JP2001278855A - New sulfonic ester derivative - Google Patents

New sulfonic ester derivative

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JP2001278855A
JP2001278855A JP2000091943A JP2000091943A JP2001278855A JP 2001278855 A JP2001278855 A JP 2001278855A JP 2000091943 A JP2000091943 A JP 2000091943A JP 2000091943 A JP2000091943 A JP 2000091943A JP 2001278855 A JP2001278855 A JP 2001278855A
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JP
Japan
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group
ester derivative
general formula
polymer
sulfonic ester
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Application number
JP2000091943A
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Japanese (ja)
Inventor
Atsuhiro Okawa
敦裕 大川
Seiya Sakurai
靖也 桜井
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a sulfonic ester derivative having excellent shelf stability and generating an acid by an action of heat, light, etc., and a new sulfonic ester derivative capable of providing an image forming material having excellent sensitivity, image quality, shelf stability, etc., by using the derivative together with a compound for producing changes in light absorption, hydrophilicity, hydrophobicity, etc., by a reaction with an acid. SOLUTION: This sulfonic ester derivative is represented by general formula (R1SO3CH(R2)R3 (R1 is an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group; R2 and R3 are each independently an alkyl group or an aryl group with the proviso that R2 and R3 are not an aryl group at the same time, R2 and R3 may be bonded to form a ring and at least one of R2 and R3 contains a polymerizable unsaturated group). This polymer is synthesized from a monomer containing the sulfonic ester derivative.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は熱、光などの作用に
より分解し、酸を発生するスルホン酸エステル誘導体に
関するものである。本発明は保存性に優れ、熱、光等の
作用により効率良く酸を発生するスルホン酸エステル誘
導体に関するものである。本発明は酸との反応によって
吸収、親疎水性等に変化を生じる化合物と一緒に使用す
ることにより、感度、画質、保存性等に優れた画像形成
材料を提供しうる新規なスルホン酸エステル誘導体に関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a sulfonic acid ester derivative which decomposes under the action of heat, light or the like to generate an acid. The present invention relates to a sulfonic acid ester derivative which is excellent in preservability and efficiently generates an acid by the action of heat, light or the like. The present invention relates to a novel sulfonic acid ester derivative which can provide an image-forming material having excellent sensitivity, image quality, storage stability, etc., when used together with a compound which undergoes a change in absorption, hydrophilicity or hydrophobicity by reaction with an acid. Things.

【0002】[0002]

【従来の技術】スルホン酸エステルは有機合成における
各種反応剤等として広く用いられている。またこのもの
が分解してスルホン酸を発生する性質を利用して、画像
形成の分野においては酸発生剤として用いられている。
酸発生剤としては、熱や光等の作用により酸を発生する
ものが知られており、使用する目的により使い分けられ
ている。その中で熱により酸を発生する熱酸発生剤に関
しては、保存中に熱により経時的に分解しない保存安定
性と熱による酸発生反応の活性とを両立させる必要があ
り、それが不十分であると熱や光を受けた領域と受けな
い領域との識別性が低下する。従来より熱酸発生剤のこ
の種の保存性と反応活性との両立性を改良する検討がな
されており、その概要が有機エレクトロニクス材料研究
会(ぶんしん出版)編「イメージング用有機材料」(1
997年)にまとめられているが、未だこの点ではきわ
めて不十分であり、更なる改良が望まれている。また近
年、高出力レーザーの進歩によりこれらレーザーを用い
たヒートモードの画像形成媒体の研究が盛んに行われて
いる。高出力レーザーを用いてレーザー照射で酸を発生
させ、酸と色素前駆体との反応によって画像を形成させ
る方法が欧州特許第905、656号に開示されている
が、この方法では高出力レーザーを用いた際には画像形
成媒体の表面が一部熱破壊(いわゆるアブレーション)
し、ヘイズが高くなり、地汚れなどを引き起こすので、
反応温度を高めることには制約がある。その結果、反応
活性と保存安定性の両立すなわち形成材料としての識別
性は、レーザー光を用いた記録方式においても不十分で
あり、実用的な両立性を備えた画像形成方法及び材料の
開発が依然として画像技術分野の課題となっている。
2. Description of the Related Art Sulfonates are widely used as various reactants in organic synthesis. Utilizing the property of decomposing to generate sulfonic acid, it is used as an acid generator in the field of image formation.
As the acid generator, those which generate an acid by the action of heat, light or the like are known, and they are used properly depending on the purpose of use. Among them, a thermal acid generator that generates an acid by heat needs to have both storage stability that does not decompose over time due to heat during storage and activity of an acid generation reaction due to heat, which is insufficient. If there is, the discriminability between the area that has received heat or light and the area that has not received heat is reduced. Investigations have been made to improve the compatibility between this kind of preservability and reaction activity of thermal acid generators, and the outline is described in “Organic Materials for Imaging” (1), edited by Organic Electronics Materials Research Group (Bunshin Publishing).
997), but this point is still extremely insufficient, and further improvement is desired. In recent years, with the advancement of high-power lasers, heat mode image forming media using these lasers have been actively studied. A method of generating an acid by laser irradiation using a high-power laser and forming an image by a reaction between the acid and a dye precursor is disclosed in EP 905,656. In this method, a high-power laser is used. When used, the surface of the image forming medium is partially destroyed by heat (so-called ablation)
And haze increases, causing soiling, etc.,
There are restrictions on raising the reaction temperature. As a result, the compatibility between the reaction activity and the storage stability, that is, the discriminability as a forming material is not sufficient even in a recording method using a laser beam, and the development of an image forming method and a material having practical compatibility has been required. It is still an issue in the field of imaging technology.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明の第一の目的
は、熱、光等の作用により分解し酸を発生するスルホン
酸エステル誘導体を提供することである。本発明の第二
の目的は、 保存性に優れ、熱、光等の作用により効率
良く酸を発生するスルホン酸エステル誘導体を提供する
ことである。本発明の第三の目的は、酸との反応によっ
て光吸収、親疎水性等に変化を生じる化合物と一緒に使
用することにより、感度、画質、保存性等に優れた画像
形成材料を提供しうる新規なスルホン酸エステル誘導体
を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a sulfonate derivative which decomposes under the action of heat, light or the like to generate an acid. A second object of the present invention is to provide a sulfonic acid ester derivative which has excellent preservability and efficiently generates an acid by the action of heat, light or the like. A third object of the present invention is to provide an image forming material having excellent sensitivity, image quality, storage stability and the like by using together with a compound which changes light absorption, hydrophilicity / hydrophobicity, etc. by reaction with an acid. An object of the present invention is to provide a novel sulfonic ester derivative.

【0004】[0004]

【発明を解決するための手段】本発明の課題は以下に示
す1から3に記載のスルホン酸エステル誘導体により達
成できた。 1.下記一般式(I)で表わされるスルホン酸エステル
誘導体。
The object of the present invention has been achieved by the following sulfonate derivatives described in 1 to 3. 1. A sulfonic acid ester derivative represented by the following general formula (I).

【0005】[0005]

【化3】 Embedded image

【0006】一般式(I)において、R1 はアルキル
基、アリール基もしくはヘテロ環基を表わす。R2及び
3はそれぞれ独立にアルキル基もしくはアリール基を
表わすが、 R2とR3がともにアリール基であることは
ない。 またR2とR3が結合して環を形成しても良い。
ただし、R2とR3のうち少なくとも一方は重合性の不飽
和基を有する。
In the general formula (I), R 1 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group. R 2 and R 3 each independently represent an alkyl group or an aryl group, but neither R 2 nor R 3 is an aryl group. R 2 and R 3 may combine to form a ring.
However, at least one of R 2 and R 3 has a polymerizable unsaturated group.

【0007】2.上記一般式(I)で表わされるスルホ
ン酸エステル誘導体が、下記一般式(II)で表わされ
ることを特徴とするスルホン酸エステル誘導体。
[0007] 2. A sulfonic acid ester derivative, wherein the sulfonic acid ester derivative represented by the general formula (I) is represented by the following general formula (II).

【0008】[0008]

【化4】 Embedded image

【0009】一般式(II)において、R1 は一般式
(I)と同義である。XはCとともに環を形成するのに
必要な原子団を表わし、Xを構成する原子団は、少なく
とも1つの重合性の不飽和基を有する。
In the general formula (II), R 1 has the same meaning as in the general formula (I). X represents an atomic group necessary for forming a ring together with C, and the atomic group constituting X has at least one polymerizable unsaturated group.

【0010】3.上記1の一般式(I)又は上記2の一
般式(II)で表わされるスルホン酸エステル誘導体を
重合して得られるポリマー。
[0010] 3. A polymer obtained by polymerizing the sulfonic acid ester derivative represented by the general formula (I) or the general formula (II).

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳しく述べ
る。一般式(I)において、R1はアルキル基(メチル
基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、t−
ブチル基、n−オクチル基、ドデシル基、シクロプロピ
ル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、 [0,1,3]
ビシクロヘキシル基、[1,2,2]ビシクロヘプチル基、[1,
1,3]ビシクロヘプチル基等)、アリール基(フェニル
基、ナフチル基等)もしくはヘテロ環基(フリル基、チ
エニル基、ピリミジニル基、ベンゾチアゾリル基等)を
表わす。これらのうちで好ましくはアルキル基もしくは
アリール基であり、特に好ましくはアリール基である。
これらの基は、置換基を除いて炭素数が1〜18であ
り、好ましくは1〜12である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail. In the general formula (I), R 1 represents an alkyl group (methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, t-
Butyl, n-octyl, dodecyl, cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, [0,1,3]
Bicyclohexyl group, [1,2,2] bicycloheptyl group, [1,2
1,3] bicycloheptyl group, aryl group (phenyl group, naphthyl group, etc.) or heterocyclic group (furyl group, thienyl group, pyrimidinyl group, benzothiazolyl group, etc.). Of these, an alkyl group or an aryl group is preferred, and an aryl group is particularly preferred.
These groups have 1 to 18 carbon atoms, and preferably 1 to 12 carbon atoms, excluding a substituent.

【0012】また、これらの基は、更に置換基を有して
いても良く、置換基としては置換可能なものであればい
ずれの置換基であってもよく、好ましい置換基として
は、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素及びヨウ素)、
アルキル基(具体例は前記と同じで、シクロアルキル
基、ビシクロアルキル基を含む)、アルケニル基(ビニ
ル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル
基、2−シクロペンテン−1−イル基等)、アルキニル
基(エチニル基、プロパルギル基、トリメチルシリルエ
チニル基等)、アリール基(具体例は前述と同じ)、ヘ
テロ環基(具体例は前述と同じ)、シアノ基、ヒドロキ
シル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基(メ
トキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、t−ブトキ
シ基、n−オクチルオキシ基等)、アリールオキシ基
(フェノキシ基、ナフトキシ基等)、シリルオキシ基
(トリメチルシリルオキシ基、t−ブチルジメチルシリ
ルオキシ基等)、ヘテロ環オキシ基(ピリジルオキシ
基、2−テトラヒドロピラニルオキシ基等)、アシルオ
キシ基(ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロ
イルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキ
シ基等)、カルバモイルオキシ基( N,N−ジメチル
カルバモイルオキシ基、 モルホリノカルボニルオキシ
基、N,N−ジ−n−オクチルアミノカルボニルオキシ
基、N−n−オクチルカルバモイルオキシ基等)、アル
コキシカルボニルオキシ基(メトキシカルボニルオキシ
基、エトキシカルボニルオキシ基、t−ブトキシカルボ
ニルオキシ基、n−オクチルカルボニルオキシ基等)、
アリールオキシカルボニルオキシ基(フェノキシカルボ
ニルオキシ基等)、
Further, these groups may further have a substituent, and any substituent may be used as long as it can be substituted. A preferable substituent is a halogen atom (Fluorine, chlorine, bromine and iodine),
Alkyl group (specific examples are the same as above, including cycloalkyl group and bicycloalkyl group), alkenyl group (vinyl group, allyl group, prenyl group, geranyl group, oleyl group, 2-cyclopenten-1-yl group, etc.) , Alkynyl group (ethynyl group, propargyl group, trimethylsilylethynyl group, etc.), aryl group (specific examples are as described above), heterocyclic group (specific examples are as described above), cyano group, hydroxyl group, nitro group, carboxyl group , An alkoxy group (methoxy group, ethoxy group, isopropoxy group, t-butoxy group, n-octyloxy group, etc.), an aryloxy group (phenoxy group, naphthoxy group, etc.), a silyloxy group (trimethylsilyloxy group, t-butyldimethyl group) Silyloxy group, etc.), heterocyclic oxy group (pyridyloxy group, 2-tetrahydropyrani Oxy group, etc.), acyloxy group (formyloxy group, acetyloxy group, pivaloyloxy group, stearoyloxy group, benzoyloxy group, etc.), carbamoyloxy group (N, N-dimethylcarbamoyloxy group, morpholinocarbonyloxy group, N, N -Di-n-octylaminocarbonyloxy group, Nn-octylcarbamoyloxy group, etc., alkoxycarbonyloxy group (methoxycarbonyloxy group, ethoxycarbonyloxy group, t-butoxycarbonyloxy group, n-octylcarbonyloxy group etc),
An aryloxycarbonyloxy group (such as a phenoxycarbonyloxy group),

【0013】さらに、アミノ基(アニリノ基をも含み、
アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリ
ノ基、N-メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基
等)、アシルアミノ基(アセチルアミノ基、ピバロイル
アミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、
3,4,5−トリ−n−オクチルオキシフェニルカルボ
ニルアミノ基等)、カルバモイルアミノ基(カルバモイ
ルアミノ基、N,N−ジメチルアミノカルボニルアミノ
基、N,N−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モル
ホリノカルボニルアミノ基等)、アルコキシカルボニル
アミノ基(メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカル
ボニルアミノ基、t−ブトキシカルボニルアミノ、n−
オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、N−メチルー
メトキシカルボニルアミノ等)、アリールオキシカルボ
ニルアミノ基(フェノキシカルボニルアミノ基等)、ス
ルファモイルアミノ基(スルファモイルアミノ基、N,
N−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、N−n−オク
チルアミノスルホニルアミノ等基)、アルキル及びアリ
ールスルホニルアミノ基(メチルスルホニルアミノ基、
ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ
基等)、
Furthermore, an amino group (including an anilino group,
Amino group, methylamino group, dimethylamino group, anilino group, N-methyl-anilino group, diphenylamino group, etc., acylamino group (acetylamino group, pivaloylamino group, lauroylamino group, benzoylamino group,
3,4,5-tri-n-octyloxyphenylcarbonylamino group, etc., carbamoylamino group (carbamoylamino group, N, N-dimethylaminocarbonylamino group, N, N-diethylaminocarbonylamino group, morpholinocarbonylamino group Etc.), alkoxycarbonylamino group (methoxycarbonylamino group, ethoxycarbonylamino group, t-butoxycarbonylamino, n-
Octadecyloxycarbonylamino group, N-methyl-methoxycarbonylamino, etc.), aryloxycarbonylamino group (phenoxycarbonylamino group, etc.), sulfamoylamino group (sulfamoylamino group, N,
N-dimethylaminosulfonylamino group, Nn-octylaminosulfonylamino group, etc., alkyl and arylsulfonylamino groups (methylsulfonylamino group,
Butylsulfonylamino group, phenylsulfonylamino group, etc.),

【0014】さらに、メルカプト基、アルキルチオ基
(メチルチオ基、エチルチオ基、n−ヘキサデシルチオ
基等)、アリールチオ基(フェニルチオ基等)、ヘテロ
環チオ基(2−ベンゾチアゾリルチオ基、1−フェニル
テトラゾール−5−イルチオ基等)、スルファモイル基
( N−エチルスルファモイル基、N−(3−ドデシル
オキシプロピル)スルファモイル基、N,N−ジメチル
スルファモイル基、N−アセチルスルファモイル基、N
−ベンゾイルスルファモイル基、N−(N“−フェニル
カルバモイル)スルファモイル基等)、スルホ基、アル
キル及びアリールスルフィニル基(メチルスルフィニル
基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基
等)、アルキル及びアリールスルホニル基(メチルスル
ホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基
等)、アシル基(アセチル基、ピバロイル基、2−クロ
ロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基等)、ア
リールオキシカルボニル基(フェノキシカルボニル
等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル
基、n−オクタデシルオキシカルボニル基等)、カルバ
モイル基(カルバモイル基、N−メチルカルバモイル、
N,N−ジメチルカルバモイル基、N,N−ジ−n−オ
クチルカルバモイル、N−(メチルスルホニル)カルバ
モイル基等)、イミド基(N−スクシンイミド基、N−
フタルイミド基等)、ホスフィノ基(ジメチルホスフィ
ノ基、ジフェニルホスフィノ基等)、ホスフィニル基、
ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル
基(トリメチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル
基、フェニルジメチルシリル基等)が例として挙げられ
る。R1の置換基として最も好ましくはアルキル基であ
る。R1の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限
定されるものではない。
Further, mercapto groups, alkylthio groups (methylthio group, ethylthio group, n-hexadecylthio group, etc.), arylthio groups (phenylthio group, etc.), heterocyclic thio groups (2-benzothiazolylthio group, 1-phenyltetrazole- 5-ylthio group, etc.), sulfamoyl group (N-ethylsulfamoyl group, N- (3-dodecyloxypropyl) sulfamoyl group, N, N-dimethylsulfamoyl group, N-acetylsulfamoyl group, N
-Benzoylsulfamoyl group, N- (N "-phenylcarbamoyl) sulfamoyl group, etc., sulfo group, alkyl and arylsulfinyl group (methylsulfinyl group, ethylsulfinyl group, phenylsulfinyl group, etc.), alkyl and arylsulfonyl group ( Methylsulfonyl, ethylsulfonyl, phenylsulfonyl, etc.), acyl (acetyl, pivaloyl, 2-chloroacetyl, stearoyl, benzoyl, etc.), aryloxycarbonyl (phenoxycarbonyl, etc.), alkoxycarbonyl (Methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, t-butoxycarbonyl group, n-octadecyloxycarbonyl group, etc.), carbamoyl group (carbamoyl group, N-methylcarbamoyl,
N, N-dimethylcarbamoyl group, N, N-di-n-octylcarbamoyl group, N- (methylsulfonyl) carbamoyl group, etc., imide group (N-succinimide group, N-
Phthalimido group), phosphino group (dimethylphosphino group, diphenylphosphino group, etc.), phosphinyl group,
Examples include a phosphinyloxy group, a phosphinylamino group, and a silyl group (such as a trimethylsilyl group, a t-butyldimethylsilyl group, and a phenyldimethylsilyl group). Most preferably, R 1 is an alkyl group. Specific examples of R 1 are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0015】[0015]

【化5】 Embedded image

【0016】[0016]

【化6】 Embedded image

【0017】[0017]

【化7】 Embedded image

【0018】置換基R2及びR3はそれぞれ独立にアルキ
ル基もしくはアリール基を表わすが、 R2とR3が同時
にアリール基であることはない。アルキル基とアリール
基の例はR1で挙げたものと同じであり、さらに置換基
を有していても良く、好ましい置換基はR1の説明で挙
げたものである。またR2とR3のうち少なくとも一方は
重合性の不飽和基を有する。重合性不飽和基としてはビ
ニル基が好ましい。またR2とR3が結合して環を形成し
ても良い。R2とR3が環を形成した本発明のスルホン酸
エステルての例としては種々のものが挙げられるが、そ
の好ましい形態が一般式(II)で表わされるものであ
る。
The substituents R 2 and R 3 each independently represent an alkyl group or an aryl group, but R 2 and R 3 are not simultaneously aryl groups. Examples of the alkyl group and the aryl group are the same as those described for R 1 , and may further have a substituent. Preferred substituents are those described for R 1 . At least one of R 2 and R 3 has a polymerizable unsaturated group. As the polymerizable unsaturated group, a vinyl group is preferable. R 2 and R 3 may combine to form a ring. Examples of the sulfonic acid ester of the present invention in which R 2 and R 3 form a ring include various types, and a preferred form is represented by the general formula (II).

【0019】一般式(II)において、 R1は一般式
(I)と同義である。XはCとともに環を形成するのに
必要な原子団を表わし、重合性の不飽和基を少なくとも
1つ有する。重合性不飽和基としては一般式(I)の説
明で挙げたものと同義である。XはCとともに環を形成
し、環の大きさとして好ましくは3〜8員環が好まし
く、更に好ましくは5または6員環であり、特に好まし
くは6員環である。Xは非金属原子団であることが好ま
しく、更に好ましくは−C(R4)(R5)−、−C(=
Y)−、−N(R6)−、−O−、−S−から選ばれる
2価基の複数個の基が線形結合して成る原子団であり、
それら複数個の2価基は同じでも異なってもよい。好ま
しい2価基は、−C(R4)(R5)−である。ここでR
4、R5、R6は水素原子もしくは置換基を表わし、置換
基としての好ましい例はR1の説明で挙げたものと同じ
である。 R4、R5もしくはR6が分子内に複数存在する
場合、それらは同じであっても異なっていても良く、ま
たいずれか2つもしくはそれ以上のものが結合して環を
形成しても良い。Yは、=O、=S、もしくは=N−R
6を表わし、 R6は上記した−N(R6)−のR6と同義
である。また一般式(II)で表わされる化合物の中でさ
らに好ましくは、下記一般式(III)で表わされる化合
物である。
In the general formula (II), R 1 has the same meaning as in the general formula (I). X represents an atomic group necessary for forming a ring together with C, and has at least one polymerizable unsaturated group. The polymerizable unsaturated group has the same meaning as that described in the description of formula (I). X forms a ring together with C, and the ring size is preferably a 3- to 8-membered ring, more preferably a 5- or 6-membered ring, and particularly preferably a 6-membered ring. X is preferably a non-metallic atomic group, more preferably -C (R 4) (R 5 ) -, - C (=
Y) -, - N (R 6) -, - O -, - 2 -valent group of a plurality of groups selected from S- is an atomic group formed by linear combination,
The plurality of divalent groups may be the same or different. Preferred divalent group is, -C (R 4) (R 5) - is. Where R
4 , R 5 and R 6 each represent a hydrogen atom or a substituent, and preferred examples of the substituent are the same as those described for R 1 . When a plurality of R 4 , R 5 or R 6 are present in the molecule, they may be the same or different, and any two or more may be combined to form a ring. good. Y is = O, = S, or = N-R
Represents 6, R 6 is -N mentioned above (R 6) - which is synonymous with R 6 in. Further, among the compounds represented by the general formula (II), more preferred are compounds represented by the following general formula (III).

【0020】[0020]

【化8】 Embedded image

【0021】式中、R1は一般式(I)と同義である。
7は水素原子もしくはアルキル基を表わし、アルキル
基はさらに置換基を有していても良く、アルキル基およ
び置換基の具体例はR1の具体例で挙げたものである。
7として好ましくは水素原子もしくはメチル基であ
る。これら一般式(I)、(II) 及び(III)で表される化
合物の中にはcis体及びtrans体などの異性体がそんざい
するものもあるが、本発明は、それらを特定するもので
はなく、また、それらを混合物として用いる場合も本発
明に含まれる。
In the formula, R 1 has the same meaning as in formula (I).
R 7 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and the alkyl group may further have a substituent. Specific examples of the alkyl group and the substituent are those described in the specific examples of R 1 .
R 7 is preferably a hydrogen atom or a methyl group. Some of the compounds represented by the general formulas (I), (II) and (III) include isomers such as cis isomers and trans isomers. However, the present invention also includes the case where they are used as a mixture.

【0022】次にこれら重合性基を有する化合物から誘
導されるポリマー化合物について説明する。本発明の一
般式(I)〜(III)で表わされる化合物はポリマー
化することにより機能性素材としての実力を更に大きく
発現するものである。本発明のポリマーの分子量は1千
〜100万の範囲にあることが好ましく、特に好ましく
は2千〜10万の範囲にある場合である。
Next, polymer compounds derived from these compounds having a polymerizable group will be described. The compounds represented by the general formulas (I) to (III) of the present invention exhibit a greater ability as a functional material by being polymerized. The molecular weight of the polymer of the present invention is preferably in the range of 1,000 to 1,000,000, particularly preferably in the range of 2,000 to 100,000.

【0023】本発明のポリマーの合成は種々の重合方
法、例えば溶液重合、沈澱重合、懸濁重合、塊状重合、
乳化重合によって行なうことができる。また、重合の開
始方法はラジカル開始剤を用いる方法、光または放射線
を照射する方法等がある。これらの重合方法、重合の開
始方法は、例えば鶴田禎二「高分子合成方法」改定版
(日刊工業新聞社刊、1971)や大津隆行、木下雅悦
共著「高分子合成の実験法」化学同人、昭和47年刊、
124〜154頁に記載されている。
The synthesis of the polymer of the present invention can be effected by various polymerization methods such as solution polymerization, precipitation polymerization, suspension polymerization, bulk polymerization,
It can be carried out by emulsion polymerization. The method of initiating polymerization includes a method using a radical initiator, a method of irradiating light or radiation, and the like. These polymerization methods and the method of initiating the polymerization are described in, for example, T. Tsuruta, “Polymer Synthesis Method” Revised Edition (Nikkan Kogyo Shimbun, 1971), Takatsu Otsu, Masayoshi Kinoshita, “Experimental Method of Polymer Synthesis” Published in 1972,
It is described on pages 124-154.

【0024】上記重合方法のうち、特にラジカル開始剤
を用いた溶液重合法が好ましい。溶液重合法に用いられ
る溶剤は、例えば酢酸エチル、メタノール、エタノー
ル、1ープロパノール、2ープロパノール、1ーブタノ
ール、アセトン、ジオキサン、N,Nージメチルホルム
アミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ベンゼン、ト
ルエン、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホル
ム、ジクロロエタンのような種々の有機溶剤の単独ある
いは2種以上の混合物でも良いし、水との混合溶媒とし
ても良い。重合温度は生成するポリマーの分子量、開始
剤の種類などと関連して設定する必要があり、種々の温
度で重合可能であるが、通常30〜100℃の範囲で重
合を行なう。本発明では30〜90℃の温度範囲で重合
を行なうことが好ましい。
Among the above polymerization methods, a solution polymerization method using a radical initiator is particularly preferred. Solvents used in the solution polymerization method include, for example, ethyl acetate, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, acetone, dioxane, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, benzene, toluene, acetonitrile, Various organic solvents such as methylene chloride, chloroform and dichloroethane may be used alone or as a mixture of two or more thereof, or may be used as a mixed solvent with water. The polymerization temperature needs to be set in relation to the molecular weight of the polymer to be produced, the type of initiator, and the like. Polymerization can be performed at various temperatures, but usually the polymerization is carried out in the range of 30 to 100 ° C. In the present invention, it is preferable to carry out the polymerization in a temperature range of 30 to 90C.

【0025】重合に用いられるラジカル開始剤として
は、例えば、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、
2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリ
ル)、2,2’−アゾビス(2−アミジノプロパン)ジ
ハイドロクロライド、4,4’−アゾビス(4−シアノ
ペンタノイックアシッド)のようなアゾ系開始剤や、ベ
ンゾイルパーオキサイド、tーブチルハイドロパーオキ
サイド、過硫酸カリウム(例えば、亜硫酸水素ナトリウ
ムと組み合わせてレドックス開始剤として用いても良
い)のようなペルオキシド系開始剤が好ましい。本発明
では半減期が10時間になる温度が70℃以下の開始剤
(例えば2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロ
ニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,
4−ジメチルバレロニトリル)、ジメチル2,2’−ア
ゾビス(2−メチルプロピオネ−ト)、2,2’−アゾ
ビス[2−(3,4,5,6−テトラヒドロプロパン)
ジハイドロクロライド]等が特に好ましい。重合開始剤
の使用量はモノマーの重合性や必要とする重合体の分子
量に応じて調節することが可能であるが、単量体に対し
て0.01〜5.0mol%の範囲が好ましい。
Examples of the radical initiator used for the polymerization include 2,2'-azobisisobutyronitrile,
Such as 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis (2-amidinopropane) dihydrochloride, and 4,4'-azobis (4-cyanopentanoic acid) Preferred are azo-based initiators and peroxide-based initiators such as benzoyl peroxide, t-butyl hydroperoxide, and potassium persulfate (for example, redox initiators may be used in combination with sodium bisulfite). In the present invention, the initiator (for example, 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile)) or 2,2'-azobis (4-methoxy-2,
4-dimethylvaleronitrile), dimethyl 2,2'-azobis (2-methylpropionate), 2,2'-azobis [2- (3,4,5,6-tetrahydropropane)
Dihydrochloride] and the like are particularly preferred. The amount of the polymerization initiator used can be adjusted according to the polymerizability of the monomer and the required molecular weight of the polymer, but is preferably in the range of 0.01 to 5.0 mol% based on the monomer.

【0026】以下に一般式(I)、一般式(II)もしく
は一般式(III)で表わされる化合物の具体例を示す
が、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、
以下に示すモノマーを重合して得られるホモポリマーの
番号は、モノマーの番号にP−を付けて表わされる(例
えば例示化合物(1)のホモポリマーは(P−1)とす
る。他も同じ)。またモノマーによってはcis-体とtran
s-体等の異性体が存在するものもあり、これらを混合物
として重合した場合も本発明に含まれる。
Specific examples of the compound represented by the formula (I), (II) or (III) are shown below, but the present invention is not limited thereto. In addition,
The number of the homopolymer obtained by polymerizing the monomers shown below is represented by adding P- to the number of the monomer (for example, the homopolymer of Exemplified Compound (1) is (P-1), and the same applies to the others). . Depending on the monomer, cis- and tran
Some of the isomers such as the s-isomer exist, and the case where these are polymerized as a mixture is also included in the present invention.

【0027】[0027]

【化9】 Embedded image

【0028】[0028]

【化10】 Embedded image

【0029】[0029]

【化11】 Embedded image

【0030】[0030]

【化12】 Embedded image

【0031】[0031]

【化13】 Embedded image

【0032】また、これら一般式(I)、(II)又は(II
I)からポリマーを合成するさいには、上記の各一般式の
モノマーのほかにこれらと共重合体を形成することが可
能な少なくとも1種類以上のビニルモノマーの重合を加
えて共重合体としてもよく、共重合成分によって、極
性、ガラス転位温度等を調節することにより保存安定
性、発色活性等をコントロールすることができる。この
ようなビニルモノマーは2種類以上を組み合わせても良
い。好ましい例としては、アクリル酸エステル、メタク
リル酸エステル、アクリルアミド、スチレン、ビニルエ
ーテル等が挙げられる。具体的には、ビニルベンゼン、
p−n−オクチルビニルベンゼン、ビニルー1−ナフタ
レン、メチルアクリレート、フェニルアクリレート、ヒ
ドロキシメチルメタクリレート、アクリロニトリル、N
−シクロヘキシルアクリロニトリル、N−ナフチルアク
リロニトリル、ジーn−ブチルアクリロニトリル等が挙
げられるが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。これらの共重合可能なモノマーの共重合体中の割合
は、0から90モル%、好ましくは0から90モル%であ
り、より好ましくは0から50モル%である。共重合体
の好ましい分子量、合成方法などは前記のとおりであ
る。以下に本発明の化合物の合成法を示すが、本発明は
これらに限定されるものではない。 (合成例1) 例示化合物(1)の合成
The compounds represented by the general formulas (I), (II) and (II)
In synthesizing a polymer from I), in addition to the monomers of the above general formulas, polymerization of at least one or more vinyl monomers capable of forming a copolymer with these monomers may be added to form a copolymer. By controlling the polarity, the glass transition temperature, and the like, depending on the copolymer component, storage stability, color-forming activity, and the like can be controlled. Such vinyl monomers may be used in combination of two or more. Preferred examples include acrylate, methacrylate, acrylamide, styrene, vinyl ether and the like. Specifically, vinyl benzene,
pn-octylvinylbenzene, vinyl-1-naphthalene, methyl acrylate, phenyl acrylate, hydroxymethyl methacrylate, acrylonitrile, N
-Cyclohexylacrylonitrile, N-naphthylacrylonitrile, di-n-butylacrylonitrile and the like, but the present invention is not limited to these. The proportion of these copolymerizable monomers in the copolymer is from 0 to 90 mol%, preferably from 0 to 90 mol%, more preferably from 0 to 50 mol%. The preferred molecular weight and the synthesis method of the copolymer are as described above. Hereinafter, a method for synthesizing the compound of the present invention will be described, but the present invention is not limited thereto. (Synthesis Example 1) Synthesis of Exemplified Compound (1)

【0033】[0033]

【化14】 Embedded image

【0034】原料化合物1b(cis-及びtrans-体の混合
物、100mmol)をN、N−ジメチルアセトアミド(5
0ml)中に溶かし、反応器を7℃に冷却した。そこに
原料化合物1a(100mmol)を10分かけて滴下し、
その後6時間この温度に保って反応させた。その後酢酸
エチル(200ml)と水(200ml)を加えて攪拌
した後、水層を分離した。更に有機層を1mol/lの塩
酸水(100ml)で3回洗浄し、硫酸マグネシウム上
で乾燥、濃縮した。得られた油状物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(溶出液:酢酸エチル/ヘキサン=
1/4→1/1)にて精製し、反応生成物1cを61%
の収率で得た。
The starting compound 1b (mixture of cis- and trans-forms, 100 mmol) was converted to N, N-dimethylacetamide (5
0 ml) and the reactor was cooled to 7 ° C. The starting compound 1a (100 mmol) is added dropwise thereto over 10 minutes,
Thereafter, the reaction was maintained at this temperature for 6 hours. Thereafter, ethyl acetate (200 ml) and water (200 ml) were added and stirred, and then the aqueous layer was separated. The organic layer was further washed three times with 1 mol / l aqueous hydrochloric acid (100 ml), dried over magnesium sulfate and concentrated. The obtained oil is subjected to silica gel column chromatography (eluent: ethyl acetate / hexane =
1/4 → 1/1), and the reaction product 1c was reduced to 61%
In a yield of

【0035】次に原料化合物1d(50mmol)をピリジ
ン(30ml)に溶かし、7℃に冷却した。そこに反応
生成物1c(50mmol)を加え、8時間攪拌した。その
後、水(3ml)を加え30分攪拌した後、酢酸エチル
(100ml)と水(200ml)を加えて攪拌、水層
を分離した。更に有機層を1mol/lの塩酸水(100
ml)で3回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥、濃縮
した。得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(溶出液:酢酸エチル/ヘキサン=1/4→1/
1)にて精製し、例示化合物(1)をcis体とtrans体の
混合物として72%の収率で得た。またcis体とtrans体
はシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:酢酸
エチル/ヘキサン=1/4→1/1)で分離可能であ
り、それらを分離して各々の分解温度を調べたところ、
cis体は192℃、trans体は184℃であった。
Next, the starting compound 1d (50 mmol) was dissolved in pyridine (30 ml) and cooled to 7 ° C. The reaction product 1c (50 mmol) was added thereto, and the mixture was stirred for 8 hours. Thereafter, water (3 ml) was added, and the mixture was stirred for 30 minutes. Then, ethyl acetate (100 ml) and water (200 ml) were added, and the mixture was stirred to separate an aqueous layer. Further, the organic layer was washed with 1 mol / l hydrochloric acid aqueous solution (100
ml), dried over magnesium sulfate and concentrated. The obtained oil is subjected to silica gel column chromatography (eluent: ethyl acetate / hexane = 1/4 → 1 /
Purification was performed in 1) to obtain Exemplified Compound (1) as a mixture of a cis form and a trans form in a yield of 72%. The cis form and the trans form can be separated by silica gel column chromatography (eluent: ethyl acetate / hexane = 1/4 → 1/1). When they were separated and their decomposition temperatures were examined,
The temperature was 192 ° C for the cis form and 184 ° C for the trans form.

【0036】(合成例2) 例示化合物(2)の合成(Synthesis Example 2) Synthesis of Exemplified Compound (2)

【0037】[0037]

【化15】 Embedded image

【0038】原料化合物2a(100mmol)をピリジン
(40ml)中に溶かし、反応器を7℃に冷却した。そ
こに原料化合物2b(100mmol)を10分かけて滴下
し、その後2時間反応させ、その後室温で更に5時間反
応させた。その後、水(4ml)を加え30分攪拌した
後、酢酸エチル(150ml)と水(200ml)を加
えて攪拌、水層を分離した。更に有機層を1mol/lの
塩酸水(100ml)で3回洗浄し、硫酸マグネシウム
上で乾燥、濃縮した。得られた油状物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(溶出液:酢酸エチル/クロロホ
ルム=1/8→1/1)にて精製し、反応生成物2cを
76%の収率で得た。
The starting compound 2a (100 mmol) was dissolved in pyridine (40 ml), and the reactor was cooled to 7 ° C. Thereto, the starting compound 2b (100 mmol) was added dropwise over 10 minutes, and then reacted for 2 hours, and then reacted at room temperature for another 5 hours. Then, after adding water (4 ml) and stirring for 30 minutes, ethyl acetate (150 ml) and water (200 ml) were added and stirred, and the aqueous layer was separated. The organic layer was further washed three times with 1 mol / l aqueous hydrochloric acid (100 ml), dried over magnesium sulfate and concentrated. The obtained oil was purified by silica gel column chromatography (eluent: ethyl acetate / chloroform = 1/8 → 1/1) to obtain a reaction product 2c in a yield of 76%.

【0039】次に反応生成物2c(50mmol)をN、N
−ジメチルアセトアミド(60ml)中に溶かし、反応
器を7℃に冷却した。そこに原料化合物2d(50mmo
l)を10分かけて滴下し、その後室温で8時間反応さ
せた。酢酸エチル(200ml)と水(200ml)を
加えて攪拌した後、水層を分離した。更に有機層を1mo
l/lの塩酸水(100ml)で3回洗浄し、硫酸マグ
ネシウム上で乾燥、濃縮した。得られた油状物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:酢酸エチル/
ヘキサン=1/4→1/1)にて精製し、例示化合物
(2)をcis体とtrans体の混合物として78%の収率で
得た。該化合物のtrans体の分解温度は189℃であっ
た。
Next, the reaction product 2c (50 mmol) was added to N, N
-Dissolved in dimethylacetamide (60 ml) and cooled the reactor to 7 ° C. There, raw material compound 2d (50mmo
l) was added dropwise over 10 minutes, and then reacted at room temperature for 8 hours. After adding ethyl acetate (200 ml) and water (200 ml) and stirring, the aqueous layer was separated. 1mo organic layer
The extract was washed three times with 1 / l aqueous hydrochloric acid (100 ml), dried over magnesium sulfate and concentrated. The obtained oil is subjected to silica gel column chromatography (eluent: ethyl acetate /
Hexane = 1/4 → 1/1) to give Exemplified Compound (2) as a mixture of a cis form and a trans form in a yield of 78%. The decomposition temperature of the trans form of the compound was 189 ° C.

【0040】(合成例3) 例示化合物(3)の合成 出発原料の化合物を2aから2、5−キシリルー1−ス
ルホニルクロライドに代えた以外は、合成例2の例示化
合物(2)の合成と同様の反応にて例示化合物(3)を
合成し、cis体とtrans体の混合物として得た。混合物の
分解温度は181℃であった。
(Synthesis Example 3) Synthesis of Exemplified Compound (3) Same as the synthesis of Exemplified Compound (2) of Synthesis Example 2 except that the starting material compound was changed from 2a to 2,5-xylyl-1-sulfonyl chloride. The compound (3) was synthesized by the above reaction to obtain a mixture of a cis form and a trans form. The decomposition temperature of the mixture was 181 ° C.

【0041】(合成例4) 例示化合物(22)の合成 出発原料2aをp―トリルスルホニルクロライドに、原
料2dをアクリルクロライドに代えた以外は、合成例2
の例示化合物(2)と同様の反応にて合成し、cis体とt
rans体の混合物として得た。 cis体の分解温度は182
℃、 trans体の分解温度は173℃であった。
(Synthesis Example 4) Synthesis of Exemplified Compound (22) Synthesis Example 2 except that the starting material 2a was changed to p-tolylsulfonyl chloride and the starting material 2d was changed to acryl chloride.
Synthesized in the same reaction as the exemplified compound (2) of
Obtained as a mixture of rans bodies. The decomposition temperature of cis isomer is 182
° C, the decomposition temperature of the trans form was 173 ° C.

【0042】(合成例5) 例示化合物(13)の合成 出発原料2aをp―トリルスルホニルクロライドに、原
料2bを4−[2−(4−ヒドロキシブチルシクロヘキシ
ル]プロピル)シクロヘキサノールに代えた以外は、合
成例2の例示化合物(2)の合成と同様の反応にて合成
し、例示化合物(13)をcis体とtrans体の混合物とし
て得た。混合物の分解温度を測定したが、きれいな分解
ピークが得られなかった。
(Synthesis Example 5) Synthesis of Exemplified Compound (13) Except that the starting material 2a was changed to p-tolylsulfonyl chloride and the starting material 2b was changed to 4- [2- (4-hydroxybutylcyclohexyl] propyl) cyclohexanol The compound (13) was obtained as a mixture of a cis-form and a trans-form by the same reaction as in the synthesis of the exemplified compound (2) of Synthesis Example 2. The decomposition temperature of the mixture was measured, but no clean decomposition peak was obtained.

【0043】(合成例6) ポリマー(P−1)の合成 ポリマー(1)(50mmol)をトルエン(22ml)に
溶かし、窒素雰囲気下40℃に加熱した。そこに2,
2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレ
ロニトリル)(0.125g)のメチルエチルケトン
(3ml)溶液を加えて2時間反応させた後、さらに
2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチル
バレロニトリル)(0.125g)のメチルエチルケト
ン(3ml)溶液を加えた。2時間反応させた後、反応
液をヘキサン(1200ml)中にあけ、析出したもの
を濾取、乾燥することによりポリマー(P−1)を89
%の収率で得た。質量平均分子量8.5万、分解温度は
172℃であった。
Synthesis Example 6 Synthesis of Polymer (P-1) Polymer (1) (50 mmol) was dissolved in toluene (22 ml) and heated to 40 ° C. under a nitrogen atmosphere. There
A solution of 2′-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile) (0.125 g) in methyl ethyl ketone (3 ml) was added and reacted for 2 hours, followed by 2,2′-azobis (4-methoxy-methyl). A solution of 2,4-dimethylvaleronitrile) (0.125 g) in methyl ethyl ketone (3 ml) was added. After reacting for 2 hours, the reaction solution was poured into hexane (1200 ml), and the precipitate was collected by filtration and dried to obtain 89% of polymer (P-1).
% Yield. The weight average molecular weight was 85,000 and the decomposition temperature was 172 ° C.

【0044】(合成例7) ポリマー(P−2)の合成 例示化合物(2)を用いてポリマー(P−1)の合成と
同様の反応にてポリマー(P−2)を合成した。質量平
均分子量12万、分解温度は187℃であった。
(Synthesis Example 7) Synthesis of Polymer (P-2) Polymer (P-2) was synthesized by the same reaction as synthesis of polymer (P-1) using Exemplified Compound (2). The weight average molecular weight was 120,000 and the decomposition temperature was 187 ° C.

【0045】(合成例8) ポリマー(P−3)の合成 例示化合物(3)を用いてポリマー(P−1)の合成と
同様の反応にてポリマー(P−3)を合成した。質量平
均分子量10万、分解温度は174℃であった。
(Synthesis Example 8) Synthesis of polymer (P-3) Using the exemplified compound (3), a polymer (P-3) was synthesized by the same reaction as in the synthesis of the polymer (P-1). The weight average molecular weight was 100,000, and the decomposition temperature was 174 ° C.

【0046】(合成例9) ポリマー(P−22)の合
成 例示化合物(22)を用いてポリマー(P−1)の合成
と同様の反応にてポリマー(P−22)を合成した。質
量平均分子量17.5万、分解温度は165℃であっ
た。
(Synthesis Example 9) Synthesis of polymer (P-22) Using the exemplified compound (22), a polymer (P-22) was synthesized by the same reaction as in the synthesis of the polymer (P-1). The mass average molecular weight was 175,000 and the decomposition temperature was 165 ° C.

【0047】[0047]

【実施例】以下に実施例を掲げ本発明の化合物の有用性
を更に詳しく説明するが、本発明はこれらに限定される
ものではない。 (実施例1)実施例1においては、本発明の化合物に対
して本発明の化合物と構造が類似している比較化合物と
の熱分解温度の比較を行う。本発明の化合物として、前
記合成例に示した例示化合物(1)から(8)は、いず
れもその熱分解温度は合成例に添え書きしたように16
5から192℃の間にある。構造が類似している既知の
比較化合物としてR−1、R−2を合成した。これらは
スルホン酸エステルのスルホン酸部位(一般式Iで示す
とR1に相当する部分)に重合性基がついたものであ
り、 R−1はモノマー、R−2はそれを重合したポリ
マーである。これらの分解温度はそれぞれ、133℃、
112℃であり、分解温度が低く不安定であった。上記
の本発明の化合物はこれらに構造が類似しているのにも
関わらず分解温度が少なくとも32℃以上、最大では8
0℃も高く(合成例の欄に分解温度を記載済み)、安定
であった。このように構造が類似しているにも関わらず
分解温度を高められるという極めて有用な設計を見出す
ことができた。
The following examples illustrate the usefulness of the compounds of the present invention in more detail, but the present invention is not limited thereto. (Example 1) In Example 1, the compound of the present invention is compared with a comparative compound having a similar structure to the compound of the present invention in terms of the thermal decomposition temperature. As the compounds of the present invention, the thermal decomposition temperatures of the exemplified compounds (1) to (8) shown in the above Synthesis Examples are all 16 as described in the Synthesis Examples.
Between 5 and 192 ° C. R-1 and R-2 were synthesized as known comparative compounds having similar structures. These are those in which a polymerizable group is attached to a sulfonic acid site (a portion corresponding to R 1 in the general formula I) of a sulfonic acid ester, R-1 is a monomer, and R-2 is a polymer obtained by polymerizing the monomer. is there. These decomposition temperatures are 133 ° C,
The temperature was 112 ° C, and the decomposition temperature was low and unstable. The above-mentioned compounds of the present invention have a decomposition temperature of at least 32 ° C. and a maximum of 8
The temperature was as high as 0 ° C. (decomposition temperature is described in the column of Synthesis Example), and it was stable. As described above, a very useful design in which the decomposition temperature can be increased despite the similar structures can be found.

【0048】[0048]

【化16】 Embedded image

【0049】(実施例2)本発明のモノマー及び比較例
のモノマーを用いてそれぞれ共重合させて式4で表され
るポリマーを合成した。式中Aは酸発生剤を表し、70
と30の数字は各モノマーのモル比を表す。ポリマーの
合成は、それを構成するモノマーを70:30のモル比
でトルエン中で混合し、ラジカル重合により合成した。
重合反応は前記ホモポリマー(P−1)の合成例と同様
の方法により行った。
Example 2 A polymer represented by Formula 4 was synthesized by copolymerizing the monomer of the present invention and the monomer of Comparative Example. In the formula, A represents an acid generator;
The numbers 30 and 30 represent the molar ratio of each monomer. The polymer was synthesized by mixing monomers constituting the polymer at a molar ratio of 70:30 in toluene and performing radical polymerization.
The polymerization reaction was carried out in the same manner as in the synthesis example of the homopolymer (P-1).

【0050】[0050]

【化17】 Embedded image

【0051】表1に合成したポリマーの一覧を示す。こ
れらポリマーと下記のIR色素をクロロホルムに溶解し
て混合溶液とし、酸発生剤部分が5mmol/m2に、IR色
素が0.15mmol/m2になるようにクロロホルム溶解物を、
厚み175μmのポリエチレンテレフタレートフィルム
上に塗布した。このようにして得た画像形成材料の熱又
は光感応性(ヒートモード光)の画像記録特性をレーザ
ー光照射試験によって行った。レーザー露光は、Spectr
a Diode Labs No.SDL-2430レーザー発振器(波長範囲:
800〜830nm)を2本合波して、140mWの出
力にして、画像書き込み用レーザー光とした。このレー
ザーを用いて、ビーム径20μm、試料上のレーザー光
の照射エネルギー密度は4.5mJ/mm2に設定し
た。このレーザー露光条件でが画像形成材料の保護層側
から走査露光を行った後、120℃で30秒の熱現像を
行い、ポリマーエステルの赤外吸収変化を求めて反応性
の評価を行った。また、画像形成材料の試料を45℃で
無調湿条件(ドライと表現する)と、45℃で湿度70
%の調湿条件下で、それぞれ7日間放置したのち、ポリ
マーエステルの消失率を測定して、試料の保存性の評価
を行った。保存性ならびに反応性の評価はフィルムのI
R吸収を測定し、感光材料試料の調製直後のIR(1640
nm)吸収強度を100%としてエステルの吸収(1640n
m)の消失率により算出した(表2,3)。調製直後の
画像形成材料のレーザー光のよるIR吸収の消失率は、
ヒートモードの光照射による酸発生反応の活性の尺度で
値が小さいほど高活性であり、経時させた試料のIR吸
収の消失率は経時中の分解消失すなわち安定性の尺度で
値が大きいほど安定である。表2、表3の結果より明ら
かなように、本発明のモノマーを用いたものはいずれも
反応性及び保存安定性ともに良好であり、酸発生をトリ
ガーとする画像形成材料として本発明の化合物の有用性
は明らかであった。
Table 1 shows a list of the synthesized polymers. These polymers and the following IR dye was mixed solution was dissolved in chloroform, the acid generator moiety 5 mmol / m 2, chloroform lysates as IR dye is 0.15 mmol / m 2,
It was applied on a polyethylene terephthalate film having a thickness of 175 μm. The image recording characteristics of heat or light sensitivity (heat mode light) of the image forming material thus obtained were measured by a laser light irradiation test. Laser exposure, Spectr
a Diode Labs No.SDL-2430 laser oscillator (wavelength range:
(800 to 830 nm) were combined to obtain an output of 140 mW to obtain an image writing laser beam. Using this laser, the beam diameter was set to 20 μm, and the irradiation energy density of the laser light on the sample was set to 4.5 mJ / mm 2 . After scanning exposure was performed from the protective layer side of the image forming material under the laser exposure conditions, thermal development was performed at 120 ° C. for 30 seconds, and the infrared absorption change of the polymer ester was determined to evaluate the reactivity. A sample of the image forming material was subjected to a humidity-free condition (expressed as dry) at 45 ° C and a humidity of 70 ° C at 45 ° C.
%, Each was allowed to stand for 7 days, and then the disappearance of the polymer ester was measured to evaluate the storage stability of the sample. Evaluation of the storage stability and the reactivity
R absorption was measured, and the IR (1640)
nm) absorption of ester (1640n
m) (Tables 2 and 3). The extinction rate of IR absorption by laser light of the image forming material immediately after preparation is as follows.
The smaller the value of the activity of the acid generation reaction caused by light irradiation in the heat mode, the higher the activity. It is. As is clear from the results in Tables 2 and 3, all of the compounds using the monomer of the present invention have good reactivity and storage stability, and the compound of the present invention is used as an image forming material triggered by acid generation. The utility was clear.

【0052】[0052]

【化18】 Embedded image

【0053】[0053]

【表1】 [Table 1]

【0054】[0054]

【表2】 [Table 2]

【0055】[0055]

【表3】 [Table 3]

【0056】[0056]

【発明の効果】光又は熱の作用で酸を発生する本発明の
スルホン酸エステル及びその重合物は、従来の酸発生剤
に比較して保存中に安定であり、しかも熱やヒートモー
ド光に敏感に反応し、光照射領域と非照射領域との識別
性も高い。したがって、高画質の画像形成材料への適用
をはじめとして酸によって物性の変化とくに色や親疎水
性の変化を生じる物質と共に用いる形成手段として広い
用途がある。
Industrial Applicability The sulfonic acid ester of the present invention, which generates an acid by the action of light or heat, and its polymer are more stable during storage than conventional acid generators, and can be exposed to heat or heat mode light. It reacts sensitively and has high discrimination between the light irradiation area and the non-irradiation area. Therefore, there is a wide application as a forming means used together with a substance which causes a change in physical properties by an acid, particularly a change in color or hydrophobicity, including application to a high quality image forming material.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AB16 AC08 AD03 BE00 4H006 AA01 AB80 AB81 AB99 4J100 AL08P AP01P BA02P BA03P BA04P BA05P BA20P BA29P BA30P BA31P BA34P BA40P BA41P BA52P BA58P BA59P BA77P BB01P BB03P BB05P BB07P BC02P BC03P BC04P BC07P BC43P BC44P BC49P BC53P BC66P BC73P BC79P BC83P CA01 JA32  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H025 AB16 AC08 AD03 BE00 4H006 AA01 AB80 AB81 AB99 4J100 AL08P AP01P BA02P BA03P BA04P BA05P BA20P BA29P BA30P BA31P BA34P BA40P BA41P BA52P BA58P BA59P BA77P BB01P04 BC03P03 BC BB01P04 BC03P03BC BC49P BC53P BC66P BC73P BC79P BC83P CA01 JA32

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式(I)で表わされるスルホン
酸エステル誘導体。 【化1】 (式中、R1 はアルキル基、アリール基もしくはヘテロ
環基を表わす。R2及びR3はそれぞれ独立にアルキル基
もしくはアリール基を表わすが、 R2とR3がともにア
リール基であることはない。 またR2とR3が結合して
環を形成しても良い。ただし、R2とR3のうち少なくと
も一方は重合性の不飽和基を有する。)
1. A sulfonic acid ester derivative represented by the following general formula (I). [Formula 1] (In the formula, R 1 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group .R 2 and R 3 are each independently an alkyl group or aryl group, R 2 and R 3 are both aryl group R 2 and R 3 may combine to form a ring, provided that at least one of R 2 and R 3 has a polymerizable unsaturated group.)
【請求項2】 前記一般式(I)で表わされるスルホン
酸エステル誘導体が、下記一般式(II)で表わされる
ことを特徴とする請求項1記載のスルホン酸エステル誘
導体。 【化2】 (式中R1 は一般式Iと同義である。XはCとともに環
を形成するのに必要な原子団を表わし、Xを構成する原
子団は、少なくとも1個の重合性不飽和基を有する。)
2. The sulfonic acid ester derivative according to claim 1, wherein the sulfonic acid ester derivative represented by the general formula (I) is represented by the following general formula (II). Embedded image (Wherein R 1 has the same meaning as in general formula I. X represents an atomic group necessary for forming a ring together with C, and the atomic group constituting X has at least one polymerizable unsaturated group. .)
【請求項3】 請求項1に記載の一般式(I)又は請求
項2に記載の一般式(II)で表わされるスルホン酸エ
ステル誘導体を重合して得られるポリマー。
3. A polymer obtained by polymerizing a sulfonic acid ester derivative represented by the general formula (I) according to claim 1 or the general formula (II) according to claim 2.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013100421A (en) * 2011-11-09 2013-05-23 Sekisui Chem Co Ltd Fine particles for curing epoxy resin, production method of fine particles for curing epoxy resin, and photosensitive water-based epoxy resin composition

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JP2013100421A (en) * 2011-11-09 2013-05-23 Sekisui Chem Co Ltd Fine particles for curing epoxy resin, production method of fine particles for curing epoxy resin, and photosensitive water-based epoxy resin composition

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