JP2001281447A - 光学フイルム、偏光選択素子、偏光板および液晶表示装置 - Google Patents
光学フイルム、偏光選択素子、偏光板および液晶表示装置Info
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- JP2001281447A JP2001281447A JP2000095400A JP2000095400A JP2001281447A JP 2001281447 A JP2001281447 A JP 2001281447A JP 2000095400 A JP2000095400 A JP 2000095400A JP 2000095400 A JP2000095400 A JP 2000095400A JP 2001281447 A JP2001281447 A JP 2001281447A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 大面積にわたって均一な散乱特性を示し、散
乱特性の制御が容易な光学フイルムを得る。 【解決手段】 光学的異方性相と光学的等方性相とから
なる層が透明支持体上に設けられている光学フイルムで
において、遅相軸および進相軸の一方の軸における光学
的異方性相の屈折率と光学的等方性相の屈折率とが実質
的に同じになるように屈折率を調節し、光学的異方性相
を層内で連続相を形成させ、そして、光学的等方性相を
層内で不連続相を形成させる。
乱特性の制御が容易な光学フイルムを得る。 【解決手段】 光学的異方性相と光学的等方性相とから
なる層が透明支持体上に設けられている光学フイルムで
において、遅相軸および進相軸の一方の軸における光学
的異方性相の屈折率と光学的等方性相の屈折率とが実質
的に同じになるように屈折率を調節し、光学的異方性相
を層内で連続相を形成させ、そして、光学的等方性相を
層内で不連続相を形成させる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光学的異方性相と光学
的等方性相とを有する層が透明支持体上に設けられてい
る光学フイルム、それを用いた偏光選択素子、偏光板お
よび液晶表示装置に関する。
的等方性相とを有する層が透明支持体上に設けられてい
る光学フイルム、それを用いた偏光選択素子、偏光板お
よび液晶表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】太陽光のような自然光やランプのような
通常の人為的光源からの光は無偏光(ランダム偏光)で
あるが、偏光素子を用いることで偏光(直線偏光、円偏
光、楕円偏光)成分を取り出すことができる。取り出し
た偏光は、様々な光学機器に利用できる。現在広く普及
している液晶表示装置は、偏光の性質を利用して画像を
表示する装置であるとも言える。広義の偏光板には、直
線偏光板、円偏光板および楕円偏光板が含まれる。ただ
し、通常の(狭義の)偏光板は、直線偏光板を意味す
る。本明細書においても、特に規定しない「偏光板」
は、直線偏光板を意味する。直線偏光板は、最も基本的
な偏光板である。円偏光板は、一般に、直線偏光板とλ
/4板との積層体である。楕円偏光板は、一般に、直線
偏光板とλ/4板以外の位相差板との積層体である。従
って、様々な(広義の)偏光板において、直線偏光板の
光学的な機能が重要である。
通常の人為的光源からの光は無偏光(ランダム偏光)で
あるが、偏光素子を用いることで偏光(直線偏光、円偏
光、楕円偏光)成分を取り出すことができる。取り出し
た偏光は、様々な光学機器に利用できる。現在広く普及
している液晶表示装置は、偏光の性質を利用して画像を
表示する装置であるとも言える。広義の偏光板には、直
線偏光板、円偏光板および楕円偏光板が含まれる。ただ
し、通常の(狭義の)偏光板は、直線偏光板を意味す
る。本明細書においても、特に規定しない「偏光板」
は、直線偏光板を意味する。直線偏光板は、最も基本的
な偏光板である。円偏光板は、一般に、直線偏光板とλ
/4板との積層体である。楕円偏光板は、一般に、直線
偏光板とλ/4板以外の位相差板との積層体である。従
って、様々な(広義の)偏光板において、直線偏光板の
光学的な機能が重要である。
【0003】直線偏光板としては、一般にポリビニルア
ルコール系フイルムのような光吸収型偏光素子からなる
偏光板が用いられている。ポリビニルアルコール系偏光
板は、ポリビニルアルコール系フイルムを延伸しヨウ素
または二色性染料を吸着するのとにより製造する。偏光
板の透過軸(偏光軸)は、フイルムの延伸方向に垂直な
方向に相当する。光吸収型偏光素子は、透過軸に平行な
偏光成分のみを透過して、それと直交方向の偏光成分を
吸収する。従って、光の利用効率は、理論的に50%以
下(実際にはさらに低い値)である。
ルコール系フイルムのような光吸収型偏光素子からなる
偏光板が用いられている。ポリビニルアルコール系偏光
板は、ポリビニルアルコール系フイルムを延伸しヨウ素
または二色性染料を吸着するのとにより製造する。偏光
板の透過軸(偏光軸)は、フイルムの延伸方向に垂直な
方向に相当する。光吸収型偏光素子は、透過軸に平行な
偏光成分のみを透過して、それと直交方向の偏光成分を
吸収する。従って、光の利用効率は、理論的に50%以
下(実際にはさらに低い値)である。
【0004】偏光板の光の利用効率を向上させるため、
光吸収型偏光素子に代えて、または光吸収型偏光素子に
加えて、光散乱型偏光素子を使用することが提案されて
いる。光散乱型偏光素子も、光吸収型偏光素子と同様
に、透過軸と平行な偏光成分のみを透過する。ただし、
光散乱型偏光素子では、透過軸と直交方向の偏光成分を
吸収せずに前方もしくは後方に散乱し、偏光素子の光の
利用効率を向上させる。光散乱型偏光素子による光の利
用効率改善の機構は、以下のように複数ある。
光吸収型偏光素子に代えて、または光吸収型偏光素子に
加えて、光散乱型偏光素子を使用することが提案されて
いる。光散乱型偏光素子も、光吸収型偏光素子と同様
に、透過軸と平行な偏光成分のみを透過する。ただし、
光散乱型偏光素子では、透過軸と直交方向の偏光成分を
吸収せずに前方もしくは後方に散乱し、偏光素子の光の
利用効率を向上させる。光散乱型偏光素子による光の利
用効率改善の機構は、以下のように複数ある。
【0005】(A)前方散乱光の偏光解消による光の利
用効率改善 光散乱型偏光素子では、透過軸と直交方向の偏光成分は
前方もしくは後方に散乱される。このうち前方散乱され
た光は偏光解消され、前方散乱光の偏光方向が入射光の
偏光方向から回転することにより、光散乱型偏光素子の
透過軸方向の偏光成分が入射光よりも増加する。光散乱
型偏光素子において、厚み方向に多数の粒子が存在する
場合には、多重散乱により偏光解消の程度が強くなる。
このように、光散乱型偏光素子を使用する場合には、前
方散乱光の偏光解消により光吸収型偏光素子のみを使用
する場合よりも光の利用効率が向上する。
用効率改善 光散乱型偏光素子では、透過軸と直交方向の偏光成分は
前方もしくは後方に散乱される。このうち前方散乱され
た光は偏光解消され、前方散乱光の偏光方向が入射光の
偏光方向から回転することにより、光散乱型偏光素子の
透過軸方向の偏光成分が入射光よりも増加する。光散乱
型偏光素子において、厚み方向に多数の粒子が存在する
場合には、多重散乱により偏光解消の程度が強くなる。
このように、光散乱型偏光素子を使用する場合には、前
方散乱光の偏光解消により光吸収型偏光素子のみを使用
する場合よりも光の利用効率が向上する。
【0006】(B)後方散乱光の再利用(偏光解消)に
よる光の利用効率改善 光散乱型偏光素子の透過軸と直交方向の偏光成分のうち
後方散乱された光は、後方散乱される際に偏光解消され
る。偏光素子を基準として光源より離れた位置に金属反
射板を配置することにより、後方散乱された光は、光源
であるバックライトの背面に配置された金属反射板によ
り反射され、再度光散乱型偏光素子へ入射する。ここ
で、再入射する光は後方散乱する際に偏光解消を受け、
散乱型偏光素子の透過軸と平行方向の偏光成分が生じて
おり、この偏光成分は散乱型偏光素子を透過する。この
ように、光散乱型偏光素子による後方散乱と金属反射板
での反射を繰り返すことにより光の利用効率を向上させ
ることができる。
よる光の利用効率改善 光散乱型偏光素子の透過軸と直交方向の偏光成分のうち
後方散乱された光は、後方散乱される際に偏光解消され
る。偏光素子を基準として光源より離れた位置に金属反
射板を配置することにより、後方散乱された光は、光源
であるバックライトの背面に配置された金属反射板によ
り反射され、再度光散乱型偏光素子へ入射する。ここ
で、再入射する光は後方散乱する際に偏光解消を受け、
散乱型偏光素子の透過軸と平行方向の偏光成分が生じて
おり、この偏光成分は散乱型偏光素子を透過する。この
ように、光散乱型偏光素子による後方散乱と金属反射板
での反射を繰り返すことにより光の利用効率を向上させ
ることができる。
【0007】(C)後方散乱光の再利用(偏光方向の回
転)による光の利用効率改善 光源に近い側からλ/4板、金属反射板の順で配置した
光学系に、光源からλ/4板の遅相軸と45°をなすよ
うに直線偏光を入射させると、偏光方向が入射光と90
°回転した反射光が戻ってくる。光散乱型偏光素子を基
準として光源より離れた位置に金属反射板を配置し、偏
光素子と金属反射板との間の任意の位置に、偏光素子の
透過軸とλ/4板の遅相軸が45°をなすようにλ/4
板を配置する。光散乱型偏光素子において後方散乱され
た光の偏光方向の分布は、光散乱型偏光素子の透過軸と
直交方向が大きい。この後方散乱された光がλ/4板を
透過して金属反射板により反射され、再度光散乱型偏光
素子に入射する。この再度入射する光の偏光方向の分布
は、光散乱型偏光素子の透過軸に平行方向に大きくなっ
ており、透過軸に平行な偏光成分は光散乱型偏光素子を
透過する。このように、光散乱型偏光素子と金属反射板
との間にλ/4板を配置することにより、光の利用効率
は改善する。
転)による光の利用効率改善 光源に近い側からλ/4板、金属反射板の順で配置した
光学系に、光源からλ/4板の遅相軸と45°をなすよ
うに直線偏光を入射させると、偏光方向が入射光と90
°回転した反射光が戻ってくる。光散乱型偏光素子を基
準として光源より離れた位置に金属反射板を配置し、偏
光素子と金属反射板との間の任意の位置に、偏光素子の
透過軸とλ/4板の遅相軸が45°をなすようにλ/4
板を配置する。光散乱型偏光素子において後方散乱され
た光の偏光方向の分布は、光散乱型偏光素子の透過軸と
直交方向が大きい。この後方散乱された光がλ/4板を
透過して金属反射板により反射され、再度光散乱型偏光
素子に入射する。この再度入射する光の偏光方向の分布
は、光散乱型偏光素子の透過軸に平行方向に大きくなっ
ており、透過軸に平行な偏光成分は光散乱型偏光素子を
透過する。このように、光散乱型偏光素子と金属反射板
との間にλ/4板を配置することにより、光の利用効率
は改善する。
【0008】光散乱型偏光素子については、特開平8−
76114号、特開平9−274108号、特開平9−
297204号、特表平11−502036号、特表平
11−509014号の各公報および米国特許5783
120号、米国特許5825543号、米国特許586
7316号明細書に記載がある。従来の光散乱型偏光素
子では、光学的等方性のポリマーマトリックスで連続相
を構成し、光学的異方性の微粒子を不連続相としてポリ
マーマトリックス中に分散していた。
76114号、特開平9−274108号、特開平9−
297204号、特表平11−502036号、特表平
11−509014号の各公報および米国特許5783
120号、米国特許5825543号、米国特許586
7316号明細書に記載がある。従来の光散乱型偏光素
子では、光学的等方性のポリマーマトリックスで連続相
を構成し、光学的異方性の微粒子を不連続相としてポリ
マーマトリックス中に分散していた。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】従来の光散乱型偏光素
子のうち、特開平8−76114号、特開平9−274
108号、特開平9−297204号、特表平11−5
09014号の各公報および米国特許5783120
号、米国特許5825543号、米国特許586731
6号明細書に開示されている光散乱型偏光素子は、光吸
収型偏光素子と同様にポリマーフイルムの延伸により製
造している。ポリマーフイルムの延伸による製造方法で
は、フイルム面内の延伸むらが生じやすく、大面積にわ
たって均一な散乱特性を得ることは困難である。また、
延伸ではポリマーマトリックスと分散粒子の屈折率を個
別に制御することが困難である。特表平11−5020
36号公報記載の光散乱型偏光素子は、ポリマーフイル
ム中に液晶を分散し、電場または磁場を印加する方法で
光学的異方性物質(液晶)を配向させている。しかし、
電場または磁場を大面積に均一に印加することは困難で
あり、大面積にわたって均一な散乱特性を得ることは困
難である。
子のうち、特開平8−76114号、特開平9−274
108号、特開平9−297204号、特表平11−5
09014号の各公報および米国特許5783120
号、米国特許5825543号、米国特許586731
6号明細書に開示されている光散乱型偏光素子は、光吸
収型偏光素子と同様にポリマーフイルムの延伸により製
造している。ポリマーフイルムの延伸による製造方法で
は、フイルム面内の延伸むらが生じやすく、大面積にわ
たって均一な散乱特性を得ることは困難である。また、
延伸ではポリマーマトリックスと分散粒子の屈折率を個
別に制御することが困難である。特表平11−5020
36号公報記載の光散乱型偏光素子は、ポリマーフイル
ム中に液晶を分散し、電場または磁場を印加する方法で
光学的異方性物質(液晶)を配向させている。しかし、
電場または磁場を大面積に均一に印加することは困難で
あり、大面積にわたって均一な散乱特性を得ることは困
難である。
【0010】光散乱型偏光素子の面内の散乱特性の不均
一性は、光散乱型偏光素子を用いた液晶表示装置の面内
の輝度のむらにつながる。本発明の目的は、大面積にわ
たって均一な散乱特性を示し、散乱特性の制御が容易な
光学フイルムを提供することである。別の本発明の目的
は、直線偏光の選択性が優れた光散乱型偏光素子を提供
することである。さらに別の本発明の目的は、光の利用
効率が優れた偏光板を提供することである。さらにまた
別の本発明の目的は、液晶表示装置の面内輝度の均一性
を改善することである。
一性は、光散乱型偏光素子を用いた液晶表示装置の面内
の輝度のむらにつながる。本発明の目的は、大面積にわ
たって均一な散乱特性を示し、散乱特性の制御が容易な
光学フイルムを提供することである。別の本発明の目的
は、直線偏光の選択性が優れた光散乱型偏光素子を提供
することである。さらに別の本発明の目的は、光の利用
効率が優れた偏光板を提供することである。さらにまた
別の本発明の目的は、液晶表示装置の面内輝度の均一性
を改善することである。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、以下の
光学フイルム、偏光選択素子、偏光板および液晶表示装
置により達成された。 (1)光学的異方性相と光学的等方性相とからなる層が
透明支持体上に設けられている光学フイルムであって、
面内の遅相軸および進相軸の一方の軸における光学的異
方性相の屈折率と光学的等方性相の屈折率とが実質的に
同じであり、光学的異方性相が層内で連続相を形成して
おり、そして、光学的等方性相が層内で不連続相を形成
していることを特徴とする光学フイルム。 (2)光学的異方性連続相が、液晶性化合物から形成さ
れた相である(1)に記載の光学フイルム。 (3)透明支持体と光学的異方性連続相の間に、配向層
が設けられている(2)に記載の光学フイルム。 (4)光学的等方性不連続相が、0.1乃至10.0μ
mの平均粒径を有する(1)に記載の光学フイルム (5)光学的等方性不連続相が、実質的に球形である
(1)に記載の光学フイルム。
光学フイルム、偏光選択素子、偏光板および液晶表示装
置により達成された。 (1)光学的異方性相と光学的等方性相とからなる層が
透明支持体上に設けられている光学フイルムであって、
面内の遅相軸および進相軸の一方の軸における光学的異
方性相の屈折率と光学的等方性相の屈折率とが実質的に
同じであり、光学的異方性相が層内で連続相を形成して
おり、そして、光学的等方性相が層内で不連続相を形成
していることを特徴とする光学フイルム。 (2)光学的異方性連続相が、液晶性化合物から形成さ
れた相である(1)に記載の光学フイルム。 (3)透明支持体と光学的異方性連続相の間に、配向層
が設けられている(2)に記載の光学フイルム。 (4)光学的等方性不連続相が、0.1乃至10.0μ
mの平均粒径を有する(1)に記載の光学フイルム (5)光学的等方性不連続相が、実質的に球形である
(1)に記載の光学フイルム。
【0012】(6)光学的異方性相と光学的等方性相と
からなる偏光選択性層が透明支持体上に設けられている
偏光選択素子であって、面内の遅相軸および進相軸の一
方の軸における光学的異方性相の屈折率と光学的等方性
相の屈折率差とが実質的に同じであり、他方の軸におけ
る光学的異方性相の屈折率と光学的等方性相の屈折率と
が実質的に異なり、光学的異方性相が層内で連続相を形
成しており、そして、光学的等方性相が層内で不連続相
を形成していることを特徴とする偏光選択素子。 (7)偏光選択層の上に反射防止層を有する(6)に記
載の偏光選択素子。
からなる偏光選択性層が透明支持体上に設けられている
偏光選択素子であって、面内の遅相軸および進相軸の一
方の軸における光学的異方性相の屈折率と光学的等方性
相の屈折率差とが実質的に同じであり、他方の軸におけ
る光学的異方性相の屈折率と光学的等方性相の屈折率と
が実質的に異なり、光学的異方性相が層内で連続相を形
成しており、そして、光学的等方性相が層内で不連続相
を形成していることを特徴とする偏光選択素子。 (7)偏光選択層の上に反射防止層を有する(6)に記
載の偏光選択素子。
【0013】(8)光学的異方性相と光学的等方性相と
からなる偏光選択性層が透明支持体上に設けられている
光散乱型偏光選択素子と、光吸収型偏光選択素子とが積
層されている偏光板であって、面内の遅相軸および進相
軸の一方の軸における光学的異方性相の屈折率と光学的
等方性相の屈折率とが実質的に同じであり、他方の軸に
おける光学的異方性相の屈折率と光学的等方性相の屈折
率とが実質的に異なり、光学的異方性相が層内で連続相
を形成しており、光学的等方性相が層内で不連続相を形
成しており、そして、光学的異方性相の屈折率と光学的
等方性相の屈折率とが実質的に同じである光学的異方性
相の軸と光吸収型偏光選択素子の透過軸とが実質的に平
行であることを特徴とする偏光板。
からなる偏光選択性層が透明支持体上に設けられている
光散乱型偏光選択素子と、光吸収型偏光選択素子とが積
層されている偏光板であって、面内の遅相軸および進相
軸の一方の軸における光学的異方性相の屈折率と光学的
等方性相の屈折率とが実質的に同じであり、他方の軸に
おける光学的異方性相の屈折率と光学的等方性相の屈折
率とが実質的に異なり、光学的異方性相が層内で連続相
を形成しており、光学的等方性相が層内で不連続相を形
成しており、そして、光学的異方性相の屈折率と光学的
等方性相の屈折率とが実質的に同じである光学的異方性
相の軸と光吸収型偏光選択素子の透過軸とが実質的に平
行であることを特徴とする偏光板。
【0014】(9)バックライト、偏光板、液晶セル、
そして偏光板がこの順に積層されている液晶表示装置で
あって、バックライトと液晶セルとの間の偏光板が、光
学的異方性相と光学的等方性相とからなる偏光選択性層
が透明支持体上に設けられている光散乱型偏光選択素子
と、光吸収型偏光選択素子とが積層されている偏光板で
あり、面内の遅相軸および進相軸の一方の軸における光
学的異方性相の屈折率と光学的等方性相の屈折率とが実
質的に同じであり、他方の軸における光学的異方性相の
屈折率と光学的等方性相の屈折率とが実質的に異なり、
光学的異方性相が層内で連続相を形成しており、光学的
等方性相が層内で不連続相を形成しており、光学的異方
性相の屈折率と光学的等方性相の屈折率とが実質的に同
じである光学的異方性相の軸と光吸収型偏光選択素子の
透過軸とが実質的に平行であり、そして、光散乱型偏光
素子が光吸収型偏光素子よりもバックライト側になるよ
うに配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
そして偏光板がこの順に積層されている液晶表示装置で
あって、バックライトと液晶セルとの間の偏光板が、光
学的異方性相と光学的等方性相とからなる偏光選択性層
が透明支持体上に設けられている光散乱型偏光選択素子
と、光吸収型偏光選択素子とが積層されている偏光板で
あり、面内の遅相軸および進相軸の一方の軸における光
学的異方性相の屈折率と光学的等方性相の屈折率とが実
質的に同じであり、他方の軸における光学的異方性相の
屈折率と光学的等方性相の屈折率とが実質的に異なり、
光学的異方性相が層内で連続相を形成しており、光学的
等方性相が層内で不連続相を形成しており、光学的異方
性相の屈折率と光学的等方性相の屈折率とが実質的に同
じである光学的異方性相の軸と光吸収型偏光選択素子の
透過軸とが実質的に平行であり、そして、光散乱型偏光
素子が光吸収型偏光素子よりもバックライト側になるよ
うに配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
【0015】本明細書において、「光学的異方性」とは
複屈折率が0.05乃至1.00(0.05以上、1.
00以下)であることを意味し、「光学的等方性」複屈
折率が0.05未満であることを意味する。また、「屈
折率が実質的に異なる」とは屈折率の差が0.05以上
であることを意味し、「屈折率が実質的に同じ」とは、
屈折率の差が0.05未満であることを意味する。さら
に、「面内の遅相軸」は面内で(すなわちフイルム法線
方向から観察したとき)屈折率が最大となる方向を意味
し、「面内の進相軸」は面内で屈折率が最小となる方向
を意味する。また、本明細書において「実質的に平行」
とは、厳密に平行となる方向から±15゜までの方向を
意味する。
複屈折率が0.05乃至1.00(0.05以上、1.
00以下)であることを意味し、「光学的等方性」複屈
折率が0.05未満であることを意味する。また、「屈
折率が実質的に異なる」とは屈折率の差が0.05以上
であることを意味し、「屈折率が実質的に同じ」とは、
屈折率の差が0.05未満であることを意味する。さら
に、「面内の遅相軸」は面内で(すなわちフイルム法線
方向から観察したとき)屈折率が最大となる方向を意味
し、「面内の進相軸」は面内で屈折率が最小となる方向
を意味する。また、本明細書において「実質的に平行」
とは、厳密に平行となる方向から±15゜までの方向を
意味する。
【0016】
【発明の効果】本願発明者は研究の結果、従来の技術
(光学的等方性連続相と光学的異方性不連続相との組み
合わせ)とは、全く逆の構成(光学的異方性連続相と光
学的等方性不連続相との組み合わせ)で光学フイルムを
製造することに成功した。光学的異方性連続相は、例え
ば、液晶性化合物を配向させることにより実現すること
ができる。光学的異方性相を連続相とすると、均一な光
学異方性を容易に実現できる。すなわち、棒状液晶性分
子のような液晶性化合物は、容易に均一に配向させるこ
とができる。また、光学的等方性相を不連続相とする
と、不連続相の形状や大きさを(光学的異方性相を不連
続相とする場合よりも)容易に制御することができる。
光学的異方性相からなる不連続相の形状や大きさを制御
しようとすると、光学的異方性が変化する可能性があ
る。光学的等方性相からなる不連続相の場合は、形状や
大きさを制御しても光学的等方性には影響しない。不連
続相の形状や大きさを制御することで、光学フイルムの
散乱特性を調整することができる。以上の光学フイルム
は、フイルムの透過軸に平行な偏光成分に対して良好な
透過性を示すと共に、透過軸に垂直な偏光成分に対して
良好な散乱特性を大面積にわたり均一に示す。従って、
この光学フイルムは、直線偏光の選択性が優れた光散乱
型偏光選択素子として有用である。この光散乱型偏光選
択素子と光吸収型偏光素子とを組み合わせて用いること
で、光の利用効率に優れた偏光板が得られる。さらに、
この偏光板を用いることで、液晶表示装置の面内輝度の
均一性を改善することができる。
(光学的等方性連続相と光学的異方性不連続相との組み
合わせ)とは、全く逆の構成(光学的異方性連続相と光
学的等方性不連続相との組み合わせ)で光学フイルムを
製造することに成功した。光学的異方性連続相は、例え
ば、液晶性化合物を配向させることにより実現すること
ができる。光学的異方性相を連続相とすると、均一な光
学異方性を容易に実現できる。すなわち、棒状液晶性分
子のような液晶性化合物は、容易に均一に配向させるこ
とができる。また、光学的等方性相を不連続相とする
と、不連続相の形状や大きさを(光学的異方性相を不連
続相とする場合よりも)容易に制御することができる。
光学的異方性相からなる不連続相の形状や大きさを制御
しようとすると、光学的異方性が変化する可能性があ
る。光学的等方性相からなる不連続相の場合は、形状や
大きさを制御しても光学的等方性には影響しない。不連
続相の形状や大きさを制御することで、光学フイルムの
散乱特性を調整することができる。以上の光学フイルム
は、フイルムの透過軸に平行な偏光成分に対して良好な
透過性を示すと共に、透過軸に垂直な偏光成分に対して
良好な散乱特性を大面積にわたり均一に示す。従って、
この光学フイルムは、直線偏光の選択性が優れた光散乱
型偏光選択素子として有用である。この光散乱型偏光選
択素子と光吸収型偏光素子とを組み合わせて用いること
で、光の利用効率に優れた偏光板が得られる。さらに、
この偏光板を用いることで、液晶表示装置の面内輝度の
均一性を改善することができる。
【0017】
【発明の実施の形態】図1は、光学フイルムの基本的な
構成を示す断面模式図である。光学フイルムは、透明支
持体(11)上に、光学的異方性連続相(13)と光学
的等方性不連続相(14)からなる層(12)が設けら
れている。光学的異方性連続相(13)は、複屈折率が
0.05乃至1.00である。複屈折率は、遅相軸方向
の屈折率(n1:面内の最大の屈折率)と進相軸方向の
屈折率(n2:面内の最小の屈折率)との差(n1−n
2)である。光学的等方性不連続相(14)は、複屈折
率が0.05未満である。光学フイルムを偏光選択素子
として機能させる(光学的異方性連続相と光学的等方性
不連続相とからなる層を偏光選択性層として機能させ
る)ためには、n1およびn2の一方と、光学的等方性
不連続相の屈折率(n3)とを、実質的に同じ値(差が
0.05未満)に調整する。n1およびn2の他方とn
3とは、実質的に異なる値(差が0.05以上)である
ことが好ましい。屈折率が実質的に同じ値となる方向
(遅相軸または進相軸)が、偏光選択素子の透過軸に相
当する。
構成を示す断面模式図である。光学フイルムは、透明支
持体(11)上に、光学的異方性連続相(13)と光学
的等方性不連続相(14)からなる層(12)が設けら
れている。光学的異方性連続相(13)は、複屈折率が
0.05乃至1.00である。複屈折率は、遅相軸方向
の屈折率(n1:面内の最大の屈折率)と進相軸方向の
屈折率(n2:面内の最小の屈折率)との差(n1−n
2)である。光学的等方性不連続相(14)は、複屈折
率が0.05未満である。光学フイルムを偏光選択素子
として機能させる(光学的異方性連続相と光学的等方性
不連続相とからなる層を偏光選択性層として機能させ
る)ためには、n1およびn2の一方と、光学的等方性
不連続相の屈折率(n3)とを、実質的に同じ値(差が
0.05未満)に調整する。n1およびn2の他方とn
3とは、実質的に異なる値(差が0.05以上)である
ことが好ましい。屈折率が実質的に同じ値となる方向
(遅相軸または進相軸)が、偏光選択素子の透過軸に相
当する。
【0018】[透明支持体]透明支持体は、光透過率が
80%以上を有する材料から形成することが好ましい。
透明支持体としては、ポリマーフイルムを用いることが
できる。ポリマーの例には、ポリオレフィン(例、ポリ
エチレン)、ノルボルネン樹脂、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、
ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアリレート、ポ
リスルフォン、ポリエーテルスルホン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリビニルアルコール、セルロースエステル(例、
セルロースアセテート)が含まれる。二種類以上のポリ
マーの混合したフイルムを用いてもよい。市販のポリマ
ー(例、ゼオネックス、日本ゼオン(株)製;ARTO
N、日本合成ゴム(株)製;フジタック(富士写真フイ
ルム(株)製)を使用することもできる。透明支持体
は、正面から見たときに光学的等方性であることが好ま
しい。そのため、固有複屈折率が小さいポリマーを用い
ることが好ましいが、固有複屈折が大きなポリマーであ
っても、フイルムの製造条件を適宜設定することによっ
て透明支持体として使用するができる。
80%以上を有する材料から形成することが好ましい。
透明支持体としては、ポリマーフイルムを用いることが
できる。ポリマーの例には、ポリオレフィン(例、ポリ
エチレン)、ノルボルネン樹脂、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、
ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアリレート、ポ
リスルフォン、ポリエーテルスルホン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリビニルアルコール、セルロースエステル(例、
セルロースアセテート)が含まれる。二種類以上のポリ
マーの混合したフイルムを用いてもよい。市販のポリマ
ー(例、ゼオネックス、日本ゼオン(株)製;ARTO
N、日本合成ゴム(株)製;フジタック(富士写真フイ
ルム(株)製)を使用することもできる。透明支持体
は、正面から見たときに光学的等方性であることが好ま
しい。そのため、固有複屈折率が小さいポリマーを用い
ることが好ましいが、固有複屈折が大きなポリマーであ
っても、フイルムの製造条件を適宜設定することによっ
て透明支持体として使用するができる。
【0019】透明支持体は、光吸収型偏光選択素子の保
護フイルムとしての機能を有することが好ましい。保護
フイルムとしての機能を考慮すると、セルローストリア
セテートフイルムが特に好ましい。透明支持体の厚み
は、10乃至500μmが好ましく、40乃至200μ
mがさらに好ましい。透明支持体には、その上の層との
密着性を付与するため、下塗り層を設けてもよい。下塗
り層は、ポリマーの塗布により形成できる。透明支持体
がセルローストリアセテートフイルムの場合、ポリマー
としては、ゼラチン、ポリ(メタ)アクリレート、それ
らの誘導体、およびスチレン−ブタジエンコポリマーが
好ましい。透明支持体に、表面処理(例、化学処理、機
械処理、コロナ処理、グロー放電処理)を行ってもよ
い。
護フイルムとしての機能を有することが好ましい。保護
フイルムとしての機能を考慮すると、セルローストリア
セテートフイルムが特に好ましい。透明支持体の厚み
は、10乃至500μmが好ましく、40乃至200μ
mがさらに好ましい。透明支持体には、その上の層との
密着性を付与するため、下塗り層を設けてもよい。下塗
り層は、ポリマーの塗布により形成できる。透明支持体
がセルローストリアセテートフイルムの場合、ポリマー
としては、ゼラチン、ポリ(メタ)アクリレート、それ
らの誘導体、およびスチレン−ブタジエンコポリマーが
好ましい。透明支持体に、表面処理(例、化学処理、機
械処理、コロナ処理、グロー放電処理)を行ってもよ
い。
【0020】[光学的異方性連続相]光学的異方性連続
相は、層全体の20乃至95重量%であることが好まし
く、50乃至90重量%であることがさらに好ましい。
光学的異方性連続相は、外力(例、延伸、磁場)により
配向した化合物、配向した液晶場で重合させることによ
り配向したポリマー、あるいは液晶または液晶類似の化
合物を用いることで容易に形成することができる。液晶
または液晶類似の化合物を用いることが特に好ましい。
液晶としては、棒状液晶性分子が好ましい。棒状液晶性
分子としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフ
ェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステ
ル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、
シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニル
ピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類および
アルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好まし
い。なお、棒状液晶性分子には、金属錯体も含まれる。
棒状液晶性分子は、ダイレクタ(長軸方向)がフイルム
平面と平行になるように配向させることが好ましい。棒
状液晶性分子については、季刊化学総説第22巻液晶の
化学(1994年)日本化学会編の第4章、第7章、第
11章、および液晶デバイスハンドブック日本学術振興
会第142委員会編の第3章に記載がある。
相は、層全体の20乃至95重量%であることが好まし
く、50乃至90重量%であることがさらに好ましい。
光学的異方性連続相は、外力(例、延伸、磁場)により
配向した化合物、配向した液晶場で重合させることによ
り配向したポリマー、あるいは液晶または液晶類似の化
合物を用いることで容易に形成することができる。液晶
または液晶類似の化合物を用いることが特に好ましい。
液晶としては、棒状液晶性分子が好ましい。棒状液晶性
分子としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフ
ェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステ
ル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、
シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニル
ピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類および
アルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好まし
い。なお、棒状液晶性分子には、金属錯体も含まれる。
棒状液晶性分子は、ダイレクタ(長軸方向)がフイルム
平面と平行になるように配向させることが好ましい。棒
状液晶性分子については、季刊化学総説第22巻液晶の
化学(1994年)日本化学会編の第4章、第7章、第
11章、および液晶デバイスハンドブック日本学術振興
会第142委員会編の第3章に記載がある。
【0021】棒状液晶性分子の固有複屈折率は、0.0
5乃至1.00であることが好ましい。棒状液晶性分子
は、重合性基を有することが好ましい。重合性基として
は、不飽和重合性基、エポキシ基またはアジリニジル基
が好ましく、不飽和重合性基がさらに好ましく、エチレ
ン性不飽和重合性基が最も好ましい。重合性基を重合さ
せることで、棒状液晶性分子の配向状態を固定すること
ができる。棒状液晶性分子は、短軸方向に対してほぼ対
称となる分子構造を有することが好ましい。そのために
は、棒状液晶構造の両端に重合性基を有することが好ま
しい。以下に、棒状液晶性分子の例を示す。
5乃至1.00であることが好ましい。棒状液晶性分子
は、重合性基を有することが好ましい。重合性基として
は、不飽和重合性基、エポキシ基またはアジリニジル基
が好ましく、不飽和重合性基がさらに好ましく、エチレ
ン性不飽和重合性基が最も好ましい。重合性基を重合さ
せることで、棒状液晶性分子の配向状態を固定すること
ができる。棒状液晶性分子は、短軸方向に対してほぼ対
称となる分子構造を有することが好ましい。そのために
は、棒状液晶構造の両端に重合性基を有することが好ま
しい。以下に、棒状液晶性分子の例を示す。
【0022】
【化1】
【0023】
【化2】
【0024】
【化3】
【0025】
【化4】
【0026】
【化5】
【0027】
【化6】
【0028】
【化7】
【0029】
【化8】
【0030】
【化9】
【0031】
【化10】
【0032】
【化11】
【0033】
【化12】
【0034】
【化13】
【0035】液晶化合物の配向状態を固定するために、
光学的異方性連続相に、重合性化合物を添加することが
できる。重合性化合物は、加熱または光照射により重合
するモノマーであることが好ましい。モノマーの重合性
基の例には、エチレン性不飽和重合性基、イソシアナー
ト基、エポキシ基、アジリニジル基、オキサゾリル基、
アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジル基、カルボキ
シル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれ
る。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート
誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル、
ウレタンおよび金属アルコキシド(例、テトラメトキシ
シラン)も、モノマーとして用いることができる。エチ
レン性不飽和重合性化合物が特に好ましく、2以上のエ
チレン性不飽和重合性基を有する化合物が特に好まし
い。
光学的異方性連続相に、重合性化合物を添加することが
できる。重合性化合物は、加熱または光照射により重合
するモノマーであることが好ましい。モノマーの重合性
基の例には、エチレン性不飽和重合性基、イソシアナー
ト基、エポキシ基、アジリニジル基、オキサゾリル基、
アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジル基、カルボキ
シル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれ
る。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート
誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル、
ウレタンおよび金属アルコキシド(例、テトラメトキシ
シラン)も、モノマーとして用いることができる。エチ
レン性不飽和重合性化合物が特に好ましく、2以上のエ
チレン性不飽和重合性基を有する化合物が特に好まし
い。
【0036】2以上のエチレン性不飽和重合性基を含む
化合物の例には、多価アルコールと(メタ)アクリル酸
とのエステル(例、エチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、1,4−ジクロヘキサンジアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペン
タエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロ
ールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリ
トールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シク
ロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリア
クリレート、ポリエステルポリアクリレート)、ビニル
ベンゼンおよびその誘導体(例、1,4−ジビニルベン
ゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエ
ステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン)、ビニル
スルホン(例、ジビニルスルホン)、アクリルアミド
(例、メチレンビスアクリルアミド)およびメタクリル
アミドが含まれる。
化合物の例には、多価アルコールと(メタ)アクリル酸
とのエステル(例、エチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、1,4−ジクロヘキサンジアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペン
タエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロ
ールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリ
トールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シク
ロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリア
クリレート、ポリエステルポリアクリレート)、ビニル
ベンゼンおよびその誘導体(例、1,4−ジビニルベン
ゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエ
ステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン)、ビニル
スルホン(例、ジビニルスルホン)、アクリルアミド
(例、メチレンビスアクリルアミド)およびメタクリル
アミドが含まれる。
【0037】[配向層]液晶化合物から光学的異方性連
続相を形成する場合、配向層を用いて液晶化合物を配向
させる必要がある。配向層は、透明支持体と光学的異方
性連続相との間に設けることが好ましい。配向層には、
表面をラビング処理した有機化合物層、光配向層、無機
化合物の斜方蒸着層、マイクログルーブ層(例えば、レ
ジストによるパターニングにより形成)、ラングミュア
・ブロジェット膜(例えば、ω−トリコサン酸、ジオク
タデシルメチルアンモニウムクロライドあるいはステア
リル酸メチルから形成)、電場誘電配向層および磁場誘
電配向層が含まれる。
続相を形成する場合、配向層を用いて液晶化合物を配向
させる必要がある。配向層は、透明支持体と光学的異方
性連続相との間に設けることが好ましい。配向層には、
表面をラビング処理した有機化合物層、光配向層、無機
化合物の斜方蒸着層、マイクログルーブ層(例えば、レ
ジストによるパターニングにより形成)、ラングミュア
・ブロジェット膜(例えば、ω−トリコサン酸、ジオク
タデシルメチルアンモニウムクロライドあるいはステア
リル酸メチルから形成)、電場誘電配向層および磁場誘
電配向層が含まれる。
【0038】ラビング処理による配向層に用いる有機化
合物は、ポリマーまたはシランカップリング剤であるこ
とが好ましい。ポリマーの例には、ポリメチルメタクリ
レート、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリスチ
レン、ポリマレインイミド、ポリビニルアルコール、ポ
リ(N−メチロールアクリルアミド)、ポリビニルトル
エン、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロー
ス、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエス
テル、ポリイミド、ポリ酢酸ビニル、ポリエチレン、カ
ルボキシメチルセルロース、ポリプロピレンおよびポリ
カーボネートが含まれる。これらのコポリマー(例、ア
クリル酸/メタクリル酸共重合体、スチレン/マレイン
イミド共重合体、スチレン/ビニルトルエン共重合体、
酢酸ビニル/塩化ビニル共重合体、エチレン/酢酸ビニ
ル共重合体)を用いてもよい。ポリイミド、ポリスチレ
ン、ポリビニルアルコールおよびアルキル変性ポリビニ
ルアルコールが好ましい。ポリイミドは、ポリアミック
酸(例えば、日立化成(株)製LQ/LXシリーズ、日
産化学(株)製SEシリーズ)の状態で塗布し、100
乃至300℃で0.5乃至1時間焼成することが好まし
い。アルキル変性ポリビニルアルコールのアルキル基
は、炭素原子数が6以上であることが好ましい。アルキ
ル変性ポリビニルアルコールとして、市販品(例、MP
103、MP203、R1130、いずれもクラレ
(株)製)を用いてもよい。
合物は、ポリマーまたはシランカップリング剤であるこ
とが好ましい。ポリマーの例には、ポリメチルメタクリ
レート、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリスチ
レン、ポリマレインイミド、ポリビニルアルコール、ポ
リ(N−メチロールアクリルアミド)、ポリビニルトル
エン、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロー
ス、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエス
テル、ポリイミド、ポリ酢酸ビニル、ポリエチレン、カ
ルボキシメチルセルロース、ポリプロピレンおよびポリ
カーボネートが含まれる。これらのコポリマー(例、ア
クリル酸/メタクリル酸共重合体、スチレン/マレイン
イミド共重合体、スチレン/ビニルトルエン共重合体、
酢酸ビニル/塩化ビニル共重合体、エチレン/酢酸ビニ
ル共重合体)を用いてもよい。ポリイミド、ポリスチレ
ン、ポリビニルアルコールおよびアルキル変性ポリビニ
ルアルコールが好ましい。ポリイミドは、ポリアミック
酸(例えば、日立化成(株)製LQ/LXシリーズ、日
産化学(株)製SEシリーズ)の状態で塗布し、100
乃至300℃で0.5乃至1時間焼成することが好まし
い。アルキル変性ポリビニルアルコールのアルキル基
は、炭素原子数が6以上であることが好ましい。アルキ
ル変性ポリビニルアルコールとして、市販品(例、MP
103、MP203、R1130、いずれもクラレ
(株)製)を用いてもよい。
【0039】ラビング処理は、液晶表示装置用配向膜の
処理工程において広く採用されている方法により実施で
きる。基本的には、紙や布で配向層表面を一定方向に数
回擦る方法である。布としては、ガーゼやフェルトが一
般に用いられる。ゴム製、ナイロン製あるいはポリエス
テル製の布を用いてもよい。紙や布の繊維は、長さと太
さが均一であることが好ましい。
処理工程において広く採用されている方法により実施で
きる。基本的には、紙や布で配向層表面を一定方向に数
回擦る方法である。布としては、ガーゼやフェルトが一
般に用いられる。ゴム製、ナイロン製あるいはポリエス
テル製の布を用いてもよい。紙や布の繊維は、長さと太
さが均一であることが好ましい。
【0040】光配向層は、光配向性化合物を用いて形成
する。光配向性化合物は、ポリマーであることが好まし
い。光配向性ポリマーは、光配向性基を含む側鎖と炭化
水素主鎖とを有するポリマーまたはポリイミドであるこ
とが好ましく、光配向性基を含む側鎖と炭化水素主鎖と
を有するポリマーであることがさらに好ましい。光配向
性基の例には、アゾベンゼン構造、スチルベン構造、シ
ンナモイル基、カルコン構造およびクマリン構造が含ま
れる。シンナモイル基、カルコン構造およびクマリン構
造が特に好ましい。シンナモイル基を有するポリマー
(Jpn.J.Appl.Phys.,31,P.21
55(1992)記載)、カルコン構造を有するポリマ
ー(Nature,381,P.212(1998)記
載)およびクマリン構造を有するポリマー(SID’9
8.Digest,P.734(1998)に記載)
は、いずれも光二量化が可能である。光配向性化合物
は、光学異方性化合物の量の0.05乃至10重量%使
用することが好ましく、0.1乃至5重量%使用するこ
とがさらに好ましい。以下に、光配向性ポリマーの繰り
返し単位の例を示す。下記のmは、1乃至20の整数で
ある。
する。光配向性化合物は、ポリマーであることが好まし
い。光配向性ポリマーは、光配向性基を含む側鎖と炭化
水素主鎖とを有するポリマーまたはポリイミドであるこ
とが好ましく、光配向性基を含む側鎖と炭化水素主鎖と
を有するポリマーであることがさらに好ましい。光配向
性基の例には、アゾベンゼン構造、スチルベン構造、シ
ンナモイル基、カルコン構造およびクマリン構造が含ま
れる。シンナモイル基、カルコン構造およびクマリン構
造が特に好ましい。シンナモイル基を有するポリマー
(Jpn.J.Appl.Phys.,31,P.21
55(1992)記載)、カルコン構造を有するポリマ
ー(Nature,381,P.212(1998)記
載)およびクマリン構造を有するポリマー(SID’9
8.Digest,P.734(1998)に記載)
は、いずれも光二量化が可能である。光配向性化合物
は、光学異方性化合物の量の0.05乃至10重量%使
用することが好ましく、0.1乃至5重量%使用するこ
とがさらに好ましい。以下に、光配向性ポリマーの繰り
返し単位の例を示す。下記のmは、1乃至20の整数で
ある。
【0041】
【化14】
【0042】[光学的等方性不連続相]光学的等方性不
連続相は、平均粒径が0.1乃至10.0μmであるこ
とが好ましく、0.5乃至10.0μmであることがさ
らに好ましく、1.0乃至5.0μmであることが最も
好ましい。光学的等方性不連続相は、実質的に球形であ
ることが好ましい。実質的に球形であるとは、平均アス
ペクト比が2未満であることを意味する。光学的等方性
不連続相は、光学的等方性化合物の粒子(好ましくは球
形粒子)から形成できる。光学的等方性有機物および光
学的等方性無機物のいずれも用いることができる。光学
的等方性有機物は、ポリマー樹脂であることが好まし
い。ポリマー樹脂の例には、ポリメチルメタクリレート
樹脂、フッ素樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、シリコーン
樹脂、エポキシ樹脂、ナイロン樹脂、ポリスチレン樹
脂、フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂、架橋アクリル
樹脂、架橋ポリスチレン樹脂、メラミン樹脂およびベン
ゾグアナミン樹脂が含まれる。光学的等方性無機物は、
金属酸化物であることが好ましい。金属酸化物の例に
は、SiO2 、 TiO2 、Al2 O3 、In2 O3 、
ZnO、SnO2 、Sb2 O3 およびITOが含まれ
る。光学的等方性化合物は、水および有機溶剤に不溶で
あることが好ましい。
連続相は、平均粒径が0.1乃至10.0μmであるこ
とが好ましく、0.5乃至10.0μmであることがさ
らに好ましく、1.0乃至5.0μmであることが最も
好ましい。光学的等方性不連続相は、実質的に球形であ
ることが好ましい。実質的に球形であるとは、平均アス
ペクト比が2未満であることを意味する。光学的等方性
不連続相は、光学的等方性化合物の粒子(好ましくは球
形粒子)から形成できる。光学的等方性有機物および光
学的等方性無機物のいずれも用いることができる。光学
的等方性有機物は、ポリマー樹脂であることが好まし
い。ポリマー樹脂の例には、ポリメチルメタクリレート
樹脂、フッ素樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、シリコーン
樹脂、エポキシ樹脂、ナイロン樹脂、ポリスチレン樹
脂、フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂、架橋アクリル
樹脂、架橋ポリスチレン樹脂、メラミン樹脂およびベン
ゾグアナミン樹脂が含まれる。光学的等方性無機物は、
金属酸化物であることが好ましい。金属酸化物の例に
は、SiO2 、 TiO2 、Al2 O3 、In2 O3 、
ZnO、SnO2 、Sb2 O3 およびITOが含まれ
る。光学的等方性化合物は、水および有機溶剤に不溶で
あることが好ましい。
【0043】[層の形成]光学的異方性連続相と光学的
等方性不連続相とからなる層は、光学的異方性化合物と
光学的等方性化合物とを混合、分散、そして塗布するこ
とにより形成できる。塗布は、ディップコート法、エア
ーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート
法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法あるいは
エクストルージョンコート法(米国特許2681294
号明細書)により実施できる。二以上の層を同時に塗布
してもよい。二以上の層を同時に塗布する方法について
は、米国特許2761791号、同2941898号、
同3508947号、同3526528号の各明細書お
よび原崎勇次著、コーティング工学、253頁、朝倉書
店(1973)に記載がある。層の厚さは、1乃至10
0μmが好ましく、10乃至70μmがさらに好まし
い。
等方性不連続相とからなる層は、光学的異方性化合物と
光学的等方性化合物とを混合、分散、そして塗布するこ
とにより形成できる。塗布は、ディップコート法、エア
ーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート
法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法あるいは
エクストルージョンコート法(米国特許2681294
号明細書)により実施できる。二以上の層を同時に塗布
してもよい。二以上の層を同時に塗布する方法について
は、米国特許2761791号、同2941898号、
同3508947号、同3526528号の各明細書お
よび原崎勇次著、コーティング工学、253頁、朝倉書
店(1973)に記載がある。層の厚さは、1乃至10
0μmが好ましく、10乃至70μmがさらに好まし
い。
【0044】[偏光板]光散乱型偏光選択素子は、光吸
収型偏光選択素子と組み合わせた偏光板として用いるこ
とが好ましい。光散乱型偏光選択素子の透過軸(光学的
異方性相の屈折率と光学的等方性相の屈折率とが実質的
に同じである光学的異方性相の軸)と光吸収型偏光選択
素子の透過軸とは、実質的に平行になるように配置す
る。また、光入射面側が光散乱型偏光選択素子、光出射
面側が光吸収型偏光選択素子となるように配置する。光
散乱型偏光選択素子は、透明支持体が光吸収型偏光選択
素子の保護フイルムとして機能できるように、透明支持
体を光吸収型偏光選択素子側に配置することが好まし
い。得られる偏光板を液晶表示装置に用いると、光の利
用効率を改善することができる。
収型偏光選択素子と組み合わせた偏光板として用いるこ
とが好ましい。光散乱型偏光選択素子の透過軸(光学的
異方性相の屈折率と光学的等方性相の屈折率とが実質的
に同じである光学的異方性相の軸)と光吸収型偏光選択
素子の透過軸とは、実質的に平行になるように配置す
る。また、光入射面側が光散乱型偏光選択素子、光出射
面側が光吸収型偏光選択素子となるように配置する。光
散乱型偏光選択素子は、透明支持体が光吸収型偏光選択
素子の保護フイルムとして機能できるように、透明支持
体を光吸収型偏光選択素子側に配置することが好まし
い。得られる偏光板を液晶表示装置に用いると、光の利
用効率を改善することができる。
【0045】[液晶表示装置]図2は、基本的な液晶表
示装置を示す断面模式図である。図2に示す液晶表示装
置は、バックライト装置(21〜23)、光吸収型偏光
選択素子(24、26)および液晶セル(25)からな
る。図2に示すバックライト装置は、液晶セルの裏面端
部に配置されたエッジライト方式の光源(21)、光源
からの光を液晶表示装置裏面の方向へと反射する反射板
(22)および導光板(23)からなる。なお、バック
ライト装置には、導光板を用いない直下型バックライト
装置もある。図2に示す液晶表示装置では、光源(2
1)から出射された光は、下側の光吸収型偏光選択素子
(24)によって、少なくとも50%吸収されてしま
う。従って、光の利用効率は50%以下である。
示装置を示す断面模式図である。図2に示す液晶表示装
置は、バックライト装置(21〜23)、光吸収型偏光
選択素子(24、26)および液晶セル(25)からな
る。図2に示すバックライト装置は、液晶セルの裏面端
部に配置されたエッジライト方式の光源(21)、光源
からの光を液晶表示装置裏面の方向へと反射する反射板
(22)および導光板(23)からなる。なお、バック
ライト装置には、導光板を用いない直下型バックライト
装置もある。図2に示す液晶表示装置では、光源(2
1)から出射された光は、下側の光吸収型偏光選択素子
(24)によって、少なくとも50%吸収されてしま
う。従って、光の利用効率は50%以下である。
【0046】図3は、光散乱型偏光選択素子を備えた液
晶表示装置を示す断面模式図である。図3に示す液晶表
示装置は、バックライト装置(21〜23)、光吸収型
偏光選択素子(24、26)、液晶セル(25)および
光散乱型偏光選択素子(31)からなる。バックライト
装置(21〜23)、光吸収型偏光選択素子(24、2
6)および液晶セル(25)は、図2で説明した液晶表
示装置と同様である。光散乱型偏光選択素子(31)の
透過軸は、下側の光吸収型偏光選択素子(24)の透過
軸と平行となるように配置されている。光散乱型偏光選
択素子(31)は、透過軸と同じ方向の偏光を選択的に
透過する。そして、透過軸と直交する偏光の一部は、光
散乱型偏光選択素子(31)の前方散乱による偏光解消
によって偏光面が下側光吸収型偏光素子の透過軸方向に
揃えられ、光の利用効率を向上させる。また、透過軸と
直交する偏光の残りの一部は、光散乱型偏光選択素子
(31)の後方散乱によって光源側へ戻り、反射板で反
射し、再び光散乱型偏光選択素子(31)に戻って再利
用されることにより利用効率を向上させる。
晶表示装置を示す断面模式図である。図3に示す液晶表
示装置は、バックライト装置(21〜23)、光吸収型
偏光選択素子(24、26)、液晶セル(25)および
光散乱型偏光選択素子(31)からなる。バックライト
装置(21〜23)、光吸収型偏光選択素子(24、2
6)および液晶セル(25)は、図2で説明した液晶表
示装置と同様である。光散乱型偏光選択素子(31)の
透過軸は、下側の光吸収型偏光選択素子(24)の透過
軸と平行となるように配置されている。光散乱型偏光選
択素子(31)は、透過軸と同じ方向の偏光を選択的に
透過する。そして、透過軸と直交する偏光の一部は、光
散乱型偏光選択素子(31)の前方散乱による偏光解消
によって偏光面が下側光吸収型偏光素子の透過軸方向に
揃えられ、光の利用効率を向上させる。また、透過軸と
直交する偏光の残りの一部は、光散乱型偏光選択素子
(31)の後方散乱によって光源側へ戻り、反射板で反
射し、再び光散乱型偏光選択素子(31)に戻って再利
用されることにより利用効率を向上させる。
【0047】図4は、光散乱型偏光選択素子を備えた別
の液晶表示装置を示す断面模式図である。図4に示す液
晶表示装置は、バックライト装置(21〜23)、光吸
収型偏光選択素子(24、26)、液晶セル(25)、
光散乱型偏光選択素子(31)、光散乱シート(33)
および集光性フイルム(34)からなる。バックライト
装置(21〜23)、光吸収型偏光選択素子(24、2
6)および液晶セル(25)は、図2で説明した液晶表
示装置と同様である。光散乱型偏光選択素子(31)の
透過軸は、下側の光吸収型偏光選択素子(24)の透過
軸と平行となるように配置されている。光散乱型偏光選
択素子(31)と下側の光吸収型偏光選択素子(24)
とは、貼り合わされて偏光板(32)を構成している。
バックライト光源(21)から出射された光は、光散乱
シート(33)により面内で輝度が均一化され、光を正
面付近に集光する機能を有する集光性フイルム(34)
に入射する。集光性フイルム(34)は、極端に斜め方
向の(ユーザが見ることの無い)光を正面付近に集光さ
せて光の利用効率を向上させる。これにより、図3に示
した液晶表示装置よりも、光の利用効率をさらに向上さ
せることができる。また、図3に示した液晶表示装置で
は、光散乱型偏光選択素子(31)の透明支持体側の面
および下側の光吸収型偏光選択素子(24)の光入射側
の表面で反射を生ずる。そのために、光の利用効率が約
10%減少する。図4に示す装置のように、光散乱型偏
光選択素子(31)と下側の光吸収型偏光選択素子(2
4)とを一体化した偏光板として利用すると、反射が無
くなるため光の利用効率を約10%回復することができ
る。
の液晶表示装置を示す断面模式図である。図4に示す液
晶表示装置は、バックライト装置(21〜23)、光吸
収型偏光選択素子(24、26)、液晶セル(25)、
光散乱型偏光選択素子(31)、光散乱シート(33)
および集光性フイルム(34)からなる。バックライト
装置(21〜23)、光吸収型偏光選択素子(24、2
6)および液晶セル(25)は、図2で説明した液晶表
示装置と同様である。光散乱型偏光選択素子(31)の
透過軸は、下側の光吸収型偏光選択素子(24)の透過
軸と平行となるように配置されている。光散乱型偏光選
択素子(31)と下側の光吸収型偏光選択素子(24)
とは、貼り合わされて偏光板(32)を構成している。
バックライト光源(21)から出射された光は、光散乱
シート(33)により面内で輝度が均一化され、光を正
面付近に集光する機能を有する集光性フイルム(34)
に入射する。集光性フイルム(34)は、極端に斜め方
向の(ユーザが見ることの無い)光を正面付近に集光さ
せて光の利用効率を向上させる。これにより、図3に示
した液晶表示装置よりも、光の利用効率をさらに向上さ
せることができる。また、図3に示した液晶表示装置で
は、光散乱型偏光選択素子(31)の透明支持体側の面
および下側の光吸収型偏光選択素子(24)の光入射側
の表面で反射を生ずる。そのために、光の利用効率が約
10%減少する。図4に示す装置のように、光散乱型偏
光選択素子(31)と下側の光吸収型偏光選択素子(2
4)とを一体化した偏光板として利用すると、反射が無
くなるため光の利用効率を約10%回復することができ
る。
【0048】図5は、光散乱型偏光選択素子を備えた別
の液晶表示装置を示す断面模式図である。図5に示す液
晶表示装置は、バックライト装置(21〜23)、光吸
収型偏光選択素子(24、26)、液晶セル(25)、
光散乱型偏光選択素子(31)、光散乱シート(3
3)、集光性フイルム(34)、反射防止層(35)お
よびλ/4板(36)からなる。バックライト装置(2
1〜23)、光吸収型偏光選択素子(24、26)およ
び液晶セル(25)は、図2で説明した液晶表示装置と
同様である。光散乱型偏光選択素子(31)、光散乱シ
ート(33)および集光性フイルム(34)は、図3お
よび図4で説明した液晶表示装置と同様である。図5に
示す液晶表示装置では、光散乱型偏光選択素子(31)
の偏光選択層表面に反射防止層(35)を設けることに
より、偏光選択層表面での反射を減少させている。これ
により、偏光選択層内に入射する光の量を増加させるこ
とができる。従って、反射防止層(35)を設けること
で、ディスプレイの輝度が上昇する。反射防止層(3
5)は、低屈折率層一層のみ、あるいは低屈折率層と高
屈折率層との積層体として設けることができる。反射防
止層(35)は、公知文献(例えば、日本写真学会誌,
29,P.137(1966))を参照して容易に形成
できる。反射防止層(35)と光散乱型偏光選択素子
(31)との間に光散乱シート(33)や集光性フイル
ム(34)を介在させてもよい。
の液晶表示装置を示す断面模式図である。図5に示す液
晶表示装置は、バックライト装置(21〜23)、光吸
収型偏光選択素子(24、26)、液晶セル(25)、
光散乱型偏光選択素子(31)、光散乱シート(3
3)、集光性フイルム(34)、反射防止層(35)お
よびλ/4板(36)からなる。バックライト装置(2
1〜23)、光吸収型偏光選択素子(24、26)およ
び液晶セル(25)は、図2で説明した液晶表示装置と
同様である。光散乱型偏光選択素子(31)、光散乱シ
ート(33)および集光性フイルム(34)は、図3お
よび図4で説明した液晶表示装置と同様である。図5に
示す液晶表示装置では、光散乱型偏光選択素子(31)
の偏光選択層表面に反射防止層(35)を設けることに
より、偏光選択層表面での反射を減少させている。これ
により、偏光選択層内に入射する光の量を増加させるこ
とができる。従って、反射防止層(35)を設けること
で、ディスプレイの輝度が上昇する。反射防止層(3
5)は、低屈折率層一層のみ、あるいは低屈折率層と高
屈折率層との積層体として設けることができる。反射防
止層(35)は、公知文献(例えば、日本写真学会誌,
29,P.137(1966))を参照して容易に形成
できる。反射防止層(35)と光散乱型偏光選択素子
(31)との間に光散乱シート(33)や集光性フイル
ム(34)を介在させてもよい。
【0049】図5に示す液晶表示装置は、λ/4板(3
6)を用いることで、さらに光の利用効率が改善されて
いる。λ/4板(36)は、偏光板(32)とバックラ
イト光源(21)との間の任意の位置に配置することが
できる。λ/4板(36)は、偏光板の透過軸とλ/4
板の遅相軸との角度が実質的に45°(40゜乃至50
゜)になるように配置する。偏光板(32)に入射する
光は、偏光板(32)の光散乱型偏光選択素子(31)
に設けられた偏光選択層により、透過軸と直交する偏光
成分が後方散乱される。後方散乱された透過軸と直交す
る偏光成分は、λ/4板を通過して光源側に戻り、光源
周囲に設けられた反射板で反射される。反射された光は
再びλ/4板を通過して、偏光板に再度入射する。そし
て再度入射する光は、λ/4板を2度通過したことで偏
光板の透過軸に平行な偏光成分を有するように回転され
ているため、偏光板を透過することが可能となる。これ
により、光の利用効率が著しく向上させる。
6)を用いることで、さらに光の利用効率が改善されて
いる。λ/4板(36)は、偏光板(32)とバックラ
イト光源(21)との間の任意の位置に配置することが
できる。λ/4板(36)は、偏光板の透過軸とλ/4
板の遅相軸との角度が実質的に45°(40゜乃至50
゜)になるように配置する。偏光板(32)に入射する
光は、偏光板(32)の光散乱型偏光選択素子(31)
に設けられた偏光選択層により、透過軸と直交する偏光
成分が後方散乱される。後方散乱された透過軸と直交す
る偏光成分は、λ/4板を通過して光源側に戻り、光源
周囲に設けられた反射板で反射される。反射された光は
再びλ/4板を通過して、偏光板に再度入射する。そし
て再度入射する光は、λ/4板を2度通過したことで偏
光板の透過軸に平行な偏光成分を有するように回転され
ているため、偏光板を透過することが可能となる。これ
により、光の利用効率が著しく向上させる。
【0050】以上のように、光散乱型偏光選択素子、あ
るいは光散乱型偏光選択素子を備えた偏光板を液晶表示
装置に用いることにより、光の利用効率が大きくなり、
ディスプレイの輝度が上昇する。光散乱型偏光選択素子
および光散乱型偏光選択素子を備えた偏光板は、視野角
補償フイルム(特開平2−160204号、特許258
7398号の各公報に記載)と併用することもできる。
るいは光散乱型偏光選択素子を備えた偏光板を液晶表示
装置に用いることにより、光の利用効率が大きくなり、
ディスプレイの輝度が上昇する。光散乱型偏光選択素子
および光散乱型偏光選択素子を備えた偏光板は、視野角
補償フイルム(特開平2−160204号、特許258
7398号の各公報に記載)と併用することもできる。
【0051】
【実施例】[実施例1] (配向層用塗布液の調製)直鎖アルキル変性ポリビニル
アルコール(MP−203、クラレ(株)製)30g
に、水130gおよびメタノール40gを加えて攪拌、
溶解した後、孔径30μmのポリプロピレン製フィルタ
ーでろ過して、配向層用塗布液を調製した。
アルコール(MP−203、クラレ(株)製)30g
に、水130gおよびメタノール40gを加えて攪拌、
溶解した後、孔径30μmのポリプロピレン製フィルタ
ーでろ過して、配向層用塗布液を調製した。
【0052】(配向層の形成)100μmの厚さのトリ
アセチルセルロースフイルム(富士写真フイルム(株)
製)に、ゼラチン下塗り層を設けた。ゼラチン下塗り層
の上に、調製した配向層用塗布液をバーコーターを用い
て塗布し、60℃で乾燥した後、ラビング処理を行っ
て、厚さ0.5μmの配向層を形成した。
アセチルセルロースフイルム(富士写真フイルム(株)
製)に、ゼラチン下塗り層を設けた。ゼラチン下塗り層
の上に、調製した配向層用塗布液をバーコーターを用い
て塗布し、60℃で乾燥した後、ラビング処理を行っ
て、厚さ0.5μmの配向層を形成した。
【0053】(偏光選択層用塗布液の調製)重合性棒状
液晶(N26)30.1gおよび光重合開始剤(イルガ
キュア907、チバガイギー社製)0.1gを、ジクロ
ロメタン80gとシクロヘキサノン10gとの混合溶液
に溶解した。溶液を孔径30μmのテフロン(登録商
標)製フィルターでろ過して、光学的異方性連続相の溶
液を調製した。光学的異方性連続相の溶液に、光学的等
方性不連続相として、平均粒径が0.5μmの単分散球
状アクリル粒子(MX−500H、綜研化学(株)製)
10.0gを添加し、超音波分散分散して偏光選択層用
塗布液を調製した。
液晶(N26)30.1gおよび光重合開始剤(イルガ
キュア907、チバガイギー社製)0.1gを、ジクロ
ロメタン80gとシクロヘキサノン10gとの混合溶液
に溶解した。溶液を孔径30μmのテフロン(登録商
標)製フィルターでろ過して、光学的異方性連続相の溶
液を調製した。光学的異方性連続相の溶液に、光学的等
方性不連続相として、平均粒径が0.5μmの単分散球
状アクリル粒子(MX−500H、綜研化学(株)製)
10.0gを添加し、超音波分散分散して偏光選択層用
塗布液を調製した。
【0054】(偏光選択層の形成)配向層上に偏光選択
層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、100℃で
10分間配向熟成した。乾燥後、160W/cmの空冷
メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製、
波長範囲200〜500nm、最大波長365nm)を
用いて、照度200mW/cm2 、照射量400mJ/
cm2 の紫外線を照射して塗布層を硬化させた。これに
より、厚さ15μmの偏光選択層を形成し、光学フイル
ム(光散乱型偏光選択素子)を作成した。
層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、100℃で
10分間配向熟成した。乾燥後、160W/cmの空冷
メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製、
波長範囲200〜500nm、最大波長365nm)を
用いて、照度200mW/cm2 、照射量400mJ/
cm2 の紫外線を照射して塗布層を硬化させた。これに
より、厚さ15μmの偏光選択層を形成し、光学フイル
ム(光散乱型偏光選択素子)を作成した。
【0055】[実施例2] (配向層用塗布液の調製)光配向性ポリマー(PA1)
5.0gをメチルエチルケトン25.0gに溶解し、孔
径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、
配向層用塗布液を調製した。
5.0gをメチルエチルケトン25.0gに溶解し、孔
径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、
配向層用塗布液を調製した。
【0056】(配向層の形成)80μmの厚さのトリア
セチルセルロースフイルム(TAC−TD80U、富士
写真フイルム(株)製)に、上記の配向層用塗布液をバ
ーコーターを用いて塗布し、偏光紫外線露光装置
((株)ニコン技術工房製)を用いて、照度30mW/
cm2 、照射量400mJ/cm2 の直線偏光紫外線を
照射して、厚さ0.1μmの配向層を形成した。
セチルセルロースフイルム(TAC−TD80U、富士
写真フイルム(株)製)に、上記の配向層用塗布液をバ
ーコーターを用いて塗布し、偏光紫外線露光装置
((株)ニコン技術工房製)を用いて、照度30mW/
cm2 、照射量400mJ/cm2 の直線偏光紫外線を
照射して、厚さ0.1μmの配向層を形成した。
【0057】(偏光選択層用塗布液の調製)重合性棒状
液晶(N34)22.6gおよび光重合開始剤(イルガ
キュア907、チバガイギー社製)0.1gをメチルエ
チルケトン80gに溶解した。溶液を孔径30μmのテ
フロン製フィルターでろ過して、光学的異方性連続相の
溶液を調製した。光学的異方性連続相の溶液に、光学的
等方性不連続相として、平均粒径が1.5μmの単分散
球状シリカ粒子(シーホスターKE−P150、(株)
日本触媒製)7.5gを添加し、超音波分散して偏光選
択層用塗布液を調製した。
液晶(N34)22.6gおよび光重合開始剤(イルガ
キュア907、チバガイギー社製)0.1gをメチルエ
チルケトン80gに溶解した。溶液を孔径30μmのテ
フロン製フィルターでろ過して、光学的異方性連続相の
溶液を調製した。光学的異方性連続相の溶液に、光学的
等方性不連続相として、平均粒径が1.5μmの単分散
球状シリカ粒子(シーホスターKE−P150、(株)
日本触媒製)7.5gを添加し、超音波分散して偏光選
択層用塗布液を調製した。
【0058】(偏光選択層の形成)配向層上に偏光選択
層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、110℃で
10分間配向熟成した。乾燥後、160W/cmの空冷
メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製、
波長範囲200〜500nm、最大波長365nm)を
用いて、照度200mW/cm2 、照射量400mJ/
cm2 の紫外線を照射して塗布層を硬化させた。これに
より、厚さ15μmの偏光選択層を形成し、光学フイル
ム(光散乱型偏光選択素子)を作成した。
層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、110℃で
10分間配向熟成した。乾燥後、160W/cmの空冷
メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製、
波長範囲200〜500nm、最大波長365nm)を
用いて、照度200mW/cm2 、照射量400mJ/
cm2 の紫外線を照射して塗布層を硬化させた。これに
より、厚さ15μmの偏光選択層を形成し、光学フイル
ム(光散乱型偏光選択素子)を作成した。
【0059】[比較例1] (配向層の形成)100μmの厚さのトリアセチルセル
ロースフイルム(富士写真フイルム(株)製)に、ゼラ
チン下塗り層を設けた。ゼラチン下塗り層の上に、実施
例1で調製した配向層用塗布液をバーコーターを用いて
塗布し、60℃で乾燥した後、ラビング処理を行って、
厚さ0.5μmの配向層を形成した。
ロースフイルム(富士写真フイルム(株)製)に、ゼラ
チン下塗り層を設けた。ゼラチン下塗り層の上に、実施
例1で調製した配向層用塗布液をバーコーターを用いて
塗布し、60℃で乾燥した後、ラビング処理を行って、
厚さ0.5μmの配向層を形成した。
【0060】(偏光選択層用塗布液の調製)重合性棒状
液晶(N34)22.6gおよび光重合開始剤(イルガ
キュア907、チバガイギー社製)0.1gをメチルエ
チルケトン80gに溶解し、孔径30μmのテフロン製
フィルターでろ過して偏光選択層用塗布液を調製した。
液晶(N34)22.6gおよび光重合開始剤(イルガ
キュア907、チバガイギー社製)0.1gをメチルエ
チルケトン80gに溶解し、孔径30μmのテフロン製
フィルターでろ過して偏光選択層用塗布液を調製した。
【0061】(偏光選択層の形成)配向層上に偏光選択
層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、110℃で
10分間配向熟成した。乾燥後、160W/cm2 の空
冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)
製、波長範囲200〜500nm、最大波長365n
m)を用いて、照度200mW/cm2 、照射量400
mJ/cm2 の紫外線を照射して塗布層を硬化させた。
これにより、厚さ15μmの偏光選択層を形成し、光学
フイルム(光散乱型偏光選択素子)を作成した。
層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、110℃で
10分間配向熟成した。乾燥後、160W/cm2 の空
冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)
製、波長範囲200〜500nm、最大波長365n
m)を用いて、照度200mW/cm2 、照射量400
mJ/cm2 の紫外線を照射して塗布層を硬化させた。
これにより、厚さ15μmの偏光選択層を形成し、光学
フイルム(光散乱型偏光選択素子)を作成した。
【0062】(屈折率の測定)光学的異方性相と光学的
等方性相とを構成する化合物の屈折率を、アッベ屈折率
計により測定した。化合物を高屈折率ガラスに塗布し、
光学的異方性化合物の場合には、ガラス表面をアクリル
系粘着剤で汚染して化合物を垂直配向させ、測定に供し
た。光学的等方性化合物は球状の粒子であるため、文献
値を用いた。屈折率の測定結果を第1表に示す。
等方性相とを構成する化合物の屈折率を、アッベ屈折率
計により測定した。化合物を高屈折率ガラスに塗布し、
光学的異方性化合物の場合には、ガラス表面をアクリル
系粘着剤で汚染して化合物を垂直配向させ、測定に供し
た。光学的等方性化合物は球状の粒子であるため、文献
値を用いた。屈折率の測定結果を第1表に示す。
【0063】
【表1】 第1表 ──────────────────────────────────── 光学的異方性化合物 光学的等方性化合物 屈折率 n1 n2 n3 ──────────────────────────────────── 実施例1 1.58 1.48 1.48 実施例2 1.66 1.53 1.53 比較例1 1.66 1.53 なし ────────────────────────────────────
【0064】(光透過率および光散乱性(ヘイズ)の測
定)得られたフイルムの光透過率および光散乱性(ヘイ
ズ)をヘイズメーター(MODEL1001DP、日本
電色工業(株)製)を用いて測定した。測定は光源とフ
イルムの間に偏光子を挿入して行い、偏光子の透過軸と
偏光選択性フイルムの透過軸を同じにしたものを平行、
直交させたものを直交とした。光線透過率は全光線透過
率を、光散乱性はヘイズを指標として評価した。偏光選
択性がある場合、平行の方が直交に比べて高透過率、低
ヘイズとなる。光透過率と光散乱性の測定結果を第2表
に示す。
定)得られたフイルムの光透過率および光散乱性(ヘイ
ズ)をヘイズメーター(MODEL1001DP、日本
電色工業(株)製)を用いて測定した。測定は光源とフ
イルムの間に偏光子を挿入して行い、偏光子の透過軸と
偏光選択性フイルムの透過軸を同じにしたものを平行、
直交させたものを直交とした。光線透過率は全光線透過
率を、光散乱性はヘイズを指標として評価した。偏光選
択性がある場合、平行の方が直交に比べて高透過率、低
ヘイズとなる。光透過率と光散乱性の測定結果を第2表
に示す。
【0065】(フイルム面状の評価)得られたフイルム
の面状は、透過軸を直交させた2枚の偏光板の間に試料
を挟み、偏光板の間で試料の方向を回転させながら観察
した。測定結果を第2表に示す。
の面状は、透過軸を直交させた2枚の偏光板の間に試料
を挟み、偏光板の間で試料の方向を回転させながら観察
した。測定結果を第2表に示す。
【0066】
【表2】 第2表 ──────────────────────────────────── 偏光透過率 ヘイズ 面状 平行 直交 平行 直交 ──────────────────────────────────── 実施例1 80.3 58.2 8.3 30.3 均一 実施例2 50.2 30.7 34.2 57.9 均一 比較例1 40.1 38.1 42.4 44.0 (散乱の異方性なし) ────────────────────────────────────
【0067】実施例1および2のフイルムは、高い偏光
選択性を示した。このフイルムを液晶表示装置に用いる
ことにより、大きな光の利用効率向上が期待できる。比
較例1では偏光選択性を示さなかった。比較例1のフイ
ルムは、光学的異方性連続相のみで、光学的等方性不連
続相がない。そのため、比較例1のフイルムは光散乱性
が示さない。
選択性を示した。このフイルムを液晶表示装置に用いる
ことにより、大きな光の利用効率向上が期待できる。比
較例1では偏光選択性を示さなかった。比較例1のフイ
ルムは、光学的異方性連続相のみで、光学的等方性不連
続相がない。そのため、比較例1のフイルムは光散乱性
が示さない。
【0068】[実施例3]実施例1の光散乱型偏光選択
素子と通常の光吸収型偏光選択素子とをアルミニウム反
射板の上に、偏光選択層が反射板側となるようににして
置いて観察したところ、光散乱型偏光選択素子の反射板
の方がが明るく見えた。光散乱型偏光選択素子では、外
光が反射板で反射し、反射光が偏光選択層において透過
軸に平行な偏光成分のみを透過し、後方散乱した光が再
度反射板で反射して偏光選択層に到達することによっ
て、光の利用効率が向上している。
素子と通常の光吸収型偏光選択素子とをアルミニウム反
射板の上に、偏光選択層が反射板側となるようににして
置いて観察したところ、光散乱型偏光選択素子の反射板
の方がが明るく見えた。光散乱型偏光選択素子では、外
光が反射板で反射し、反射光が偏光選択層において透過
軸に平行な偏光成分のみを透過し、後方散乱した光が再
度反射板で反射して偏光選択層に到達することによっ
て、光の利用効率が向上している。
【0069】[実施例4]実施例1の光散乱型偏光選択
素子を用いて、図4に示す液晶表示装置を作成した。作
製した液晶表示装置は、正面だけでなく斜めから見たと
きも明らかに輝度の上昇が見られ、着色も全く無かっ
た。
素子を用いて、図4に示す液晶表示装置を作成した。作
製した液晶表示装置は、正面だけでなく斜めから見たと
きも明らかに輝度の上昇が見られ、着色も全く無かっ
た。
【0070】[比較例2]光散乱型偏光選択素子の代わ
りに、光学干渉による偏光選択層を有する市販の輝度上
昇フイルム(DBEF、3M製)を用いて、図4に示す
液晶表示装置を作成した。作製した液晶表示装置は、正
面から見たときは輝度が上昇しているものの、斜めから
見たときはほとんど輝度の上昇はなく、着色が観察され
た。
りに、光学干渉による偏光選択層を有する市販の輝度上
昇フイルム(DBEF、3M製)を用いて、図4に示す
液晶表示装置を作成した。作製した液晶表示装置は、正
面から見たときは輝度が上昇しているものの、斜めから
見たときはほとんど輝度の上昇はなく、着色が観察され
た。
【0071】
【図1】光学フイルムの基本的な構成を示す断面模式図
である。
である。
【図2】基本的な液晶表示装置を示す断面模式図であ
る。
る。
【図3】光散乱型偏光選択素子を備えた液晶表示装置を
示す断面模式図である。
示す断面模式図である。
【図4】光散乱型偏光選択素子を備えた別の液晶表示装
置を示す断面模式図である。
置を示す断面模式図である。
【図5】光散乱型偏光選択素子を備えたさらに別の液晶
表示装置を示す断面模式図である。
表示装置を示す断面模式図である。
11 透明支持体 12 偏光選択層 13 光学的異方性連続相 14 光学的等方性不連続相 21 光源 22 反射板 23 導光板 24 下側の光吸収型偏光選択素子 25 上側の光吸収型偏光選択素子 26 液晶セル 31 光散乱型偏光選択素子 32 偏光板 33 光散乱シート 34 集光性フイルム 35 反射防止層 36 λ/4板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H049 BA02 BA42 BA44 BB03 BB63 BC04 BC22 2H091 FA32X FB02 FB12 FC11 FC18 FC23 FC29 FC30 GA16 HA06 JA01 JA02 4F006 AA02 AB24 CA05
Claims (9)
- 【請求項1】 光学的異方性相と光学的等方性相とから
なる層が透明支持体上に設けられている光学フイルムで
あって、面内の遅相軸および進相軸の一方の軸における
光学的異方性相の屈折率と光学的等方性相の屈折率とが
実質的に同じであり、光学的異方性相が層内で連続相を
形成しており、そして、光学的等方性相が層内で不連続
相を形成していることを特徴とする光学フイルム。 - 【請求項2】 光学的異方性連続相が、液晶性化合物か
ら形成された相である請求項1に記載の光学フイルム。 - 【請求項3】 光学的異方性相と光学的等方性相とから
なる層と透明支持体との間に、配向層が設けられている
請求項2に記載の光学フイルム。 - 【請求項4】 光学的等方性不連続相が、0.1乃至1
0.0μmの平均粒径を有する請求項1に記載の光学フ
イルム - 【請求項5】 光学的等方性不連続相が、実質的に球形
である請求項1に記載の光学フイルム。 - 【請求項6】 光学的異方性相と光学的等方性相とから
なる偏光選択性層が透明支持体上に設けられている偏光
選択素子であって、面内の遅相軸および進相軸の一方の
軸における光学的異方性相の屈折率と光学的等方性相の
屈折率差とが実質的に同じであり、他方の軸における光
学的異方性相の屈折率と光学的等方性相の屈折率とが実
質的に異なり、光学的異方性相が層内で連続相を形成し
ており、そして、光学的等方性相が層内で不連続相を形
成していることを特徴とする偏光選択素子。 - 【請求項7】 偏光選択層の上に反射防止層を有する請
求項6に記載の偏光選択素子。 - 【請求項8】 光学的異方性相と光学的等方性相とから
なる偏光選択性層が透明支持体上に設けられている光散
乱型偏光選択素子と、光吸収型偏光選択素子とが積層さ
れている偏光板であって、面内の遅相軸および進相軸の
一方の軸における光学的異方性相の屈折率と光学的等方
性相の屈折率とが実質的に同じであり、他方の軸におけ
る光学的異方性相の屈折率と光学的等方性相の屈折率と
が実質的に異なり、光学的異方性相が層内で連続相を形
成しており、光学的等方性相が層内で不連続相を形成し
ており、そして、光学的異方性相の屈折率と光学的等方
性相の屈折率とが実質的に同じである光学的異方性相の
軸と光吸収型偏光選択素子の透過軸とが実質的に平行で
あることを特徴とする偏光板。 - 【請求項9】 バックライト、偏光板、液晶セル、そし
て偏光板がこの順に積層されている液晶表示装置であっ
て、バックライトと液晶セルとの間の偏光板が、光学的
異方性相と光学的等方性相とからなる偏光選択性層が透
明支持体上に設けられている光散乱型偏光選択素子と、
光吸収型偏光選択素子とが積層されている偏光板であ
り、面内の遅相軸および進相軸の一方の軸における光学
的異方性相の屈折率と光学的等方性相の屈折率とが実質
的に同じであり、他方の軸における光学的異方性相の屈
折率と光学的等方性相の屈折率とが実質的に異なり、光
学的異方性相が層内で連続相を形成しており、光学的等
方性相が層内で不連続相を形成しており、光学的異方性
相の屈折率と光学的等方性相の屈折率とが実質的に同じ
である光学的異方性相の軸と光吸収型偏光選択素子の透
過軸とが実質的に平行であり、そして、光散乱型偏光素
子が光吸収型偏光素子よりもバックライト側になるよう
に配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000095400A JP2001281447A (ja) | 2000-03-30 | 2000-03-30 | 光学フイルム、偏光選択素子、偏光板および液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000095400A JP2001281447A (ja) | 2000-03-30 | 2000-03-30 | 光学フイルム、偏光選択素子、偏光板および液晶表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001281447A true JP2001281447A (ja) | 2001-10-10 |
Family
ID=18610306
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000095400A Withdrawn JP2001281447A (ja) | 2000-03-30 | 2000-03-30 | 光学フイルム、偏光選択素子、偏光板および液晶表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001281447A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003121618A (ja) * | 2001-10-11 | 2003-04-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光散乱フイルム、光散乱フイルムの製造方法、偏光板および液晶表示装置 |
JP2004274015A (ja) * | 2003-03-11 | 2004-09-30 | Ind Technol Res Inst | フォトレジスト層のマイクログルーブに従って配列された半導体層を含む有機装置 |
WO2010001868A1 (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-07 | 旭硝子株式会社 | 光学異方性材料、光学素子および光情報記録再生装置 |
JP2010510256A (ja) * | 2006-11-24 | 2010-04-02 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | シクロヘキシレン反応性メソゲンおよびそれらの用途 |
JP2010275244A (ja) * | 2009-05-29 | 2010-12-09 | Dic Corp | 重合性化合物及び該化合物を用いた重合性組成物 |
KR101840892B1 (ko) | 2010-06-30 | 2018-03-21 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 광학적으로 대칭인 미소결정의 복굴절 층을 갖는 광학 적층체 |
-
2000
- 2000-03-30 JP JP2000095400A patent/JP2001281447A/ja not_active Withdrawn
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003121618A (ja) * | 2001-10-11 | 2003-04-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光散乱フイルム、光散乱フイルムの製造方法、偏光板および液晶表示装置 |
JP2004274015A (ja) * | 2003-03-11 | 2004-09-30 | Ind Technol Res Inst | フォトレジスト層のマイクログルーブに従って配列された半導体層を含む有機装置 |
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JP2014159428A (ja) * | 2006-11-24 | 2014-09-04 | Merck Patent Gmbh | シクロヘキシレン反応性メソゲンおよびそれらの用途 |
WO2010001868A1 (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-07 | 旭硝子株式会社 | 光学異方性材料、光学素子および光情報記録再生装置 |
US8293134B2 (en) | 2008-06-30 | 2012-10-23 | Asahi Glass Company, Limited | Optically anisotropic material, optical element and optical information writing/reading device |
JP5348136B2 (ja) * | 2008-06-30 | 2013-11-20 | 旭硝子株式会社 | 光学異方性材料、光学素子および光情報記録再生装置 |
JP2010275244A (ja) * | 2009-05-29 | 2010-12-09 | Dic Corp | 重合性化合物及び該化合物を用いた重合性組成物 |
KR101840892B1 (ko) | 2010-06-30 | 2018-03-21 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 광학적으로 대칭인 미소결정의 복굴절 층을 갖는 광학 적층체 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20070605 |