JP2001277731A - Image forming material - Google Patents

Image forming material

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JP2001277731A
JP2001277731A JP2000092008A JP2000092008A JP2001277731A JP 2001277731 A JP2001277731 A JP 2001277731A JP 2000092008 A JP2000092008 A JP 2000092008A JP 2000092008 A JP2000092008 A JP 2000092008A JP 2001277731 A JP2001277731 A JP 2001277731A
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  • Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new image forming material which is highly sensitive and excellent in storage stability, and also prode a sulfonate wherein fermentation performance coexists with storage stability, a discriminating property of an image area from a non-image area (a background area) is excellent, and can be applied to various uses. SOLUTION: The image forming material contains a specific structured sulfonate type generator which generates an acid by an action of heat on a base material, and a compound wherein a change is generated in an absorption area of 360-700 nm by ay reaction inside a molecule or between the molecules owing to an action of the acid. The sulfonate generator may be a polymer, and can double as a compound generating a change in absorption by the action of the acid.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は酸による発色(また
は消色)反応を利用した画像形成材料に関するものであ
る。本発明は、熱の作用によって酸を発生する酸発生剤
と、酸との反応によって吸収変化を生じる化合物を含有
する発色層を有し、高感度で保存性の良好な画像形成材
料に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image forming material utilizing a coloring (or decoloring) reaction with an acid. The present invention relates to an image forming material having an acid generator that generates an acid by the action of heat and a coloring layer containing a compound that undergoes an absorption change by a reaction with the acid, and having high sensitivity and good storage stability. is there.

【0002】[0002]

【従来の技術】スルホン酸エステルは有機合成における
各種反応剤等として広く用いられている。またこのもの
が分解してスルホン酸を発生する性質を利用して、画像
形成の分野においては酸発生剤として用いられている。
酸発生剤としては、熱や光等の作用により酸を発生する
ものが知られており、使用する目的により使い分けられ
ている。その中で熱により酸を発生する熱酸発生剤に関
しては、保存中に熱により経時的に分解しない保存安定
性と熱による酸発生反応の活性とを両立させる必要があ
り、それが不十分であると熱や光を受けた領域と受けな
い領域との識別性が低下する。従来より熱酸発生剤のこ
の種の保存性と反応活性との両立性を改良する検討がな
されており、その概要が有機エレクトロニクス材料研究
会(ぶんしん出版)編「イメージング用有機材料」(1
997年)にまとめられているが、未だこの点ではきわ
めて不十分であり、更なる改良が望まれている。
2. Description of the Related Art Sulfonates are widely used as various reactants in organic synthesis. Utilizing the property of decomposing to generate sulfonic acid, it is used as an acid generator in the field of image formation.
As the acid generator, those which generate an acid by the action of heat, light or the like are known, and they are used properly depending on the purpose of use. Among them, a thermal acid generator that generates an acid by heat needs to have both storage stability that does not decompose over time due to heat during storage and activity of an acid generation reaction due to heat, which is insufficient. If there is, the discriminability between the area that has received heat or light and the area that has not received heat is reduced. Investigations have been made to improve the compatibility between this kind of preservability and reaction activity of thermal acid generators, and the outline is described in “Organic Materials for Imaging” (1), edited by Organic Electronics Materials Research Group (Bunshin Publishing).
997), but this point is still extremely insufficient, and further improvement is desired.

【0003】また近年、高出力レーザーの進歩によりこ
れらレーザーを用いたヒートモードの画像記録媒体の研
究が盛んに行われている。高出力レーザーを用いてレー
ザー照射で酸を発生させ、酸と色素前駆体との反応によ
って画像を形成させる方法が欧州特許第905、656
号に開示されているが、この方法では高出力レーザーを
用いた際には画像記録媒体の表面が一部熱破壊(いわゆ
るアブレーション)し、ヘイズが高くなり、地汚れなど
を引き起こすので、反応温度を高めることには制約があ
る。その結果、反応活性と保存安定性の両立すなわち記
録材料としての識別性は、レーザー光を用いた記録方式
においても不十分であり、実用的な両立性を備えた画像
記録方法及び材料の開発が依然として画像技術分野の課
題となっている。
In recent years, with the progress of high-power lasers, research on heat mode image recording media using these lasers has been actively conducted. A method of generating an acid by laser irradiation using a high-power laser and forming an image by a reaction between the acid and a dye precursor is disclosed in EP 905,656.
In this method, when a high-power laser is used, the surface of the image recording medium is partially destroyed by heat (so-called ablation), the haze is increased, and the background is stained. There are restrictions on raising As a result, the compatibility between the reaction activity and the storage stability, that is, the discriminability as a recording material is not sufficient even in a recording method using a laser beam, and the development of a practical compatible image recording method and material has been required. It is still an issue in the field of imaging technology.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明の第一の目的
は、高感度でしかも保存安定性に優れた新規な画像形成
材料を提供することにある。本発明の第二の目的は、酸
発生能と保存性とが両立して、画像領域と非画像領域
(バックグラウンド領域)との識別性が良好で種々の用
途に適用可能なスルホン酸エステルを提供することであ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a novel image-forming material having high sensitivity and excellent storage stability. A second object of the present invention is to provide a sulfonate ester which has both acid generating ability and storage stability, has good discrimination between an image area and a non-image area (background area), and is applicable to various uses. To provide.

【0005】[0005]

【発明を解決するための手段】本発明者たちは、特定構
造のスルホン酸エステルが、熱の作用によって敏感に酸
を発生し、しかも保存環境においては安定であって熱分
解しないことを見いだし、この事実に基づいて、さらに
検討を重ねた結果、発明の課題を達成するに至った。す
なわち、本発明は、以下の1〜6項によって達成でき
た。
The present inventors have found that a sulfonic acid ester having a specific structure generates an acid sensitively by the action of heat, and is stable in a storage environment and does not thermally decompose. Based on this fact, as a result of further study, the object of the invention has been achieved. That is, the present invention has been achieved by the following items 1 to 6.

【0006】1.支持体上に熱の作用により酸を発生す
る下記一般式(I)で表される酸発生剤と、酸の作用に
よる分子内もしくは分子間反応により360〜700n
mの吸収域に変化を生じる化合物とを含有することを特
徴とする画像形成材料。
[0006] 1. An acid generator represented by the following general formula (I) which generates an acid by the action of heat on a support; and 360 to 700 n by an intramolecular or intermolecular reaction by the action of an acid.
An image forming material comprising: a compound which changes the absorption range of m.

【0007】[0007]

【化2】 Embedded image

【0008】一般式(I)において、R1 はアルキル
基、アリール基もしくはヘテロ環基を表わす。R2は置
換基を表わす。 R3及びR4はそれぞれ独立に水素原子
もしくは置換基を表わす。Xは環を形成するのに必要な
原子団を表わす。 R2、R3もしくはR4はXと結合して
環を形成しても良い。
In the general formula (I), R 1 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group. R 2 represents a substituent. R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a substituent. X represents an atomic group necessary for forming a ring. R 2 , R 3 or R 4 may combine with X to form a ring.

【0009】2.上記一般式(I)で表わされる酸発生
剤が重合性の不飽和基を有することを特徴とする上記1
に記載の画像形成材料。
[0009] 2. Wherein the acid generator represented by the general formula (I) has a polymerizable unsaturated group.
2. The image forming material according to item 1.

【0010】3.上記一般式(I)で表わされる酸発生
剤からなる部分構造を繰り返し単位に有するポリマー
と、酸の作用による分子内もしくは分子間反応により3
60〜700nmの吸収域に変化を生じる化合物とを含
有することを特徴とする画像形成材料。また、一般式
(I)で表わされる酸発生剤の重合によって得られる、
酸発生機能を有する部分構造を繰り返し単位に有するポ
リマーが、同時に酸の作用による分子内もしくは分子間
反応により360〜700nmの吸収域に変化を生じる
官能基をも含んでいてもよく、その場合には、このポリ
マーが上記酸の作用による分子内もしくは分子間反応に
より360〜700nmの吸収域に変化を生じる化合物
を兼ねている。
[0010] 3. A polymer having a partial structure composed of an acid generator represented by the above general formula (I) in a repeating unit and an intramolecular or intermolecular reaction caused by the action of an acid to form 3
An image forming material comprising: a compound which changes the absorption range of 60 to 700 nm. Further, obtained by polymerization of an acid generator represented by the general formula (I),
The polymer having a partial structure having an acid generating function in the repeating unit may also contain a functional group which causes a change in the absorption range of 360 to 700 nm by an intramolecular or intermolecular reaction caused by the action of an acid. Is also a compound in which this polymer causes a change in the absorption range from 360 to 700 nm by an intramolecular or intermolecular reaction caused by the action of the acid.

【0011】4.上記3に記載のポリマーが下記一般式
(II)で示されるポリマーであることを特徴とする上記
3に記載の画像形成材料。 一般式(II) −(A)x−(B)y−(C)z− 一般式(II)において、Aは一般式(I)で表される酸発
生剤の重合によって得られる繰り返し単位を表し、Bは
酸の作用により360〜700nmの吸収域に変化を生
じる部分構造を有する少なくとも1種類以上のビニルモ
ノマーの重合によって得られる繰り返し単位を表し、C
はAおよびBと共重合可能な少なくとも1種類以上のビ
ニルモノマーの重合によって得られる繰り返し単位を表
す。x、yおよびzはモル%を表し、それぞれ1≦x≦
100、0≦y≦99、0≦z≦99、x+y+z=1
00を表す。)
4. 4. The image forming material as described in 3 above, wherein the polymer as described in 3 above is a polymer represented by the following general formula (II). General formula (II)-(A) x- (B) y- (C) z -In general formula (II), A represents a repeating unit obtained by polymerization of an acid generator represented by general formula (I). B represents a repeating unit obtained by polymerization of at least one or more kinds of vinyl monomers having a partial structure that causes a change in an absorption range of 360 to 700 nm by the action of an acid;
Represents a repeating unit obtained by polymerization of at least one or more vinyl monomers copolymerizable with A and B. x, y and z represent mol%, and 1 ≦ x ≦
100, 0 ≦ y ≦ 99, 0 ≦ z ≦ 99, x + y + z = 1
Represents 00. )

【0012】5.赤外線吸収色素を含有し、赤外線レー
ザーの照射により画像を形成することを特徴とする上記
1〜4のいずれか1項に記載の画像形成材料。
5. 5. The image forming material as described in any one of the above items 1 to 4, which contains an infrared absorbing dye and forms an image by irradiation with an infrared laser.

【0013】6.画像形成層が銀化合物又はその塩を含
有していないことを特徴とする上記1〜5のいずれか1
項に記載の画像形成材料。
6. Any one of the above items 1 to 5, wherein the image forming layer does not contain a silver compound or a salt thereof.
Item.

【0014】7.上記一般式(I)で表されることを特
徴とするスルホン酸エステル誘導体。
7. A sulfonic acid ester derivative represented by the above general formula (I).

【0015】8.上記一般式(II)で表されることを特
徴とするスルホン酸エステル基含有ポリマー。
[8] A polymer containing a sulfonic acid ester group, which is represented by the general formula (II).

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳しく述べ
る。まず、一般式(I)の化合物について説明する。一
般式(I)において、R1はアルキル基(メチル基、エ
チル基、n−プロピル基、イソプロピル基、t−ブチル
基、n−オクチル基、ドデシル基、シクロプロピル基、
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、 [0,1,3]ビシク
ロヘキシル基、[1,2,2]ビシクロヘプチル基、[1,1,3]ビ
シクロヘプチル基等)、アリール基(フェニル基、ナフ
チル基等)もしくはヘテロ環基(フリル基、チエニル
基、ピリミジニル基、ベンゾチアゾリル基等)を表わ
す。これらのうちで好ましくはアルキル基もしくはアリ
ール基であり、特に好ましくはアリール基である。これ
らの基は、置換基を除いて炭素数が1〜18であり、好
ましくは1〜12である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail. First, the compound of the general formula (I) will be described. In the general formula (I), R 1 is an alkyl group (methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, t-butyl group, n-octyl group, dodecyl group, cyclopropyl group,
Cyclopentyl group, cyclohexyl group, [0,1,3] bicyclohexyl group, [1,2,2] bicycloheptyl group, [1,1,3] bicycloheptyl group, etc., aryl group (phenyl group, naphthyl group, etc.) ) Or a heterocyclic group (furyl, thienyl, pyrimidinyl, benzothiazolyl, etc.). Of these, an alkyl group or an aryl group is preferred, and an aryl group is particularly preferred. These groups have 1 to 18 carbon atoms, and preferably 1 to 12 carbon atoms, excluding a substituent.

【0017】また、これらの基は、更に置換基を有して
いても良く、置換基としては置換可能なものであればい
ずれの置換基であってもよく、好ましい置換基として
は、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素及びヨウ素)、
アルキル基(具体例は前記と同じで、シクロアルキル
基、ビシクロアルキル基を含む)、アルケニル基(ビニ
ル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル
基、2−シクロペンテン−1−イル基等)、アルキニル
基(エチニル基、プロパルギル基、トリメチルシリルエ
チニル基等)、アリール基(具体例は前述と同じ)、ヘ
テロ環基(具体例は前述と同じ)、シアノ基、ヒドロキ
シル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基(メ
トキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、t−ブトキ
シ基、n−オクチルオキシ基等)、アリールオキシ基
(フェノキシ基、ナフトキシ基等)、シリルオキシ基
(トリメチルシリルオキシ基、t−ブチルジメチルシリ
ルオキシ基等)、ヘテロ環オキシ基(ピリジルオキシ
基、2−テトラヒドロピラニルオキシ基等)、アシルオ
キシ基(ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロ
イルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキ
シ基等)、カルバモイルオキシ基( N,N−ジメチル
カルバモイルオキシ基、 モルホリノカルボニルオキシ
基、N,N−ジ−n−オクチルアミノカルボニルオキシ
基、N−n−オクチルカルバモイルオキシ基等)、アル
コキシカルボニルオキシ基(メトキシカルボニルオキシ
基、エトキシカルボニルオキシ基、t−ブトキシカルボ
ニルオキシ基、n−オクチルカルボニルオキシ基等)、
アリールオキシカルボニルオキシ基(フェノキシカルボ
ニルオキシ基等)、
Further, these groups may further have a substituent, and any substituent may be used as long as it can be substituted, and a preferable substituent is a halogen atom. (Fluorine, chlorine, bromine and iodine),
Alkyl group (specific examples are the same as above, including cycloalkyl group and bicycloalkyl group), alkenyl group (vinyl group, allyl group, prenyl group, geranyl group, oleyl group, 2-cyclopenten-1-yl group, etc.) , Alkynyl group (ethynyl group, propargyl group, trimethylsilylethynyl group, etc.), aryl group (specific examples are as described above), heterocyclic group (specific examples are as described above), cyano group, hydroxyl group, nitro group, carboxyl group , An alkoxy group (methoxy group, ethoxy group, isopropoxy group, t-butoxy group, n-octyloxy group, etc.), an aryloxy group (phenoxy group, naphthoxy group, etc.), a silyloxy group (trimethylsilyloxy group, t-butyldimethyl group) Silyloxy group, etc.), heterocyclic oxy group (pyridyloxy group, 2-tetrahydropyrani Oxy group, etc.), acyloxy group (formyloxy group, acetyloxy group, pivaloyloxy group, stearoyloxy group, benzoyloxy group, etc.), carbamoyloxy group (N, N-dimethylcarbamoyloxy group, morpholinocarbonyloxy group, N, N -Di-n-octylaminocarbonyloxy group, Nn-octylcarbamoyloxy group, etc., alkoxycarbonyloxy group (methoxycarbonyloxy group, ethoxycarbonyloxy group, t-butoxycarbonyloxy group, n-octylcarbonyloxy group etc),
An aryloxycarbonyloxy group (such as a phenoxycarbonyloxy group),

【0018】さらに、アミノ基(アニリノ基をも含み、
アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリ
ノ基、N-メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基
等)、アシルアミノ基(アセチルアミノ基、ピバロイル
アミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、
3,4,5−トリ−n−オクチルオキシフェニルカルボ
ニルアミノ基等)、カルバモイルアミノ基(カルバモイ
ルアミノ基、N,N−ジメチルアミノカルボニルアミノ
基、N,N−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モル
ホリノカルボニルアミノ基等)、アルコキシカルボニル
アミノ基(メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカル
ボニルアミノ基、t−ブトキシカルボニルアミノ、n−
オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、N−メチルー
メトキシカルボニルアミノ等)、アリールオキシカルボ
ニルアミノ基(フェノキシカルボニルアミノ基等)、ス
ルファモイルアミノ基(スルファモイルアミノ基、N,
N−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、N−n−オク
チルアミノスルホニルアミノ等基)、アルキル及びアリ
ールスルホニルアミノ基(メチルスルホニルアミノ基、
ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ
基等)、
Furthermore, an amino group (including an anilino group,
Amino group, methylamino group, dimethylamino group, anilino group, N-methyl-anilino group, diphenylamino group, etc., acylamino group (acetylamino group, pivaloylamino group, lauroylamino group, benzoylamino group,
3,4,5-tri-n-octyloxyphenylcarbonylamino group, etc., carbamoylamino group (carbamoylamino group, N, N-dimethylaminocarbonylamino group, N, N-diethylaminocarbonylamino group, morpholinocarbonylamino group Etc.), alkoxycarbonylamino group (methoxycarbonylamino group, ethoxycarbonylamino group, t-butoxycarbonylamino, n-
Octadecyloxycarbonylamino group, N-methyl-methoxycarbonylamino, etc.), aryloxycarbonylamino group (phenoxycarbonylamino group, etc.), sulfamoylamino group (sulfamoylamino group, N,
N-dimethylaminosulfonylamino group, Nn-octylaminosulfonylamino group, etc., alkyl and arylsulfonylamino groups (methylsulfonylamino group,
Butylsulfonylamino group, phenylsulfonylamino group, etc.),

【0019】さらに、メルカプト基、アルキルチオ基
(メチルチオ基、エチルチオ基、n−ヘキサデシルチオ
基等)、アリールチオ基(フェニルチオ基等)、ヘテロ
環チオ基(2−ベンゾチアゾリルチオ基、1−フェニル
テトラゾール−5−イルチオ基等)、スルファモイル基
( N−エチルスルファモイル基、N−(3−ドデシル
オキシプロピル)スルファモイル基、N,N−ジメチル
スルファモイル基、N−アセチルスルファモイル基、N
−ベンゾイルスルファモイル基、N−(N“−フェニル
カルバモイル)スルファモイル基等)、スルホ基、アル
キル及びアリールスルフィニル基(メチルスルフィニル
基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基
等)、アルキル及びアリールスルホニル基(メチルスル
ホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基
等)、アシル基(アセチル基、ピバロイル基、2−クロ
ロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基等)、ア
リールオキシカルボニル基(フェノキシカルボニル
等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル
基、n−オクタデシルオキシカルボニル基等)、カルバ
モイル基(カルバモイル基、N−メチルカルバモイル、
N,N−ジメチルカルバモイル基、N,N−ジ−n−オ
クチルカルバモイル、N−(メチルスルホニル)カルバ
モイル基等)、イミド基(N−スクシンイミド基、N−
フタルイミド基等)、ホスフィノ基(ジメチルホスフィ
ノ基、ジフェニルホスフィノ基等)、ホスフィニル基、
ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル
基(トリメチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル
基、フェニルジメチルシリル基等)が例として挙げられ
る。R1の置換基として最も好ましくはアルキル基であ
る。R1の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限
定されるものではない。
Furthermore, mercapto groups, alkylthio groups (methylthio group, ethylthio group, n-hexadecylthio group, etc.), arylthio groups (phenylthio group, etc.), heterocyclic thio groups (2-benzothiazolylthio group, 1-phenyltetrazole- 5-ylthio group, etc.), sulfamoyl group (N-ethylsulfamoyl group, N- (3-dodecyloxypropyl) sulfamoyl group, N, N-dimethylsulfamoyl group, N-acetylsulfamoyl group, N
-Benzoylsulfamoyl group, N- (N "-phenylcarbamoyl) sulfamoyl group, etc., sulfo group, alkyl and arylsulfinyl group (methylsulfinyl group, ethylsulfinyl group, phenylsulfinyl group, etc.), alkyl and arylsulfonyl group ( Methylsulfonyl, ethylsulfonyl, phenylsulfonyl, etc.), acyl (acetyl, pivaloyl, 2-chloroacetyl, stearoyl, benzoyl, etc.), aryloxycarbonyl (phenoxycarbonyl, etc.), alkoxycarbonyl (Methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, t-butoxycarbonyl group, n-octadecyloxycarbonyl group, etc.), carbamoyl group (carbamoyl group, N-methylcarbamoyl,
N, N-dimethylcarbamoyl group, N, N-di-n-octylcarbamoyl group, N- (methylsulfonyl) carbamoyl group, etc., imide group (N-succinimide group, N-
Phthalimido group), phosphino group (dimethylphosphino group, diphenylphosphino group, etc.), phosphinyl group,
Examples include a phosphinyloxy group, a phosphinylamino group, and a silyl group (such as a trimethylsilyl group, a t-butyldimethylsilyl group, and a phenyldimethylsilyl group). Most preferably, R 1 is an alkyl group. Specific examples of R 1 are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0020】[0020]

【化3】 Embedded image

【0021】[0021]

【化4】 Embedded image

【0022】[0022]

【化5】 Embedded image

【0023】一般式(I)において置換基R2は置換基
を表わし、置換基としてはR1の説明で記したものが挙
げられる。 R2として好ましくはアルキル基、ハロゲン
原子もしくはアルコキシ基であり、さらに好ましくはア
ルキル基である。 R3およびR 4はそれぞれ独立に水素
原子もしくは置換基を表わし、置換基としてはR1の説
明で記したものが挙げられる。 R3およびR4として好
ましくは水素原子、アルキル基、ハロゲン原子もしくは
アルコキシ基であり、さらに好ましくは水素原子もしく
はアルキル基である。またR3とR4のうちの少なくとも
1つは置換基であることが好ましい。Xは環を形成する
のに必要な原子団を表わす。環の大きさとして好ましく
は3員〜9員環が好ましく、更に好ましくは5員環また
は6員環であり、特に好ましくは6員環である。Xは非
金属原子団であることが好ましく、更に好ましくは−C
(R5)(R6)−、−C(=Y)−、−N(R7)−、
−O−、−S−であり、特に好ましくは−C(R5
(R6)−である。ここでR5、R6、R7は水素原子もし
くは置換基を表わし、置換基としての好ましい例はR1
の説明で挙げたものと同じである。 R5、R6もしくは
7が分子内に複数存在する場合、それらは同じであっ
ても異なっていても良く、またいずれか2つもしくはそ
れ以上のものが結合して環を形成しても良い。Yは、=
O、=S、もしくは=N− R7を表わし、R7は前述の
ものと同じである。 R2、R3もしくはR4は、Xと結合
して環を形成しても良い。またR1〜R4のうち少なくと
も一つが重合性の不飽和基を有していることが好まし
く、重合性不飽和基としてはビニル基が好ましい。さら
に一般式(I)で表わされる化合物の中でさらに好まし
くは、下記一般式(III)で表わされる化合物である。
In the general formula (I), the substituent RTwoIs a substituent
And the substituent is R1What was written in the description of
I can do it. RTwoPreferably an alkyl group, halogen
Atom or alkoxy group, more preferably
Is a alkyl group. RThreeAnd R FourAre each independently hydrogen
Represents an atom or a substituent, and the substituent is R1Theory of
Those mentioned in the clear. RThreeAnd RFourGood as
Preferably a hydrogen atom, an alkyl group, a halogen atom or
An alkoxy group, more preferably a hydrogen atom or
Is an alkyl group. Also RThreeAnd RFourAt least of
One is preferably a substituent. X forms a ring
Represents an atomic group required for Preferred as ring size
Is preferably a 3- to 9-membered ring, more preferably a 5-membered ring or
Is a 6-membered ring, particularly preferably a 6-membered ring. X is non
It is preferably a metal atom group, more preferably -C
(RFive) (R6)-, -C (= Y)-, -N (R7)-,
—O— and —S—, and particularly preferably —C (RFive)
(R6)-. Where RFive, R6, R7Is a hydrogen atom
Or a substituent, and a preferred example of the substituent is R1
Is the same as that described in the description. RFive, R6Or
R7Are the same when there are multiple
Or different, and any two or
More than one may combine to form a ring. Y is =
O, = S, or = N-R7And R7Is
Same as the ones. RTwo, RThreeOr RFourIs combined with X
To form a ring. Also R1~ RFourAt least
It is preferred that at least one has a polymerizable unsaturated group.
Preferably, the polymerizable unsaturated group is a vinyl group. Further
Are more preferred among the compounds represented by the general formula (I).
And a compound represented by the following general formula (III).

【0024】[0024]

【化6】 Embedded image

【0025】式中、R1〜R4は一般式(I)と同義であ
る。R8およびR10は水素原子もしくは置換基(具体例
はR1の説明で挙げたもの)を表わし、好ましくは水素
原子もしくはアルキル基であり、さらに好ましくは水素
原子である。R9は水素原子もしくは置換基(具体例は
1の説明で挙げたもの)を表わし、好ましくはハメッ
トのσm値が0以上のものであり、さらに好ましくは水
素原子もしくはアシルオキシ基である。さらに一般式
(III)で表わされる化合物はいずれかの部位に重合性
の不飽和基を有していることが好ましく、重合性基とし
てはビニル基が好ましい。
In the formula, R 1 to R 4 have the same meaning as in formula (I). R 8 and R 10 represent a hydrogen atom or a substituent (specific examples are those described in the description of R 1 ), preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and more preferably a hydrogen atom. R 9 represents a hydrogen atom or a substituent (specific examples are those described in the description of R 1 ), and preferably have a Hammett σm value of 0 or more, and more preferably a hydrogen atom or an acyloxy group. Further, the compound represented by the general formula (III) preferably has a polymerizable unsaturated group at any site, and a vinyl group is preferable as the polymerizable group.

【0026】以下に一般式(I)および(III)で表わ
される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定
されるものではない。また化合物によってはcis-体とtr
ans-体等の異性体が存在するものもあるが、以下の記載
はそれら異性体の構造を特定するものではなく、また異
性体の混合物として利用する場合も含まれる。また、合
成例で具体的に後述するように、これらの化合物は、ヒ
ドロキシ基をもつ化合物とスルホニルクロライドとの脱
塩酸反応など通常のスルホン酸エステル化の語おお旺盛
方法を用いて合成することができる。
Specific examples of the compounds represented by formulas (I) and (III) are shown below, but the present invention is not limited thereto. In some compounds, cis-form and tr
There are some isomers such as ans-isomers, but the following description does not specify the structure of these isomers, and includes the case where the isomers are used as a mixture of isomers. In addition, as specifically described later in the synthesis examples, these compounds can be synthesized using a general sulfonic acid esterification method such as a dehydrochlorination reaction between a compound having a hydroxy group and a sulfonyl chloride. it can.

【0027】[0027]

【化7】 Embedded image

【0028】[0028]

【化8】 Embedded image

【0029】[0029]

【化9】 Embedded image

【0030】[0030]

【化10】 Embedded image

【0031】[0031]

【化11】 Embedded image

【0032】またこれらの酸発生剤の添加量は吸収変化
を伴う化合物の種類によっても異なるが、一般に後述す
る酸の作用により360nm〜700nmの吸収域に吸収変
化を伴う化合物に対して0.001〜20当量の範囲で
あることが好ましく、特に好ましくは0.01〜5当量
の場合である。
The amount of these acid generators varies depending on the type of the compound having a change in absorption, but is generally 0.001 to the compound having a change in absorption in the absorption region of 360 to 700 nm due to the action of an acid described later. The range is preferably from 20 to 20 equivalents, particularly preferably from 0.01 to 5 equivalents.

【0033】次に酸の作用により分子内もしくは分子間
反応を起こし360〜700nmの吸収域に変化を生じ
る化合物について説明する。このような吸収変化を伴う
化合物は単一の化合物であってもよいし、2成分以上で
構成されていてもよい。例えば、(a)ディールスアルダ
ー反応によって前記領域に消色画像を形成する化合物の
組み合わせ(例えば、9,10−ジスチリルアントラセ
ンと無水マレイン酸の組み合わせ、あるいはテトラフェ
ニルシクロペンタジエンとアクリル酸エステルの組み合
わせ等)、(b)レトロディールスアルダー反応によって
前記領域に発色画像を形成する化合物(例えば9,10
−ジスチリルアントラセンと無水マレイン酸の付加体、
ジフェニルイソベンゾフランとアクリルアミドの付加体
等)、(c)βー水素離脱によって共役系が拡張され前記
領域に発色画像を形成する化合物(例えば1ーアセトキ
シー1,2−ジアリ−ルエタン、1ースルホキシー1,
2−ジアリ−ルエタン等)、(d)脱水縮合によって前記
領域に発色画像を形成するアルデヒドと活性メチレン化
合物の組み合わせ(例えば写真用4等量マゼンタカプラ
ー(ピラゾロン誘導体)とpーメトキシシンナムアルデ
ヒド等)あるいは(e)酸の作用で分解または離脱が促進
される置換基によって置換されたアミノ基もしくは水酸
基を分子内に有し、該置換基が外れることによって前記
吸収域における吸収が変化する化合物等が挙げられる。
Next, compounds which cause an intramolecular or intermolecular reaction by the action of an acid to cause a change in the absorption range of 360 to 700 nm will be described. The compound having such an absorption change may be a single compound or may be composed of two or more components. For example, (a) a combination of compounds forming a decolored image in the area by the Diels-Alder reaction (for example, a combination of 9,10-distyrylanthracene and maleic anhydride, or a combination of tetraphenylcyclopentadiene and acrylate) ), (B) a compound that forms a color image in the region by a retro Diels-Alder reaction (eg, 9, 10
An adduct of distyrylanthracene and maleic anhydride,
(C) a compound which expands a conjugated system by β-hydrogen elimination to form a color image in the region (for example, 1-acetoxy-1,2-diarylethane, 1-sulfoxy-1,
(D) a combination of an aldehyde and an active methylene compound which forms a color image in the area by dehydration condensation (for example, a photographic 4 equivalent magenta coupler (pyrazolone derivative) and p-methoxycinnamaldehyde) Or (e) a compound having an amino group or a hydroxyl group substituted by a substituent whose decomposition or elimination is promoted by the action of an acid in the molecule, and a compound or the like whose absorption in the absorption region changes due to the removal of the substituent. No.

【0034】アミノ基の置換基が酸の作用によって分解
もしくは離脱することにより吸収が変化する化合物にお
けるアミノ基の置換基としてはアルコキシカルボニル基
(例えばtーブトキシカルボニル基、シクロヘキシルオ
キシカルボニル基、2ー(2ーメチル)ブトキシカルボ
ニル基、2ー(2ーフェニル)プロピルオキシカルボニ
ル基、2ークロロエトキシカルボニル基等)、アシル基
(例えばアセチル基、ベンゾイル基、2ーニトロベンゾ
イル基、4ークロロベンゾイル基、1ーナフトイル基
等)もしくはホルミル基等が好ましい例として挙げられ
るが本発明では保存安定性と熱感度の観点からβ位に水
素原子を有するアルコキシカルボニル基が特に有用であ
る。
In a compound in which the absorption is changed by the decomposition or elimination of the amino group by the action of an acid, the amino group is substituted with an alkoxycarbonyl group (for example, a t-butoxycarbonyl group, a cyclohexyloxycarbonyl group, (2-methyl) butoxycarbonyl group, 2- (2-phenyl) propyloxycarbonyl group, 2-chloroethoxycarbonyl group, etc.), acyl group (for example, acetyl group, benzoyl group, 2-nitrobenzoyl group, 4-chlorobenzoyl group, Preferred examples thereof include a 1-naphthoyl group) and a formyl group. In the present invention, an alkoxycarbonyl group having a hydrogen atom at the β-position is particularly useful from the viewpoint of storage stability and heat sensitivity.

【0035】このような化合物としては、例えば米国特
許第4,602,263号、第4,826,976号等
に記載例があり、本発明の熱酸発生剤および酸増殖剤と
組み合わせることにより、より高感度で保存性に優れた
感熱形成材料を提供することができる。
Examples of such a compound are described in, for example, US Pat. Nos. 4,602,263 and 4,826,976, and can be obtained by combining the compound with the thermal acid generator and the acid multiplying agent of the present invention. Thus, a heat-sensitive material having higher sensitivity and excellent storage stability can be provided.

【0036】水酸基の置換基が酸の作用によって分解も
しくは離脱することにより吸収が変化する化合物におけ
る水酸基の置換基としては、β位に水素原子を有する2
級もしくは3級のアルコキシカルボニル基(例えばtー
ブトキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル
基、1ーフェニルエトキシカルボニル基、1,1ージフ
ェニルエトキシカルボニル基、2ーシクロヘキセンオキ
シカルボニル基等)、シリル基(例えばトリメチルシリ
ル基、トリエチルシリル基、tーブチルジメチルシリル
基、tーブチルジフェニルシリル基、フェニルジメチル
シリル基等)、アルコキシメチル基(例えばメトキシメ
チル基、エトキシメチル基、1ーメトキシエチル基、1
ーフェノキシエチル基、2ー(2ーメトキシプロピル)
基等)およびβ位に水素原子を有する2級もしくは3級
のアルキル基(例えばテトラヒドロピラニル基、テトラ
ヒドロフラニル基、4,5−ジヒドロ−2−メチルフラ
ン−5−イル基、tーブチル基、2ーシクロヘキセニル
基等)が好ましい例として挙げられるが、本発明では特
にβ位に水素原子を有する2級もしくは3級のアルコキ
シカルボニル基が好ましい。水酸基の置換基の分解によ
って吸収が変化する化合物としては米国特許第5,24
3,052号あるいは特開平9−25360号等に記載
例がある。
As the substituent of the hydroxyl group in the compound in which the absorption is changed by the decomposition or elimination of the hydroxyl group by the action of an acid, the hydroxyl group has a hydrogen atom at the β-position.
Secondary or tertiary alkoxycarbonyl group (for example, t-butoxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, 1-phenylethoxycarbonyl group, 1,1-diphenylethoxycarbonyl group, 2-cyclohexeneoxycarbonyl group, etc.), silyl group (for example, Trimethylsilyl group, triethylsilyl group, t-butyldimethylsilyl group, t-butyldiphenylsilyl group, phenyldimethylsilyl group, etc.), alkoxymethyl group (for example, methoxymethyl group, ethoxymethyl group, 1-methoxyethyl group,
-Phenoxyethyl group, 2- (2-methoxypropyl)
A secondary or tertiary alkyl group having a hydrogen atom at the β-position (eg, a tetrahydropyranyl group, a tetrahydrofuranyl group, a 4,5-dihydro-2-methylfuran-5-yl group, a t-butyl group, A 2-cyclohexenyl group) is a preferable example, but in the present invention, a secondary or tertiary alkoxycarbonyl group having a hydrogen atom at the β-position is particularly preferable. Compounds whose absorption is changed by decomposition of a hydroxyl group substituent are described in US Pat.
Examples are described in JP-A-3,052 or JP-A-9-25360.

【0037】また酸との接触により瞬時に発色する塩基
性のロイコ染料等も該画像形成材料において使用するこ
とができる。そのような化合物の例としては有機エレク
トロニクス材料研究会編、”イメージング用有機材料”
ぶんしん出版社刊(1997)、に記載されている化合
物およびそこに記載されている引用文献記載の化合物等
が挙げられる。以下に酸の作用により360〜700nm
の吸収域に変化を生じる化合物の具体例を示すが本発明
はこれらに限定されるものではない。また、この化合物
がポリマーである場合、ポリマーの分子量は1千〜10
0万の範囲にあることが好ましく、特に好ましくは2千
〜10万の範囲にある場合である。下記具体例におい
て、ポリマーの例は、LD3,5,23,24,25,30及び34である
が、各構造式中のnは、上記の範囲の任意の分子量を選
択できる。
A basic leuco dye or the like which develops color instantly upon contact with an acid can also be used in the image forming material. An example of such a compound is “Organic Materials for Imaging”, edited by Organic Electronics Materials Research Group.
Compounds described in Bunshin Publishing Co., Ltd. (1997) and compounds described in the cited references described therein. Below 360-700nm by the action of acid
Specific examples of the compound which causes a change in the absorption range are shown below, but the present invention is not limited thereto. When the compound is a polymer, the molecular weight of the polymer is 1,000 to 10
It is preferably in the range of 100,000, particularly preferably in the range of 2,000 to 100,000. In the following specific examples, examples of the polymer are LD3, 5, 23, 24, 25, 30, and 34, and n in each structural formula can be selected from any molecular weight in the above range.

【0038】[0038]

【化12】 Embedded image

【0039】[0039]

【化13】 Embedded image

【0040】[0040]

【化14】 Embedded image

【0041】[0041]

【化15】 Embedded image

【0042】[0042]

【化16】 Embedded image

【0043】[0043]

【化17】 Embedded image

【0044】[0044]

【化18】 Embedded image

【0045】本発明の画像形成材料は一般的に前記酸発
生剤および酸の作用により360〜700nmの吸収域
に変化を生じる化合物を支持体上に塗布して作製され
る。この際、これらのいずれかがポリマーである場合、
あるいは塗布性の良いアモルファスである場合を除き、
通常はバインダ−を共存させる。バインダーを使用しな
くてもよい場合は、膜厚を薄くし易く、解像性の良い画
像が得られるという利点がある。
The image forming material of the present invention is generally prepared by coating a support with a compound capable of changing the absorption range from 360 to 700 nm by the action of the acid generator and the acid. At this time, when any of these is a polymer,
Or, unless it is amorphous with good coatability,
Usually, a binder coexists. When the binder does not need to be used, there is an advantage that the film thickness can be easily reduced and an image with good resolution can be obtained.

【0046】またバインダーを用いる場合には、ゼラチ
ン、カゼイン、デンプン類、ヒドロキシエチルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコー
ル、ポリアクリルアミド、エチレン−無水マレイン酸コ
ポリマー等の水溶性バインダー、およびポリビニルブチ
ラール、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、アク
リル酸メチル−ブタジエンコポリマー、アクリロニトリ
ル−ブタジエンコポリマー等の水不溶性バインダーのい
ずれも用いることができる。
When a binder is used, water-soluble binders such as gelatin, casein, starches, hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, polyvinyl alcohol, polyacrylamide, ethylene-maleic anhydride copolymer, and polyvinyl butyral, triacetyl cellulose, Any of water-insoluble binders such as polystyrene, methyl acrylate-butadiene copolymer, and acrylonitrile-butadiene copolymer can be used.

【0047】一方、酸発生剤もしくは酸の作用により3
60〜700nmの吸収域に変化を生じる化合物のいず
れかもしくは双方(共重合を含む)がポリマーである場
合、バインダーを別途添加する必要がなく、色相が変化
する該化合物のごく近傍に酸が発生するという意味で高
感度化が期待できる。またポリマー化により分子の拡散
を制御することにより画像の切れ、保存性を改良できる
可能性がある。これらの特性は、特にグラフィックアー
ツフィルムのような高画質が要求される用途に好まし
い。そのような化合物として好ましい形態は一般式(I
I)で表わされるものである。
On the other hand, by the action of an acid generator or an acid, 3
When one or both of the compounds (including copolymerization) that cause a change in the absorption range of 60 to 700 nm are polymers, it is not necessary to separately add a binder, and an acid is generated in the immediate vicinity of the compound whose hue changes. In that sense, higher sensitivity can be expected. In addition, by controlling the diffusion of molecules by polymerization, there is a possibility that the cut-off and preservation of images can be improved. These characteristics are particularly preferable for applications requiring high image quality, such as graphic arts films. A preferred form of such a compound is represented by the general formula (I
It is represented by I).

【0048】一般式(II)について説明する。一般式
(II)において、Aは一般式(I)もしくは(III)で表
わされる化合物の中で重合性基がついたものであり、そ
の具体例は前記化合物例の中で重合性基がついたものが
相当する。一般式(II)においてBは酸の作用により3
60〜700nmの吸収域に変化を生じる部分構造を有
する少なくとも1種類以上のビニルモノマーの重合によ
って得られる繰り返し単位を表す。このモノマーは、前
述した酸の作用によって吸収変化を生じる化合物におい
て、その構造の置換可能な位置に重合性基を導入したも
のである。以下に具体例を示すが本発明はこれらに限定
されるものではない。
The general formula (II) will be described. In the general formula (II), A is a compound represented by the general formula (I) or (III) with a polymerizable group, and specific examples thereof include a polymerizable group in the above compound examples. Are equivalent. In the general formula (II), B is 3 due to the action of an acid.
It represents a repeating unit obtained by polymerization of at least one kind of vinyl monomer having a partial structure that causes a change in an absorption range of 60 to 700 nm. This monomer is obtained by introducing a polymerizable group at a substitutable position in the structure of a compound which causes an absorption change by the action of an acid described above. Specific examples are shown below, but the present invention is not limited to these.

【0049】[0049]

【化19】 Embedded image

【0050】[0050]

【化20】 Embedded image

【0051】[0051]

【化21】 Embedded image

【0052】[0052]

【化22】 Embedded image

【0053】[0053]

【化23】 Embedded image

【0054】[0054]

【化24】 Embedded image

【0055】[0055]

【化25】 Embedded image

【0056】一般式(II)におけるCは、AおよびBと
ともに共重合体を形成することが可能な少なくとも1種
類以上のビニルモノマーの重合によって得られる繰り返
し単位を表し、極性、ガラス転位温度等を調節すること
により保存安定性、発色活性等を制御することができ
る。このようなビニルモノマーは2種類以上を組み合わ
せても良い。好ましい例としては、アクリル酸エステ
ル、メタクリル酸エステル、アクリルアミド、スチレ
ン、ビニルエーテル等が挙げられる。以下にCを形成す
るモノマーの具体例を示すが本発明はこれらに限定され
るものではない。
C in the general formula (II) represents a repeating unit obtained by polymerization of at least one kind of vinyl monomer capable of forming a copolymer with A and B, and represents a polarity, a glass transition temperature, and the like. The storage stability, the color-forming activity and the like can be controlled by adjusting. Such vinyl monomers may be used in combination of two or more. Preferred examples include acrylate, methacrylate, acrylamide, styrene, vinyl ether and the like. Specific examples of the monomer forming C are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0057】[0057]

【化26】 Embedded image

【0058】[0058]

【化27】 Embedded image

【0059】[0059]

【化28】 Embedded image

【0060】[0060]

【化29】 Embedded image

【0061】一般式(II)におけるx、y、zは各組成
のモル%を表す。x、y、zはそれぞれ1≦x≦10
0、0≦y≦99、0≦z≦99でありx+y+z=1
00である。一般式(II)で表されるポリマーの分子量
は1千〜100万の範囲にあることが好ましく、特に好
ましくは2千〜10万の範囲にある場合である。また該
ポリマーはホモポリマー、ランダム共重合体、交互共重
合体、ブロック共重合体等いずれの形態であってもかま
わないが、合成的に容易なホモポリマー、ランダム共重
合体が好ましい。
In the general formula (II), x, y and z represent mol% of each composition. x, y, z are each 1 ≦ x ≦ 10
0, 0 ≦ y ≦ 99, 0 ≦ z ≦ 99, and x + y + z = 1
00. The molecular weight of the polymer represented by the general formula (II) is preferably in the range of 1,000 to 1,000,000, and particularly preferably in the range of 2,000 to 100,000. The polymer may be in any form such as a homopolymer, a random copolymer, an alternating copolymer, and a block copolymer, but is preferably a homopolymer or a random copolymer which is easily synthesized.

【0062】以下に一般式(II)で表されるポリマーに
おけるA、B、Cを形成するモノマーおよびx、y、z
の好ましい組み合わせを示すが本発明はこれらに限定さ
れるものではない。
The monomers forming A, B, C in the polymer represented by the general formula (II) and x, y, z
Are shown, but the present invention is not limited to these.

【0063】[0063]

【表1】 [Table 1]

【0064】本発明のポリマーの合成は種々の重合方
法、例えば溶液重合、沈澱重合、懸濁重合、塊状重合、
乳化重合によって行なうことができる。また、重合の開
始方法はラジカル開始剤を用いる方法、光または放射線
を照射する方法等がある。これらの重合方法、重合の開
始方法は、例えば鶴田禎二「高分子合成方法」改定版
(日刊工業新聞社刊、1971)や大津隆行、木下雅悦
共著「高分子合成の実験法」化学同人、昭和47年刊、
124〜154頁に記載されている。
The polymer of the present invention can be synthesized by various polymerization methods such as solution polymerization, precipitation polymerization, suspension polymerization, bulk polymerization,
It can be carried out by emulsion polymerization. The method of initiating polymerization includes a method using a radical initiator, a method of irradiating light or radiation, and the like. These polymerization methods and the method of initiating the polymerization are described in, for example, T. Tsuruta, “Polymer Synthesis Method” Revised Edition (Nikkan Kogyo Shimbun, 1971), Takatsu Otsu, Masayoshi Kinoshita, “Experimental Method of Polymer Synthesis” Published in 1972,
It is described on pages 124-154.

【0065】上記重合方法のうち、特にラジカル開始剤
を用いた溶液重合法が好ましい。溶液重合法で用いられ
る溶剤は、例えば酢酸エチル、メタノール、エタノー
ル、1ープロパノール、2ープロパノール、1ーブタノ
ール、アセトン、ジオキサン、N,Nージメチルホルム
アミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ベンゼン、ト
ルエン、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホル
ム、ジクロロエタンのような種々の有機溶剤を単独ある
いは2種以上の混合物でも良いし、水との混合溶媒とし
ても良い。重合温度は生成するポリマーの分子量、開始
剤の種類などと関連して設定する必要があり、種々の温
度で重合可能であるが、通常30〜100℃の範囲で重
合を行なう。本発明では30〜90℃の温度範囲で重合
を行なうことが好ましい。
Among the above polymerization methods, a solution polymerization method using a radical initiator is particularly preferred. Solvents used in the solution polymerization method include, for example, ethyl acetate, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, acetone, dioxane, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, benzene, toluene, acetonitrile, Various organic solvents such as methylene chloride, chloroform and dichloroethane may be used alone or as a mixture of two or more thereof, or may be used as a mixed solvent with water. The polymerization temperature needs to be set in relation to the molecular weight of the polymer to be produced, the type of initiator, and the like. Polymerization can be performed at various temperatures, but usually the polymerization is carried out in the range of 30 to 100 ° C. In the present invention, it is preferable to carry out the polymerization in a temperature range of 30 to 90C.

【0066】重合に用いられるラジカル開始剤として
は、例えば、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、
2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリ
ル)、2,2’−アゾビス(2−アミジノプロパン)ジ
ハイドロクロライド、4,4’−アゾビス(4−シアノ
ペンタノイックアシッド)のようなアゾ系開始剤や、ベ
ンゾイルパーオキサイド、tーブチルハイドロパーオキ
サイド、過硫酸カリウム(例えば、亜硫酸水素ナトリウ
ムと組み合わせてレドックス開始剤として用いても良
い)のようなペルオキシド系開始剤が好ましい。本発明
では半減期が10時間になる温度が70℃以下の開始剤
(例えば2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロ
ニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,
4−ジメチルバレロニトリル)、ジメチル2,2’−ア
ゾビス(2−メチルプロピオネ−ト)、2,2’−アゾ
ビス[2−(3,4,5,6−テトラヒドロプロパン)
ジハイドロクロライド]等が特に好ましい。重合開始剤
の使用量はモノマーの重合性や必要とする重合体の分子
量に応じて調節することが可能であるが、単量体に対し
て0.01〜5.0mol%の範囲が好ましい。一般式
(II)で表わされるポリマーの合成においてはA、Bお
よびCを形成するモノマーを混合して最初に反応容器に
入れておき、開始剤を投入してもよいし、これらのモノ
マーを重合溶媒に滴下する過程を経て重合を行なっても
よい。
Examples of the radical initiator used in the polymerization include 2,2′-azobisisobutyronitrile,
Such as 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis (2-amidinopropane) dihydrochloride, and 4,4'-azobis (4-cyanopentanoic acid) Preferred are azo-based initiators and peroxide-based initiators such as benzoyl peroxide, t-butyl hydroperoxide, and potassium persulfate (for example, redox initiators may be used in combination with sodium bisulfite). In the present invention, the initiator (for example, 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile)) or 2,2'-azobis (4-methoxy-2,
4-dimethylvaleronitrile), dimethyl 2,2'-azobis (2-methylpropionate), 2,2'-azobis [2- (3,4,5,6-tetrahydropropane)
Dihydrochloride] and the like are particularly preferred. The amount of the polymerization initiator used can be adjusted according to the polymerizability of the monomer and the required molecular weight of the polymer, but is preferably in the range of 0.01 to 5.0 mol% based on the monomer. In the synthesis of the polymer represented by the general formula (II), monomers forming A, B and C may be mixed and placed in a reaction vessel first, and an initiator may be charged, or these monomers may be polymerized. The polymerization may be carried out through a process of dropping in a solvent.

【0067】本発明の一般式(II)で表わされるポリマ
ーは、熱もしくは酸の作用により酸を発生する機能を有
する部分構造と、酸の作用により360〜700nmの
吸収域に変化を生じる部分構造を合わせ持つポリマーで
ある。このようなポリマーとしては、両者の機能を合わ
せ持つ単一モノマーの重合体もありうるが、合成的な観
点から前記一般式(II)で示されるポリマーがモノマー
の選択範囲も広く、有利である。本発明の画像形成材料
は一般的に一般式(II)で表されるポリマーを支持体上
に塗布して作製される。本発明のポリマ−が熱によって
酸を発生する機能も合わせ持つ場合は、熱の作用のみで
単独で吸収域に変化が生じるため、感熱形成材料として
使用した場合に、感度や画像の解像性が優れている。ま
た本発明の画像形成材料では、それ自体がバインダーの
機能を持つので、前記したいわゆるバインダーを使用し
なくても良いため、膜厚を薄くすることができ、解像性
の良い像が得られ、また熱破壊、すなわちアブレーショ
ンが起こりにくいという利点がある。ただし、一般式
(II)で表わされるポリマーを用いる際、必要であるな
らばバインダーを併用しても良く、その具体例としては
前述のものが挙げられる。
The polymer represented by the general formula (II) of the present invention has a partial structure having a function of generating an acid by the action of heat or an acid, and a partial structure having a change in the absorption range of 360 to 700 nm by the action of an acid. It is a polymer having both As such a polymer, there may be a polymer of a single monomer having both functions, but from a synthetic point of view, the polymer represented by the general formula (II) is advantageous because the selection range of the monomer is wide. . The image forming material of the present invention is generally prepared by coating a polymer represented by the general formula (II) on a support. When the polymer of the present invention also has a function of generating an acid by heat, since the absorption region alone changes due to the action of heat alone, when used as a heat-sensitive material, sensitivity and image resolution Is better. Further, in the image forming material of the present invention, since the material itself has a binder function, it is not necessary to use the above-mentioned binder, so that the film thickness can be reduced and an image with good resolution can be obtained. In addition, there is an advantage that thermal destruction, that is, ablation hardly occurs. However, when using the polymer represented by the general formula (II), if necessary, a binder may be used in combination, and specific examples thereof include those described above.

【0068】本発明では、該画像形成媒体の保存安定性
を高める目的で少量の塩基を添加したり、感度を高める
目的で光または熱の作用によって酸を発生する化合物を
別途添加したり、必要に応じて顔料、酸化防止剤、ステ
ィッキング防止剤等種々の添加剤を添加することもでき
る。また、画像形成層を保護するためにオーバーコート
層を設けたり、支持体の裏面にバックコート層を設けて
も良い。なお、画像形成層と支持体との間に単層あるい
は複数層の顔料あるいは樹脂からなるアンダーコート層
を設けるなど、感熱形成材料における種々の公知技術を
用いることもできる。
In the present invention, a small amount of a base is added for the purpose of enhancing the storage stability of the image forming medium, and a compound capable of generating an acid by the action of light or heat is separately added for the purpose of enhancing the sensitivity. Various additives such as a pigment, an antioxidant, and an anti-sticking agent can be added according to the requirements. Further, an overcoat layer may be provided to protect the image forming layer, or a backcoat layer may be provided on the back surface of the support. Various known techniques for heat-sensitive materials can be used, such as providing a single layer or a plurality of layers of an undercoat layer made of pigment or resin between the image forming layer and the support.

【0069】塩基を添加する場合には有機塩基が好まし
く、例えばグアニジン誘導体(例えば1,3−ジフェニ
ルグアニジン、1,3−ジメチルグアニジン、1,3−
ジブチルグアニジン、1ーベンジルグアニジン、1,
1,3,3−テトラメチルグアニジン等)、アニリン誘
導体(例えばアニリン、p−t−ブチルアニリン、N,
N−ジメチルアニリン、N,N−ジブチルアニリン、ト
リフェニルアミン等)、アルキルアミン誘導体(例えば
トリブチルアミン、オクチルアミン、ラウリルアミン、
ベンジルアミン、ジベンジルアミン等)、およびヘテロ
環化合物(例えばN,N’−ジメチルアミノピリジン、
1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセ
ン、トリフェニルイミダゾール、ルチジン、2ーピコリ
ン等)が好ましい例として挙げられる。これらの塩基は
一般式(II)のAで表される組成に対して1〜50mo
l%添加することが好ましく、特に好ましくは5〜20
mol%添加する場合である。
When a base is added, an organic base is preferable. For example, a guanidine derivative (for example, 1,3-diphenylguanidine, 1,3-dimethylguanidine, 1,3-
Dibutylguanidine, 1-benzylguanidine, 1,
1,3,3-tetramethylguanidine, etc.), aniline derivatives (eg, aniline, pt-butylaniline, N,
N-dimethylaniline, N, N-dibutylaniline, triphenylamine, etc.), alkylamine derivatives (for example, tributylamine, octylamine, laurylamine,
Benzylamine, dibenzylamine and the like, and heterocyclic compounds (eg, N, N′-dimethylaminopyridine,
Preferred examples include 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene, triphenylimidazole, lutidine, and 2-picoline. These bases are 1 to 50 mo with respect to the composition represented by A in the general formula (II).
1%, particularly preferably 5 to 20%.
mol% is added.

【0070】本発明の画像形成材料を更に高感度化する
ことを目的として、さらに本発明とは別の酸発生剤を添
加しても良い。公知の酸発生剤としては、有機エレクト
ロニクス材料研究会編、”イメージング用有機材料”ぶ
んしん出版社刊(1997)37頁〜91頁、に記載さ
れている化合物および引用文献に記載の化合物等が挙げ
られる。また、これらの文献に記載されている光酸発生
剤の多くは熱酸発生剤としても機能するものである。顔
料を添加する場合には、ケイソウ土、タルク、カオリ
ン、焼成カオリン、酸化チタン、酸化ケイ素、炭酸マグ
ネシウム、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、尿素
ーホルマリン樹脂等が好ましい例として挙げられる。そ
の他の添加剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリ
アゾール系等の紫外線吸収剤、ステアリン酸亜鉛、ステ
アリン酸カルシウム等の高級脂肪酸金属塩からなるヘッ
ド摩耗およびスティッキング防止剤、パラフィン、酸化
パラフィン、ポリエチレン、酸化ポリエチレン、カスタ
ーワックス等のワックス類等が挙げられ、必要に応じて
添加することができる。
For the purpose of further increasing the sensitivity of the image forming material of the present invention, another acid generator different from that of the present invention may be added. Examples of known acid generators include compounds described in “Organic Materials for Imaging”, edited by Organic Electronics Materials Research Society, published by Bunshin Publishing Company (1997), pp. 37-91, and compounds described in cited references. No. Many of the photoacid generators described in these documents also function as thermal acid generators. When a pigment is added, preferred examples include diatomaceous earth, talc, kaolin, calcined kaolin, titanium oxide, silicon oxide, magnesium carbonate, calcium carbonate, aluminum hydroxide, and urea-formalin resin. Other additives include benzophenone-based, benzotriazole-based ultraviolet absorbers, zinc stearate, head abrasion and sticking inhibitors composed of higher fatty acid metal salts such as calcium stearate, paraffin, paraffin oxide, polyethylene, polyethylene oxide, Waxes such as caster wax and the like can be mentioned, and they can be added as needed.

【0071】本発明の画像形成材料に用いられる支持体
としては、上質紙、バライタ紙、コート紙、キャストコ
ート紙、合成紙等の紙類、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,
6−ナフチレンジカルボキシレ−ト、ポリアリーレン、
ポリイミド、ポリカーボネート、トリアセチルセルロー
ス等のポリマーフィルム、ガラス、金属箔、不織布等を
挙げることができる。本発明の画像形成材料を利用して
透過型の画像、例えばOHP(オーバーヘッドプロジェ
クター)用フィルムや製版用フィルム等の用途に供する
場合には、上記の支持体の中でも、透明な支持体が用い
られる。また、製版フィルム用には、熱膨張率が小さく
寸法安定性が良好で、かつ、PS版の感光域に吸収を持
たない支持体が選ばれる。
As the support used in the image forming material of the present invention, papers such as high quality paper, baryta paper, coated paper, cast coated paper, synthetic paper, polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, polyethylene-2,
6-naphthylenedicarboxylate, polyarylene,
Examples thereof include polymer films such as polyimide, polycarbonate, and triacetyl cellulose, glass, metal foil, and nonwoven fabric. When the image forming material of the present invention is used for a transmission image, for example, a film for an OHP (overhead projector) or a film for plate making, a transparent support is used among the above supports. . For a plate making film, a support having a small coefficient of thermal expansion and good dimensional stability and having no absorption in the photosensitive region of the PS plate is selected.

【0072】本発明の画像形成材料において、画像形成
の手段としては、加熱又は光から熱への光熱エネルギー
変換性すなわちヒートモードの光照射によって行われ
る。加熱によって行われる場合、その加熱方法として
は、加熱されたブロックやプレートと接触させる方法、
熱ローラーや熱ドラムと接触させる方法、感熱プリンタ
ーの熱ヘッドで画像状に加熱する方法が用いられ、光照
射による場合は、ハロゲンランプや赤外線ないし遠赤外
線ランプヒーターを照射させる方法のほかにレーザー光
を照射する方法等がある。本発明の画像形成材料を製版
材料用途等、高い解像度が要求されるものに使用する場
合はレーザー光によって走査露光する方式が好ましい。
より少ない熱エネルギーで画像を形成させるために予
め、本発明の感熱形成材料を適当な温度に加熱しておく
こともできる。本発明ではこれらの方法で像様に加熱を
行った後、60〜150℃の温度(好ましくは60〜1
20℃)で全面加熱することによって画像イメージを増
幅させることもできる。
In the image-forming material of the present invention, the means for image formation is heating or photothermal energy conversion from light to heat, that is, light irradiation in a heat mode. When performed by heating, as a heating method, a method of contacting with a heated block or plate,
A method of contacting with a heat roller or a heat drum, or a method of imagewise heating with a thermal head of a thermal printer is used.In the case of light irradiation, laser light is used in addition to the method of irradiating a halogen lamp or infrared or far infrared lamp heater. And the like. When the image forming material of the present invention is used for a material requiring a high resolution, such as a plate making material, a method of scanning and exposing with a laser beam is preferable.
In order to form an image with less heat energy, the heat-sensitive material of the present invention may be heated to an appropriate temperature in advance. In the present invention, after imagewise heating is performed by these methods, a temperature of 60 to 150 ° C. (preferably 60 to 150 ° C.) is used.
By heating the entire surface at 20 ° C.), the image can be amplified.

【0073】レーザー光照射により画像を形成する場合
には、レーザー光を熱エネルギーに変換するために、該
レーザー光の波長の光を吸収する色素を画像形成材料中
に存在させる必要がある。レーザー光源としては、エキ
シマレーザー、アルゴンレーザー、ヘリウムネオンレー
ザー、半導体レーザー、ガラス(YAG)レーザー、炭
酸ガスレーザー、色素レーザー等があるが、ヘリウムネ
オンレーザー、半導体レーザーおよびガラスレーザーが
本発明に有用なレーザー光源である。その中でも装置が
小型で安価なことから、半導体レーザーが特に有用であ
る。半導体レーザーの発振波長は通常、670〜830
nmである。従ってこれらのレーザー光によって記録が
行われる本発明の画像形成材料には、該近赤外の分光域
に吸収を持つ色素が用いられる。近赤外吸収色素として
は、シアニン色素、スクアリリウム色素、メロシアニン
色素、オキソノール色素、フタロシアニン色素等が用い
られる。その具体例としては、例えば米国特許第4,9
73,572号、同第4,948,777号、同第4,
950,640号、同第4,950,639号、同第
4,948,776号、4948,778、同第4,9
42,141号、同第4,952,552号、同第5,
036,040号および同第4,912,083号明細
書に記載されている物質が挙げられる。以下に本発明の
化合物の合成法を示すが、本発明はこれらに限定される
ものではない。 (合成例1) 例示化合物(1)の合成
When an image is formed by irradiating a laser beam, in order to convert the laser beam into thermal energy, it is necessary that a dye absorbing light having the wavelength of the laser beam be present in the image forming material. Examples of the laser light source include an excimer laser, an argon laser, a helium neon laser, a semiconductor laser, a glass (YAG) laser, a carbon dioxide laser, and a dye laser. It is a laser light source. Among them, a semiconductor laser is particularly useful because the device is small and inexpensive. The oscillation wavelength of a semiconductor laser is usually 670 to 830.
nm. Therefore, dyes having absorption in the near-infrared spectral region are used in the image forming material of the present invention in which recording is performed by these laser beams. As the near-infrared absorbing dye, a cyanine dye, a squarylium dye, a merocyanine dye, an oxonol dye, a phthalocyanine dye, and the like are used. Specific examples thereof include, for example, U.S. Pat.
No. 73,572, No. 4,948,777, No. 4,
Nos. 950,640, 4,950,639, 4,948,776, 4948,778, and 4,9
No. 42,141, No. 4,952,552, No. 5,
Nos. 3,036,040 and 4,912,083. Hereinafter, a method for synthesizing the compound of the present invention will be described, but the present invention is not limited thereto. (Synthesis Example 1) Synthesis of Exemplified Compound (1)

【0074】[0074]

【化30】 Embedded image

【0075】原料化合物1a(100mmol)をピリジン
(50ml)中に溶かし、反応器を7℃に冷却した。そ
こに原料化合物1b(100mmol)を10分間かけて添
加し、更に室温で6時間反応させた。その後、水(3m
l)を加え30分攪拌した後、酢酸エチル(100m
l)と水(200ml)を加えて攪拌したのち、静置し
て水層を分離した。更に有機層を1mol/lの塩酸水
(100ml)で3回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾
燥、濃縮した。得られた油状物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(溶出液:酢酸エチル/ヘキサン=1/
5)にて精製し、例示化合物(1)を異性体の混合物と
して78%の収率で得た。このものの分解温度は145
℃であった。
The starting compound 1a (100 mmol) was dissolved in pyridine (50 ml), and the reactor was cooled to 7 ° C. The starting compound 1b (100 mmol) was added thereto over 10 minutes, and further reacted at room temperature for 6 hours. Then, water (3m
l) and stirred for 30 minutes.
1) and water (200 ml) were added and stirred, and then allowed to stand to separate an aqueous layer. The organic layer was further washed three times with 1 mol / l aqueous hydrochloric acid (100 ml), dried over magnesium sulfate and concentrated. The obtained oil is subjected to silica gel column chromatography (eluent: ethyl acetate / hexane = 1 /
Purification was performed in 5) to give Exemplified Compound (1) as a mixture of isomers in a yield of 78%. Its decomposition temperature is 145
° C.

【0076】(合成例2) 例示化合物(2)の合成 上記の原料化合物1aを同量のメジチルスルホニルクロ
リドに代えた以外は、上記例示化合物(1)の合成と同
じ操作によって例示化合物(2)を合成した。該化合物
の分解温度は156℃であった。
(Synthesis Example 2) Synthesis of Exemplified Compound (2) Except that the above-mentioned raw material compound 1a was replaced with the same amount of medityl sulfonyl chloride, the same operation as in the synthesis of Exemplified Compound (1) was performed. ) Was synthesized. The decomposition temperature of the compound was 156 ° C.

【0077】(合成例3) 例示化合物(6)の合成 上記の原料化合物1aを同モルの2,5−キシリルスル
ホニルクロリドに代えた以外は、上記例示化合物(1)
の合成と同じ操作によって例示化合物(6)を合成し
た。該化合物の分解温度は142℃であった。
(Synthesis Example 3) Synthesis of Exemplified Compound (6) Exemplified Compound (1) except that the above-mentioned starting compound 1a was replaced with the same mole of 2,5-xylylsulfonyl chloride.
Exemplified compound (6) was synthesized by the same operation as in the synthesis of. The decomposition temperature of the compound was 142 ° C.

【0078】(合成例4) 例示化合物(7)の合成 上記の原料化合物1aを同モルの4−スチリルスルホニ
ルクロライドに代えた以外は、上記例示化合物(1)の
合成と同じ操作によって例示化合物(7)を合成した。
該化合物の分解温度は173℃であった。
(Synthesis Example 4) Synthesis of Exemplified Compound (7) Except that the above-mentioned starting compound 1a was replaced with the same mole of 4-styrylsulfonyl chloride, the same operation as in the synthesis of Exemplified Compound (1) was carried out. 7) was synthesized.
The decomposition temperature of the compound was 173 ° C.

【0079】(合成例5) 例示化合物(12)の合成 上記の原料化合物1aを同モルのメタクリル酸プロピル
スルホニルクロライドに代えた以外は、上記例示化合物
(1)の合成と同じ操作によって例示化合物(12)を
合成した。該化合物の分解温度は123℃であった。
(Synthesis Example 5) Synthesis of Exemplified Compound (12) Except that the above-mentioned raw material compound 1a was replaced with the same mole of propylsulfonyl methacrylate chloride, the same operation as in the synthesis of Exemplified Compound (1) was carried out. 12) was synthesized. The decomposition temperature of the compound was 123 ° C.

【0080】(合成例6) 例示化合物(P−1)の合
成 例示化合物(7)(50mmol)をトルエン(22ml)
に溶かし、窒素雰囲気下40℃に加熱した。この溶液に
2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチル
バレロニトリル)(0.125g)のメチルエチルケト
ン(3ml)溶液を加えて2時間反応させた後、さらに
2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチル
バレロニトリル)(0.125g)のメチルエチルケト
ン(3ml)溶液を加えた。2時間反応させた後、反応
液をヘキサン(1000ml)中にあけ、析出物を濾取
して乾燥し、例示化合物(P−1)を65%の収率で得
た。重量平均分子量は7.2万、分解温度は120℃で
あった。
(Synthesis Example 6) Synthesis of Exemplified Compound (P-1) Exemplified Compound (7) (50 mmol) was dissolved in toluene (22 ml).
And heated to 40 ° C. under a nitrogen atmosphere. To this solution was added a solution of 2,2′-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile) (0.125 g) in methyl ethyl ketone (3 ml), and the mixture was reacted for 2 hours. A solution of (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile) (0.125 g) in methyl ethyl ketone (3 ml) was added. After reacting for 2 hours, the reaction solution was poured into hexane (1000 ml), and the precipitate was collected by filtration and dried to obtain Exemplified Compound (P-1) at a yield of 65%. The weight average molecular weight was 72,000, and the decomposition temperature was 120 ° C.

【0081】(合成例7) 例示化合物(P−8)の合
成 例示化合物7(7.5mmol)とB−3(2.5mmol)を
トルエン(4.4ml)とメチルエチルケトン(2m
l)中に溶かし、窒素雰囲気下40℃に加熱した。この
溶液に2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジ
メチルバレロニトリル)(0.025g)のメチルエチ
ルケトン(0.6ml)溶液を加えて2時間反応させた
後、さらに2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4
−ジメチルバレロニトリル)(0.025g)のメチル
エチルケトン(0.6ml)溶液を加えた。2時間反応
させた後、反応液をヘキサン(400ml)中にあけ、
析出物を濾取して乾燥し、例示化合物(P−8)を59
%の収率で得た。重量平均分子量は4.8万であった。
(Synthesis Example 7) Synthesis of Exemplified Compound (P-8) Exemplified Compound 7 (7.5 mmol) and B-3 (2.5 mmol) were mixed with toluene (4.4 ml) and methyl ethyl ketone (2 m).
l) and heated to 40 ° C. under a nitrogen atmosphere. To this solution was added a solution of 2,2′-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile) (0.025 g) in methyl ethyl ketone (0.6 ml), and the mixture was reacted for 2 hours. -Azobis (4-methoxy-2,4
-Dimethylvaleronitrile) (0.025 g) in methyl ethyl ketone (0.6 ml) was added. After reacting for 2 hours, the reaction solution was poured into hexane (400 ml),
The precipitate was collected by filtration and dried to give Exemplified Compound (P-8) in 59
% Yield. The weight average molecular weight was 48,000.

【0082】[0082]

【実施例】以下に実施例を掲げ本発明の化合物の有用性
を更に詳しく説明するが、本発明はこれらに限定される
ものではない。 (実施例1) <画像記録フィルムの作成>本発明の化合物(7)、
(2)、(P−1)、(P−4)及び構造の類似した比
較用の化合物R−1とR−2を表2に示すようにクロロ
ホルムに溶解し、厚み175μmのポリエチレンテレフ
タレートフィルム上に塗布した(塗布量もそれぞれ表2
に記載)。このフィルム上に以下に示す保護層塗布液を
塗布し、画像形成材料1〜6を作成した。塗布液に用い
たポリスチレンは、和光純薬製ポリスチレンビーズ(粒
子径;約3.2mm)を使用した。
The following examples illustrate the usefulness of the compounds of the present invention in more detail, but the present invention is not limited thereto. (Example 1) <Preparation of image recording film> Compound (7) of the present invention,
(2), (P-1), (P-4) and comparative compounds R-1 and R-2 having similar structures were dissolved in chloroform as shown in Table 2, and the solution was applied on a 175 μm-thick polyethylene terephthalate film. (The coating amount is also shown in Table 2
Described). The coating solution for the protective layer shown below was applied onto this film to prepare image forming materials 1 to 6. As the polystyrene used for the coating solution, polystyrene beads (particle diameter: about 3.2 mm) manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. were used.

【0083】<保護層塗布液の調製>クラレ株式会社製
のクラレポバールPVA−110を4重量%、日本エマ
ルジョン社製のエマレックス710を0.1重量%含有
する水溶液を調製し、保護層の固形分量が1.0g/m
2になるように塗布した。
<Preparation of Coating Solution for Protective Layer> An aqueous solution containing 4% by weight of Kuraray Poval PVA-110 manufactured by Kuraray Co., Ltd. and 0.1% by weight of Emarex 710 manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd. was prepared. The solid content is 1.0 g / m
2 was applied.

【0084】<画像形成の処理条件>画像書き込み用レ
ーザー光源としてレーザー装置(Spectra Diode Labs N
o.SDL-2430、波長範囲:800〜830nm)を用い、
これを2本合波して140mWの出力にして画像書き込
み用レーザー光とした。このレーザー光を用いて、ビー
ム径20μm、試料上のレーザーエネルギー密度は4.
5mJ/mm2に設定した。作成した画像形成材料に対
して前記レーザー露光条件で形成材料の保護層側から走
査露光を行なった。 画像形成能の測定:作成した画像形成材料試料1〜6
(表2)に対してレーザー露光を行い、得られた画像の
410nmでの発色濃度の測定を行った(表3)。 保存性の試験:さらに作成した画像形成材料1〜6の各
試料を45℃で湿度調節なし(ドライと表現する)と4
5℃で湿度70%RHの条件のもとで、それぞれ7日間放
置し、各試料の410nmでのかぶり濃度の経時中の増加
を求めた(表4)。 試験結果:本発明の試料1から4は、比較用試料5及び
6に比較して、いずれも経時試験中のカブリ濃度の増加
が少なく(表4)、保存性に優れているとともに、表3
が示すように発色濃度も高く、上記本発明の試料は、画
像形成材料として発明の目的を満たすことが示された。
<Image Forming Processing Conditions> A laser device (Spectra Diode Labs N) was used as a laser light source for writing images.
o.SDL-2430, wavelength range: 800 to 830 nm)
The two lasers were combined to obtain an output of 140 mW to obtain an image writing laser beam. Using this laser light, the beam diameter was 20 μm, and the laser energy density on the sample was 4.
It was set to 5 mJ / mm 2 . Scanning exposure was performed on the formed image forming material from the protective layer side of the forming material under the above laser exposure conditions. Measurement of image forming ability: prepared image forming material samples 1 to 6
(Table 2) was subjected to laser exposure, and the resulting image was measured for color density at 410 nm (Table 3). Storage test: each of the prepared image forming materials 1 to 6 was subjected to humidity control at 45 ° C. without any humidity control (expressed as dry) and 4
Each sample was allowed to stand for 7 days under conditions of 5 ° C. and 70% RH, and the increase in the fog density at 410 nm of each sample over time was determined (Table 4). Test results: Samples 1 to 4 of the present invention showed little increase in fog concentration during the time-lapse test (Table 4), excellent storage stability, and Table 3 as compared with Comparative Samples 5 and 6.
Indicates that the sample has a high color density, and the sample of the present invention satisfies the object of the invention as an image forming material.

【0085】[0085]

【表2】 [Table 2]

【0086】[0086]

【表3】 [Table 3]

【0087】[0087]

【表4】 [Table 4]

【0088】[0088]

【化31】 Embedded image

【0089】[0089]

【化32】 Embedded image

【0090】(実施例2)本発明の酸発生剤をロイコ色
素と共重合させた場合にも優れた性能を発現できること
を以下に示す。表5に示す一般式(II)の化合物P−8、
P−15及び及び構造の類似した比較用の化合物RP−
3とRP−4を表5に示すようにクロロホルムに溶解
し、厚み175μmのポリエチレンテレフタレートフィ
ルム上に塗布した(塗布量もそれぞれ表5に記載、また
比較化合物の構造は表6に記載)。このフィルム上に実
施例1に示す保護層塗布液を保護層の固形分量が1.0
g/m2になるように塗布し、画像形成材料7〜10を
作成した。 画像形成能の試験:作成した形成材料7〜10の画像形
成材料に対して実施例1とP同じ露光方法でレーザー露
光を行い410nmでの発色濃度の測定を行った(表
7)。 保存性の試験:さらに作成した画像形成材料7〜10の
各試料を実施例1と同じ方法で45℃、ドライと45
℃、湿度70%RHの条件下、7日間の経時を行い、各試
料の410nmでのかぶり濃度の増加を調べた(表8)。 試験結果:本発明の化合物を用いた試料7と8は、いず
れも経時試験中のカブリ濃度の増加が低く保存性に優れ
ているとともに、露光領域の発色濃度も高く、本発明の
画像形成材料が発明の目的を満たす有用な画像形成材料
であることが示された。
(Example 2) The following shows that excellent performance can be exhibited even when the acid generator of the present invention is copolymerized with a leuco dye. Compound P-8 of the general formula (II) shown in Table 5,
P-15 and a comparative compound RP- having a similar structure
3 and RP-4 were dissolved in chloroform as shown in Table 5, and applied on a 175 μm-thick polyethylene terephthalate film (the coating amounts are also described in Table 5, respectively, and the structure of the comparative compound is described in Table 6). On this film, the protective layer coating solution shown in Example 1 was applied with a solid content of the protective layer of 1.0.
g / m2, and image forming materials 7 to 10 were prepared. Test of image forming ability: The formed image forming materials 7 to 10 were exposed to laser by the same exposure method as in Example 1 to measure the color density at 410 nm (Table 7). Storage test: Further, each of the prepared image forming materials 7 to 10 was subjected to the same method as in Example 1 at 45 ° C.
The samples were aged for 7 days at 70 ° C. and a humidity of 70% RH, and the increase in the fog density at 410 nm of each sample was examined (Table 8). Test results: Samples 7 and 8 using the compound of the present invention both exhibited a low increase in fog density during the time-lapse test, excellent storage stability, and a high coloring density in the exposed area. Is a useful image forming material that satisfies the objects of the invention.

【0091】[0091]

【表5】 [Table 5]

【0092】[0092]

【表6】 [Table 6]

【0093】[0093]

【表7】 [Table 7]

【0094】[0094]

【表8】 [Table 8]

【0095】〔発明の効果〕支持体上に一般式(I)で
表される化合物または該化合物の重合によって得られる
化合物(例えば一般式(II)の化合物)を酸発生剤と
して含む本発明の画像形成材料は、高感度でしかも保存
安定性にすぐれており、したがって画像領域とかぶり領
域との識別性も向上している。また、レーザー光の走査
による画像記録手段としても優れている。
[Effect of the Invention] The compound of the present invention comprising a compound represented by the general formula (I) or a compound obtained by polymerization of the compound (for example, a compound of the general formula (II)) on a support as an acid generator. The image forming material has high sensitivity and excellent storage stability, and therefore, the discrimination between the image area and the fog area is also improved. It is also excellent as an image recording means by scanning with laser light.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08F 212/12 C08F 216/14 212/14 216/16 216/14 216/18 216/16 218/04 216/18 218/08 218/04 220/14 218/08 220/16 220/14 220/18 220/16 220/28 220/18 220/30 220/28 220/36 220/30 220/56 220/36 220/58 220/56 226/06 220/58 230/08 226/06 G03F 7/004 503Z 230/08 B41M 5/18 102Z G03F 7/004 503 5/26 S Fターム(参考) 2H025 AB20 AC01 AD01 BE00 CC14 2H026 AA07 BB01 BB48 DD02 DD42 DD45 DD48 2H111 HA00 HA14 HA24 HA31 4J100 AB00R AB02R AB04R AB07P AB07R AE02R AE09R AE10R AG04R AG08R AL03R AL04R AL08P AL08Q AL08R AL09R AL11R AL14R AL74Q AM15R AM17R AM19R AM21R AQ25Q BA02P BA02Q BA03R BA04R BA05Q BA11Q BA15Q BA15R BA20R BA22Q BA27Q BA28Q BA31R BA40Q BA46Q BA55P BA76Q BA76R BB01Q BC04P BC04R BC12P BC43P BC43Q BC43R BC48P BC48Q BC48R BC49Q BC49R BC53Q BC65Q BC73Q BC75Q BC79Q BC80Q BC83Q CA01 CA04 CA05 JA43 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C08F 212/12 C08F 216/14 212/14 216/16 216/14 216/18 216/16 218/04 216 / 18 218/08 218/04 220/14 218/08 220/16 220/14 220/18 220/16 220/28 220/18 220/30 220/28 220/36 220/30 220/56 220/36 220/58 220/56 226/06 220/58 230/08 226/06 G03F 7/004 503Z 230/08 B41M 5/18 102Z G03F 7/004 503 5/26 SF term (reference) 2H025 AB20 AC01 AD01 BE00 CC14 2H026 AA07 BB01 BB48 DD02 DD42 DD45 DD48 2H111 HA00 HA14 HA24 HA31 4J100 AB00R AB02R AB04R AB07P AB07R AE02R AE09R AE10R AG04R AG08R AL03R BA04R AL08P AL08Q AL08R AL09R AL11R15A02A BA28Q BA31R BA40Q BA46Q BA55P BA76Q BA76R BB01Q BC04P BC 04R BC12P BC43P BC43Q BC43R BC48P BC48Q BC48R BC49Q BC49R BC53Q BC65Q BC73Q BC75Q BC79Q BC80Q BC83Q CA01 CA04 CA05 JA43

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に熱の作用により酸を発生する
下記一般式(I)で表される酸発生剤と、酸の作用によ
る分子内もしくは分子間反応により360〜700nm
の吸収域に変化を生じる化合物とを含有することを特徴
とする画像形成材料。 【化1】 (式中、R1 はアルキル基、アリール基もしくはヘテロ
環基を表わす。R2は置換基を表わす。 R3及びR4はそ
れぞれ独立に水素原子もしくは置換基を表わす。Xは環
を形成するのに必要な原子団を表わす。 R2、R3もし
くはR4はXと結合して環を形成しても良い。)
1. An acid generator represented by the following general formula (I) which generates an acid on a support by the action of heat and 360 to 700 nm by an intramolecular or intermolecular reaction by the action of an acid.
An image forming material comprising: a compound which changes the absorption range of the compound. [Formula 1] (Wherein, R 1 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group; R 2 represents a substituent; R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a substituent; X forms a ring R 2 , R 3 or R 4 may combine with X to form a ring.)
【請求項2】 前記一般式(I)で表わされる酸発生剤
が重合性の不飽和基を有することを特徴とする請求項1
記載の画像形成材料。
2. The method according to claim 1, wherein the acid generator represented by the general formula (I) has a polymerizable unsaturated group.
The image forming material as described in the above.
【請求項3】 一般式(I)で表わされる酸発生剤から
なる部分構造を繰り返し単位に有するポリマーと、酸の
作用による分子内もしくは分子間反応により360〜7
00nmの吸収域に変化を生じる化合物とを含有するこ
とを特徴とする画像形成材料。
3. A polymer having a partial structure consisting of an acid generator represented by the general formula (I) in a repeating unit, and a polymer having a molecular weight of 360 to 7 by an intramolecular or intermolecular reaction caused by the action of an acid.
An image forming material comprising: a compound that changes the absorption range of 00 nm.
【請求項4】 請求項3に記載のポリマーが下記一般式
(II)で示されるポリマーであることを特徴とする請求
項3に記載の画像形成材料。 一般式(II) −(A)x−(B)y−(C)z− (式中Aは、一般式(I)で表される酸発生剤の重合に
よって得られる繰り返し単位を表し、Bは酸の作用によ
り360〜700nmの吸収域に変化を生じる部分構造
を有する少なくとも1種類以上のビニルモノマーの重合
によって得られる繰り返し単位を表し、CはAおよびB
と共重合可能な少なくとも1種類以上のビニルモノマー
の重合によって得られる繰り返し単位を表す。x、yお
よびzはモル%を表し、それぞれ1≦x≦100、0≦
y≦99、0≦z≦99、x+y+z=100を表す。
4. The image forming material according to claim 3, wherein the polymer according to claim 3 is a polymer represented by the following general formula (II). Formula (II)-(A) x- (B) y- (C) z- (where A represents a repeating unit obtained by polymerization of an acid generator represented by Formula (I), Represents a repeating unit obtained by polymerization of at least one or more kinds of vinyl monomers having a partial structure in which the absorption range from 360 to 700 nm is changed by the action of an acid, and C represents A and B
And a repeating unit obtained by the polymerization of at least one or more vinyl monomers copolymerizable with. x, y and z represent mol%, and 1 ≦ x ≦ 100, 0 ≦
It represents y ≦ 99, 0 ≦ z ≦ 99, and x + y + z = 100.
【請求項5】 赤外線吸収色素を含有し、赤外線レーザ
ー光を照射することにより画像が形成されることを特徴
とする請求項1〜4記載の画像形成材料。
5. The image forming material according to claim 1, further comprising an infrared absorbing dye, wherein an image is formed by irradiating an infrared laser beam.
【請求項6】 画像形成層中に銀化合物又はその塩を含
有していないことを特徴とする請求項1〜5記載の画像
形成材料。
6. The image forming material according to claim 1, wherein the image forming layer does not contain a silver compound or a salt thereof.
【請求項7】 上記一般式(I)で表されることを特徴
とするスルホン酸エステル誘導体。
7. A sulfonic ester derivative represented by the above general formula (I).
【請求項8】 上記一般式(II)で表されることを特徴
とするスルホン酸エステル基含有ポリマー。
8. A sulfonic ester group-containing polymer represented by the general formula (II).
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JP2018150301A (en) * 2012-07-31 2018-09-27 株式会社Adeka Latent additive and composition containing the additive

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