JP2001283996A - Sheet-like connector and its manufacturing method, electrical equipment connecting device and inspection equipment - Google Patents

Sheet-like connector and its manufacturing method, electrical equipment connecting device and inspection equipment

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JP2001283996A
JP2001283996A JP2000100703A JP2000100703A JP2001283996A JP 2001283996 A JP2001283996 A JP 2001283996A JP 2000100703 A JP2000100703 A JP 2000100703A JP 2000100703 A JP2000100703 A JP 2000100703A JP 2001283996 A JP2001283996 A JP 2001283996A
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JP
Japan
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sheet
connector
conductive
metal
conductive portion
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JP2000100703A
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Japanese (ja)
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Hisao Igarashi
久夫 五十嵐
Katsumi Sato
克己 佐藤
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JSR Corp
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  • Manufacturing Of Electrical Connectors (AREA)
  • Coupling Device And Connection With Printed Circuit (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sheet-like connector which can hold high contact reliability over a long period of time, and can attain electrical connection in the state that a resistance is small enough to a metal electrode of a semiconductor equipment which should be connected, and its manufacturing method, an electrical equipment connection device, and an inspection equipment. SOLUTION: The sheet-like connector is formed of two or more penetration electrical conduction parts, which penetrate and are extended in the thickness direction, in a mutually insulated state; a barrier layer which consists of a diffusion-resistant metal is prepared in the surface of the penetration electrical conduction part which makes contacts oppositely with a metal electrode of an electric equipment which should be connected. Moreover, an edge is formed in a part contacting oppositely of the penetration electrical conduction part, which oppositely contacts with the metal electrode of the electrical equipment which should be connected.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、シート状コネクタ
ーおよびその製造方法、電気装置接続装置並びに検査装
置に関し、例えば、BGA(Ball Grid Ar
ray)などの電極がバンプ形状を有する半導体装置な
どの各種の回路装置に代表される電気装置の高周波特性
の検査に好適に用いられるシート状コネクターおよびそ
の製造方法、電気装置接続装置並びに検査装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a sheet-like connector, a method of manufacturing the same, an electric device connecting device, and an inspection device, for example, a BGA (Ball Grid Ar).
The present invention relates to a sheet-like connector suitably used for inspection of high-frequency characteristics of an electric device typified by various circuit devices such as a semiconductor device having a bump-shaped electrode such as a semiconductor device, a manufacturing method thereof, an electric device connecting device, and an inspection device. .

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、機器の小型化、高性能化に伴
い、電気装置の電極数は増加し、その電極間のピッチも
微細化する傾向にある。また、例えば、BGAなどのよ
うに一方の面に半球形状の突起電極が形成された半導体
装置などの電気装置は、支持基板に高い密度で実装する
ことができることからその重要性が高まっている。
2. Description of the Related Art In general, with the miniaturization and high performance of equipment, the number of electrodes of an electric device tends to increase, and the pitch between the electrodes tends to be reduced. Further, for example, an electrical device such as a semiconductor device in which a hemispherical protruding electrode is formed on one surface, such as a BGA, can be mounted on a supporting substrate at a high density, and its importance is increasing.

【0003】従来、この種の電気装置の電気的動作検査
においては、検査対象である電気装置の一面に形成され
た突起電極と、検査治具の接続電極との電気的な接続を
達成するために、当該電気装置と検査治具との間に異方
導電性のシート状コネクターを介在させることが行われ
ていた。かかるシート状コネクターは、その厚み方向に
貫通して伸びる複数の貫通導電部が相互に絶縁されてな
るものであり、例えば、柔軟性を有する絶縁性シートに
貫通導電部が形成されてなるものである。
Conventionally, in the electrical operation inspection of this type of electric device, it is necessary to achieve an electrical connection between a protruding electrode formed on one surface of the electric device to be inspected and a connection electrode of an inspection jig. In addition, an anisotropic conductive sheet-like connector is interposed between the electric device and the inspection jig. Such a sheet-like connector is one in which a plurality of penetrating conductive parts extending through the thickness direction thereof are insulated from each other. For example, the sheet-like connector is formed by forming a penetrating conductive part on a flexible insulating sheet. is there.

【0004】図19は、このようなシート状コネクター
の一例における構成を、電気装置の一種である半導体装
置および検査治具と共に示す説明用断面図である。この
例のシート状コネクター80は、検査対象である半導体
装置1と検査治具5との間に介在されて、当該半導体装
置1の例えばハンダ合金よりなる各突起電極2と、これ
に対応する当該検査治具5の接続電極6とを電気的に接
続するものである。このシート状コネクター80は、例
えばポリイミド樹脂よりなる絶縁性シート81に、半導
体装置1の突起電極2のパターンに対応するパターンに
従って、各々当該絶縁性シート81の厚み方向に伸びる
例えば銅よりなる貫通導電部82が形成されてなり、当
該貫通導電部82の上面および下面には、酸化腐食防止
のために金メッキ処理が施されている。
FIG. 19 is a cross-sectional view illustrating the configuration of an example of such a sheet-like connector together with a semiconductor device and a test jig, which are a kind of electric device. The sheet-like connector 80 of this example is interposed between the semiconductor device 1 to be inspected and the inspection jig 5, and each protruding electrode 2 made of, for example, a solder alloy of the semiconductor device 1 and the corresponding bump electrode 2 corresponding thereto. This is for electrically connecting the connection electrode 6 of the inspection jig 5. The sheet-like connector 80 is formed by forming an insulating sheet 81 made of, for example, a polyimide resin on a penetrating conductive material made of, for example, copper, which extends in the thickness direction of the insulating sheet 81 according to a pattern corresponding to the pattern of the bump electrodes 2 of the semiconductor device 1. A portion 82 is formed, and the upper and lower surfaces of the through conductive portion 82 are subjected to gold plating to prevent oxidation and corrosion.

【0005】しかしながら、このようなシート状コネク
ター80を用いて、半導体装置1について電気的動作検
査を行う場合には、次のような問題が生じる。
However, when an electrical operation test is performed on the semiconductor device 1 using such a sheet-like connector 80, the following problem occurs.

【0006】(1)半導体装置1の突起電極2のハンダ
合金の成分であるスズは易拡散性金属であって、このス
ズが、シート状コネクター80の貫通導電部82の金メ
ッキ処理部分の金に拡散する金属拡散が発生するため、
当該金による酸化腐食防止能が低下し、その結果、長期
間にわたって高い接触信頼性を保持することができな
い。
(1) Tin, which is a component of the solder alloy of the protruding electrode 2 of the semiconductor device 1, is a readily diffusible metal, and this tin is applied to the gold in the gold-plated portion of the through conductive portion 82 of the sheet-like connector 80. Because diffusion metal diffusion occurs,
The ability of the gold to prevent oxidation and corrosion is reduced, and as a result, high contact reliability cannot be maintained for a long period of time.

【0007】(2)半導体装置1の突起電極2の表面に
は、通常、金属酸化膜が形成されるため、当該突起電極
2と貫通導電部82との間の電気抵抗が大きいものとな
る。そして、半導体装置1について高周波特性を検査す
る場合には大電流が供給されるために相当に大きな抵抗
発熱が生じ、この熱によってシート状コネクター80が
劣化してしまい、十分に高い耐久性および十分に長い使
用寿命を得ることができない。また、最近では、例えば
「DRDRAM(Direct Rambus Dyn
amic Random Access Memor
y)」のような高速で動作する為に消費電流が大きい半
導体装置の需要が急速に多くなっているが、これらの半
導体装置の高周波特性を検査するために用いられた場合
にも、同様の問題がある。
(2) Since a metal oxide film is usually formed on the surface of the bump electrode 2 of the semiconductor device 1, the electrical resistance between the bump electrode 2 and the penetrating conductive portion 82 becomes large. When the semiconductor device 1 is inspected for high-frequency characteristics, since a large current is supplied, a considerable amount of resistance heat is generated, and the heat deteriorates the sheet-like connector 80, resulting in a sufficiently high durability and a sufficiently high resistance. Cannot obtain a long service life. In recent years, for example, “DRDRAM (Direct Rambus Dyn)
Amic Random Access Memory
y)), the demand for semiconductor devices that consume a large amount of current due to high-speed operation is rapidly increasing. However, even when these semiconductor devices are used to inspect high-frequency characteristics, the same applies. There's a problem.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な事情に基づいてなされたものであり、その目的は、接
続されるべき電気装置の金属電極が易拡散性金属を含有
してなる場合においても、長期間にわたって高い接触信
頼性を保持するシート状コネクターを提供することにあ
る。本発明の他の目的は、接続されるべき電気装置の金
属電極に対して、十分に小さい電気抵抗状態で電気的な
接続を達成することができるシート状コネクターを提供
することにある。また、本発明の他の目的は、上記のよ
うなシート状コネクターを容易かつ確実に製造すること
ができる方法を提供することにある。本発明の更に他の
目的は、接続されるべき電気装置の金属電極に対して、
十分に小さい電気抵抗状態で電気的な接続を達成するこ
とができ、また、当該金属電極が易拡散性金属を含有し
てなる場合においても、長期間にわたって高い接触信頼
性を保持することができる電気装置接続装置を提供する
ことにある。本発明の他の目的は、大きな電源電流を必
要とする電気装置の検査においても、高い信頼性をもっ
て容易に検査をすることができる検査装置を提供するこ
とにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a method in which a metal electrode of an electric device to be connected contains an easily diffusible metal. Even in such a case, it is an object of the present invention to provide a sheet-shaped connector that maintains high contact reliability for a long period of time. Another object of the present invention is to provide a sheet-like connector capable of achieving an electrical connection to a metal electrode of an electrical device to be connected with a sufficiently low electrical resistance state. Another object of the present invention is to provide a method capable of easily and reliably manufacturing the above-mentioned sheet-like connector. Yet another object of the invention is to provide a metal electrode of an electrical device to be connected,
Electrical connection can be achieved in a sufficiently small electric resistance state, and high contact reliability can be maintained for a long period of time even when the metal electrode contains a readily diffusible metal. An electrical device connection device is provided. Another object of the present invention is to provide an inspection apparatus that can easily perform inspection with high reliability even in inspection of an electric device that requires a large power supply current.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明のシート状コネク
ターは、金属電極が設けられた電気装置との電気的接続
に用いられるシート状コネクターであって、その厚み方
向に貫通して伸びる複数の貫通導電部が相互に絶縁され
た状態で形成され、当該電気装置の金属電極と対接され
る貫通導電部の表面に、耐拡散性金属よりなるバリア層
が設けられていることを特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION A sheet-like connector of the present invention is a sheet-like connector used for electrical connection with an electric device provided with a metal electrode, and includes a plurality of sheets extending through the thickness thereof. The through conductive portions are formed in a state in which they are insulated from each other, and a barrier layer made of a diffusion-resistant metal is provided on a surface of the through conductive portion that is in contact with a metal electrode of the electric device. .

【0010】本発明のシート状コネクターは、金属電極
が設けられた電気装置との電気的接続に用いられるシー
ト状コネクターであって、その厚み方向に貫通して伸び
る複数の貫通導電部が相互に絶縁された状態で形成さ
れ、当該電気装置の金属電極と対接される貫通導電部の
対接部分にエッジが形成されていることを特徴とする。
[0010] The sheet-like connector of the present invention is a sheet-like connector used for electrical connection with an electric device provided with a metal electrode, wherein a plurality of penetrating conductive portions extending through the thickness direction thereof are mutually connected. It is formed in an insulated state, and an edge is formed at a contact portion of the through conductive portion that contacts the metal electrode of the electric device.

【0011】上記のシート状コネクターにおいては、貫
通導電部は、柱状導電部分と、この柱状導電部分に一体
的に連続した状態で突出する突出導電部分とを有してな
り、当該突出導電部分が錐体であってその頂点によりエ
ッジが形成されていることが好ましい。
In the above-mentioned sheet-like connector, the penetrating conductive portion has a columnar conductive portion and a projecting conductive portion projecting integrally and continuously with the columnar conductive portion. It is preferable that the edge is formed by a vertex of the cone.

【0012】上記のシート状コネクターにおいては、電
気装置の金属電極が半球形状を有する突起電極である場
合において、貫通導電部の対接部分には、前記突起電極
の径より小径の開口が形成され、当該開口の内周縁によ
りエッジが形成されていることが好ましい。
In the above sheet connector, when the metal electrode of the electrical device is a hemispherical protruding electrode, an opening having a diameter smaller than the diameter of the protruding electrode is formed at a portion in contact with the penetrating conductive portion. Preferably, an edge is formed by the inner peripheral edge of the opening.

【0013】また、上記のシート状コネクターにおいて
は、貫通導電部には、対接部分の表面に耐拡散性金属よ
りなるバリア層が設けられていることが好ましい。特
に、バリア層を形成する耐拡散性金属がロジウム、パラ
ジウム、銀、タングステンおよび白金から選択されるい
ずれかの金属であることが好ましい。
In the above-mentioned sheet-like connector, it is preferable that the penetrating conductive portion is provided with a barrier layer made of a diffusion-resistant metal on the surface of the contact portion. In particular, the diffusion-resistant metal forming the barrier layer is preferably any metal selected from rhodium, palladium, silver, tungsten, and platinum.

【0014】更に、上記のシート状コネクターにおいて
は、金属電極が易拡散性金属を含有する電気装置との電
気的接続に用いられることが好ましく、また、半導体装
置よりなる電気装置との電気的接続に用いられることが
好ましい。
Further, in the above-mentioned sheet-like connector, it is preferable that the metal electrode is used for electrical connection with an electrical device containing a readily diffusible metal, and that the metal electrode is electrically connected with an electrical device comprising a semiconductor device. It is preferably used for.

【0015】本発明のシート状コネクターの製造方法
は、貫通導電部の突出導電部分に対応する凹所が成形面
に形成された成形用基板を用意し、この成形用基板の前
記凹所内に金属を充填して充填金属体を形成する工程
と、この工程により得られる成形用基板の成形面の上
に、柱状導電部分に対応する貫通孔を有する絶縁層を形
成し、この絶縁層の当該貫通孔内に金属を充填して前記
充填金属体と一体的に連続する柱状金属体を形成するこ
とにより、前記充填金属体よりなる突出導電部分および
前記柱状金属体よりなる柱状導電部分を有するシート状
コネクター複合体を形成する工程と、このシート状コネ
クター複合体より成形用基板を除去する工程とを有する
ことを特徴とする。
According to the method of manufacturing a sheet-like connector of the present invention, a molding substrate having a recess formed on a molding surface corresponding to a projecting conductive portion of a penetrating conductive portion is prepared, and a metal is provided in the recess of the molding substrate. And forming an insulated layer having through holes corresponding to the columnar conductive portions on the molding surface of the molding substrate obtained by this step, and forming the insulated layer through the insulated layer. By filling a metal in the hole to form a columnar metal body that is integrally continuous with the filler metal body, a sheet-like shape having a protruding conductive part made of the filler metal body and a columnar conductive part made of the columnar metal body The method includes a step of forming a connector composite and a step of removing a molding substrate from the sheet-shaped connector composite.

【0016】上記のシート状コネクターの製造方法にお
いては、成形用基板における凹所は、異方性エッチング
により形成されたものであることが好ましく、この場合
に、成形用基板は、単結晶シリコンよりなるものである
ことが好ましい。
In the above-described method of manufacturing a sheet-like connector, the recess in the molding substrate is preferably formed by anisotropic etching. In this case, the molding substrate is made of single crystal silicon. Is preferable.

【0017】本発明の電気装置接続装置は、電気装置の
ための電気的接続装置であって、上記のシート状コネク
ターと、このシート状コネクターの一面側に配置された
異方導電性シートとにより構成されていることを特徴と
する。
An electric device connecting device according to the present invention is an electric connecting device for an electric device, comprising the above-mentioned sheet-like connector and an anisotropic conductive sheet arranged on one side of the sheet-like connector. It is characterized by comprising.

【0018】上記の電気装置接続装置において、異方導
電性シートは、その厚み方向に伸びる複数の導電路形成
部と、当該導電路形成部を相互に絶縁する絶縁部とより
なり、シート状コネクターに対し、その貫通導電部に対
応した位置に導電路形成部が位置するよう配置されてい
ることが好ましく、この場合に、シート状コネクター
は、異方導電性シートに一体的に設けられていることが
好ましい。
In the above electrical device connecting apparatus, the anisotropic conductive sheet comprises a plurality of conductive path forming portions extending in the thickness direction thereof and an insulating portion for insulating the conductive path forming portions from each other. On the other hand, it is preferable that the conductive path forming portion is disposed at a position corresponding to the penetrating conductive portion, and in this case, the sheet-like connector is provided integrally with the anisotropic conductive sheet. Is preferred.

【0019】本発明の検査装置は、電気装置の電気的動
作検査を行う電気装置の検査装置であって、当該検査装
置は、上記の電気装置接続装置を備えてなることを特徴
とする。
An inspection apparatus according to the present invention is an inspection apparatus for an electrical device for performing an electrical operation inspection of an electrical device, and the inspection apparatus includes the above-described electrical device connection device.

【0020】[0020]

【作用】本発明のシート状コネクターによれば、貫通導
電部に耐拡散性金属よりなるバリア層が設けられている
ので、接続されるべき電気装置の金属電極が易拡散性金
属を含有してなる場合であっても、当該易拡散性金属に
よる金属拡散を抑止することができて貫通導電部の特性
が安定したものとなり、これにより、長期間にわたって
高い接触信頼性を保持することができる。
According to the sheet-like connector of the present invention, since the barrier layer made of the diffusion-resistant metal is provided in the penetrating conductive portion, the metal electrode of the electric device to be connected contains the easily-diffusible metal. Even in such a case, the metal diffusion by the easily diffusible metal can be suppressed, and the characteristics of the penetrating conductive portion become stable, whereby high contact reliability can be maintained for a long period of time.

【0021】本発明のシート状コネクターによれば、貫
通導電部の対接部分にエッジが形成されているので、接
続されるべき電気装置の金属電極の表面に金属酸化膜が
形成されている場合にも、エッジにより当該金属酸化膜
がスクラッチされることにより、金属酸化膜が突き破ら
れて金属電極と貫通導電部とが接触するために十分に小
さい電気抵抗状態で電気的な接続を達成することができ
る。従って、大電流が流れる条件下において電気装置と
の電気的接続が行われても、大きな抵抗発熱の発生を回
避することができ、その結果、十分に高い耐久性および
十分に長い使用寿命が得られる。
According to the sheet-like connector of the present invention, since the edge is formed at the contact portion of the through conductive portion, a metal oxide film is formed on the surface of the metal electrode of the electric device to be connected. In addition, the metal oxide film is scratched by the edge, so that the metal oxide film is pierced and the metal electrode and the penetrating conductive portion are brought into contact with each other, so that electrical connection is achieved with a sufficiently small electric resistance state. be able to. Therefore, even when an electrical connection is made to an electric device under a condition where a large current flows, generation of large resistance heat generation can be avoided, and as a result, sufficiently high durability and a sufficiently long service life can be obtained. Can be

【0022】本発明のシート状コネクターの製造方法に
よれば、製造すべき突出導電部分に対応する凹所が成形
面に形成された成形用基板を用いることにより、上記の
シート状コネクターを容易かつ確実に製造することがで
きる。また、成形用基板の凹所を異方性エッチングによ
り形成する場合には、寸法精度の高いシート状コネクタ
ーが得られる。
According to the method for manufacturing a sheet-like connector of the present invention, the above-mentioned sheet-like connector can be easily and easily manufactured by using a molding substrate in which a recess corresponding to a protruding conductive portion to be manufactured is formed on a molding surface. It can be manufactured reliably. When the recess of the molding substrate is formed by anisotropic etching, a sheet-like connector with high dimensional accuracy can be obtained.

【0023】本発明の電気装置接続装置によれば、上記
のシート状コネクターを備えてなるので、接続されるべ
き電気装置の金属電極に対して、十分に小さい電気抵抗
状態で電気的な接続を達成することができ、また、当該
金属電極が易拡散性金属を含有してなる場合において
も、長期間にわたって高い接触信頼性を保持することが
できる。
According to the electric device connecting apparatus of the present invention, since the above-mentioned sheet-like connector is provided, the electric connection is made with sufficiently small electric resistance to the metal electrode of the electric device to be connected. In addition, even when the metal electrode contains an easily diffusible metal, high contact reliability can be maintained for a long period of time.

【0024】本発明の検査装置によれば、上記の電気装
置接続装置を備えてなるので、大きな電源電流を必要と
する電気装置の検査においても、高い信頼性をもって容
易に検査を実行することができる。
According to the inspection apparatus of the present invention, since the above-described electric device connection device is provided, even in the inspection of an electric device requiring a large power supply current, the inspection can be easily performed with high reliability. it can.

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】以下、本発明について図面を用い
て詳細に説明する。本発明のシート状コネクターは、金
属電極を有する半導体装置などの電気装置と、他の電気
機器、例えば検査治具との電気的接続を達成するための
ものである。ここに、接続されるべき電気装置の一種で
ある半導体装置は、例えば、フリップチップなどのベア
チップLSI、BGAなどを具えたパッケージLSI、
複数のマルチチップモジュール(MCM)などが搭載さ
れたモジュール基板若しくは回路基板などであり、特に
限定されるものではない。また、半導体装置の例えば下
面に形成された金属電極は、通常、当該半導体装置の下
面より突出した突起状の電極であり、その形状は、例え
ばいわゆるボール形状などの半球形状、円柱形状または
角柱形状とされている。以下においては、半導体装置の
金属電極が半球形状を有する突起電極である場合を例と
して説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail with reference to the drawings. The sheet-like connector of the present invention is for achieving electrical connection between an electric device such as a semiconductor device having a metal electrode and another electric device, for example, an inspection jig. Here, a semiconductor device which is a kind of electric device to be connected includes, for example, a bare chip LSI such as a flip chip, a package LSI including a BGA, and the like.
It is a module board or a circuit board on which a plurality of multi-chip modules (MCM) are mounted, and is not particularly limited. Further, the metal electrode formed on the lower surface of the semiconductor device, for example, is usually a protruding electrode projecting from the lower surface of the semiconductor device, and has a shape such as a hemispherical shape such as a so-called ball shape, a cylindrical shape, or a prismatic shape. It has been. Hereinafter, a case where the metal electrode of the semiconductor device is a protruding electrode having a hemispherical shape will be described as an example.

【0026】図1は、本発明のシート状コネクターの第
1の形態における構成を、電気装置の一種である半導体
装置および検査治具と共に示す説明用断面図であり、図
2は、図1の一部を拡大して示した説明用拡大断面図で
ある。この例においては、シート状コネクター10を用
いて、それに接続される半導体装置1の高周波特性の検
査を行う場合について説明する。この半導体装置1に
は、その下面において、格子状に配列された例えばスズ
などの易拡散性金属を含有してなる突起電極、具体的に
はハンダ合金よりなる突起電極2が形成されている。ま
た、検査治具5には、その上面において、突起電極2の
パターンに対応するパターンに従って形成された接続電
極6が形成されている。
FIG. 1 is an explanatory sectional view showing the configuration of the sheet-like connector according to the first embodiment of the present invention, together with a semiconductor device and a test jig which are a kind of electric device. FIG. 2 is a sectional view of FIG. It is the expanded sectional view for description which expanded and showed a part. In this example, a case will be described in which the high frequency characteristics of the semiconductor device 1 connected to the sheet-shaped connector 10 are inspected using the sheet-shaped connector 10. On the lower surface of the semiconductor device 1, there are formed protruding electrodes 2 which are arranged in a grid and contain an easily diffusible metal such as tin, for example, protruding electrodes 2 made of a solder alloy. On the upper surface of the inspection jig 5, a connection electrode 6 formed according to a pattern corresponding to the pattern of the protruding electrode 2 is formed.

【0027】シート状コネクター10は、検査対象であ
る半導体装置1と、検査治具5との間に介在されて、当
該半導体装置1の個々の突起電極2と、これに対応する
当該検査治具5の接続電極6とを電気的に接続するもの
である。
The sheet-like connector 10 is interposed between the semiconductor device 1 to be inspected and the inspection jig 5, and the individual protruding electrodes 2 of the semiconductor device 1 and the corresponding inspection jigs 5 is electrically connected to the connection electrode 6.

【0028】このシート状コネクター10は、柔軟性を
有する絶縁性シート11に、半導体装置1の突起電極2
のパターンに対応するパターンに従って、各々当該絶縁
性シート11の厚み方向に伸びる複数の貫通導電部12
が相互に絶縁された状態で形成されてなるものである。
また、各貫通導電部12の上面および下面は、それぞ
れ、絶縁性シート11の上面および下面から突出した状
態とされている。
The sheet-like connector 10 includes a flexible insulating sheet 11 and a protruding electrode 2 of the semiconductor device 1.
The plurality of penetrating conductive portions 12 each extending in the thickness direction of the insulating sheet 11 according to a pattern corresponding to the pattern
Are formed in a mutually insulated state.
In addition, the upper and lower surfaces of each penetrating conductive portion 12 project from the upper and lower surfaces of insulating sheet 11, respectively.

【0029】図2に示されるように、貫通導電部12
は、その上面に開口する、突起電極2の最大径より小さ
い径を有する凹部13が形成されてなる柱状体である。
そして、この貫通導電部12には、凹部13を含む上面
および下面の表面に耐拡散性金属よりなるバリア層14
が形成されると共に、半導体装置1の突起電極2と対接
される対接部分15となる凹部13の開口内周縁により
エッジが形成されている。
As shown in FIG. 2, the through conductive portion 12
Is a columnar body in which a concave portion 13 having a diameter smaller than the maximum diameter of the protruding electrode 2 is formed on the upper surface thereof.
The through conductive portion 12 has a barrier layer 14 made of a diffusion-resistant metal on the upper and lower surfaces including the concave portion 13.
Are formed, and an edge is formed by the inner peripheral edge of the opening of the concave portion 13 which becomes the contact portion 15 which contacts the protruding electrode 2 of the semiconductor device 1.

【0030】このバリア層14を形成する耐拡散性金属
は、半導体装置1の突起電極2を形成する易拡散性金属
の種類によって適宜選定されるが、易拡散性金属がスズ
の場合には、耐拡散性金属は、ロジウム、パラジウム、
銀、タングステンおよび白金から選択されるいずれかの
金属である。
The diffusion-resistant metal forming the barrier layer 14 is appropriately selected depending on the kind of the easily-diffusible metal forming the bump electrode 2 of the semiconductor device 1. When the easily-diffusible metal is tin, Rhodium, palladium,
It is any metal selected from silver, tungsten and platinum.

【0031】シート状コネクター10の絶縁性シート1
1の材質は、柔軟性を有するシートを形成することがで
きる電気絶縁性のものであればよく、例えば、ポリイミ
ド樹脂、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂、ポリエチレ
ンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹
脂などのポリエステル樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリスチ
レン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリエチレン樹
脂、ポリプロピレン樹脂、アクリル樹脂、ポリブタジエ
ン樹脂、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンサル
ファイド、ポリアミド、ポリオキシメチレンなどの熱可
塑性樹脂、ポリブタジエンゴム、天然ゴム、ポリイソプ
レンゴム、スチレン−ブタジエン共重合体ゴム、アクリ
ロニトリル−ブタジエン共重合体ゴム、スチレン−ブタ
ジエンブロック共重合体ゴム、およびこれら共役ジエン
系重合体の水素添加物、シリコーンゴム、エチレン−プ
ロピレン共重合体ゴム、ウレタンゴム、ポリエステル系
ゴム、クロロプレンゴム、エピクロルヒドリンゴムなど
のゴム若しくはエラストマーなどが用いられる。これら
の中では、耐熱性および寸法安定性の点で熱硬化性樹脂
が好ましく、特にポリイミド樹脂が好ましい。
The insulating sheet 1 of the sheet connector 10
The material of 1 is not particularly limited as long as it is an electrically insulating material capable of forming a flexible sheet, and examples thereof include thermosetting resins such as polyimide resin and epoxy resin, polyethylene terephthalate resin, and polybutylene terephthalate resin. Polyester resin, vinyl chloride resin, polystyrene resin, polyacrylonitrile resin, polyethylene resin, polypropylene resin, acrylic resin, polybutadiene resin, thermoplastic resin such as polyphenylene ether, polyphenylene sulfide, polyamide, polyoxymethylene, polybutadiene rubber, natural rubber, poly Isoprene rubber, styrene-butadiene copolymer rubber, acrylonitrile-butadiene copolymer rubber, styrene-butadiene block copolymer rubber, and hydrogenation of these conjugated diene polymers Things, silicone rubbers, ethylene - propylene copolymer rubber, urethane rubber, polyester rubber, chloroprene rubber, such as rubber or elastomer such as epichlorohydrin rubber is used. Among these, a thermosetting resin is preferable in terms of heat resistance and dimensional stability, and a polyimide resin is particularly preferable.

【0032】また、絶縁性シート11は、柔軟性が損な
われない範囲で、または製造上に支障がでない範囲で、
例えば、ナイロン繊維、アラミド繊維などのメッシュ状
のシート、アラミド不織布シートなどの補強用シートを
含む複合絶縁シートとしてもよい。これにより、寸法安
定性、強度が向上し、上記の多くの材質を使用すること
ができる。
Further, the insulating sheet 11 is provided in a range where the flexibility is not impaired or a range where production is not hindered.
For example, a composite insulating sheet including a mesh sheet such as a nylon fiber or an aramid fiber, or a reinforcing sheet such as an aramid nonwoven sheet may be used. Thereby, dimensional stability and strength are improved, and many materials described above can be used.

【0033】貫通導電部12を構成する金属材料として
は、ニッケル、銅、金、その他の金属を用いることがで
きるが、製造上の観点から銅を用いることが好ましい。
Nickel, copper, gold, and other metals can be used as the metal material for forming the penetrating conductive portion 12, but it is preferable to use copper from the viewpoint of manufacturing.

【0034】次に、上記のシート状コネクター10の具
体的な製造方法について説明する。図3は、上記のシー
ト状コネクター10の製造方法の一の例を模式的に示し
た説明図である。先ず、図3(イ)に示すように、例え
ばポリイミド樹脂よりなる絶縁性シート21と、この絶
縁性シート21の上面および下面に形成された例えば銅
よりなる導電性膜21a,21bとからなるシート状基
体20を用意し、図3(ロ)に示すように、エッチング
を行うことにより、シート状基体20の上面側導電性膜
21aの所定の個所、すなわち製造すべき貫通導電部1
2に対応する個所に例えば円形状の開口22を形成す
る。
Next, a specific method of manufacturing the above-described sheet-like connector 10 will be described. FIG. 3 is an explanatory view schematically showing one example of a method for manufacturing the above-described sheet-like connector 10. First, as shown in FIG. 3A, a sheet including an insulating sheet 21 made of, for example, a polyimide resin, and conductive films 21a and 21b made of, for example, copper formed on the upper and lower surfaces of the insulating sheet 21. As shown in FIG. 3 (b), a sheet-like substrate 20 is prepared, and is etched so as to form a predetermined portion of the upper surface side conductive film 21a of the sheet-like substrate 20, that is, the through conductive portion 1 to be manufactured.
For example, a circular opening 22 is formed at a location corresponding to 2.

【0035】次いで、図3(ハ)に示すように、シート
状基体20の絶縁性シート21において、導電性膜21
aの開口22に連通する、当該開口22と同じ径を有す
る円形状の開口23を、例えばレーザー加工により形成
する。
Next, as shown in FIG. 3C, the conductive film 21 on the insulating sheet 21 of the sheet-like substrate 20 is formed.
A circular opening 23 communicating with the opening 22a and having the same diameter as the opening 22 is formed by, for example, laser processing.

【0036】次に、図3(ニ)に示すように、開口2
2,23の内周面および底面を含むシート状基体20の
上面および下面に、メッキ処理を行うことにより、例え
ば銅などの導電性金属よりなる導電性中間膜24a,2
4bを形成する。
Next, as shown in FIG.
By plating the upper and lower surfaces of the sheet-like substrate 20 including the inner peripheral surface and the bottom surface of the conductive substrates 2 and 23, the conductive intermediate films 24a and 24 made of a conductive metal such as copper are provided.
4b is formed.

【0037】そして、図3(ホ)に示すように、製造す
べき貫通導電部12に対応する個所以外の領域におい
て、絶縁性シート21の上面および下面が露出された状
態となるよう、シート状基体20に対してエッチング処
理を行うことにより、導電性膜21a,21bおよび導
電性中間膜24a,24bにより構成される貫通導電部
基体12Kを形成する。
Then, as shown in FIG. 3E, the upper and lower surfaces of the insulating sheet 21 are exposed in a region other than the portion corresponding to the penetrating conductive portion 12 to be manufactured. By performing an etching process on the base 20, a through conductive portion base 12K composed of the conductive films 21a and 21b and the conductive intermediate films 24a and 24b is formed.

【0038】次に、図3(ヘ)に示すように、適宜の手
段により、絶縁性シート21の露出された領域の上面お
よび下面にメッキレジスト層25を形成し、このメッキ
レジスト層25を介してメッキ処理を行うことにより、
貫通導電部基体12Kの上面および下面の表面に耐拡散
性金属よりなるバリア層14を形成する。その後、メッ
キレジスト層25を除去することにより、上面および下
面にバリア層14が設けられた、貫通導電部基体12K
よりなる貫通導電部12を形成して、図2に示されるシ
ート状コネクター10を製造する。
Next, as shown in FIG. 3F, a plating resist layer 25 is formed on the upper and lower surfaces of the exposed area of the insulating sheet 21 by appropriate means, and the plating resist layer 25 is interposed. By performing the plating process,
The barrier layer 14 made of a diffusion-resistant metal is formed on the upper and lower surfaces of the through conductive portion base 12K. Thereafter, by removing the plating resist layer 25, the penetrating conductive portion base 12K having the barrier layer 14 provided on the upper surface and the lower surface is provided.
The sheet-like connector 10 shown in FIG.

【0039】シート状コネクター10は、図4に示され
るような方法によっても製造することができる。この例
においては、図4(イ)に示すように、絶縁性シート2
1に開口23が形成されたシート状基体20(図3
(ハ)に相当する。)に対して、その上面に、当該シー
ト状基体20の開口22,23に連続する開口部26a
を有するメッキレジスト層27aを形成すると共に、下
面に、当該シート状基体20の開口22,23に対応す
る個所に開口部26bを有するメッキレジスト層27b
を形成する。
The sheet connector 10 can also be manufactured by a method as shown in FIG. In this example, as shown in FIG.
1. A sheet-like substrate 20 having an opening 23 formed in FIG.
(C). ), An opening 26 a continuous with the openings 22 and 23 of the sheet-like base 20 is provided on the upper surface thereof.
And a plating resist layer 27b having an opening 26b at a position corresponding to the openings 22 and 23 of the sheet-like substrate 20 on the lower surface.
To form

【0040】次いで、図4(ロ)に示すように、メッキ
レジスト層27a,27bを介してメッキ処理を行うこ
とにより、開口22,23を含むシート状基体20の上
面および下面にそれぞれ導電性中間膜24a,24bを
形成し、図4(ハ)に示すように、その導電性中間膜2
4a,24bの表面に耐拡散性金属よりなるバリア層1
4を形成する。
Next, as shown in FIG. 4B, a plating process is performed via the plating resist layers 27a and 27b, so that conductive upper and lower surfaces of the sheet-like base 20 including the openings 22 and 23 are respectively provided. Films 24a and 24b are formed, and as shown in FIG.
Barrier layer 1 made of diffusion-resistant metal on the surfaces of 4a and 24b
4 is formed.

【0041】その後、図4(ニ)に示すように、メッキ
レジスト層27a,27bを除去し、更に、導電性膜2
1a,21bの露出領域をエッチングにより除去するこ
とにより、図2に示されるシート状コネクター10を製
造する。
Thereafter, as shown in FIG. 4D, the plating resist layers 27a and 27b are removed, and the conductive film 2
By removing the exposed areas 1a and 21b by etching, the sheet-like connector 10 shown in FIG. 2 is manufactured.

【0042】このようなシート状コネクター10は、次
のようにして、半導体装置1の突起電極2と、これに対
応する検査治具5の接続電極6との電気的な接続に供さ
れる。図1に示したように、検査治具5の上面に、シー
ト状コネクター10を、その貫通導電部12の下面が対
応する当該検査治具5の接続電極6上に位置するよう配
置して固定する。このシート状コネクター10の上面上
に、検査治具5と電気的に接続すべき半導体装置1を、
その突起電極2が対応する貫通導電部12上に位置する
よう配置し、その状態を維持したまま半導体装置1を検
査治具5に対して下方に押圧して貫通導電部12を挟圧
することにより、貫通導電部12の凹部13に突起電極
2の下端頂部が進入し、これにより、当該貫通導電部1
2は、その対接部分15のエッジが突起電極2の表面に
形成された金属酸化膜をスクラッチしながら、当該突起
電極2と接触する。その結果、当該貫通導電部12を介
して、突起電極2と接続電極6との電気的接続が達成さ
れ、この状態で半導体装置1の高周波特性の検査が実施
される。
The sheet-like connector 10 is used for electrical connection between the protruding electrode 2 of the semiconductor device 1 and the corresponding connection electrode 6 of the inspection jig 5 as follows. As shown in FIG. 1, a sheet-like connector 10 is arranged and fixed on the upper surface of the inspection jig 5 such that the lower surface of the penetrating conductive portion 12 is located on the corresponding connection electrode 6 of the inspection jig 5. I do. The semiconductor device 1 to be electrically connected to the inspection jig 5 is placed on the upper surface of the sheet-like connector 10.
The protruding electrode 2 is arranged so as to be positioned on the corresponding penetrating conductive portion 12, and the semiconductor device 1 is pressed downward against the inspection jig 5 while holding the state, thereby clamping the penetrating conductive portion 12. , The top of the lower end of the protruding electrode 2 enters the recess 13 of the through conductive portion 12, thereby
2 contacts the protruding electrode 2 while the edge of the contact portion 15 scratches the metal oxide film formed on the surface of the protruding electrode 2. As a result, electrical connection between the protruding electrode 2 and the connection electrode 6 is achieved via the through conductive portion 12, and an inspection of the high-frequency characteristics of the semiconductor device 1 is performed in this state.

【0043】以上のような構成のシート状コネクター1
0によれば、貫通導電部12の上面および下面に耐拡散
性金属よりなるバリア層14が設けられているので、接
続されるべき半導体装置1の突起電極2が易拡散性金属
を含有してなる場合であっても、当該易拡散性金属によ
る金属拡散を確実に抑止することができ、これにより、
長期間にわたって高い接触信頼性を保持することができ
る。また、当該シート状コネクター10は、その絶縁性
シート11が柔軟性を有するものであるため、半導体装
置1との電気的な接続において、機械的な衝撃やひずみ
を吸収することができる。更に、シート状コネクター1
0によれば、その貫通導電部12の対接部分15にはエ
ッジが形成されているので、接続されるべき半導体装置
1の突起電極2の表面に金属酸化膜が形成されている場
合にも、エッジにより当該金属酸化膜がスクラッチされ
ることにより、金属酸化膜が突き破られて突起電極2と
貫通導電部12とが接触するために十分に低い電気抵抗
状態で電気的な接続を達成することができる。従って、
大電流が流れる高周波特性の検査において、半導体装置
1との電気的接続状態においても、大きな抵抗発熱の発
生を回避することができ、その結果、十分に高い耐久性
および十分に長い使用寿命が得られる。
The sheet-like connector 1 configured as described above
According to No. 0, since the barrier layer 14 made of the diffusion-resistant metal is provided on the upper surface and the lower surface of the through conductive portion 12, the bump electrode 2 of the semiconductor device 1 to be connected contains the easily diffused metal. Even in such a case, metal diffusion by the easily diffusible metal can be reliably suppressed, and
High contact reliability can be maintained for a long time. Further, since the insulating sheet 11 of the sheet-shaped connector 10 has flexibility, mechanical shock and strain can be absorbed in the electrical connection with the semiconductor device 1. Furthermore, sheet-like connector 1
According to No. 0, since an edge is formed at the contact portion 15 of the through conductive portion 12, even when a metal oxide film is formed on the surface of the bump electrode 2 of the semiconductor device 1 to be connected. When the metal oxide film is scratched by the edge, the metal oxide film is pierced and the protruding electrode 2 and the penetrating conductive portion 12 are brought into contact with each other, thereby achieving an electrical connection with a sufficiently low electric resistance state. be able to. Therefore,
In the inspection of high-frequency characteristics in which a large current flows, generation of large resistance heating can be avoided even in the state of electrical connection with the semiconductor device 1, and as a result, sufficiently high durability and sufficiently long service life can be obtained. Can be

【0044】図5は、本発明のシート状コネクターの第
2の形態における構成を、電気装置の一種である半導体
装置と共に示す説明用拡大断面図である。この例におけ
るシート状コネクター30は、絶縁性シート31に、半
導体装置1の突起電極2のパターンに対応するパターン
に従って、各々当該絶縁性シート31の厚み方向に伸び
る貫通導電部32が形成されてなり、各貫通導電部32
の上面および下面は、それぞれ、絶縁性シート31の上
面および下面から突出した状態とされている。
FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view illustrating the configuration of the sheet-like connector according to the second embodiment of the present invention together with a semiconductor device which is a kind of electric device. In the sheet-like connector 30 in this example, a penetrating conductive portion 32 extending in the thickness direction of the insulating sheet 31 is formed on the insulating sheet 31 according to a pattern corresponding to the pattern of the bump electrodes 2 of the semiconductor device 1. , Each through conductive portion 32
Are projected from the upper and lower surfaces of the insulating sheet 31, respectively.

【0045】この貫通導電部32は、柱状導電部分32
1と、この柱状導電部分321に一体的に連続した状態
で突出する複数の突出導電部分322とから形成されて
なり、この突出導電部分322は、例えば四角錐などの
錐体である。そして、この貫通導電部32には、その突
出導電部分322の上面およびその柱状導電部分321
の下面において、耐拡散性金属よりなるバリア層33が
形成されると共に、半導体装置1の突起電極2と対接さ
れる対接部分34となる突出導電部分322の上端の頂
点によりエッジが形成されている。
The penetrating conductive portion 32 is formed as a columnar conductive portion 32.
1 and a plurality of protruding conductive portions 322 that protrude integrally with the columnar conductive portion 321. The protruding conductive portion 322 is, for example, a pyramid such as a quadrangular pyramid. The upper surface of the projecting conductive portion 322 and the columnar conductive portion 321
A barrier layer 33 made of a diffusion-resistant metal is formed on the lower surface of the semiconductor device 1, and an edge is formed by the apex of the upper end of the protruding conductive portion 322 serving as the contact portion 34 that contacts the protruding electrode 2 of the semiconductor device 1. ing.

【0046】以上のような構成のシート状コネクター3
0によれば、バリア層33が設けられているので、金属
拡散を確実に抑止することができ、また、エッジが形成
されているので、接続されるべき半導体装置1の突起電
極2の表面の金属酸化膜が当該エッジによりスクラッチ
され、十分に低い電気抵抗状態で電気的な接続を達成す
ることができる。
The sheet-like connector 3 having the above configuration
According to No. 0, since the barrier layer 33 is provided, metal diffusion can be surely suppressed, and since the edge is formed, the surface of the bump electrode 2 of the semiconductor device 1 to be connected can be prevented. The metal oxide film is scratched by the edge, and an electrical connection can be achieved with a sufficiently low electrical resistance state.

【0047】次に、上記のシート状コネクター30の製
造方法について説明する。先ず、図6に示すように、上
面および下面に例えば二酸化珪素よりなる保護膜40a
および40bが形成された、単結晶シリコンよりなる板
状の成形用基板40を用意し、図7に示すように、この
成形用基板40の保護膜40a,40bの表面上に、当
該保護膜40a,40bをエッチングするためのレジス
ト膜41aおよび41bを形成する。そして、フォトリ
ソグラフィーの手法により、レジスト膜41aに、製造
すべき突出導電部分322の配置パターンに対応するパ
ターンに従って複数の各々平面形状が矩形の開口42を
形成する。
Next, a method for manufacturing the above-described sheet-like connector 30 will be described. First, as shown in FIG. 6, a protective film 40a made of, for example, silicon dioxide is formed on the upper and lower surfaces.
A plate-shaped molding substrate 40 made of single crystal silicon on which the protective film 40a is formed is formed on the surfaces of the protective films 40a and 40b of the molding substrate 40, as shown in FIG. , 40b are etched to form resist films 41a and 41b. Then, a plurality of openings 42 each having a rectangular planar shape are formed in the resist film 41a in accordance with a pattern corresponding to the arrangement pattern of the protruding conductive portions 322 to be manufactured by a photolithography technique.

【0048】次いで、図8に示すように、レジスト膜4
1aを介して保護膜40aに対するエッチングを行うこ
とにより、成形用基板40の上面の保護膜40aにレジ
スト膜41aの開口42に連通する開口43を形成す
る。そして、図9に示すように、レジスト膜41a,4
1bを除去した後、保護膜40aの開口43を介して異
方性エッチングを行うことにより、成形用基板40の上
面部分に逆正四角錐状の凹所44を形成する。
Next, as shown in FIG.
By etching the protective film 40a through 1a, an opening 43 communicating with the opening 42 of the resist film 41a is formed in the protective film 40a on the upper surface of the molding substrate 40. Then, as shown in FIG. 9, the resist films 41a, 41
After removing 1b, an anisotropic etching is performed through the opening 43 of the protective film 40a to form an inverted quadrangular pyramid-shaped recess 44 in the upper surface of the molding substrate 40.

【0049】以上において、成形用基板40としては、
シリコンウエハをそのままの状態であるいは適宜の形状
に加工した状態で用いることが好ましい。これにより、
当該成形用基板40に異方性エッチングを行うことによ
り、形成される凹所の形状が好適なものとなり、かつ、
すべての凹所の寸法が等しいものとなる。保護膜40
a,40bをエッチングするためのエッチング液として
は、フッ酸などを用いることができる。成形用基板40
を異方性エッチングするためのエッチング液としては、
水酸化カリウム、エチレンジアミンなどを用いることが
できる。また、成形用基板40の異方性エッチングの条
件、例えば処理温度、処理時間は、エッチング液の種
類、形成すべき凹所44の深さなどに応じて適宜設定さ
れるが、例えば処理温度は60〜85℃である。
In the above, as the molding substrate 40,
It is preferable to use the silicon wafer as it is or after processing it into an appropriate shape. This allows
By performing anisotropic etching on the molding substrate 40, the shape of the recess formed becomes suitable, and
The dimensions of all recesses will be equal. Protective film 40
As an etchant for etching a and 40b, hydrofluoric acid or the like can be used. Molding substrate 40
As an etchant for anisotropically etching
Potassium hydroxide, ethylene diamine, or the like can be used. The conditions for anisotropic etching of the molding substrate 40, such as the processing temperature and the processing time, are appropriately set in accordance with the type of the etchant, the depth of the recess 44 to be formed, and the like. 60-85 ° C.

【0050】次に、図10に示すように、適宜の手段に
より、成形用基板40の凹所44の上面に開口部46を
有するメッキレジスト層45を形成し、このメッキレジ
スト層45を介してメッキ処理を行うことにより、凹所
44の内面上に例えばロジウム、パラジウムなどの耐拡
散性金属よりなるバリア層47を形成したうえで、当該
バリア層47上に例えば銅などの金属材料よりなる充填
金属体48および開口部46内に充填された第1の中間
層49を形成する。
Next, as shown in FIG. 10, a plating resist layer 45 having an opening 46 is formed on the upper surface of the concave portion 44 of the molding substrate 40 by an appropriate means. By performing a plating process, a barrier layer 47 made of, for example, a diffusion-resistant metal such as rhodium or palladium is formed on the inner surface of the recess 44, and then a filling made of a metal material such as copper is formed on the barrier layer 47. A first intermediate layer 49 filled in the metal body 48 and the opening 46 is formed.

【0051】その後、図11に示すように、例えばポリ
イミドなどの熱硬化性樹脂よりなる絶縁層50を、第1
の中間層49を含むメッキレジスト層45の上面に積重
して配置し、加熱処理することにより、当該絶縁層50
を硬化させると共に、第1の中間層49に一体的に積層
させる。
Thereafter, as shown in FIG. 11, an insulating layer 50 made of a thermosetting resin such as polyimide is formed on the first layer.
Are stacked on the upper surface of the plating resist layer 45 including the intermediate layer 49 of FIG.
Is cured, and is integrally laminated on the first intermediate layer 49.

【0052】次に、図12に示すように、絶縁層50に
おいて、貫通導電部を形成すべき個所に貫通孔51を、
第1の中間層49の周縁部以外の上面が露出するよう
に、例えばレーザー加工により形成し、図13に示すよ
うに、絶縁層50を介してメッキ処理を行うことによ
り、当該貫通孔51内に、充填金属体48および第1の
中間層49を構成する金属材料(銅)と同一の金属材料
よりなるベース層52を形成する。
Next, as shown in FIG. 12, a through hole 51 is formed in the insulating layer 50 at a position where a through conductive portion is to be formed.
The first intermediate layer 49 is formed by, for example, laser processing so that the upper surface other than the peripheral portion is exposed, and as shown in FIG. Then, a base layer 52 made of the same metal material as the metal material (copper) forming the filling metal body 48 and the first intermediate layer 49 is formed.

【0053】次に、図14に示すように、ベース層52
および絶縁層50の上面に開口部54を有するメッキレ
ジスト層53を形成し、このメッキレジスト層53を介
してメッキ処理を行うことにより、ベース層52に一体
的な第2の中間層55を形成し、これにより、第1の中
間層49、ベース層52および第2の中間層55よりな
る柱状金属体56を形成する。そして、更に当該第2の
中間層55上に例えばロジウム、パラジウムなどの耐拡
散性金属よりなるバリア層57を形成することにより、
成形用基板40の上面に、これと一体とされたシート状
コネクター複合体30Aが形成される。
Next, as shown in FIG.
A second intermediate layer 55 integrated with the base layer 52 is formed by forming a plating resist layer 53 having an opening 54 on the upper surface of the insulating layer 50 and performing plating through the plating resist layer 53. Thus, a columnar metal body 56 including the first intermediate layer 49, the base layer 52, and the second intermediate layer 55 is formed. By further forming a barrier layer 57 made of a diffusion-resistant metal such as rhodium or palladium on the second intermediate layer 55,
On the upper surface of the molding substrate 40, a sheet-like connector composite 30A integrated therewith is formed.

【0054】そして、図15に示すように、シート状コ
ネクター複合体30Aより成形用基板40を剥離し、メ
ッキレジスト層45,53を除去することにより、図5
に示されるシート状コネクター30を製造する。
Then, as shown in FIG. 15, the molding substrate 40 is peeled off from the sheet-like connector composite 30A, and the plating resist layers 45 and 53 are removed, thereby obtaining the structure shown in FIG.
Is manufactured.

【0055】以上のような方法によれば、成形用基板4
0の凹所44の内面形状に対応した形状の錐体による突
出導電部分322を有するシート状コネクター30を容
易かつ確実に製造することができる。また、成形用基板
40の凹所44を異方性エッチングにより形成すること
により、好適な四角錐形状を有し、しかも寸法精度の高
い突出導電部分322を有するシート状コネクター30
が得られる。
According to the above method, the molding substrate 4
The sheet-like connector 30 having the protruding conductive portion 322 formed of a cone having a shape corresponding to the inner surface shape of the zero recess 44 can be easily and reliably manufactured. Further, by forming the concave portion 44 of the molding substrate 40 by anisotropic etching, the sheet-like connector 30 having a suitable quadrangular pyramid shape and having a protruding conductive portion 322 with high dimensional accuracy is provided.
Is obtained.

【0056】以上、本発明のシート状コネクターの第1
の形態および第2の形態と、それら各々の製造方法とに
ついて説明したが、本発明はこれに限定されるものでは
なく、種々の変更を加えることが可能である。本発明の
シート状コネクターにおいては、貫通導電部は、その上
面および下面が絶縁性シートの上面および下面と同一レ
ベルに位置されていてもよい。また、本発明のシート状
コネクターの第2の形態においては、貫通導電部32の
突出導電部分322が四角錐形状を有する場合について
説明したが、本発明においては、例えば、四角錐以外の
角錐、円錐であってもよい。本発明のシート状コネクタ
ーの製造方法においては、バリア層と中間層との密着性
を向上させるために、必要に応じて、ニッケルメッキ層
および金メッキ層を介在させて製造することもできる。
As described above, the first aspect of the sheet-like connector of the present invention
The second embodiment and the second embodiment and the respective manufacturing methods have been described, but the present invention is not limited to this, and various changes can be made. In the sheet-like connector of the present invention, the upper surface and the lower surface of the through conductive portion may be located at the same level as the upper surface and the lower surface of the insulating sheet. Further, in the second embodiment of the sheet-shaped connector of the present invention, the case where the projecting conductive portion 322 of the through conductive portion 32 has a quadrangular pyramid shape has been described. However, in the present invention, for example, pyramids other than the quadrangular pyramid, It may be a cone. In the method for manufacturing a sheet-like connector of the present invention, a nickel-plated layer and a gold-plated layer may be interposed, if necessary, in order to improve the adhesion between the barrier layer and the intermediate layer.

【0057】図16は、本発明の電気装置接続装置の一
例における構成を、電気装置の一種である半導体装置お
よび検査治具と共に示す説明用断面図である。この例の
電気装置接続装置は、半導体装置1を検査対象として、
その電気的動作検査を行う場合に用いられるものであ
り、上記のシート状コネクター10と、異方導電性シー
ト60とにより構成されている。
FIG. 16 is an explanatory sectional view showing the structure of an example of the electric device connecting apparatus of the present invention, together with a semiconductor device and an inspection jig which are a kind of electric device. The electrical device connection device of this example is a semiconductor device 1 to be inspected.
This is used when the electrical operation inspection is performed, and is constituted by the above-mentioned sheet-like connector 10 and the anisotropic conductive sheet 60.

【0058】この異方導電性シート60は、全体が厚み
方向に電気的に導通性を有するものでもよいし、部分的
に厚み方向に電気的に導通性のものでもよいが、好まし
くは、厚み方向に伸びる複数の導電路形成部61と、こ
れらの導電路形成部61を相互に絶縁する絶縁部62と
よりなり、導電路形成部61は、半導体装置1の突起電
極2のパターンに対応するパターンに従って配置されて
なるものである。この場合に、導電路形成部61は、異
方導電性シート60の面方向において、シート状コネク
ター10の各貫通導電部12の下面に対応する位置に従
って配置されている。そして、異方導電性シート60の
導電路形成部61には、これに対応する検査冶具5(図
1参照)の接続電極6が電気的に接続される。
The anisotropic conductive sheet 60 may be electrically conductive as a whole in the thickness direction or partially electrically conductive in the thickness direction. A plurality of conductive path forming portions 61 extending in the direction, and insulating portions 62 that insulate the conductive path forming portions 61 from each other are provided. The conductive path forming portions 61 correspond to the patterns of the bump electrodes 2 of the semiconductor device 1. They are arranged according to a pattern. In this case, the conductive path forming portions 61 are arranged in the surface direction of the anisotropic conductive sheet 60 according to the position corresponding to the lower surface of each through conductive portion 12 of the sheet connector 10. Then, to the conductive path forming portion 61 of the anisotropic conductive sheet 60, the corresponding connection electrode 6 of the inspection jig 5 (see FIG. 1) is electrically connected.

【0059】異方導電性シート60における導電路形成
部61は、絶縁性の弾性高分子物質中に導電性粒子が厚
み方向に並んだ状態で配向されて構成されている。すな
わち、異方導電性シート60は、弾性高分子物質で構成
された絶縁部62中に導電性粒子が当該シートの厚み方
向に並んだ状態で配向されて複数の導電路形成部61が
形成されたものであり、特に、この導電路形成部61
は、厚み方向に加圧されて圧縮されたときに抵抗値が減
少して導電路が形成されるものであることが好ましい。
The conductive path forming portion 61 of the anisotropic conductive sheet 60 is formed by orienting conductive particles in an insulating elastic polymer material in a state of being arranged in the thickness direction. That is, in the anisotropic conductive sheet 60, the conductive particles are oriented in the insulating portion 62 made of the elastic polymer material in a state where the conductive particles are aligned in the thickness direction of the sheet, and the plurality of conductive path forming portions 61 are formed. In particular, the conductive path forming portion 61
It is preferable that the conductive path is formed by reducing the resistance value when pressed and compressed in the thickness direction.

【0060】また、異方導電性シート60において、導
電路形成部61は、図示のように、その上面および下面
が絶縁部62の上面および下面より僅かに突出した状態
に形成されていることが好ましいが、これに限定される
ものではなく、例えば導電路形成部の上面および下面が
絶縁部の上面および下面と同一の平面上に位置するよう
配置されていてもよい。
In the anisotropic conductive sheet 60, the conductive path forming portion 61 may be formed such that the upper surface and the lower surface thereof slightly protrude from the upper surface and the lower surface of the insulating portion 62, as shown in the figure. Although preferred, the present invention is not limited to this. For example, the upper and lower surfaces of the conductive path forming portion may be arranged on the same plane as the upper and lower surfaces of the insulating portion.

【0061】異方導電性シート60の導電路形成部61
を構成する導電性粒子としては、例えばニッケル、鉄、
コバルトなどの磁性を示す金属粒子若しくはこれらの合
金の粒子またはこれらの金属を含有する粒子、またはこ
れらの粒子を芯粒子とし、当該芯粒子の表面に金、銀、
パラジウム、ロジウムなどの導電性の良好な金属のメッ
キを施したもの、あるいは非磁性金属粒子若しくはガラ
スビーズなどの無機質粒子またはポリマー粒子を芯粒子
とし、当該芯粒子の表面に、ニッケル、コバルトなどの
導電性磁性体のメッキを施したものなどが挙げられる。
これらの中では、ニッケル粒子を芯粒子とし、その表面
に金や銀などの導電性の良好な金属のメッキを施したも
のを用いることが好ましい。
The conductive path forming portion 61 of the anisotropic conductive sheet 60
As the conductive particles constituting, for example, nickel, iron,
Metal particles showing magnetism such as cobalt or particles of these alloys or particles containing these metals, or these particles as core particles, the surface of the core particles gold, silver,
Palladium, those plated with a metal having good conductivity such as rhodium, or inorganic particles or polymer particles such as non-magnetic metal particles or glass beads as core particles, on the surface of the core particles, nickel, cobalt or the like Examples of the conductive material include those plated with a conductive magnetic material.
Among them, it is preferable to use nickel particles as core particles, the surfaces of which are plated with a metal having good conductivity such as gold or silver.

【0062】異方導電性シート60の絶縁部62を構成
する絶縁性で弾性を有する高分子物質としては、架橋構
造を有する高分子物質が好ましい。架橋構造を有する高
分子物質を得るために用いることのできる高分子物質用
材料としては、種々のものを用いることができ、その具
体例としては、ポリブタジエンゴム、天然ゴム、ポリイ
ソプレンゴム、スチレン−ブタジエン共重合体ゴム、ア
クリロニトリル−ブタジエン共重合体ゴムなどの共役ジ
エン系ゴムおよびこれらの水素添加物、スチレン−ブタ
ジエンブロック共重合体ゴムなどのブロック共重合体ゴ
ムおよびこれらの水素添加物、シリコーンゴム、フッ素
ゴム、シリコーン変性フッ素ゴム、エチレン−プロピレ
ン共重合体ゴム、ウレタンゴム、ポリエステル系ゴム、
クロロプレンゴム、エピクロルヒドリンゴムなどが挙げ
られる。以上において、成形加工性および電気特性の観
点から、シリコーンゴム、シリコーン変性フッ素ゴムを
用いることが好ましい。
As the insulating and elastic polymer constituting the insulating portion 62 of the anisotropic conductive sheet 60, a polymer having a crosslinked structure is preferable. As a material for a polymer substance that can be used to obtain a polymer substance having a crosslinked structure, various materials can be used, and specific examples thereof include polybutadiene rubber, natural rubber, polyisoprene rubber, and styrene- Conjugated diene rubbers such as butadiene copolymer rubber, acrylonitrile-butadiene copolymer rubber and hydrogenated products thereof, block copolymer rubbers such as styrene-butadiene block copolymer rubber and hydrogenated products thereof, silicone rubber , Fluoro rubber, silicone modified fluoro rubber, ethylene-propylene copolymer rubber, urethane rubber, polyester rubber,
Chloroprene rubber, epichlorohydrin rubber and the like can be mentioned. In the above, it is preferable to use silicone rubber and silicone-modified fluororubber from the viewpoint of moldability and electrical properties.

【0063】上記の異方導電性シート60は、例えば以
下のような方法によって製造することができる。先ず、
硬化されて弾性高分子物質となる高分子物質用材料中
に、導電性粒子を分散させることにより、シート形成材
料を調製する。
The anisotropic conductive sheet 60 described above can be manufactured, for example, by the following method. First,
A sheet-forming material is prepared by dispersing conductive particles in a polymer material that is cured to become an elastic polymer material.

【0064】シート形成材料中には、高分子物質用材料
を硬化させるための硬化触媒を含有させることができ
る。このような硬化触媒としては、有機過酸化物、脂肪
酸アゾ化合物、ヒドロシリル化触媒などを用いることが
できる。硬化触媒として用いられる有機過酸化物の具体
例としては、過酸化ベンゾイル、過酸化ビスジシクロベ
ンゾイル、過酸化ジクミル、過酸化ジターシャリーブチ
ルなどが挙げられる。硬化触媒として用いられる脂肪酸
アゾ化合物の具体例としては、アゾビスイソブチロニト
リルなどが挙げられる。ヒドロシリル化反応の触媒とし
て使用し得るものの具体例としては、塩化白金酸および
その塩、白金−不飽和基含有シロキサンコンプレック
ス、ビニルシロキサンと白金とのコンプレックス、白金
と1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサンとのコン
プレックス、トリオルガノホスフィンあるいはホスファ
イトと白金とのコンプレックス、アセチルアセテート白
金キレート、環状ジエンと白金とのコンプレックスなど
の公知のものが挙げられる。硬化触媒の使用量は、高分
子物質用材料の種類、硬化触媒の種類、その他の硬化処
理条件を考慮して適宜選択されるが、通常、高分子物質
用材料100質量部に対して3〜15質量部である。
The sheet-forming material may contain a curing catalyst for curing the polymer material. As such a curing catalyst, an organic peroxide, a fatty acid azo compound, a hydrosilylation catalyst, or the like can be used. Specific examples of the organic peroxide used as the curing catalyst include benzoyl peroxide, bisdicyclobenzoyl peroxide, dicumyl peroxide, and ditertiary butyl peroxide. Specific examples of the fatty acid azo compound used as a curing catalyst include azobisisobutyronitrile. Specific examples of the catalyst which can be used as a catalyst for the hydrosilylation reaction include chloroplatinic acid and salts thereof, a siloxane complex containing a platinum-unsaturated group, a complex of vinylsiloxane and platinum, and platinum and 1,3-divinyltetramethyldisiloxane. And a complex of triorganophosphine or phosphite with platinum, acetylacetate platinum chelate, and a complex of cyclic diene and platinum. The amount of the curing catalyst to be used is appropriately selected in consideration of the type of the polymer material, the type of the curing catalyst, and other curing treatment conditions. 15 parts by mass.

【0065】次いで、図17に示すように、このシート
形成材料を金型70内において処理することにより、シ
ート形成材料層60Aが形成される。この金型70にお
いては、一方の型板71と他方の型板72とが平行に対
向して配置されており、これら一方の型板71の上面お
よび他方の型板72の下面に電磁石73および74が配
置されており、また一方の型板71および他方の型板7
2の間には、目的とする異方導電性シート60の厚みと
同等の厚みを有する枠状の板状スペーサ75が設けられ
ている。そして、一方の型板71においては、強磁性体
よりなる板状の基材71aの下面に、目的とする導電路
形成部61の配置パターンに対掌なパターンに従って強
磁性体部分Mが形成され、この強磁性体部分M以外の部
分には非磁性体部分Nが形成されている。この非磁性体
部分Nの表面は、強磁性体部分Mの表面よりも突出した
状態に形成されている。また、他方の型板72において
は、強磁性体よりなる板状の基材72aの上面に、目的
とする導電路形成部61の配置パターンと同一のパター
ンに従って強磁性体部分Mが形成され、この強磁性体部
分M以外の部分には非磁性体部分Nが形成されている。
この非磁性体部分Nの表面は、強磁性体部分Mの表面よ
りも突出した状態に形成されている。
Next, as shown in FIG. 17, the sheet forming material is processed in a mold 70 to form a sheet forming material layer 60A. In this mold 70, one mold plate 71 and another mold plate 72 are arranged in parallel and opposed to each other, and an electromagnet 73 and an electromagnet 73 are provided on the upper surface of one mold plate 71 and the lower surface of the other mold plate 72. 74, one template 71 and the other template 7
2, a frame-shaped plate-like spacer 75 having a thickness equivalent to the thickness of the desired anisotropic conductive sheet 60 is provided. In one template 71, a ferromagnetic material portion M is formed on the lower surface of a plate-like base material 71a made of a ferromagnetic material in accordance with a pattern opposite to the intended arrangement pattern of the conductive path forming portions 61. A non-magnetic portion N is formed in a portion other than the ferromagnetic portion M. The surface of the nonmagnetic portion N is formed so as to protrude from the surface of the ferromagnetic portion M. In the other template 72, a ferromagnetic material portion M is formed on the upper surface of a plate-shaped base material 72a made of a ferromagnetic material in accordance with the same pattern as the arrangement pattern of the target conductive path forming portions 61. A non-magnetic portion N is formed in a portion other than the ferromagnetic portion M.
The surface of the nonmagnetic portion N is formed so as to protrude from the surface of the ferromagnetic portion M.

【0066】一方の型板71および他方の型板72の各
々における強磁性体部分Mを構成する材料としては、
鉄、ニッケル、コバルトまたはこれらの合金などを用い
ることができる。また、一方の型板71および他方の型
板72の各々における非磁性体部分Nを構成する材料と
しては、銅などの非磁性金属、ポリイミドなどの耐熱性
樹脂などを用いることができる。
The material forming the ferromagnetic material portion M in each of the one template 71 and the other template 72 is as follows.
Iron, nickel, cobalt, or an alloy thereof can be used. In addition, as a material forming the nonmagnetic portion N in each of the one mold plate 71 and the other mold plate 72, a nonmagnetic metal such as copper, a heat-resistant resin such as polyimide, or the like can be used.

【0067】そして、電磁石73および74を作動させ
ることにより、一方の型板71の強磁性体部分Mからこ
れに対応する他方の型板72の強磁性体部分Mに向かう
方向に平行磁場が作用する。その結果、シート形成材料
層60Aにおいては、当該シート形成材料層60A中に
分散されていた導電性磁性体粒子が、一方の型板71の
強磁性体部分Mとこれに対応する他方の型板72の強磁
性体部分Mとの間に位置する部分に集合し、更に好まし
くは当該シート形成材料層60Aの厚み方向に配向す
る。そして、この状態において、シート形成材料層60
Aを硬化処理することにより、図18に示すように、一
方の型板71の強磁性体部分Mとこれに対応する他方の
型板72の強磁性体部分Mとの間に、導電性磁性体粒子
が密に充填された導電路形成部61が形成され、その周
囲に導電性磁性体粒子が全くあるいは殆ど存在しない絶
縁部62が形成されて異方導電性シート60が形成され
る。
By operating the electromagnets 73 and 74, a parallel magnetic field acts in the direction from the ferromagnetic portion M of one template 71 to the corresponding ferromagnetic portion M of the other template 72. I do. As a result, in the sheet forming material layer 60A, the conductive magnetic material particles dispersed in the sheet forming material layer 60A become the ferromagnetic portion M of one template 71 and the other template corresponding thereto. 72, and are more preferably aligned in the thickness direction of the sheet forming material layer 60A. Then, in this state, the sheet forming material layer 60
By hardening A, as shown in FIG. 18, a conductive magnetic material is formed between the ferromagnetic material portion M of one template 71 and the corresponding ferromagnetic material portion M of the other template 72. A conductive path forming portion 61 densely filled with body particles is formed, and an insulating portion 62 having no or almost no conductive magnetic particles is formed around the conductive path forming portion 61 to form an anisotropic conductive sheet 60.

【0068】以上において、シート形成材料層60Aの
硬化処理は、平行磁場を作用させたままの状態で行うこ
ともできるが、平行磁場の作用を停止させた後に行うこ
ともできる。シート形成材料層60Aに作用される平行
磁場の強度は、平均で200〜10000ガウスとなる
大きさが好ましい。また、平行磁場を作用させる手段と
しては、電磁石の代わりに永久磁石を用いることもでき
る。このような永久磁石としては、上記の範囲の平行磁
場の強度が得られる点で、アルニコ(Fe−Al−Ni
−Co系合金)、フェライトなどよりなるものが好まし
い。
In the above description, the curing treatment of the sheet forming material layer 60A can be performed with the parallel magnetic field applied, but can also be performed after the parallel magnetic field is stopped. It is preferable that the intensity of the parallel magnetic field applied to the sheet forming material layer 60 </ b> A be 200 to 10000 gauss on average. As a means for applying a parallel magnetic field, a permanent magnet can be used instead of an electromagnet. As such a permanent magnet, alnico (Fe-Al-Ni) is used in that a parallel magnetic field strength within the above range can be obtained.
-Co-based alloy), ferrite and the like.

【0069】シート形成材料層60Aの硬化処理は、使
用される材料によって適宜選定されるが、通常、加熱処
理によって行われる。加熱によりシート形成材料層60
Aの硬化処理を行う場合には、電磁石73および74に
ヒーターを設ければよい。具体的な加熱温度および加熱
時間は、シート形成材料層60Aを構成する高分子物質
用材料などの種類、導電性磁性体粒子の移動に要する時
間などを考慮して適宜選定される。
The curing treatment of the sheet forming material layer 60A is appropriately selected depending on the material to be used, but is usually performed by a heating treatment. The sheet forming material layer 60 is heated.
When the curing treatment of A is performed, a heater may be provided for the electromagnets 73 and 74. The specific heating temperature and heating time are appropriately selected in consideration of the type of the material for the polymer substance constituting the sheet forming material layer 60A, the time required for the movement of the conductive magnetic particles, and the like.

【0070】このような電気装置接続装置は、次のよう
にして、半導体装置1の突起電極2と、検査治具5の上
面において、当該突起電極2のパターンに対応するパタ
ーンに従って形成された接続電極6との電気的な接続に
供される。図16に示したように、検査治具5の上面
に、異方導電性シート60を、その導電路形成部61の
下面が対応する当該検査治具5の接続電極6上に位置す
るよう配置して固定し、当該異方導電性シート60上に
おいて、シート状コネクター10を、その貫通導電部1
2の下面が対応する導電路形成部61上に位置するよう
配置して固定する。このシート状コネクター10の上面
上に、検査治具5と電気的に接続すべき半導体装置1
を、その突起電極2が対応する貫通導電部12上に位置
するよう配置し、その状態を維持したまま半導体装置1
を検査治具5に対して下方に押圧して貫通導電部12を
挟圧することにより、貫通導電部12の凹部13に突起
電極2の下端頂部が進入し、これにより、当該貫通導電
部12は、その対接部分15のエッジが突起電極2の表
面に形成された金属酸化膜をスクラッチしながら、当該
突起電極2と接触する。その結果、当該貫通導電部12
および導電路形成部51を介して、突起電極2と接続電
極6との電気的接続が達成され、この状態で半導体装置
1の高周波特性の検査が実施される。
Such an electrical device connecting device is formed as follows by connecting the projecting electrode 2 of the semiconductor device 1 and the connection formed on the upper surface of the inspection jig 5 according to the pattern corresponding to the pattern of the projecting electrode 2. It is used for electrical connection with the electrode 6. As shown in FIG. 16, an anisotropic conductive sheet 60 is arranged on the upper surface of the inspection jig 5 such that the lower surface of the conductive path forming portion 61 is located on the corresponding connection electrode 6 of the inspection jig 5. And fix the sheet-like connector 10 on the anisotropic conductive sheet 60 with the penetrating conductive portion 1.
2 are arranged and fixed such that the lower surface of the second 2 is located on the corresponding conductive path forming portion 61. The semiconductor device 1 to be electrically connected to the inspection jig 5 is provided on the upper surface of the sheet-like connector 10.
Are arranged such that the protruding electrodes 2 are located on the corresponding through conductive portions 12, and the semiconductor device 1 is maintained in that state.
Is pressed downward against the inspection jig 5 to pinch the penetrating conductive part 12, so that the top of the lower end of the projecting electrode 2 enters the recess 13 of the penetrating conductive part 12, whereby the penetrating conductive part 12 is The edge of the contact portion 15 contacts the bump electrode 2 while scratching the metal oxide film formed on the surface of the bump electrode 2. As a result, the through conductive portion 12
Electrical connection between the protruding electrode 2 and the connection electrode 6 is achieved via the conductive path forming portion 51, and an inspection of the high-frequency characteristics of the semiconductor device 1 is performed in this state.

【0071】以上のような構成の電気装置接続装置によ
れば、シート状コネクター10を備えてなるので、接続
されるべき半導体装置1の突起電極2に対して、十分に
小さい電気抵抗状態で電気的な接続を達成することがで
き、また、当該突起電極2が易拡散性金属を含有してな
る場合においても、長期間にわたって高い接触信頼性を
保持することができる。
According to the electric device connecting device having the above-described configuration, since the sheet-like connector 10 is provided, the electric connection between the protruding electrodes 2 of the semiconductor device 1 to be connected to the electric device in a sufficiently small electric resistance state. Connection can be achieved, and high contact reliability can be maintained for a long period of time even when the protruding electrode 2 contains an easily diffusible metal.

【0072】また、このような電気装置接続装置を備え
てなる検査装置によれば、大きな電源電流を必要とする
半導体装置1の検査においても、高い信頼性をもって容
易に検査を実行することができる。
Further, according to the inspection apparatus provided with such an electric device connection device, even in the inspection of the semiconductor device 1 requiring a large power supply current, the inspection can be easily performed with high reliability. .

【0073】[0073]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のシート状
コネクターによれば、貫通導電部に耐拡散性金属よりな
るバリア層が設けられているので、接続されるべき電気
装置の金属電極が易拡散性金属を含有してなる場合であ
っても、当該易拡散性金属による金属拡散を抑止するこ
とができて貫通導電部の特性が安定したものとなり、こ
れにより、長期間にわたって高い接触信頼性を保持する
ことができる。
As described above, according to the sheet-like connector of the present invention, since the penetration conductive portion is provided with the barrier layer made of the diffusion-resistant metal, the metal electrode of the electric device to be connected can be used. Even in the case of containing a readily diffusible metal, the metal diffusion by the easily diffusible metal can be suppressed, and the characteristics of the penetrating conductive portion become stable, thereby providing high contact reliability for a long period of time. Sex can be maintained.

【0074】本発明のシート状コネクターによれば、貫
通導電部の対接部分にエッジが形成されているので、接
続されるべき電気装置の金属電極の表面に金属酸化膜が
形成されている場合にも、エッジにより当該金属酸化膜
がスクラッチされることにより、金属酸化膜が突き破ら
れて金属電極と貫通導電部とが接触するために十分に小
さい電気抵抗状態で電気的な接続を達成することができ
る。従って、大電流が流れる条件下において電気装置と
の電気的接続が行われても、大きな抵抗発熱の発生を回
避することができ、その結果、十分に高い耐久性および
十分に長い使用寿命が得られる。
According to the sheet-like connector of the present invention, since the edge is formed at the contacting part of the through conductive portion, the metal oxide film is formed on the surface of the metal electrode of the electric device to be connected. In addition, the metal oxide film is scratched by the edge, so that the metal oxide film is pierced and the metal electrode and the penetrating conductive portion are brought into contact with each other, so that electrical connection is achieved with a sufficiently small electric resistance state. be able to. Therefore, even when an electrical connection is made to an electric device under a condition where a large current flows, generation of large resistance heat generation can be avoided, and as a result, sufficiently high durability and a sufficiently long service life can be obtained. Can be

【0075】本発明のシート状コネクターの製造方法に
よれば、製造すべき突出導電部分に対応する凹所が成形
面に形成された成形用基板を用いることにより、上記の
シート状コネクターを容易かつ確実に製造することがで
きる。また、成形用基板の凹所を異方性エッチングによ
り形成する場合には、寸法精度の高いシート状コネクタ
ーが得られる。
According to the method for manufacturing a sheet-like connector of the present invention, the above-mentioned sheet-like connector can be easily and easily manufactured by using a molding substrate in which a recess corresponding to a protruding conductive portion to be manufactured is formed on a molding surface. It can be manufactured reliably. When the recess of the molding substrate is formed by anisotropic etching, a sheet-like connector with high dimensional accuracy can be obtained.

【0076】本発明の電気装置接続装置によれば、上記
のシート状コネクターを備えてなるので、接続されるべ
き電気装置の金属電極に対して、十分に小さい電気抵抗
状態で電気的な接続を達成することができ、また、当該
金属電極が易拡散性金属を含有してなる場合において
も、長期間にわたって高い接触信頼性を保持することが
できる。
According to the electric device connecting apparatus of the present invention, since the above-mentioned sheet-like connector is provided, the electric connection is made with sufficiently small electric resistance to the metal electrode of the electric device to be connected. In addition, even when the metal electrode contains an easily diffusible metal, high contact reliability can be maintained for a long period of time.

【0077】本発明の検査装置によれば、上記の電気装
置接続装置を備えてなるので、大きな電源電流を必要と
する電気装置の検査においても、高い信頼性をもって容
易に検査を実行することができる。
According to the inspection apparatus of the present invention, since the above-described electric device connection device is provided, even in the inspection of an electric device requiring a large power supply current, the inspection can be easily performed with high reliability. it can.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のシート状コネクターの第1の形態にお
ける構成を、電気装置の一種である半導体装置および検
査治具と共に示す説明用断面図である。
FIG. 1 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration of a sheet-like connector according to a first embodiment of the present invention, together with a semiconductor device and a test jig, which are a kind of electric device.

【図2】図1の一部を拡大して示した説明用拡大断面図
である。
FIG. 2 is an enlarged sectional view for explanation showing a part of FIG. 1 in an enlarged manner.

【図3】(イ)〜(ヘ)は、図1の例のシート状コネク
ターの製造方法の一の例を工程順に示した説明図であ
る。
3 (a) to 3 (f) are explanatory views showing one example of a method of manufacturing the sheet-like connector of the example of FIG. 1 in the order of steps.

【図4】(イ)〜(ニ)は、図1の例のシート状コネク
ターの製造方法の他の例を工程順に示した説明図であ
る。
FIGS. 4A to 4D are explanatory views showing another example of the method of manufacturing the sheet-like connector of the example of FIG. 1 in the order of steps.

【図5】本発明のシート状コネクターの第2の形態にお
ける構成を、電気装置の一種である半導体装置と共に示
す説明用拡大断面図である。
FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view illustrating the configuration of a sheet-like connector according to a second embodiment of the present invention together with a semiconductor device which is a type of electric device.

【図6】図6〜図15は、図5の例のシート状コネクタ
ーの製造方法を工程順に示した図であって、この図は、
両面に保護膜が形成された成形用基板の一例における構
成を示す説明用断面図である。
6 to 15 are views showing a method of manufacturing the sheet-like connector of the example of FIG. 5 in the order of steps.
It is explanatory sectional drawing which shows the structure in an example of the shaping | molding board | substrate which formed the protective film on both surfaces.

【図7】保護膜上にレジスト膜が形成された状態を示す
説明用断面図である。
FIG. 7 is an explanatory sectional view showing a state where a resist film is formed on a protective film.

【図8】保護膜に開口が形成された状態を示す説明用断
面図である。
FIG. 8 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which an opening is formed in a protective film.

【図9】成形用基板に凹所が形成された状態を示す説明
用断面図である。
FIG. 9 is an explanatory sectional view showing a state in which a recess is formed in a molding substrate.

【図10】成形用基板の凹所にメッキ処理がなされた工
程を示す説明用断面図である。
FIG. 10 is an explanatory cross-sectional view showing a process in which a plating process is performed on a recess of a molding substrate.

【図11】成形用基板上に絶縁層が積層された工程を示
す説明用断面図である。
FIG. 11 is an explanatory sectional view showing a step in which an insulating layer is laminated on a molding substrate.

【図12】絶縁層に貫通孔が形成された工程を示す説明
用断面図である。
FIG. 12 is an explanatory cross-sectional view showing a step in which a through hole is formed in an insulating layer.

【図13】絶縁層の貫通孔にメッキ処理がなされた工程
を示す説明用断面図である。
FIG. 13 is an explanatory cross-sectional view showing a step of plating a through hole of an insulating layer.

【図14】成形用基板上にシート状コネクター複合体が
形成された工程を示す説明用断面図である。
FIG. 14 is an explanatory cross-sectional view showing a step of forming a sheet-like connector composite on a molding substrate.

【図15】シート状コネクター複合体を成形用基板より
剥離する工程を示す説明用断面図である。
FIG. 15 is an explanatory cross-sectional view showing a step of peeling the sheet-shaped connector composite from the molding substrate.

【図16】本発明の電気装置接続装置の一例における構
成を、電気装置の一種である半導体装置および検査治具
と共に示す説明用断面図である。
FIG. 16 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration of an example of the electric device connecting apparatus of the present invention, together with a semiconductor device which is a kind of electric device and an inspection jig.

【図17】図17および図18は、電気装置接続装置を
構成する異方導電性シートの製造方法を示した図であっ
て、この図は、シート形成材料層に平行磁場を作用させ
た状態を示す説明用断面図である。
FIG. 17 and FIG. 18 are views showing a method of manufacturing an anisotropic conductive sheet constituting an electric device connecting apparatus, and show a state in which a parallel magnetic field is applied to a sheet forming material layer. It is explanatory sectional drawing which shows.

【図18】異方導電性シートが形成された状態を示す説
明用断面図である。
FIG. 18 is an explanatory sectional view showing a state where an anisotropic conductive sheet is formed.

【図19】従来のシート状コネクターの一例における構
成を、電気装置の一種である半導体装置および検査治具
と共に示す説明用断面図である。
FIG. 19 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration of an example of a conventional sheet-like connector together with a semiconductor device and an inspection jig which are a kind of electric device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体装置 2 突起電極 5 検査治具 6 接続電極 10,30 シート状コネクター 30A シート状コネクター複合体 11,31 絶縁性シート 12,32 貫通導電部 321 柱状導電部分 322 突出導電部分 12K 貫通導電部基体 13 凹部 14,33 バリア層 15,34 対接部分 20 シート状基体 21 絶縁性シート 21a,21b 導電性膜 22,23 開口 24a,24b 導電性中間膜 25 メッキレジスト層 26a,26b 開口部 27a,27b メッキレジスト層 40 成形用基板 40a,40b 保護膜 41a,41b レジスト膜 42,43 開口 44 凹所 45,53 メッキレジスト層 46,54 開口部 47,57 バリア層 48 充填金属体 49 第1の中間層 50 絶縁層 51 貫通孔 52 ベース層 55 第2の中間層 56 柱状金属体 60 異方導電性シート 60A シート形成材料層 61 導電路形成部 62 絶縁部 70 金型 71 一方の型板 72 他方の型板 71a,72a 基材 73,74 電磁石 75 スペーサ 80 シート状コネクター 81 絶縁性シート 82 貫通導電部 M 強磁性体部分 N 非磁性体部分 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor device 2 Protruding electrode 5 Inspection jig 6 Connection electrode 10, 30 Sheet connector 30A Sheet connector composite 11, 31 Insulating sheet 12, 32 Penetrating conductive part 321 Column conductive part 322 Projecting conductive part 12K Penetrating conductive part base DESCRIPTION OF SYMBOLS 13 Concavity 14, 33 Barrier layer 15, 34 Contact part 20 Sheet-shaped base 21 Insulating sheet 21a, 21b Conductive film 22, 23 Opening 24a, 24b Conductive intermediate film 25 Plating resist layer 26a, 26b Opening 27a, 27b Plating resist layer 40 Molding substrate 40a, 40b Protective film 41a, 41b Resist film 42, 43 Opening 44 Recess 45, 53 Plating resist layer 46, 54 Opening 47, 57 Barrier layer 48 Filled metal body 49 First intermediate layer Reference Signs List 50 insulating layer 51 through hole 52 base layer 55 second Interlayer 56 Columnar metal body 60 Anisotropic conductive sheet 60A Sheet forming material layer 61 Conductive path forming part 62 Insulating part 70 Mold 71 One mold plate 72 The other mold plate 71a, 72a Base material 73, 74 Electromagnet 75 Spacer 80 Sheet-shaped connector 81 Insulating sheet 82 Penetrating conductive part M Ferromagnetic part N Non-magnetic part

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 3/32 H01R 107:00 // H01R 107:00 23/02 D E Fターム(参考) 2G003 AA07 AG01 AG12 2G011 AA01 AA15 AB06 AC31 AD01 AE22 AF07 5E023 AA04 AA05 BB01 BB18 DD26 EE01 EE09 EE17 EE18 EE23 EE33 FF07 GG17 HH08 HH24 HH28 5E051 BA06 BB02 CA03 5E319 AA03 AB05 BB04 CC02 CC03──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H05K 3/32 H01R 107: 00 // H01R 107: 00 23/02 DEF term (Reference) 2G003 AA07 AG01 AG12 2G011 AA01 AA15 AB06 AC31 AD01 AE22 AF07 5E023 AA04 AA05 BB01 BB18 DD26 EE01 EE09 EE17 EE18 EE23 EE33 FF07 GG17 HH08 HH24 HH28 5E051 BA06 BB02 CA03 5E319 AA03 CC05 CC04

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 金属電極が設けられた電気装置との電気
的接続に用いられるシート状コネクターであって、 その厚み方向に貫通して伸びる複数の貫通導電部が相互
に絶縁された状態で形成され、 当該電気装置の金属電極と対接される貫通導電部の表面
に、耐拡散性金属よりなるバリア層が設けられているこ
とを特徴とするシート状コネクター。
1. A sheet-like connector used for electrical connection with an electric device provided with a metal electrode, wherein a plurality of penetrating conductive portions extending through the thickness direction thereof are formed in a mutually insulated state. A sheet-like connector, characterized in that a barrier layer made of a diffusion-resistant metal is provided on a surface of a penetrating conductive portion that is in contact with a metal electrode of the electric device.
【請求項2】 金属電極が設けられた電気装置との電気
的接続に用いられるシート状コネクターであって、 その厚み方向に貫通して伸びる複数の貫通導電部が相互
に絶縁された状態で形成され、 当該電気装置の金属電極と対接される貫通導電部の対接
部分にエッジが形成されていることを特徴とするシート
状コネクター。
2. A sheet-like connector used for electrical connection with an electric device provided with a metal electrode, wherein a plurality of penetrating conductive portions extending through the thickness direction thereof are formed in a mutually insulated state. A sheet-like connector, characterized in that an edge is formed at a contact portion of the penetrating conductive portion that contacts the metal electrode of the electric device.
【請求項3】 貫通導電部は、柱状導電部分と、この柱
状導電部分に一体的に連続した状態で突出する突出導電
部分とを有してなり、当該突出導電部分が錐体であって
その頂点によりエッジが形成されていることを特徴とす
る請求項2に記載のシート状コネクター。
3. The penetrating conductive portion has a columnar conductive portion and a protruding conductive portion protruding integrally with the columnar conductive portion, and the protruding conductive portion is a cone. The sheet-like connector according to claim 2, wherein an edge is formed by the apex.
【請求項4】 電気装置の金属電極が半球形状を有する
突起電極である場合において、貫通導電部の対接部分に
は、前記突起電極の径より小径の開口が形成され、当該
開口の内周縁によりエッジが形成されていることを特徴
とする請求項2に記載のシート状コネクター。
4. When the metal electrode of the electric device is a protruding electrode having a hemispherical shape, an opening smaller in diameter than the diameter of the protruding electrode is formed at a contact portion of the penetrating conductive portion, and an inner peripheral edge of the opening is formed. The sheet-like connector according to claim 2, wherein an edge is formed by:
【請求項5】 貫通導電部には、対接部分の表面に耐拡
散性金属よりなるバリア層が設けられていることを特徴
とする請求項2〜請求項4のいずれかに記載のシート状
コネクター。
5. The sheet-shaped member according to claim 2, wherein a barrier layer made of a diffusion-resistant metal is provided on the surface of the contact portion of the through conductive portion. connector.
【請求項6】 バリア層を形成する耐拡散性金属がロジ
ウム、パラジウム、銀、タングステンおよび白金から選
択されるいずれかの金属であることを特徴とする請求項
1または請求項5に記載のシート状コネクター。
6. The sheet according to claim 1, wherein the diffusion-resistant metal forming the barrier layer is any metal selected from rhodium, palladium, silver, tungsten and platinum. Connector.
【請求項7】 金属電極が易拡散性金属を含有する電気
装置との電気的接続に用いられることを特徴とする請求
項1〜請求項6のいずれかに記載のシート状コネクタ
ー。
7. The sheet-like connector according to claim 1, wherein the metal electrode is used for electrical connection with an electric device containing a readily diffusible metal.
【請求項8】 半導体装置よりなる電気装置との電気的
接続に用いられることを特徴とする請求項1〜請求項7
のいずれかに記載のシート状コネクター。
8. The semiconductor device according to claim 1, which is used for electrical connection with an electric device comprising a semiconductor device.
The sheet-like connector according to any one of the above.
【請求項9】 請求項3に記載のシート状コネクターの
製造方法であって、 貫通導電部の突出導電部分に対応する凹所が成形面に形
成された成形用基板を用意し、この成形用基板の前記凹
所内に金属を充填して充填金属体を形成する工程と、 この工程により得られる成形用基板の成形面の上に、柱
状導電部分に対応する貫通孔を有する絶縁層を形成し、
この絶縁層の当該貫通孔内に金属を充填して前記充填金
属体と一体的に連続する柱状金属体を形成することによ
り、前記充填金属体よりなる突出導電部分および前記柱
状金属体よりなる柱状導電部分を有するシート状コネク
ター複合体を形成する工程と、 このシート状コネクター複合体より成形用基板を除去す
る工程とを有することを特徴とするシート状コネクター
の製造方法。
9. The method of manufacturing a sheet-like connector according to claim 3, further comprising: preparing a molding substrate in which a recess corresponding to the projecting conductive portion of the through conductive portion is formed on a molding surface; A step of filling a metal in the recess of the substrate to form a filled metal body, and forming an insulating layer having a through hole corresponding to the columnar conductive portion on the molding surface of the molding substrate obtained by this step. ,
By filling a metal into the through-hole of the insulating layer to form a columnar metal body that is integrally continuous with the filler metal body, a protruding conductive portion composed of the filler metal body and a columnar shape composed of the columnar metal body are formed. A method for producing a sheet-like connector, comprising: a step of forming a sheet-like connector composite having a conductive portion; and a step of removing a molding substrate from the sheet-like connector composite.
【請求項10】 成形用基板における凹所は、異方性エ
ッチングにより形成されたものであることを特徴とする
請求項9に記載のシート状コネクターの製造方法。
10. The method according to claim 9, wherein the recesses in the molding substrate are formed by anisotropic etching.
【請求項11】 成形用基板は、単結晶シリコンよりな
るものであることを特徴とする請求項10に記載のシー
ト状コネクターの製造方法。
11. The method according to claim 10, wherein the molding substrate is made of single-crystal silicon.
【請求項12】 電気装置のための電気的接続装置であ
って、請求項1〜請求項8のいずれかに記載のシート状
コネクターと、このシート状コネクターの一面側に配置
された異方導電性シートとにより構成されていることを
特徴とする電気装置接続装置。
12. An electrical connection device for an electrical device, comprising: the sheet-like connector according to claim 1; and an anisotropically conductive member disposed on one surface of the sheet-like connector. An electrical device connection device, comprising: a conductive sheet.
【請求項13】 異方導電性シートは、その厚み方向に
伸びる複数の導電路形成部と、当該導電路形成部を相互
に絶縁する絶縁部とよりなり、シート状コネクターに対
し、その貫通導電部に対応した位置に導電路形成部が位
置するよう配置されていることを特徴とする請求項12
に記載の電気装置接続装置。
13. The anisotropic conductive sheet includes a plurality of conductive path forming portions extending in a thickness direction thereof and an insulating portion for insulating the conductive path forming portions from each other. 13. The conductive path forming portion is arranged at a position corresponding to the portion.
An electrical device connection device according to claim 1.
【請求項14】 シート状コネクターは、異方導電性シ
ートに一体的に設けられていることを特徴とする請求項
13に記載の電気装置接続装置。
14. The electrical device connection device according to claim 13, wherein the sheet-like connector is provided integrally with the anisotropic conductive sheet.
【請求項15】 電気装置の電気的動作検査を行う電気
装置の検査装置であって、請求項12〜請求項14のい
ずれかに記載の電気装置接続装置を備えてなることを特
徴とする検査装置。
15. An inspection apparatus for an electrical device for inspecting an electrical operation of an electrical device, comprising: the electrical device connection device according to claim 12. apparatus.
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