JPH10112519A - Integrated circuit device with heat dissipation means and its manufacture - Google Patents

Integrated circuit device with heat dissipation means and its manufacture

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Publication number
JPH10112519A
JPH10112519A JP26683296A JP26683296A JPH10112519A JP H10112519 A JPH10112519 A JP H10112519A JP 26683296 A JP26683296 A JP 26683296A JP 26683296 A JP26683296 A JP 26683296A JP H10112519 A JPH10112519 A JP H10112519A
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JP
Japan
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integrated circuit
lead
circuit device
chip
die pad
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Application number
JP26683296A
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Japanese (ja)
Inventor
Masayuki Nikaido
雅之 二階堂
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Motorola Solutions Japan Ltd
Original Assignee
Nippon Motorola Ltd
Motorola Japan Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Motorola Ltd, Motorola Japan Ltd filed Critical Nippon Motorola Ltd
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Publication of JPH10112519A publication Critical patent/JPH10112519A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
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    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
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    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
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    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an integrated circuit device which fits to a small IC packet and whose heat dissipation characteristic is satisfactory and to provide its manufacture method. SOLUTION: The device contains a chip 1 where an integrated circuit is formed, and leads 2a and 2b connected to the terminal and a mounting face is decided by the bending direction of the leads. A die pad 20 where the chip is provided on the surface, a heat radiating body 4 connected to the back of the die pad 20 and a sealing body 5 sealing the chip 1, the die pad 20, the leads, and the heat radiation body are provided on the integrated circuit device. The heat radiation body 4 is exposed on a side opposite to a mounting face-side. In the manufacturing method of the device, a fixing process for fixing a heat radiation member on the back of the die pad 20 in a lead frame is provided, and at least either process in a die bonding process of loading and fixing the chip 1 on the surface of the die pad 20 or a wire bonding process for connecting the terminal of the chip and the inner leads in the lead frame by bonding wire, is executed after the fixing process.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子及び/
またはその他の素子により形成される集積回路(IC)
を担う装置に関し、特に熱放散手段を有する集積回路装
置及びその製造方法に関する。
The present invention relates to a semiconductor device and / or a semiconductor device.
Or integrated circuit (IC) formed by other elements
In particular, the present invention relates to an integrated circuit device having heat dissipation means and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、消費電力の大きい、いわゆる
パワーICの放熱は殊に重要であった。ところが今日、
消費電力の大きさの如何に拘らず、電子機器そのものの
高性能化及び軽薄短小化に伴って、それに使用される小
型IC(LSI)パッケージの発熱密度(集中度)も上
昇の一途を辿っている。従って、かかるICパッケージ
における放熱技術が重要な課題となっている。
2. Description of the Related Art Conventionally, heat dissipation of a power IC, which consumes a large amount of power, has been particularly important. But today,
Regardless of the level of power consumption, the heat generation density (concentration) of the small IC (LSI) package used for the electronic device itself is steadily increasing as the performance of the electronic device itself is increased and the size and weight of the electronic device are reduced. I have. Therefore, heat dissipation technology in such an IC package is an important issue.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した点
に鑑みてなされたものであり、その目的とするところ
は、小型のICパッケージに好適でかつ放熱特性の良好
な集積回路装置及びその製造方法を提供することにあ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide an integrated circuit device which is suitable for a small-sized IC package and has good heat radiation characteristics, and an apparatus therefor. It is to provide a manufacturing method.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明による集積回路装
置は、集積回路が形成されたICチップと、前記ICチ
ップの端子に接続されるリードとを含んで前記リードの
屈曲方向によって実装面が定まっている集積回路装置で
あって、表面に前記ICチップが配設されたダイパッド
と、前記ダイパッドの裏面に結合された放熱体と、前記
ICチップ,ダイパッド,リード及び放熱体を封止する
封止体とを更に有し、前記放熱体は、前記実装面側とは
反対の側において露出していることを特徴としている。
SUMMARY OF THE INVENTION An integrated circuit device according to the present invention includes an IC chip on which an integrated circuit is formed and a lead connected to a terminal of the IC chip. A fixed integrated circuit device, comprising: a die pad having the IC chip disposed on a front surface thereof; a radiator coupled to a back surface of the die pad; and a seal for sealing the IC chip, the die pad, the lead, and the radiator. And a stop body, wherein the heat radiator is exposed on a side opposite to the mounting surface side.

【0005】本発明による集積回路装置の製造方法は、
集積回路が形成されたICチップと、前記ICチップの
端子に接続されるリードとを含んで前記リードの屈曲方
向によって実装面が定められる集積回路装置の製造方法
であって、リードフレームにおけるダイパッドの裏面に
放熱部材を固着する固着工程を有し、この固着工程の後
に、前記ICチップを前記ダイパッドの表面に載置しか
つ固着するダイボンディング工程、及び前記ICチップ
の端子と前記リードフレームにおけるインナーリードと
をボンディングワイヤーにて接続するワイヤーボンディ
ング工程のうちの少なくとも一方の工程を行うことを特
徴としている。
[0005] A method of manufacturing an integrated circuit device according to the present invention comprises:
A method of manufacturing an integrated circuit device, wherein a mounting surface is determined by a bending direction of the lead, including an IC chip on which an integrated circuit is formed, and a lead connected to a terminal of the IC chip, the method comprising: A fixing step of fixing the heat radiating member to the back surface, after this fixing step, a die bonding step of mounting and fixing the IC chip on the surface of the die pad, and a terminal of the IC chip and an inner in the lead frame. The method is characterized in that at least one of wire bonding processes for connecting leads to bonding wires is performed.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。図1は、本発明による一実
施例の集積回路装置の断面図である。また、図2及び図
3は、この集積回路装置に使われるリードフレームの形
態及び放熱部材(ヒートスプレッダー)の平面図を示し
ており、これらは以下の説明において適宜参照される。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view of an integrated circuit device according to one embodiment of the present invention. FIGS. 2 and 3 show plan views of a form of a lead frame and a heat dissipating member (heat spreader) used in the integrated circuit device, which will be appropriately referred to in the following description.

【0007】図1において、半導体集積回路が形成され
たICチップ1は、リードフレーム2のダイパッド20
に固着され、より詳しくは両者の接合部において例えば
共晶合金を形成することによって、或いは塗布された銀
ペーストにてダイパッド20に接着される。チップ1
は、サブストレート上に実際の集積回路を形成してお
り、その集積回路の形成層はパッケージ底面側に配さ
れ、かつサブストレートがダイパッド20に接合するこ
ととなる。この形態は、ダイ・ダウン(die down)とも
呼ばれ、本実施例の特徴の1つでもある。チップ1の、
かかる集積回路形成層表面(図1における下側面)に
は、図示せぬPSG(リンガラス)膜の如き表面保護膜
が被覆されるも、当該チップ外縁近傍において電極或い
は入出力端子たる例えばアルミ性のパッドが複数、露出
形成されている。
In FIG. 1, an IC chip 1 on which a semiconductor integrated circuit is formed is connected to a die pad 20 of a lead frame 2.
More specifically, it is bonded to the die pad 20 by forming, for example, a eutectic alloy at a joint portion between the two or by applying a silver paste. Chip 1
Has an actual integrated circuit formed on the substrate, the layer on which the integrated circuit is formed is disposed on the bottom side of the package, and the substrate is bonded to the die pad 20. This form is also called a die down and is one of the features of the present embodiment. Of chip 1,
The surface of the integrated circuit forming layer (the lower surface in FIG. 1) is coated with a surface protective film such as a PSG (phosphor glass) film (not shown). A plurality of pads are exposed.

【0008】これらチップパッドとリードフレーム2の
インナーリード2aの先端部との間は、ボンディングワ
イヤー3によって接続される。インナーリード2aは、
チップ1の各パッドと相対応しており、個々にパッケー
ジ外縁側へ延在し、外部端子を担うアウターリード2b
へとつながる(図2参照)。ダイパッド20の裏面、す
なわちチップ1の固着面とは反対側の面には、放熱部材
4が形成される。放熱部材4は、ダイパッド20の主面
を余裕をもって覆うだけの十分な主面面積を有し(図3
参照)、所定の接着剤を介して或いは所定の固着処理が
施されてダイパッド20の裏面と固着される。図3から
も分かるように、この放熱部材4は、概して外形が円盤
状となっており、より詳しくは、平坦な底部40を有し
その外周を厚さの比較的薄い壁部41によって囲まれ、
その囲まれた領域において放熱フィンを担い同一の高さ
を有する多数の円柱体42が配列され立設されている。
放熱部材4の主面中央に配される円柱体42´は、他の
円柱体よりも表面積が大となっている。これは、後述す
る組立工程の際にバキューム装置などで放熱部材4をこ
の大きな表面部分を使って搬送し易くするためのもので
ある。さらに付言すれば、放熱部材4の形状がこのよう
に円盤状であることで、リードフレーム2に取り付ける
際にその円形中心位置を基準にするだけで位置決めする
ことができる、という利点もある。
[0008] The bonding pads 3 are connected between the chip pads and the tips of the inner leads 2 a of the lead frame 2. The inner lead 2a is
Outer lead 2b corresponding to each pad of chip 1 and extending individually to the outer edge of the package and serving as an external terminal
(See FIG. 2). The heat dissipating member 4 is formed on the back surface of the die pad 20, that is, on the surface opposite to the fixing surface of the chip 1. The heat dissipating member 4 has a sufficient main surface area to cover the main surface of the die pad 20 with a margin (FIG. 3).
Reference), and fixed to the back surface of the die pad 20 via a predetermined adhesive or by performing a predetermined fixing process. As can be seen from FIG. 3, the heat radiating member 4 has a generally disk-shaped outer shape, and more specifically, has a flat bottom portion 40 and its outer periphery is surrounded by a relatively thin wall portion 41. ,
A large number of cylindrical bodies 42 carrying the heat radiation fins and having the same height are arranged and erected in the surrounded area.
The cylindrical body 42 'arranged at the center of the main surface of the heat radiating member 4 has a larger surface area than other cylindrical bodies. This is for facilitating the transportation of the heat radiating member 4 using the large surface portion by a vacuum device or the like in an assembling process described later. Furthermore, since the shape of the heat dissipating member 4 is disk-shaped as described above, there is also an advantage that, when the heat dissipating member 4 is attached to the lead frame 2, positioning can be performed only by using the center position of the circle as a reference.

【0009】この放熱部材4は、一体的に形成されるこ
とが望ましく、また放熱性の良い(熱伝導率の高い)材
質のものを採用するのが好ましい。一例を挙げると、ア
ルミダイカストと同様に銅系や鉄系材料を用いて鋳造す
ることによって、このような構造の放熱部材を容易に実
現することができる。チップ1,ダイパッド20,イン
ナーリード2a及びボンディングワイヤー3並びに放熱
部材4は、一括して例えば所定の樹脂により封止され、
封止体5が形成される。但し、封止体5は、放熱部材4
全体を包埋するものではなく、円柱体42,42´が形
成された側を露出させる形で封止をなすものである。
The heat radiating member 4 is desirably formed integrally, and is preferably made of a material having good heat radiating properties (high heat conductivity). As an example, a heat dissipating member having such a structure can be easily realized by casting using a copper-based or iron-based material as in the case of aluminum die casting. The chip 1, die pad 20, inner lead 2a, bonding wire 3, and heat radiating member 4 are collectively sealed with, for example, a predetermined resin.
The sealing body 5 is formed. However, the sealing body 5 is a heat radiation member 4
Instead of embedding the whole, the sealing is performed in such a manner that the side on which the cylindrical bodies 42, 42 'are formed is exposed.

【0010】放熱部材4の高さ方向(図1における上下
方向)の包絡線は、封止体5の頂面と整合される。かか
る放熱部材4と封止体5との外形上の整合性は、本実施
例の特徴の1つでもある。つまり放熱部材4は、封止体
5の頂面を包絡する形から突出することなく、従来の小
型パッケージと同じ高さとしているので、パッケージ全
体の高さ方向の小型化に極めて有利となるのである。こ
のことは、従来の外付けヒートスプレッダが完成品のパ
ッケージに立設するのに比して格段に高さ方向の小型化
が図られたことに相当する。そして実装基板における垂
直方向の小型化も同時に促進されることとなる。
The envelope of the heat radiating member 4 in the height direction (vertical direction in FIG. 1) is aligned with the top surface of the sealing body 5. The external conformity between the heat radiating member 4 and the sealing body 5 is also one of the features of the present embodiment. In other words, the heat dissipating member 4 has the same height as the conventional small package without protruding from the shape enclosing the top surface of the sealing body 5, which is extremely advantageous for miniaturizing the entire package in the height direction. is there. This is equivalent to the fact that the conventional external heat spreader is significantly downsized in the height direction as compared with the case where the external heat spreader is erected on the package of the finished product. In addition, miniaturization of the mounting substrate in the vertical direction is promoted at the same time.

【0011】しかも放熱部材4は、樹脂封止されている
にも拘らず多数のフィンを呈してその外表面積を大きく
とっているので、従来の外付けヒートスプレッダとほぼ
同等の放熱性を確保することが可能である。また、放熱
部材4は、ダイパッド20と直接的に接触し、ダイパッ
ド20よりも大なる主面面積をもって、しかもパッケー
ジにおいて上向きに露出する形態を採っていることも重
要である。このような形態により、チップ1の発熱を放
散せしめる効率を向上させている。パッケージにおいて
放熱部材を下向き、すなわち実装面側に露出する形態
は、実装後に放熱部材がプリント基板の表面に接触もし
くは近接してしまい、放熱部材が外気に晒されなくなっ
て放熱部材自体の放熱性を最大限に活用できない結果と
なる。本実施例は、この結果とは逆の結果を導くのであ
る。
In addition, since the heat dissipating member 4 has a large number of fins and a large external surface area in spite of being sealed with a resin, it is possible to secure heat radiation substantially equal to that of a conventional external heat spreader. Is possible. It is also important that the heat radiating member 4 be in direct contact with the die pad 20, have a larger main surface area than the die pad 20, and be configured to be exposed upward in the package. With such a configuration, the efficiency of dissipating heat generated by the chip 1 is improved. In the package, the radiating member faces downward, that is, is exposed to the mounting surface side.The radiating member contacts or approaches the surface of the printed circuit board after mounting, and the radiating member is not exposed to the outside air. The result is that it cannot be used to its full potential. This embodiment leads to the opposite result.

【0012】さらに放熱部材4がダイパッド20の裏面
に設けられている点にも大きなメリットを有する。チッ
プ1の集積回路形成層側(図1における下側)に放熱部
材を設ける場合は、当該形成層の電極パッドに接続され
るボンディングワイヤーの制約を受け、チップ1との実
質的な接触面積が小さい放熱部材を採用せざるを得なく
なる。またこの場合、製造上の面からワイヤーボンディ
ングを行った後に放熱部材を取り付ける工程が組まれる
ことになるとともに、放熱部材の取り付けの際には絶え
ずボンディングワイヤー間の接触(いわゆるショート)
やインナーリードの変形などを考慮に入れなければなら
ない。ところが本実施例においては、ボンディングワイ
ヤー3の配されないダイパッド20の裏面側に放熱部材
4を設けるようにしており、チップ1との実質的な接触
面積を大きくとることができ、ワイヤーボンディングの
前においてリードフレーム2に予め放熱部材4を取り付
けておくことができるとともに、ボンディングワイヤー
間の接触やインナーリードの変形などをあまり気にせず
に放熱部材4を組み込むことができる。
Further, there is a great merit in that the heat radiation member 4 is provided on the back surface of the die pad 20. When a heat radiation member is provided on the integrated circuit formation layer side of the chip 1 (the lower side in FIG. 1), the substantial contact area with the chip 1 is limited due to the restriction of the bonding wire connected to the electrode pad of the formation layer. A small heat radiating member must be adopted. In this case, a step of attaching the heat radiating member after wire bonding is performed from the manufacturing point of view, and at the time of attaching the heat radiating member, the contact between the bonding wires (so-called short-circuit) is constantly caused.
And deformation of the inner leads must be taken into account. However, in the present embodiment, the heat radiating member 4 is provided on the back surface side of the die pad 20 where the bonding wire 3 is not provided, so that a substantial contact area with the chip 1 can be increased, and before the wire bonding, The heat radiating member 4 can be attached to the lead frame 2 in advance, and the heat radiating member 4 can be incorporated without much concern about contact between bonding wires and deformation of the inner lead.

【0013】次に、この集積回路装置の製造方法につい
て叙述する。先ず全体的な製造の流れを明らかにするた
めに、図4を参照する。図4は、いわゆるアセンブリ工
程を主としたフローチャートを示しており、ウェハに形
成されたチップを個々に分割するダイシング(工程S1
0)が行われる。一方、このダイシング工程と並行して
リードフレーム2の製造装置への導入が行われ(工程S
01)、上記放熱部材4の取り付けが行われる。リード
フレーム2は、図2に示されるように、ガイドホール2
eをその四隅に有しており、また、同じパターンのリー
ドフレームが連続してつながる多連フレーム形態が採ら
れている。導入工程S01においては、かかるガイドホ
ール2eに製造装置におけるスプロケットを挿通させて
リードフレーム2を順送りさせつつ所定の位置に位置決
めする。放熱部材固着工程S02においては、最初に、
位置決めされたリードフレーム2に対してそのダイパッ
ド20の裏面(チップ1を搭載する側とは反対側の面)
に、いわゆるエポキシ接着剤のような熱伝導率の高い接
着剤を塗布する。そして先述した放熱部材4をこの接着
剤を介してダイパッド20の裏面に固着せしめるのであ
る。なお、かかる接着のための手段としては、熱伝導率
の高い物質からなる両面接着テープでも採用可能であ
る。
Next, a method of manufacturing the integrated circuit device will be described. First, reference is made to FIG. 4 to clarify the overall manufacturing flow. FIG. 4 is a flowchart mainly showing a so-called assembly process, in which dicing (step S1) is performed to divide chips formed on a wafer into individual chips.
0) is performed. On the other hand, the lead frame 2 is introduced into the manufacturing apparatus in parallel with the dicing step (step S).
01), the heat radiation member 4 is mounted. The lead frame 2 is, as shown in FIG.
e are provided at the four corners, and a multiple frame form in which lead frames of the same pattern are continuously connected is adopted. In the introduction step S01, the sprocket of the manufacturing apparatus is inserted through the guide hole 2e to position the lead frame 2 at a predetermined position while moving forward. In the heat radiation member fixing step S02, first,
The back surface of the die pad 20 with respect to the positioned lead frame 2 (the surface opposite to the side on which the chip 1 is mounted)
Then, an adhesive having a high thermal conductivity such as a so-called epoxy adhesive is applied. Then, the above-mentioned heat radiating member 4 is fixed to the back surface of the die pad 20 via this adhesive. As a means for such adhesion, a double-sided adhesive tape made of a substance having high thermal conductivity can also be employed.

【0014】このようにして放熱部材4の固着されたリ
ードフレーム2には、次の段階でダイボンディング(工
程S11)が施される。これは、工程S10において得
られた単一のチップ1を、ダイパッド20の、今度は放
熱部材4の固着面とは反対の面上に銀ペーストを介して
載置固着することにより達成される。リードフレーム2
の形態の一例を示した図2から分かるように、正方形ダ
イパッド20は、リードフレーム2の中央に配され、そ
の各対角線方向に延出する吊りピン(或いはダイパッド
支持パターン)2cによってリードフレームの外枠21
と連結される。ダイパッド20の周縁端近傍には、リー
ドパッド2aの先端が当該縁端に沿って配列される。イ
ンナーリード2aは、ダムバー或いはタイバーと呼ばれ
る樹脂の流れ止め用パターン2dを介してアウターリー
ド2bとつながる。
The lead frame 2 to which the heat radiating member 4 is fixed is subjected to die bonding (step S11) in the next stage. This is achieved by mounting and fixing the single chip 1 obtained in the step S10 on the die pad 20, which is opposite to the fixing surface of the heat radiating member 4, via a silver paste. Lead frame 2
As can be seen from FIG. 2 showing an example of the embodiment, the square die pad 20 is arranged at the center of the lead frame 2 and is provided outside the lead frame by suspending pins (or die pad support patterns) 2c extending in the respective diagonal directions. Frame 21
Is linked to Near the peripheral edge of the die pad 20, the tips of the lead pads 2a are arranged along the edge. The inner lead 2a is connected to the outer lead 2b through a resin flow stopping pattern 2d called a dam bar or a tie bar.

【0015】工程S11によるダイボンディングの後
は、ダイパッド上の熱硬化性樹脂たる銀ペーストを固め
るために例えば150〜190゜Cの雰囲気中に、かか
るダイボンディングされたリードフレーム2を2,3時
間だけ置くキュアー(工程S12)処理が行われる。次
いで、ダイパッド20に固着されたチップ1のパッドと
これに対応するインナーリード2aの先端とを個々に接
続するワイヤーボンディング(工程S13)が行われ
る。ここで、ワイヤーボンディングの際のリードフレー
ム2の形態を図5に示す。図5は図2におけるA−A断
面図に対応するものである。この図のように、図1とは
異なり、放熱部材4が下向きに配されてワイヤボンディ
ングが行われる。
After the die bonding in step S11, the die-bonded lead frame 2 is placed in an atmosphere of, for example, 150 to 190 ° C. for a few hours to solidify a silver paste as a thermosetting resin on the die pad. Cure (step S12) is performed. Next, wire bonding (step S13) for individually connecting the pads of the chip 1 fixed to the die pad 20 and the corresponding tips of the inner leads 2a is performed. Here, the form of the lead frame 2 at the time of wire bonding is shown in FIG. FIG. 5 corresponds to a sectional view taken along line AA in FIG. As shown in this figure, unlike FIG. 1, the heat radiating member 4 is arranged downward and wire bonding is performed.

【0016】インナーリード2aへのボンディングが全
て終了すると、樹脂封止工程S14に移行する。この封
止工程S14では、既述した封止体5の成形がなされ
る。その詳細は後述することにする。樹脂封止工程S1
4が終了すると、封止体5を形成する熱硬化性樹脂を固
めるべく、例えば150〜190゜Cの雰囲気中に、か
かる封止の施されたリードフレーム2を5〜7時間だけ
置くキュアー(工程S15)処理が行われる。その後、
ダムバー2dをカットし(工程S16)、アウターリー
ド2bにメッキを施し(工程S17)、さらにリード整
形を行う(工程S18)。
When all the bonding to the inner lead 2a is completed, the process proceeds to a resin sealing step S14. In the sealing step S14, the sealing body 5 described above is formed. The details will be described later. Resin sealing step S1
When the step 4 is completed, the cured lead frame 2 is placed in an atmosphere of, for example, 150 to 190 ° C. for 5 to 7 hours in order to harden the thermosetting resin forming the sealing body 5. Step S15) The processing is performed. afterwards,
The dam bar 2d is cut (step S16), the outer leads 2b are plated (step S17), and lead shaping is performed (step S18).

【0017】リード整形工程S18においては、アウタ
ーリード2bを図1に示されるような2つの屈曲点を有
するガルウイング状に加工する。ここで注記すると、上
述したように本集積回路装置はダイ・ダウン形態を採っ
ているので、アウターリード2bが、チップ1の集積回
路形成層側、すなわちチップパッド形成面側にパッケー
ジボディから最初の屈曲がなされる。言い換えれば、放
熱部材4を上向きにして実装するようにアウターリード
2bがガルウィング状に形成されるのである。工程S1
8においてはまた、吊りピン2cの封止されていない露
出部など、不要なものが除去され、リードフレーム2か
ら封止体5及びそれによって封止されている部分が分離
される。
In the lead shaping step S18, the outer lead 2b is processed into a gull-wing shape having two bending points as shown in FIG. Note that, as described above, since the present integrated circuit device adopts a die-down configuration, the outer leads 2b are formed on the integrated circuit forming layer side of the chip 1, that is, on the chip pad forming surface side from the first package body. A bend is made. In other words, the outer lead 2b is formed in a gull wing shape so that the heat radiation member 4 is mounted with the heat radiation member 4 facing upward. Step S1
At 8, unnecessary parts such as the unsealed exposed portions of the suspension pins 2 c are removed, and the sealing body 5 and the portion sealed by the sealing body 5 are separated from the lead frame 2.

【0018】かくして図1の如き集積回路装置が得られ
ると、検査(工程S19)、梱包(工程S20)を経て
出荷(工程S21)の運びとなる。次に、上記樹脂封止
工程S14の態様を詳しく説明する。図6は、いわゆる
低圧トランスファーモールド法にて本集積回路装置のパ
ッケージング(樹脂封止)を行うためのトランスファー
金型及びこれを含む製造装置、並びにこの製造装置にセ
ットされるボンディング済みチップ1が搭載されかつ放
熱部材4の固着されたリードフレーム2を示す概略断面
図である。なお、図6におけるリードフレーム2は、図
2におけるB−B断面に対応するが、より一層簡略的に
描かれている。
When the integrated circuit device as shown in FIG. 1 is thus obtained, it is transported through inspection (step S19), packing (step S20), and shipment (step S21). Next, the mode of the resin sealing step S14 will be described in detail. FIG. 6 shows a transfer mold for packaging (resin sealing) of the present integrated circuit device by a so-called low-pressure transfer molding method, a manufacturing apparatus including the same, and a bonded chip 1 set in the manufacturing apparatus. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a lead frame 2 mounted and to which a heat radiation member 4 is fixed. Note that the lead frame 2 in FIG. 6 corresponds to the BB cross section in FIG. 2, but is illustrated more simply.

【0019】図6において、樹脂封止体5を成形するた
めの製造部は、主として、合わせ金型たる上側の金型
(上型)61及び下側の金型(下型)71と、これら金
型によるキャビティ610及び710に液状樹脂を注入
するための注入機構と、そのキャビティにおける注入樹
脂から気泡ないしは空隙(ボイド)を抜き去るためのボ
イド抜き機構とからなる。かかる注入機構は、カル穴8
1、トランスファプランジャ91、ランナR1、及びゲ
ートG1によって構成され、ボイド抜き機構は、エアー
ベントV1からなる。
In FIG. 6, a manufacturing section for molding the resin sealing body 5 mainly includes an upper mold (upper mold) 61 and a lower mold (lower mold) 71 serving as mating molds. An injection mechanism for injecting the liquid resin into the cavities 610 and 710 by a mold, and a void removing mechanism for removing bubbles or voids from the injected resin in the cavity. Such an injection mechanism includes a cull hole 8.
1, the transfer plunger 91, the runner R1, and the gate G1, and the void removing mechanism is composed of an air vent V1.

【0020】上型61及び下型71は、予め所定温度に
加熱され、所定位置に固定された封止対象のリードフレ
ーム2を挟み込む(型締め)。一方、封止体5の原料と
して予めタブレット状に成形した所定の樹脂50を高周
波加熱しておき、これをカル穴81に充填する。或い
は、予め所定温度に加熱された金型のカル穴に原料(タ
ブレット)を入れて予備加熱し、充填する。そうして、
トランスファプランジャ91を作動させ原料樹脂50を
圧搾しランナR1及びゲートG1を通じてキャビティ6
10,710に溶融加圧注入する。
The upper mold 61 and the lower mold 71 are heated to a predetermined temperature in advance, and sandwich the lead frame 2 to be sealed fixed at a predetermined position (clamping). On the other hand, a predetermined resin 50 previously formed into a tablet shape as a raw material of the sealing body 5 is subjected to high frequency heating, and is filled in the cull hole 81. Alternatively, a raw material (tablet) is put into a cull hole of a mold that has been heated to a predetermined temperature in advance, preheated and filled. And then
The transfer plunger 91 is operated to squeeze the raw material resin 50, and the cavity 6 is formed through the runner R1 and the gate G1.
The melt pressure is injected into 10,710.

【0021】このときの上型61とリードフレーム2と
の配置関係は、ダイパッド20がキャビティ610の中
心に位置するよう固定される。図示すれば、図2に封止
体5の位置を示すための一点鎖線がこの関係を示すこと
になる。また、放熱部材4の露出端面と下型71の凹部
底面とは密着するので、放熱部材4における円柱フィン
42,42´の間の溝部には液状樹脂が入り込まない。
At this time, the positional relationship between the upper die 61 and the lead frame 2 is fixed such that the die pad 20 is located at the center of the cavity 610. As shown in FIG. 2, a dashed line for indicating the position of the sealing body 5 in FIG. 2 indicates this relationship. Further, since the exposed end surface of the heat radiating member 4 and the bottom surface of the concave portion of the lower mold 71 are in close contact with each other, the liquid resin does not enter the groove between the cylindrical fins 42 and 42 'in the heat radiating member 4.

【0022】樹脂注入初期の各キャビティにおいては、
注入樹脂中にボイドが入り混じることとなる。エアーベ
ントV1は、かかるボイドを外部へ押し出し若しくは抜
き出す溝であって、最終的な封止樹脂中の混入ボイドを
消失せしめる。なお、ゲートG1及びベントV1は、下
型に形設するようにしても良い。以上の説明からも分か
るように、本製造方法によれば、予めリードフレーム2
に放熱部材4を取り付けておき、その後にダイボンディ
ング及びワイヤーボンディングが行われる。この手順が
確保されることにより、既述したようにボンディングワ
イヤー間の接触やインナーリードの変形などを回避する
ことができ、もって工作性の容易な放熱手段を有する集
積回路装置を実現することができる。
In each cavity at the beginning of resin injection,
Voids are mixed in the injected resin. The air vent V1 is a groove for extruding or extracting the void to the outside, and eliminates a final mixed void in the sealing resin. The gate G1 and the vent V1 may be formed in a lower mold. As can be seen from the above description, according to the present manufacturing method, the lead frame 2
The heat dissipating member 4 is attached to the substrate, and then die bonding and wire bonding are performed. By ensuring this procedure, it is possible to avoid the contact between the bonding wires and the deformation of the inner lead as described above, thereby realizing an integrated circuit device having heat radiation means with easy workability. it can.

【0023】また、放熱部材4を製造する点を除いて
は、通常の樹脂封止型の集積回路装置を製造する手法を
適用することができるので、既存のアセンブリ設備及び
方式の共用化が可能かつ容易であり、多くの費用をかけ
ることなく本集積回路装置のためのアセンブリ設備を用
意することができる。かくして製造面における低コスト
性を維持しながらにして本集積回路装置を製造すること
ができる。
Except for manufacturing the heat radiating member 4, a conventional method of manufacturing a resin-sealed integrated circuit device can be applied, so that the existing assembly equipment and system can be shared. It is easy and easy to prepare an assembly facility for the present integrated circuit device without much expense. Thus, the present integrated circuit device can be manufactured while maintaining low cost in terms of manufacturing.

【0024】上記実施例の改変例としては、図7のよう
な構造が好ましい。図7においては放熱部材4に対して
所要箇所に面取りが施されている。よって当該各箇所に
おいて丸味4Aが付けられ、この丸味4Aを覆う形で封
止体5が形成されるので、パッケージにおける当該放熱
部材への応力集中を防止することができる。これによ
り、放熱性だけでなく耐クラック性の良好な集積回路装
置を実現することができる。
As a modification of the above embodiment, a structure as shown in FIG. 7 is preferable. In FIG. 7, a required portion of the heat radiation member 4 is chamfered. Therefore, the roundness 4A is provided at each of the locations, and the sealing body 5 is formed so as to cover the roundness 4A, so that stress concentration on the heat radiation member in the package can be prevented. This makes it possible to realize an integrated circuit device having not only good heat dissipation but also good crack resistance.

【0025】なお、上記実施例においては、図1及び図
3に示したような放熱部材4を採用しているが、このよ
うな形状及び構造に限らず、種々の形態に改変すること
が可能である。例えば放熱フィンを担う円柱体は、図3
では格子状に配列されているが千鳥状に配列しても良
く、様々な配列形態を採用できるし、放熱フィンを円柱
体の形にしなくとも、角柱状や半球状ないしは突起状な
どでも良い。
In the above embodiment, the heat radiating member 4 as shown in FIGS. 1 and 3 is employed. However, the present invention is not limited to such a shape and structure but can be modified into various forms. It is. For example, the cylindrical body that carries the radiation fin is shown in FIG.
Although they are arranged in a lattice shape, they may be arranged in a staggered manner, and various arrangement forms can be adopted. The radiating fins may not be in the shape of a cylinder, but may be in the shape of a prism, a hemisphere or a protrusion.

【0026】また、放熱部材4をリードフレーム2に取
り付けた後にダイボンディング及びワイヤーボンディン
グを行ったが、ダイボンディング及びワイヤーボンディ
ングの少なくとも一方が終了した後に放熱部材4を取り
付けるようにしても良い。要は放熱部材4をこれらボン
ディングから制約を受けずに設けることができる点で、
本発明は、大きなメリットを有するのである。
Although the die bonding and the wire bonding are performed after attaching the heat radiating member 4 to the lead frame 2, the heat radiating member 4 may be attached after at least one of the die bonding and the wire bonding is completed. The point is that the heat radiating member 4 can be provided without being restricted by these bondings.
The present invention has great advantages.

【0027】さらに上記実施例においては、QFP型の
パッケージを挙げたが、これに限らず本発明はDIP型
等様々な形態のものにも適用可能であるし、アウターリ
ードの形態もガルウィング状でなくとも構わない。この
他にも、上記実施例では種々の構造、手段及び工程を具
体的または簡単に説明したが、当業者の設計可能な範囲
で適宜改変することは可能である。
Further, in the above-described embodiment, the QFP type package has been described. However, the present invention is not limited to this, and the present invention can be applied to various types such as a DIP type. It does not matter. In addition, various structures, means, and steps have been specifically or simply described in the above-described embodiment, but can be appropriately modified within a range that can be designed by those skilled in the art.

【0028】[0028]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
小型のICパッケージに好適でかつ放熱特性の良好な集
積回路装置及びその製造方法を提供することができる。
As described in detail above, according to the present invention,
An integrated circuit device suitable for a small-sized IC package and having good heat radiation characteristics and a method for manufacturing the same can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による一実施例の集積回路装置の概略断
面図。
FIG. 1 is a schematic sectional view of an integrated circuit device according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1の集積回路装置に適用されるリードフレー
ムの一形態を示す図。
FIG. 2 is a view showing one embodiment of a lead frame applied to the integrated circuit device of FIG. 1;

【図3】図1の集積回路装置に適用される放熱部材の平
面図。
FIG. 3 is a plan view of a heat dissipation member applied to the integrated circuit device of FIG. 1;

【図4】本発明による一実施例の集積回路装置の製造方
法を示すフローチャート。
FIG. 4 is a flowchart showing a method of manufacturing an integrated circuit device according to one embodiment of the present invention.

【図5】図4の製造方法におけるワイヤーボンディング
工程におけるリードフレームの形態を示す断面図。
FIG. 5 is a sectional view showing a form of a lead frame in a wire bonding step in the manufacturing method of FIG. 4;

【図6】低圧トランスファーモールド法にて本実施例集
積回路装置のパッケージングを行うためのトランスファ
ー金型及びこれを含む製造装置、並びにこの製造装置に
セットされるリードフレーム2の態様を示す概略断面
図。
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing a transfer mold for packaging the integrated circuit device of the present embodiment by a low-pressure transfer molding method, a manufacturing apparatus including the same, and a lead frame 2 set in the manufacturing apparatus. FIG.

【図7】図1の集積回路装置の改変例を示す断面図。FIG. 7 is a sectional view showing a modified example of the integrated circuit device of FIG. 1;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ICチップ 2 リードフレーム 20 ダイパッド 21 外枠 2a リードパッド 2b インナーリード 2c 吊りピン 2d ダムバー 2e ガイドホール 3 ボンディングワイヤ 4 放熱部材 40 底部 41 壁部 42,42´ 円柱体 4A 丸味 5 封止体 61 上型 610 上型キャビティ 71 下型 710 下型キャビティ 81 カル部 91 プランジャ R1 ランナ G1 ゲート V1 エアーベント 50 樹脂タブレット DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 IC chip 2 Lead frame 20 Die pad 21 Outer frame 2a Lead pad 2b Inner lead 2c Hanging pin 2d Dam bar 2e Guide hole 3 Bonding wire 4 Heat radiating member 40 Bottom 41 Wall 42,42 'Cylindrical body 4A Roundness 5 Sealing body 61 Mold 610 Upper mold cavity 71 Lower mold 710 Lower mold cavity 81 Cull part 91 Plunger R1 Runner G1 Gate V1 Air vent 50 Resin tablet

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 集積回路が形成されたICチップと、前
記ICチップの端子に接続されるリードとを含んで前記
リードの屈曲方向によって実装面が定まっている集積回
路装置であって、 表面に前記ICチップが配設されたダイパッドと、前記
ダイパッドの裏面に結合された放熱体と、前記ICチッ
プ,ダイパッド,リード及び放熱体を封止する封止体と
を更に有し、前記放熱体は、前記実装面側とは反対の側
において露出していることを特徴する集積回路装置。
1. An integrated circuit device, comprising: an IC chip on which an integrated circuit is formed; and a lead connected to a terminal of the IC chip, wherein a mounting surface is determined by a bending direction of the lead. A die pad on which the IC chip is disposed; a radiator coupled to a back surface of the die pad; and a sealing member for sealing the IC chip, the die pad, the lead, and the radiator. An integrated circuit device which is exposed on a side opposite to the mounting surface side.
【請求項2】 前記放熱体の露出部分の端面の高さは、
前記封止体の頂面の高さと略一致することを特徴とする
請求項1記載の集積回路装置。
2. A height of an end face of an exposed portion of the heat radiator is:
2. The integrated circuit device according to claim 1, wherein a height of the sealing body is substantially equal to a height of a top surface of the sealing body.
【請求項3】 前記放熱体は、露出部分において放熱フ
ィンを有することを特徴とする請求項1または2記載の
集積回路装置。
3. The integrated circuit device according to claim 1, wherein the radiator has a radiation fin in an exposed portion.
【請求項4】 前記放熱体は、前記放熱フィンを除く部
分において円盤状を呈し、前記放熱フィンは、円柱状に
形成されることを特徴とする請求項3記載の集積回路装
置。
4. The integrated circuit device according to claim 3, wherein the radiator has a disk shape in a portion other than the radiator fin, and the radiator fin is formed in a columnar shape.
【請求項5】 前記放熱体における前記ダイパッドへの
結合面の面積は、前記ダイパッドの主面面積よりも大き
いことを特徴とする請求項1ないし4のうちのいずれか
1つに記載の集積回路装置。
5. The integrated circuit according to claim 1, wherein an area of a surface of the heat sink connected to the die pad is larger than a main surface area of the die pad. apparatus.
【請求項6】 前記ダイパッド及びリードは、リードフ
レームから得られたものであり、前記ICチップの端子
と前記リードとは、前記実装面側においてワイヤーボン
ディング接続され、前記リードのうちの外部リードは、
前記実装面側に最初の屈曲を呈することを特徴とする請
求項1ないし5のうちのいずれか1つに記載の集積回路
装置。
6. The die pad and the lead are obtained from a lead frame, the terminal of the IC chip and the lead are connected by wire bonding on the mounting surface side, and the external lead of the lead is ,
The integrated circuit device according to any one of claims 1 to 5, wherein the first bend is provided on the mounting surface side.
【請求項7】 前記放熱体は、前記封止体と接する側に
おいて面取りされていることを特徴とする請求項1ない
し6のうちのいずれか1つに記載の集積回路装置。
7. The integrated circuit device according to claim 1, wherein the heat radiator is chamfered on a side in contact with the sealing body.
【請求項8】 集積回路が形成されたICチップと、前
記ICチップの端子に接続されるリードとを含んで前記
リードの屈曲方向によって実装面が定められる集積回路
装置の製造方法であって、 リードフレームにおけるダイパッドの裏面に放熱部材を
固着する固着工程を有し、 この固着工程の後に、前記ICチップを前記ダイパッド
の表面に載置しかつ固着するダイボンディング工程、及
び前記ICチップの端子と前記リードフレームにおける
インナーリードとをボンディングワイヤーにて接続する
ワイヤーボンディング工程のうちの少なくとも一方の工
程を行うことを特徴とする集積回路装置の製造方法。
8. A method for manufacturing an integrated circuit device, comprising: an IC chip on which an integrated circuit is formed; and a lead connected to a terminal of the IC chip, wherein a mounting surface is determined by a bending direction of the lead. A fixing step of fixing a heat radiating member to the back surface of the die pad in the lead frame; after this fixing step, a die bonding step of mounting and fixing the IC chip on the surface of the die pad; A method for manufacturing an integrated circuit device, comprising performing at least one of a wire bonding step of connecting an inner lead of the lead frame with an inner lead by a bonding wire.
【請求項9】 前記ICチップ,ダイパッド,インナー
リード及び放熱部材を封止する封止体を形成する封止工
程と、前記放熱部材が配置された側とは反対側において
前記リードフレームにおける外部リードにより実装可能
なように前記外部リードを整形するリード整形工程とを
さらに有することを特徴とする請求項8記載の集積回路
装置の製造方法。
9. A sealing step of forming a sealing body for sealing the IC chip, the die pad, the inner lead, and the heat radiating member, and an external lead of the lead frame on a side opposite to a side on which the heat radiating member is arranged. The method of manufacturing an integrated circuit device according to claim 8, further comprising: a lead shaping step of shaping the external lead so that the external lead can be mounted.
【請求項10】 前記封止工程は、前記ワイヤーボンデ
ィング工程の処理が施されたリードフレームを挟持する
第1及び第2の金型を用いたトランスファ成形を行うも
のであって、 前記第1及び第2の金型のうちの一方は、前記放熱部材
の露出部分の端面と密着する底面を含むキャビティ凹部
を有することを特徴とする請求項8または9記載の集積
回路装置の製造方法。
10. The sealing step includes performing transfer molding using first and second molds for holding the lead frame that has been subjected to the wire bonding step. 10. The method of manufacturing an integrated circuit device according to claim 8, wherein one of the second molds has a cavity recess including a bottom surface in close contact with an end surface of the exposed portion of the heat radiating member.
【請求項11】 前記放熱体は、搬送され易くかつ前記
ダイパッドの裏面に固着するための処理が行なわれるの
に容易とするための露出面を所定位置に有することを特
徴とする請求項8,9または10記載の集積回路装置の
製造方法。
11. The heat radiator has an exposed surface at a predetermined position so that the heat radiator is easily conveyed and is easily processed to be fixed to the back surface of the die pad. 11. The method for manufacturing an integrated circuit device according to 9 or 10.
【請求項12】 前記露出面は、他の放熱フィンよりも
大なる主面面積を有する放熱フィンを担い、前記所定位
置は、前記放熱体の主面における中央位置であることを
特徴とする請求項11記載の集積回路装置の製造方法。
12. The radiator according to claim 12, wherein the exposed surface carries a radiator fin having a main surface area larger than other radiator fins, and the predetermined position is a center position on the main surface of the radiator. Item 12. The method for manufacturing an integrated circuit device according to item 11.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016001766A (en) * 2015-10-08 2016-01-07 三菱電機株式会社 Semiconductor module
WO2017033295A1 (en) * 2015-08-26 2017-03-02 日立オートモティブシステムズ株式会社 Structure
WO2018092185A1 (en) * 2016-11-15 2018-05-24 三菱電機株式会社 Semiconductor module and semiconductor device
CN117476590A (en) * 2023-12-28 2024-01-30 华羿微电子股份有限公司 Double-sided heat dissipation packaging structure and preparation method thereof

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017033295A1 (en) * 2015-08-26 2017-03-02 日立オートモティブシステムズ株式会社 Structure
CN107924885A (en) * 2015-08-26 2018-04-17 日立汽车系统株式会社 Tectosome
JPWO2017033295A1 (en) * 2015-08-26 2018-07-05 日立オートモティブシステムズ株式会社 Structure
CN107924885B (en) * 2015-08-26 2020-08-25 日立汽车系统株式会社 Structure body
US10818573B2 (en) 2015-08-26 2020-10-27 Hitachi Automotive Systems, Ltd. Power semiconductor module with heat dissipation plate
JP2016001766A (en) * 2015-10-08 2016-01-07 三菱電機株式会社 Semiconductor module
WO2018092185A1 (en) * 2016-11-15 2018-05-24 三菱電機株式会社 Semiconductor module and semiconductor device
JPWO2018092185A1 (en) * 2016-11-15 2019-04-11 三菱電機株式会社 Semiconductor module and semiconductor device
US11257732B2 (en) 2016-11-15 2022-02-22 Mitsubishi Electric Corporation Semiconductor module and semiconductor device
CN117476590A (en) * 2023-12-28 2024-01-30 华羿微电子股份有限公司 Double-sided heat dissipation packaging structure and preparation method thereof

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