JP2001278728A - 化粧料 - Google Patents

化粧料

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JP2001278728A
JP2001278728A JP2000096461A JP2000096461A JP2001278728A JP 2001278728 A JP2001278728 A JP 2001278728A JP 2000096461 A JP2000096461 A JP 2000096461A JP 2000096461 A JP2000096461 A JP 2000096461A JP 2001278728 A JP2001278728 A JP 2001278728A
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JP
Japan
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cosmetic
irritation
skin
antibacterial
amount
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JP2000096461A
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English (en)
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Kazumasa Hisamitsu
一誠 久光
Hiroko Hitsuda
廣子 櫃田
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Fancl Corp
Original Assignee
Fancl Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 可能な限り防腐防黴剤の配合量を少なくし
て、皮膚に対し一次刺激性や感作性を示さず、化粧料使
用時の刺すような痛みやヒリヒリ感などといった違和感
をも与えない化粧料を得ることを目的とした。 【解決手段】 トロポロン誘導体の1種または2種以
上と、多価アルコール類の1種または2種以上を、抗菌
性があり、かつ皮膚低刺激である量で含有することを特
徴とする、抗菌性低刺激化粧料である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、優れた抗菌性を有
し、細菌,かび等の微生物により汚染されることのな
い、安定でかつ皮膚に対する刺激性の低い化粧料に関す
る。さらに詳しくは、トロポロン誘導体の1種または2
種以上と、多価アルコール類の1種または2種以上を含
有してなる、抗菌性の高い低刺激化粧料に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、化粧水、乳液、クリーム等、水を
含有する化粧料においては、製造時および使用時に防腐
防黴性を確保して保存性を高めることを目的として種々
の防腐剤が配合されている。かかる防腐剤としては、イ
ソプロピルメチルフェノール,パラオキシ安息香酸エス
テル,2-フェノキシエタノール等のフェノール類、安息
香酸及びその塩,サリチル酸及びその塩,デヒドロ酢酸
及びその塩,ソルビン酸及びその塩等の酸類、塩化ベン
ザルコニウム,塩化ベンゼトニウム,塩化アルキルトリ
メチルアンモニウム等の第4級アンモニウム類、塩酸ア
ルキルアミノエチルグリシン,塩化ステアリルヒドロキ
シエチルベタインナトリウム等の両性界面活性剤、感光
素等が用いられている。
【0003】しかし、上記の防腐防黴剤には皮膚に対す
る一次刺激性,感作性或いは光感作性の報告されている
ものが多く、安全性の面から化粧品原料基準において配
合量が規制されているものも多い。さらに、皮膚に対し
て発赤,発疹,浮腫といった刺激あるいは感作反応を示
さなくても、化粧料を使用する際に痛みやヒリヒリする
感じなどといった刺激による違和感を与えることも知ら
れている。また、化粧料に配合される基剤や他の配合成
分との相互作用により、十分な抗菌活性を示さない場合
もある。
【0004】たとえば、イソプロピルメチルフェノー
ル,パラオキシ安息香酸エステル,ソルビン酸等の油溶
性防腐防黴剤は、高分子増粘剤や粉体を含む化粧料に配
合した場合、吸着等により抗菌活性が低下する。また、
界面活性剤を含有する化粧料においては、界面活性剤ミ
セルへの取り込みによりやはり抗菌活性の低下が見られ
る。かといって、十分な抗菌活性を期待して多量を配合
すると、低温での結晶析出等、製品の安定性上の問題が
生じる。
【0005】また、安息香酸塩,サリチル酸塩,デヒド
ロ酢酸塩等の水溶性防腐防黴剤は、化粧料のpHが弱酸
性でないと有効ではなく、酸性下にて使用する場合であ
っても、酸性が強くなるに従い水に対する溶解度が低下
し、結晶の析出をきたすことがある。
【0006】さらに、第4級アンモニウム類や両性界面
活性剤については、皮膚刺激性,眼粘膜刺激性が認めら
れたり、発泡しやすい,酸性側で抗菌活性が低下する,
陰イオン性物質との相互作用等の実使用上の問題があ
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明におい
ては、化粧料基剤や他の配合成分により抗菌活性が低下
することなく有効な抗菌作用を示し、かつ可能な限り防
腐防黴剤の配合量を少なくして、皮膚に対し一次刺激性
や感作性を示さず、化粧料使用時の刺すような痛みやヒ
リヒリ感などといった違和感をも与えない化粧料を得る
ことを目的とした。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、皮膚に対する刺激性の低い防腐防黴系を検討した結
果、トロポロン誘導体の1種又は2種以上と、多価アル
コール類の1種又は2種以上とを併用して含有させるこ
とにより、相乗的に抗菌活性が向上することがわかっ
た。これにより、防腐剤の配合量を低くすることがで
き、結果として皮膚に対する刺激性や不快感が著しく低
減することを見い出し、本発明を完成するにいたった。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明において使用するトロポロ
ン誘導体としては、トロポロン、ヒノキチオール、スチ
ピタト酸を挙げることができる。これらは化粧料に1種
または2種以上配合することができる。化粧料への配合
量は、0.0001〜0.5重量%程度の低濃度で十分
である。
【0010】本発明において、用いる抗菌作用を有する
多価アルコールとしては、1,2-ペンタンジオール、1,3-
ブチレングリコール、ジプロピレングリコールが挙げら
れ、これらより1種又は2種以上を選択して配合する。
これらの配合量としては0.1〜10.0重量%程度で
十分である。
【0011】さらに、本発明において、トロポロン誘導
体の配合量をx(%)、多価アルコールの配合量をy
(%)としたとき、−590x+3.1<y<−4.4
x+10であることが望ましい。
【0012】トロポロン誘導体単独では、化粧料組成物
に配合する場合、0.5重量%を配合しても十分な抗菌
活性を得ることはできなかった。しかしながら、多価ア
ルコール類と併用することにより、0.0001〜0.
5重量%程度のトロポロン誘導体を配合すれば十分な防
菌防黴作用を得ることができる。また本発明によって得
られる化粧料は、皮膚や眼に対する刺激性や不快感を緩
和し得る。
【0013】
【発明の実施の形態】本発明に係る発明は、特に水を多
く含有する系や、外相が水相であるO/W型の乳化系に
有用であり、化粧水,乳液,クリーム等の皮膚化粧料、
メイクアップベースローション又はクリーム,乳液状又
はクリーム状ファンデーション,乳化型アイカラー又は
チークカラー,水性懸濁型のアイライナー,乳化型のア
イライナー又はマスカラ等のメイクアップ化粧料、クレ
ンジングローション,クレンジングジェル,液体石けん
等の洗浄化粧料,シャンプー,ヘアーリンス等の毛髪用
化粧料等として提供できる。
【0014】
【実施例】以下に実施例を挙げ、本発明をさらに詳細に
説明するが、本発明はこれによりなんら制限されるもの
ではない。
【0015】まず、本発明に係る化粧料として、比較例
1〜8および実施例1〜2の処方を表1に示す。これら
は、常法に従い、均一に混合、分散して調製する。
【表1】
【0016】(防腐力試験)比較例および実施例に関し
て、細菌、カンジダに対する抗菌活性をUSP XXIIに基づ
くチャレンジテスト法により評価した(表1)。判定は
USPXXIIに基づき、細菌は14日以内に接種菌数の0.1%以
下に減少し、以後28日まで0.1%以下、カンジダは14日以
内に接種菌数と同じまたはそれ以下、以後28日まで同じ
だった場合に合格(○)とした。
【0017】(刺激試験)化粧品や化学物質に対して肌
トラブルを起こしやすい敏感肌の女子被験者(35〜55
歳)20人に、実施例および比較例の化粧料を1日2回
(朝・夕)連続1週間使用させて、皮膚刺激性を評価し
た。皮膚刺激性は刺激を訴えた人数で示した。表2に防
腐力試験および刺激試験の結果を示す。
【表2】
【0018】この結果から、多価アルコールまたはトロ
ポロン誘導体を単独で配合した場合に、防腐力が得られ
る量をそれぞれ配合すると、刺激感が現われてしまうこ
とがわかる。ところが、多価アルコールとトロポロン誘
導体を組み合せると、相乗的な効果から少ない配合量で
効果的な防腐力を得ることができ、刺激感の発現を抑え
ることができることがわかった。
【0019】
【発明の効果】本発明は、多価アルコール類とトロポロ
ン誘導体を組み合せることによって、効果的な防腐力を
与えるとともに、低刺激性の優れた化粧料を提供するこ
とができる。
フロントページの続き Fターム(参考) 4C083 AB032 AB052 AC022 AC121 AC122 AC442 AD092 AD551 AD552 BB48 CC04 CC05 CC11 CC12 CC14 CC23 CC38 CC39 DD33 EE10 4C206 AA01 AA02 BA04 MA01 MA02 MA05 NA14 ZB35

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】トロポロン誘導体の1種または2種以上
    と、多価アルコール類の1種または2種以上を、抗菌性
    があり、かつ皮膚低刺激である量で含有することを特徴
    とする、抗菌性低刺激化粧料。
  2. 【請求項2】トロポロン誘導体が、ヒノキチオールであ
    ることを特徴とする、請求項1に記載の抗菌性低刺激化
    粧料。
  3. 【請求項3】多価アルコール類が、1,2-ペンタンジオー
    ル、1,3-ブチレングリコールまたはジプロピレングリコ
    ールより選択される1種または2種以上であることを特
    徴とする、請求項1または請求項2に記載の抗菌性低刺
    激化粧料。
  4. 【請求項4】トロポロン誘導体の配合量が0.0001
    〜0.1重量%、多価アルコールの配合量が0.1〜1
    0.0重量%であることを特徴とする、請求項1〜請求
    項3のいずれかに記載の抗菌性低刺激化粧料。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004182640A (ja) * 2002-12-03 2004-07-02 Pola Chem Ind Inc 敏感肌用の化粧料
JP2004238356A (ja) * 2003-02-07 2004-08-26 Noevir Co Ltd 毛髪処理剤
JP2005082553A (ja) * 2003-09-10 2005-03-31 Kuraray Co Ltd 皮膚外用剤
WO2006082151A3 (en) * 2005-02-02 2006-12-14 Symrise Gmbh & Co Kg Synergistic mixtures of c6- to c12-alkanediols and tropolone (derivatives)
US7582681B2 (en) 2002-02-19 2009-09-01 Symrise Gmbh & Co. Kg Synergistic mixtures of 1,2-alkane diols

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7582681B2 (en) 2002-02-19 2009-09-01 Symrise Gmbh & Co. Kg Synergistic mixtures of 1,2-alkane diols
JP2004182640A (ja) * 2002-12-03 2004-07-02 Pola Chem Ind Inc 敏感肌用の化粧料
JP2004238356A (ja) * 2003-02-07 2004-08-26 Noevir Co Ltd 毛髪処理剤
JP2005082553A (ja) * 2003-09-10 2005-03-31 Kuraray Co Ltd 皮膚外用剤
WO2006082151A3 (en) * 2005-02-02 2006-12-14 Symrise Gmbh & Co Kg Synergistic mixtures of c6- to c12-alkanediols and tropolone (derivatives)
US8647651B2 (en) 2005-02-02 2014-02-11 Symrise Ag Synergistic mixtures of C6- to C12-alkanediols and tropolone (derivatives)

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