JP2001281414A

JP2001281414A - 反射防止フィルム

Info

Publication number: JP2001281414A
Application number: JP2000100969A
Authority: JP
Inventors: Kiyotaka Takematsu; 清隆竹松; Fumihiro Arakawa; 文裕荒川; Hiroko Suzuki; 裕子鈴木
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2000-04-03
Filing date: 2000-04-03
Publication date: 2001-10-10

Abstract

(57)【要約】【課題】従来技術において、透明導電性薄膜および低
屈折率層形成に時間がかかり、加工速度が遅かった点、
および透明導電性薄膜の耐腐食性が十分でなかった点を
解消しようとするものである。【解決手段】透明基材フィルム１上に、ハードコート
層３、低屈折率層４ａ、高屈折率層５および低屈折率層
４ｂを順次積層した構造とし、かつ、高屈折率層を、合
金からなる導電性光吸収膜で形成することにより、上記
の課題を解決することができた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレ
イ、ＣＲＴ（陰極線管）ディスプレイ、もしくはプラズ
マディスプレイパネル等のディスプレイの前面に貼る等
して使用する反射防止フィルムと、その製造方法に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に表示を目的とするディスプレイを
外光の当たる場所で見ようとすると、ディスプレイパネ
ルの前面で外光が反射するため、見づらいものである。
また、ディスプレイパネルにはごみが付着しやすく、Ｃ
ＲＴのように、電子ビームが前面に当たっているもので
は帯電が起きやすく、接触した人との間で放電し、不快
な感じを与える。またディスプレイの前面は手で触った
り、付着したごみを拭う際に傷が付く可能性が大きい。

【０００３】そこで、ディスプレイの前面に、透明フィ
ルムにハードコート層と透明導電性層とを設けた反射防
止フィルムを配置して、傷付き防止、帯電防止、および
反射防止を図ることが行なわれている。代表的な構成
は、透明基材フィルム上に、傷付き防止のためポリメチ
ルメタクリレート樹脂等のハードコート層を積層し、そ
の上に帯電防止のために酸化インジウム錫（錫をドープ
したＩｎ₂０₃で、ＩＴＯと呼ばれる）等の透明導電性薄
膜を積層し、さらにその上に反射防止のために透明導電
性薄膜よりも屈折率の低い、低屈折率薄膜、例えばＳｉ
Ｏ₂の薄膜を形成したものである。

【０００４】しかし、上記の構成の反射防止フィルムに
おいては、透明導電性薄膜としては４０ｎｍ〜１００ｎ
ｍ程度の厚みが必要であり、ＳｉＯ₂の薄膜としても５
０ｎｍ〜１１０ｎｍ程度の厚みが必要であるため、スパ
ッタ法等で薄膜を形成しようとすると、時間がかかるた
め、加工速度が遅くなる欠点がある。またＩＴＯ等の透
明導電性薄膜は、透明性は優れているものの、金属導電
とは異なり、半導体的導電性であるために、酸化度によ
って導電性が変化し、不安定であるという欠点がある。
さらに、上記の構成の反射防止フィルムでは、人間が眩
しいと感じる可視光領域（波長４５０ｎｍ〜６５０ｎ
ｍ）の赤色光側および青色光側の反射率が充分に低下せ
ず、前記波長領域での反射率低下が実現しないので、眩
しさが残る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明におい
ては、上記の従来の技術において、透明導電性薄膜およ
び低屈折率層形成に時間がかかり、加工速度が遅かった
点、透明導電性薄膜の耐腐食性が十分でなかった点、お
よび人間が眩しいと感じる可視光領域（波長４５０ｎｍ
〜６５０ｎｍ）での反射率が一定しない点を解消しよう
とするものである。

【０００６】

【課題を解決する手段】本発明においては、ハードコー
ト層上の高屈折率層および低屈折率層の構成に代えて、
低屈折率層、高屈折率層および低屈折率層の３種の層を
用い、かつ、高屈折率層を合金で形成した構成とするこ
とにより、上記の課題を解決することができた。

【０００７】第１の発明は、透明基材フィルム上に、ハ
ードコート層、低屈折率層、高屈折率層、および低屈折
率層とが順に積層されており、前記高屈折率層は、金属
もしくは合金からなる導電性光吸収膜であることを特徴
とする反射防止フィルムに関するものである。第２の発
明は、第１の発明において、前記高屈折率層を構成する
導電性光吸収膜が、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｚ
ｎ、Ｚｒ、Ｍｏ、およびＴａからなる群より選ばれた金
属、もしくは２種類以上の金属の合金であることを特徴
とする反射防止フィルムに関するものである。第３の発
明は、第１または第２の発明において、前記低屈折率層
が、ＳｉＯ₂からなることを特徴とする反射防止フィル
ムに関するものである。第４の発明は、第１〜第３の発
明において、前記低屈折率層が、プラズマＣＶＤ法、蒸
着法、スパッタリング法、もしくはゾル−ゲル法、また
はそれらの併用により形成されたものであることを特徴
とする請求項１〜３いずれかの反射防止フィルムに関す
るものである。第５の発明は、第１の発明において、前
記ハードコート層は、硬化性樹脂組成物が架橋硬化した
膜からなることを特徴とする反射防止フィルムに関する
ものである。第６の発明は、第１または第５の発明にお
いて、前記ハードコート層は、プライマー層を介して透
明基材フィルム上に積層されていることを特徴とする反
射防止フィルムに関するものである。第７の発明は、前
記ハードコート層の上面が微細な凹凸を有していること
を特徴とする請求項１、５、または６記載の反射防止フ
ィルムに関するものである。第８の発明は、第１〜第７
いずれかの発明において、最上層に防汚層が積層されて
いることを特徴とする反射防止フィルムに関するもので
ある。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明の反射防止フィルムは、例
えば、図１に示すように、透明基材フィルム１上に、プ
ライマー層２、ハードコート層３、低屈折率層４ａ、合
金の薄膜からなる高屈折率層５、低屈折率層４ｂ、およ
び防汚層６が順に積層されたものである。

【０００９】図１においては、反射防止層を構成する各
層を表面が平坦な層として描いてあるが、例えば、ハー
ドコート層３は図２に示すように、上面が凹凸７を有し
ていてもよく、このハードコート層３の上面の凹凸に沿
って、その上の各層、即ち、低屈折率層４ａ、合金の薄
膜からなる高屈折率層５、低屈折率層４ｂ、および防汚
層６が形成されていてもよい。各層を構成する素材、各
層の形成方法について、次に述べる。

【００１０】透明基材フィルム１としては、透明性、平
滑性を備え、異物の混入のないものが好ましく、また、
加工上および使用上の理由で機械的強度があるものが好
ましい。さらに、反射防止フィルムにディスプレイの熱
が伝わって来るような場合には、耐熱性があるものが好
ましい。

【００１１】一般的に透明基材フィルム１として好まし
いものは、セルロースジアセテート、セルローストリア
セテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエス
テル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォ
ン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペン
テン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエ
ーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネ
ート、もしくはポリウレタン等の熱可塑性樹脂のフィル
ムである。

【００１２】写真用乳剤を塗布した写真用フィルムの場
合に、よく用いられるポリエステルや、透明性が高く光
学的に異方性がないので、やはり写真用フィルムによく
用いられるセルローストリアセテート等が通常、好まし
い。

【００１３】なお、これらの熱可塑性樹脂のフィルムは
フレキシブルで使いやすいが、取り扱い時も含めて曲げ
る必要が全くなく、硬いものが望まれるときは、上記の
樹脂の板やガラス板等の板状のものも使用できる。厚み
としては、８〜１０００μｍ程度が好ましいが、板状の
ものの場合には、この範囲を超えてもよい。

【００１４】上記の透明基材フィルム１には、その上に
形成する層との接着性の向上のために、通常、行なわれ
得る各種の処理、即ち、コロナ放電処理、酸化処理等の
物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと
呼ばれる塗料の塗布を予め行なって、プライマー層２を
形成しておいてもよい。

【００１５】ハードコート層３は、本発明の反射防止フ
ィルムの表面の傷付きが起きないよう、耐擦傷性を向上
させるためのものである。傷が付くのは、傷の原因とな
る物質との硬度の差によるためであり、場合によっては
熱可塑性の樹脂を樹脂成分とする組成物で構成してもよ
いが、一般的には熱硬化性樹脂を樹脂成分とする組成物
を硬化させたもので構成することが好ましく、フレキシ
ブルさを備えている点でポリウレタン樹脂等を樹脂成分
とする組成物等を用いて構成することが好ましい。さら
に一層の効果を望む場合には、電離放射線硬化性樹脂、
もしくは電離放射線硬化性化合物を含む電離放射線硬化
性組成物を電離放射線の照射によって架橋硬化させたも
ので構成することである。ハードコート層３のハードさ
としては、ＪＩＳＫ５４００で示す鉛筆硬度試験で
「Ｈ」以上の硬度を示すことが好ましい。

【００１６】電離放射線硬化性組成物としては、分子中
に重合性不飽和結合または、エポキシ基を有するプレポ
リマー、オリゴマー、及び／又はモノマーを適宜に混合
したものである。電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子
線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有
するものを指し、通常は、紫外線又は電子線を用いる。

【００１７】電離放射線硬化性組成物中のプレポリマ
ー、オリゴマーの例としては、不飽和ジカルボン酸と多
価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類、ポリ
エステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレー
ト、ポリオールメタクリレート、メラミンメタクリレー
ト等のメタクリレート類、ポリエステルアクリレート、
エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエ
ーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミ
ンアクリレート等のアクリレート、カチオン重合型エポ
キシ化合物が挙げられる。

【００１８】電離放射線硬化性組成物中のモノマーの例
としては、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン
系モノマー、アクリル酸メチル、アクリル酸−２−エチ
ルヘキシル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ブ
トキシエチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メトキシ
ブチル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステル
類、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタク
リル酸プロピル、メタクリル酸メトキシエチル、メタク
リル酸エトキシメチル、メタクリル酸フェニル、メタク
リル酸ラウリル等のメタクリル酸エステル類、アクリル
酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチル、アクリル
酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル、アクリル
酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ）メチル、アクリ
ル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）プロピル等の不
飽和置換の置換アミノアルコールエステル類、アクリル
アミド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミ
ド、エチレングリコールジアクリレート、プロピレング
リコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジア
クリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレー
ト、トリエチレングリコールジアクリレート等の化合
物、ジプロピレングリコールジアクリレート、エチレン
グリコールジアクリレート、プロピレングリコールジメ
タクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート
等の多官能性化合物、及び／又は分子中に２個以上のチ
オール基を有するポリチオール化合物、例えばトリメチ
ロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロール
プロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトール
テトラチオグリコレート等が挙げられる。

【００１９】通常、電離放射線硬化性組成物中のモノマ
ーとしては、以上の化合物を必要に応じて、１種若しく
は２種以上を混合して用いるが、電離放射線硬化性組成
物に通常の塗布適性を与えるために、前記のプレポリマ
ー又はオリゴマーを５重量％以上、前記モノマー及び／
又はポリチオール化合物を９５重量％以下とするのが好
ましい。

【００２０】電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化さ
せたときのフレキシビリティーが要求されるときは、モ
ノマー量を減らすか、官能基の数が１又は２のアクリレ
ートモノマーを使用するとよい。電離放射線硬化性組成
物を塗布し、硬化させたときの耐摩耗性、耐熱性、耐溶
剤性が要求されるときは、官能基の数が３つ以上のアク
リレートモノマーを使う等、電離放射線硬化性組成物の
設計が可能である。ここで、官能基が１のものとして、
２−ヒドロキシアクリレート、２−ヘキシルアクリレー
ト、フェノキシエチルアクリレートが挙げられる。官能
基が２のものとして、エチレングリコールジアクリレー
ト、１，６−ヘキサンジオールジアクリレートが挙げら
れる。官能基が３以上のものとして、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリア
クリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクレリート等が挙
げられる。

【００２１】電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化さ
せたときのフレキシビリティーや表面硬度等の物性を調
整するため、電離放射線硬化性組成物に、電離放射線照
射では硬化しない樹脂を添加することもできる。具体的
な樹脂の例としては次のものがある。ポリウレタン樹
脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリ
エステル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポ
リ酢酸ビニル等の熱可塑性樹脂である。中でも、ポリウ
レタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹
脂等の添加がフレキシビリティーの向上の点で好まし
い。

【００２２】電離放射線硬化性組成物の塗布後の硬化が
紫外線照射により行われるときは、光重合開始剤や光重
合促進剤を添加する。光重合開始剤としては、ラジカル
重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノ
ン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用
いる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場
合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳
香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロ
ン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は
混合物として用いる。光重合開始剤の添加量は、電離放
射線硬化性組成物１００重量部に対し、０．１〜１０重
量部である。

【００２３】電離放射線硬化性組成物には、次のような
有機反応性ケイ素化合物を併用してもよい。

【００２４】有機ケイ素化合物の１は、一般式Ｒ_mＳｉ
（ＯＲ’）_nで表せるもので、ＲおよびＲ’は炭素数１
〜１０のアルキル基を表し、Ｒの添え字ｍとＲ’の添え
字ｎとは、各々が、ｍ＋ｎ＝４の関係を満たす整数であ
る。

【００２５】具体的には、テトラメトキシシラン、テト
ラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラ
ン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブト
キシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ
−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシ
ラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テト
ラペンタ−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−
ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラ
ン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチル
トリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メ
チルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、
ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、
ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、
ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メ
チルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等
が挙げられる。

【００２６】電離放射線硬化性組成物に併用し得る有機
ケイ素化合物の２は、シランカップリング剤である。

【００２７】具体的には、γ−（２−アミノエチル）ア
ミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエ
チル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ
−メタクリロキシプロピルメトキシシラン、Ｎ−β−
（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロ
ピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシ
シラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプト
プロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリ
メトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリ
ス（β−メトキシエトキシ）シラン、オクタデシルジメ
チル［３−（トリメトキシシリル）プロピル］アンモニ
ウムクロライド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジ
クロロシラン等が挙げられる。

【００２８】電離放射線硬化性組成物に併用し得る有機
ケイ素化合物の３は、電離放射線硬化性ケイ素化合物で
ある。具体的には、電離放射線の照射によって反応し架
橋する複数の官能基、例えば、重合性二重結合基を有す
る分子量５，０００以下の有機ケイ素化合物が挙げら
れ、より具体的には、片末端ビニル官能性ポリシラン、
両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能ポリ
シロキサン、両末端ビニル官能ポリシロキサン、又はこ
れらの化合物を反応させたビニル官能性ポリシラン、も
しくはビニル官能性ポリシロキサン等が挙げられる。

【００２９】より具体的には、次のような化合物であ
る。

【００３０】

【化１】

【００３１】その他、電離放射線硬化性組成物に併用し
得る有機ケイ素化合物としては、３−（メタ）アクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリ
ロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の（メタ）ア
クリロキシシラン化合物等が挙げられる。

【００３２】ハードコート層３は、以上のような組成物
を用いて、公知のコーティング法により、透明基材フィ
ルム上に塗布し、塗布に用いた組成物に応じた手段によ
り塗膜を硬化させる。組成物として電離放射線硬化性組
成物を用いた場合には、その組成により、紫外線もしく
は電子線を選択して照射し、塗膜を架橋硬化させる。ハ
ードコート層３の厚みは、好ましくは０．５〜３０μ
ｍ、より好ましくは３〜１５μｍである。ハードコート
層３の厚みは薄すぎると、その上に形成する各層の硬度
を維持できなくなり、また厚すぎると、反射防止フィル
ム全体のフレキシブルさを低下させ、また、硬化に時間
がかかる等、生産効率の低下をまねく。

【００３３】ハードコート層３の上面は、図２に示すよ
うに凹凸７を形成することにより、透明基材フィルム側
からのディスプレイの入射光を散乱させ、反射防止フィ
ルムの特定の部分の輝度が高くなって不自然な「ぎらつ
き」を起こすのを緩和させることができる。凹凸７の形
成は、ハードコート層３を透明基材フィルム２上に塗布
形成する際に、凹凸を有する型付け用フィルムで塗膜を
被覆したまま固化させるか、形成された塗膜に型付け用
ロール等の型付け手段を、必要に応じて加熱しつつ押し
付けて行なうか、あるいは、剥離面に凹凸を有する剥離
性基材上にハードコート層３を塗布形成して転写シート
を作成し、その転写シートを用いて転写する等によれば
よい。凹凸７の程度は、凹凸の高低差が０．２〜１０μ
ｍ、ピッチが２０〜２００μｍ程度がよい。

【００３４】低屈折率層４ａは、ＳｉＯ₂からなる薄膜
であり、プラズマＣＶＤ法、蒸着法、スパッタリング
法、もしくはＳｉＯ₂ゾルを含むゾル液からＳｉＯ₂ゲル
膜を形成する方法（＝ゾル−ゲル法）により上記のハー
ドコート層３上に形成されたものであって、これらのう
ちの方法を併用して形成してもよい。なお、低屈折率層
４ａは、ＳｉＯ₂以外にも、ＭｇＦ₂の薄膜や、その他の
素材でも構成し得るが、下層に対する密着性が高い点
で、ＳｉＯ₂薄膜を使用することが好ましい。上記の手
法のうち、プラズマＣＶＤ法によるときは、有機シロキ
サンを原料ガスとし、他の無機質の蒸着源が存在しない
条件で行なうことが好ましく、また、被蒸着体である、
ハードコート層３までを積層したフィルムをできるだけ
低温度に維持することが好ましい。

【００３５】低屈折率層４ａの厚みは、５０〜１１０ｎ
ｍ程度が好ましく、この範囲より薄すぎても厚すぎて
も、反射防止機能が十分でないので、効果的な反射防止
機能を得るため、この範囲であることが望ましい。

【００３６】ＳｉＯ₂からなる低屈折率層４ａには、未
分解の有機シロキサンを含み、ケイ素に対して炭素が
０．１〜０．２残存するようにすることにより、反射防
止フィルムの取り扱い上、好ましいフレキシビリティを
有し、また下層との接着性の優れたものとすることがで
きる。このようにして形成された低屈折率層４ａは、水
に対する表面の接触角が４０〜１８０度のＳｉＯ₂から
なり、粉塵の付着を防止する防汚効果の点でも好ましい
ものである。

【００３７】高屈折率層５は、可視光領域に吸収を持
ち、導電性を有するものであって、具体的には、Ｆｅ、
Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｍｏ、およびＴ
ａからなる群より選ばれた金属か、もしくはこれらから
選ばれた２種類以上の金属の合金で構成するものであ
り、反射防止フィルムの透明性を維持する意味で、ごく
薄いものであることが望ましい。高屈折率層５の厚み
は、１〜１０ｎｍが適当であり、この範囲よりも厚みが
薄いと、光吸収性が不十分であり、またこの範囲を超え
ると、高屈折率層５の可視光の透過率が減少してしま
い、反射防止フィルムを通してのディスプレイの視認性
が低下し、好ましくない。

【００３８】高屈折率層５の形成は、上記したＦｅ、Ｎ
ｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｍｏ、およびＴａ
からなる群より選ばれた金属、もしくは２種類以上の金
属の合金を用いて、プラズマＣＶＤ法、蒸着法、もしく
はスパッタリング法等により形成することができる。

【００３９】上記の高屈折率層５の上には、低屈折率層
４ｂが積層されている。高屈折率層５上に積層する低屈
折率層４ｂは、材質、形成方式共、低屈折率層４ａと同
じでよい。低屈折率層４ｂの厚みは５０〜１１０ｎｍで
あることが好ましい。本発明のおいては、高屈折率層５
は、結局、二つの低屈折率層４ａ、および４ｂとによっ
て、上下共、被覆されていることになり、このようにす
ることにより、高屈折率層５の耐腐食性が向上するの
で、逆に言えば、耐腐食性が多少乏しくても光学特性が
優れたものを使用することができるようになる。

【００４０】好ましい低屈折率層４ａ、および４ｂの素
材であるＳｉＯ₂を使用すると、高屈折率層５の耐腐食
性が飛躍的に向上するので好ましい。なお、高屈折率層
５の好ましい例は、Ｎｉ−Ｃｒ合金である。

【００４１】本発明の反射防止フィルムには、最上層
に、反射防止フィルムの上面の汚染を防止するための防
汚層６を有していてもよい。防汚層６は、ディスプレイ
パネルの前面に配置した反射防止フィルムにごみや汚れ
が付着するのを防止し、あるいは付着しても除去しやす
くするために形成される。具体的には、反射防止機能を
低下させない範囲でフッ素系界面活性剤等の界面活性
剤、フッ素系樹脂を含む塗料、シリコーンオイル等の剥
離剤、もしくはワックス等をごく薄く塗布し、余剰分を
拭い除去しておく。防汚層６は、恒久的な層として形成
してもよいが、必要の都度、塗布して形成してもよい。
防汚層６の厚みとしては、１〜１０ｎｍ程度が好まし
い。

【００４２】本発明の反射防止フィルムは、透明基材フ
ィルムを基材として、順次各層を積層することにより形
成できるが、各層のうちの一部を転写で形成することも
できる。

【００４３】

【実施例】（実施例１）厚み１８８μｍのポリエテレン
テレフタレート樹脂フィルムに、アクリル系の紫外線硬
化型塗料を用いて、グラビアコーティングによる塗布
と、塗布後の紫外線照射により、厚み６μｍのハードコ
ート層を形成した。

【００４４】上記で得られたハードコート層上に、Ｓｉ
Ｏ₂のゾル溶液を塗布し、乾燥させて、厚み９４ｎｍの
第１の低屈折率層を形成した上に、Ｎｉ−Ｃｒ合金をタ
ーゲットとして用い、スパッタリング法にて厚み２．２
ｎｍのＮｉ−Ｃｒ薄膜からなる高屈折率層を形成し、引
続いて、Ｎｉ−Ｃｒ薄膜上に、上記の第１の低屈折率層
の形成と同様にして、厚み８０ｎｍの第２の低屈折率層
を形成した。最後にフッ素系界面活性剤を厚みが２ｎｍ
になるようコーティングして、防汚層を形成し、反射防
止フィルムとした。

【００４５】得られた反射防止フィルムは、反射防止性
が優れており、また、長時間、高温高湿度の状態に置い
ても、反射防止性の変化がほとんど無かった。

【００４６】（実施例２）スパッタリングにより、高屈
折率層として、厚み２ｎｍのＮｉ薄膜を形成した以外
は、実施例１の方法によって行ない、反射防止フィルム
とした。

【００４７】（実施例３）スパッタリングにより、高屈
折率層として、厚み２ｎｍのＴｉ−Ｃｒ合金薄膜を形成
した以外は、実施例１の方法によって行ない、反射防止
フィルムとした。

【００４８】（実施例４）スパッタリングにより、高屈
折率層として、厚み３ｎｍのＡｇ薄膜を形成した以外
は、実施例１の方法によって行ない、反射防止フィルム
とした。

【００４９】（実施例５）スパッタリングにより、高屈
折率層として、厚み２ｎｍのＺｒ薄膜を形成した以外
は、実施例２の方法によって行ない、反射防止フィルム
とした。

【００５０】（比較例１）ハードコート層の形成までを
実施例１と同様に行なった後、ハードコート層上に、厚
み２０ｎｍのＴｉＯ₂薄膜（高屈折率層）、厚み２０ｎ
ｍのＳｉＯ₂薄膜（低屈折率層）、厚み４０ｎｍのＴｉ
Ｏ₂薄膜（高屈折率層）、厚み９０ｎｍのＳｉＯ₂薄膜
（低屈折率層）、および、厚み５μｍの防汚層を順次形
成して反射防止フィルムとした。

【００５１】（比較例２）ハードコート層の形成までを
実施例１と同様に行なった後、ハードコート層上に、厚
み２５ｎｍのＩＴＯ薄膜（高屈折率層）、厚み２５ｎｍ
のＳｉＯ₂薄膜（低屈折率層）、厚み８５ｎｍのＴｉＯ₂
薄膜（高屈折率層）、厚み９０ｎｍのＳｉＯ₂薄膜（低
屈折率層）、および、厚み５μｍの防汚層を順次形成し
て反射防止フィルムとした。

【００５２】（比較例３）ハードコート層上に、低屈折
率層を介さずに、直接、厚み２ｎｍのＮｉ薄膜を形成し
た以外は、実施例１の方法によって行ない、反射防止フ
ィルムを得た。

【００５３】各実施例および比較例で得られた反射防止
フィルムについて、高屈折率層の材料、膜厚、および加
工速度、低屈折率層の材料、膜厚、および加工速度、透
過率の変化で見た耐腐食性、波長４５０ｎｍ〜６５０ｎ
ｍにおける平均反射率のデータを「表１」に示す。

【００５４】なお、「表１」中、〜は次の項目を示
す。；「高屈折率層の各層の素材、および各層の厚み」、
ただし、上下に２種類記載してあるのは、二層の構成で
あって、上側が表面に近い方の層、下側が表面より遠い
方の層を示しており、１種類のみの記載の場合は一層で
あることを示す。；「高屈折率層形成の際の加工速度」、単位はｍ／ｍ
ｉｎ．である。；「低屈折率層の形成方法」、なお、いずれの低屈折
率層もＳｉＯ₂であり、「ＳＧ」はゾルゲル法による形
成、「Ｓｐ」はスパッタリングによる形成である。；「低屈折率層の形成の際の加工速度」、単位はｍ／
ｍｉｎ．である。また下段は、高屈折率層の厚みを示
し、例えば「９４，８０」とあるのは、最初が表面より
遠い方の高屈折率層の膜厚、後の方が表面に近い方の高
屈折率層の膜厚である。；「耐腐食性」、温度５０℃、相対湿度９５％の環境
下で１０００時間放置する湿熱試験の前後の光の透過率
の変化で評価したもので、「６２％→８０％」とあるの
は、湿熱試験前の光の透過率が６２％、湿熱試験後の光
の透過率が８０％であることを示す。また、湿熱試験前
後の光の透過率の変化が無く、かつ色の変化のないもの
を「○」、そうでないものを「×」とする。；「平均反射率」、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの波長範
囲の光の入射に対する平均反射率である。

【００５５】

【表１】

【００５６】

【発明の効果】請求項１の発明によれば、高屈折率層を
金属もしくは合金の薄膜で構成したので、人間が眩しい
と感じる可視光領域（波長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍ）に
わたって一定な低反射率を有する反射防止フィルムを提
供でき、また、ＩＴＯやＡＴＯ等の透明酸化物を用いる
のにくらべて、厚みを薄くすることができ、製造する際
の加工速度が速い反射防止フィルムを提供できる。ま
た、金属薄膜の上下をいずれも低屈折率層で被覆したの
で、高屈折率層を構成する合金の耐腐食性が向上した反
射防止フィルムを提供できる。請求項２の発明によれ
ば、請求項１の発明の効果に加え、高屈折率層を構成す
る金属もしくは合金の素材を特定したので、具体的で入
手しやすい素材を用いて形成された高屈折率層を有する
反射防止フィルムを提供できる。請求項３の発明によれ
ば、請求項１または２の発明の効果に加え、低屈折率層
をＳｉＯ₂で構成したので、高屈折率層の金属もしくは
合金の耐腐食性を有効に向上させた反射防止フィルムを
提供できる。請求項４の発明によれば、請求項１の発明
の効果に加え、低屈折率層の形成方法を特定したので、
反射防止フィルムを効率よく製造して提供できる。請求
項５の発明によれば、請求項１の発明の効果に加え、ハ
ードコート層が硬化性樹脂組成物が架橋硬化したものか
らなるので、製造しやすく、また固さやフレキシブルさ
等を用途に合わせて変更した反射防止フィルムを提供で
きる。請求項６の発明によれば、請求項１または５の発
明の効果に加え、ハードコート層がプライマー層を介し
て透明基材フィルムに積層してあるので、ハードコート
層と透明基材フィルムとの密着が強化された反射防止フ
ィルムを提供できる。請求項７の発明によれば、請求項
１、５、または６の発明の効果に加え、ハードコート層
の上面が微細な凹凸を有しているので、使用時に特定の
部分の輝度が高くてまぶしいために視認性が低下する恐
れの少ない反射防止フィルムを提供できる。請求項８の
発明によれば、請求項１〜７いずれかの発明の効果に加
え、最上層に防汚層が積層されているため、汚れにく
く、万一汚れても、汚れの除去の容易な反射防止フィル
ムを提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】反射防止フィルムの構造を示す断面図である。

【図２】反射防止フィルムのハードコート層の上面の形
状例を示す断面図である。

【符号の説明】

１透明基材フィルム２プライマー層３ハードコート層４低屈折率層５高屈折率層６防汚層７凹凸

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｂ３２Ｂ 7/02 １０３Ｂ３２Ｂ 9/00 Ａ 9/00 15/08 Ｐ 15/08 Ｇ０９Ｆ 9/00 ３１３Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｇ０２Ｂ 1/10 ＡＧ０９Ｆ 9/00 ３１３Ｚ (72)発明者鈴木裕子東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号大日本印刷株式会社内Ｆターム(参考） 2K009 AA05 AA12 AA15 BB11 BB24 CC03 CC14 CC26 DD02 DD03 DD04 DD05 EE03 EE05 4D075 AE03 BB49Z BB81Z BB85Z CA22 CB02 DA04 DB31 DC22 EA02 EC03 EC10 4F100 AA20C AA20E AB01D AB02D AB12D AB13D AB16D AB18D AB19D AB20D AB31D AK01A AK17 AK25 AK42 AL05B AR00C AR00E BA05 BA07 BA10A BA10E CC00B DD07B EH66C EH66E EJ65B GB41 JB02 JB12B JB20B JG01D JK12B JL02 JL06E JM01C JM01E JN01A JN06 JN18C JN18D JN18E JN30D 5G435 AA14 AA17 BB02 BB06 BB12 FF01 FF14 GG01 HH01 HH12 KK07

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基材フィルム上に、ハードコート
層、低屈折率層、高屈折率層、および低屈折率層とが順
に積層されており、前記高屈折率層は、金属もしくは合
金からなる導電性光吸収膜であることを特徴とする反射
防止フィルム。
【請求項２】前記高屈折率層を構成する導電性光吸収
膜が、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｍ
ｏ、およびＴａからなる群より選ばれた金属、もしくは
２種類以上の金属の合金であることを特徴とする請求項
１記載の反射防止フィルム。
【請求項３】前記低屈折率層が、ＳｉＯ₂からなるこ
とを特徴とする請求項１または２記載の反射防止フィル
ム。
【請求項４】前記低屈折率層が、プラズマＣＶＤ法、
蒸着法、スパッタリング法、もしくはゾル−ゲル法、ま
たはそれらの併用により形成されたものであることを特
徴とする請求項１〜３いずれかの反射防止フィルム。
【請求項５】前記ハードコート層は、硬化性樹脂組成
物が架橋硬化した膜からなることを特徴とする請求項１
記載の反射防止フィルム。
【請求項６】前記ハードコート層は、プライマー層を
介して透明基材フィルム上に積層されていることを特徴
とする請求項１または５記載の反射防止フィルム。
【請求項７】前記ハードコート層の上面が微細な凹凸
を有していることを特徴とする請求項１、５、または６
記載の反射防止フィルム。
【請求項８】最上層に防汚層が積層されていることを
特徴とする請求項１〜７いずれかの反射防止フィルム。