JP2001281177A - 蛍光ｘ線分析方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 試料における任意の微小部位を正確に蛍光Ｘ
線分析する。 【解決手段】 目的元素を含む領域が表面で直線状の外
形線f を有する調整用試料11を用い、前記外形線f がｒ
方向と平面視で直交するようにｒθステージ5 に載置
し、ｒ方向に移動させながら目的元素について蛍光Ｘ線
強度の分布測定を行い、ｒθステージ5 で調整用試料11
を１８０度回転させて再度同様に蛍光Ｘ線強度の分布測
定を行う。そして、それらの分布測定結果に基づき、ｒ
θステージ5でのｒ方向の移動において、試料表面の所
定の高さで、ｒθステージ5 の回転中心が、検出手段3
が絞り孔4aを通して臨む位置に合致する位置を求める。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、試料における任意
の微小部位を正確に分析できる蛍光Ｘ線分析方法および
装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より、例えば、図１６に示すよう
な、いわゆる走査型（波長分散型）蛍光Ｘ線分析装置を
用いて、試料１に１次Ｘ線Ｂ１を照射し、試料表面の任
意の位置の微小範囲およびその深さ方向における近傍
（以下、試料１の微小部位という）から発生する蛍光Ｘ
線Ｂ２の強度を測定して強度分布測定を行うマッピング
測定がある。

【０００３】この分布測定において、試料１は所定の試
料ホルダ１０に収納され、その試料ホルダ１０は、例え
ばｒθステージ５上に、試料１の表面が所定の高さにな
るように載置される。ｒθステージ５は、水平な一定方
向であるｒ方向に直線移動自在なｒステージ８の上に、
所定の鉛直な回転軸を中心として水平回転自在なθステ
ージ９を設けたものであり、試料ホルダ１０はθステー
ジ９の上に載置される。Ｘ線源２からの１次Ｘ線Ｂ１の
照射により試料１から発生する蛍光Ｘ線の一部Ｂ２は、
アパーチャ４の絞り孔４ａを通過して、検出手段３によ
り強度が測定される。検出手段３は、絞り孔４ａ（アパ
ーチャ４）、分光素子６、検出器７を有している。

【０００４】すなわち、鉛直方向に延びるｒθステージ
５の回転中心は、ｒ方向に移動し得るわけであるが、試
料１の任意の部位についての位置合わせ前の初期状態
（ｒθステージ５の回転中心がｒ方向の所定の位置にあ
り、回転角度が所定の角度である）において、前記所定
の高さで、検出手段３が絞り孔４ａを通して臨む位置に
一致するように設定される。

【０００５】そして、試料１の分析すべき微小部位が、
例えば、ｒθステージ５の回転中心を原点としｒ方向右
手を０度とする極座標において、左回りにθ１の角度で
回転中心から距離ｒ１の位置にある場合、試料１をθス
テージ９で右回りに角度θ１だけ回転させるとともに、
ｒステージ８でｒ方向左手に距離ｒ１だけ移動させるこ
とにより、前記微小部位を検出手段３が絞り孔４ａを通
して臨む位置に一致させる。このように、試料１の任意
の微小部位を位置合わせして、分析が行われる。

【０００６】前記ｒθステージ５の初期状態で、試料１
の分析すべき微小部位の位置（ｒ１，θ１）を指定する
には、例えば、蛍光Ｘ線Ｂ２の光路からアパーチャ４を
一時的に退避させて、その光路に試料１の表面を見込む
撮像手段１２を選択的に配置し、その撮像手段１２で撮
像して生成した試料１の表面の画像をＣＲＴ等の表示手
段１３で表示し、その表示された画像に基づいて行う。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかし、ｒθステージ
５の初期状態で、ｒθステージ５の回転中心が、前記所
定の高さで、検出手段３が絞り孔４ａを通して臨む位置
からずれている場合には、試料１の分析すべき微小部位
の座標（ｒ１，θ１）を、例えば前記撮像手段１２で撮
像して生成した試料１の表面の画像から割り出し、その
座標を指定して、上述したようにｒθステージ５で試料
１を移動させても、分析すべき微小部位を検出手段３が
絞り孔４ａを通して臨む位置に正しく移動させて位置合
わせすることができず、正確な分析を行えない。このよ
うな位置ずれは、装置の組み立て誤差等により生じ得
る。

【０００８】また、撮像手段１２を備えた蛍光Ｘ線装置
において、蛍光Ｘ線Ｂ２の光路に配置された撮像手段１
２が、ｒθステージ５の初期状態において、前記所定の
高さでのｒθステージ５の回転中心を正確に見込んでい
ない場合には、撮像手段１２で撮像して生成する表示手
段１３での試料１の表面の画像の中心が、画像上のｒθ
ステージ５の回転中心と一致しなくなるので、画像中心
をｒθステージ５の回転中心とみなして画像から試料１
の分析すべき微小部位の座標（ｒ１，θ１）を指定する
と、正しい座標を割り出すことができなくなる。その結
果、このような不正確な座標に基づきｒθステージ５で
試料１を移動させても、分析すべき微小部位を検出手段
３が絞り孔４ａを通して臨む位置に正しく移動させて位
置合わせすることができず、やはり、正確な分析を行え
ない。

【０００９】本発明は前記従来の問題に鑑みてなされた
もので、試料における任意の微小部位について、正確に
分析できる蛍光Ｘ線分析方法および装置を提供すること
を目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、請求項１の蛍光Ｘ線分析方法は、まず、ｒθステー
ジで試料の表面を所定の高さに維持して絞り孔を有する
検出手段に対して移動させ、試料にＸ線源から１次Ｘ線
を照射して発生する蛍光Ｘ線の一部を前記絞り孔を通過
させてその強度を検出手段で測定する方法である。ここ
で、前記ｒθステージのｒ方向が、前記検出手段が絞り
孔を通して臨む方向と平面視で平行かまたは重なり、前
記絞り孔が、前記ｒθステージのｒ方向と平面視で直交
する、水平な方向に移動調整可能である。そして、目的
元素を含む領域が表面で直線状の外形線を有する試料を
調整用試料として用いる。

【００１１】この調整用試料を、前記直線状の外形線が
前記ｒθステージのｒ方向と平面視で直交するように前
記ｒθステージに載置し、前記ｒθステージで前記ｒ方
向に移動させながら前記Ｘ線源から１次Ｘ線を照射して
前記検出手段で前記目的元素について蛍光Ｘ線強度の分
布測定を行い、前記ｒθステージで前記調整用試料を１
８０度回転させて再度同様に蛍光Ｘ線強度の分布測定を
行う。そして、それらの分布測定結果に基づき、前記ｒ
θステージでのｒ方向の移動において、前記所定の高さ
で、前記ｒθステージの回転中心が、前記検出手段が絞
り孔を通して臨む位置に合致する位置を求める。

【００１２】また、前記調整用試料を、前記直線状の外
形線が前記絞り孔の移動方向と平面視で直交するように
前記ｒθステージに載置し、前記絞り孔を前記移動方向
に移動させながら前記Ｘ線源から１次Ｘ線を照射して前
記検出手段で前記目的元素について蛍光Ｘ線強度の分布
測定を行い、前記ｒθステージで前記調整用試料を１８
０度回転させて再度同様に蛍光Ｘ線強度の分布測定を行
う。そして、それらの分布測定結果に基づき、前記絞り
孔の移動において、前記所定の高さで、前記検出手段が
絞り孔を通して臨む位置が、前記ｒθステージの回転中
心に合致する位置を求める。

【００１３】請求項１の方法によれば、分析対象試料の
測定前に、前記所定の高さで、ｒθステージの回転中心
と、検出手段が絞り孔を通して臨む位置とがずれていて
も、まず、絞り孔の移動において両者が合致する位置が
分かるので、測定する際に、絞り孔を移動させてその方
向において合致させることができ、また、分析対象試料
の指定した部位を検出手段が絞り孔を通して臨む位置に
位置合わせする際に、すなわちｒθステージの初期状態
において、前記両者間のｒ方向のずれの向き、量が分か
るので、そのずれを補正して正確に位置合わせをするこ
とができる。したがって、試料における任意の微小部位
について、正確に分析できる。

【００１４】請求項２の蛍光Ｘ線分析方法は、試料の表
面を撮像手段で撮像して生成した画像を表示手段で表示
し、その表示された表面の画像に基づいて試料の部位を
指定して、その指定した部位が、検出手段が絞り孔を通
して臨む位置にくるように、ｒθステージで試料を前記
絞り孔を有する検出手段に対して移動させ、試料にＸ線
源から１次Ｘ線を照射して発生する蛍光Ｘ線の一部を前
記絞り孔を通過させてその強度を検出手段で測定する方
法であって、前記表示手段に表示される表面の画像にお
いて直線状の境界線を有する試料を調整用試料として用
いる。

【００１５】この調整用試料を初期状態の前記ｒθステ
ージに載置し、３６０度を３以上の整数で除した角度ず
つ前記ｒθステージで回転させる。そして、各回転角度
での前記表示手段に表示される画像における前記直線状
の境界線で構成される多角形の重心として、前記表示手
段に表示される画像上の前記ｒθステージの回転中心の
位置を求める。

【００１６】請求項２の方法によれば、撮像手段で撮
像、生成され表示手段で表示された試料の表面の画像に
基づいて指定した分析対象試料の部位を、検出手段が絞
り孔を通して臨む位置に位置合わせする際に、すなわち
ｒθステージの初期状態において、表示された画像の中
心と画像上のｒθステージの回転中心の位置とにずれが
あっても、そのずれの方向、量が分かるので、そのずれ
を補正して正確に位置合わせをすることができる。した
がって、やはり、試料における任意の微小部位につい
て、正確に分析できる。

【００１７】請求項３の蛍光Ｘ線分析装置は、ｒθステ
ージで試料の表面を所定の高さに維持して絞り孔を有す
る検出手段に対して移動させ、試料にＸ線源から１次Ｘ
線を照射して発生する蛍光Ｘ線の一部を前記絞り孔を通
過させてその強度を検出手段で測定する装置である。こ
こで、前記ｒθステージのｒ方向が、前記検出手段が絞
り孔を通して臨む方向と平面視で平行かまたは重なり、
前記絞り孔が、前記ｒθステージのｒ方向と平面視で直
交する、水平な方向に移動調整可能である。そして、目
的元素を含む領域が表面で直線状の外形線を有する試料
を調整用試料として用いるとともに、以下のｒθステー
ジ調整手段および絞り孔調整手段を備える。

【００１８】ｒθステージ調整手段は、まず、前記直線
状の外形線が前記ｒθステージのｒ方向と平面視で直交
するように前記ｒθステージに載置された前記調整用試
料を、前記ｒθステージで前記ｒ方向に移動させながら
前記Ｘ線源から１次Ｘ線を照射させて前記検出手段で前
記目的元素について蛍光Ｘ線強度の分布測定を行い、前
記ｒθステージで前記調整用試料を１８０度回転させて
再度同様に蛍光Ｘ線強度の分布測定を行う。そして、そ
れらの分布測定結果に基づき、前記ｒθステージでのｒ
方向の移動において、前記所定の高さで、前記ｒθステ
ージの回転中心が、前記検出手段が絞り孔を通して臨む
位置に合致する位置を求めて記憶する。さらに、分析対
象試料の指定された部位を前記ｒθステージで前記検出
手段が絞り孔を通して臨む位置に移動させる際に、前記
ｒ方向における、前記ｒθステージの初期状態の回転中
心の位置と前記記憶した位置とのずれを補正する。

【００１９】前記絞り孔調整手段は、まず、前記直線状
の外形線が前記絞り孔の移動方向と平面視で直交するよ
うに前記ｒθステージに載置された前記調整用試料に、
前記絞り孔を前記移動方向に移動させながら前記Ｘ線源
から１次Ｘ線を照射させて前記検出手段で前記目的元素
について蛍光Ｘ線強度の分布測定を行い、前記ｒθステ
ージで前記調整用試料を１８０度回転させて再度同様に
蛍光Ｘ線強度の分布測定を行う。そして、それらの分布
測定結果に基づき、前記絞り孔の移動において、前記所
定の高さで、前記検出手段が絞り孔を通して臨む位置
が、前記ｒθステージの回転中心に合致する位置を求め
て記憶する。さらに、分析対象試料の測定をする際に、
前記絞り孔を前記記憶した位置に移動させる。

【００２０】請求項３の装置によれば、請求項１の方法
と同様の作用効果がある上に、分析対象試料の指定され
た部位の正確な位置合わせまで自動的になされる。

【００２１】請求項４の蛍光Ｘ線分析装置は、試料の表
面を撮像手段で撮像して生成した画像を表示手段で表示
し、その表示された表面の画像に基づいて試料の部位が
指定され、その指定された部位が、検出手段が絞り孔を
通して臨む位置にくるように、ｒθステージで試料を前
記絞り孔を有する検出手段に対して移動させ、試料にＸ
線源から１次Ｘ線を照射させて発生する蛍光Ｘ線の一部
を前記絞り孔を通過させてその強度を検出手段で測定す
る装置であって、前記表示手段に表示される表面の画像
において直線状の境界線を有する試料を調整用試料とし
て用いるとともに、以下のｒθステージ調整手段を備え
る。

【００２２】このｒθステージ調整手段は、まず、初期
状態の前記ｒθステージに載置された前記調整用試料
を、３６０度を３以上の整数で除した角度ずつ前記ｒθ
ステージで回転させる。そして、各回転角度での前記表
示手段に表示される画像における前記直線状の境界線で
構成される多角形の重心として、前記表示手段に表示さ
れる画像上の前記ｒθステージの回転中心の位置を求め
て記憶する。さらに、分析対象試料の指定された部位を
前記ｒθステージで前記検出手段が絞り孔を通して臨む
位置に移動させる際に、前記表示手段に表示される画像
の中心と前記記憶した位置とのずれを補正する。

【００２３】請求項４の装置によれば、請求項２の方法
と同様の作用効果がある上に、分析対象試料の指定され
た部位の正確な位置合わせまで自動的になされる。

【００２４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態の方法
について説明する。まず、この方法に用いる装置につい
て、図１にしたがって説明する。この装置は、ｒθステ
ージ５で試料１の表面を所定の高さに維持して絞り孔４
ａを有する検出手段３に対して移動させ、試料１にＸ線
管等のＸ線源２から１次Ｘ線Ｂ１を照射して発生する蛍
光Ｘ線の一部Ｂ２を前記絞り孔４ａを通過させてその強
度を検出手段３で測定する装置である。

【００２５】ここで、検出手段３は、絞り孔４ａを設け
られたアパーチャ４、その絞り孔４ａを通過した蛍光Ｘ
線Ｂ２を分光する分光素子６と、その分光された蛍光Ｘ
線Ｂ２の強度を測定するプロポーショナルカウンタやシ
ンチレーションカウンタ等の検出器７、分光素子６の前
後に配置される図示しないソーラスリット等からなる。
なお、分光素子６を用いず、エネルギー分解能の高いＳ
ＳＤ等の検出器を検出手段に用いてもよい。

【００２６】また、ｒθステージ５のｒ方向は、検出手
段３が絞り孔４ａを通して臨む方向と平面視で平行かま
たは重なり、絞り孔４ａ（アパーチャ４）が、図示しな
いパルスモータ等の駆動手段により、ｒθステージ５の
ｒ方向と平面視で直交する、水平な方向Ｌに移動調整可
能である。ｒθステージ５の構成、試料１が所定の試料
ホルダ１０に収納されてｒθステージ５上に試料１の表
面が所定の高さになるよう載置される点については、従
来の技術で述べたのと同様である。この装置では、目的
元素を含む領域が表面で直線状の外形線を有する試料を
第１の調整用試料１１として用いるとともに、制御手段
１４として、以下のｒθステージ調整手段１５および絞
り孔調整手段２５を備える。

【００２７】ｒθステージ調整手段１５は、まず、直線
状の外形線がｒθステージ５のｒ方向と平面視で直交す
るようにｒθステージ５に載置された第１調整用試料１
１を、ｒθステージ５でｒ方向に移動させながらＸ線源
２から１次Ｘ線Ｂ１を照射させて検出手段３で目的元素
について蛍光Ｘ線強度の分布測定を行い、ｒθステージ
５で第１調整用試料１１を１８０度回転させて再度同様
に蛍光Ｘ線強度の分布測定を行う。そして、それらの分
布測定結果に基づき、ｒθステージ５でのｒ方向の移動
において、前記所定の高さで、ｒθステージ５の回転中
心が、検出手段３が絞り孔４ａを通して臨む位置に合致
する位置を求めて記憶する。さらに、分析対象試料１の
指定された部位をｒθステージ５で検出手段３が絞り孔
４ａを通して臨む位置に移動させる際に、ｒ方向におけ
る、ｒθステージ５の初期状態の回転中心の位置と前記
記憶した位置とのずれを補正する。

【００２８】前記絞り孔調整手段２５は、まず、直線状
の外形線が絞り孔４ａの移動方向Ｌと平面視で直交する
ようにｒθステージ５に載置された第１調整用試料１１
に、絞り孔４ａを移動方向Ｌに移動させながらＸ線源２
から１次Ｘ線Ｂ１を照射させて検出手段３で目的元素に
ついて蛍光Ｘ線強度の分布測定を行い、ｒθステージ５
で第１調整用試料１１を１８０度回転させて再度同様に
蛍光Ｘ線強度の分布測定を行う。そして、それらの分布
測定結果に基づき、絞り孔４ａの移動において、前記所
定の高さで、検出手段３が絞り孔４ａを通して臨む位置
が、ｒθステージ５の回転中心に合致する位置を求めて
記憶する。さらに、分析対象試料１を測定する際に、絞
り孔４ａを前記記憶した位置に移動させる。

【００２９】また、この装置は、試料１の表面をＣＣＤ
等の撮像手段１２で撮像して生成した画像をＣＲＴ等の
表示手段１３で表示し、その表示された表面の画像に基
づいて試料１の部位が指定され、その指定された部位
が、検出手段３が絞り孔４ａを通して臨む位置にくるよ
うに、ｒθステージ５で試料１を前記絞り孔４ａを有す
る検出手段３に対して移動させ、試料１にＸ線源２から
１次Ｘ線Ｂ１を照射させて発生する蛍光Ｘ線の一部Ｂ２
を前記絞り孔４ａを通過させてその強度を検出手段３で
測定する装置である。撮像手段１２は、アパーチャ４の
後方に配置され、蛍光Ｘ線Ｂ２の強度測定時には、実線
で示すように、制御手段１４により図示しないモータ等
の駆動手段で試料１の表面を臨む位置から退避させられ
る。

【００３０】さらに、この装置では、表示手段１３に表
示される表面の画像において直線状の境界線を有する試
料を第２の調整用試料２１として用いるとともに、前記
ｒθステージ調整手段１５が、以下のような処理も行
う。すなわち、ｒθステージ調整手段１５は、まず、初
期状態のｒθステージ５に載置された第２調整用試料２
１を、３６０度を３以上の整数で除した角度ずつｒθス
テージ５で回転させる。そして、各回転角度での表示手
段１３に表示される画像における直線状の境界線で構成
される多角形の重心として、表示手段１３に表示される
画像上のｒθステージ５の回転中心の位置を求めて記憶
する。さらに、分析対象試料１の指定された部位をｒθ
ステージ５で検出手段３が絞り孔４ａを通して臨む位置
に移動させる際に、表示手段１３に表示される画像の中
心と前記記憶した位置とのずれを補正する。

【００３１】この装置を用いて、本実施形態の方法で
は、ｒθステージ調整手段１５により、以下のように、
ｒθステージ５でのｒ方向の移動において、前記所定の
高さで、ｒθステージ５の回転中心が、検出手段３が絞
り孔４ａを通して臨む位置に合致する位置を求める。ま
ず、ここで用いる第１調整用試料１１Ａは、例えば図３
に示すような円板状であって、その中心を通る直線で半
円形に二分される２領域１１Ａａ，１１Ａｂのうち片側
部分１１Ａａが目的元素を含む領域とされたものであ
る。この第１調整用試料１１Ａを、ｒθステージ５（図
１）に、目的元素を含む領域１１Ａａの直線状の外形線
ｆが、ｒθステージ５（図１）のｒ方向と平面視で直交
するように載置する。

【００３２】ここでは、例えば図３（Ａ）に示すよう
に、目的元素を含む領域１１Ａａが、検出手段３（図
１）から遠い同図の左側にくるように第１調整用試料１
１Ａを載置する。そして、ｒθステージ５（図１）でｒ
方向の移動スパンの一端から他端に向けて、例えば右手
から左手に向けて第１調整用試料１１Ａをステップ移動
させ、目的元素のＸ線強度の分布測定を行う（フロー図
である図２のステップＳ１）。このとき、相対的に、第
１調整用試料１１Ａにおいて測定される部位は、目的元
素を含む領域１１Ａａ側の開始位置Ｐ１１から目的元素
を含まない領域１１Ａｂ側の終了位置Ｐ１２へと移動す
る。これにより、測定される目的元素のＸ線強度（最大
値を１００とする）は、例えば図４（Ａ）にθ＝０°と
して示すプロファイルとなる。このときの測定プロファ
イルは、ｒθステージ調整手段１５（図１）の図示しな
いメモリに記憶される（ステップＳ２）。

【００３３】次に、ｒθステージ５（図１）で第１調整
用試料１１Ａを１８０度回転させる（ステップＳ３）。
これにより、第１調整用試料１１Ａの目的元素を含む領
域１１Ａａは、図３（Ｂ）に示すように、同図の右側に
くる。この状態で、ｒθステージ５（図１）で第１調整
用試料１１Ａを再度、移動スパンの一端から他端に向け
てステップ移動させ、目的元素のＸ線強度の分布測定を
行う（ステップＳ４）。このとき、相対的に、第１調整
用試料１１Ａにおいて測定される部位は、目的元素を含
まない領域１１Ａｂ側の開始位置Ｐ２１から目的元素を
含む領域１１Ａａ側の終了位置Ｐ２２へと移動する。こ
れにより、測定される目的元素のＸ線強度は、例えば図
４（Ａ）にθ＝１８０°として示すプロファイルとな
る。このときの測定プロファイルも、ｒθステージ調整
手段１５（図１）のメモリに記憶される（ステップＳ
５）。

【００３４】このようにして求められメモリに記憶され
た測定結果に基づき、図１のｒθステージ５でのｒ方向
の移動において、前記所定の高さで、ｒθステージ５の
回転中心が、検出手段３が絞り孔４ａを通して臨む位置
に合致する位置を算出し、その算出結果をメモリに記憶
する（ステップＳ６）。この演算では、例えば、図４
（Ａ）に示す両測定プロファイルの強度５０（最大強度
の５０％）におけるｒ座標値（移動スパンの前記一端を
０とする）ｒ_a ，ｒ_b の中間値（ｒ_a ＋ｒ_b ）／２を、
図１のｒθステージ５の回転中心が、検出手段３が絞り
孔４ａを通して臨む位置に合致する位置として求める。
なお、図４（Ａ）では、前記両ｒ座標値ｒ _a ，ｒ_b が近
似した値となる場合、すなわち、図３の目的元素を含む
領域１１Ａａの直線状の外形線ｆが、ｒθステージ５
（図１）の回転中心をほぼ通るように、第１調整用試料
１１Ａがｒθステージ５（図１）に載置された場合を示
している。

【００３５】前述したように、図１において、第１調整
用試料１１Ａや分析対象試料１は、所定の試料ホルダ１
０に収納され、θステージ９に載置される。その結果、
装置において、試料１１Ａ，１の表面は、所定の高さに
なる。この際、θステージ９上部は、試料ホルダ１０の
底部が嵌まり込むように加工されており、円筒状の試料
ホルダ１０の中心軸ひいては円板状の試料１１Ａ，１の
中心は、ｒθステージ５の回転中心を通るようになって
いる。しかし、θステージ９上部において試料ホルダ１
０が嵌まり込む部分の内径と試料ホルダ１０の外径との
間および試料ホルダ１０の内径と試料１１Ａ，１の外径
との間には、それぞれクリアランス（遊び）が設定され
ているので、試料１１Ａ，１の中心は、わずかながらｒ
θステージ５の回転中心からずれる場合もある。

【００３６】そのため、図３（Ａ）の第１調整用試料１
１Ａの載置状態において、目的元素を含む領域１１Ａａ
の直線状の外形線ｆがｒθステージ５（図１）の回転中
心に対し左側にずれるように載置された場合には、両測
定プロファイルは図４（Ｂ）のようになり、逆に右側に
ずれるように載置された場合には、両測定プロファイル
は図４（Ｃ）のようになる。しかし、図４（Ｂ）の場合
でも、図４（Ｃ）の場合でも、図４（Ａ）の場合と同様
の手順で、図１のｒθステージ５でのｒ方向の移動にお
いて、前記所定の高さで、ｒθステージ５の回転中心
が、検出手段３が絞り孔４ａを通して臨む位置に合致す
る位置を求めることができ、第１調整用試料１１Ａの載
置状態によって求められる位置精度が左右されることは
ない。

【００３７】また、後述する絞り孔調整手段２５による
絞り孔４ａの移動方向Ｌにおける位置調整を行っていな
い場合には、上述したｒθステージ調整手段１５による
ｒθステージ５でのｒ方向の移動において、前記所定の
高さで、ｒθステージ５の回転中心は、検出手段３が絞
り孔４ａを通して臨む位置に重ならず、ｒ方向において
のみ合致し、Ｌ方向においてずれることもある。

【００３８】しかし、この場合でも、ｒθステージ５の
ｒ方向は、検出手段３が絞り孔４ａを通して臨む方向と
平面視で平行な水平方向であり、絞り孔４ａの移動方向
Ｌは、そのｒ方向と平面視で直交する水平方向であるの
で、上述したｒθステージ調整手段１５の動作と後述す
る絞り孔調整手段２５の動作とは、互いに影響せず、独
立して行うことができ、それぞれの効果を発揮する。し
たがって、ｒθステージ調整手段１５によるｒθステー
ジ５でのｒ方向の移動において、前記所定の高さで、ｒ
θステージ５の回転中心が、検出手段３が絞り孔４ａを
通して臨む位置に重ならず、ｒ方向においてのみ合致
し、Ｌ方向においてずれる場合も、両者が「合致する」
場合に含まれるものとする。

【００３９】なお、前記例では、第１調整用試料１１と
して、図３に示すように、中心を通る直線で目的元素を
含む領域１１Ａａと含まない領域１１Ａｂとが半円形に
二分された円板状の第１調整用試料１１Ａを用いたが、
これに限らず、図５に示すように、中心を通る直線状の
領域１１Ｂａが目的元素を含み、その領域１１Ｂａその
ものが直線状の外形線ｆとなる円板状の第１調整用試料
１１Ｂを用いてもよい。この場合も、直線状の外形線ｆ
が図１のｒθステージ５のｒ方向と平面視で直交するよ
うに、第１調整用試料１１Ｂをｒθステージ５に載置す
る。

【００４０】この場合、ｒθステージ５で移動スパンの
一端から他端に向けて図５（Ａ）のｒ方向左手に第１調
整用試料１１Ｂをステップ移動させると、相対的に、第
１調整用試料１１Ｂにおいて測定される部位は、目的元
素を含まない左方領域１１Ｂｂ側の開始位置Ｐ１１から
目的元素を含む領域１１Ｂａを横切って、目的元素を含
まない右方領域１１Ｂｃ側の終了位置Ｐ１２へとステッ
プ移動する。これにより、測定される目的元素のＸ線強
度は、例えば図６にθ＝０°として示すプロファイルと
なる。また、ｒθステージ５（図１）で第１調整用試料
１１Ｂを１８０度回転させてから行う再度の測定では、
第１調整用試料１１Ｂにおいて測定される部位は、図５
（Ｂ）に示すように、目的元素を含まない左方領域１１
Ｂｃ側の開始位置Ｐ２１から目的元素を含む領域１１Ｂ
ａを横切って、目的元素を含まない右方領域１１Ｂｂ側
の終了位置Ｐ２２へとステップ移動する。

【００４１】図５（Ａ）に示す試料載置状態で、直線状
の外形線ｆがｒθステージ５（図１）の回転中心に対し
左側にずれるように載置された場合には、図５（Ｂ）に
示す再度の測定において測定される目的元素のＸ線強度
は、図６にθ＝１８０°として示すように、θ＝０°と
して示される最初の測定プロファイルよりも右側に偏っ
た位置のプロファイルとなる。図５（Ａ）に示す試料載
置状態で、直線状の外形線ｆがｒθステージ５（図１）
の回転中心に対し右側にずれるように載置された場合に
は、図６において、θ＝０°とθ＝１８０°のプロファ
イルの左右における位置関係が逆になり、図５（Ａ）に
示す試料載置状態で、直線状の外形線ｆがｒθステージ
５（図１）の回転中心をほぼ通るように載置された場合
には、図６において、両プロファイルがほぼ重なる。

【００４２】いずれの場合にも、両測定プロファイルの
ピークにおけるｒ座標値ｒ_a ，ｒ_bの中間値（ｒ_a ＋ｒ
_b ）／２を算出することにより、図１のｒθステージ５
でのｒ方向の移動において、前記所定の高さで、ｒθス
テージ５の回転中心が、検出手段３が絞り孔４ａを通し
て臨む位置に合致する位置として求められる。

【００４３】このように、本実施形態の方法によれば、
分析対象試料１の指定した部位を検出手段３が絞り孔４
ａを通して臨む位置に位置合わせする際に、すなわちｒ
θステージ５の初期状態（ｒ＝ｒ_O とする。ｒθステー
ジ５の回転中心が、ｒ方向の移動スパンにおける所定の
位置、例えば中央にある。）において、前記所定の高さ
で、ｒθステージ５の回転中心と、検出手段３が絞り孔
４ａを通して臨む位置とがｒ方向にずれていても、その
ずれの向き、量が（ｒ_a ＋ｒ_b ）／２−ｒ_O として分か
る（値が正ならば、ｒθステージ５の回転中心は、検出
手段３が絞り孔４ａを通して臨む位置に対し、図５で右
側にずれている）ので、そのずれを補正してｒ方向にお
いて正確に位置合わせをすることができる。しかも、こ
の方法で用いる装置においては、ｒθステージ調整手段
１５により、その位置合わせまで自動的になされる。

【００４４】また、この装置を用いて、本実施形態の方
法では、以下のように、絞り孔調整手段２５により、絞
り孔４ａの（アパーチャ４の）Ｌ方向への移動におい
て、前記所定の高さで、検出手段３が絞り孔４ａを通し
て臨む位置が、ｒθステージ５の回転中心に合致する位
置を求める。ここでも、図８に示すように円板状であっ
て、その中心を通る直線で半円形に二分される２領域１
１Ａａ，１１Ａｂのうち片側部分１１Ａａが目的元素を
含む領域とされている第１調整用試料１１Ａ（図３で示
したものと同じ）を用いることができる。この第１調整
用試料１１Ａを、ｒθステージ５（図１）に、目的元素
を含む領域１１Ａａの直線状の外形線ｆが、絞り孔４ａ
の移動方向Ｌと平面視で直交するように載置する。

【００４５】ここでは、例えば図８（Ａ）に示すよう
に、目的元素を含む領域１１Ａａが、Ｘ線源２（図１）
から遠い同図の下側にくるように第１調整用試料１１Ａ
を載置する。そして、絞り孔４ａ（図１）を移動方向Ｌ
のスパンの一端から他端に向けて、例えば手前から奥
（図８では下手から上手）に向けてステップ移動させ、
目的元素のＸ線強度の分布測定を行う（フロー図である
図７のステップＲ１）。このとき、第１調整用試料１１
Ａにおいて測定される部位は、目的元素を含む領域１１
Ａａ側の開始位置Ｐ３１から目的元素を含まない領域１
１Ａｂ側の終了位置Ｐ３２へと移動する。これにより、
測定される目的元素のＸ線強度（最大値を１００とす
る）は、例えば図９にθ＝０°として示すプロファイル
となる。この測定プロファイルは、絞り孔調整手段２５
（図１）の図示しないメモリに記憶される（ステップＲ
２）。

【００４６】次に、ｒθステージ５（図１）で第１調整
用試料１１Ａを１８０度回転させる（ステップＲ３）。
これにより、第１調整用試料１１Ａの目的元素を含む領
域１１Ａａは、図８（Ｂ）に示すように、同図の上側に
くる。この状態で、絞り孔４ａ（図１）を再度、移動方
向Ｌのスパンの一端から他端に向けてステップ移動さ
せ、目的元素のＸ線強度の分布測定を行う（ステップＲ
４）。このとき、第１調整用試料１１Ａにおいて測定さ
れる部位は、目的元素を含まない領域１１Ａｂ側の開始
位置Ｐ４１から目的元素を含む領域１１Ａａ側の終了位
置Ｐ４２へと移動する。これにより、測定される目的元
素のＸ線強度は、例えば図９にθ＝１８０°として示す
プロファイルとなる。このときの測定プロファイルも、
絞り孔調整手段２５（図１）のメモリに記憶される（ス
テップＲ５）。

【００４７】このようにして求められメモリに記憶され
た測定結果に基づき、図１の絞り孔４ａの移動におい
て、前記所定の高さで、検出手段３が絞り孔４ａを通し
て臨む位置が、ｒθステージ５の回転中心に合致する位
置を算出し、その算出結果をメモリに記憶する（ステッ
プＲ６）。すなわち、この演算では、例えば、図９に示
す両測定プロファイルの強度５０（最大強度の５０％）
におけるＬ座標値Ｌ_a ，Ｌ_b の中間値（Ｌ_a ＋Ｌ_b ）／
２を、図１の絞り孔４ａの移動において、前記所定の高
さで、検出手段３が絞り孔４ａを通して臨む位置が、ｒ
θステージ５の回転中心に合致する位置として求める。

【００４８】なお、図８（Ａ）に示す第１調整用試料１
１Ａの載置状態において、目的元素を含む領域１１Ａａ
の直線状の外形線ｆがｒθステージ５（図１）の回転中
心に対し下側や上側にずれるように載置された場合に
は、図９における両測定プロファイルはＬ方向に互いに
離間したり接近したりしたものになるが、いずれの場合
でも、図９の場合と同様の手順で、図１の絞り孔４ａの
移動において、前記所定の高さで、検出手段３が絞り孔
４ａを通して臨む位置が、ｒθステージ５の回転中心に
合致する位置を求めることができ、第１調整用試料１１
Ａの載置状態によって求められる位置精度が左右される
ことはない。分析対象試料１の測定時には、このように
求められてメモリに記憶された位置に、すなわち、前記
所定の高さで、検出手段３が絞り孔４ａを通して臨む位
置が、ｒθステージ５の回転中心に合致する位置に、絞
り孔４ａが移動される。

【００４９】また、前述したように、前記ｒθステージ
調整手段１５の動作とこの絞り孔調整手段２５の動作と
は、互いに影響せず、独立して行うことができ、それぞ
れの効果を発揮する。したがって、絞り孔調整手段２５
による絞り孔４ａの移動において、前記所定の高さで、
検出手段３が絞り孔４ａを通して臨む位置が、ｒθステ
ージ５の回転中心に重ならず、Ｌ方向においてのみ合致
し、ｒ方向においてずれる場合も、両者が「合致する」
場合に含まれるものとする。

【００５０】なお、前記例では、調整用試料１１とし
て、図８に示すように、中心位置を通る直線で目的元素
を含む領域１１Ａａと含まない領域１１Ａｂとが半円形
に二分された円板状の第１調整用試料１１Ａを用いた
が、これに限らず、図１０に示すように、中心位置を通
る直線状の領域１１Ｂａが目的元素を含み、その領域１
１Ｂａそのものが直線状の外形線ｆとなる円板状の第１
調整用試料１１Ｂ（図５で示したものと同じ）を用いて
もよい。この場合も、直線状の外形線ｆが図１の絞り孔
４ａの移動方向Ｌと平面視で直交するように、第１調整
用試料１１Ｂをｒθステージ５に載置する。

【００５１】この場合、絞り孔４ａをその移動方向Ｌの
一端から他端に向けてステップ移動させると、第１調整
用試料１１Ｂにおいて測定される部位は、図１０（Ａ）
に示すように、目的元素を含まない領域１１Ｂｂ側の開
始位置Ｐ３１から目的元素を含む領域１１Ｂａを横切っ
て、目的元素を含まない領域１１Ｂｃ側の終了位置Ｐ３
２へとステップ移動する。これにより、測定される目的
元素のＸ線強度は、例えば図１１にθ＝０°として示す
プロファイルとなる。また、ｒθステージ５（図１）で
第１調整用試料１１Ｂを１８０度回転させてから行う再
度の測定では、第１調整用試料１１Ｂにおいて測定され
る部位は、図１０（Ｂ）に示すように、目的元素を含ま
ない領域１１Ｂｃ側の開始位置Ｐ４１から目的元素を含
む領域１１Ｂａを横切って、目的元素を含まない領域１
１Ｂｂ側の終了位置Ｐ４２へとステップ移動する。

【００５２】図１０（Ａ）に示す試料載置状態で、直線
状の外形線ｆがｒθステージ５（図１）の回転中心に対
し下側にずれるように載置された場合には、図１０
（Ｂ）に示す再度の測定において測定される目的元素の
Ｘ線強度は、図１１にθ＝１８０°として示すように、
θ＝０°として示される最初の測定プロファイルよりも
右側に偏った位置のプロファイルとなる。図１０（Ａ）
に示す試料載置状態で、直線状の外形線ｆがｒθステー
ジ５（図１）の回転中心に対し上側にずれるように載置
された場合には、図１１において、θ＝０°とθ＝１８
０°のプロファイルの左右における位置関係が逆にな
り、図１０（Ａ）に示す試料載置状態で、直線状の外形
線ｆがｒθステージ５（図１）の回転中心をほぼ通るよ
うに載置された場合には、図１１において、両プロファ
イルがほぼ重なる。

【００５３】いずれの場合にも、両測定プロファイルの
ピークにおけるＬ座標値Ｌ_a ，Ｌ_bの中間値（Ｌ_a ＋Ｌ
_b ）／２を算出することにより、図１の絞り孔４ａの移
動において、前記所定の高さで、検出手段３が絞り孔４
ａを通して臨む位置が、ｒθステージ５の回転中心に合
致する位置として求められる。

【００５４】このように、本実施形態の方法によれば、
分析対象試料１の測定前に、前記所定の高さで、ｒθス
テージ５の回転中心と、検出手段３が絞り孔４ａを通し
て臨む位置とがずれていても、絞り孔４ａの移動におい
て両者が合致する位置が分かるので、測定する際に、絞
り孔４ａを移動させてその方向Ｌにおいて合致させるこ
とができる。しかも、この方法で用いる装置において
は、絞り孔調整手段２５により、その移動まで自動的に
なされる。さらに、前述したｒθステージ５の回転中心
と、検出手段３が絞り孔４ａを通して臨む位置とのｒ方
向のずれの補正を併せて行うことにより、分析対象試料
１の指定した部位を検出手段３が絞り孔４ａを通して臨
む位置に正確に位置合わせをすることができる。したが
って、分析対象試料１における任意の微小部位につい
て、正確に分析できる。

【００５５】なお、アパーチャ４が、Ｌ方向に並ぶ孔径
の異なる複数の絞り孔４ａ，４ｂ，４ｃ…を有し、Ｌ方
向にアパーチャ４を移動させて複数の絞り孔４ａ…を選
択的に使用する場合には、各絞り孔４ｘについて、その
絞り孔４ｘの移動において、前記所定の高さで、検出手
段３がその絞り孔４ｘを通して臨む位置が、ｒθステー
ジ５の回転中心に合致する位置が求められ、その絞り孔
４ｘを用いて測定する際に、その絞り孔４ｘを移動させ
て方向Ｌにおいて合致させる。複数の絞り孔４ａ…から
使用する絞り孔４ｘを選択する際にも、使用する絞り孔
４ｘの移動調整のための前記図示しないパルスモータ等
の駆動手段を用いることができる。

【００５６】また、この装置を用いて、本実施形態の方
法では、以下のように、ｒθステージ調整手段１５によ
り、表示手段１３に表示される画像上のｒθステージ５
の回転中心の位置を求める。ここで用いられる第２調整
用試料２１は、図１３に示す円板状の試料であって、そ
の中心を通る直線でそれぞれ半円形の２領域２１ａ，２
１ｂに区分されている。この場合、一方の領域２１ａは
画像において暗いダーク領域となり、他方の領域２１ｂ
は画像において明るいホワイト領域となるように明度区
分または色分けされている。この第２調整用試料２１
を、初期状態のｒθステージ５（図１）に載置する。

【００５７】ここでは、例えば図１３（Ａ）に示すよう
に、ダーク領域２１ａが、Ｘ線源２（図１）から遠い同
図の下側にくるように第２調整用試料２１を載置する。
図１の撮像手段１２が検出手段３の光路に進出するとと
もに（二点差線で示す）、アパーチャ４が撮像手段１２
の前から退避させられる。まず、この状態のもとに、撮
像手段１２が撮像して生成し、表示手段１３に表示され
る第２調整用試料２１の表面画像の境界線データがメモ
リに記憶される（図１２のステップＵ１）。このときの
画像は、図１４（Ａ）にθ＝０°として示す画像とな
る。ここでは、表示画像の中心を原点Ｏとし、縦軸をＹ
軸、横軸をＸ軸としたＸＹ座標で表示画像における位置
指定が行われ、図１４（Ａ）の画像では、ダーク領域２
１ａとホワイト領域２１ｂとの直線状の境界線ｇはＹ＝
Ｙ１であり、この式がメモリに記憶される。

【００５８】次に、ｒθステージ５（θステージ９、図
１）で第２調整用試料２１を一定角度だけ（ここでは９
０度右回りに）回転させる（ステップＵ２）。このとき
の平面視の第２調整用試料２１を図１３（Ｂ）に示す。
この回転により、θステージ９（図１）が１回転してい
なければ（ステップＵ３）、このときの第２調整用試料
２１の表示画像における境界線ｇのデータがメモリに記
憶される（ステップＵ１）。このときの画像は、図１４
（Ｂ）にθ＝９０°として示す画像となる。この画像で
は、直線状の境界線ｇはＸ＝Ｘ１であり、この式がメモ
リに記憶される。

【００５９】次に、ｒθステージ５（図１）で第２調整
用試料２１を再度９０度回転させる（ステップＵ２）。
このときの平面視の第２調整用試料２１を図１３（Ｃ）
に示す。これにより、θステージ９（図１）が１回転し
ていなければ（ステップＵ３）、このときの第２調整用
試料２１の表示画像における境界線ｇのデータがメモリ
に記憶される（ステップＵ１）。このときの画像は、図
１４（Ｃ）にθ＝１８０°として示す画像となる。この
画像では、直線状の境界線ｇはＹ＝Ｙ２であり、この式
がメモリに記憶される。

【００６０】次に、ｒθステージ５（図１）で第２調整
用試料２１を再度９０度回転させる（ステップＵ２）。
このときの平面視の第２調整用試料２１を図１３（Ｄ）
に示す。これにより、θステージ９（図１）が１回転し
ていなければ（ステップＵ３）、このときの第２調整用
試料２１の表示画像における境界線ｇのデータがメモリ
に記憶される（ステップＵ１）。このときの画像は、図
１４（Ｄ）にθ＝２７０°として示す画像となる。この
画像では、直線状の境界線ｇはＸ＝Ｘ２であり、この式
がメモリに記憶される。

【００６１】次に、ｒθステージ５（図１）で第２調整
用試料２１を再度９０度回転させる（ステップＵ２）。
このとき、θステージ９（図１）は１回転しているので
（ステップＵ３）、表示画像における境界線ｇのデータ
はメモリに記憶されず、それまで記憶した各画像図１４
（Ａ）〜図１４（Ｄ）の境界線ｇのデータに基づいて、
ｒθステージ調整手段１５（図１）が、画像上のｒθス
テージ５（図１）の回転中心の位置Ｑを算出し、その位
置Ｑの座標データ（Ｘ０，Ｙ０）がメモリに記憶される
（ステップＵ４）。この位置Ｑの座標（Ｘ０，Ｙ０）
は、図１５に示すように、 Ｘ０＝（Ｘ１＋Ｘ２）／２ Ｙ０＝（Ｙ１＋Ｙ２）／２ として算出される。この演算は、画像における前記各境
界線ｇで囲まれて構成される四角形の重心を求めている
ことになる。

【００６２】このように、本実施形態の方法によれば、
図１の撮像手段１２で撮像、生成され表示手段１３で表
示された分析対象試料１の表面の画像に基づいて指定し
た部位を、検出手段３が絞り孔４ａを通して臨む位置に
位置合わせする際に、すなわちｒθステージ５の初期状
態において、図１５に示すように、表示された画像の中
心Ｏと画像上のｒθステージ５（図１）の回転中心の位
置Ｑとにずれがあっても、そのずれの方向、量が、Ｐ−
Ｏ、すなわち前記例では（Ｘ０，Ｙ０）として分かるの
で、そのずれを補正して正確に位置合わせをすることが
できる。

【００６３】具体的には、例えば、表面の画像に基づい
て指定した分析対象試料１の部位が、画像の中心Ｏを原
点とするＸＹ座標において（Ｘ，Ｙ）の位置にあるとき
は、まず、画像上のｒθステージ５の回転中心の位置Ｑ
が原点となるように、（Ｘ−Ｘ０，Ｙ−Ｙ０）に補正
し、さらに、Ｑを原点とする極座標に変換して、ｒθス
テージ５で位置合わせをすることができる。したがっ
て、やはり、分析対象試料１における任意の微小部位に
ついて、正確に分析できる。しかも、この方法で用いる
装置においては、図１のｒθステージ調整手段１５によ
り、前記ずれを補正した上での位置合わせまで自動的に
なされる。

【００６４】なお、前記例では、第２調整用試料２１を
ｒθステージ５で、９０度ずつ３回に分けて回転させ、
回転角度θ＝０°，９０°，１８０°，２７０°での画
像における直線状の境界線ｇ（図１４）で構成される四
角形の重心Ｑとして、画像上のｒθステージ５の回転中
心の位置Ｑを求めたが（図１５）、これに限らず、３６
０度を３以上の整数で除した角度ずつ回転させ、さらに
一般的には異なる回転角度になるように回転させ（等角
度ずつでなくてもよい）、各回転角度での画像における
直線状の境界線ｇで構成される多角形（三角形、四角
形、五角形…）の重心として、画像上のｒθステージ５
の回転中心の位置Ｑを求めることができる。

【００６５】しかし、直線状の境界線ｇによる多角形の
構成や画像上のｒθステージ５の回転中心の位置Ｑの算
出の容易を考慮すると、３６０度を３以上の５以下の整
数で除した角度ずつ回転させるのが好ましく、より好ま
しくは前記例のように、回転角度θ＝０°で直線状の境
界線ｇが画像上で水平または垂直になるようにして、９
０度ずつ３回に分けて回転させる。

【００６６】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の請求項１
の蛍光Ｘ線分析方法または請求項３の蛍光Ｘ線分析装置
によれば、分析対象試料の測定前に、前記所定の高さ
で、ｒθステージの回転中心と、検出手段が絞り孔を通
して臨む位置とがずれていても、まず、絞り孔の移動に
おいて両者が合致する位置が分かるので、測定する際
に、絞り孔を移動させてその方向において合致させるこ
とができ、また、分析対象試料の指定した部位を検出手
段が絞り孔を通して臨む位置に位置合わせする際に、す
なわちｒθステージの初期状態において、前記両者間の
ｒ方向のずれの向き、量が分かるので、そのずれを補正
して正確に位置合わせをすることができる。したがっ
て、試料における任意の微小部位について、正確に分析
できる。

【００６７】また、本発明の請求項２の蛍光Ｘ線分析方
法または請求項４の蛍光Ｘ線分析装置によれば、撮像手
段で撮像、生成され表示手段で表示された試料の表面の
画像に基づいて指定した分析対象試料の部位を、検出手
段が絞り孔を通して臨む位置に位置合わせする際に、す
なわちｒθステージの初期状態において、表示された画
像の中心と画像上のｒθステージの回転中心の位置とに
ずれがあっても、そのずれの方向、量が分かるので、そ
のずれを補正して正確に位置合わせをすることができ
る。したがって、やはり、試料における任意の微小部位
について、正確に分析できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態の蛍光Ｘ線分析方法に用い
る装置を示す概略図である。

【図２】同装置におけるｒθステージ調整手段の動作を
示すフロー図である。

【図３】同動作を平面視した図である。

【図４】同動作により得られる蛍光Ｘ線強度の分布測定
結果の例を示す図である。

【図５】同動作の他の例を平面視した図である。

【図６】同動作により得られる蛍光Ｘ線強度の分布測定
結果の他の例を示す図である。

【図７】同装置における絞り孔調整手段の動作を示すフ
ロー図である。

【図８】同動作を平面視した図である。

【図９】同動作により得られる蛍光Ｘ線強度の分布測定
結果の例を示す図である。

【図１０】同動作の他の例を平面視した図である。

【図１１】同動作により得られる蛍光Ｘ線強度の分布測
定結果の他の例を示す図である。

【図１２】同装置におけるｒθステージ調整手段の他の
動作を示すフロー図である。

【図１３】同動作を平面視した図である。

【図１４】同動作により表示手段に表示される調整用試
料の表面の画像を示す図である。

【図１５】同画像における直線状の外形線を重ね合わせ
た図である。

【図１６】従来の蛍光Ｘ線分析装置の一例を示す概略図
である。

【符号の説明】

１…試料（分析対象試料）、２…Ｘ線源、３…検出手
段、４ａ…絞り孔、５…ｒθステージ、１１Ａ，１１
Ｂ，２１…調整用試料、１２…撮像手段、１３…表示手
段、１５…ｒθステージ調整手段、２５…絞り孔調整手
段、Ｂ１…１次Ｘ線、Ｂ２…測定する蛍光Ｘ線、ｆ…直
線状の外形線、ｇ…直線状の境界線。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 井上 達也 大阪府高槻市赤大路町14番８号 理学電機 工業株式会社内 (72)発明者 片岡 由行 大阪府高槻市赤大路町14番８号 理学電機 工業株式会社内 Ｆターム(参考） 2G001 AA01 BA04 CA01 DA02 EA01 FA02 FA06 GA01 GA04 GA06 GA13 HA01 HA13 JA04 JA08 JA11 JA13 KA01 PA11 PA12 SA01 SA04

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ｒθステージで試料の表面を所定の高さ
   に維持して絞り孔を有する検出手段に対して移動させ、
   試料にＸ線源から１次Ｘ線を照射して発生する蛍光Ｘ線
   の一部を前記絞り孔を通過させてその強度を検出手段で
   測定する蛍光Ｘ線分析方法であって、 前記ｒθステージのｒ方向が、前記検出手段が絞り孔を
   通して臨む方向と平面視で平行かまたは重なり、 前記絞り孔が、前記ｒθステージのｒ方向と平面視で直
   交する、水平な方向に移動調整可能であり、 目的元素を含む領域が表面で直線状の外形線を有する試
   料を調整用試料として用い、 前記直線状の外形線が前記ｒθステージのｒ方向と平面
   視で直交するように前記調整用試料を前記ｒθステージ
   に載置し、前記ｒθステージで前記ｒ方向に移動させな
   がら前記Ｘ線源から１次Ｘ線を照射して前記検出手段で
   前記目的元素について蛍光Ｘ線強度の分布測定を行い、
   前記ｒθステージで前記調整用試料を１８０度回転させ
   て再度同様に蛍光Ｘ線強度の分布測定を行い、それらの
   分布測定結果に基づき、前記ｒθステージでのｒ方向の
   移動において、前記所定の高さで、前記ｒθステージの
   回転中心が、前記検出手段が絞り孔を通して臨む位置に
   合致する位置を求めるとともに、 前記直線状の外形線が前記絞り孔の移動方向と平面視で
   直交するように前記調整用試料を前記ｒθステージに載
   置し、前記絞り孔を前記移動方向に移動させながら前記
   Ｘ線源から１次Ｘ線を照射して前記検出手段で前記目的
   元素について蛍光Ｘ線強度の分布測定を行い、前記ｒθ
   ステージで前記調整用試料を１８０度回転させて再度同
   様に蛍光Ｘ線強度の分布測定を行い、それらの分布測定
   結果に基づき、前記絞り孔の移動において、前記所定の
   高さで、前記検出手段が絞り孔を通して臨む位置が、前
   記ｒθステージの回転中心に合致する位置を求める蛍光
   Ｘ線分析方法。
2. 【請求項２】 試料の表面を撮像手段で撮像して生成し
   た画像を表示手段で表示し、その表示された表面の画像
   に基づいて試料の部位を指定して、その指定した部位
   が、検出手段が絞り孔を通して臨む位置にくるように、
   ｒθステージで試料を前記絞り孔を有する検出手段に対
   して移動させ、試料にＸ線源から１次Ｘ線を照射して発
   生する蛍光Ｘ線の一部を前記絞り孔を通過させてその強
   度を検出手段で測定する蛍光Ｘ線分析方法であって、 前記表示手段に表示される表面の画像において直線状の
   境界線を有する試料を調整用試料として用い、 前記調整用試料を初期状態の前記ｒθステージに載置
   し、３６０度を３以上の整数で除した角度ずつ前記ｒθ
   ステージで回転させ、各回転角度での前記表示手段に表
   示される画像における前記直線状の境界線で構成される
   多角形の重心として、前記表示手段に表示される画像上
   の前記ｒθステージの回転中心の位置を求める蛍光Ｘ線
   分析方法。
3. 【請求項３】 ｒθステージで試料の表面を所定の高さ
   に維持して絞り孔を有する検出手段に対して移動させ、
   試料にＸ線源から１次Ｘ線を照射して発生する蛍光Ｘ線
   の一部を前記絞り孔を通過させてその強度を検出手段で
   測定する蛍光Ｘ線分析装置であって、 前記ｒθステージのｒ方向が、前記検出手段が絞り孔を
   通して臨む方向と平面視で平行かまたは重なり、 前記絞り孔が、前記ｒθステージのｒ方向と平面視で直
   交する、水平な方向に移動調整可能であり、 目的元素を含む領域が表面で直線状の外形線を有する試
   料を調整用試料として用い、 前記直線状の外形線が前記ｒθステージのｒ方向と平面
   視で直交するように前記ｒθステージに載置された前記
   調整用試料を、前記ｒθステージで前記ｒ方向に移動さ
   せながら前記Ｘ線源から１次Ｘ線を照射させて前記検出
   手段で前記目的元素について蛍光Ｘ線強度の分布測定を
   行い、前記ｒθステージで前記調整用試料を１８０度回
   転させて再度同様に蛍光Ｘ線強度の分布測定を行い、そ
   れらの分布測定結果に基づき、前記ｒθステージでのｒ
   方向の移動において、前記所定の高さで、前記ｒθステ
   ージの回転中心が、前記検出手段が絞り孔を通して臨む
   位置に合致する位置を求めて記憶し、分析対象試料の指
   定された部位を前記ｒθステージで前記検出手段が絞り
   孔を通して臨む位置に移動させる際に、前記ｒ方向にお
   ける、前記ｒθステージの初期状態の回転中心の位置と
   前記記憶した位置とのずれを補正するｒθステージ調整
   手段と、 前記直線状の外形線が前記絞り孔の移動方向と平面視で
   直交するように前記ｒθステージに載置された前記調整
   用試料に、前記絞り孔を前記移動方向に移動させながら
   前記Ｘ線源から１次Ｘ線を照射させて前記検出手段で前
   記目的元素について蛍光Ｘ線強度の分布測定を行い、前
   記ｒθステージで前記調整用試料を１８０度回転させて
   再度同様に蛍光Ｘ線強度の分布測定を行い、それらの分
   布測定結果に基づき、前記絞り孔の移動において、前記
   所定の高さで、前記検出手段が絞り孔を通して臨む位置
   が、前記ｒθステージの回転中心に合致する位置を求め
   て記憶し、分析対象試料の測定をする際に、前記絞り孔
   を前記記憶した位置に移動させる絞り孔調整手段とを備
   えた蛍光Ｘ線分析装置。
4. 【請求項４】 試料の表面を撮像手段で撮像して生成し
   た画像を表示手段で表示し、その表示された表面の画像
   に基づいて試料の部位が指定され、その指定された部位
   が、検出手段が絞り孔を通して臨む位置にくるように、
   ｒθステージで試料を前記絞り孔を有する検出手段に対
   して移動させ、試料にＸ線源から１次Ｘ線を照射させて
   発生する蛍光Ｘ線の一部を前記絞り孔を通過させてその
   強度を検出手段で測定する蛍光Ｘ線分析装置であって、 前記表示手段に表示される表面の画像において直線状の
   境界線を有する試料を調整用試料として用い、 初期状態の前記ｒθステージに載置された前記調整用試
   料を、３６０度を３以上の整数で除した角度ずつ前記ｒ
   θステージで回転させ、各回転角度での前記表示手段に
   表示される画像における前記直線状の境界線で構成され
   る多角形の重心として、前記表示手段に表示される画像
   上の前記ｒθステージの回転中心の位置を求めて記憶
   し、分析対象試料の指定された部位を前記ｒθステージ
   で前記検出手段が絞り孔を通して臨む位置に移動させる
   際に、前記表示手段に表示される画像の中心と前記記憶
   した位置とのずれを補正するｒθステージ調整手段を備
   えた蛍光Ｘ線分析装置。