JP2002107539A

JP2002107539A - 光学フイルム、偏光板および液晶表示装置

Info

Publication number: JP2002107539A
Application number: JP2000292760A
Authority: JP
Inventors: Ichiro Amimori; 一郎網盛
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2000-09-26
Filing date: 2000-09-26
Publication date: 2002-04-10

Abstract

(57)【要約】【課題】偏光板の光利用効率を向上させ、且つその散
乱特性の制御が容易であり、かつ大面積にわたって均一
かつ大きな散乱特性を示す偏光選択性光学フイルムを得
る。【解決手段】透明支持体上に、ある偏光を選択的に透
過し、他の偏光を選択的に反射または散乱する偏光選択
層を形成し、偏光選択層を光学的等方性連続相と光学的
異方性不連続相とから構成し、フイルム面に垂直な偏光
面において、最大の全光線透過率が７５％以上であり、
最小の全光線透過率が６０％未満となるようにする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、透明支持体上に、
所定の偏光を選択的に透過し、他の偏光を選択的に反射
または散乱する偏光選択層が形成されている光学フイル
ム、およびそれを用いた偏光板と液晶表示装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】太陽光のような自然光やランプのような
通常の人為的光源からの光は無偏光（ランダム偏光）で
あるが、偏光板を用いることで偏光（直線偏光、円偏
光、楕円偏光）成分を取り出すことができる。取り出し
た偏光は、様々な光学機器に利用できる。現在広く普及
している液晶表示装置は、偏光の性質を利用して画像を
表示する装置であるとも言える。広義の偏光板には、直
線偏光板、円偏光板および楕円偏光板が含まれる。ただ
し、通常の（狭義の）偏光板は、直線偏光板を意味す
る。本明細書においても、特に規定しない「偏光板」
は、直線偏光板を意味する。直線偏光板は、最も基本的
な偏光板である。円偏光板は、一般に、直線偏光板とλ
／４板との直線偏光板の積層体である。楕円偏光板は、
一般に、直線偏光板とλ／４板以外の位相差板との積層
体である。従って、様々な（広義の）偏光板において、
直線偏光板の光学的な機能が重要である。

【０００３】直線偏光板としては、一般にポリビニルア
ルコール系フイルムからなる光吸収型偏光板が用いられ
ている。ポリビニルアルコール系偏光板は、ポリビニル
アルコール系フイルムを延伸しヨウ素または二色性染料
を吸着するのとにより製造する。偏光板の透過軸（偏光
軸）は、フイルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。
光吸収型偏光板は、偏光軸に平行な偏光成分のみを透過
して、それと直交方向の偏光成分を吸収する。従って、
光の利用効率は、理論的に５０％以下（実際にはさらに
低い値）である。

【０００４】偏光板の光の利用効率を向上させるため、
光吸収型偏光板に代えて、または光吸収型偏光板に加え
て、光散乱型偏光板を使用することが提案されている。
光散乱型偏光板も、光吸収型偏光板と同様に、偏光軸と
平行な偏光成分のみを透過する。ただし、光散乱型偏光
板では、偏光軸と直交方向の偏光成分を吸収せずに前方
もしくは後方に散乱し、偏光板の光の利用効率を向上さ
せる。光散乱型偏光板による光の利用効率改善の機構は
以下のように複数ある。

【０００５】（Ａ）前方散乱光の偏光解消によるもの光散乱型偏光板では、偏光軸と直交方向の偏光成分は前
方もしくは後方に散乱される。このうち前方散乱された
光が偏光解消され、前方散乱光の偏光方向が入射光の偏
光方向から回転することにより、光散乱型偏光板の偏光
軸方向の偏光成分が入射光よりも増加する。光散乱型偏
光子において、厚み方向に多数の粒子が存在する場合に
は、多重散乱により偏光解消の程度が強くなる。このよ
うに、散乱型偏光板を使用する場合には、前方散乱光の
偏光解消により光吸収型偏光板のみを使用する場合より
も光の利用効率が向上する。

【０００６】（Ｂ）後方散乱光の再利用（偏光解消）に
よるもの光散乱型偏光板の偏光軸と直交方向の偏光成分のうち後
方散乱された光は、後方散乱される際に偏光解消され
る。後方散乱された光は、光源であるバックライトの背
面に配置された金属反射板により反射され、再度光散乱
型偏光板へ入射する。ここで、再入射する光は後方散乱
する際に偏光解消を受け、散乱型偏光板の偏光軸と平行
方向の偏光成分が生じており、この偏光成分は散乱型偏
光子を透過する。このように、光散乱型偏光子による後
方散乱と金属反射板での反射を繰り返すことにより光の
利用効率を向上させることができる。

【０００７】（Ｃ）後方散乱光の再利用（偏光方向の回
転）によるもの λ／４板と金属反射板とを配置した光学系に、λ／４板
の遅相軸と４５°をなすように直線偏光を入射させる
と、偏光方向が入射光と９０°回転した反射光が戻って
くる。光散乱型偏光板と金属反射板（バックライトの背
面に配置される）との間に、λ／４板を光散乱型偏光板
の偏光軸とλ／４板の遅相軸が４５°をなすように配置
することによって上記と同じ効果が得られる。光散乱型
偏光板において後方散乱された光の偏光方向の分布は、
光散乱型偏光板の偏光軸と直交方向が大きい。この後方
散乱された光がλ／４板を透過して金属反射板により反
射され再度、光散乱型偏光板に入射する光の偏光方向の
分布は、光散乱型偏光板の偏光軸に平行方向に大きくな
っており、偏光軸に平行な偏光成分は光散乱型偏光板を
透過する。このように、光散乱型偏光板と金属反射板と
の間にλ／４板を配置することにより、光の利用効率を
向上させることができる。

【０００８】光散乱型偏光板については、特開平８−７
６１１４号、同９−２７４１０８号、同９−２９７２０
４号、特表平１１−５０２０３６号、同１１−５０９０
１４号の各公報および米国特許５７８３１２０号、同５
８２５５４３号、同５８６７３１６号明細書に記載があ
る。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】従来の光散乱型偏光板
のうち、特開平８−７６１１４号、同９−２７４１０８
号、特表平１１−５０２０３６号、同１１−５０９０１
４号の各公報および米国特許５７８３１２０号、同５８
２５５４３号、同５８６７３１６号明細書に開示されて
いる光散乱型偏光板は、光吸収型偏光板と同様にポリマ
ーフイルムの延伸により製造している。ポリマーフイル
ムの延伸による製造方法では、２．０倍以上の高い延伸
倍率を必要とするため、フイルム面内の延伸むらが生じ
やすく、大面積にわたって均一な散乱特性を得ることは
困難である。特表平１１−５０２０３６号公報記載の光
散乱型偏光板は、ポリマーフイルム中に液晶を分散し、
電場または磁場を印加する方法で光学的異方性化合物
（液晶）を配向させている。しかし、電場または磁場を
大面積に均一に印加することは困難であり、大面積にわ
たって均一な散乱特性を得ることは困難である。しかも
上記のような光散乱型偏光板の面内の散乱特性の不均一
性は、液晶表示装置の面内の輝度のむらにつながる。本
発明の目的は、偏光板の光利用効率を向上させ、且つそ
の散乱特性の制御が容易であり、かつ大面積にわたって
均一かつ大きな散乱特性を示す偏光選択性光学フイルム
を提供することである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記
（１）〜（７）の光学フイルム、下記（８）の偏光板お
よび下記（９）、（１０）の液晶表示装置により達成さ
れた。（１）透明支持体上に、所定の偏光を選択的に透過し、
他の偏光を選択的に反射または散乱する偏光選択層が形
成されている光学フイルムであって、偏光選択層が光学
的等方性連続相と光学的異方性不連続相とからなり、フ
イルム面に垂直な偏光面において、最大の全光線透過率
が７５％以上であり、最小の全光線透過率が６０％未満
であることを特徴とする光学フイルム。

【００１１】（２）フイルム面内の方向において、光学
的等方性連続相と光学的異方性不連続相との最小の屈折
率差が０．０５未満である（１）に記載の光学フイル
ム。（３）光学的異方性不連続相が液晶性化合物を含む
（１）に記載の光学フイルム。（４）液晶性化合物の固有複屈折が０．１０以上である
（３）に記載の光学フイルム。（５）液晶性化合物が重合性基を有する（３）に記載の
光学フイルム。（６）光学的異方性不連続相が、１．０μｍ以下の平均
粒径を有する（１）に記載の光学フイルム。（７）偏光選択層が、３．０倍以下の延伸により形成さ
れている（１）に記載の光学フイルム。

【００１２】（８）所定の偏光を選択的に透過し、他の
偏光を選択的に反射または散乱する偏光選択層を有する
光散乱型偏光選択素子と、所定の偏光を選択的に透過
し、他の偏光を選択的に吸収する偏光選択層を有する光
吸収型偏光選択素子とが積層されている偏光板であっ
て、光散乱型偏光選択素子の偏光選択層が光学的等方性
連続相と光学的異方性不連続相とからなり、光散乱型偏
光選択素子のフイルム面に垂直な偏光面において、最大
の全光線透過率が７５％以上であり、最小の全光線透過
率が６０％未満であり、そして、全光線透過率が最大と
なる偏光面を有する軸と光吸収型偏光選択素子の透過軸
とが実質的に平行であることを特徴とする偏光板。（９）透明電極、画素電極を有する一対の基板と、その
基板間に液晶性化合物が封入された液晶セルとその外側
に配置された一対の偏光板からなる液晶表示装置におい
て、該液晶セルのバックライト側偏光板とバックライト
との間に（１）に記載の光学フイルムを配置しているこ
とを特徴とする液晶表示装置。

【００１３】（１０）バックライト、偏光板、液晶セ
ル、そして偏光板がこの順に積層されている液晶表示装
置であって、バックライトと液晶セルとの間の偏光板
が、所定の偏光を選択的に透過し、他の偏光を選択的に
反射または散乱する偏光選択層を有する光散乱型偏光選
択素子と、所定の偏光を選択的に透過し、他の偏光を選
択的に吸収する偏光選択層を有する光吸収型偏光選択素
子とが積層されている偏光板であり、光散乱型偏光選択
素子の偏光選択層が光学的等方性連続相と光学的異方性
不連続相とからなり、光散乱型偏光選択素子のフイルム
面に垂直な偏光面において、最大の全光線透過率が７５
％以上であり、最小の全光線透過率が６０％未満であ
り、そして、全光線透過率が最大となる偏光面を有する
軸と光吸収型偏光選択素子の透過軸とが実質的に平行で
あることを特徴とする液晶表示装置。なお、本明細書に
おいて、「光学的等方性」とは複屈折が０．０５未満で
あることを意味し、「光学的異方性」とは複屈折が０．
０５以上であることを意味する。

【００１４】

【発明の効果】本発明の偏光選択層は、あらかじめ液晶
や酸化チタンのような複屈折性微粒子結晶が分散された
塗布液を塗布のみによって、あるいは熱または光照射す
ることにより相分離を引き起こして白濁している。この
うち連続相は複屈折０．０５未満の光学的等方性を有
し、不連続相（分散相）は複屈折０．０５以上の光学的
異方性を有しているが、その異方性の一方の軸から見た
屈折率が光学的に等方な相の屈折率とほぼ同じ場合、偏
光面がその軸を含む面内に所定の偏光は散乱することな
く透過する。一方、この偏光と直交する偏光面を有する
偏光は光学的異方相と光学的等方相の屈折率差によって
散乱する。不連続相中の光学的異方性は、特に液晶性化
合物の場合１．３倍以下のわずかな延伸によって自発的
に配向するため、容易に大きな複屈折を得ることができ
るが、散乱軸の散乱性は散乱軸における光学的等方相の
屈折率と光学的異方相の屈折率の差が大きいほど大きく
なるため、本発明の光学フイルムは大きな偏光選択性が
得られる。また本発明の光学フイルムにおいて、延伸工
程は１．３倍以下、好ましくは１．２倍以下、より好ま
しくは１．１倍以下の極めて低延伸倍率で形成できるた
め、大面積にわたって均一な散乱特性が得られる。この
方法は、電場や磁場による製造方法に比べると簡便に大
面積で配向させることができ、しかも他の製造方法に比
べると簡便に不連続相の大きな複屈折が得られるため、
結果として大面積にわたって均一かつ大きな散乱特性が
得られる。

【００１５】以上のように、本発明の光学フイルムで
は、１．３倍以下の低延伸によって光散乱型偏光板とし
て必要な光学的性質を容易に達成することができる。必
要な光学特性を達成した光散乱型偏光板を用いること
で、前記前方散乱偏光解消型、後方散乱偏光解消型、後
方散乱偏光回転型のいずれか方式により偏光板の光の利
用効率を著しく向上することができる。

【００１６】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の光学フイルムの
基本的な構成を示す断面模式図である。図１に示す光学
フイルムではいずれも、透明支持体１１上において、偏
光選択層１２が不連続相１３と連続相１４に相分離して
いる。不連続相１３は複屈折を有する光学異方性化合物
からなり、不連続相の二つの屈折率ｎ１と屈折率ｎ２
は、用いる光学的異方性化合物の性質あるいは不連続相
内における配向度により異なる。光学フイルムが偏光選
択性光学フイルムとして機能するためには、ｎ１とｎ２
の一方が連続相の屈折率と実質的に等しい値、すなわち
０．０５未満となることが必要である。屈折率が実質的
に等しくなるｎ１またはｎ２の方向が、偏光選択層の透
過軸に相当する。

【００１７】図２は、最も基本的な液晶表示装置の構成
を示す模式図である。一般的な液晶表示装置は、光源と
して最裏面にエッジライト方式のバックライト光源２１
を配置し、裏面より順にバックライトの光を表面に出射
させる反射板２２および導光板２３とからなる。中には
導光板を用いない直下型バックライト使用タイプもある
が、本発明の光学フイルムはいずれにも効果がある。光
源の上には両側を２枚の従来の光吸収型偏光板２４、２
５により挟持されてなる液晶セル２６があり、これによ
り画像表示機能を有する。光源から出射された光は下側
偏光板２４によって、少なくとも５０％吸収されるた
め、この構成で

【００１８】図３は、本発明の光学フイルムを用いた液
晶表示装置の各種構成例を示す模式図である。図３の
（ａ）は、本発明の光学フイルムの効果を示す単純な構
成例である。本発明の光学フイルム３１によって、光吸
収型偏光板２４の透過軸と同じ方向の偏光は選択的に透
過し、偏光板透過軸と直交する偏光は一部は前方散乱に
よる偏光解消によって偏光面が透過軸方向に揃えられる
ことにより利用効率が向上し、一部は後方散乱によって
光源側へ戻り、導光板等で偏光解消されて反射板で反射
し、再び光学フイルム３１に戻って再利用されることに
より利用効率が向上する。

【００１９】図３の（ｂ）は、本発明の光学フイルムを
偏光板の保護膜として用いた光散乱型偏光板３２を、さ
らに他の機能を有するフイルムと組み合わせた構成例で
ある。光源から出射された光は散乱シート３３により面
内で輝度が均一化され、光を所定方向に集光する機能を
有するフイルム３４により、ユーザが見ることの無い極
端に斜め方向の光を。正面付近に集光させて利用効率を
向上させる。このフイルムでは逆にユーザが見る可能性
のある正面よりやや斜め方向の光を減少させるが、本発
明の偏光板によって適度に拡散され、図３−ａと同様の
原理で輝度を向上させると共に自然な輝度の視野角分布
が得られることになる。また、図３−ａの構成では本発
明の光学フイルム３１の偏光選択層と反対側の面および
光吸収型偏光板表面で反射があるため光の利用効率が約
１０％減少するが、偏光板の保護膜として用いることに
よりこの反射面が無くなるため、これだけでも光の利用
効率は約１０％増加する。

【００２０】図３の（ｃ）は、本発明の光学フイルムあ
るいは偏光板の輝度向上機能を更に良化した液晶表示装
置の構成例である。偏光選択層の表面に直接または他の
層を介して反射防止層３５を付与することにより、表面
での反射を減少させ、偏光選択層内に入射する光量を増
加させることができる。さらに前記後方散乱偏光回転型
のように、本発明の偏光板３２の下側にλ／４板３６を
用いることにより、後方散乱された光散乱型偏光板の透
過軸と直交する偏光が２度λ／４板を通過することによ
り光散乱型偏光板の透過軸に偏光面を有するように回転
され、光の利用効率を向上させることができる。

【００２１】透明支持体としては、透明である限り特に
限定されない。光線透過率が８０％以上のものが好まし
く、また正面から見たときに光学的等方性を有するもの
が好ましい。従って、透明支持体は小さい固有複屈折を
有する材料が好ましい。このような材料としてはゼオネ
ックス、ゼオノア（日本ゼオン（株）製）、ＡＲＴＯＮ
（ＪＳＲ（株）製）、およびフジタック（富士写真フイ
ルム（株）製：トリアセチルセルロース）のような市販
品を使用することができる。さらにポリカーボネート、
ポリエステル、ポリアリレート、ポリスルホンおよびポ
リエーテルスルホンのような固有複屈折の大きい素材で
あっても、溶液流延、溶融押し出し等の条件、さらには
縦、横方向の延伸条件を適宜設定することにより得るこ
とができる。偏光板の偏光層を保護する保護フイルムを
透明支持体として用いる場合には、トリアセチルセルロ
ースが特に好ましい。透明支持体の厚みは１０乃至５０
０μｍが好ましく、４０乃至２００μｍが特に好まし
い。

【００２２】透明支持体上には、隣接する層との密着性
を付与するために下塗り層を設けてもよい。このような
下塗り層を形成する素材は特に限定されないが、例えば
トリアセチルセルロース上においてはゼラチンやポリ
（メタ）アクリレート樹脂及びその置換体、スチレン−
ブタジエン樹脂等が用いられる。また、化学処理、機械
処理、コロナ処理、グロー放電処理等の表面処理を行っ
てもよい。

【００２３】不連続相に含まれる光学的異方性化合物と
しては、配向して光学的異方性を発現すれば特に限定さ
れない。このような化合物の例としては、液晶または複
屈折を有する無機化合物結晶等が挙げられる。不連続相
は偏光選択層のうち５乃至９５重量％、好ましくは１０
乃至８０重量％、より好ましくは２０乃至５０重量％含
まれる。

【００２４】液晶としては、棒状液晶性分子が好ましく
用いられる。棒状液晶性分子としては、アゾメチン類、
アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエス
テル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン
酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン
類、シアノ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキ
サン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベン
ゾニトリル類が好ましい。なお、棒状液晶性分子には、
金属錯体も含まれる。棒状液晶性分子については、季刊
化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４年）日本化学会
編の第４章、第７章および第１１章、および液晶デバイ
スハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３
章に記載がある。

【００２５】棒状液晶性分子の固有複屈折は０．１０乃
至１．００であることが好ましい。棒状液晶性分子は、
重合性基を有することが好ましい。重合性基としては、
不飽和重合性基、エポキシ基またはアジリニジル基が好
ましく、不飽和重合性基がさらに好ましく、エチレン性
不飽和重合性基が最も好ましい。棒状液晶性分子は、短
軸方向に対してほぼ対称となる分子構造を有することが
好ましい。そのためには、棒状液晶構造の両端に重合性
基を有することが好ましい。以下に、棒状液晶性分子の
例を示す。

【００２６】

【化１】

【００２７】

【化２】

【００２８】

【化３】

【００２９】

【化４】

【００３０】

【化５】

【００３１】

【化６】

【００３２】

【化７】

【００３３】

【化８】

【００３４】

【化９】

【００３５】

【化１０】

【００３６】

【化１１】

【００３７】

【化１２】

【００３８】

【化１３】

【００３９】連続相に含まれる光学的等方性化合物とし
ては、偏光選択層中において光学的に等方性であれば限
定されない。ここで光学的等方性とは複屈折が０．０５
未満を指す。つまり光学的異方性化合物も偏光選択層中
において等方性であれば光学的等方性化合物として用い
ることができる。中でも高分子化合物または熱または電
離放射線照射により重合するモノマーは、層を形成する
バインダとしても用いることができるため好ましい。ま
た、不連続相に用いる液晶性化合物の多くは有機溶剤に
可溶であるため、塗布のみによって相分離構造を得るた
めには液晶が水溶性高分子化合物を含む水相に分散され
た塗布液を用ればよい。しかも溶媒として水を用いるこ
とは環境への影響も小さいため、水溶性高分子化合物が
特に好ましい。また、分散安定性および延伸時の液晶配
向性の観点から、ポリビニルアルコールまたは変性ポリ
ビニルアルコールが最も好ましい。連続相は温度や湿度
のような外部環境による影響を受けないことが好ましい
ため、架橋していることが好ましい。連続相は偏光選択
層のうち５乃至９５重量％、好ましくは２０乃至９０重
量％、より好ましくは５０乃至８０重量％含まれる。

【００４０】高分子化合物としては水溶性でも有機溶剤
可溶性でも構わない。水溶性高分子化合物の例として
は、ゼラチン、アガロース、セルロース、ポリビニルア
ルコールとそれらの誘導体、あるいはポリアクリル酸、
ポリガラクツロン酸、ポリアルギン酸とそれらの塩が挙
げられる。有機溶剤可溶性高分子化合物の例としては、
セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジ
アセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリ
ルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニト
ロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリ
エステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチ
レンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメ
チレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェ
ノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブ
チレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオ
タクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリ
プロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポ
リスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、
ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレートおよび
ポリエーテルケトンが挙げられる。

【００４１】熱または電離放射線照射により重合するモ
ノマーの例としては、エチレン性不飽和重合性基、イソ
シアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリ
ン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カ
ルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基の
他、ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート
誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルお
よびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アル
コキシド等を含む化合物が挙げられる。中でも光により
容易に重合させられることからエチレン性不飽和重合性
基を含む化合物が好ましく、重合後、熱による影響を小
さくする点で２以上のエチレン性不飽和重合性基を含む
化合物が特に好ましい。２以上のエチレン性不飽和重合
性基を含む化合物の例としては、多価アルコールと（メ
タ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコール
ジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジア
クリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アク
リレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリ
レート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレ
ート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレー
ト、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレー
ト、１，３，５−シクロヘキサントリオールトリアクリ
レート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステル
ポリアクリレート）、ビニルベンゼンおよびその誘導体
（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸
−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニル
シクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルス
ルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリル
アミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。

【００４２】連続相に水溶性高分子化合物を用いる場
合、分散粒径を小さくし、分散安定性を付与するために
界面活性剤を添加しても良い。界面活性剤としては特に
限定されず、ノニオン性、イオン性（アニオン、カチオ
ン、ベタイン）いずれも使用できる。ノニオン系界面活
性剤としては、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピ
レン、ポリオキシブチレン、ポリグリシジルやソルビタ
ンをノニオン性親水性基とする界面活性剤であり、具体
的には、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオ
キシエチレンアルキルフェニールエーテル、ポリオキシ
エチレン−ポリオキシプロピレングリコール、多価アル
コール脂肪酸部分エステル、ポリオキシエチレン多価ア
ルコール脂肪酸部分エステル、ポリオキシエチレン脂肪
酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸ジ
エタノールアミド、トリエタノールアミン脂肪酸部分エ
ステルを挙げることができる。アニオン系界面活性剤と
してはカルボン酸塩、硫酸塩、スルフォン酸塩、リン酸
エステル塩であり、代表的なものとしては脂肪酸塩、ア
ルキルベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンス
ルフォン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、α―オレフィ
ンスルフォン酸塩、ジアルキルスルフォコハク酸塩、α
―スルフォン化脂肪酸塩、Ｎ−メチルーＮオレイルタウ
リン、石油スルフォン酸塩、アルキル硫酸塩、硫酸化油
脂、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリ
オキシエチレンアルキルフェニールエーテル硫酸塩、ポ
リオキシエチレンスチレン化フェニールエーテル硫酸
塩、アルキルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエ
ーテルリン酸塩、ナフタレンスルフォン酸塩ホルムアル
デヒド縮合物などが挙げられる。カチオン系界面活性剤
としてはアミン塩、４級アンモニウム塩、ピリジュム塩
などを挙げることができ、第一〜第３脂肪アミン塩、第
４級アンモニウム塩（テトラアルキルアンモニウム塩、
トリアルキルベンジルアンモニウム塩、アルキルピリジ
ウム塩、アルキルイミダゾリウム塩など）を挙げること
が出来る。両性系界面活性剤としてはカルボキシベタイ
ン、スルフォベタインなどであり、Ｎ−トリアルキル−
Ｎ−カルボキシメチルアンモニウムベタイン、Ｎ−トリ
アルキル−Ｎ−スルフォアルキレンアンモニウムベタイ
ンなどが挙げられる。

【００４３】これらの界面活性剤は、界面活性剤の応用
（幸書房、刈米孝夫著、昭和55年9月1日発行）に記載さ
れている。本発明においては、好ましい界面活性剤はそ
の使用量において特に限定されず、目的とする界面活性
特性が得られる量であればよい。なお、これらな界面活
性剤の使用量は、不連続相の液晶１ｇあたり、０．００
１乃至１ｇが好ましく。０．０１乃至０．１ｇが特に好
ましい。

【００４４】偏光選択層は、ディップコート法、エアー
ナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート
法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクス
トルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細
書）等により、塗布により形成することができる。二以
上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法につい
ては、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８
号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細
書および原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝
倉書店（１９７３）に記載がある。偏光選択層は１乃至
１００μｍが好ましく、１０乃至７０μｍがより好まし
い。

【００４５】偏光選択層は上記方法によって、バンドま
たはドラムのような無端支持体、あるいは透明支持体に
塗布した後、剥ぎ取ってから延伸し、透明支持体にラミ
ネートしてもよいし、透明支持体に塗布した後、そのま
ま延伸して用いるかまたは別の透明支持体とラミネート
または別の透明支持体に転写して形成してもよい。延伸
倍率は特に不連続相が液晶性化合物の場合、ヨウ素系吸
収型偏光板のように４乃至１０倍もの高延伸倍率は必要
でないため、生産性の観点から３．０倍以下が好まし
く、２．０倍以下がより好ましく、１．５倍以下が特に
好ましい。また、延伸効果の観点で、延伸倍率は、１．
０１倍以上であることが好ましい。

【００４６】延伸工程を容易にするため、連続相の化合
物のガラス転移温度を低下させる化合物を添加しても良
い。連続相の化合物のガラス転移温度を低下させる化合
物としては特に限定されないが、例えばジブチルフタレ
ートやトリフェニルフォスフェート、あるいはグリセリ
ン等が挙げられる。連続相に水溶性高分子化合物を用い
る場合、グリセリンが特に好ましい。

【００４７】不連続相の偏光選択層の全光線透過率が最
大となる偏光の偏光面を含む軸方向の屈折率（ｎ１）と
全光線透過率が最小となる偏光の偏光面を含む軸方向の
屈折率（ｎ２）との差の絶対値である複屈折（｜ｎ１−
ｎ２｜）は、０．０５乃至１．０であることが好まし
く、０．１０乃至１．０であることがさらに好ましく、
０．１５乃至１．０であることが最も好ましい。連続相
は複屈折が０．０５未満であればよく、屈折率としては
光学的異方性化合物のｎ１またはｎ２のいずれかとの差
が０．０５未満、好ましくは０．０１未満、より好まし
くは０．００１未満であればよい。連続相と不連続相の
屈折率の関係が上記の関係を満足することにより、光学
フイルムが偏光選択性光学フイルムとして機能する。連
続相と不連続相の屈折率が実質的に等しい値、すなわち
０．０５未満となる方向が、偏光選択層の透過軸に相当
する。

【００４８】本発明の偏光選択性光学フイルムを用いた
光散乱型偏光板は、一般に光吸収型偏光板と積層して用
いられる。光散乱型偏光板の透過軸と光吸収型偏光板の
透過軸とが実質的に平行になるように貼合し、この積層
体を液晶セルの２枚の偏光板のうちバックライト側偏光
板として、且つ偏光板の偏光選択性層をバックライト側
へ向けて配置する。また、バックライトの背面には金属
反射板が配置される。

【００４９】光散乱型偏光板の偏光選択層側表面に反射
防止層を付与することができる。反射防止層により表面
反射が減少し、結果としてディスプレイの輝度を上昇さ
せることができる。この反射防止層は例えば日本写真学
会誌，２９，Ｐ．１３７（１９６６）に知られているよ
うな低屈折率層と高屈折率層の積層体でも、低屈折率層
を１層のみ設けたものでも良い。

【００５０】光散乱型偏光板および光吸収型偏光板の積
層体とバックライトとの間に、さらにλ／４板を配置す
ることが好ましい。ここで、光散乱型偏光板および光吸
収型偏光板の透過軸とλ／４板の遅相軸とが実質的に４
５°になるように配置することにより、後方散乱偏光回
転型で光の利用効率を上げることができる。

【００５１】偏光選択性光学フイルムあるいは光散乱型
偏光板を液晶表示装置に用いることにより、光の利用効
率が大きくなり、結果としてディスプレイの輝度が上昇
する。輝度を上昇させるためには、全光線透過率が最大
となる偏光面での透過率Ｔｍａｘが７５％以上、最小と
なる偏光面での透過率Ｔｍｉｎが６０％以下であること
が好ましく、Ｔｍａｘが８０％以上、Ｔｍｉｎが５０％
以下であることがより好ましく、Ｔｍａｘが８５％以
上、Ｔｍｉｎが４０％以下であることが特に好ましい。

【００５２】偏光選択性光学フイルムは、透明電極、画
素電極を有する一対の基板と、その基板間に液晶性化合
物が封入された液晶セルとその外側に配置された一対の
偏光板からなる液晶表示装置において、該液晶セルのバ
ックライト側偏光板の表面に粘着剤等を用いて貼り合わ
せて用いることができる。光散乱型偏光板は、透明電
極、画素電極を有する一対の基板と、その基板間に液晶
性化合物が封入された液晶セルとその外側に配置された
一対の偏光板からなる液晶表示装置において、該液晶セ
ルのバックライト側偏光板として用い、且つ偏光選択性
層をバックライト側へ向けて配置して用いることができ
る。また、本発明の偏光選択性光学フイルムあるいは光
散乱型偏光板は、特開平２−１６０２０４号公報や特許
２５８７３９８号に記載されているような視野角補償フ
イルムと併用することもできる。

【００５３】

【実施例】（偏光選択層用塗布液Ａの調製）４’−ペン
チル−４−ビフェニルカルボニトリル４００ｇをポリメ
チルメタクリレートのメチルエチルケトン２０重量％溶
液５００ｇに混合し、孔径３０μｍのテフロン（登録商
標）製フィルターでろ過して、偏光選択層用塗布液Ａを
調製した。

【００５４】（偏光選択層用塗布液Ｂの調製）４’−ペ
ンチル−４−ビフェニルカルボニトリル１００ｇをポリ
ビニルアルコール（ＰＶＡ２０５、クラレ（株）製）の
２０重量％水溶液１５００ｇに混合し、超音波分散によ
りこの液を分散して偏光選択層用塗布液Ｂを調製した。

【００５５】（偏光選択層用塗布液Ｃの調製）重合性棒
状液晶（Ｎ２６）４８ｇ、ジペンタエリスリトールペン
タアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１．０
ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー
社製）１．０ｇを酢酸エチル１５０ｇに溶解し、孔径３
０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、不連
続相用重合性液晶溶液Ｏ−１液を調製した。一方、ポリ
ビニルアルコール（ＰＶＡ２０５、クラレ（株）製）２
０重量％水溶液２０００ｇに、界面活性剤としてドデシ
ルベンゼンスルホン酸ナトリウム４．０ｇを添加、溶解
後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過
して、連続相用水溶液Ｗ−１液を調製した。Ｏ−１液２
００ｇとＷ−１液２００ｇを混合した液を、超音波分散
によりこの液を分散して偏光選択層用塗布液Ｃを調製し
た。

【００５６】（偏光選択層用塗布液Ｄの調製）４’−ペ
ンチル−４−ビフェニルカルボニトリル１００ｇを前記
Ｗ−１液１５００ｇに混合し、超音波分散によりこの液
を分散して偏光選択層用塗布液Ｄを調製した。

【００５７】（偏光選択層用塗布液Ｅの調製）ポリビニ
ルアルコール（ＰＶＡ２０５、クラレ（株）製）１００
ｇ、アルキル変性ポリビニルアルコール（ＭＰ２０３、
クラレ（株）製）３００ｇ、界面活性剤としてドデシル
ベンゼンスルホン酸ナトリウム０．２ｇ、可塑剤として
グリセリン２．０ｇを水１６００ｇに溶解し、連続相用
水溶液Ｗ−２を調整した。４’−ペンチル−４−ビフェ
ニルカルボニトリル１００ｇ、グルタルアルデヒド４ｇ
を前記Ｗ−２液１５００ｇに混合し、超音波分散により
この液を分散して偏光選択層用塗布液Ｅを調製した。

【００５８】（偏光選択層用塗布液Ｆの調製）４’−ペ
ンチル−４−ビフェニルカルボニトリル４００ｇをポリ
カーボネートのメチレンクロライド５重量％溶液２００
０ｇに混合し、孔径３０μｍのテフロン製フィルターで
ろ過して、偏光選択層用塗布液Ｆを調製した。

【００５９】（偏光選択層用塗布液Ｇの調製）ビフェニ
ル１００ｇをポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５、ク
ラレ（株）製）の２０重量％水溶液１５００ｇに混合
し、７０℃にて超音波分散によりこの液を分散して偏光
選択層用塗布液Ｇを調製した。

【００６０】［実施例１］偏光層用塗布液Ａをダイを用
いてバンド流延、乾燥し、厚み４０μｍとなるようにし
た。このフイルムをバンドから剥ぎ取り、ドライで２５
℃にて１．１倍延伸の後、そのままケン化した厚さ８０
μｍのトリアセチルセルロースフイルム（富士写真フイ
ルム（株）製）にポリビニルアルコール（ＰＶＡ１１
７、クラレ（株））５重量％水溶液を糊としてラミネー
トした。このフイルムを１２０℃で乾燥し、光学フイル
ムを作成した。

【００６１】［実施例２］偏光層用塗布液Ｂをダイを用
いてバンド流延、乾燥し、厚み４０μｍとなるようにし
た。このフイルムを含水率１０％の状態でバンドから剥
ぎ取り、そのままケン化した厚さ８０μｍのトリアセチ
ルセルロースフイルム（富士写真フイルム（株）製）ラ
ミネートした。このフイルムを１２０℃で乾燥し、光学
フイルムを作成した。

【００６２】［実施例３］偏光層用塗布液Ｂをダイを用
いてバンド流延、乾燥し、厚み４０μｍとなるようにし
た。このフイルムをバンドから剥ぎ取り、ドライで２５
℃にて１．１倍延伸の後、そのままケン化した厚さ８０
μｍのトリアセチルセルロースフイルム（富士写真フイ
ルム（株）製）にポリビニルアルコール（ＰＶＡ１１
７、クラレ（株））５重量％水溶液を糊としてラミネー
トした。このフイルムを１２０℃で乾燥し、光学フイル
ムを作成した。

【００６３】［実施例４］偏光層用塗布液Ｃをダイを用
いて厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム
上に塗布、乾燥し、偏光層の厚みが３０μｍとなるよう
にした。このフイルムを支持体ごとドライで１１５℃に
て１．２５倍延伸の後、９０℃で２分間熟成してから、
１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラ
フィックス（株）製、波長範囲２００〜５００ｎｍ、最
大波長３６５ｎｍ）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ
２、照射量４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して不連
続相を硬化させ、光学フイルムを作成した。

【００６４】［実施例５］偏光層用塗布液Ｄをダイを用
いてバンド流延、乾燥し、厚み４０μｍとなるようにし
た。このフイルムをバンドから剥ぎ取り、ドライで２５
℃にて１．１倍延伸の後、そのままゼラチン下塗りした
厚さ１００μｍのトリアセチルセルロースフイルム（富
士写真フイルム（株）製）にポリビニルアルコール（Ｐ
ＶＡ１１７、クラレ（株））５重量％水溶液を糊として
ラミネートした。このフイルムを１２０℃で乾燥し、光
学フイルムを作成した。

【００６５】［実施例６］偏光層用塗布液Ｅをダイを用
いてバンド流延、乾燥し、厚み１００μｍとなるように
した。このフイルムをバンドから剥ぎ取り、ドライで２
５℃にて１．２倍延伸の後、そのままケン化した厚さ８
０μｍのトリアセチルセルロースフイルム（富士写真フ
イルム（株）製）にポリビニルアルコール（ＰＶＡ１１
７、クラレ（株））５重量％水溶液を糊としてラミネー
トした。このフイルムを１２０℃で乾燥し、光学フイル
ムを作成した。

【００６６】［実施例７］偏光層用塗布液Ｅをダイを用
いてバンド流延、乾燥し、厚み４０μｍとなるようにし
た。このフイルムをバンドから剥ぎ取り、ドライで２５
℃にて１．２倍延伸した。次いでホウ酸１００ｇ／ｌの
水溶液中に７０℃にて５分間浸漬し、さらに水洗層で２
０℃、１０秒間水洗して、さらに８０℃で５分間乾燥
し、そのままケン化したトリアセチルセルロースフイル
ム（富士写真フイルム（株）製）にポリビニルアルコー
ル（ＰＶＡ１１７、クラレ（株））５重量％水溶液を糊
としてラミネートした。このフイルムを１２０℃で乾燥
し、光学フイルムを作成した。

【００６７】［比較例１］偏光層用塗布液Ｆをダイを用
いてバンド流延、乾燥し、厚み４０μｍとなるようにし
た。このフイルムをバンドから剥ぎ取り、ドライで２５
℃にて１．１倍延伸の後、そのままケン化した厚さ８０
μｍのトリアセチルセルロースフイルム（富士写真フイ
ルム（株）製）に市販の粘着剤を介してラミネートし
た。このフイルムを１２０℃で乾燥し、光学フイルムを
作成した。

【００６８】［比較例２］偏光層用塗布液Ｇをダイを用
いてバンド流延、乾燥し、厚み４０μｍとなるようにし
た。このフイルムをバンドから剥ぎ取り、ドライで２５
℃にて１．１倍延伸の後、そのままケン化した厚さ８０
μｍのトリアセチルセルロースフイルム（富士写真フイ
ルム（株）製）にポリビニルアルコール（ＰＶＡ１１
７、クラレ（株））５重量％水溶液を糊としてラミネー
トした。このフイルムを１２０℃で乾燥し、光学フイル
ムを作成した。

【００６９】［比較例３］延伸しない他は実施例４と同
様にして、光学フイルムを作成した。

【００７０】（偏光選択性光学フイルムの評価）１．複屈折連続相の複屈折は不連続相を含まないフイルムに関して
同じ延伸倍率で延伸したフイルムについてＭＤおよびＴ
Ｄ方向の屈折率をアッベ屈折率計により測定した。２．光線透過率、光散乱性（ヘイズ）得られたフイルムの光線透過率および光散乱性（ヘイ
ズ）をヘイズメーターＭＯＤＥＬ１００１ＤＰ（日本
電色工業（株）製）を用いて測定した。測定は光源とフ
イルムの間に偏光子を挿入して行い、偏光子の透過軸と
偏光選択層の透過軸を同じにしたものを平行、直交させ
たものを直交として。光線透過率は全光線透過率を、光
散乱性はヘイズを指標として評価した。偏光選択性があ
る場合、平行の方が直交に比べて高透過率、低ヘイズと
なる。３．不連続相粒径得られたフイルムの偏光選択層の不連続相粒径は、ミク
ロトームにて断面を切削し、走査型電子顕微鏡にて５０
００倍で観察した写真から、任意に１００個の不連続相
を抽出し、円相当半径に換算して測定した。

【００７１】評価結果を第１表に示す。実施例１から７
の透過率はいずれも平行では６０％以下、直交で７５％
以上となり高い偏光選択性を示した。実施例１と４が他
に比べてやや偏光選択性が小さいが、これはいずれも不
連続相の粒径が大きいことが影響している。不連続相が
小さい方が液晶分子の配向度が大きくなるためである。
また実施例４については液晶分子の固有複屈折が小さい
ことも一因である。実施例２は、延伸工程がなかったに
も関わらず偏光選択性を示しているが、これは剥ぎ取り
時の応力によって不連続相の液晶が配向したためと考え
られる。また実施例３、４、６、７の光学フイルムを４
０℃、８０％ＲＨの高湿下にて３日間保存したところ、
実施例３と６は著しくカールしてほとんど偏光選択性を
示さなくなったのに対し、実施例４は偏光選択性が全く
変わらなかった。これは重合性液晶によって配向が固定
化されたためと考えられる。実施例７はわずかに偏光選
択性が悪化した。これは連続相が架橋によって湿度の影
響を受け難くなったためと考えられる。比較例１から３
はほとんど偏光選択性を示さなかった。比較例１は連続
相の複屈折が大きく、しかも延伸方向の屈折率が大きく
なるため、不連続相との屈折率差の異方性が小さくなっ
たためである。比較例２は不連続相に液晶性を示さない
化合物を用いたため、延伸によってほとんど分子が配向
しなかったためと考えられる。比較例３は全く延伸して
いないため、不連続相の液晶分子が配向しなかったため
である。

【００７２】

【表１】第１表 ──────────────────────────────────── 光学全光線透過率ヘイズ不連続相フイルム複屈折平行直交平行直交の粒径 ──────────────────────────────────── 実施例１＜０．０１５６．７７８．６７８．１３４．８２．１μｍ実施例２＜０．０１５２．５８８．８８５．５１９．００．３μｍ実施例３＜０．０１５１．４９０．７８５．２１５．００．３μｍ実施例４＜０．０１５８．４８０．１７４．３２７．４１．５μｍ実施例５＜０．０１５０．５８９．６８３．１１８．８０．３μｍ実施例６＜０．０１４９．２９０．１８４．１１３．５０．３μｍ実施例７＜０．０１４８．７９０．０８３．０１３．８０．３μｍ比較例１０．１１７２．３７５．２３９．１４２．３２．５μｍ比較例２＜０．０１８２．７８９．３２４．３７．８０．６μｍ比較例３＜０．０１７８．１８０．４３６．３３１．９１．５μｍ ────────────────────────────────────

【００７３】［実施例８］市販のヨウ素系偏光板の片側
の保護フイルムを、偏光選択層のないケン化されたトリ
アセチルセルロース面をヨウ素を含有する偏光層と貼り
合わせるように実施例７のフイルムに置き換え、実施例
８の光散乱偏光板を作成した。

【００７４】［実施例９］偏光層用塗布液Ｅをダイを用
いてバンド流延、乾燥し、厚み４０μｍとなるようにし
た。このフイルムをバンドから剥ぎ取り、ドライで２５
℃にて１．２倍延伸した。次いで既に６倍に延伸された
ヨウ素吸着したポリビニルアルコールフイルムと圧着の
みのよってラミネートし、そのフイルムをホウ酸１００
ｇ／ｌの水溶液中に７０℃にて５分間浸漬し、さらに水
洗層で２０℃、１０秒間水洗して、さらに８０℃で５分
間乾燥し、そのままケン化したトリアセチルセルロース
フイルム（富士写真フイルム（株）製）にポリビニルア
ルコール（ＰＶＡ１１７、クラレ（株））５重量％水溶
液を糊として両面をラミネートした。このフイルムを１
２０℃で乾燥し、実施例９の光散乱偏光板を作成した。

【００７５】実施例８および９の光散乱偏光板と通常の
偏光板をアルミニウムでできた反射板の上に偏光選択層
を反射板側にして置いて観察したところ、光散乱偏光板
の方が反射板が明るく見えた。これは外光が反射板で反
射し、反射光が偏光選択層において透過軸の偏光のみ透
過し、後方散乱した光が再度反射板で反射して偏光選択
層に到達することによって光の利用効率が上がったこと
を示している。また、これら光散乱偏光板を４０℃、８
０％ＲＨの高湿下にて３日間保存したところ、実施例８
は輝度上昇効果が小さくなったのに対し、実施例９は変
化がなかった。

【００７６】［実施例１０、実施例１１、比較例４］実
施例６の光学フイルムを用いて図３−ａの通り実施例１
０の液晶表示装置を作成した。さらに実施例９の光散乱
偏光板を用いて図３−ｂの通り実施例１１の液晶表示装
置を作成した。また光学干渉による偏光選択層を有する
市販の輝度上昇フイルム（ＤＢＥＦ、３Ｍ製）を用いて
比較例４の液晶表示装置を作成した。本発明の光学フイ
ルムおよび光散乱偏光板を用いた液晶表示装置は、正面
だけでなく斜めから見たときも明らかに輝度の上昇が見
られた。一方、比較例４は正面は輝度が上昇しているも
のの、斜めから見たときはほとんど輝度の上昇はなかっ
た。

【図面の簡単な説明】

【図１】光学フイルムの基本的な構成を示す断面模式図
である。

【図２】基本的な液晶表示装置を示す断面模式図であ
る。

【図３】本発明の光学フイルムを用いた液晶表示装置の
各種構成例を示す模式図である。

【符号の説明】

１１透明支持体１２偏光選択層１３連続相１４不連続相２１バックライト光源２２反射板２３導光板２４下側光吸収型偏光板２５上側光吸収型偏光板２６液晶セル３１偏光選択性光学フイルム（本発明）３２光散乱型偏光板（本発明）３３散乱シート３４集光性フイルム３５反射防止層３６ λ／４板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０９Ｆ 9/00 ３２４Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５３０Ｆターム(参考） 2H049 BA02 BA23 BA42 BA44 BA47 BB01 BB03 BB33 BB43 BB44 BB45 BB46 BB49 BB65 BC03 BC22 2H091 FA08X FA08Z FA11Z FA12Z FA16Z FA23Z FA32Z FA42Z FB02 FB06 FD06 LA18 LA30 4F100 AJ06A AK21B AK25B AL05B AT00A BA02 BA10A BA10B BA15 BA41B EJ37 GB41 GB90 JN01A JN08B JN10B JN30B YY00B 4J100 AL08P AL66P AL74P BA02P BA04P BA05P BA15P BA40P BA45P BA46P BA94P BB01P BB07P BC04P BC43P BC49P BC58P BC73P BD04P BD07P CA01 JA32 5G435 AA00 BB12 EE25 EE27 FF05 GG01 KK05 KK07

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明支持体上に、所定の偏光を選択的に
透過し、他の偏光を選択的に反射または散乱する偏光選
択層が形成されている光学フイルムであって、偏光選択
層が光学的等方性連続相と光学的異方性不連続相とから
なり、フイルム面に垂直な偏光面において、最大の全光
線透過率が７５％以上であり、最小の全光線透過率が６
０％未満であることを特徴とする光学フイルム。
【請求項２】フイルム面内の方向において、光学的等
方性連続相と光学的異方性不連続相との最小の屈折率差
が０．０５未満である請求項１に記載の光学フイルム。
【請求項３】光学的異方性不連続相が液晶性化合物を
含む請求項１に記載の光学フイルム。
【請求項４】液晶性化合物の固有複屈折が０．１０以
上である請求項３に記載の光学フイルム。
【請求項５】液晶性化合物が重合性基を有する請求項
３に記載の光学フイルム。
【請求項６】光学的異方性不連続相が、１．０μｍ以
下の平均粒径を有する請求項１に記載の光学フイルム。
【請求項７】偏光選択層が、３．０倍以下の延伸によ
り形成されている請求項１に記載の光学フイルム。
【請求項８】所定の偏光を選択的に透過し、他の偏光
を選択的に反射または散乱する偏光選択層を有する光散
乱型偏光選択素子と、所定の偏光を選択的に透過し、他
の偏光を選択的に吸収する偏光選択層を有する光吸収型
偏光選択素子とが積層されている偏光板であって、光散
乱型偏光選択素子の偏光選択層が光学的等方性連続相と
光学的異方性不連続相とからなり、光散乱型偏光選択素
子のフイルム面に垂直な偏光面において、最大の全光線
透過率が７５％以上であり、最小の全光線透過率が６０
％未満であり、そして、全光線透過率が最大となる偏光
面を有する軸と光吸収型偏光選択素子の透過軸とが実質
的に平行であることを特徴とする偏光板。
【請求項９】透明電極、画素電極を有する一対の基板
と、その基板間に液晶性化合物が封入された液晶セルと
その外側に配置された一対の偏光板からなる液晶表示装
置において、該液晶セルのバックライト側偏光板とバッ
クライトとの間に請求項１に記載の光学フイルムを配置
していることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１０】バックライト、偏光板、液晶セル、そ
して偏光板がこの順に積層されている液晶表示装置であ
って、バックライトと液晶セルとの間の偏光板が、所定
の偏光を選択的に透過し、他の偏光を選択的に反射また
は散乱する偏光選択層を有する光散乱型偏光選択素子
と、所定の偏光を選択的に透過し、他の偏光を選択的に
吸収する偏光選択層を有する光吸収型偏光選択素子とが
積層されている偏光板であり、光散乱型偏光選択素子の
偏光選択層が光学的等方性連続相と光学的異方性不連続
相とからなり、光散乱型偏光選択素子のフイルム面に垂
直な偏光面において、最大の全光線透過率が７５％以上
であり、最小の全光線透過率が６０％未満であり、そし
て、全光線透過率が最大となる偏光面を有する軸と光吸
収型偏光選択素子の透過軸とが実質的に平行であること
を特徴とする液晶表示装置。