNiめっき層3a上には金めっきを施しておく(図1でははんだボール5とNiめっき層3aとを接合させた後の状態を示しているので、この金めっきの金ははんだボール5中に拡散しており図示されていない)。また、Niめっき層3aには外周に切り欠いたような凹状10を設けておく。上記端子部ははんだボール5を上記金めっきを施したNiめっき層3a上に配置し、リフローなどの方法ではんだボール5をNiめっき層3aに溶着させて作成する。
【0018】
このようなはんだボール5による端子部を有する電子部品1をプリント配線板9に実装したときのはんだ接合構造の一例が図1である。図では電子部品1のはんだボール接合部寸法aがプリント配線板9のランド側のはんだボール接合部寸法b以下である場合を示している。
【0019】
このとき、周囲環境の変化や電子部品1の自己発熱などで温度変化が生じた場合、電子部品1及びプリント配線板9の線膨張係数の違いから、例えば図2中の矢印方向のようなせん断方向の力が発生する。この力による応力ははんだ接合部の寸法が小さい電子部品1側に集中するが、その中でも切り欠いたような凹状10を有するNiめっき層3a内に集中する。これにより、はんだボール5及びこれとNiめっき層3aとの接合部が受けるせん断応力は緩和されるので、これらが破断するまでの寿命は延びることになる。
【0020】
また、Niははんだに比べて強度が高いために凹状10に応力が集中しても、この凹状10ははんだボール5及びこれとNiめっき層3aの接合部よりも長い寿命を有するので、その結果として本願発明のはんだ接合構造も長寿命が得られる。
これを簡単に定量的に説明すると、従来技術において述べた図11(a<b)の構成に冷熱衝撃試験(温度サイクル試験)を実施すると、200〜300サイクルではんだボール5との接合部にクラックや断線が生じていたが、Niめっき層3aの外周に凹状10を形成することにより、800サイクル程度まではんだボール5との接合部にクラックや断線が生じなかった。これにより、本願発明の構成とすることにより、従来の2〜3倍の長寿命化を期待することができる。
【0021】
また、従来のように信頼性を確保するために電子部品1のはんだボール接合部とプリント配線板9のランド側のはんだボール接合部を同一寸法にする必要はなくなるために、配線密度などの制約を受けることがなく、プリント配線板9や電子部品1内の配線自由度を向上させることができる。
【0022】
次にこの実施の形態1によるはんだ接合構造の他の構成例を示す。
図3は実施の形態1によるはんだ接合構造の他の例(変形例1)を示す断面図であり、電子部品1側でなく、プリント配線板9側のNiめっき層に凹状10を設けたものである。また、図4は周囲環境の変化や電子部品の自己発熱などによる温度変化で生じたせん断応力が図3のはんだ接合構造に加わったときの状態を説明する断面図である。図において、3は図11,12,13と同様に外周に凹状を形成していない電子部品1側のNiめっき層(接合層)、6aはプリント配線板9の導電パターンである銅箔7上に設けたNiめっき層(接合層)で、はんだボール5側及びプリント配線板9側の各端面の面積より両端面間の断面積が小さくなるように外周に切り欠いたような凹状10を形成している。8aは溶融したはんだボール5がプリント配線板9側のランド(Niめっき層6a)を超えて流れないようにマスクするソルダレジストである。なお、図1と同一構成要素には同一符号を付して重複する説明を省略する。
【0023】
概要について説明すると、図3の例では電子部品1のはんだボール接合部寸法≧プリント配線板9側のはんだボール接合部寸法となっているので、周囲環境の変化や電子部品1の自己発熱などで温度変化が生じた場合、寸法の小さいプリント配線板9側のNiめっき層6aが図4に示す矢印方向にせん断応力を受ける。この場合も、図2と同様にNiめっき層6aの凹状10に応力が集中するので、はんだボール5及びこれとNiめっき層6aの接合部が受けるせん断応力は緩和されるので、これらが破断するまでの寿命は延びることになる。
【0024】
また、図5は実施の形態1によるはんだ接合構造の他の例(変形例2)を示す断面図であり、電子部品1側及びプリント配線板9側のNiめっき層3a,6aに凹状10を設けたものである。なお、図1及び図3と同一構成要素には同一符号を付して重複する説明を省略する。
【0025】
概要について説明する。電子部品1側及びプリント配線板9側のNiめっき層3a,6aの外周に切り欠いたような凹状10を形成すると、周囲環境の変化や電子部品の自己発熱などによる温度変化で生じたせん断応力の不均衡を抑えるために電子部品1側もプリント配線板9側もはんだボール接合部寸法を同一にする必要がある。このとき、上記せん断応力は強度の高い各Niめっき層3a,6aの凹状10に集中するために、従来と比較してせん断応力に対する耐性が向上している。これより、従来のNiめっき層に凹状10がない場合と比べてはんだ接合面積を小さくすることができるので、電子部品1内の配線、及びプリント配線板9の配線に対する自由度を向上させることができる。
【0026】
以上のように、この実施の形態1によれば、電子部品1及び/若しくはプリント配線板9に設けたNiめっき層のうちの少なくとも一方に、はんだボール5側の端面の面積、電子部品1及び/若しくはプリント配線板9側の端面の面積より、両端面間の断面積が小さくなるように外周に凹状10を形成したので、周囲環境の変化や電子部品1の自己発熱などの温度変化によって生じたせん断応力が、各Niめっき層3a,6aの凹状10に集中することから、はんだボール5及びこれとNiめっき層3a,6aの接合部が受けるせん断応力を緩和することができ、これに対する耐性を向上させることができる。これにより、従来のように信頼性を確保するために電子部品1のはんだボール接合部とプリント配線板9のランド側のはんだボール接合部を同一寸法にする必要はなくなるために、配線密度などの制約を受けることがなく、プリント配線板9や電子部品1内の配線自由度を向上させることができる。
【0027】
また、この実施の形態1によれば、電子部品1及び/若しくはプリント配線板9がはんだボール5より外部からの応力に強いNiから構成されるので、はんだに比べて強度が高いNiを使用することから、その凹状10に上述したせん断応力が集中してもせん断応力に対する耐性を損なうことがない。
【0028】
なお、上記実施の形態では、凹状を形成するめっき層にNiを使用した例を示したが、これに限らず、はんだよりも強度があり、一般なプリント配線板の導電パターンの表面処理となる金属であればよい。例えば、Ni以外の金属としてPd、Auなどが考えられる。
【0029】
実施の形態2.
上記実施の形態1では外周に凹状を形成した接合層によるはんだ接合について示したが、この実施の形態2は外周に凹状を有する接合層の製造方法を示す。
【0030】
図6〜10はこの発明のはんだ接合構造における接合層の製造工程を示す断面図であり、プリント配線板9側の接合層の製造工程を示している。図において、11はパターニング前のプリント配線板9表面上に形成されている薄膜銅層、12は薄膜銅層11をパターンニングするためのエッチングレジスト、13は後述するソフトエッチングによって薄膜銅層11の周囲に形成されたソルダレジスト8aの下方部分がエッチングされることによって生じるソルダレジスト8aのオーバハング(エッチングレジスト)、14は後述する湿式めっきによって形成されるNiめっき層(接合層)、15はNiめっき層14の表面に形成した金めっき層である。なお、図1と同一構成要素には同一符号を付して重複する説明を省略する。
【0031】
次に概要について説明する。
先ず、プリント配線板9に形成されたベタの薄膜銅層11をパターンニングするために、図6に示すように薄膜銅層11上にエッチングレジスト12を塗布する。このとき、例えばはんだボール接合部のランドや配線パターンなどを形成する領域をマスクする。
【0032】
次に、銅に対する通常のエッチング処理を施して図7に示すようにはんだボール接合部のランドや配線パターンなどを形成する。
【0033】
パターン形成されたプリント配線板9のエッチングレジスト12を剥離し、図8に示すようにソルダレジスト8aを塗布して、はんだと接合する箇所のみを開口して薄膜銅層11を露出させておく(第1工程)。
【0034】
次に、図9に示すように、薄膜銅層11の露出箇所に対してソフトエッチングを施し、薄膜銅層11の露出部分を軽くエッチングする。その際、エッチング液がエッチングレジストとなるソルダレジスト8aの下まで入り込むようにする。具体的には、例えば、通常の銅をエッチングするのに使用する過硫酸ソーダなどのエッチング液に浸漬させ、時間及び温度を適切に制御することで、薄膜銅層11の表面を深さ5〜20μm程度エッチングする。これにより、薄膜銅層11の露出箇所、及び、この露出箇所周囲に形成されたソルダレジスト8aの下方における薄膜銅層11がエッチングされて、薄膜銅層11のアンダーカットをソルダレジスト8aがマスクするオーバハング13が形成される(第2工程)。なお、上記エッチングの時間及び温度については、使用する薬液、装置などにより異なるため、これらの仕様を考慮して最適な条件を求めておく。
【0035】
この後、湿式めっきによってNiめっきを施す。このとき、図10に示すように、めっき液はソルダレジスト8aのオーバハング13の下方まで回り込むのでソルダレジスト8aの端部を巻き込むような形となる。このようにしてNiめっきをNiめっき層14が所定の厚さになるまで継続する。これにより、ソルダレジスト8aを巻き込むことでNiめっき層14の外周に切り欠いたような凹状10が形成される(第3工程)。Niめっき完了後は、無電解めっきを施してNiめっき層14の表面に金めっき層15を形成して処理を完了する。
【0036】
以上のように、この実施の形態2によれば、被接合部材の表面上に形成した薄膜銅層11をはんだボール5に接合させる箇所のみを開口部として露出させてソルダレジスト8aでマスクし、開口部、及び、この周囲に形成されたソルダレジスト8aの下方における薄膜銅層11をソフトエッチングし、このエッチングした開口部、及び、この周囲に形成されたソルダレジスト8aの下方における薄膜銅層11上に、はんだボール5より外部からの応力に強い材料の湿式めっきを施して、外周に凹状10を有する接合層を形成するので、外周に凹状を有する接合層を簡易に形成することができる。また、ソフトエッチングにおける条件を調整することで凹状10を所望の断面積に形成することができる。
【0037】
なお、上記実施の形態ではNiを使用して凹状を形成する例を示したが、これに限らず、はんだよりも強度があり、一般なプリント配線板の導電パターンの表面処理となるPd、Auなどにおいても上述の方法により接合層を形成することができる。
【0038】
【発明の効果】
以上のように、この発明によれば、2つの被接合部材の少なくとも一方側の接合層外周に厚さ方向に断面積が変曲する凹部を形成するので、周囲環境の変化や電子部品の自己発熱などの温度変化によって生じたせん断応力が、接合層の凹状に集中することから、接合部材及びこれと接合層との接合部が受けるせん断応力を緩和することができ、これに対する耐性を向上させることができる効果がある。これにより、従来のように信頼性を確保するために被接合部材間のはんだ接合部を同一寸法にする必要はなくなるために設計上の自由度を向上させることができ、はんだ接合部の高密度化を図ることができる。
【0039】
この発明によれば、接合層がはんだより外部からの応力に強い材料からなるので、接合層の凹状にせん断応力が集中しても、これに対する耐性を損なうことがないという効果がある。
【0040】
この発明の接合構造の製造方法によれば、被接合部材の表面上に形成した導電パターンをはんだに接合させる箇所のみを開口部として露出させてエッチングレジストでマスクする第1工程と、開口部及びこの周囲の導電パターンをエッチングして上記開口部の周囲にアンダーカットを形成する第2工程と、第2工程でエッチングした開口部及びこの周囲の導電パターン上に、はんだより外部からの応力に強い材料を積層して、外周に凹部を有する上記接合層を形成する第3工程とを備えるので、外周に凹状を有する接合層を簡易に形成することができる効果がある。また、アンダーカット形成工程における条件を調整することで凹状を所望の断面積に形成することができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施の形態1によるはんだ接合構造を示す断面図である。
【図2】図1のはんだ接合構造にせん断応力が加わったときの状態を説明する断面図である。
【図3】実施の形態1によるはんだ接合構造の他の例を示す断面図である。
【図4】図3のはんだ接合構造にせん断応力が加わったときの状態を説明する断面図である。
【図5】実施の形態1によるはんだ接合構造の他の例を示す断面図である。
【図6】この発明のはんだ接合構造における接合層の製造工程を示す断面図である。
【図7】この発明のはんだ接合構造における接合層の製造工程を示す断面図である。
【図8】この発明のはんだ接合構造における接合層の製造工程を示す断面図である。
【図9】この発明のはんだ接合構造における接合層の製造工程を示す断面図である。
【図10】この発明のはんだ接合構造における接合層の製造工程を示す断面図である。
【図11】従来のはんだ接合構造を示す断面図である。
【図12】従来のはんだ接合構造を示す断面図である。
【図13】従来のはんだ接合構造を示す断面図である。
【符号の説明】
1 電子部品(被接合部材)、2 銅箔、3,3a Niめっき層(接合層)、4,4a ソルダレジスト、5 はんだボール、6 Niめっき層(接合層)、7 銅箔、8,8a ソルダレジスト、9 プリント配線板(被接合部材)、10 凹状、11 薄膜銅層、12 エッチングレジスト、13 オーバハング(エッチングレジスト)、14 Niめっき層(接合層)、15 金めっき層。
【特許請求の範囲】
【請求項1】2つの被接合部材間を各々接合層を介してはんだ接合する接合構造において、
上記2つの被接合部材の少なくとも一方側の接合層外周に厚さ方向に断面積が変曲する凹部を形成したことを特徴とする接合構造。
【請求項2】接合層は、はんだより外部からの応力に強い材料からなることを特徴とする請求項1記載の接合構造。
【請求項3】はんだ接合部の寸法が小さい一方の接合層にのみ凹部を形成したことを特徴とする請求項1記載の接合構造。
【請求項4】2つの被接合部材間を各々接合層を介してはんだ接合する接合構造の製造方法において、
上記被接合部材の表面上に形成した導電パターンをはんだに接合させる箇所のみを開口部として露出させてエッチングレジストでマスクする第1工程と、
上記開口部及びこの周囲の導電パターンをエッチングして上記開口部の周囲にアンダーカットを形成する第2工程と、
上記第2工程でエッチングした上記開口部及びこの周囲の導電パターン上に、はんだより外部からの応力に強い材料を積層して、外周に凹部を有する上記接合層を形成する第3工程と
を備えたことを特徴とする接合構造の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明はプリント配線板とこれに実装する電子部品とを接合する接合構造及びその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
はんだボール(球状はんだ)を接合部材として電子部品をプリント配線板へはんだ接合する際には、プリント配線板へはんだボールを接合するためのランドを設けて、そこにはんだボールを溶融させて接合している。このようにして電子部品が実装されたプリント配線板は、様々な環境下で運用されるために周囲環境温度や電子部品の自己発熱などで熱が加わることにより、電子部品、及びプリント配線板のそれぞれが有する線膨張係数の違いによってせん断方向の力が発生し、はんだ接合部にせん断応力が付加される。
【0003】
図11、図12、及び図13は上記のような従来のはんだ接合構造を示す断面図である。図において、1は電子部品、2はNiめっき層3とともに電子部品1のはんだボール接合部であるランドを構成する銅箔、3はこの銅箔2上に設けたNiめっき層で、4は溶融したはんだボール5が電子部品1側のランドを超えて流れないようにマスクするソルダレジストである。5はNiめっき層3及びNiめっき層6に接合させたはんだボール、6は銅箔7とともにプリント配線板9のはんだボール接合部であるランドを構成するNiめっき層、7はNiめっき層6が表面上に形成された銅箔で、8は溶融したはんだボール5がプリント配線板9側のランドを超えて流れないようにマスクするソルダレジストである。9は電子部品1をはんだ接合により実装するプリント配線板である。また、電子部品1のはんだボール接合部のランド寸法(ランド面積)をa、プリント配線板9のランド寸法(ランド面積)をbとする。
【0004】
次に概要について説明する。
先ず、図11に示すようにa<bであると、周囲環境温度や電子部品1の自己発熱などで熱が加わることによって電子部品1とプリント配線板9のはんだ接合部にせん断方向の力が加わる。このせん断応力は接合面積の小さい電子部品1のはんだボール接合部に集中するために、応力の不均衡が発生して応力的に不利である電子部品1のはんだボール接合部が破断する。
【0005】
逆に、図12に示すようにa>bであると、周囲環境温度や電子部品1の自己発熱などで熱が加わることによって接合面積の小さいプリント配線板9のランド側にせん断応力が集中する。このため、上記と同様に、応力の不均衡が発生して応力的に不利となるプリント配線板9のランド側のはんだボール接合部が破断する。
【0006】
このような応力集中による応力分布の不均衡を防ぐため、多くの場合、図13に示すようにa=bとして、周囲環境温度や電子部品1の自己発熱などで熱が加わることによって発生するせん断応力の均衡を保ち、この応力が各はんだボール接合部に集中することを防いでいた。
【0007】
この他のせん断応力によるはんだボール接合部の破断に対する対策として、特開平4−245448号公報に開示されたはんだ接合方法がある。このはんだ接合方法は、接合部材にプラスチック粒子を配合したはんだを使用し、周囲環境温度や電子部品の自己発熱などで熱が加わることによって応力が生じると、このプラスチック粒子が変形することで発生したせん断応力を吸収し、はんだボール接合部の破断を防止していた。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
従来のはんだ接合方法及びはんだ接合構造は以上のように構成されているので、はんだ接合部の信頼性を確保するために、電子部品1のはんだボール接合部寸法とプリント配線板のランド側のはんだボール接合部寸法とを同一にするのが一般的であったが、このような構成をとるとはんだ接合部の高密度化に対応できないという課題があった。
【0009】
上記課題を具体的に説明すると、近年の電子機器の小型化にともなってプリント配線板9上の配線や電子部品1内の配線の微細化、及びはんだ接合する端子間のピッチの縮小、配線密度の増大化が求められており、これらの配線経路を確保するためには電子部品1のはんだボール接合部寸法とプリント配線板9のランド側のはんだボール接合部寸法を小型化する必要がある。
このとき、小型化されるにともなって、電子部品1のはんだボール接合部及びプリント配線板9のはんだボール接合部を同一寸法とすると、これらの位置を精度良く合わせなければならない。
また、電子部品1のはんだボール接合部、及びプリント配線板9のはんだボール接合部のはんだとの接合面積が小さくなることから接合強度が減少する。
このため、プリント配線板9や電子部品1内の配線構造が制約を受けることから、両はんだボール接合部の寸法を同一にする構成にできない場合があった。
【0010】
また、上記両はんだボール接合部の寸法を同一にしなくともよい特開平4−245448号公報に開示されるはんだ接合方法では、はんだ中のプラスチック粒子分布を均一にしなければならず製造が容易でなく、コストがかかるという課題があった。また、このようなプラスチック粒子が配合されたペースト状はんだは印刷法やディスペンスにより被接合部材間に供給されていたが、簡易に微細な被接合部材間に供給することが可能なはんだボールにする構成は開示されておらず、信頼性に問題があった。
【0011】
この発明は上記のような課題を解決するためになされたもので、電子部品及び/若しくはプリント配線板におけるはんだ接合構造の接合層の外周に切り欠いたような凹状を設けて、せん断応力が接合層内に集中するようにしてはんだ接合部にかかる応力を緩和させる接合構造及びその製造方法を得ることを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】
この発明に係る接合構造は、2つの被接合部材の少なくとも一方側の接合層外周に厚さ方向に断面積が変曲する凹部を形成したものである。
【0013】
この発明に係る接合構造は、接合層がはんだより外部からの応力に強い材料からなるものである。
【0014】
この発明に係る接合構造は、はんだ接合部の寸法が小さい一方の接合層にのみ凹部を形成したものである。
【0015】
この発明に係るはんだ接合構造の製造方法は、被接合部材の表面上に形成した導電パターンをはんだに接合させる箇所のみを開口部として露出させてエッチングレジストでマスクする第1工程と、上記開口部及びこの周囲の導電パターンをエッチングして上記開口部の周囲にアンダーカットを形成する第2工程と、上記第2工程でエッチングした上記開口部及びこの周囲の導電パターン上に、はんだより外部からの応力に強い材料を積層して、外周に凹部を有する上記接合層を形成する第3工程とを備えるものである。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施の一形態を説明する。
実施の形態1.
図1はこの発明の実施の形態1によるはんだ接合構造を示す断面図であり、図2は周囲環境の変化や電子部品の自己発熱などによる温度変化で生じたせん断応力が図1のはんだ接合構造に加わったときの状態を説明する断面図である。図において、1ははんだボール5を介して接合される電子部品(被接合部材)、2はNiめっき層3aとともに電子部品1のはんだボール接合部であるランドを構成する銅箔、3aはこの銅箔2上に設けたNiめっき層(接合層)で、はんだボール5側及び電子部品1側の各端面の面積より両端面間の断面積が小さくなるように外周に切り欠いたような凹状10を形成している。4aは溶融したはんだボール5が電子部品1側のランド(Niめっき層3a)を超えて流れないようにマスクするソルダレジストである。5は溶融することでNiめっき層3a及びNiめっき層6と接合するはんだボール、6は銅箔7とともにプリント配線板9のはんだボール接合部であるランドを構成するNiめっき層、7はNiめっき層6が表面上に形成された銅箔で、8は溶融したはんだボール5がプリント配線板9側のランドを超えて流れないようにマスクするソルダレジストである。9は電子部品1をはんだ接合により実装するプリント配線板(被接合部材)である。10はNiめっき層3aの外周に形成した凹状である。また、プリント配線板9のランド側のはんだボール接合部寸法(ランド面積)をa、電子部品1のはんだボール接合部寸法(ランド面積)をbとする。
【0017】
次に概要について説明する。
先ず、電子部品1のパッケージベース基板の端子部について説明する。パッケージベース基板の銅箔からなる導電パターン上には、ソルダレジストで端子部とする部分のみを開口して被覆されており、この開口部の銅箔2の表面上にNiめっき層3aが設けられている。さらに、このNiめっき層3a上には金めっきを施しておく(図1でははんだボール5とNiめっき層3aとを接合させた後の状態を示しているので、この金めっきの金ははんだボール5中に拡散しており図示されていない)。また、Niめっき層3aには外周に切り欠いたような凹状10を設けておく。上記端子部ははんだボール5を上記金めっきを施したNiめっき層3a上に配置し、リフローなどの方法ではんだボール5をNiめっき層3aに溶着させて作成する。
【0018】
このようなはんだボール5による端子部を有する電子部品1をプリント配線板9に実装したときのはんだ接合構造の一例が図1である。図では電子部品1のはんだボール接合部寸法aがプリント配線板9のランド側のはんだボール接合部寸法b以下である場合を示している。
【0019】
このとき、周囲環境の変化や電子部品1の自己発熱などで温度変化が生じた場合、電子部品1及びプリント配線板9の線膨張係数の違いから、例えば図2中の矢印方向のようなせん断方向の力が発生する。この力による応力ははんだ接合部の寸法が小さい電子部品1側に集中するが、その中でも切り欠いたような凹状10を有するNiめっき層3a内に集中する。これにより、はんだボール5及びこれとNiめっき層3aとの接合部が受けるせん断応力は緩和されるので、これらが破断するまでの寿命は延びることになる。
【0020】
また、Niははんだに比べて強度が高いために凹状10に応力が集中しても、この凹状10ははんだボール5及びこれとNiめっき層3aの接合部よりも長い寿命を有するので、その結果として本願発明のはんだ接合構造も長寿命が得られる。
これを簡単に定量的に説明すると、従来技術において述べた図11(a<b)の構成に冷熱衝撃試験(温度サイクル試験)を実施すると、200〜300サイクルではんだボール5との接合部にクラックや断線が生じていたが、Niめっき層3aの外周に凹状10を形成することにより、800サイクル程度まではんだボール5との接合部にクラックや断線が生じなかった。これにより、本願発明の構成とすることにより、従来の2〜3倍の長寿命化を期待することができる。
【0021】
また、従来のように信頼性を確保するために電子部品1のはんだボール接合部とプリント配線板9のランド側のはんだボール接合部を同一寸法にする必要はなくなるために、配線密度などの制約を受けることがなく、プリント配線板9や電子部品1内の配線自由度を向上させることができる。
【0022】
次にこの実施の形態1によるはんだ接合構造の他の構成例を示す。
図3は実施の形態1によるはんだ接合構造の他の例(変形例1)を示す断面図であり、電子部品1側でなく、プリント配線板9側のNiめっき層に凹状10を設けたものである。また、図4は周囲環境の変化や電子部品の自己発熱などによる温度変化で生じたせん断応力が図3のはんだ接合構造に加わったときの状態を説明する断面図である。図において、3は図11,12,13と同様に外周に凹状を形成していない電子部品1側のNiめっき層(接合層)、6aはプリント配線板9の導電パターンである銅箔7上に設けたNiめっき層(接合層)で、はんだボール5側及びプリント配線板9側の各端面の面積より両端面間の断面積が小さくなるように外周に切り欠いたような凹状10を形成している。8aは溶融したはんだボール5がプリント配線板9側のランド(Niめっき層6a)を超えて流れないようにマスクするソルダレジストである。なお、図1と同一構成要素には同一符号を付して重複する説明を省略する。
【0023】
概要について説明すると、図3の例では電子部品1のはんだボール接合部寸法≧プリント配線板9側のはんだボール接合部寸法となっているので、周囲環境の変化や電子部品1の自己発熱などで温度変化が生じた場合、寸法の小さいプリント配線板9側のNiめっき層6aが図4に示す矢印方向にせん断応力を受ける。この場合も、図2と同様にNiめっき層6aの凹状10に応力が集中するので、はんだボール5及びこれとNiめっき層6aの接合部が受けるせん断応力は緩和されるので、これらが破断するまでの寿命は延びることになる。
【0024】
また、図5は実施の形態1によるはんだ接合構造の他の例(変形例2)を示す断面図であり、電子部品1側及びプリント配線板9側のNiめっき層3a,6aに凹状10を設けたものである。なお、図1及び図3と同一構成要素には同一符号を付して重複する説明を省略する。
【0025】
概要について説明する。電子部品1側及びプリント配線板9側のNiめっき層3a,6aの外周に切り欠いたような凹状10を形成すると、周囲環境の変化や電子部品の自己発熱などによる温度変化で生じたせん断応力の不均衡を抑えるために電子部品1側もプリント配線板9側もはんだボール接合部寸法を同一にする必要がある。このとき、上記せん断応力は強度の高い各Niめっき層3a,6aの凹状10に集中するために、従来と比較してせん断応力に対する耐性が向上している。これより、従来のNiめっき層に凹状10がない場合と比べてはんだ接合面積を小さくすることができるので、電子部品1内の配線、及びプリント配線板9の配線に対する自由度を向上させることができる。
【0026】
以上のように、この実施の形態1によれば、電子部品1及び/若しくはプリント配線板9に設けたNiめっき層のうちの少なくとも一方に、はんだボール5側の端面の面積、電子部品1及び/若しくはプリント配線板9側の端面の面積より、両端面間の断面積が小さくなるように外周に凹状10を形成したので、周囲環境の変化や電子部品1の自己発熱などの温度変化によって生じたせん断応力が、各Niめっき層3a,6aの凹状10に集中することから、はんだボール5及びこれとNiめっき層3a,6aの接合部が受けるせん断応力を緩和することができ、これに対する耐性を向上させることができる。これにより、従来のように信頼性を確保するために電子部品1のはんだボール接合部とプリント配線板9のランド側のはんだボール接合部を同一寸法にする必要はなくなるために、配線密度などの制約を受けることがなく、プリント配線板9や電子部品1内の配線自由度を向上させることができる。
【0027】
また、この実施の形態1によれば、電子部品1及び/若しくはプリント配線板9がはんだボール5より外部からの応力に強いNiから構成されるので、はんだに比べて強度が高いNiを使用することから、その凹状10に上述したせん断応力が集中してもせん断応力に対する耐性を損なうことがない。
【0028】
なお、上記実施の形態では、凹状を形成するめっき層にNiを使用した例を示したが、これに限らず、はんだよりも強度があり、一般なプリント配線板の導電パターンの表面処理となる金属であればよい。例えば、Ni以外の金属としてPd、Auなどが考えられる。
【0029】
実施の形態2.
上記実施の形態1では外周に凹状を形成した接合層によるはんだ接合について示したが、この実施の形態2は外周に凹状を有する接合層の製造方法を示す。
【0030】
図6〜10はこの発明のはんだ接合構造における接合層の製造工程を示す断面図であり、プリント配線板9側の接合層の製造工程を示している。図において、11はパターニング前のプリント配線板9表面上に形成されている薄膜銅層、12は薄膜銅層11をパターンニングするためのエッチングレジスト、13は後述するソフトエッチングによって薄膜銅層11の周囲に形成されたソルダレジスト8aの下方部分がエッチングされることによって生じるソルダレジスト8aのオーバハング(エッチングレジスト)、14は後述する湿式めっきによって形成されるNiめっき層(接合層)、15はNiめっき層14の表面に形成した金めっき層である。なお、図1と同一構成要素には同一符号を付して重複する説明を省略する。
【0031】
次に概要について説明する。
先ず、プリント配線板9に形成されたベタの薄膜銅層11をパターンニングするために、図6に示すように薄膜銅層11上にエッチングレジスト12を塗布する。このとき、例えばはんだボール接合部のランドや配線パターンなどを形成する領域をマスクする。
【0032】
次に、銅に対する通常のエッチング処理を施して図7に示すようにはんだボール接合部のランドや配線パターンなどを形成する。
【0033】
パターン形成されたプリント配線板9のエッチングレジスト12を剥離し、図8に示すようにソルダレジスト8aを塗布して、はんだと接合する箇所のみを開口して薄膜銅層11を露出させておく(第1工程)。
【0034】
次に、図9に示すように、薄膜銅層11の露出箇所に対してソフトエッチングを施し、薄膜銅層11の露出部分を軽くエッチングする。その際、エッチング液がエッチングレジストとなるソルダレジスト8aの下まで入り込むようにする。具体的には、例えば、通常の銅をエッチングするのに使用する過硫酸ソーダなどのエッチング液に浸漬させ、時間及び温度を適切に制御することで、薄膜銅層11の表面を深さ5〜20μm程度エッチングする。これにより、薄膜銅層11の露出箇所、及び、この露出箇所周囲に形成されたソルダレジスト8aの下方における薄膜銅層11がエッチングされて、薄膜銅層11のアンダーカットをソルダレジスト8aがマスクするオーバハング13が形成される(第2工程)。なお、上記エッチングの時間及び温度については、使用する薬液、装置などにより異なるため、これらの仕様を考慮して最適な条件を求めておく。
【0035】
この後、湿式めっきによってNiめっきを施す。このとき、図10に示すように、めっき液はソルダレジスト8aのオーバハング13の下方まで回り込むのでソルダレジスト8aの端部を巻き込むような形となる。このようにしてNiめっきをNiめっき層14が所定の厚さになるまで継続する。これにより、ソルダレジスト8aを巻き込むことでNiめっき層14の外周に切り欠いたような凹状10が形成される(第3工程)。Niめっき完了後は、無電解めっきを施してNiめっき層14の表面に金めっき層15を形成して処理を完了する。
【0036】
以上のように、この実施の形態2によれば、被接合部材の表面上に形成した薄膜銅層11をはんだボール5に接合させる箇所のみを開口部として露出させてソルダレジスト8aでマスクし、開口部、及び、この周囲に形成されたソルダレジスト8aの下方における薄膜銅層11をソフトエッチングし、このエッチングした開口部、及び、この周囲に形成されたソルダレジスト8aの下方における薄膜銅層11上に、はんだボール5より外部からの応力に強い材料の湿式めっきを施して、外周に凹状10を有する接合層を形成するので、外周に凹状を有する接合層を簡易に形成することができる。また、ソフトエッチングにおける条件を調整することで凹状10を所望の断面積に形成することができる。
【0037】
なお、上記実施の形態ではNiを使用して凹状を形成する例を示したが、これに限らず、はんだよりも強度があり、一般なプリント配線板の導電パターンの表面処理となるPd、Auなどにおいても上述の方法により接合層を形成することができる。
【0038】
【発明の効果】
以上のように、この発明によれば、2つの被接合部材の少なくとも一方側の接合層外周に厚さ方向に断面積が変曲する凹部を形成するので、周囲環境の変化や電子部品の自己発熱などの温度変化によって生じたせん断応力が、接合層の凹状に集中することから、接合部材及びこれと接合層との接合部が受けるせん断応力を緩和することができ、これに対する耐性を向上させることができる効果がある。これにより、従来のように信頼性を確保するために被接合部材間のはんだ接合部を同一寸法にする必要はなくなるために設計上の自由度を向上させることができ、はんだ接合部の高密度化を図ることができる。
【0039】
この発明によれば、接合層がはんだより外部からの応力に強い材料からなるので、接合層の凹状にせん断応力が集中しても、これに対する耐性を損なうことがないという効果がある。
【0040】
この発明の接合構造の製造方法によれば、被接合部材の表面上に形成した導電パターンをはんだに接合させる箇所のみを開口部として露出させてエッチングレジストでマスクする第1工程と、開口部及びこの周囲の導電パターンをエッチングして上記開口部の周囲にアンダーカットを形成する第2工程と、第2工程でエッチングした開口部及びこの周囲の導電パターン上に、はんだより外部からの応力に強い材料を積層して、外周に凹部を有する上記接合層を形成する第3工程とを備えるので、外周に凹状を有する接合層を簡易に形成することができる効果がある。また、アンダーカット形成工程における条件を調整することで凹状を所望の断面積に形成することができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施の形態1によるはんだ接合構造を示す断面図である。
【図2】図1のはんだ接合構造にせん断応力が加わったときの状態を説明する断面図である。
【図3】実施の形態1によるはんだ接合構造の他の例を示す断面図である。
【図4】図3のはんだ接合構造にせん断応力が加わったときの状態を説明する断面図である。
【図5】実施の形態1によるはんだ接合構造の他の例を示す断面図である。
【図6】この発明のはんだ接合構造における接合層の製造工程を示す断面図である。
【図7】この発明のはんだ接合構造における接合層の製造工程を示す断面図である。
【図8】この発明のはんだ接合構造における接合層の製造工程を示す断面図である。
【図9】この発明のはんだ接合構造における接合層の製造工程を示す断面図である。
【図10】この発明のはんだ接合構造における接合層の製造工程を示す断面図である。
【図11】従来のはんだ接合構造を示す断面図である。
【図12】従来のはんだ接合構造を示す断面図である。
【図13】従来のはんだ接合構造を示す断面図である。
【符号の説明】
1 電子部品(被接合部材)、2 銅箔、3,3a Niめっき層(接合層)、4,4a ソルダレジスト、5 はんだボール、6 Niめっき層(接合層)、7 銅箔、8,8a ソルダレジスト、9 プリント配線板(被接合部材)、10 凹状、11 薄膜銅層、12 エッチングレジスト、13 オーバハング(エッチングレジスト)、14 Niめっき層(接合層)、15 金めっき層。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000091934A JP3973821B2 (ja) | 2000-03-29 | 2000-03-29 | 接合構造及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000091934A JP3973821B2 (ja) | 2000-03-29 | 2000-03-29 | 接合構造及びその製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001284782A JP2001284782A (ja) | 2001-10-12 |
JP2001284782A5 true JP2001284782A5 (ja) | 2004-12-16 |
JP3973821B2 JP3973821B2 (ja) | 2007-09-12 |
Family
ID=18607341
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000091934A Expired - Fee Related JP3973821B2 (ja) | 2000-03-29 | 2000-03-29 | 接合構造及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3973821B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4520665B2 (ja) * | 2001-06-08 | 2010-08-11 | 日本シイエムケイ株式会社 | プリント配線板及びその製造方法並びに部品実装構造 |
DE10212495B4 (de) | 2002-03-21 | 2004-02-26 | Schulz-Harder, Jürgen, Dr.-Ing. | Verfahren zum Herstellen eines Metall-Keramik-Substrats, vorzugsweise eines Kupfer-Keramik-Substrats |
AU2003222722A1 (en) * | 2002-03-13 | 2003-09-29 | Jurgen Schulz-Harder | Method for the production of a metal-ceramic substrate, preferably a copper-ceramic substrate |
US7267861B2 (en) * | 2005-05-31 | 2007-09-11 | Texas Instruments Incorporated | Solder joints for copper metallization having reduced interfacial voids |
US8309856B2 (en) | 2007-11-06 | 2012-11-13 | Ibiden Co., Ltd. | Circuit board and manufacturing method thereof |
JP2020141015A (ja) * | 2019-02-27 | 2020-09-03 | 京セラ株式会社 | 配線基板 |
CN112404786B (zh) * | 2020-09-28 | 2022-09-20 | 中国电子科技集团公司第二十九研究所 | 一种提升气密性软钎焊效果的结构及其焊接工艺 |
-
2000
- 2000-03-29 JP JP2000091934A patent/JP3973821B2/ja not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0452506B1 (en) | METHOD OF PRODUCING A FLEXIBLE CIRCUIT BOARD FOR MOUNTING IC's | |
US6297553B1 (en) | Semiconductor device and process for producing the same | |
US6251766B1 (en) | Method for improving attachment reliability of semiconductor chips and modules | |
US4897918A (en) | Method of manufacturing an interboard connection terminal | |
EP1381081A1 (en) | Radiation type bga package and production method therefor | |
US20020158347A1 (en) | Resin -encapsulated packing lead member for the same and method of fabricating the lead member | |
JPH11330126A (ja) | 半田構造部、電子構成部品アセンブリ及び電子構成部品アセンブリの製造方法 | |
JP2756184B2 (ja) | 電子部品の表面実装構造 | |
JP4993754B2 (ja) | Pga型配線基板及びその製造方法 | |
JP3973821B2 (ja) | 接合構造及びその製造方法 | |
JP2001284782A5 (ja) | ||
KR100334449B1 (ko) | 반도체장치의형성방법 | |
EP0084464A2 (en) | Connector for electronic subassemblies | |
JP2008135691A (ja) | 配線板 | |
JPH06104547A (ja) | フレキシブル基板 | |
JP2000232179A (ja) | Pga型電子部品用基板、その製造方法及び半導体装置 | |
JP3925752B2 (ja) | バンプ付き配線基板及び半導体パッケ−ジの製造法 | |
JP4364991B2 (ja) | リードピン付き配線基板 | |
EP0828293A1 (en) | Reflow soldering method for surface mounted semiconductor device | |
JPH09232736A (ja) | プリント配線板 | |
JP2725665B2 (ja) | プリント配線板製造方法 | |
JP3585806B2 (ja) | ピン付き配線基板 | |
JPH11245085A (ja) | 接合部材およびこれを用いた半導体実装装置 | |
JP2008091692A (ja) | 半導体回路モジュールの製造方法 | |
KR100850457B1 (ko) | 양면의 단자가 연결된 기판 및 이를 제조하는 방법 |