JP2001284496A - Resin sealed semiconductor device and manufacturing method therefor - Google Patents

Resin sealed semiconductor device and manufacturing method therefor

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JP2001284496A JP2000089638A JP2000089638A JP2001284496A JP 2001284496 A JP2001284496 A JP 2001284496A JP 2000089638 A JP2000089638 A JP 2000089638A JP 2000089638 A JP2000089638 A JP 2000089638A JP 2001284496 A JP2001284496 A JP 2001284496A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin sealed semiconductor device which reduces a thermal resistance using an existing lead frame, is easily produced, and can be thinner, and to provide a manufacturing method therefor. SOLUTION: A semiconductor device 1 comprises at least; (a) a chip 3 firmly fixed to a chip mounting part 13, (b) an exterior terminal 11, (c) a thin metallic wire 5 for connecting an inner terminal 12 to an outer connecting electrode of the chip 3, (d) a resin 7 for sealing a predetermined area including the chip 3, a thin metallic wire 5 and an inner terminal 12, and (e) encapsulation plates 22 and 32 being formed with kovar on top and bottom faces of an encapsulation resin body 2. The encapsulation plates 22 and 32 have an approximately the same planar shape as an encapsulation resin body 2 of a semiconductor device 1, the first principal plane being buried in the resin 7, and the second principal plane on the other side being exposed to the outside. In addition, in a predetermined position of the first principal plane of each encapsulation plate 22, supporting projections 23 and 33 are formed to be united with an encapsulation plate 22 and are abutted with appointed terminals in a facing manner for the top and the bottom.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、樹脂封止型半導体
装置及びその製造方法に関し、特に封止樹脂本体部の上
下両面に封止樹脂と異なる封止プレートを備えた樹脂封
止型半導体装置及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resin-encapsulated semiconductor device and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a resin-encapsulated semiconductor device having a sealing plate different from a sealing resin on both upper and lower surfaces of a sealing resin body. And its manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】封止樹脂本体部の上下両面に封止樹脂と
異なる封止プレートを備えた樹脂封止型半導体装置の例
として、高い放熱性を得るために放熱板を上下両面に設
けたものが、特開昭61−166051号公報(以下、
公知例1とする)或いは特開平4−27145号公報
(以下、公知例2とする)に開示されている。
2. Description of the Related Art As an example of a resin-sealed semiconductor device having a sealing plate different from a sealing resin on both upper and lower surfaces of a sealing resin body, heat radiating plates are provided on both the upper and lower surfaces in order to obtain high heat dissipation. What is disclosed in JP-A-61-166051 (hereinafter, referred to as
Known example 1) or JP-A-4-27145 (hereinafter referred to as known example 2).

【0003】図6は、公知例1に開示された樹脂封止型
半導体装置の断面図で、ダイパッド102に半導体素子
(以下、チップとする)101をAu−Si共晶法或い
は銀ペーストを用いたグルーイング法で固着し、チップ
表面上に接着剤106を用いてアルミニウム或いは銅か
らなるチップ側放熱板107を接着し、ダイパッド裏面
にはダイパッド側放熱板108を直接接触させて樹脂封
止して、熱抵抗を大幅に低下させている。
FIG. 6 is a cross-sectional view of a resin-encapsulated semiconductor device disclosed in the prior art 1. A semiconductor element (hereinafter, referred to as a chip) 101 is formed on a die pad 102 by using an Au-Si eutectic method or a silver paste. The chip-side heat radiating plate 107 made of aluminum or copper is adhered to the chip surface using an adhesive 106, and the die pad-side heat radiating plate 108 is brought into direct contact with the back surface of the die pad and resin-sealed. Therefore, the thermal resistance is greatly reduced.

【0004】図7(a)は、公知例2に開示された半導
体装置の断面図の一例で、チップ202は下面放熱板2
05bに直接接着されており、上下の放熱板205a,
205bは放熱板上に複数配列された結合ピン206に
より接合されている。図7(b)は、この半導体装置の
上面放熱板205a、リードフレーム204、下面放熱
板205bの固定方法を示したものである。金線205
による接続終了後、下面放熱板205bの凸ピン206
bに上面放熱板205aの凹ピン206aを合わせ、上
下放熱板205a,205bを結合固定している。図7
(c)は、この半導体装置を封止する際の断面図であ
る。上下の放熱板205a,205bは、それぞれ封止
金型の上型207a,下型207bに接し、金型クラン
プ時に金型内に固定される。
FIG. 7A is an example of a cross-sectional view of a semiconductor device disclosed in the prior art 2.
05b, the upper and lower heat sinks 205a,
205b is joined by a plurality of connecting pins 206 arranged on a heat sink. FIG. 7B shows a method of fixing the upper heat sink 205a, the lead frame 204, and the lower heat sink 205b of the semiconductor device. Gold wire 205
After the connection is completed, the convex pin 206 of the lower surface heat sink 205b is
The upper and lower heat radiating plates 205a and 205b are fixedly connected to the concave pins 206a of the upper heat radiating plate 205a. FIG.
FIG. 3C is a cross-sectional view when the semiconductor device is sealed. The upper and lower heat sinks 205a and 205b are in contact with the upper mold 207a and the lower mold 207b of the sealing mold, respectively, and are fixed in the mold at the time of mold clamping.

【0005】また、上述の樹脂封止型半導体装置を含め
て一般的な樹脂封止型半導体装置の従来の製造方法で
は、チップを搭載したリードフレームを樹脂封止する方
法として、その各半導体チップ部に対応する所定の樹脂
封止領域(以下、キャビティとする)を形成した封止金
型でリードフレームを型締めして、封止樹脂を注入し、
樹脂封止を行っていた。
In a conventional manufacturing method of a general resin-encapsulated semiconductor device including the above-described resin-encapsulated semiconductor device, a method of sealing a lead frame on which a chip is mounted with a resin is performed by using a method of sealing each semiconductor chip. The lead frame is clamped with a sealing mold in which a predetermined resin sealing region (hereinafter, referred to as a cavity) corresponding to the portion is formed, a sealing resin is injected,
Resin sealing was performed.

【0006】図8は、樹脂封止型半導体装置の従来の製
造方法を説明するための図で、チップ3を搭載しチップ
3の外部接続電極(図示せず)と内部端子を金属細線で
接続したリードフレーム10を封止装置(図示せず)の
上金型70と下金型80とで型締めして、封止樹脂7を
注入した後の状態を示す部分断面図である。
FIG. 8 is a view for explaining a conventional method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device. A chip 3 is mounted, and external connection electrodes (not shown) of the chip 3 and internal terminals are connected by thin metal wires. FIG. 6 is a partial cross-sectional view showing a state after the lead frame 10 is clamped by an upper mold 70 and a lower mold 80 of a sealing device (not shown), and a sealing resin 7 is injected.

【0007】図9は、これらの金型をキャビティ形成面
側から見た模式的な平面図で(a),(b)はそれぞれ
上金型70と下金型80である。また、図10は、図9
の金型の主要部であるキャビティ71,81を中心とし
た模式的な部分断面図で、(a)は図9(a)のP−
P’線に沿った断面図であり、(b)は図9(b)のQ
−Q’線に沿った断面図である。
FIGS. 9A and 9B are schematic plan views of these dies as viewed from the cavity forming surface side. FIGS. 9A and 9B show an upper die 70 and a lower die 80, respectively. 10 is the same as FIG.
9 (a) is a schematic partial cross-sectional view centering on cavities 71 and 81 which are main parts of the mold shown in FIG. 9 (a).
9B is a cross-sectional view taken along the line P ′, and FIG.
It is sectional drawing which followed the -Q 'line.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】上述した公知例1に開
示された樹脂封止型半導体装置は、チップ表面と放熱板
とを接着剤で接着し、公知例2に開示の半導体装置では
チップ裏面を直接放熱板に接着しているので、いずれも
熱抵抗の低減には有効な構造となっている。
The resin-encapsulated semiconductor device disclosed in the above-mentioned known example 1 has a chip surface and a radiator plate bonded to each other with an adhesive, and the semiconductor device disclosed in the known example 2 has a chip back surface. Are directly bonded to the heat radiating plate, so that each has an effective structure for reducing the thermal resistance.

【0009】しかし、これらはチップ表面と放熱板とを
接着剤で接着したり、チップ裏面を直接放熱板に接着す
る等工程追加(公知例1)や専用のリードフレームを必
要とする(公知例2)等、生産性については必ずしも考
慮されていない。
However, these require additional steps such as bonding the chip surface and the heat radiating plate with an adhesive, and bonding the chip back surface directly to the heat radiating plate (known example 1), and require a dedicated lead frame (known example). 2) etc., productivity is not always considered.

【0010】また、近年の樹脂封止型半導体装置の薄型
化への対応も、その構造上容易でないという問題もあ
る。
Also, there is a problem that it is not easy to cope with the recent thinning of the resin-encapsulated semiconductor device due to its structure.

【0011】更に、公知例1,2の開示の半導体装置を
含めて一般的な樹脂封止型半導体装置の従来の製造方法
では、封止金型70,80は所定の樹脂封止形状に対応
するキャビティ71,81や封止樹脂の注入経路となる
ランナー部85を精密に加工して製作する必要があり、
新しい樹脂封止サイズの半導体装置を製作する際、封止
金型70,80の設計と製作には数ヶ月を要し、他の資
材の準備期間に対して開発期間の足かせとなっている。
また半導体装置によって樹脂封止形状が異なると封止金
型70,80のキャビティ71,81が異なり、封止金
型を樹脂封止形状が異なる半導体装置間で共用すること
は不可能で、それぞれの形状毎に封止金型70,80を
準備する必要がある。
Further, in the conventional manufacturing method of a general resin-sealed type semiconductor device including the semiconductor devices disclosed in the known examples 1 and 2, the sealing dies 70 and 80 correspond to a predetermined resin-sealed shape. It is necessary to precisely process and manufacture the cavities 71 and 81 to be formed and the runner portion 85 serving as an injection path of the sealing resin.
When manufacturing a semiconductor device having a new resin sealing size, it takes several months to design and manufacture the sealing dies 70 and 80, which hinders the development period from the preparation period of other materials.
Further, if the resin sealing shape differs depending on the semiconductor device, the cavities 71, 81 of the sealing molds 70, 80 differ, and it is impossible to share the sealing mold between semiconductor devices having different resin sealing shapes. It is necessary to prepare sealing molds 70 and 80 for each shape.

【0012】本発明は、既存のリードフレームを用いな
がら熱抵抗を低減でき、且つ製造が容易で、更に薄型化
にも対応できる樹脂封止型半導体装置及びその製造方法
を提供しようとするものである。
An object of the present invention is to provide a resin-encapsulated semiconductor device that can reduce thermal resistance while using an existing lead frame, is easy to manufacture, and can be made thinner, and a method of manufacturing the same. is there.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明の樹脂封止型半導
体装置は、少なくとも第1の主面が封止樹脂中に埋め込
まれ且つ前記第1の主面と反対側の第2の主面が露出し
た封止プレートを封止樹脂本体部の上面と下面それぞれ
に有し、更に前記封止プレートは前記第1の主面にこの
封止プレートと一体で形成され且つ樹脂封止領域内の所
定の端子と当接する支持突起部を備えている。
The resin-encapsulated semiconductor device of the present invention has at least a first main surface embedded in a sealing resin and a second main surface opposite to the first main surface. Are provided on the upper surface and the lower surface of the sealing resin body, respectively, and the sealing plate is formed integrally with the sealing plate on the first main surface, and the sealing plate in the resin sealing region It has a support protrusion that comes into contact with a predetermined terminal.

【0014】このとき、支持突起部が当接する端子は、
チップ搭載部をリードフレームのフレーム部に接続する
搭載部支持端子,未使用端子,接地端子または電源端子
のいずれかにすることができる。
At this time, the terminal with which the support protrusion contacts is
The chip mounting portion can be any of a mounting portion support terminal, an unused terminal, a ground terminal, and a power supply terminal for connecting to the frame portion of the lead frame.

【0015】また、封止プレートは、コバールと42合
金を少なくとも含む鉄系合金材料または銅系合金材料の
いずれかで形成することができる。
Further, the sealing plate can be formed of either an iron-based alloy material or a copper-based alloy material containing at least Kovar and 42 alloy.

【0016】また、本発明の樹脂封止型半導体装置の製
造方法は、所定のリードフレームに所定の半導体チップ
を搭載し、前記チップの外部接続用電極と前記リードフ
レームの各内部端子とを金属細線で接続して、搭載済み
リードフレームを製造する搭載済みフレーム製造工程
と、前記チップを封止する封止樹脂本体部と同じ平面形
状で且つ前記リードフレームのチップ搭載部配列ピッチ
と同じピッチで配列されている封止プレートと、この封
止プレートを連結部を介して支持し且つ前記封止プレー
トよりも厚いフレーム部とを少なくとも備え、封止装置
の上金型と下金型それぞれのクランプ面に当接する平坦
面を有する第1の封止プレートフレーム及び第2の封止
プレートフレームを準備する封止プレートフレーム準備
工程と、前記下金型に、前記第2の封止プレートフレー
ムと前記搭載済みリードフレームと前記第1の封止プレ
ートフレームを前記下金型側からこの順序で積層して装
填するフレーム装填工程と、前記下金型に装填された前
記第1の封止プレートフレームの上から前記上金型でク
ランプして前記搭載済みリードフレームの前記チップ搭
載部を含む所定の領域に封止樹脂を注入する樹脂封止工
程と、を少なくとも含み構成される。
In the method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to the present invention, a predetermined semiconductor chip is mounted on a predetermined lead frame, and an external connection electrode of the chip and each internal terminal of the lead frame are connected to a metal. The mounted frame manufacturing process of manufacturing a mounted lead frame by connecting with a thin wire, and the same planar shape as the sealing resin main body portion for sealing the chip and at the same pitch as the chip mounting portion arrangement pitch of the lead frame At least a sealing plate that is arranged, and a frame portion that supports the sealing plate via a connecting portion and is thicker than the sealing plate, and includes a clamp for each of an upper mold and a lower mold of a sealing device. A sealing plate frame preparing step of preparing a first sealing plate frame and a second sealing plate frame having a flat surface in contact with a surface, and the lower mold A frame loading step of laminating and loading the second sealing plate frame, the mounted lead frame, and the first sealing plate frame in this order from the lower mold side, and loading the lower mold. A resin sealing step of injecting a sealing resin into a predetermined region including the chip mounting portion of the mounted lead frame by clamping with the upper mold from above the first sealing plate frame thus formed. It comprises at least.

【0017】このとき、第1の封止プレートフレームま
たは第2の封止プレートフレームの少なくとも一方は、
樹脂を注入するランナー部を備えていることが望まし
い。
At this time, at least one of the first sealing plate frame and the second sealing plate frame is
It is desirable to have a runner part for injecting resin.

【0018】また、封止プレートは、金属で形成され且
つ樹脂中に埋め込まれる第1の主面側に、封止プレート
と一体で形成された所定の高さの支持突起部を有してい
ることが望ましい。
Further, the sealing plate has a supporting projection of a predetermined height integrally formed with the sealing plate on the first main surface side formed of metal and embedded in the resin. It is desirable.

【0019】また、支持突起部は、封止プレートを用い
る半導体装置の端子で、互いに電気的に短絡が許される
前記端子に当接する位置に配置するのが望ましい。
Further, it is preferable that the support projection is a terminal of the semiconductor device using the sealing plate, and is arranged at a position where it comes into contact with the terminal which is allowed to be electrically short-circuited with each other.

【0020】更に、封止プレートフレームは、コバール
と42合金を少なくとも含む鉄系合金材料または銅系合
金材料のいずれかで形成することができる。
Further, the sealing plate frame can be formed of either an iron-based alloy material or a copper-based alloy material containing at least Kovar and 42 alloy.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】次に、本発明について図面を参照
して説明する。
Next, the present invention will be described with reference to the drawings.

【0022】図1は、本発明の第1の実施形態の樹脂封
止型半導体装置を説明するための図で、(a)は模式的
な平面図であり、(b),(c)はそれぞれ、(a)の
A−A’線とB−B’線に沿った断面の模式的な断面図
である。
FIGS. 1A and 1B are views for explaining a resin-sealed semiconductor device according to a first embodiment of the present invention. FIG. 1A is a schematic plan view, and FIGS. It is a typical sectional view of a section which met an AA 'line and a BB' line of (a), respectively.

【0023】図1を参照すると、本実施形態の半導体装
置1は、チップ搭載部13に図示されていない銀ペース
ト等で固着されたチップ3と、外部端子11と、チップ
3の図示されていない外部接続電極と外部端子11に連
結した内部端子12とを接続する金線(Au線)等の金
属細線5と、チップ3,金属細線5及び内部端子12を
含む所定の領域を封止する樹脂7と、封止樹脂本体部2
の上面と下面に例えばコバールで形成された封止プレー
ト22,32を有している。この封止プレート22,3
2は平面形状が半導体装置1の封止樹脂本体部2の形状
と略同一で、第1の主面が樹脂7の中に埋め込まれ、反
対側の第2の主面が外部に露出している。また、各封止
プレート22,32の第1の主面の所定の位置には、支
持突起部23,33が封止プレート22,32と一体で
形成され、所定の端子に上下から対向するように当接し
ている。本実施形態では、この所定の端子がチップ搭載
部13を図示されていないリードフレームのフレーム部
に接続する搭載部支持端子15になるように支持突起部
23,33が形成されている。
Referring to FIG. 1, a semiconductor device 1 according to the present embodiment has a chip 3 fixed to a chip mounting portion 13 with a silver paste or the like not shown, an external terminal 11, and a chip 3 not shown. A thin metal wire 5 such as a gold wire (Au wire) connecting the external connection electrode and the internal terminal 12 connected to the external terminal 11, and a resin for sealing a predetermined area including the chip 3, the metal thin wire 5 and the internal terminal 12. 7 and sealing resin body 2
Have sealing plates 22 and 32 formed of, for example, Kovar on the upper and lower surfaces of the sealing plate. These sealing plates 22 and 3
2 has a planar shape substantially the same as the shape of the sealing resin body 2 of the semiconductor device 1, the first main surface is embedded in the resin 7, and the second main surface on the opposite side is exposed to the outside. I have. Support projections 23 and 33 are formed integrally with the sealing plates 22 and 32 at predetermined positions on the first main surfaces of the sealing plates 22 and 32 so as to face predetermined terminals from above and below. Is in contact with In the present embodiment, the support protrusions 23 and 33 are formed such that the predetermined terminal is the mounting portion support terminal 15 for connecting the chip mounting portion 13 to a frame portion of a lead frame (not shown).

【0024】本実施形態の半導体装置1は、例えば厚さ
(t1)が0.45mm程度の所定形状のコバール基材
を支持端子部を残して0.25〜0.3mm程度エッチ
ングして厚さ(t2)が0.15〜0.2mm程度の封
止プレート22を形成し、厚さ(s)が0.1mm程度
のリードフレームを用いれば、全体の厚さを1mm程度
に薄くすることができる。従って、半導体装置1の上下
面それぞれに設けられた封止プレート22,32は、チ
ップ3或いはチップ搭載部13に直接接触はしていない
が、いずれもそれぞれに極めて近接した位置にあり、且
つそれぞれの一表面は全体が外部に露出しているため、
チップ3で発生した熱を効率よく外部へ放出でき、半導
体装置1の熱抵抗を低減できる。
The semiconductor device 1 according to the present embodiment has a thickness (t1) of about 0.45 mm by etching a Kovar base material having a predetermined shape of about 0.25 to 0.3 mm except for a supporting terminal portion. If a sealing plate 22 having a thickness (t2) of about 0.15 to 0.2 mm and a lead frame having a thickness (s) of about 0.1 mm is used, the total thickness can be reduced to about 1 mm. it can. Therefore, although the sealing plates 22 and 32 provided on the upper and lower surfaces of the semiconductor device 1 are not in direct contact with the chip 3 or the chip mounting portion 13, both are located at positions very close to each other, and Because one surface is entirely exposed to the outside,
The heat generated in the chip 3 can be efficiently released to the outside, and the thermal resistance of the semiconductor device 1 can be reduced.

【0025】また、支持突起部23,33が半導体装置
の固定電位端子に当接している場合は、金属からなる封
止プレート22,32がチップ3の上下を全面覆ってい
るので、外部からの電磁波ノイズの影響や、チップ3か
らのノイズ放射を抑制できるという効果も得られる。
When the supporting projections 23 and 33 are in contact with the fixed potential terminals of the semiconductor device, the sealing plates 22 and 32 made of metal cover the entire surface of the chip 3 from above and below. The effect that the influence of electromagnetic wave noise and the noise radiation from the chip 3 can be suppressed is also obtained.

【0026】次に、本発明の第2の実施形態について説
明する。
Next, a second embodiment of the present invention will be described.

【0027】図2は、本実施形態の樹脂封止型半導体装
置の製造方法の概略を示すフローチャートである。本実
施形態の樹脂封止型半導体装置の製造方法は、第1の実
施形態の半導体装置1を含む樹脂封止型半導体装置に適
用できる。
FIG. 2 is a flowchart schematically showing a method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device of the present embodiment. The method for manufacturing a resin-sealed semiconductor device according to the present embodiment can be applied to a resin-sealed semiconductor device including the semiconductor device 1 according to the first embodiment.

【0028】図1は、本実施形態の製造方法で製造した
半導体装置の完成品の一例を示す図である。
FIG. 1 is a view showing an example of a completed semiconductor device manufactured by the manufacturing method of the present embodiment.

【0029】図3は、本実施形態の製造方法で用いる第
1の封止プレートフレームの一例を説明するための図
で、(a)は支持突起部形成面側から見た模式的な概略
平面図、(b),(c)はそれぞれ(a)のC1−C
1’線及びD−D’線に沿った断面の断面図である。
FIGS. 3A and 3B are views for explaining an example of a first sealing plate frame used in the manufacturing method of the present embodiment. FIG. 3A is a schematic schematic plan view seen from the surface on which the support protrusion is formed. Figures (b) and (c) show C1-C of (a), respectively.
It is sectional drawing of the cross section along 1 'line and DD' line.

【0030】図4は、本実施形態の製造方法で用いる第
2の封止プレートフレームの一例を説明するための図
で、(a)は支持突起部形成面側から見た模式的な概略
平面図、(b)は(a)のC2−C2’線に沿った断面
の断面図である。
FIGS. 4A and 4B are views for explaining an example of a second sealing plate frame used in the manufacturing method of the present embodiment. FIG. 4A is a schematic schematic plan view seen from the support projection forming surface side. FIG. 4B is a cross-sectional view of a cross section taken along line C2-C2 ′ of FIG.

【0031】図5は、本実施形態の製造方法を説明する
ための図で、封止装置で封止樹脂が注入された段階での
図3のE−E’線に相当する位置の断面を模式的に示す
部分断面図である。
FIG. 5 is a view for explaining the manufacturing method of the present embodiment. FIG. 5 is a cross-sectional view taken along a line corresponding to line EE ′ in FIG. It is a fragmentary sectional view showing typically.

【0032】図2を参照すると、本実施形態の製造方法
は、所定のリードフレームに所定の半導体チップを搭載
し、チップの外部接続用電極とリードフレームの各内部
端子部とを接続して、搭載済みリードフレームを製造す
る搭載済みフレーム製造工程S1と、少なくともチップ
を封止する封止樹脂本体部と同じ平面形状で且つリード
フレームのチップ搭載部配列ピッチと同じピッチで配列
されている封止プレートとこの封止プレートを連結部を
介して支持し且つ封止プレートよりも厚いフレーム部を
備え、封止装置の上金型と下金型それぞれのクランプ面
に当接する平坦面を有する第1及び第2の封止プレート
フレームを準備する封止プレートフレーム準備工程S2
と、封止装置の下金型に、第2の封止プレートフレーム
と搭載済みリードフレームと第1の封止プレートフレー
ムを下金型側からこの順序で積層して装填するフレーム
装填工程S3と、下金型に装填された第1の封止プレー
トフレームの上から上金型でクランプして搭載済みリー
ドフレームのチップ搭載部を含む所定の領域に封止樹脂
を注入する樹脂封止工程S4と、を少なくとも含み構成
されている。
Referring to FIG. 2, in the manufacturing method of the present embodiment, a predetermined semiconductor chip is mounted on a predetermined lead frame, and an external connection electrode of the chip is connected to each internal terminal of the lead frame. A mounted frame manufacturing step S1 for manufacturing a mounted lead frame, and encapsulation having at least the same planar shape as the encapsulating resin main body for encapsulating the chips and arranged at the same pitch as the chip mounting portion arrangement pitch of the lead frame. A first plate supporting the plate and the sealing plate via a connecting portion and having a frame portion which is thicker than the sealing plate, and having a flat surface which comes into contact with a clamp surface of each of an upper mold and a lower mold of the sealing device; And a sealing plate frame preparing step S2 for preparing a second sealing plate frame
And a frame loading step S3 of stacking and loading the second sealing plate frame, the mounted lead frame, and the first sealing plate frame in this order from the lower mold side in the lower mold of the sealing device. A resin encapsulating step S4 of injecting an encapsulating resin into a predetermined area including a chip mounting portion of a mounted lead frame by clamping the first encapsulating plate frame mounted on the lower die with the upper die from above. And at least.

【0033】次に、図1〜図5を参照して本実施形態の
動作について説明する。
Next, the operation of this embodiment will be described with reference to FIGS.

【0034】まず、搭載済みリードフレーム製造工程S
1で、所定のリードフレーム10に所定のチップ3を搭
載し、チップの外部接続用電極(図示せず)とリードフ
レームの各内部端子部とを金属細線5で接続して、搭載
済みリードフレーム10を製造する。この搭載済みリー
ドフレーム10の製造は、一般的な樹脂封止型半導体装
置の場合と全く同様に行うことができる。
First, the mounted lead frame manufacturing process S
In step 1, a predetermined chip 3 is mounted on a predetermined lead frame 10, and an external connection electrode (not shown) of the chip is connected to each internal terminal of the lead frame by a thin metal wire 5, and the mounted lead frame is connected. 10 is manufactured. The manufacture of the mounted lead frame 10 can be performed in exactly the same manner as in the case of a general resin-sealed semiconductor device.

【0035】また、搭載済みリードフレーム製造工程S
1と並行して或いは先立って封止プレートフレーム準備
工程S2で、搭載済みリードフレーム10に対応する第
1の封止プレートフレーム20と第2の封止プレートフ
レーム30を準備する。
In addition, the mounting lead frame manufacturing process S
In parallel with or before step 1, in a sealing plate frame preparing step S2, a first sealing plate frame 20 and a second sealing plate frame 30 corresponding to the mounted lead frame 10 are prepared.

【0036】ここで、本実施形態の最も特徴的な要素で
ある封止プレートフレームについて第1の封止プレート
フレーム20を例にして詳細に説明する。
Here, the sealing plate frame which is the most characteristic element of the present embodiment will be described in detail by taking the first sealing plate frame 20 as an example.

【0037】図3を参照すると、本実施形態の製造方法
で用いられる封止プレートフレーム20は、フレーム部
21と、所定のピッチで配列された複数の封止プレート
22と、各封止プレート22をフレーム部21に接続し
支持する連結部24と、樹脂注入の際に樹脂の流路とな
るランナー部27と、フレーム部21の所定の位置でフ
レーム部21を貫通し図示されていない封止金型の樹脂
注入口からランナー部27へ樹脂を導く樹脂注入口28
と、各封止プレート22の連結部24を除く周囲を囲繞
するスリット29と、を少なくとも備えている。また、
各封止プレート22の第1の主面には、所定の位置に支
持突起部23が形成されている。尚、封止プレート22
の第1の主面と反対側の第2の主面はフレーム部21も
含めて平坦になっており、封止金型のクランプ面と当接
する。すなわち、封止プレートフレーム20が封止金型
のクランプ面と当接する当接面25は、樹脂注入口2
8,スリット29以外は平坦になっている。
Referring to FIG. 3, the sealing plate frame 20 used in the manufacturing method of the present embodiment includes a frame portion 21, a plurality of sealing plates 22 arranged at a predetermined pitch, and each sealing plate 22. A connecting portion 24 for connecting and supporting the frame portion 21 to the frame portion 21, a runner portion 27 serving as a resin flow path at the time of resin injection, and a sealing (not shown) which passes through the frame portion 21 at a predetermined position of the frame portion 21. A resin injection port 28 for guiding the resin from the resin injection port of the mold to the runner portion 27
And a slit 29 surrounding the periphery of each sealing plate 22 except for the connecting portion 24. Also,
On the first main surface of each sealing plate 22, a support projection 23 is formed at a predetermined position. The sealing plate 22
The second main surface opposite to the first main surface is flat including the frame portion 21 and is in contact with the clamp surface of the sealing mold. That is, the contact surface 25 where the sealing plate frame 20 contacts the clamping surface of the sealing mold is the resin injection port 2.
8, except for the slit 29, it is flat.

【0038】封止プレート22の形状・大きさは、製造
する半導体装置の封止樹脂本体部2の形状・大きさに応
じて定め、配列ピッチは、製造に用いるリードフレーム
のチップ搭載部の配列ピッチと同じにする。通常は、チ
ップ搭載部の中心と封止プレートの中心が一致するよう
に配列される。
The shape and size of the sealing plate 22 are determined according to the shape and size of the sealing resin body 2 of the semiconductor device to be manufactured, and the arrangement pitch is the arrangement of the chip mounting portions of the lead frame used for manufacturing. Make it the same as the pitch. Usually, they are arranged so that the center of the chip mounting portion and the center of the sealing plate coincide.

【0039】また、各封止プレート22に形成される支
持突起部23は、半導体装置の製造に用いるリードフレ
ームの端子の中で、封止プレート22が接触しても電気
的に問題の無い端子、例えば未使用端子,チップ搭載部
をフレーム部に接続する搭載部支持端子,接地端子,電
源端子等のいずれかに当接する位置に設けられる。(但
し、同一封止プレート22の中形成された複数の支持突
起部23を、異なる電位の端子に同時に当接させること
がでないのはいうまでもないことである。)この封止プ
レートフレーム20は、製造に用いるリードフレームと
同じ大きさの、例えばコバールからなる所定の厚さ(t
1)の基材を準備し、両面にエッチング防止用のレジス
トを塗布して、支持突起部23を除く封止プレート22
となる領域,連結部24,ランナー部27,第1の主面
の樹脂注入口28及びスリット29部分のレジストを除
去し、反対側の金型に当接する第2の主面26について
は、樹脂注入口28及びスリット29の部分のレジスト
を除去し、両面から所定量(d)だけエッチングした
後、レジストを除去することにより形成できる。上記
の、封止プレート22となる領域部分の基材が第1の主
面側から所定量エッチングされており、この部分が従来
の封止金型のキャビティ71,81の役割を果たす。
尚、封止プレート21の厚さ(t2)は基材の厚さt1
に比べるとかなり薄くなっているが、支持突起部23を
有しているので、樹脂封止工程等で変形することはな
く、樹脂注入空間を確保できる。この封止プレート21
の厚さ(t2)は、(t1)/3程度にするのが好まし
いが、(t1)/4〜(t1)/2の範囲内にあれば特
に問題は無い。
The supporting projections 23 formed on each sealing plate 22 are terminals of a lead frame used in the manufacture of a semiconductor device which have no electrical problem even if the sealing plate 22 contacts. For example, it is provided at a position in contact with any of unused terminals, a mounting portion support terminal for connecting the chip mounting portion to the frame portion, a ground terminal, a power terminal, and the like. (However, it goes without saying that the plurality of support projections 23 formed in the same sealing plate 22 cannot be simultaneously brought into contact with terminals of different potentials.) The sealing plate frame 20 Has a predetermined thickness (t) of the same size as the lead frame used for manufacturing, for example, made of Kovar.
The base material of 1) is prepared, and a resist for preventing etching is applied to both surfaces, and the sealing plate 22 excluding the support protrusions 23 is prepared.
The region, the connecting portion 24, the runner portion 27, the resin injection port 28 on the first main surface, and the resist in the slit 29 are removed, and the second main surface 26 contacting the mold on the opposite side is made of resin. The resist can be formed by removing the resist in the portions of the inlet 28 and the slit 29, etching a predetermined amount (d) from both sides, and then removing the resist. The base material in the above-described region of the sealing plate 22 is etched by a predetermined amount from the first main surface side, and this portion plays the role of the cavities 71 and 81 of the conventional sealing mold.
Note that the thickness (t2) of the sealing plate 21 is the thickness t1 of the base material.
Although it is considerably thinner than the above, since it has the support projection 23, it is not deformed in the resin sealing step or the like, and a resin injection space can be secured. This sealing plate 21
Is preferably about (t1) / 3, but there is no particular problem if it is within the range of (t1) / 4 to (t1) / 2.

【0040】尚、第2の封止プレートフレーム30は、
第1の封止プレートフレーム20が備えているランナー
部と樹脂注入口とが無いだけで他の構成要素は第1の封
止プレートフレーム20と同様であり、説明は省略す
る。
The second sealing plate frame 30 is
Other components are the same as those of the first sealing plate frame 20 except that the first sealing plate frame 20 has no runner portion and no resin injection port, and a description thereof will be omitted.

【0041】次に、フレーム装填工程S3で、図示され
ていない封止装置の下金型50に第2の封止プレートフ
レーム30を当接面35が下金型50のクランプ面に当
接するように装填し、その上に予め準備してある搭載済
みリードフレーム10を装填し、更にその上に第1の封
止プレートフレーム20を、当接面25が露出し支持突
起部23が形成された第1の主面が搭載済みリードフレ
ーム10と対向するように装填する。
Next, in the frame loading step S3, the second sealing plate frame 30 is brought into contact with the lower mold 50 of the sealing device (not shown) such that the contact surface 35 contacts the clamp surface of the lower mold 50. , And the mounted lead frame 10 prepared in advance is loaded thereon. The first sealing plate frame 20 is further placed thereon, and the contact surface 25 is exposed to form the support protrusion 23. The lead frame is loaded so that the first main surface faces the mounted lead frame 10.

【0042】次に、樹脂封止工程S4で、上金型40を
第1の封止プレートフレーム20の当接面25に当接さ
せ全体をクランプして、搭載済みリードフレーム10の
チップ搭載部13を含む所定の領域に樹脂を注入する。
Next, in a resin sealing step S4, the upper mold 40 is brought into contact with the contact surface 25 of the first sealing plate frame 20, and the whole is clamped. The resin is injected into a predetermined region including the region 13.

【0043】次に、封止プレートフレーム切断工程S5
で、第1、第2の封止プレートフレーム20,30と一
体になった樹脂封止済みリードフレーム10を金型から
離型し、図示されていない切断装置により第1、第2の
封止プレートフレーム20,30の連結部24,34を
切断して封止プレート22,32以外のフレーム部2
1,31を除去する。
Next, a sealing plate frame cutting step S5
Then, the resin-sealed lead frame 10 integrated with the first and second sealing plate frames 20 and 30 is released from the mold, and the first and second sealing are performed by a cutting device (not shown). The connecting portions 24 and 34 of the plate frames 20 and 30 are cut, and the frame portions 2 other than the sealing plates 22 and 32 are cut.
1, 31 are removed.

【0044】以後は、リード切断、リード成形等の工程
を、一般的な樹脂封止型半導体装置の製造方法と全く同
様に処理することができるので、詳細な説明は省略す
る。
Thereafter, steps such as lead cutting and lead molding can be performed in exactly the same manner as a general method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device, and a detailed description thereof will be omitted.

【0045】上述の通り、本実施形態の樹脂封止型半導
体装置の製造方法により、既存のリードフレームを用い
ながら、薄型で封止樹脂本体部の上下面に金属からなる
封止プレートを有する、従って放熱性に優れた樹脂封止
型半導体装置を容易に製造できる。
As described above, according to the method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device of the present embodiment, a thin encapsulation plate made of metal is provided on the upper and lower surfaces of the encapsulation resin body while using an existing lead frame. Therefore, a resin-encapsulated semiconductor device having excellent heat dissipation properties can be easily manufactured.

【0046】また、本実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法では、第1,第2の封止プレートフレーム2
0,30を用いることにより、上金型40及び下金型5
0の構造を極めて簡単なものにすることができる。すな
わち、従来の封止金型70,80に設けられているキャ
ビティ71,81とランナー部75は、第1,第2の封
止プレートフレーム20,30の封止プレート22,3
2部と第1の封止プレートフレームのランナー部27が
その役割を果たしており、上金型40及び下金型50の
第1,第2の封止プレートフレーム20,30との当接
面は、製造する半導体装置の樹脂封止形状と関わりなく
平坦にしておけばよい。上金型40及び下金型50各の
クランプ面を第1,第2の封止プレートフレーム20,
30それぞれの当接面25,35に当接させて全面を均
一に押圧することにより、フレーム部21,31がリー
ドフレーム10の外部端子部をクランプできる。
In the method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to this embodiment, the first and second encapsulation plate frames 2 are used.
By using 0, 30 the upper mold 40 and the lower mold 5
The structure of 0 can be made very simple. That is, the cavities 71, 81 and the runner portion 75 provided in the conventional sealing dies 70, 80 are formed by the sealing plates 22, 3 of the first and second sealing plate frames 20, 30.
The two portions and the runner portion 27 of the first sealing plate frame play that role, and the contact surfaces of the upper mold 40 and the lower mold 50 with the first and second sealing plate frames 20, 30 are The semiconductor device may be flattened regardless of the resin sealing shape of the semiconductor device to be manufactured. The clamp surfaces of the upper mold 40 and the lower mold 50 are respectively connected to the first and second sealing plate frames 20 and
The frame portions 21 and 31 can clamp the external terminal portions of the lead frame 10 by contacting the contact surfaces 25 and 35 of the respective 30 and pressing the entire surface uniformly.

【0047】すなわち、製造する半導体装置の樹脂封止
形状が変化しても、その樹脂封止形状に応じて封止プレ
ートフレームを準備するだけで、高価な封止金型は共用
が可能となり、大幅な設備投資の削減が可能となる。
That is, even if the resin sealing shape of a semiconductor device to be manufactured changes, only by preparing a sealing plate frame in accordance with the resin sealing shape, an expensive sealing mold can be shared. Significant reduction in capital investment is possible.

【0048】更に、新規に新しい樹脂封止形状の半導体
装置を製造する際、封止金型の設計と製作には数ヶ月を
要し、他の資材の準備期間に対して開発期間の足かせと
なっていたが、本実施形態の製造方法で用いる封止プレ
ートフレームの加工には、封止金型ほどの期間を必要と
しないため、新規製品やその評価サンプルを短期間で製
造・出荷でき、開発期間を短縮できるという効果もあ
る。
Further, when manufacturing a new semiconductor device having a new resin-encapsulated shape, it takes several months to design and manufacture an encapsulation die, and the development period is hindered by the preparation period of other materials. However, processing of the sealing plate frame used in the manufacturing method of the present embodiment does not require a period as long as a sealing mold, so that a new product and its evaluation sample can be manufactured and shipped in a short time, There is also an effect that the development period can be shortened.

【0049】また、チップを搭載するリードフレームに
ついては、その製品配置や樹脂注入口位置に合わせて封
止プレートフレームを設計することで、既存のリードフ
レームをそのまま適用でき、新規に設計、資材調達する
必要が無い。
For a lead frame on which a chip is mounted, an existing lead frame can be applied as it is by designing a sealing plate frame in accordance with the product arrangement and the position of a resin injection port. No need to do.

【0050】尚、本発明は、上述の実施形態の説明に限
定されるものでなく、発明の要旨の範囲内において種々
変更が可能であることはいうまでもないことである。
It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and it is needless to say that various modifications can be made within the scope of the invention.

【0051】例えば、第1の実施形態では、封止プレー
ト22をコバールで形成した例で説明したが、これに限
定されるものでなく、42合金(42%ニッケル−鉄合
金)等の鉄系合金材料或いは銅系合金材料等を用いて封
止プレートを形成することもできる。
For example, in the first embodiment, the example in which the sealing plate 22 is formed of Kovar has been described. However, the present invention is not limited to this, and an iron-based material such as 42 alloy (42% nickel-iron alloy) may be used. The sealing plate may be formed using an alloy material, a copper-based alloy material, or the like.

【0052】また、第2の実施形態においても第1,第
2の封止プレートフレーム20,30をコバールで形成
した例で説明したが、これに限定されるものでなく、4
2合金等の鉄系合金材料或いは銅系合金材料等を用いて
封止プレートフレームを形成することもできる。
Also, in the second embodiment, the example in which the first and second sealing plate frames 20, 30 are formed of Kovar has been described. However, the present invention is not limited to this.
The sealing plate frame may be formed using an iron-based alloy material such as two alloys or a copper-based alloy material.

【0053】また、第1の封止プレートフレーム20と
第2の封止プレートフレーム30を異なる構成にした
が、第2の封止プレートフレーム30の所定の位置にも
ランナー部と樹脂注入口を設けておいてもよく、封止プ
レートフレーム上の封止プレートの配列及び封止プレー
上の支持突起部の配置が鏡面対称になっていれば、第2
の封止プレートフレーム30の代わりに第1の封止プレ
ートフレーム20を用いることもできる。資材調達・管
理の面からは、1種類の封止プレートフレームで構成で
きるようにするのが望ましい。
Although the first sealing plate frame 20 and the second sealing plate frame 30 are configured differently, the runner portion and the resin injection port are also provided at predetermined positions of the second sealing plate frame 30. If the arrangement of the sealing plates on the sealing plate frame and the arrangement of the support projections on the sealing plate are mirror-symmetrical, the second
The first sealing plate frame 20 can be used instead of the sealing plate frame 30 described above. From the viewpoint of material procurement and management, it is desirable to be able to configure with one type of sealing plate frame.

【0054】また、半導体装置1全体の厚さは変えない
で、第1の封止プレートフレーム20と第2の封止プレ
ートフレーム30の厚さを変えて、チップ表面に対抗す
る第1の封止プレートフレーム20の厚さをより厚く
し、その分だけ第2の封止プレートフレーム30を薄く
して、金属細線と第1の封止プレートフレーム20との
距離を大きくとれるようすることも可能である。
Also, the thickness of the first sealing plate frame 20 and the second sealing plate frame 30 is changed without changing the thickness of the entire semiconductor device 1 so that the first sealing plate frame 20 is opposed to the chip surface. It is also possible to make the thickness of the stop plate frame 20 thicker and make the second sealing plate frame 30 thinner by that much, so that the distance between the thin metal wire and the first sealing plate frame 20 can be increased. It is.

【0055】更に、チップの外部接続用電極とリードフ
レームの各内部端子部との接続を金属細線の代わりに、
TAB(Tape Automated Bondin
ng)方式により接続してもよい。
Further, the connection between the external connection electrode of the chip and each of the internal terminal portions of the lead frame is replaced by a thin metal wire,
TAB (Tape Automated Bondin)
ng).

【0056】[0056]

【発明の効果】以上説明した通り、本発明の樹脂封止型
半導体装置は、封止樹脂本体部の上下面に金属からなる
封止プレートを備えることで、薄型で且つ優れた放熱性
を有するという効果が得られる。
As described above, the resin-encapsulated semiconductor device of the present invention is thin and has excellent heat dissipation by providing the encapsulation plate made of metal on the upper and lower surfaces of the encapsulation resin body. The effect is obtained.

【0057】また、本発明の樹脂封止型半導体装置の製
造方法は、既存のリードフレームを用いながら、薄型で
放熱性に優れた樹脂封止型半導体装置を容易に製造でき
るという効果が得られる。
The method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to the present invention has an effect that a thin, resin-encapsulated semiconductor device excellent in heat dissipation can be easily manufactured using an existing lead frame. .

【0058】更に、半導体装置の樹脂封止形状が異なっ
ても、高価な封止金型を共用でき、設備投資を大幅に削
減できると共に、新製品の開発期間を短縮できるという
効果も得られる。
Further, even if the resin sealing shape of the semiconductor device is different, an expensive sealing mold can be used in common, so that the capital investment can be greatly reduced and the development period of a new product can be shortened.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の樹脂封止型半導体装置を説明するため
の図で、(a)は模式的な平面図であり、(b),
(c)はそれぞれ、(a)のA−A’線とB−B’線に
沿った断面の模式的な断面図である。
FIGS. 1A and 1B are views for explaining a resin-sealed semiconductor device of the present invention, wherein FIG. 1A is a schematic plan view, and FIGS.
(C) is a typical sectional view of a section taken along the line AA 'and the line BB' of (a).

【図2】本発明の樹脂封止型半導体装置の製造方法の概
略を示すフローチャートである。
FIG. 2 is a flowchart schematically showing a method of manufacturing a resin-sealed semiconductor device according to the present invention.

【図3】本発明の樹脂封止型半導体装置の製造方法で用
いる第1の封止プレートフレームを説明するための図
で、(a)は支持突起部形成面側から見た模式的な概略
平面図、(b),(c)はそれぞれ(a)のC1−C
1’線及びD−D’線に沿った断面の断面図である。
3A and 3B are diagrams for explaining a first sealing plate frame used in the method of manufacturing a resin-sealed semiconductor device according to the present invention, and FIG. 3A is a schematic diagram viewed from a support protrusion forming surface side; (B), (c) is C1-C of (a), respectively.
It is sectional drawing of the cross section along 1 'line and DD' line.

【図4】本発明の樹脂封止型半導体装置の製造方法で用
いる第2の封止プレートフレームを説明するための図
で、(a)は支持突起部形成面側から見た模式的な概略
平面図、(b)は(a)のC2−C2’線に沿った断面
の断面図である。
4A and 4B are views for explaining a second sealing plate frame used in the method of manufacturing a resin-sealed semiconductor device according to the present invention, wherein FIG. 4A is a schematic diagram viewed from the side where a support protrusion is formed; FIG. 2B is a plan view, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line C2-C2 ′ of FIG.

【図5】本発明の樹脂封止型半導体装置の製造方法を説
明するための図で、封止装置で封止樹脂が注入された段
階での図3のE−E’線に相当する位置の断面を模式的
に示す部分断面図である。
FIG. 5 is a view for explaining the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to the present invention, and shows a position corresponding to the line EE ′ in FIG. 3 at a stage when the sealing resin is injected by the sealing device. 3 is a partial cross-sectional view schematically showing a cross section of FIG.

【図6】特開昭61−166051号公報に開示された
樹脂封止型半導体装置の断面図である。
FIG. 6 is a sectional view of a resin-sealed semiconductor device disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-166051.

【図7】特開平4−27145号公報に開示された半導
体装置の断面図である。
FIG. 7 is a sectional view of a semiconductor device disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-27145.

【図8】樹脂封止型半導体装置の従来の製造方法を説明
するための図である。
FIG. 8 is a view for explaining a conventional method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device.

【図9】樹脂封止型半導体装置の従来の製造方法で用い
られる金型を封止型形成面側から見た模式的な平面図で
(a),(b)はそれぞれ上金型と下金型である。
FIGS. 9A and 9B are schematic plan views of a mold used in a conventional method for manufacturing a resin-sealed semiconductor device, as viewed from a sealing mold forming surface side, wherein FIGS. It is a mold.

【図10】図9の金型の主要部であるキャビティを中心
とした模式的な部分断面図で、(a)は図9(a)のP
−P’線に沿った断面図であり、(b)は図9(b)の
Q−Q’線に沿った断面図である。
10 is a schematic partial sectional view centering on a cavity which is a main part of the mold of FIG. 9; FIG.
FIG. 10B is a cross-sectional view taken along the line −P ′, and FIG. 9B is a cross-sectional view taken along the line QQ ′ in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体装置 2 封止樹脂本体部 3 チップ 5 金属細線 7 樹脂 10 リードフレーム 11 外部端子 12 内部端子 13 チップ搭載部 15 搭載部支持端子 20 第1の封止プレートフレーム 21,31 フレーム部 22,32 封止プレート 23,33 支持突起部 24,34 連結部 25,35 当接面 27 ランナー部 28 樹脂注入口 29 スリット 30 第2の封止プレートフレーム 40,70 上金型 50,80 下金型 71,81 キャビティ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor device 2 Sealing resin main body part 3 Chip 5 Fine metal wire 7 Resin 10 Lead frame 11 External terminal 12 Internal terminal 13 Chip mounting part 15 Mounting part support terminal 20 First sealing plate frame 21, 31 Frame part 22, 32 Sealing plates 23, 33 Supporting projections 24, 34 Connecting portions 25, 35 Abutment surface 27 Runner portion 28 Resin injection port 29 Slit 30 Second sealing plate frame 40, 70 Upper mold 50, 80 Lower mold 71 , 81 cavities

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 樹脂封止型半導体装置であって、少なく
とも第1の主面が封止樹脂中に埋め込まれ且つ前記第1
の主面と反対側の第2の主面が露出した封止プレートを
封止樹脂本体部の上面と下面それぞれに有し、更に前記
封止プレートは前記第1の主面にこの封止プレートと一
体で形成され且つ樹脂封止領域内の所定の端子と当接す
る支持突起部を備えていることを特徴とする樹脂封止型
半導体装置。
1. A resin-sealed semiconductor device, wherein at least a first main surface is embedded in a sealing resin and the first main surface is
A sealing plate having a second main surface opposite to the main surface of the sealing resin is exposed on each of the upper surface and the lower surface of the sealing resin body, and the sealing plate is provided on the first main surface. And a supporting projection formed integrally with the semiconductor device and in contact with a predetermined terminal in the resin sealing region.
【請求項2】 支持突起部が当接する端子が、チップ搭
載部をリードフレームのフレーム部に接続する搭載部支
持端子,未使用端子,接地端子または電源端子のいずれ
かである請求項1記載の樹脂封止型半導体装置。
2. The terminal according to claim 1, wherein the terminal with which the support protrusion contacts is any one of a mounting portion support terminal for connecting the chip mounting portion to a frame portion of the lead frame, an unused terminal, a ground terminal and a power supply terminal. Resin-sealed semiconductor device.
【請求項3】 封止プレートが、コバール,42合金を
含む鉄系合金材料または銅系合金材料のいずれかで形成
されている請求項1または2記載の樹脂封止型半導体装
置。
3. The resin-sealed semiconductor device according to claim 1, wherein the sealing plate is formed of one of an iron-based alloy material including Kovar 42 alloy and a copper-based alloy material.
【請求項4】 樹脂封止型半導体装置の製造方法であっ
て、所定のリードフレームに所定の半導体チップを搭載
し、前記チップの外部接続用電極と前記リードフレーム
の各内部端子とを金属細線で接続して、搭載済みリード
フレームを製造する搭載済みフレーム製造工程と、前記
チップを封止する封止樹脂本体部と同じ平面形状で且つ
前記リードフレームのチップ搭載部配列ピッチと同じピ
ッチで配列されている封止プレートと、この封止プレー
トを連結部を介して支持し且つ前記封止プレートよりも
厚いフレーム部とを少なくとも備え、封止装置の上金型
と下金型それぞれのクランプ面に当接する平坦面を有す
る第1の封止プレートフレーム及び第2の封止プレート
フレームを準備する封止プレートフレーム準備工程と、
前記下金型に、前記第2の封止プレートフレームと前記
搭載済みリードフレームと前記第1の封止プレートフレ
ームを前記下金型側からこの順序で積層して装填するフ
レーム装填工程と、前記下金型に装填された前記第2の
封止プレートフレームの上から前記上金型でクランプし
て前記搭載済みリードフレームの前記チップ搭載部を含
む所定の領域に封止樹脂を注入する樹脂封止工程と、を
少なくとも含むことを特徴とする樹脂封止型半導体装置
の製造方法。
4. A method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device, comprising mounting a predetermined semiconductor chip on a predetermined lead frame, and connecting an external connection electrode of the chip and each internal terminal of the lead frame to a thin metal wire. And a mounting frame manufacturing process for manufacturing a mounted lead frame, and the same planar shape as the sealing resin main body portion for sealing the chip and arranged at the same pitch as the chip mounting portion arrangement pitch of the lead frame. And at least a frame portion that supports the sealing plate via a connecting portion and is thicker than the sealing plate, and a clamp surface of each of an upper mold and a lower mold of the sealing device. A sealing plate frame preparing step of preparing a first sealing plate frame and a second sealing plate frame having a flat surface that comes into contact with
A frame loading step of stacking and loading the second sealing plate frame, the mounted lead frame, and the first sealing plate frame in this order from the lower mold side on the lower mold; Resin sealing in which a sealing resin is injected into a predetermined region including the chip mounting portion of the mounted lead frame by clamping the upper sealing die from above the second sealing plate frame loaded in the lower die. A method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device, which comprises at least a stopping step.
【請求項5】 第1の封止プレートフレームまたは第2
の封止プレートフレームの少なくとも一方が、樹脂を注
入するランナー部を備えている請求項4記載の樹脂封止
型半導体装置の製造方法。
5. The first sealing plate frame or the second sealing plate frame.
5. The method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to claim 4, wherein at least one of the sealing plate frames includes a runner portion for injecting a resin.
【請求項6】 封止プレートが金属で形成され、且つ樹
脂中に埋め込まれる第1の主面側に所定の高さの支持突
起部を有する請求項4または5記載の樹脂封止型半導体
装置の製造方法。
6. The resin-encapsulated semiconductor device according to claim 4, wherein the encapsulation plate is made of metal, and has a support protrusion having a predetermined height on the first main surface side embedded in the resin. Manufacturing method.
【請求項7】 封止プレートと支持突起部が一体で形成
されている請求項6記載の樹脂封止型半導体装置の製造
方法。
7. The method according to claim 6, wherein the sealing plate and the support projection are formed integrally.
【請求項8】 支持突起部は、封止プレートを用いる半
導体装置の端子で、互いに電気的に短絡が許される前記
端子に当接する位置に配置されている請求項6または7
記載の樹脂封止型半導体装置の製造方法。
8. A semiconductor device using a sealing plate, wherein the supporting projection is located at a position in contact with the terminal which is allowed to be electrically short-circuited with each other.
The manufacturing method of the resin-sealed semiconductor device according to the above.
【請求項9】 封止プレートフレームが、コバール,4
2合金を含む鉄系合金材料または銅系合金材料のいずれ
かで形成されている請求項4乃至8いずれか1項に記載
の樹脂封止型半導体装置の製造方法。
9. The sealing plate frame is made of Kovar, 4
9. The method of manufacturing a resin-sealed semiconductor device according to claim 4, wherein the semiconductor device is formed of one of an iron-based alloy material including two alloys and a copper-based alloy material.
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