JP2002059651A - Image recording medium - Google Patents
Image recording mediumInfo
- Publication number
- JP2002059651A JP2002059651A JP2000246412A JP2000246412A JP2002059651A JP 2002059651 A JP2002059651 A JP 2002059651A JP 2000246412 A JP2000246412 A JP 2000246412A JP 2000246412 A JP2000246412 A JP 2000246412A JP 2002059651 A JP2002059651 A JP 2002059651A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- image recording
- acid
- recording medium
- general formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は熱または酸の作用に
よる発色(または消色)反応を利用した高感度でかつ取
り扱い性の良好な画像記録媒体に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image recording medium having high sensitivity and good handleability utilizing a color (or decoloring) reaction by the action of heat or an acid.
【0002】[0002]
【従来の技術】感熱記録材料は画像部と非画像部を温度
差分布として表現するもので、着色剤の溶融転写や昇華
転写、加熱溶融やカプセル破壊による2成分間の発色反
応、相転位による光学特性の変化等、多くの方式が考案
されてきた。この種の熱記録媒体においては、乾式でか
つ簡単なシステムで記録像が得られ、しかもメンテナン
スフリーという利点があるため各種プリンター、ワード
プロセッサー、ファクシミリなどの出力材料として広く
利用されている。また近年、レーザー記録装置の進歩に
伴い光ディスクや製版材料にも応用が検討されている。2. Description of the Related Art A heat-sensitive recording material expresses an image area and a non-image area as a temperature difference distribution, and includes a color transfer reaction between two components due to a melt transfer or sublimation transfer of a colorant, heat melting or capsule destruction, and a phase transition. Many schemes have been devised, such as changes in optical properties. This type of thermal recording medium is widely used as an output material for various printers, word processors, facsimile machines, etc. because of its advantages that a recorded image can be obtained by a dry and simple system and that it is maintenance-free. In recent years, with the progress of laser recording devices, applications to optical disks and plate making materials are being studied.
【0003】従来、製版材料としては、湿式処理を必要
とするハロゲン化銀感光材料が使用されてきたが、処理
工程の簡易化に対する要求、および処理液による環境汚
染の問題から乾式工程の開発が望まれ、近年感熱記録方
式によるいくつかの技術的な提案がなされてきた。解像
度の観点からレーザーを用いた画像記録が好ましく、例
えば、高出力レーザーを用いた色素アブレ−ションと呼
ばれる方式が開発されており、その記録材料が特開平7
ー164755号、同ー149063号、同7ー149
065号などに、画像形成装置が特開平8ー48053
号、同8ー72400号などに開示されている。Conventionally, silver halide photographic materials requiring wet processing have been used as plate making materials. However, due to the demand for simplification of processing steps and the problem of environmental pollution caused by processing solutions, development of dry processing has been required. Desirably, several technical proposals have been made in recent years using the thermal recording method. From the viewpoint of resolution, image recording using a laser is preferable. For example, a method called dye abrasion using a high-power laser has been developed, and the recording material is disclosed in
-164755, -149063, 7-149
No. 065, the image forming apparatus is disclosed in JP-A-8-48053.
And No. 8-72400.
【0004】このシステムでは支持体上に塗布された画
像色素、レーザー波長域に吸収を有する物質(赤外吸収
物質)およびバインダ−からなる色素組成物を有する記
録材料を、色素層側からレーザー照射することによって
画像記録が行われる。レーザーによって与えられたエネ
ルギーは、レーザービームが材料に当たったスポットで
画像形成層に急激な局部変化を起こし、それによって物
質を層から追い出す。上記特許公報によれば、これは完
全に物理的な変化(例えば、溶融、蒸発または昇華)で
はなく、ある種の化学変化(例えば、結合破壊)であ
り、部分的な画像色素の除去ではなく、完全な除去であ
ると言われている。この様な色素アブレーション方式で
は、レーザー露光部位における色素の除去効率を高める
ためには高出力のレーザーが不可欠であり、また除去さ
れた色素を集めるために集塵機の併設が必要であるとい
った問題点があった。In this system, a recording material having a dye composition comprising an image dye, a substance having absorption in a laser wavelength range (infrared absorbing substance) and a binder is irradiated with a laser from the dye layer side. By doing so, image recording is performed. The energy provided by the laser causes a sharp local change in the imaging layer at the spot where the laser beam hits the material, thereby driving the material out of the layer. According to the above patent publication, this is not a complete physical change (e.g., melting, evaporation or sublimation), but some kind of chemical change (e.g., bond breaking), rather than partial image dye removal. It is said to be complete elimination. In such a dye ablation method, a high-power laser is indispensable in order to increase the efficiency of removing the dye at the laser exposure site, and a dust collector is required to collect the removed dye. there were.
【0005】集塵機を必要としない方式として、レーザ
ーを熱源とするアブレーション転写式画像記録法に関す
る記載が米国特許第5,171,650号などに開示さ
れている。この方式では、アブレイティブキャリアート
ップコートを上塗りした動的剥離層を含有する色素ドナ
ーシートが用いられており、画像は、隣接して位置合わ
せをした別の受容シートへと転写される。このため画像
記録後に不用となったシートが廃材になるという問題点
があった。またこの場合も転写効率を高めるためには高
出力のレーザーが不可欠であった。このようにレーザー
によるアブレーションを利用した従来の感熱記録方式で
は高出力のレーザーが必要であり、ゴミや廃材が避けら
れないという問題点があった。As a method that does not require a dust collector, a description of an ablation transfer type image recording method using a laser as a heat source is disclosed in US Pat. No. 5,171,650. In this system, a dye donor sheet containing a dynamic release layer overcoated with an ablative carrier topcoat is used, and the image is transferred to another adjacently aligned receiving sheet. For this reason, there has been a problem that a sheet that has become unnecessary after image recording becomes a waste material. Also in this case, a high-output laser was indispensable to enhance the transfer efficiency. As described above, the conventional thermal recording method using laser ablation requires a high-output laser, and has a problem that dust and waste materials cannot be avoided.
【0006】一方レーザーを利用したアブレーションを
伴わない感熱記録方式として、「ドライシルバー」と称
されるシステムを発展させたものが特開平6−1947
81号などに記載されている。このシステムでは、熱的
に還元されうる銀源、銀イオンの還元剤、および光熱変
換色素を含有する記録材料に対してレーザーで記録が行
われるが、非画像部の保存性、および熱感度の点で実用
性能には不十分であった。On the other hand, as a thermal recording method using laser and not involving ablation, a system called "dry silver" has been developed in Japanese Patent Laid-Open No. Hei 6-1947.
No. 81, etc. In this system, laser recording is performed on a recording material containing a silver source that can be thermally reduced, a reducing agent for silver ions, and a photothermal conversion dye. This was insufficient for practical performance.
【0007】また酸の作用によって酸を増殖する化合物
としてK.Ichimura著、Chem.Let
t.、551(1995)および特開平8−24856
1号公報などには、酸触媒による分解で有機酸を生成す
る化合物が記載されており、該化合物を、光酸発生剤と
酸の作用によって構造変化を生じる物質との組み合わせ
からなる酸反応性高分子組成物について記載されてい
る。しかしながら、該文献では、光酸発生剤により生じ
た酸の作用により、極性溶媒やアルカリ水溶液に可溶化
または不溶化させるという構造変化を引き起こすもので
あり、いわゆるフォトレジストを意図したものであり、
吸収変化を利用した記録材料に関しては全く記載がな
い。[0007] Further, as a compound which proliferates an acid by the action of an acid, K. Asahi. Ichimura, Chem. Let
t. , 551 (1995) and JP-A-8-24856.
No. 1 discloses a compound that generates an organic acid by decomposition with an acid catalyst, and the compound is formed from an acid-reactive compound comprising a combination of a photoacid generator and a substance that undergoes a structural change by the action of an acid. A polymer composition is described. However, in this document, the action of the acid generated by the photoacid generator causes a structural change such as solubilization or insolubilization in a polar solvent or an aqueous alkali solution, and is intended for a so-called photoresist.
There is no description about a recording material utilizing an absorption change.
【0008】特開平11−180048及び特開平11
−181031号公報には、市村(Ichimura)
らが開発した化合物を熱酸発生剤として用いた、光や熱
による吸収変化を利用した画像形成方法について記載さ
れている。しかしながら、該特許記載の画像形成方法を
そのままUVマスクフィルムとして製版材料用途に用い
ると、PS版へのマスク露光工程において搬送時の接着
(例えばフィルムと搬送ローラー、ガイド版、フイルム
同士など)に起因する搬送不良や擦り傷がつきやすいな
どの問題や、熱現像処理時に熱現像機部材(例えば搬送
ローラー、ガイド版、熱源ドラム)と接着して搬送不良
を起こしたり、擦り傷がつきやすいなどの問題があっ
た。[0008] JP-A-11-180048 and JP-A-11
No. -181031, the Ichimura (Ichimura)
An image forming method using a change in absorption by light or heat using a compound developed by the present inventors as a thermal acid generator is described. However, if the image forming method described in this patent is used as it is as a UV mask film for plate making materials, it will be caused by adhesion during transport in the mask exposure step on the PS plate (for example, between the film and transport rollers, guide plates, films). Problems such as poor conveyance and easy scratching, and problems such as poor adhesion due to adhesion to heat developing machine members (for example, conveying rollers, guide plates and heat source drums) during thermal development processing, and easy scratching there were.
【0009】本発明者は、特開平11−180048及
び特開平11−181031号公報に記載の画像形成方
法において、感光材料に保護層を設けることによって、
PS版へのマスク露光時や熱現像処理時に生じやすい搬
送不良、擦り傷の問題を回避できることを見出している
(特願2000−65238号にて出願)。しかしなが
ら、この技術は搬送特性や画像面の物理的強度の点では
効果が大きいものの、製版材料用途に用いるUVマスク
フィルムに必要な発色濃度を確保するために高出力レー
ザーを用いた場合には画像層の表面が一部熱破壊(いわ
ゆるアブレーション)し、ヘイズが高くなり、外観上に
問題があった。In the image forming method described in JP-A-11-180048 and JP-A-11-181031, the present inventors provide a photosensitive material with a protective layer.
It has been found that the problem of poor transport and scratches, which are likely to occur during exposure of a PS plate to a mask or during thermal development, can be avoided (filed in Japanese Patent Application No. 2000-65238). However, although this technology is very effective in terms of transport characteristics and physical strength of the image surface, when a high-power laser is used to secure the necessary color density for the UV mask film used for plate making materials, the Part of the surface of the layer was thermally destroyed (so-called ablation), haze was increased, and there was a problem in appearance.
【0010】本発明者は、高出力レーザーを照射しても
ヘイズが低く、高濃度の色素像を形成する画像形成方法
についてさらに技術の改善を進め、その出願も行ってい
る(特願2000−91994、特願2000−919
95)。しかしながら、それらの出願中の改良が加えら
れた画像形成方法でも、製版過程に用いるUVマスクフ
ィルムに応用する場合、ヘイズの発生レベルは十分なも
のではなく、かつ擦り傷が発生しやすいなどの取り扱い
上の問題点が残っている。The present inventor has further improved the technology of an image forming method for forming a high-density dye image with a low haze even when irradiated with a high-power laser, and has also filed an application for the same (Japanese Patent Application No. 2000-2000). 91994, Japanese Patent Application 2000-919
95). However, even in the image forming method to which these improvements are applied, when applied to a UV mask film used in a plate making process, the level of haze is not sufficient, and handling such as abrasion is likely to occur. The problem remains.
【0011】[0011]
【発明が解決しようとする課題】本発明の第一の目的
は、熱感度が高く、製版材料用途に用いるUVマスクフ
ィルムとして応用する場合でも十分な濃度変化を生じる
ことが可能な画像記録媒体を提供することにある。本発
明の第二の目的は高出力レーザーを用いた場合にも外観
上の問題点となるヘイズが低く、かつ擦り傷などが発生
しにくい取り扱い性に優れた画像記録媒体を提供するこ
とにある。SUMMARY OF THE INVENTION A first object of the present invention is to provide an image recording medium having high thermal sensitivity and capable of causing a sufficient density change even when applied as a UV mask film used for a plate making material. To provide. A second object of the present invention is to provide an image recording medium which has a low haze, which is a problem in appearance even when a high-power laser is used, and has excellent handleability in which scratches and the like are less likely to occur.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、以
下に記す画像記録媒体によって達成される。 (1)支持体上に、少なくとも1層の熱または酸の作用
により360〜900nmの吸収域に濃度変化を生じる
化合物を含有し、かつ銀塩を含まない画像記録層と、少
なくとも1層の保護層とを有する画像記録媒体であっ
て、該保護層のハ゛インタ゛ー塗布量が1m2あたり3g以上で
あることを特徴とする画像記録媒体。The above object of the present invention is attained by the following image recording medium. (1) At least one layer of an image recording layer containing a compound which causes a concentration change in the absorption region of 360 to 900 nm by the action of heat or acid and containing no silver salt, and at least one layer of protection on a support An image recording medium having a protective layer, wherein the coating amount of the protective layer is 3 g or more per 1 m 2 .
【0013】(2)少なくとも1種の赤外吸収物質を含
有しており、レーザー照射により発生した熱または酸の
作用により360〜900nmの吸収域に濃度変化を生
じることを特徴とする上記(1)に記載の画像記録媒
体。(2) The method according to the above (1), comprising at least one kind of infrared absorbing substance, wherein a concentration change occurs in an absorption region of 360 to 900 nm by the action of heat or acid generated by laser irradiation. The image recording medium according to the above.
【0014】(3)少なくとも1種の赤外吸収物質を含
有しており、レーザー照射により発生した熱または酸の
作用により360〜900nmの吸収域の特定の波長に
おいて濃度3.0以上の濃度変化を生じることを特徴と
する上記(1)又は(2)に記載の画像記録媒体。(3) Containing at least one infrared absorbing substance, and having a concentration change of 3.0 or more at a specific wavelength in an absorption range of 360 to 900 nm due to the action of heat or acid generated by laser irradiation. The image recording medium according to the above (1) or (2), wherein
【0015】(4) 支持体が透過性支持体であって、
かつ熱または酸の作用により360〜900nmの吸収
域に濃度変化を生じる前後とも、ヘイズ値が20%以下
であることを特徴とする上記(1)〜(3)のいずれか
1項に記載の画像記録媒体。(4) The support is a permeable support,
The haze value is not more than 20% before and after the concentration is changed in the absorption region of 360 to 900 nm due to the action of heat or acid, either of the above (1) to (3).
Item 2. The image recording medium according to Item 1.
【0016】(5)熱または酸の作用により360〜9
00nmの吸収域に濃度変化を生じる前後とも、保護層
表面の太針引掻き強度が30g以上であり、かつ細針引
掻き強度が10g以上であることを特徴とする上記
(1)〜(4)のいずれか1項に記載の画像記録媒体。(5) 360-9 by the action of heat or acid
(1) to (4), wherein before and after the concentration change occurs in the absorption region of 00 nm, the surface of the protective layer has a thick needle scratching strength of 30 g or more and a fine needle scratching strength of 10 g or more. 13. The image recording medium according to claim 1.
【0017】(6)熱の作用により酸を発生する酸発生
剤と、酸の作用により分子内もしくは分子間反応を引き
起こして360〜900nmの吸収域に濃度変化を生じ
る化合物とを含有することを特徴とする(1)〜(5)
のいずれか1項に記載の画像記録媒体。(6) An acid generator which generates an acid by the action of heat, and a compound which causes an intramolecular or intermolecular reaction by the action of the acid to cause a concentration change in an absorption region of 360 to 900 nm. Features (1) to (5)
8. The image recording medium according to any one of the above.
【0018】(7)酸発生剤が下記一般式(I)で表さ
れる化合物であることを特徴とする上記(6)に記載の
画像記録媒体。(7) The image recording medium as described in (6) above, wherein the acid generator is a compound represented by the following formula (I).
【0019】一般式(I)Formula (I)
【化 6】 [Formula 6]
【0020】一般式(I)において、R1 はアルキル
基、アリール基もしくはヘテロ環基を表わす。R2及び
R3はそれぞれ独立にアルキル基もしくはアリール基を
表わすが、 R2とR3が同時にアリール基であることは
ない。 またR2とR3が結合して環を形成しても良い。 (8)一般式(I)で表される酸発生剤が下記一般式
(II)で表される化合物であることを特徴とする上記
(7)に記載の画像記録媒体。In the general formula (I), R 1 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group. R 2 and R 3 each independently represent an alkyl group or an aryl group, but R 2 and R 3 are not simultaneously an aryl group. R 2 and R 3 may combine to form a ring. (8) The image recording medium according to (7), wherein the acid generator represented by the general formula (I) is a compound represented by the following general formula (II).
【0021】一般式(II)Formula (II)
【化 7】 [Formula 7]
【0022】一般式(II)において、R31 はアルキル
基、アリール基もしくはヘテロ環基を表わす。R32は置
換基を表わす。 R33及びR34はそれぞれ独立に水素原
子もしくは置換基を表わす。X1は環を形成するのに必
要な原子団を表わす。 R32、R33もしくはR34はX1と
結合して環を形成しても良い。In the general formula (II), R 31 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group. R 32 represents a substituent. R 33 and R 34 independently represent a hydrogen atom or a substituent. X 1 represents an atomic group necessary for forming a ring. R 32 , R 33 or R 34 may combine with X 1 to form a ring.
【0023】(9)酸の作用により分子内もしくは分子
間反応を引き起こして360〜900nmの吸収域に濃
度変化を生じる化合物が、下記一般式(III)〜(V)の
いずれかで表わされる化合物であることを特徴とする上
記(6)〜(8)のいずれか1項に記載の画像形成方
法。(9) Compounds which cause an intramolecular or intermolecular reaction by the action of an acid to cause a concentration change in the absorption range of 360 to 900 nm are compounds represented by any of the following formulas (III) to (V) The image forming method according to any one of the above (6) to (8), wherein
【0024】一般式(III)Formula (III)
【化 8】 [Formula 8]
【0025】一般式(III)において、X2はN(R58)、
O、またはSを表し、Y1は N−C−X2とともに環状構造を
形成するのに必要な原子団を表し、A1はC(R59)または
Nを表し、R51〜R59は水素原子または置換基を表し、そ
れぞれ同じであっても異なっていても良く、 R54、
R55、R56およびR57は互いに結合して縮合環を形成して
も良く、 B1はアリール基、ヘテロ環基、アルケニル
基、アルキニル基、アリールアミノ基またはヘテロ環ア
ミノ基を表す。In the general formula (III), X 2 is N (R 58 ),
Represents O or S, Y 1 represents an atomic group necessary for forming a cyclic structure together with N—C—X 2 , and A 1 represents C (R 59 ) or
Represents N, R 51 to R 59 represent a hydrogen atom or a substituent, and may be the same or different, and R 54 ,
R 55 , R 56 and R 57 may combine with each other to form a condensed ring, and B 1 represents an aryl group, a heterocyclic group, an alkenyl group, an alkynyl group, an arylamino group or a heterocyclic amino group.
【0026】一般式(IV)General formula (IV)
【化 9】 [Formula 9]
【0027】一般式(IV)において、Ar1およびAr2
はアリール基、ヘテロ環基、アルケニル基またはアルキ
ニル基を表し、同じであっても異なっていても良く、R
71は水素原子または置換基を表し、Y2は芳香族炭化水
素環あるいはヘテロ環を表し、X3はO、SまたはN
(R72)を表し、R72は水素原子または置換基を表す。In the general formula (IV), Ar 1 and Ar 2
Represents an aryl group, a heterocyclic group, an alkenyl group or an alkynyl group, and may be the same or different;
71 represents a hydrogen atom or a substituent, Y 2 represents an aromatic hydrocarbon ring or a hetero ring, and X 3 represents O, S or N
(R 72 ), wherein R 72 represents a hydrogen atom or a substituent.
【0028】一般式(V)General formula (V)
【化 10】 [Formula 10]
【0029】一般式(V)において、Ar3およびAr4
はアリール基、ヘテロ環基、アルケニル基またはアルキ
ニル基を表し、同じであっても異なっていても良く、Z
1は芳香族炭化水素環あるいはヘテロ環を表し、 A2は
O、SまたはN(R73)を表し、R73は水素原子または
置換基を表す。In the general formula (V), Ar 3 and Ar 4
Represents an aryl group, a heterocyclic group, an alkenyl group or an alkynyl group, which may be the same or different, and
1 represents an aromatic hydrocarbon ring or a hetero ring, A 2 represents O, S or N (R 73 ), and R 73 represents a hydrogen atom or a substituent.
【0030】(10)下記一般式(VI)で示されるポリ
マーを含有することを特徴とする上記(1)〜(9)の
いずれか1項に記載の画像形成方法。 一般式(VI) −(A)x−(B)y−(C)z− 一般式(VI)において、Aは、酸発生剤モノマーの重合
によって得られる繰り返し単位を表し、Bは酸の作用に
より360〜900nmの吸収域に濃度変化を生じる部
分構造を有する少なくとも1種類以上のビニルモノマー
の重合によって得られる繰り返し単位を表し、CはAお
よびBと共重合可能な少なくとも1種類以上のビニルモ
ノマーの重合によって得られる繰り返し単位を表す。
x、yおよびzはモル%を表し、それぞれ1≦x≦10
0、0≦y≦99、0≦z≦99、x+y+z=100
を表す。(10) The image forming method according to any one of the above (1) to (9), comprising a polymer represented by the following general formula (VI). Formula (VI)-(A) x- (B) y- (C) z- In the formula (VI), A represents a repeating unit obtained by polymerization of an acid generator monomer, and B represents an action of an acid. Represents a repeating unit obtained by polymerization of at least one type of vinyl monomer having a partial structure that causes a concentration change in an absorption range of 360 to 900 nm, and C represents at least one type of vinyl monomer copolymerizable with A and B Represents a repeating unit obtained by polymerization of
x, y and z represent mol%, and 1 ≦ x ≦ 10
0, 0 ≦ y ≦ 99, 0 ≦ z ≦ 99, x + y + z = 100
Represents
【0031】[0031]
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳しく述べ
る。本発明は熱または酸の作用により360〜900n
mの吸収域に濃度変化を生じる化合物を含有し、画像を
形成させる記録媒体に関するものである。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail. The present invention uses 360 to 900 n by the action of heat or acid.
The present invention relates to a recording medium that contains a compound that causes a change in density in an absorption region of m and forms an image.
【0032】本発明の画像記録媒体において、画像形成
の手段としての加熱方法としては、加熱されたブロック
やプレートと接触させる方法、熱ローラーや熱ドラムと
接触させる方法、ハロゲンランプや赤外ないし遠赤外ラ
ンプヒーターを照射させる方法、感熱プリンターの熱ヘ
ッドで画像状に加熱する方法、レーザー光を照射する方
法などがある。本発明の画像記録媒体を製版材料用途な
ど、高い解像度が要求されるものに使用する場合はレー
ザー光によって走査露光する方式が好ましい。特に、特
願平11−273162号などに記載されている副走査
方向に略方形状の強度分布を示すように整形されたレー
ザービームを適用すれば、解像度や画像の切れが向上
し、好ましく用いることができる。また、より少ない熱
エネルギーで画像を形成させるために、予め本発明の感
熱記録材料を適当な温度に加熱しておくこともできる。
本発明ではこれらの方法で像様に加熱を行った後、場合
によって60〜150℃の温度(好ましくは60〜12
0℃)で全面加熱することによって画像濃度変化を増加
できる場合もある。In the image recording medium of the present invention, as a heating method as an image forming means, a method of contacting with a heated block or plate, a method of contacting with a heat roller or a heat drum, a halogen lamp or an infrared or distant There are a method of irradiating an infrared lamp heater, a method of imagewise heating with a thermal head of a thermal printer, and a method of irradiating a laser beam. When the image recording medium of the present invention is used for a material requiring a high resolution, such as a plate making material, a method of scanning and exposing with a laser beam is preferable. In particular, when a laser beam shaped so as to exhibit a substantially square intensity distribution in the sub-scanning direction described in Japanese Patent Application No. 11-273162 or the like is applied, resolution and image cutting are improved, and it is preferably used. be able to. Further, in order to form an image with less heat energy, the heat-sensitive recording material of the present invention can be heated in advance to an appropriate temperature.
In the present invention, after imagewise heating is performed by these methods, a temperature of 60 to 150 ° C. (preferably 60 to 12 ° C.) may be used in some cases.
In some cases, the change in image density can be increased by heating the entire surface at 0 ° C.).
【0033】レーザー光を熱エネルギーに変換して画像
を形成する場合には、該レーザー光の波長の光を吸収す
る色素を存在させる必要がある。レーザー光源として
は、エキシマレーザー、アルゴンレーザー、ヘリウムネ
オンレーザー、半導体レーザー、ガラス(YAG)レー
ザー、炭酸ガスレーザー、色素レーザーなどがあるが、
ヘリウムネオンレーザー、半導体レーザーおよびガラス
レーザーが本発明に有用なレーザー光源である。その中
でも装置が小型で安価なことから、半導体レーザーが特
に有用である。半導体レーザーの発振波長は通常、67
0〜830nmであり、したがって、これらのレーザー
に対して感光材料中に用いられる色素は、上記の近赤外
領域に吸収を持つ色素が好ましい。When an image is formed by converting laser light into heat energy, a dye that absorbs light having the wavelength of the laser light must be present. Laser light sources include excimer laser, argon laser, helium neon laser, semiconductor laser, glass (YAG) laser, carbon dioxide laser, dye laser, etc.
Helium neon lasers, semiconductor lasers and glass lasers are laser light sources useful in the present invention. Among them, a semiconductor laser is particularly useful because the device is small and inexpensive. The oscillation wavelength of a semiconductor laser is usually 67
The dye used in the photosensitive material for these lasers is preferably a dye having an absorption in the near infrared region described above.
【0034】近赤外吸収色素としては、シアニン色素、
スクアリリウム色素、メロシアニン色素、オキソノール
色素、フタロシアニン色素などが用いられる。その具体
例としては、例えば米国特許第4,973,572号、
同第4,948,777号、同第4,950,640
号、同第4,950,639号、同第4,948,77
6号、4948,778、同第4,942,141号、
同第4,952,552号、同第5,036,040号
および同第4,912,083号明細書に記載されてい
る物質が挙げられる。本発明の画像記録媒体がレーザー
露光された部分が発色する、いわゆるネガ型である場
合、未露光部の吸収が低いことが好ましい。例えばUV
マスクフィルムとして用いる場合などUV波長領域での
副吸収の少ない赤外吸収色素が好ましく、具体的には特
願2000−59004などに記載がある。As near infrared absorbing dyes, cyanine dyes,
Squarylium dyes, merocyanine dyes, oxonol dyes, phthalocyanine dyes and the like are used. Specific examples thereof include, for example, US Pat. No. 4,973,572,
No. 4,948,777 and No. 4,950,640
No. 4,950,639 and No. 4,948,77
No. 6, 4948,778, and No. 4,942,141,
Nos. 4,952,552, 5,036,040 and 4,912,083. When the image recording medium of the present invention is a so-called negative type in which laser-exposed portions develop color, it is preferable that the unexposed portions have low absorption. For example, UV
In the case of using as a mask film, an infrared absorbing dye having a small side absorption in a UV wavelength region is preferable, and specific examples thereof are described in Japanese Patent Application No. 2000-590004.
【0035】本発明の画像記録媒体をフォトンモード方
式(画像記録が光によって行われる方式で、光モード方
式ともいう)の画像記録媒体として利用する場合には光
の作用により酸を発生する化合物の添加が必須となる。
この場合、該光酸発生剤の吸収特性に合わせてレーザー
が選択される。この際分光増感を目的として種々の色素
を添加しても良いがその際は色素の吸収波長に合わせて
レーザーを選択する必要がある。公知の酸発生剤として
は、有機エレクトロニクス材料研究会編、”イメージン
グ用有機材料”ぶんしん出版社刊(1997)37頁〜
91頁、に記載されている化合物およびそこに記載され
ている引用文献記載の化合物などが挙げられる。また、
ここに記載されている光酸発生剤の多くは熱酸発生剤と
しても機能するものである。When the image recording medium of the present invention is used as an image recording medium of a photon mode system (a system in which image recording is performed by light, also referred to as an optical mode system), a compound which generates an acid by the action of light is used. Addition is essential.
In this case, a laser is selected according to the absorption characteristics of the photoacid generator. At this time, various dyes may be added for the purpose of spectral sensitization, but in that case, it is necessary to select a laser according to the absorption wavelength of the dye. Known acid generators include “Organic Materials for Imaging”, edited by Organic Electronics Materials Research Group, published by Bunshin Publishing Company (1997), p. 37-
91, and the compounds described in the references described therein. Also,
Many of the photoacid generators described herein also function as thermal acid generators.
【0036】本発明の好ましい態様としては、熱の作用
により酸を発生する酸発生剤と酸の作用により分子内も
しくは分子間反応が加速され、360〜900nmの吸
収域に濃度変化を生じる化合物を用いた画像記録媒体が
挙げられる。In a preferred embodiment of the present invention, an acid generator which generates an acid by the action of heat and a compound which accelerates intramolecular or intermolecular reaction by the action of an acid and causes a concentration change in an absorption range of 360 to 900 nm are used. The used image recording medium is exemplified.
【0037】酸発生剤としてはレーザー照射により強酸
を発生するものが好ましく、その中でもスルホン酸を発
生するものが好ましい。スルホン酸を発生する酸発生剤
としては、例えば有機エレクトロニクス材料研究会
編、”イメージング用有機材料”ぶんしん出版社刊(1
997)に数多く記載されている。また、特開平11−
180048号及び特開平11−181031号公報に
記載されている酸発生剤なども好ましい化合物として挙
げられる。その中でもスルホン酸の2級アルキルエステ
ルを好ましく用いることができる。更に好ましくは一般
式(I)もしくは一般式(II)で表わされるものであ
る。As the acid generator, those which generate a strong acid by laser irradiation are preferable, and among them, those which generate a sulfonic acid are preferable. Examples of the acid generator that generates sulfonic acid include, for example, “Organic Materials for Imaging”, edited by Organic Electronics Materials Research Group, published by Bunshin Publishing Company (1.
997). Further, Japanese Unexamined Patent Publication No.
Acid generators described in JP-A-180048 and JP-A-11-181031 are also preferable compounds. Among them, a secondary alkyl ester of sulfonic acid can be preferably used. More preferably, it is represented by the general formula (I) or (II).
【0038】一般式(I)において、R1はアルキル基
(好ましくは炭素数1から24のアルキル基で、例えば
メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、t−ブ
チル、n−オクチル、ドデシル、シクロプロピル、シク
ロペンチル、シクロヘキシルなどの各基)、アリール基
(例えば、フェニル基、ナフチル基など)もしくはヘテ
ロ環基(例えば、フリル、チエニル、ピリミジニル、ベ
ンゾチアゾリルなどの各基)を表わす。これらのうちで
好ましいのはアルキル基もしくはアリール基であり、特
に好ましくはアリール基である。In the general formula (I), R 1 is an alkyl group (preferably an alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, for example, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, t-butyl, n-octyl, dodecyl, cycloalkyl) Represents an propyl, cyclopentyl, cyclohexyl, etc.), an aryl group (eg, a phenyl group, a naphthyl group, etc.) or a heterocyclic group (eg, a furyl, thienyl, pyrimidinyl, benzothiazolyl, etc.). Among these, an alkyl group or an aryl group is preferable, and an aryl group is particularly preferable.
【0039】これらの基は更に置換基を有していても良
く、置換基としては置換可能なものであれば良い。置換
基として好ましくは、ハロゲン原子(例えば、フッ素、
塩素、臭素、ヨウ素などの各基)、アルキル基(シクロ
アルキル基、ビシクロアルキル基を含み、具体例は前記
と同じ)、アルケニル基(例えば、ビニル、アリル、プ
レニル、ゲラニル、オレイル、2−シクロペンテン−1
−イルなどの各基)、アルキニル基(例えば、エチニ
ル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニルなどの各
基)、アリール基(具体例は前述と同じ)、ヘテロ環基
(具体例は前述と同じ)、シアノ基、ヒドロキシル基、
ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基(例えば、メ
トキシ、エトキシ、イソプロポキシ、t−ブトキシ、n
−オクチルオキシなどの各基)、アリールオキシ基(例
えば、フェノキシ基、ナフトキシ基など)、シリルオキ
シ基(例えば、トリメチルシリルオキシ基、t−ブチル
ジメチルシリルオキシ基など)、ヘテロ環オキシ基(例
えば、ピリジルオキシ基、2−テトラヒドロピラニルオ
キシ基など)、アシルオキシ基(例えば、ホルミルオキ
シ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイル
オキシ、ベンゾイルオキシなどの各基)、カルバモイル
オキシ基(例えば、N,N−ジメチルカルバモイルオキ
シ、モルホリノカルボニルオキシ、N,N−ジ−n−オ
クチルアミノカルボニルオキシ、N−n−オクチルカル
バモイルオキシなどの各基)、アルコキシカルボニルオ
キシ基(例えば、メトキシカルボニルオキシ、エトキシ
カルボニルオキシ、t−ブトキシカルボニルオキシ、n
−オクチルカルボニルオキシなどの各基)、アリールオ
キシカルボニルオキシ基(例えば、フェノキシカルボニ
ルオキシ基など)、These groups may further have a substituent, and any substituent may be used as long as it can be substituted. As a substituent, a halogen atom (for example, fluorine,
Groups such as chlorine, bromine and iodine), alkyl groups (including cycloalkyl groups and bicycloalkyl groups, specific examples are as described above), and alkenyl groups (for example, vinyl, allyl, prenyl, geranyl, oleyl, 2-cyclopentene) -1
-Yl and the like), an alkynyl group (for example, each group such as ethynyl, propargyl and trimethylsilylethynyl), an aryl group (the specific examples are the same as described above), a heterocyclic group (the specific examples are the same as described above), and a cyano group , Hydroxyl group,
Nitro group, carboxyl group, alkoxy group (for example, methoxy, ethoxy, isopropoxy, t-butoxy, n
-Octyloxy or the like), an aryloxy group (for example, a phenoxy group, a naphthoxy group, or the like), a silyloxy group (for example, a trimethylsilyloxy group, a t-butyldimethylsilyloxy group, or the like), a heterocyclic oxy group (for example, pyridyl) Oxy group, 2-tetrahydropyranyloxy group, etc.), acyloxy group (for example, each group such as formyloxy, acetyloxy, pivaloyloxy, stearoyloxy, benzoyloxy), carbamoyloxy group (for example, N, N-dimethylcarbamoyloxy) , Morpholinocarbonyloxy, N, N-di-n-octylaminocarbonyloxy, Nn-octylcarbamoyloxy, etc.), alkoxycarbonyloxy groups (for example, methoxycarbonyloxy, ethoxycarbonyloxy) t- butoxycarbonyl-oxy, n
-Octylcarbonyloxy and the like), an aryloxycarbonyloxy group (for example, a phenoxycarbonyloxy group and the like),
【0040】アミノ基(アニリノ基を含み、例えば、ア
ミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、N-メ
チル−アニリノ、ジフェニルアミノなどの各基)、アシ
ルアミノ基(例えば、アセチルアミノ、ピバロイルアミ
ノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、3,4,5
−トリ−n−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ
などの各基)、カルバモイルアミノ基(例えば、カルバ
モイルアミノ、N,N−ジメチルアミノカルボニルアミ
ノ、N,N−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホ
リノカルボニルアミノなどの各基)、アルコキシカルボ
ニルアミノ基(例えば、メトキシカルボニルアミノ、エ
トキシカルボニルアミノ、t−ブトキシカルボニルアミ
ノ、n−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、N−メ
チルーメトキシカルボニルアミノなどの各基)、アリー
ルオキシカルボニルアミノ基(例えば、フェノキシカル
ボニルアミノ基など)、スルファモイルアミノ基(例え
ば、スルファモイルアミノ、N,N−ジメチルアミノス
ルホニルアミノ基、N−n−オクチルアミノスルホニル
アミノ基など)、アルキル及びアリールスルホニルアミ
ノ基(例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホ
ニルアミノ、フェニルスルホニルアミノなどの各基)、Amino groups (including anilino groups, such as amino, methylamino, dimethylamino, anilino, N-methyl-anilino, diphenylamino, etc.), acylamino groups (eg, acetylamino, pivaloylamino, lauroylamino, Benzoylamino, 3,4,5
-Tri-n-octyloxyphenylcarbonylamino, etc.), carbamoylamino group (for example, carbamoylamino, N, N-dimethylaminocarbonylamino, N, N-diethylaminocarbonylamino, morpholinocarbonylamino, etc.) An alkoxycarbonylamino group (for example, methoxycarbonylamino, ethoxycarbonylamino, t-butoxycarbonylamino, n-octadecyloxycarbonylamino, N-methyl-methoxycarbonylamino, etc.), an aryloxycarbonylamino group (for example, Phenoxycarbonylamino group, etc.), sulfamoylamino group (for example, sulfamoylamino, N, N-dimethylaminosulfonylamino group, Nn-octylaminosulfonylamino group, etc.), Alkyl and arylsulfonylamino groups (e.g., methylsulfonylamino, butylsulfonylamino, each group such as phenylsulfonylamino),
【0041】メルカプト基、アルキルチオ基(例えば、
メチルチオ、エチルチオ、n−ヘキサデシルチオなどの
各基)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオな
ど)、ヘテロ環チオ基(例えば、2−ベンゾチアゾリル
チオ基、1−フェニルテトラゾール−5−イルチオ基な
ど)、スルファモイル基(例えば、 N−エチルスルフ
ァモイル、N−(3−ドデシルオキシプロピル)スルフ
ァモイル、N,N−ジメチルスルファモイル、N−アセ
チルスルファモイル、N−ベンゾイルスルファモイル、
N−(N‘−フェニルカルバモイル)スルファモイルな
どの各基)、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィ
ニル基(例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィ
ニル、フェニルスルフィニルなどの各基)、アルキル及
びアリールスルホニル基(例えば、メチルスルホニル、
エチルスルホニル、フェニルスルホニルなどの各基)、
アシル基(例えば、アセチル、ピバロイル、2−クロロ
アセチル、ステアロイル、ベンゾイルなどの各基)、ア
リールオキシカルボニル基(例えば、フェノキシカルボ
ニル基など)、アルコキシカルボニル基(例えば、メト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、t−ブトキシカ
ルボニル、n−オクタデシルオキシカルボニルなどの各
基)、カルバモイル基(例えば、カルバモイル、N−メ
チルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、
N,N−ジ−n−オクチルカルバモイル、N−(メチル
スルホニル)カルバモイルなどの各基)、イミド基(例
えば、N−スクシンイミド基、N−フタルイミド基な
ど)、ホスフィノ基(例えば、ジメチルホスフィノ基、
ジフェニルホスフィノ基など)、ホスフィニル基、ホス
フィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基
(例えば、トリメチルシリル、t−ブチルジメチルシリ
ル、フェニルジメチルシリルなどの各基)が例として挙
げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。R
1の置換基として最も好ましくはアルキル基である。A mercapto group, an alkylthio group (for example,
Groups such as methylthio, ethylthio, n-hexadecylthio), arylthio groups (eg, phenylthio), heterocyclic thio groups (eg, 2-benzothiazolylthio group, 1-phenyltetrazol-5-ylthio group, etc.), and sulfamoyl Groups (eg, N-ethylsulfamoyl, N- (3-dodecyloxypropyl) sulfamoyl, N, N-dimethylsulfamoyl, N-acetylsulfamoyl, N-benzoylsulfamoyl,
Groups such as N- (N′-phenylcarbamoyl) sulfamoyl), a sulfo group, an alkyl and arylsulfinyl group (eg, each group such as methylsulfinyl, ethylsulfinyl, phenylsulfinyl), an alkyl and arylsulfonyl group (eg, methyl Sulfonyl,
Groups such as ethylsulfonyl and phenylsulfonyl),
Acyl groups (eg, acetyl, pivaloyl, 2-chloroacetyl, stearoyl, benzoyl, etc.), aryloxycarbonyl groups (eg, phenoxycarbonyl group), alkoxycarbonyl groups (eg, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, t-) Each group such as butoxycarbonyl and n-octadecyloxycarbonyl), a carbamoyl group (for example, carbamoyl, N-methylcarbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl,
Groups such as N, N-di-n-octylcarbamoyl, N- (methylsulfonyl) carbamoyl, imide groups (eg, N-succinimide group, N-phthalimido group), phosphino groups (eg, dimethylphosphino group) ,
Diphenylphosphino group), a phosphinyl group, a phosphinyloxy group, a phosphinylamino group, a silyl group (for example, each group such as trimethylsilyl, t-butyldimethylsilyl, and phenyldimethylsilyl). The substituent may be further substituted. R
Most preferably as a substituent an alkyl group.
【0042】R1の具体例を以下に示すが、本発明はこ
れらに限定されるものではない。Specific examples of R 1 are shown below, but the present invention is not limited thereto.
【0043】[0043]
【化 11】 [Formula 11]
【0044】[0044]
【化 12】 [Formula 12]
【0045】[0045]
【化 13】 [Formula 13]
【0046】置換基R2及びR3はそれぞれ独立にアルキ
ル基もしくはアリール基を表わすが、 R2とR3が同時
にアリール基であることはない。アルキル基とアリール
基の例はR1で挙げたものと同じであり、さらに置換基
を有していても良く、好ましい置換基はR1の説明で挙
げたものである。 またR2とR3のうち少なくとも一方
は重合性の不飽和基を有しても良く、重合性不飽和基と
してはビニル基が好ましい。またR2とR3が結合して環
を形成しても良い。そのような例としては種々のものが
挙げられるが、その好ましい形態が一般式(VII)で表
わされるものである。The substituents R 2 and R 3 each independently represent an alkyl group or an aryl group, but R 2 and R 3 are not simultaneously an aryl group. Examples of the alkyl group and the aryl group are the same as those described for R 1 , and may further have a substituent. Preferred substituents are those described for R 1 . At least one of R 2 and R 3 may have a polymerizable unsaturated group, and a vinyl group is preferable as the polymerizable unsaturated group. R 2 and R 3 may combine to form a ring. Although various examples are given as such examples, preferred forms are those represented by the general formula (VII).
【0047】[0047]
【化 14】 [Formula 14]
【0048】一般式( VII )において、 R1は一般式
(I)と同義である。X4はCとともに環を形成するの
に必要な原子団を表わす。X4はCとともに環を形成
し、環の大きさとして好ましくは3〜8が好ましく、更
に好ましくは5または6であり、特に好ましくは6であ
る。X4は非金属原子団であることが好ましく、更に好
ましくは−C(R4)(R5)−、−C(=Y3)−、−
N(R6)−、−O−、−S−であり、特に好ましくは
−C(R4)(R5)−である。ここでR4、R5、R6は
水素原子もしくは置換基を表わし、置換基としての好ま
しい例はR1の説明で置換基として挙げたものと同じで
ある。 R4、R5もしくはR6が分子内に複数存在する場
合、それらは同じであっても異なっていても良く、また
いずれか2つもしくはそれ以上のものが結合して環を形
成しても良い。Y3は、=O、=S、もしくは=N− R
6を表わし、 R6は前述のものと同じである。また一般
式( VII )で表わされる化合物は、後で述べるように
ポリマー化することにより更に優れた性能を示す。その
ための重合性不飽和基を有するモノマーとして好ましく
は、下記一般式( VIII )で表わされる化合物である。In the general formula (VII), R 1 has the same meaning as in the general formula (I). X 4 represents an atomic group necessary for forming a ring together with C. X 4 forms a ring together with C, and the size of the ring is preferably 3 to 8, more preferably 5 or 6, and particularly preferably 6. X 4 is preferably a non-metallic atomic group, and more preferably —C (R 4 ) (R 5 ) —, —C (= Y 3 ) —, and —.
N (R 6 ) —, —O—, and —S—, and particularly preferably —C (R 4 ) (R 5 ) —. Here, R 4 , R 5 , and R 6 represent a hydrogen atom or a substituent, and preferred examples of the substituent are the same as those described as the substituent in the description of R 1 . When a plurality of R 4 , R 5 or R 6 are present in the molecule, they may be the same or different, and any two or more may be combined to form a ring. good. Y 3 is OO, SS, or NN-R
And R 6 is the same as described above. Further, the compound represented by the general formula (VII) exhibits more excellent performance by being polymerized as described later. Preferred as the monomer having a polymerizable unsaturated group therefor is a compound represented by the following formula (VIII).
【0049】[0049]
【化 15】 [Formula 15]
【0050】式中、R1は一般式(I)と同義である。
R7は水素原子もしくはアルキル基を表わし、アルキル
基はさらに置換基を有していても良く、アルキル基およ
び置換基の具体例はR1の具体例で挙げたものである。
R7として好ましくは水素原子もしくはメチル基であ
る。以下に一般式(I)、一般式(VII)もしくは一般
式(VIII)で表わされる化合物の具体例を示すが、本発
明はこれらに限定されるものではない。なお、化合物に
よってはcis-体とtrans-体などの異性体が存在するもの
もあるが、これらを混合物として用いる場合も本発明に
含まれる。In the formula, R 1 has the same meaning as in formula (I).
R 7 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and the alkyl group may further have a substituent. Specific examples of the alkyl group and the substituent are those described in the specific examples of R 1 .
R 7 is preferably a hydrogen atom or a methyl group. Hereinafter, specific examples of the compound represented by Formula (I), Formula (VII) or Formula (VIII) are shown, but the present invention is not limited thereto. Some compounds have isomers such as cis- and trans-forms, and the use of these as a mixture is also included in the present invention.
【0051】[0051]
【化 16】 [Formula 16]
【0052】[0052]
【化 17】 [Formula 17]
【0053】[0053]
【化 18】 [Formula 18]
【0054】[0054]
【化 19】 [Chemical Formula 19]
【0055】[0055]
【化 20】 [Formula 20]
【0056】一般式(II)において、R31は一般式
(I)のR1と同義である。一般式(II)において置換
基R32は置換基を表わし、置換基としてはR1の説明で
置換基として記したものが挙げられる。 R32として好
ましくはアルキル基、ハロゲン原子もしくはアルコキシ
基であり、さらに好ましくはアルキル基である。 R33
およびR34はそれぞれ独立に水素原子もしくは置換基を
表わし、置換基としてはR1の説明で置換基として記し
たものが挙げられる。 R33およびR34として好ましく
は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子もしくはアルコ
キシ基であり、さらに好ましくは水素原子もしくはアル
キル基である。またR33とR34のうちの少なくとも1つ
は置換基であることが好ましい。In the general formula (II), R 31 has the same meaning as R 1 in the general formula (I). In the general formula (II), the substituent R 32 represents a substituent, and examples of the substituent include those described as a substituent in the description of R 1 . R 32 is preferably an alkyl group, a halogen atom or an alkoxy group, and more preferably an alkyl group. R 33
And R 34 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and examples of the substituent include those described as a substituent in the description of R 1 . R 33 and R 34 are preferably a hydrogen atom, an alkyl group, a halogen atom or an alkoxy group, and more preferably a hydrogen atom or an alkyl group. Further, at least one of R 33 and R 34 is preferably a substituent.
【0057】X1は環を形成するのに必要な原子団を表
わす。環の大きさとして好ましくは3〜8が好ましく、
更に好ましくは5または6であり、特に好ましくは6で
ある。X1は非金属原子団であることが好ましく、更に
好ましくは−C(R35)(R3 6)−、−C(=Y4)
−、−N(R37)−、−O−、−S−であり、特に好ま
しくは−C(R35)(R36)−である。ここでR35、R
36、R37は水素原子もしくは置換基を表わし、置換基と
しての好ましい例はR1の説明で挙げたものと同じであ
る。 R35、R36もしくはR37が分子内に複数存在する
場合、それらは同じであっても異なっていても良く、ま
たいずれか2つもしくはそれ以上のものが結合して環を
形成しても良い。Yは、=O、=S、もしくは=N−
R37を表わし、R37は前述のものと同じである。
R32、R33もしくはR34は、X1と結合して環を形成し
ても良い。またR31〜R34のうち少なくとも一つが重合
性の不飽和基を有していることが好ましく、重合性不飽
和基としてはビニル基が好ましい。また一般式(II)
で表わされる化合物の中でさらに好ましくは、下記一般
式(IX)で表わされる化合物である。X 1 represents an atomic group necessary for forming a ring. The size of the ring is preferably 3 to 8,
It is more preferably 5 or 6, and particularly preferably 6. Preferably X 1 is non-metallic atomic group, more preferably -C (R 35) (R 3 6) -, - C (= Y 4)
—, —N (R 37 ) —, —O—, and —S—, and particularly preferably —C (R 35 ) (R 36 ) —. Where R 35 , R
36 and R 37 represent a hydrogen atom or a substituent, and preferred examples of the substituent are the same as those described for R 1 . When a plurality of R 35 , R 36 or R 37 are present in the molecule, they may be the same or different, and any two or more may combine to form a ring. good. Y is = O, = S, or = N-
It represents R 37, R 37 are the same as those described above.
R 32 , R 33 or R 34 may combine with X 1 to form a ring. Further, at least one of R 31 to R 34 preferably has a polymerizable unsaturated group, and a vinyl group is preferable as the polymerizable unsaturated group. In addition, the general formula (II)
Among the compounds represented by the formula, a compound represented by the following general formula (IX) is more preferred.
【0058】[0058]
【化 21】 [Formula 21]
【0059】式中、R31〜R34は一般式(II)に示した
R31〜R34と同義である。R38およびR40は水素原子も
しくは置換基(具体例はR1の説明で置換基として挙げ
たもの)を表わし、好ましくは水素原子もしくはアルキ
ル基であり、さらに好ましくは水素原子である。R39は
水素原子もしくは置換基(具体例はR1の説明で挙げた
もの)を表わし、好ましくはハメットのσm値が0以上
のものであり、さらに好ましくは水素原子もしくはアシ
ルオキシ基である。さらに一般式( IX )で表わされる
化合物はいずれかの部位に重合性の不飽和基を有してい
ることが好ましく、重合性基としてはビニル基が好まし
い。[0059] In the formula, R 31 to R 34 has the same meaning as R 31 to R 34 shown in the general formula (II). R 38 and R 40 represent a hydrogen atom or a substituent (specific examples are the same as the substituents in the description of R 1 ), preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and more preferably a hydrogen atom. R 39 represents a hydrogen atom or a substituent (specific examples are those described in the description of R 1 ), and preferably has a Hammett σm value of 0 or more, and more preferably a hydrogen atom or an acyloxy group. Further, the compound represented by the formula (IX) preferably has a polymerizable unsaturated group at any position, and a vinyl group is preferable as the polymerizable group.
【0060】以下に一般式(II)および( IX )で表わ
される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定
されるものではない。また化合物によってはcis-体とtr
ans-体などの異性体が存在するものもあるが、以下の記
載はそれら異性体の構造を特定するものではなく、また
異性体の混合物として利用する場合も含まれる。Specific examples of the compounds represented by formulas (II) and (IX) are shown below, but the present invention is not limited thereto. In some compounds, cis-form and tr
Some isomers such as ans-isomers exist, but the following description does not specify the structure of the isomers, and includes the case where the isomers are used as a mixture of isomers.
【0061】[0061]
【化 22】 [Formula 22]
【0062】[0062]
【化 23】 [Formula 23]
【0063】[0063]
【化 24】 [Formula 24]
【0064】[0064]
【化 25】 [Formula 25]
【0065】[0065]
【化 26】 [Formula 26]
【0066】またこれらの酸発生剤の添加量は吸収変化
を伴う化合物の種類によっても異なるが、一般に後述す
る酸の作用により360nm〜900nmの波長域に吸収変
化を伴う化合物に対して0.001〜20当量の範囲で
あることが好ましく、特に好ましくは0.01〜5当量
の場合である。The amount of these acid generators varies depending on the type of the compound having a change in absorption, but is generally 0.001 to the compound having a change in absorption in the wavelength region of 360 to 900 nm due to the action of an acid described later. The range is preferably from 20 to 20 equivalents, particularly preferably from 0.01 to 5 equivalents.
【0067】本発明において、熱または酸の作用による
分子内もしくは分子間反応により360〜900nmの
吸収域に変化を生じる化合物とは、室温、中性条件下で
保存する限りにおいては安定であるが、熱または酸が作
用すると分子内、もしくは分子間反応が進行して前記範
囲における吸収に変化を生じる化合物のことである。In the present invention, a compound that changes the absorption range of 360 to 900 nm by an intramolecular or intermolecular reaction due to the action of heat or an acid is stable as long as it is stored at room temperature under neutral conditions. , A compound that undergoes an intramolecular or intermolecular reaction upon the action of heat or an acid to cause a change in absorption in the above range.
【0068】この様な吸収変化を伴う化合物は単一の化
合物であってもよいし、2成分以上で構成されていても
よい。例えば、ディールスアルダー反応によって前記領
域に消色画像を形成する化合物(例えば、9,10−ジ
スチリルアントラセンと無水マレイン酸、テトラフェニ
ルシクロペンタジエンとアクリル酸エステルなど)、レ
トロディールスアルダー反応によって前記領域に発色画
像を形成する化合物(例えば9,10−ジスチリルアン
トラセンと無水マレイン酸の付加体、ジフェニルイソベ
ンゾフランとアクリルアミドの付加体など)、βー水素
離脱によって共役系が拡張され前記領域に発色画像を形
成する化合物(例えば1ーアセトキシー1,2−ジアリ
−ルエタン、1ースルホキシー1,2−ジアリ−ルエタ
ンなど)、脱水縮合によって前記領域に発色画像を形成
するアルデヒドと活性メチレン化合物の組み合わせ(例
えば写真用4等量マゼンタカプラーとpーメトキシシン
ナムアルデヒドなど)あるいは酸の作用で分解または離
脱が促進される置換基によって置換されたアミノ基もし
くは水酸基を分子内に有し、該置換基が外れることによ
って前記波長域における吸収が変化する化合物などが挙
げられる。The compound having such an absorption change may be a single compound or may be composed of two or more components. For example, a compound (for example, 9,10-distyrylanthracene and maleic anhydride, tetraphenylcyclopentadiene and an acrylate ester) that forms a decolored image in the region by a Diels-Alder reaction, A compound that forms a color image (e.g., an adduct of 9,10-distyrylanthracene and maleic anhydride, an adduct of diphenylisobenzofuran and acrylamide, etc.), a conjugated system is expanded by β-hydrogen elimination, and a color image is formed in the region. Compounds to be formed (for example, 1-acetoxy-1,2-diarylethane, 1-sulfoxy-1,2-diallylethane, etc.), and a combination of an aldehyde and an active methylene compound which form a color image in the area by dehydration condensation (for example, Photographic 4) Equivalent magenta A coupler and a p-methoxycinnamaldehyde) or an amino group or a hydroxyl group substituted by a substituent whose decomposition or elimination is promoted by the action of an acid in the molecule. And the like.
【0069】アミノ基の置換基が酸の作用によって分解
もしくは離脱することにより吸収が変化する化合物にお
けるアミノ基の置換基としてはアルコキシカルボニル基
(例えばtーブトキシカルボニル基、シクロヘキシルオ
キシカルボニル基、2ー(2ーメチル)ブトキシカルボ
ニル基、2ー(2ーフェニル)プロピルオキシカルボニ
ル基、2ークロロエトキシカルボニル基など)、アシル
基(例えばアセチル基、ベンゾイル基、2ーニトロベン
ゾイル基、4ークロロベンゾイル基、1ーナフトイル基
など)もしくはホルミル基などが好ましい例として挙げ
られるが、本発明では保存安定性と熱感度の観点からβ
位に水素原子を有するアルコキシカルボニル基が特に有
用である。このような化合物としては、例えば米国特許
第4,602,263号、第4,826,976号など
に記載例があり、本発明の熱酸発生剤と組み合わせるこ
とにより、より高感度で保存性に優れた感熱記録媒体を
提供することができる。In a compound in which the absorption is changed by the decomposition or elimination of the amino group by the action of an acid, the amino group is substituted by an alkoxycarbonyl group (for example, a t-butoxycarbonyl group, a cyclohexyloxycarbonyl group, (2-methyl) butoxycarbonyl group, 2- (2-phenyl) propyloxycarbonyl group, 2-chloroethoxycarbonyl group and the like, acyl group (for example, acetyl group, benzoyl group, 2-nitrobenzoyl group, 4-chlorobenzoyl group, A naphthoyl group) or a formyl group are preferred examples. In the present invention, β is preferred from the viewpoint of storage stability and heat sensitivity.
An alkoxycarbonyl group having a hydrogen atom at the position is particularly useful. Examples of such compounds are described in, for example, U.S. Pat. Nos. 4,602,263 and 4,826,976. When combined with the thermal acid generator of the present invention, higher sensitivity and storage stability can be obtained. The present invention can provide a heat-sensitive recording medium having excellent heat resistance.
【0070】水酸基の置換基が酸の作用によって分解も
しくは離脱することにより吸収が変化する化合物におけ
る水酸基の置換基としては、β位に水素原子を有する2
級もしくは3級のアルコキシカルボニル基(例えばtー
ブトキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル
基、1ーフェニルエトキシカルボニル基、1,1ージフ
ェニルエトキシカルボニル基、2ーシクロヘキセンオキ
シカルボニル基など)、シリル基(例えばトリメチルシ
リル基、トリエチルシリル基、tーブチルジメチルシリ
ル基、tーブチルジフェニルシリル基、フェニルジメチ
ルシリル基など)、アルコキシメチル基(例えばメトキ
シメチル基、エトキシメチル基、1ーメトキシエチル
基、1ーフェノキシエチル基、2ー(2ーメトキシプロ
ピル)基など)およびβ位に水素原子を有する2級もし
くは3級のアルキル基(例えばテトラヒドロピラニル
基、テトラヒドロフラニル基、4,5−ジヒドロ−2−
メチルフラン−5−イル基、tーブチル基、2ーシクロ
ヘキセニル基など)が好ましい例として挙げられるが、
本発明では特にβ位に水素原子を有する2級もしくは3
級のアルコキシカルボニル基が好ましい。水酸基の置換
基の分解によって吸収が変化する化合物としては米国特
許第5,243,052号、特開平9−25360号な
どに記載例がある。As the substituent of the hydroxyl group in the compound in which the absorption is changed by the decomposition or elimination of the hydroxyl group by the action of an acid, the hydroxyl group has a hydrogen atom at the β-position.
Secondary or tertiary alkoxycarbonyl group (for example, t-butoxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, 1-phenylethoxycarbonyl group, 1,1-diphenylethoxycarbonyl group, 2-cyclohexeneoxycarbonyl group, etc.), silyl group (for example, Trimethylsilyl group, triethylsilyl group, t-butyldimethylsilyl group, t-butyldiphenylsilyl group, phenyldimethylsilyl group, etc., alkoxymethyl group (for example, methoxymethyl group, ethoxymethyl group, 1-methoxyethyl group, 1-phenoxyethyl group) A 2- (2-methoxypropyl) group and a secondary or tertiary alkyl group having a hydrogen atom at the β-position (eg, tetrahydropyranyl, tetrahydrofuranyl, 4,5-dihydro-2-
Methylfuran-5-yl group, t-butyl group, 2-cyclohexenyl group and the like) are preferred examples,
In the present invention, a secondary or tertiary compound having a hydrogen atom at the β-position is particularly preferred.
Grade alkoxycarbonyl groups are preferred. Examples of compounds whose absorption is changed by decomposition of a hydroxyl group substituent are described in U.S. Pat. No. 5,243,052 and JP-A-9-25360.
【0071】また、酸との接触により瞬時に発色する塩
基性のロイコ染料なども該画像形成材料において使用す
ることができる。そのような化合物の例としては有機エ
レクトロニクス材料研究会編、”イメージング用有機材
料”ぶんしん出版社刊(1997)、に記載されている
化合物およびそこに記載されている引用文献記載の化合
物などが挙げられる。本発明において、360〜900
nmの吸収域に濃度変化を生じる化合物は単独で用いて
もよいし、2種以上を併用しても良い。Further, a basic leuco dye or the like which develops a color instantly upon contact with an acid can be used in the image forming material. Examples of such compounds include compounds described in “Organic Materials for Imaging” edited by Organic Electronics Materials Society of Japan, published by Bunshin Publishing Company (1997), and compounds described in references cited therein. No. In the present invention, 360 to 900
Compounds that cause a change in concentration in the absorption region of nm may be used alone or in combination of two or more.
【0072】本発明で用いる好ましい化合物としては、
一般式(III)〜(V)で表わされるものである。本発明
の一般式(III)で表わされるロイコ色素においてR51
〜R57は水素原子または置換基を表し、これらはそれぞ
れ同じであっても異なっていても良い。置換基の例とし
ては、一般式(I)のR1で示した置換基が挙げられ
る。一般式(III)において、R51およびR52は、好まし
くはアルキル基である。Preferred compounds for use in the present invention include:
They are represented by the general formulas (III) to (V). In the leuco dye represented by the general formula (III) of the present invention, R 51
To R 57 represent a hydrogen atom or a substituent, which may be the same or different. Examples of the substituent include the substituents represented by R 1 in the general formula (I). In the general formula (III), R 51 and R 52 are preferably an alkyl group.
【0073】R54、R55、R56またはR57が置換基を表す場
合、隣接する2つの基は互いに結合して縮合環を形成し
ても良い。縮合環を形成する場合の例としては、ナフタ
レン環、アントラセン環、べンゾフラン環、べンゾチオ
フェン環などが例として挙げられる。When R 54 , R 55 , R 56 or R 57 represents a substituent, two adjacent groups may be bonded to each other to form a condensed ring. Examples of the case of forming a condensed ring include a naphthalene ring, an anthracene ring, a benzofuran ring, a benzothiophene ring, and the like.
【0074】一般式(III)において,X2はN(R58)、
OまたはSを表し、R58は水素原子または置換基を表し、
R58が置換基を表す場合の例としてはR51〜R57が置換基
を表す場合の例として前記したものが挙げられる。X2と
して特に好ましくはOである。In the general formula (III), X 2 is N (R 58 ),
Represents O or S, R 58 represents a hydrogen atom or a substituent,
As an example of the case where the R 58 represents a substituent include those described above as examples of the case where R 51 to R 57 represents a substituent. X 2 is particularly preferably O.
【0075】一般式(III)においてY1はN−C−X2とと
もに環状構造を形成するのに必要な原子団を表し、好ま
しくは5員または6員環を形成するのに必要な原子団であ
る。環骨格を構成するのに必要なY1の構成原子の例とし
ては、炭素原子、窒素原子、硫黄原子、珪素原子あるい
はリン原子が挙げられ、これらの原子は水素原子または
必要な置換基を有していてもよく、複数の置換が可能な
場合はそれぞれの置換基は異なっていても同一であって
も良く、置換基同士が互いに結合してさらに環を形成し
ても良い。In the general formula (III), Y 1 represents an atomic group necessary for forming a cyclic structure together with NC—X 2 , preferably an atomic group necessary for forming a 5- or 6-membered ring. It is. Examples of the constituent atoms of Y 1 necessary for constituting the ring skeleton, a carbon atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, and silicon atom or a phosphorus atom, chromatic these atoms is a hydrogen atom or necessary substituents When plural substitutions are possible, the respective substituents may be different or the same, and the substituents may be bonded to each other to further form a ring.
【0076】またY1を構成する原子が置換基を有する場
合の置換基の例としては、=O(Y1の骨格原子とともに
カルボニル基、スルホニル基などを形成する)、=S(Y
1の骨格原子とともにチオカルボニル基などを形成す
る)、=N−R60( R60は水素原子または置換基を表す。
置換基の例としてはR51〜R57が置換基を表す場合の例と
して前記したものが挙げられる。When the atom constituting Y 1 has a substituent, examples of the substituent include = O (forming a carbonyl group, a sulfonyl group and the like together with the skeleton atom of Y 1 ), 、 S (Y
And the like are formed thiocarbonyl group with 1 skeletal atoms), = N-R 60 ( R 60 represents a hydrogen atom or a substituent.
Examples of the substituent include those described above as examples when R 51 to R 57 represent a substituent.
【0077】Y1の好ましい形態は、−C(R61)(R62)
−あるいは−C(=O)−で表される2価の基が任意の
組み合わせで連結して形成される2価の連結基である(R
61、R62は水素原子または置換基を表し、同じであって
も異なっていてもよく、 R61とR62もしくは分子内に複
数存在する R61とR62が互いに結合して環を形成しても
良く、 R61、 R62の例としてはR51〜R57が置換基を表す
場合の例として前記したものが挙げられる)。 これら
の中でもY1の好ましい形態は−[C(R61)(R62)]2−
である。Y1のとくに好ましい形は、例えば−CH2 CH
2−、− CH2 CH2 CH2−、−CH(CH 3)CH2−、 −CH2C
(=O)−、−C(=O) CH2−、−CH2 CH2C(=O)
−、−C(=O) CH2CH2−、−CH=CH−などが例とし
て挙げられる。Y1A preferred form of is -C (R61) (R62)
Or a divalent group represented by -C (= O)-
A divalent linking group formed by linking (R
61, R62Represents a hydrogen atom or a substituent, and
May also be different, R61And R62Or multiple in the molecule
R exists61And R62Are bonded to each other to form a ring
Well, R61, R62An example of R51~ R57Represents a substituent
Examples of such cases include those described above). these
Y among1A preferred form of is-[C (R61) (R62)]Two−
It is. Y1Particularly preferred forms are, for example, -CHTwo CH
Two−, − CHTwo CHTwo CHTwo-, -CH (CH Three) CHTwo−, −CHTwoC
(= O)-, -C (= O) CHTwo-, -CHTwo CHTwoC (= O)
-, -C (= O) CHTwoCHTwo-, -CH = CH-, etc.
It is mentioned.
【0078】一般式(III)において、A1はC(R59)ま
たはNを表し、R59は水素原子または置換基を表す。 R59
が置換基を表す場合、置換基の例としてはR51〜R57が置
換基を表す場合の例として前記したものが挙げられる。
A1として特に好ましい形態はCHである。In the general formula (III), A 1 represents C (R 59 ) or N, and R 59 represents a hydrogen atom or a substituent. R 59
Represents a substituent, examples of the substituent include those described above as examples when R 51 to R 57 represent a substituent.
A particularly preferred form for A 1 is CH.
【0079】B1はアリール基、ヘテロ環基、アルケニル
基、アルキニル基、アリ−ルアミノ基またはヘテロ環ア
ミノ基を表す。これらの例としてはR1〜R7が置換基を表
す場合の例として前記したものが挙げられる。またこれ
らの基は置換可能な位置に置換基を有していても良く、
置換基の例としてはR51〜R57が置換基を表す場合の例と
して前記したものが挙げられる。またこれらの置換基
は、異なる2つの基が互いに結合して縮合環を形成して
いても良く、またR59とともに環を形成していても良
い。B1として好ましい形態はアリール基またはヘテロ環
基である。B 1 represents an aryl group, a heterocyclic group, an alkenyl group, an alkynyl group, an arylamino group or a heterocyclic amino group. Examples of these include those described above as examples where R 1 to R 7 represent a substituent. These groups may have a substituent at a substitutable position,
Examples of the substituent include those described above as examples when R 51 to R 57 represent a substituent. These substituents may be bonded to form a condensed ring by combining two different groups each other and may form a ring with R 59. Preferred forms for B 1 are an aryl group or a heterocyclic group.
【0080】本発明の一般式(III)で表される化合物
の中でも特に好ましい形態は一般式(X)で表されるも
のである。Among the compounds represented by the formula (III) of the present invention, a particularly preferred embodiment is the compound represented by the formula (X).
【0081】[0081]
【化 27】 [Formula 27]
【0082】一般式(X)においてR51〜R57は一般式
(III)における場合と同じ意味を表し、D1はアリール
基またはヘテロ環基を表す。D1で表されるアリール基ま
たはヘテロ環基の例としてはR51〜R57が置換基を表す
場合の例の中で前記したものが挙げられる。一般式(II
I)または(X)で表される化合物は、前記 R51〜R62の
内置換可能な位置に導入された重合性基(アクリル基、
メタクリル基、4−ビニルフェニル基など)が複数連結
して形成されるポリマーであってもよい。以下に本発明
で有用な一般式(III)または(X)で表される化合物の
具体例を示すが本発明はこれらに限定されるものではな
い。なおこれらの化合物は、特開昭51−34885号、同51
−44127号、同56−149489号などの各公報に記載の方法
に準じて、例えば、芳香族あるいは複素環アルデヒド化
合物のアルデヒド基、ニトロソ化合物のニトロソ基とイ
ンドレニン核の2位の活性メチル基またはメチレン基と
の脱水縮合反応により合成することができる。なお、以
下の本発明のポリマー材料においてnまたはmで表され
る値はポリマー組成のモル百分率を表す。In the general formula (X), R 51 to R 57 have the same meaning as in the general formula (III), and D 1 represents an aryl group or a heterocyclic group. Examples of the aryl group or heterocyclic group represented by D 1 include those described above in the example of the case where R 51 to R 57 represents a substituent. General formula (II
I) or (a compound represented by X), the was introduced into the substitutable position of R 51 to R 62 polymerizable group (acryl group,
It may be a polymer formed by linking a plurality of methacryl groups and 4-vinylphenyl groups. Hereinafter, specific examples of the compound represented by formula (III) or (X) useful in the present invention are shown, but the present invention is not limited thereto. These compounds are described in JP-A-51-34885 and JP-A-51-34885.
-44127, according to the method described in each publication such as 56-149489, for example, an aldehyde group of an aromatic or heterocyclic aldehyde compound, a nitroso group of a nitroso compound and an active methyl group at the 2-position of the indolenine nucleus Alternatively, it can be synthesized by a dehydration condensation reaction with a methylene group. In the following polymer materials of the present invention, the value represented by n or m represents the mole percentage of the polymer composition.
【0083】[0083]
【化 28】 [Formula 28]
【0084】[0084]
【化 29】 [Formula 29]
【0085】[0085]
【化 30】 [Formula 30]
【0086】[0086]
【化 31】 [Formula 31]
【0087】[0087]
【化 32】 [Formula 32]
【0088】[0088]
【化 33】 [Formula 33]
【0089】[0089]
【化 34】 Embedded image
【0090】[0090]
【化 35】 [Formula 35]
【0091】[0091]
【化 36】 Embedded image
【0092】本発明の一般式(IV)で表されるロイコ色
素において、R71は水素原子または置換基を表す。置換
基の例としては、一般式(I)のR1の説明において置
換基として前記した置換基が挙げられる。置換基の中で
好ましいものは、アルキル基、アリール基、ヘテロ環
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ
基、ヘテロ環オキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコ
キシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオ
キシ、アミノ基(アニリノ基を含む)、アシルアミノ
基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニル
アミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルキ
ルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基またはシリ
ル基であり、特に好ましくはアルキル基、アリール基、
ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ
環オキシ基、アミノ基(アニリノ基を含む)、アシルア
ミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボ
ニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基であ
る。上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、こ
れを取り去り更に上記の基で置換されていても良い。In the leuco dye represented by formula (IV) of the present invention, R 71 represents a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent include the substituents described above as the substituent in the description of R 1 in the general formula (I). Preferred substituents include an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, a silyloxy group, a heterocyclic oxy group, a carbamoyloxy group, an alkoxycarbonyloxy group, an aryloxycarbonyloxy, and an amino group. (Including an anilino group), an acylamino group, an aminocarbonylamino group, an alkoxycarbonylamino group, an aryloxycarbonylamino group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group or a silyl group, particularly preferably an alkyl group or an aryl group ,
A heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an amino group (including an anilino group), an acylamino group, an aminocarbonylamino group, an alkoxycarbonylamino group, and an aryloxycarbonylamino group. Among the above substituents, those having a hydrogen atom may be removed, and further substituted with the above group.
【0093】一般式(IV)において、Ar1およびAr2
はアリール基、ヘテロ環基、アルケニル基またはアルキ
ニル基を表し、同じであっても異なっていても良い。ア
リール基としては、フェニル基、ナフチル基など、ヘテ
ロ環基としては、フリル,チエニル、ピリミジル、ベン
ゾチアゾリルなどの各基、アルケニル基としては、ビニ
ル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル、2−シク
ロペンテンー1−イルなどの各基、アルキニル基として
は、エチニル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニ
ルなどの各基を挙げることができる。また、これらの基
は,置換可能な位置にさらに置換基を有していてもよ
く、その置換基の例は、R71が置換基を表す場合の例
として上記したものが挙げられる。In the general formula (IV), Ar 1 and Ar 2
Represents an aryl group, a heterocyclic group, an alkenyl group or an alkynyl group, which may be the same or different. Aryl groups include phenyl and naphthyl groups; heterocyclic groups include furyl, thienyl, pyrimidyl, and benzothiazolyl; and alkenyl groups include vinyl, allyl, prenyl, geranyl, oleyl, and 2-cyclopentene-1. Examples of each group such as -yl and the alkynyl group include groups such as ethynyl, propargyl and trimethylsilylethynyl. Further, these groups may further have a substituent at a substitutable position, and examples of the substituent include those described above as examples when R71 represents a substituent.
【0094】Ar1およびAr2が複数の置換基を有する
場合、これらは互いに結合して縮合環を形成しても良
く、 Ar1およびAr2が連結して環を形成しても良
い。 Ar 1に導入された置換基同士またはAr2に導入
された置換基同士が互いに結合して縮合環を形成する場
合の例としては、ジュロリジン環、ナフタレン環、アン
トラセン環、べンゾフラン環、べンゾチオフェン環など
が挙げられ、 Ar1およびAr2が連結して環を形成す
る場合の例としては、9H−キサンテン環、10−アル
キルー9,10−ジヒドロアクリジン環、9H−チオキ
サンテン環、1−アルキル−4H−クロメノ[2,3−
C]ピラゾール環、11H−ベンゾ[b]チエノ[2,
3−b]クロメン環、6−アルキル−5−オキソ−5,
6−ジヒドロ−12H−クロメノ[2,3−C]イソキ
ノリン環、4H−クロメン環、2H−クロメン環または
フルオレン環などが挙げられる。Ar1And ArTwoHas multiple substituents
In these cases, these may be combined with each other to form a condensed ring.
Ar1And ArTwoMay be linked to form a ring
No. Ar 1Substituents introduced into each other or ArTwoIntroduced in
Where the substituted substituents combine with each other to form a fused ring
Examples of the case include a julolidine ring, a naphthalene ring,
Toracene ring, Benzofuran ring, Benzothiophene ring, etc.
Ar1And ArTwoLink to form a ring
Examples of such a case include a 9H-xanthene ring,
Chiru 9,10-dihydroacridine ring, 9H-thioki
Santen ring, 1-alkyl-4H-chromeno [2,3-
C] pyrazole ring, 11H-benzo [b] thieno [2,
3-b] Chromene ring, 6-alkyl-5-oxo-5,
6-dihydro-12H-chromeno [2,3-C] isoki
Norin ring, 4H-chromene ring, 2H-chromene ring or
And a fluorene ring.
【0095】Ar1およびAr2は、好ましくは、アリー
ル基またはヘテロ環基であり、特に好ましい場合として
は、 Ar1およびAr2のうち少なくとも一方が電子供
与性のアリール基(例えば、p−ジメチルアミノフェニ
ル基、p−ジュロリジル基、p−メトキシフェニル基な
ど)または1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−6
−イル基、3,3−ジメチルインドリン−5−イル基、
3,4−メチレンジオキシフェニル基、1,2−ジメチ
ル−5−ベンゾイミダゾリル基、10−エチルフェノキ
サジンー3−イル基、9−エチルカルバゾール−3−イ
ル基、ジベンゾフラン−3−イル基、ジベンゾチオフェ
ン−3−イル基、キノリン−8−イル基、1,2−ジメ
チルインドール−3−イル基、エチルインダゾールー3
−イル基、ベンゾ[b]−フラン−3−イル基、ベンゾ
[b]−チオフェン−3−イル基、1−エチルピロール
−3−イル基、3−フリル基、3−チエニル基、2−チ
アゾリル基、2−ベンゾオキサゾリル基、2−ピリジル
基または4−キノリル基から選ばれるヘテロ環基の場
合、あるいはAr1およびAr2の少なくとも一方が電子
供与性基を置換基として有し、Ar1およびAr2が連結
して上記した縮合環を形成する場合である。Ar 1 and Ar 2 are preferably an aryl group or a heterocyclic group. In a particularly preferred case, at least one of Ar 1 and Ar 2 is an electron-donating aryl group (for example, p-dimethyl Aminophenyl group, p-julolidyl group, p-methoxyphenyl group, etc.) or 1,2,3,4-tetrahydroquinoline-6
-Yl group, 3,3-dimethylindoline-5-yl group,
3,4-methylenedioxyphenyl group, 1,2-dimethyl-5-benzimidazolyl group, 10-ethylphenoxazin-3-yl group, 9-ethylcarbazol-3-yl group, dibenzofuran-3-yl group, dibenzo Thiophen-3-yl group, quinolin-8-yl group, 1,2-dimethylindol-3-yl group, ethylindazol-3
-Yl group, benzo [b] -furan-3-yl group, benzo [b] -thiophen-3-yl group, 1-ethylpyrrol-3-yl group, 3-furyl group, 3-thienyl group, 2- In the case of a heterocyclic group selected from a thiazolyl group, a 2-benzoxazolyl group, a 2-pyridyl group or a 4-quinolyl group, or at least one of Ar 1 and Ar 2 has an electron-donating group as a substituent, This is the case where Ar 1 and Ar 2 are linked to form the above fused ring.
【0096】Y2は、芳香族炭化水素環(例えばベンゼ
ン環、ナフタレン環、アントラセン環など)あるいはヘ
テロ環(例えば、ピリジン環、ピリミジン環、インドー
ル環、フラン環、チアジン環など)を表し、これらの環
は置換可能な位置が、置換基によって置換されていても
良く、例としては上記R1が置換基を表す場合の例とし
て説明したものを挙げることができる。Y2の好ましい
形態は芳香族炭化水素環であり、特に好ましくはベンゼ
ン環である。Y 2 represents an aromatic hydrocarbon ring (for example, benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, etc.) or a hetero ring (for example, pyridine ring, pyrimidine ring, indole ring, furan ring, thiazine ring, etc.). The substitutable position of the ring may be substituted by a substituent, and examples thereof include those described as examples when R 1 represents a substituent. A preferred form of Y 2 is an aromatic hydrocarbon ring, particularly preferably a benzene ring.
【0097】X3はO、SまたはN(R72)を表し、 R
72は水素原子または置換基を表し、R72が置換基を表す
場合の例としては上記R71が置換基を表す場合の例とし
て説明したものを挙げることができる。X3として好ま
しくはOまたはSである。X 3 represents O, S or N (R 72 );
72 represents a hydrogen atom or a substituent, and examples of the case where R 72 represents a substituent include those described as examples when R 71 represents a substituent. X 3 is preferably O or S.
【0098】一般式(IV)および以下に説明する一般式
(V)で表される化合物は、置換可能な位置に導入され
た重合性基(アクリル基、メタクリル基、4−ビニルフ
ェニル基など)が複数連結して形成されるポリマーであ
ってもよい。この際ポリマーの分子量は千〜100万の
範囲にあることが好ましく、特に好ましくは2千〜30
万の範囲にある場合である。この場合単独重合体であっ
てもよいし、他のモノマーとの共重合体であっても良
い。Compounds represented by the general formula (IV) and the general formula (V) described below can be obtained by introducing a polymerizable group (such as an acryl group, a methacryl group, or a 4-vinylphenyl group) introduced into a substitutable position. May be a polymer formed by connecting a plurality of groups. In this case, the molecular weight of the polymer is preferably in the range of 1,000 to 1,000,000, particularly preferably 2,000 to 30.
This is the case in the range of 10,000. In this case, it may be a homopolymer or a copolymer with another monomer.
【0099】一般式(IV)で表される化合物は、例えば
ミヒラーヒドロール類とアリールアミン類とから合成さ
れる、オルト位にアミノ基を有するトリアリールメタン
誘導体に対して、酸ハライド類あるいはイソシアナート
類などを作用させた後、二酸化鉛、二酸化マンガンある
いはクロラニルなどの酸化剤を用いて酸化することによ
り合成することができ、その合成方法は、特開昭57−47
697号、同61-17573号、同63−251278号などの各公報に
詳しく記載されている。The compound represented by the general formula (IV) can be used, for example, in the form of an acid halide or a triarylmethane derivative having an amino group at the ortho position, which is synthesized from Michlerhydrols and arylamines. It can be synthesized by reacting isocyanates and the like and then oxidizing with an oxidizing agent such as lead dioxide, manganese dioxide or chloranil.
These are described in detail in gazettes such as No. 697, No. 61-17573, and No. 63-251278.
【0100】以下に本発明で有用な一般式(IV)で表さ
れる化合物の具体例を示すが本発明はこれらに限定され
るものではない。なお以下、本発明のポリマー材料にお
いてnまたはmで表される値はポリマー組成のモル百分
率を表す。Specific examples of the compound represented by formula (IV) useful in the present invention are shown below, but the present invention is not limited to these. Hereinafter, in the polymer material of the present invention, the value represented by n or m indicates the mole percentage of the polymer composition.
【0101】[0101]
【化 37】 [Formula 37]
【0102】[0102]
【化 38】 [Formula 38]
【0103】[0103]
【化 39】 [Formula 39]
【0104】[0104]
【化 40】 [Formula 40]
【0105】[0105]
【化 41】 [Formula 41]
【0106】[0106]
【化 42】 [Formula 42]
【0107】[0107]
【化 43】 [Formula 43]
【0108】[0108]
【化 44】 [Formula 44]
【0109】[0109]
【化 45】 [Formula 45]
【0110】[0110]
【化 46】 [Formula 46]
【0111】[0111]
【化 47】 [Formula 47]
【0112】[0112]
【化 48】 [Formula 48]
【0113】[0113]
【化 49】 [Formula 49]
【0114】[0114]
【化 50】 [Formula 50]
【0115】[0115]
【化 51】 [Formula 51]
【0116】次に一般式(V)について説明する。Ar3
およびAr4はアリール基、ヘテロ環基、アルケニル基
またはアルキニル基を表し、同じであっても異なってい
ても良く、これらは前述した一般式(IV)におけるAr
1およびAr2と同じ意味を表す。Next, the general formula (V) will be described. Ar 3
And Ar 4 represent an aryl group, a heterocyclic group, an alkenyl group or an alkynyl group, which may be the same or different, and are the same as those of the above-mentioned general formula (IV).
Represent the same meanings as 1 and Ar 2.
【0117】Z1は芳香族炭化水素環あるいはヘテロ環
を表し、これらは前述した一般式(IV)におけるY2と同
じ意味を表す。A2はO、SまたはN(R73)を表し、R
73は水素原子または置換基を表し、R73が置換基を表す
場合の例としてはR71が置換基を表す場合の例として説
明したものが挙げられる。A2の好ましい例はSである。
本発明の一般式(V)で表される化合物は特開昭58−170
36号に記載の方法によって合成することができる。以下
に本発明で有用な一般式(V)で表される化合物の具体
例を示すが本発明はこれらに限定されるものではない。Z 1 represents an aromatic hydrocarbon ring or a hetero ring, which has the same meaning as Y 2 in the aforementioned general formula (IV). A 2 represents O, S or N (R 73 );
73 represents a hydrogen atom or a substituent, and examples of the case where R 73 represents a substituent include those described as examples when R 71 represents a substituent. A preferred example of A 2 is S.
The compound represented by formula (V) of the present invention is disclosed in JP-A-58-170.
It can be synthesized by the method described in No. 36. Hereinafter, specific examples of the compound represented by formula (V) useful in the present invention will be shown, but the present invention is not limited thereto.
【0118】[0118]
【化 52】 [Formula 52]
【0119】[0119]
【化 53】 [Formula 53]
【0120】[0120]
【化 54】 [Formula 54]
【0121】[0121]
【化 55】 [Formula 55]
【0122】[0122]
【化 56】 [Formula 56]
【0123】[0123]
【化 57】 [Formula 57]
【0124】本発明の画像形成材料は一般的に前記酸発
生剤および酸の作用により360〜900nmの波長域
に変化を生じる化合物を支持体上に塗布して作製され
る。この際、これらのいずれかがポリマーである場合、
あるいは塗布性の良いアモルファスである場合を除き、
通常はバインダ−を共存させる。バインダーを使用しな
くてもよい場合は、膜厚を薄くし易く、切れの良い画像
が得られるという利点がある。またバインダーを用いる
場合には、ゼラチン、カゼイン、デンプン類、ヒドロキ
シエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポ
リビニルアルコール、ポリアクリルアミド、エチレン−
無水マレイン酸コポリマーなどの水溶性バインダー、お
よびポリビニルブチラール、トリアセチルセルロース、
ポリスチレン、アクリル酸メチル−ブタジエンコポリマ
ー、アクリロニトリル−ブタジエンコポリマーなどの水
不溶性バインダーのいずれも用いることができる。The image forming material of the present invention is generally prepared by coating a support with a compound capable of changing the wavelength range from 360 to 900 nm by the action of the acid generator and the acid. At this time, when any of these is a polymer,
Or, unless it is amorphous with good coatability,
Usually, a binder coexists. When the binder does not need to be used, there is an advantage that the film thickness can be easily reduced and a sharp image can be obtained. When a binder is used, gelatin, casein, starches, hydroxyethylcellulose, carboxymethylcellulose, polyvinyl alcohol, polyacrylamide, ethylene-
Water-soluble binders such as maleic anhydride copolymers, and polyvinyl butyral, triacetyl cellulose,
Any of water-insoluble binders such as polystyrene, methyl acrylate-butadiene copolymer, and acrylonitrile-butadiene copolymer can be used.
【0125】一方、酸発生剤もしくは酸の作用により3
60〜900nmの波長域に変化を生じる化合物のいず
れかもしくは双方(共重合を含む)がポリマーである場
合にはバインダーを添加する必要は特に無い。その場合
には色相が変化する該化合物のごく近傍に酸が発生する
という意味で高感度化が期待できる。またポリマー化に
より分子の拡散を制御することにより画像の切れ、保存
性を改良できる可能性がある。これらの特性は、特にグ
ラフィックアーツフィルムのような高画質が要求される
用途に好ましい。そのような化合物として好ましい形態
は一般式(VI)で表わされるものである。On the other hand, by the action of an acid generator or an acid, 3
When one or both of the compounds (including copolymerization) that change in the wavelength range of 60 to 900 nm are polymers, it is not particularly necessary to add a binder. In that case, high sensitivity can be expected in the sense that an acid is generated very near the compound whose hue changes. In addition, by controlling the diffusion of molecules by polymerization, there is a possibility that the cut-off and preservation of images can be improved. These characteristics are particularly preferable for applications requiring high image quality, such as graphic arts films. A preferred form as such a compound is represented by the general formula (VI).
【0126】一般式(VI)について説明する。一般式
(VI)においてAは酸発生剤モノマーの重合によって得
られる繰り返し単位を表し、好ましい例としては一般式
(I)、(II)、もしくは(VII)〜(IX)で表わされる
化合物の中で重合性の不飽和基を有するものを挙げられ
る。その具体例は一般式(I)、(II)、もしくは(VI
I)〜(IX)の化合物例として挙げた中で重合性の不飽
和基を有するものが該当する。The formula (VI) will be described. In the general formula (VI), A represents a repeating unit obtained by polymerization of an acid generator monomer. Preferable examples are compounds represented by the general formulas (I), (II), or (VII) to (IX). And those having a polymerizable unsaturated group. Specific examples thereof are represented by the general formulas (I), (II), or (VI
Among the compound examples I) to (IX), those having a polymerizable unsaturated group correspond.
【0127】一般式(VI)においてBは酸の作用により
360〜900nmの吸収域で濃度変化を生じる部分構
造を有する少なくとも1種類以上のビニルモノマーの重
合によって得られる繰り返し単位を表わし、好ましい例
としては一般式(III)〜(V)、(X)で表わされる
化合物の中で重合性の不飽和基を有するものである。そ
の具体例は一般式(III)〜(V)、(X)の化合物例
として挙げた中で重合性の不飽和基を有するものが該当
する。なお、Bは単独の化合物に誘導される1種類の繰
り返し単位であってもよいし、2種以上の併用でもよ
い。さらにポリマー中の発色部位であるBと、別途画像
記録層中に添加した他の発色剤との併用でも良い。In the general formula (VI), B represents a repeating unit obtained by polymerization of at least one kind of vinyl monomer having a partial structure which causes a change in concentration in the absorption range of 360 to 900 nm due to the action of an acid. Is a compound having a polymerizable unsaturated group among the compounds represented by formulas (III) to (V) and (X). Specific examples thereof include those having a polymerizable unsaturated group among the compound examples of the general formulas (III) to (V) and (X). B may be a single type of repeating unit derived from a single compound or a combination of two or more types. Further, B, which is a coloring site in the polymer, may be used in combination with another coloring agent separately added to the image recording layer.
【0128】一般式(VI)におけるCは、AおよびB
とともに共重合体を形成することが可能な少なくとも1
種類以上のビニルモノマーの重合によって得られる繰り
返し単位を表し、極性、ガラス転位温度などを調節する
ことにより保存安定性、発色活性などをコントロールす
ることができる。このようなビニルモノマーは2種類以
上を組み合わせても良い。好ましい例としては、アクリ
ル酸エステル、メタクリル酸エステル、アクリルアミ
ド、スチレン、ビニルエーテルなどが挙げられる。以下
にCを形成するモノマーの具体例を示すが本発明はこれ
らに限定されるものではない。In the general formula (VI), C represents A and B
At least one capable of forming a copolymer with
Represents a repeating unit obtained by polymerization of two or more kinds of vinyl monomers, and can control storage stability, color-forming activity, and the like by adjusting polarity, glass transition temperature, and the like. Such vinyl monomers may be used in combination of two or more. Preferred examples include acrylate, methacrylate, acrylamide, styrene, vinyl ether and the like. Specific examples of the monomer forming C are shown below, but the present invention is not limited thereto.
【0129】[0129]
【化 58】 [Formula 58]
【0130】[0130]
【化 59】 [Formula 59]
【0131】[0131]
【化60】 Embedded image
【0132】[0132]
【化61】 Embedded image
【0133】一般式(VI)におけるx、y、zは各組
成のモル%を表す。x、y、zはそれぞれ1≦x≦10
0、0≦y≦99、0≦z≦99でありx+y+z=1
00である。一般式(VI)で表されるポリマーの分子
量は千〜100万の範囲にあることが好ましく、特に好
ましくは2千〜50万の範囲にある場合である。また該
ポリマーはホモポリマー、ランダム共重合体、交互共重
合体、ブロック共重合体などいずれの形態であってもか
まわないが、合成的に容易なホモポリマー、ランダム共
重合体が一般的である。以下に一般式(VI)で表され
るポリマーにおけるA、B、Cを形成するモノマーおよ
びx、y、zの好ましい組み合わせを示すが本発明はこ
れらに限定されるものではない。In the general formula (VI), x, y, and z represent mol% of each composition. x, y, z are each 1 ≦ x ≦ 10
0, 0 ≦ y ≦ 99, 0 ≦ z ≦ 99, and x + y + z = 1
00. The molecular weight of the polymer represented by the general formula (VI) is preferably in the range of 1,000 to 1,000,000, and particularly preferably in the range of 2,000 to 500,000. The polymer may be in any form such as a homopolymer, a random copolymer, an alternating copolymer, and a block copolymer, but a homopolymer and a random copolymer which are synthetically easy are generally used. . Preferred combinations of monomers forming A, B, and C and x, y, and z in the polymer represented by the general formula (VI) are shown below, but the invention is not limited thereto.
【0134】[0134]
【表1】 【table 1】
【0135】本発明に用いる上記ポリマーの合成は種々
の重合方法、例えば溶液重合、沈澱重合、懸濁重合、塊
状重合、乳化重合によって行なうことができる。また、
重合の開始方法はラジカル開始剤を用いる方法、光また
は放射線を照射する方法などがある。これらの重合方
法、重合の開始方法は、例えば鶴田禎二「高分子合成方
法」改定版(日刊工業新聞社刊、1971)や大津隆
行、木下雅悦共著「高分子合成の実験法」化学同人、昭
和47年刊、124〜154頁に記載されている。The synthesis of the polymer used in the present invention can be carried out by various polymerization methods, for example, solution polymerization, precipitation polymerization, suspension polymerization, bulk polymerization, and emulsion polymerization. Also,
Examples of the method for initiating polymerization include a method using a radical initiator, a method of irradiating light or radiation, and the like. These polymerization methods and the method of initiating the polymerization are described in, for example, T. Tsuruta, “Polymer Synthesis Method” Revised Edition (Nikkan Kogyo Shimbun, 1971), Takatsu Otsu, Masayoshi Kinoshita, “Experimental Method of Polymer Synthesis” It is described in pp. 124-154 published in 1972.
【0136】上記重合方法のうち、特にラジカル開始剤
を用いた溶液重合法が好ましい。溶液重合法で用いられ
る溶剤は、例えば酢酸エチル、メタノール、エタノー
ル、1ープロパノール、2ープロパノール、1ーブタノ
ール、アセトン、ジオキサン、N,Nージメチルホルム
アミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ベンゼン、ト
ルエン、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホル
ム、ジクロロエタンのような種々の有機溶剤を単独ある
いは2種以上の混合物でも良いし、水との混合溶媒とし
ても良い。重合温度は生成するポリマーの分子量、開始
剤の種類などと関連して設定する必要があり、種々の温
度で重合可能であるが、通常30〜100℃の範囲で重
合を行なう。本発明では30〜90℃の温度範囲で重合
を行なうことが好ましい。Of the above polymerization methods, a solution polymerization method using a radical initiator is particularly preferred. Solvents used in the solution polymerization method include, for example, ethyl acetate, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, acetone, dioxane, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, benzene, toluene, acetonitrile, Various organic solvents such as methylene chloride, chloroform and dichloroethane may be used alone or as a mixture of two or more thereof, or may be used as a mixed solvent with water. The polymerization temperature needs to be set in relation to the molecular weight of the polymer to be produced, the type of initiator, and the like. Polymerization can be performed at various temperatures, but usually the polymerization is carried out in the range of 30 to 100 ° C. In the present invention, it is preferable to carry out the polymerization in a temperature range of 30 to 90 ° C.
【0137】重合に用いられるラジカル開始剤として
は、例えば、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、
2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリ
ル)、2,2’−アゾビス(2−アミジノプロパン)ジ
ハイドロクロライド、4,4’−アゾビス(4−シアノ
ペンタノイックアシッド)のようなアゾ系開始剤や、ベ
ンゾイルパーオキサイド、tーブチルハイドロパーオキ
サイド、過硫酸カリウム(例えば、亜硫酸水素ナトリウ
ムと組み合わせてレドックス開始剤として用いても良
い)のようなペルオキシド系開始剤が好ましい。本発明
では半減期が10時間になる温度が70℃以下の開始剤
(例えば2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロ
ニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,
4−ジメチルバレロニトリル)、ジメチル2,2’−ア
ゾビス(2−メチルプロピオネ−ト)、2,2’−アゾ
ビス[2−(3,4,5,6−テトラヒドロプロパン)
ジハイドロクロライド]などが特に好ましい。重合開始
剤の使用量はモノマーの重合性や必要とする重合体の分
子量に応じて調節することが可能であるが、単量体に対
して0.01〜5.0mol%の範囲が好ましい。Examples of the radical initiator used in the polymerization include 2,2′-azobisisobutyronitrile,
Such as 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis (2-amidinopropane) dihydrochloride, and 4,4'-azobis (4-cyanopentanoic acid) Preferred are azo-based initiators and peroxide-based initiators such as benzoyl peroxide, t-butyl hydroperoxide, and potassium persulfate (for example, redox initiators may be used in combination with sodium bisulfite). In the present invention, the initiator (for example, 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile)) or 2,2'-azobis (4-methoxy-2,
4-dimethylvaleronitrile), dimethyl 2,2'-azobis (2-methylpropionate), 2,2'-azobis [2- (3,4,5,6-tetrahydropropane)
Dihydrochloride] is particularly preferred. The amount of the polymerization initiator used can be adjusted according to the polymerizability of the monomer and the required molecular weight of the polymer, but is preferably in the range of 0.01 to 5.0 mol% based on the monomer.
【0138】一般式(VI)で表わされるポリマーの合
成においてはA、BおよびCを形成するモノマーを混合
して最初に反応容器に入れておき、開始剤を投入しても
よいし、これらのモノマーを重合溶媒に滴下する過程を
経て重合を行なってもよい。In the synthesis of the polymer represented by the general formula (VI), monomers for forming A, B and C are mixed and put into a reaction vessel first, and an initiator may be added. The polymerization may be performed through a process of dropping the monomer into the polymerization solvent.
【0139】本発明の一般式(VI)で表わされるポリ
マーは、熱もしくは酸の作用により酸を発生する機能を
有する部分構造と、酸の作用により360〜900nm
の波長域に変化を生じる部分構造を合わせ持つポリマー
である。このようなポリマーとしては、両者の機能を合
わせ持つ単一モノマーの重合体もありうるが、合成的な
観点から前記一般式(VI)で示される構造が一般的で
ある。本発明の画像形成材料は一般的に一般式(VI)
で表されるポリマーを支持体上に塗布して作製される。
本発明のポリマ−が熱によって酸を発生する機能も合わ
せ持つ場合は、熱の作用のみで単独で吸収に変化が生じ
るため、感熱形成材料として使用した場合に、感度や画
像の切れが優れている。また本発明の一般式(VI)で
表されるポリマーではいわゆるバインダーを使用しなく
ても良いため、膜厚を薄くすることができ、切れの良い
像が得られ、またアブレーションが起こりにくいという
利点がある。ただし一般式(VI)で表わされるポリマ
ーを用いる際、必要であるならばバインダーを併用して
も良く、その具体例としては前述のものが挙げられる。The polymer represented by the general formula (VI) of the present invention has a partial structure having a function of generating an acid by the action of heat or an acid, and a polymer having a function of 360 to 900 nm by the action of an acid.
It is a polymer having a partial structure that causes a change in the wavelength range. As such a polymer, a polymer of a single monomer having both functions can be used, but the structure represented by the general formula (VI) is generally used from a synthetic viewpoint. The image forming material of the present invention generally has the general formula (VI)
It is prepared by coating a polymer represented by the formula (1) on a support.
When the polymer of the present invention also has a function of generating an acid by heat, the absorption alone changes due to the action of heat alone, so that when the polymer is used as a heat-sensitive material, the sensitivity and the sharpness of the image are excellent. I have. In the polymer of the present invention represented by the general formula (VI), there is no need to use a so-called binder, so that the film thickness can be reduced, a sharp image can be obtained, and abrasion hardly occurs. There is. However, when the polymer represented by the general formula (VI) is used, a binder may be used together if necessary, and specific examples thereof include those described above.
【0140】本発明における画像記録層と保護層に用い
るバインダーは、一般に無色であり、透明または半透明
の被膜を形成する媒体であれば特に制限はなく、例えば
ゼラチン、カゼイン、デンプン類、ヒドロキシエチルセ
ルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルア
ルコール、ポリアクリルアミド、エチレン−無水マレイ
ン酸コポリマーなどの水溶性バインダー、およびポリビ
ニルブチラール、トリアセチルセルロース、セルロース
アセテートブチレート、ポリエステル類、ポリカーボネ
ート類、ポリビニルエステル類(ポリビニルアセテート
など)、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、アクリル酸エ
ステルおよびメタクリル酸エステルポリマーまたはコポ
リマー(例えばメチルメタクリレート−ヒドロキシメチ
ルメタクリレートコポリマー、アクリル酸メチル−ブタ
ジエンコポリマー、ポリメチルメタクリレート、ポリt
−ブチルメタクリレート、アクリロニトリル−ブタジエ
ンコポリマーなど)の水不溶性バインダーのいずれも用
いることができる。The binder used for the image recording layer and the protective layer in the present invention is generally colorless and is not particularly limited as long as it is a medium capable of forming a transparent or translucent film. Examples thereof include gelatin, casein, starches, and hydroxyethyl cellulose. Water-soluble binders such as carboxymethylcellulose, polyvinyl alcohol, polyacrylamide, ethylene-maleic anhydride copolymer, and polyvinyl butyral, triacetyl cellulose, cellulose acetate butyrate, polyesters, polycarbonates, polyvinyl esters (polyvinyl acetate, etc.), Polystyrene, polyvinyl chloride, acrylate and methacrylate polymers or copolymers (eg, methyl methacrylate-hydroxymethyl methacrylate) Polymers, methyl acrylate - butadiene copolymer, polymethyl methacrylate, poly t
-Butyl methacrylate, acrylonitrile-butadiene copolymer, etc.).
【0141】これらのバインダーのうち水不溶性バイン
ダーが好ましく用いられる。水不溶性バインダーは有機
溶媒から被膜形成しても良いし、水分散物の形態で被膜
形成してもよい。ここでいう水分散物とは水不溶な疎水
性ポリマーが微細な粒子として水溶性の分散媒中に分散
したものである。分散状態としてはポリマーが分散媒中
に乳化されているもの、乳化重合されたもの、ミセル分
散されたもの、あるいはポリマー分子中に部分的に親水
的な構造を持ち分子鎖自身が分子状分散したものなどい
ずれでもよい。それらの例としては「合成樹脂エマルジ
ョン(奥田平、稲垣寛編集、高 分子刊行会発行(197
8))」、「合成ラテックスの応用(杉村孝明、片岡靖男、
鈴木聡一、笠原啓司編集、高分子刊行会発行(199
3))」、「高分子ラテックスの化学(室井宗一著、高分子
刊行会発行(1970))」などに記載されている。分散粒子
の平均 粒径は1〜50000nm、より好ましくは5〜1000nm程
度の範囲が好ましい。分散粒子 の粒径分布に関しては
特に制限はなく、広い粒径分布を持つものでも単分散の
粒径分布を持つものでもよい。Among these binders, a water-insoluble binder is preferably used. The water-insoluble binder may be formed into a film from an organic solvent, or may be formed into a film in the form of an aqueous dispersion. The water dispersion referred to herein is a water-insoluble hydrophobic polymer dispersed as fine particles in a water-soluble dispersion medium. The dispersion state is such that the polymer is emulsified in a dispersion medium, emulsion-polymerized, micelle-dispersed, or partially dispersed in polymer molecules and molecular chains themselves are molecularly dispersed. Any of them may be used. Examples of these include "Synthetic Resin Emulsions (edited by Tadashi Okuda and Hiroshi Inagaki, published by The Society for Polymer Science (197
8))), `` Application of synthetic latex (Takaaki Sugimura, Yasuo Kataoka,
Edited by Souichi Suzuki and Keiji Kasahara, published by the Society for Polymer Publishing (199
3)) "," Polymer Latex Chemistry (by Soichi Muroi, published by Kobunshi Kankokai (1970)) "and the like. The average particle size of the dispersed particles is preferably in the range of 1 to 50,000 nm, more preferably about 5 to 1000 nm. There is no particular limitation on the particle size distribution of the dispersed particles, and they may have a wide particle size distribution or a monodispersed particle size distribution.
【0142】これら画像記録層および保護層に用いるポ
リマーの分子量は重量平均分子量で1000〜1000
000、好ましくは20000〜500000程度が好
ましい。またポリマーは単独で用いてもよいし、必要に
応じて二種以上ブレンドして用いても良い。The polymer used in the image recording layer and the protective layer has a weight average molecular weight of 1,000 to 1,000.
000, preferably about 20,000 to 500,000. Further, the polymer may be used alone, or may be used by blending two or more kinds as necessary.
【0143】また、これら画像記録層および保護層に用
いるポリマーのTgを調節することで画像記録媒体の低
湿度下でのヒビワレを改良することができる場合があ
る。ポリマーのTgを下げることで低湿度下でのヒビワ
レは改良できるが、下げすぎることで画像記録媒体の接
着性が問題となることがあるため、ポリマーのTgには
最適値がある。好ましいポリマーのTgは併用する低分
子化合物などにもよるが、一般に15℃〜120℃さら
に好ましくは、20℃〜80℃である。In some cases, cracking of the image recording medium under low humidity can be improved by adjusting the Tg of the polymer used for the image recording layer and the protective layer. Although cracking under low humidity can be improved by lowering the Tg of the polymer, the adhesion of the image recording medium may be problematic if the Tg is too low, so that there is an optimum value for the Tg of the polymer. Although the Tg of the preferred polymer depends on the low molecular weight compound used in combination, it is generally 15 ° C to 120 ° C, more preferably 20 ° C to 80 ° C.
【0144】また、ヒビワレの発生は低湿度下で顕著で
あり、一般に25℃、相対湿度10%RHで画像記録媒
体を筒状に丸めたときのヒビワレが発生しはじめる曲率
半径で評価する場合が多く、この評価方法による場合の
好ましい値は0〜50mmである。なお、曲率半径が0mm
とは、与えられた条件においては過酷な曲げ応力を加え
てもヒビワレを起こさないことを意味する。The occurrence of cracking is remarkable under low humidity. Generally, when the image recording medium is rolled into a tube at 25 ° C. and a relative humidity of 10% RH, the cracking is evaluated by the radius of curvature at which cracking starts to occur. In many cases, a preferable value according to this evaluation method is 0 to 50 mm. The radius of curvature is 0 mm
This means that cracks do not occur even under severe bending stress under given conditions.
【0145】本発明の画像記録媒体の保護層は必要に応
じて2層以上設けられる場合があるが、保護層の全バイ
ンダー量は3.0〜50.0g/m2、より好ましくは
5.0〜30.0g/m2、さらに好ましくは 7.0〜2
0.0g/m2の範囲が好ましい。The protective layer of the image recording medium of the present invention may be provided in two or more layers as necessary. The total binder amount of the protective layer is 3.0 to 50.0 g / m 2 , more preferably.
5.0-30.0 g / m 2 , more preferably 7.0-2
A range of 0.0 g / m 2 is preferred.
【0146】本発明の画像記録媒体は保護層のバインダ
ー量を上記の量とすることでヘイズの低減と擦り傷耐性
の改良が可能となる。ヘイズは、画像記録媒体に入射し
た光線が拡散する度合いで表され、その値は拡散透過光
量と全透過光量の比を百分率で示される。ヘイズの測定
にはNIPPON DENSHOKU(株)製ヘイズ測定装置MODEL 100
1DPを用いた。本発明において好ましいヘイズの値は、
入射光のアパーチャが10mmのもとで0〜20%であ
り、さらに好ましくは0〜15%、特に好ましくは0〜
10%である。In the image recording medium of the present invention, haze can be reduced and abrasion resistance can be improved by setting the binder amount of the protective layer to the above-mentioned amount. The haze is represented by the degree of diffusion of a light beam incident on an image recording medium, and its value is expressed as a percentage of the ratio between the amount of diffuse transmitted light and the total amount of transmitted light. To measure haze, use a haze measuring device MODEL 100 manufactured by NIPPON DENSHOKU Co., Ltd.
1DP was used. The preferred haze value in the present invention is
The aperture of the incident light is 0 to 20% under 10 mm, more preferably 0 to 15%, particularly preferably 0 to 15%.
10%.
【0147】本発明の画像記録媒体は、様々の画像記録
用途に応用できるが、印刷製版分野における好ましい用
途としては、製版過程においてUVマスクフィルムとし
て用いられる。その場合には、取り扱い上、擦り傷に対
する耐性が必要とされる。擦り傷耐性の評価尺度として
は、通常引掻き強度が用いられており、本明細書におい
てもこれを用いている。本発明でいう太針引掻き強度と
は、円錐頂角が90度で、先端の直径が0.1mmのサファイ
ヤ針を用いて保護層の表面を引掻き、画像記録層の傷跡
が、目視で連続して認められた時の荷重(g)を意味す
る。同様に本発明でいう細針引掻き強度は、円錐頂角が
90度で、先端の直径が0.01mmのダイヤ針を用いて保護層
の表面を引掻き、画像記録層の傷跡が、目視で連続して
認められた時の荷重(g)を意味する。The image recording medium of the present invention can be applied to various image recording applications, but is preferably used as a UV mask film in the plate making process in the field of printing plate making. In this case, handling requires abrasion resistance. As an evaluation scale of abrasion resistance, a scratch strength is usually used, and this is also used in the present specification. The thick needle scratching strength referred to in the present invention means that the surface of the protective layer is scratched using a sapphire needle having a cone apex angle of 90 degrees and a tip diameter of 0.1 mm, and the scar of the image recording layer is continuously visually observed. It means the load (g) when it was recognized. Similarly, the fine needle scratching strength referred to in the present invention is such that the cone apex angle is
It means the load (g) when the surface of the protective layer is scratched with a diamond needle having a diameter of 90 mm at the tip of 0.01 mm and the image recording layer is visually observed continuously.
【0148】本発明の好ましい引掻き強度は太針、細針
それぞれ30〜700g、10〜300gであり、さら
に好ましくは50〜500g、15〜200gであり、
特に好ましくは70〜300g、20〜100gであ
る。The preferable scratching strength of the present invention is 30 to 700 g and 10 to 300 g, respectively, for a thick needle and a fine needle, and more preferably 50 to 500 g and 15 to 200 g.
Particularly preferably, it is 70 to 300 g and 20 to 100 g.
【0149】本発明の画像記録媒体を製版過程に用いる
UVマスクフィルムなどに応用する場合には、UV波長
領域で大きな画像濃度変化が必要とされる。この目的の
画像記録媒体としては、光照射による濃度変化が大きい
ものが好ましく、好ましい濃度変化は、3.0〜20.
0、より好ましくは3.5から15.0、特に好ましく
は4.0から10.0である。When the image recording medium of the present invention is applied to a UV mask film used in a plate making process, a large change in image density in the UV wavelength region is required. As the image recording medium for this purpose, a medium having a large change in density due to light irradiation is preferable.
0, more preferably 3.5 to 15.0, particularly preferably 4.0 to 10.0.
【0150】本発明の画像記録媒体には、保護層のほか
に支持体の裏面にバック層を設けてもよいし、画像記録
層と支持体との間に単層あるいは複数層の顔料あるいは
樹脂からなる下塗り層を設けることもできる。支持体に
隣接するバック層又は下塗り層中には、ゴミ付着を減少
させるために金属酸化物を含有させることが好ましく、
バック層及び下塗り層(支持体の両面に設けられるも
の)のうちの少なくとも1層を導電性とすることが好ま
しい。ここで用いられる金属酸化物は、特開昭61−2
0033号及び同6−82504号公報に記されている
ものがとくに好ましい。In the image recording medium of the present invention, a back layer may be provided on the back surface of the support in addition to the protective layer, and a single layer or a plurality of layers of pigment or resin may be provided between the image recording layer and the support. May be provided. The back layer or undercoat layer adjacent to the support preferably contains a metal oxide to reduce dust adhesion,
It is preferable that at least one of the back layer and the undercoat layer (provided on both surfaces of the support) be conductive. The metal oxide used here is described in JP-A-61-2.
Those described in JP-A-0033 and JP-A-6-82504 are particularly preferred.
【0151】これらの導電性金属酸化物の使用量は、画
像記録材料1m2当たり0.05〜20gが好ましく、特
に0.1〜10gが好ましい。金属酸化物含有層の表面
抵抗率は25℃25%RHの雰囲気下で1012Ω以下
で、好ましくは1011Ω以下がよい。これにより良好な
帯電防止性が得られる。このときの表面抵抗率の下限は
特に制限されないが、通常107Ω程度である。The amount of the conductive metal oxide to be used is preferably 0.05 to 20 g, more preferably 0.1 to 10 g, per m 2 of the image recording material. The surface resistivity of the metal oxide-containing layer is 10 12 Ω or less, preferably 10 11 Ω or less in an atmosphere of 25 ° C. and 25% RH. Thereby, good antistatic properties can be obtained. The lower limit of the surface resistivity at this time is not particularly limited, but is usually about 10 7 Ω.
【0152】それぞれの層は擦り傷耐性などを改良する
目的で架橋を行うことができる。架橋方式としては従来
公知の方法を使用することができるが、画像形成反応に
影響を与えない方法として特願平2000−65209
号記載の方法が好ましく使用できる。Each layer can be crosslinked for the purpose of improving abrasion resistance and the like. As the crosslinking method, a conventionally known method can be used, but as a method that does not affect the image forming reaction, Japanese Patent Application No. 2000-65209 is disclosed.
The method described in (1) can be preferably used.
【0153】本発明の画像記録媒体は支持体上に画像記
録層塗布液および保護層塗布液を塗布して製造すること
が好ましい。塗布方法としては、カーテンコーティン
グ、ロールコーティング、ディップコーティング、スピ
ンコーティング、印刷コーティング、スプレーコーティ
ング、スライドコーティング、ブレードコーティングお
よびスロットコーティングをあげることができる。本発
明の画像記録層がすべて低分子化合物である場合、蒸着
法も使用することができる。本発明では連続塗布が好ま
しく、従ってカーテンコーティング、スロットコーティ
ング、ロールコーティングおよびスライドコーティング
が好ましい塗布方法として挙げられる。The image recording medium of the present invention is preferably produced by coating a coating solution for an image recording layer and a coating solution for a protective layer on a support. Examples of the application method include curtain coating, roll coating, dip coating, spin coating, print coating, spray coating, slide coating, blade coating, and slot coating. When all the image recording layers of the present invention are low molecular compounds, a vapor deposition method can also be used. In the present invention, continuous coating is preferred, and thus curtain coating, slot coating, roll coating and slide coating are mentioned as preferred coating methods.
【0154】本発明の画像記録層塗布液は、酸発生剤、
300〜900nmの吸収域に濃度変化を生じる化合
物、バインダーなどを所望の化合物を塗布溶媒に溶解ま
たは分散して作製される。塗布溶媒としては水系もしく
は有機溶媒のいずれも好ましく選択できる。ここでいう
水系溶媒とは、水単独もしくは水混和性有機溶媒と水と
の混合物のいずれでもよい。本発明の画像記録層に使用
される化合物は水不溶性の場合が多く、それらを水分散
物として用いる場合以外は、塗布溶媒としては有機溶媒
が好ましく用いられる。有機溶媒としては、例えば酢酸
エチル、メタノール、エタノール、1ープロパノール、
2ープロパノール、1ーブタノール、アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジオキサン、
N,Nージメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセ
トアミド、ベンゼン、トルエン、アセトニトリル、塩化
メチレン、クロロホルム、ジクロロエタンのような種々
の有機溶剤を単独あるいは2種以上の混合物として用い
ることができる。The image recording layer coating solution of the present invention comprises an acid generator,
It is prepared by dissolving or dispersing a desired compound, such as a compound or a binder, which changes the concentration in the absorption region of 300 to 900 nm in a coating solvent. As the coating solvent, either an aqueous solvent or an organic solvent can be preferably selected. The aqueous solvent here may be either water alone or a mixture of water-miscible organic solvent and water. The compounds used in the image recording layer of the present invention are often insoluble in water, and organic solvents are preferably used as coating solvents except when they are used as aqueous dispersions. Examples of the organic solvent include ethyl acetate, methanol, ethanol, 1-propanol,
2-propanol, 1-butanol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, dioxane,
Various organic solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, benzene, toluene, acetonitrile, methylene chloride, chloroform and dichloroethane can be used alone or as a mixture of two or more.
【0155】本発明の保護層塗布液はバインダー、マッ
ト剤、スベリ剤など所望の化合物を塗布溶媒に溶解また
は分散して作成される。保護層塗布液の塗布溶媒として
は水系および有機溶媒のいずれも使用できるが、本発明
の画像記録媒体に使用される360〜900nmの吸収
域に濃度変化を生じる化合物が低分子化合物である場合
や赤外吸収色素などの低分子化合物を画像記録層に用い
る場合、それらの低分子化合物の保護層塗布液に対する
溶解性が高いと保護層へ拡散し、結果として画像記録媒
体の感度が低下する場合があり、注意が必要である。こ
の場合の保護層塗布液は、低分子化合物の溶解性の低い
溶媒が選択されることが好ましい。本発明の画像記録媒
体に使用される360〜900nmの吸収域に濃度変化
を生じる低分子化合物や赤外吸収色素などの低分子化合
物は水難溶性の化合物が多く、この場合の保護層塗布液
としては水系溶媒、アルコール系溶媒が好ましく用いら
れる。ここでいう水系溶媒とは、水単独もしくは水混和
性有機溶媒と水との混合物のいずれかを表し、アルコー
ル系溶媒は、メタノール、エタノール、1ープロパノー
ル、2ープロパノール、1ーブタノールなどのアルコー
ル単独もしくは2種以上のアルコールの混合物もしくは
他の有機溶媒との混合物を表す。The coating solution for the protective layer of the present invention is prepared by dissolving or dispersing a desired compound such as a binder, a matting agent and a sliding agent in a coating solvent. As a coating solvent for the protective layer coating solution, any of an aqueous solvent and an organic solvent can be used. However, when the compound that changes the concentration in the absorption region of 360 to 900 nm used in the image recording medium of the present invention is a low molecular compound, When low molecular compounds such as infrared absorbing dyes are used in the image recording layer, if the low molecular compounds have high solubility in the protective layer coating solution, they diffuse into the protective layer, resulting in a decrease in the sensitivity of the image recording medium. There is a need to be careful. In this case, it is preferable that a solvent having low solubility for the low-molecular compound is selected as the coating solution for the protective layer. Low molecular compounds such as low molecular compounds and infrared absorbing dyes that cause a change in concentration in the absorption region of 360 to 900 nm used in the image recording medium of the present invention are mostly poorly water-soluble compounds, and as a protective layer coating solution in this case, Preferably, an aqueous solvent or an alcohol solvent is used. The term "aqueous solvent" as used herein means either water alone or a mixture of a water-miscible organic solvent and water. The alcohol-based solvent refers to an alcohol alone such as methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, or 1-butanol. It represents a mixture of one or more alcohols or a mixture with another organic solvent.
【0156】また、本発明の画像記録層、保護層塗布液
は塗布性改良のために界面活性剤などを添加してもよ
い。その他、感熱記録材料における種々の公知技術を用
いることもできる。Further, the coating solution for the image recording layer and the protective layer of the present invention may contain a surfactant or the like for improving coating properties. In addition, various known techniques for heat-sensitive recording materials can be used.
【0157】本発明においては画像記録媒体の搬送時、
巻き取り時、巻き取り後の保存時などの耐接着性を改良
する目的でマット剤を使用することができる。マット剤
を使用することで画像記録媒体の表面平滑性を調節する
ことが可能であり、該表面平滑性はベック平滑度で定義
される場合がある。ベック平滑度は、日本工業規格(J
IS)P8119「紙および板紙のベック試験器による
平滑度試験方法」およびTAPPI標準法T479に規
定された試験器と試験方法より容易に求めることができ
る。In the present invention, when the image recording medium is transported,
A matting agent can be used for the purpose of improving the adhesive resistance during winding and storage after winding. By using a matting agent, it is possible to adjust the surface smoothness of the image recording medium, and the surface smoothness may be defined by Beck smoothness. Beck smoothness is measured according to Japanese Industrial Standards (J
IS) P8119 “Smoothness test method for paper and paperboard using Beck tester” and the tester and test method specified in TAPPI Standard Method T479.
【0158】本発明の画像記録媒体の画像記録層を有す
る面およびその反対面の最外層表面の少なくとも一方、
好ましくは両方のベック平滑度は0〜4000秒であ
り、より好ましくは0〜2000秒である。At least one of the surface having the image recording layer of the image recording medium of the present invention and the surface of the outermost layer opposite to the surface,
Preferably both Beck smoothness are between 0 and 4000 seconds, more preferably between 0 and 2000 seconds.
【0159】画像記録媒体の画像記録層を有する面およ
びその反対面の最外層表面のベック平滑度は、添加する
マット剤の平均粒径および添加量を種々変化させること
によって調節することができる。本発明に用いられるマ
ット剤は、画像形成媒体の諸特性に悪影響を及ぼさない
固体微粒子であれば、どのようなものでもよい。無機系
のマット剤としては、二酸化ケイ素、チタンおよびアル
ミニウムの酸化物、亜鉛およびカルシウムの炭酸塩、バ
リウムおよびカルシウムの硫酸塩、カルシウムおよびア
ルミニウムのケイ酸塩など、有機系のマット剤として
は、セルロースエステル類、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリスチレンまたはポリジビニルベンゼンおよびこ
れらのコポリマーなどの有機重合体のマット剤が挙げら
れる。マット剤は画像形成層を有する面においては支持
体から最も離れた最外層となる保護層に含有させること
が好ましく、その反対側においては最外層でないバック
層に含有させることが好ましい。The Beck smoothness of the surface of the image recording medium having the image recording layer and the surface of the outermost layer opposite to the surface can be adjusted by variously changing the average particle size and the amount of the matting agent to be added. The matting agent used in the present invention may be any solid fine particles which do not adversely affect the properties of the image forming medium. Examples of inorganic matting agents include silicon dioxide, oxides of titanium and aluminum, carbonates of zinc and calcium, sulfates of barium and calcium, and silicates of calcium and aluminum. Examples include matting agents for organic polymers such as esters, polymethyl methacrylate, polystyrene or polydivinylbenzene and copolymers thereof. The matting agent is preferably contained in the protective layer which is the outermost layer farthest from the support on the surface having the image forming layer, and is preferably contained in the back layer which is not the outermost layer on the opposite side.
【0160】本発明において好ましいマット剤の平均粒
径は、1〜20μm の範囲である。本発明において好ま
しいマット剤の添加量は、5〜400mg/m2、特に10
〜200mg/m2の範囲である。The preferred average particle size of the matting agent in the present invention is in the range of 1 to 20 μm. In the present invention, the preferable addition amount of the matting agent is 5 to 400 mg / m 2, particularly 10 to 400 mg / m 2.
200200 mg / m2.
【0161】本発明では、特開平3-109542号公報2頁左
下欄8行目〜3頁右上欄4行目に記載された多孔性のマ
ット剤、特開平4-127142号公報3頁右上欄7行目〜5頁
右下欄4行に記載されたアルカリで表面修飾したマット
剤、特開平6-118542号公報の段落番号「0005」〜
「0026」に記載された有機重合体のマット剤を用い
ることがより好ましい。In the present invention, the porous matting agent described on page 2, lower left column, line 8 to page 3, upper right column, line 4 of JP-A-3-109542, the page 3, upper right column of JP-A-4-127142 is disclosed. A matting agent surface-modified with an alkali described in line 7 to page 5, lower right column, line 4, paragraph number "0005" of JP-A-6-118542
More preferably, an organic polymer matting agent described in "0026" is used.
【0162】また、これらのマット剤を2種以上併用し
てもよい。例えば、無機系のマット剤と有機系のマット
剤の併用、多孔性のマット剤と非多孔性のマット剤の併
用、不定形のマット剤と球形のマット剤の併用、平均粒
径の異なるマット剤の併用(例えば特開平6-118542号に
記載されている平均粒径が1.5μm 以上のマット剤と
平均粒径が1μm 以下のマット剤の併用)などがある。In addition, two or more of these matting agents may be used in combination. For example, a combination of an inorganic matting agent and an organic matting agent, a combination of a porous matting agent and a non-porous matting agent, a combination of an amorphous matting agent and a spherical matting agent, mats having different average particle sizes. (For example, a matting agent having an average particle diameter of 1.5 μm or more and a matting agent having an average particle diameter of 1 μm or less described in JP-A-6-118542).
【0163】また本発明では粒径分布の狭い、いわゆる
単分散マット剤も好ましく使用できる。このような単分
散マット剤は耐接着性改良効果の少ない微細粒子と画像
濃度低下などの問題の原因となる粗大粒子の含量が低
く、耐接着性と透明性を両立するのに有利である。本発
明に使用できる好ましい単分散マット剤の例としてはリ
サーチディスクロージャー21617号、No.216
(1982)、特公平5−59924号、英国特許81
35262号、特開昭61−230141号、欧州特許
610,522号、欧州特許618,490号、特開平
8−278587号などに記載されている。In the present invention, a so-called monodisperse matting agent having a narrow particle size distribution can be preferably used. Such a monodisperse matting agent has a low content of fine particles having little effect of improving the adhesion resistance and coarse particles causing a problem such as a decrease in image density, and is advantageous for achieving both adhesion resistance and transparency. Examples of preferred monodisperse matting agents that can be used in the present invention include Research Disclosure No. 21617, no. 216
(1982), Japanese Patent Publication No. 5-59924, UK Patent 81
No. 35262, JP-A-61-230141, EP 610,522, EP 618,490, JP-A-8-278587 and the like.
【0164】本発明においては画像記録層を有する面お
よび/またはその反対面の最表面層に滑り剤を含有させ
ることが好ましい。In the present invention, it is preferable that a slip agent is contained in the surface having the image recording layer and / or the outermost surface layer opposite to the surface.
【0165】本発明における滑り剤には、特に制限はな
く物体表面に存在させた時に、存在させない場合に比べ
て物体表面の摩擦係数を減少させる化合物であればいず
れでもよい。The slip agent in the present invention is not particularly limited, and any compound may be used as long as it reduces the friction coefficient of the surface of the object when it is present on the surface of the object as compared with the case where it is not present.
【0166】本発明に用いられる滑り剤の代表的なもの
としては、例えば米国特許第3,042,522号、英国特許第9
55,061号、米国特許第3,080,317号、同第4,004,927号、
同第4,047,958号、同第3,489,567号、英国特許第1,143,
118号などの各公報に記載のシリコーン系滑り剤、米国
特許2,454,043号、同第2,732,305号、同第2,976,148
号、同第3,206,311号、独国特許第1,284,295号、同第1,
284,294号などの各公報に記載の高級脂肪酸系、アルコ
ール系、酸アミド系の各滑り剤、英国特許第1,263,722
号、米国特許第3,933,516号などの公報に記載の金属石
けん、米国特許第2,588,765号、同第3,121,060号、英国
特許第1,198,387号などの各公報に記載のエステル系及
びエーテル系の滑り剤、米国特許第3,502,473号及び同
第3,042,222号に記載のタウリン系滑り剤などがある。Representative examples of the slip agent used in the present invention include, for example, US Pat. No. 3,042,522 and British Patent No. 9
No. 55,061, U.S. Pat.Nos. 3,080,317, 4,004,927,
No. 4,047,958, No. 3,489,567, British Patent No. 1,143,
No. 118, and other silicone-based slip agents described in U.S. Pat.Nos. 2,454,043, 2,732,305, and 2,976,148
No. 3,206,311; German Patent No. 1,284,295;
Higher fatty acid-based, alcohol-based, and acid amide-based slip agents described in each publication such as 284,294, UK Patent No. 1,263,722
No. 3,933,516, metal soaps described in publications such as U.S. Pat.No. 3,933,516, U.S. Pat.Nos. 2,588,765, 3,121,060, and ester-based and ether-based slip agents described in each publication such as British Patent 1,198,387, U.S. Pat. No. 3,502,473 and No. 3,042,222.
【0167】好ましく用いられる滑り剤の具体例として
は、セロゾール524(主成分カルナバワックス)、ポ
リロンA−393,H−481(主成分ポリエチレンワ
ックス)、ハイミクロンG−110(主成分エチレンビ
スステアリン酸アマイド)、ハイミクロンG−270
(主成分ステアリン酸アマイド)(以上、中京油脂
(株)製)などがある。また、高級脂肪酸およびその誘
導体、高級アルコールおよびその誘導体も好ましく、具
体的には特開平8−272039記載の化合物を好まし
く使用できる。Specific examples of preferably used slip agents include Cellolsol 524 (main component carnauba wax), Polylon A-393, H-481 (main component polyethylene wax), and Himicron G-110 (main component ethylene bisstearic acid). Amide), High Micron G-270
(Main component stearic acid amide) (all manufactured by Chukyo Yushi Co., Ltd.). Further, higher fatty acids and derivatives thereof, and higher alcohols and derivatives thereof are also preferable. Specifically, compounds described in JP-A-8-272039 can be preferably used.
【0168】滑り剤の使用量は特に限定はないが1〜5
00mg/m2が好ましく、より好ましくは10〜30
0mg/m2である。The amount of the slipping agent is not particularly limited, but may be from 1 to 5
00 mg / m 2 , more preferably 10 to 30 mg / m 2.
0 mg / m 2 .
【0169】本発明においては必要に応じて、画像記録
層を有する面および/またはその反対面のいずれの層に
も可塑剤を添加することができる。In the present invention, a plasticizer can be added to the surface having the image recording layer and / or the opposite surface, if necessary.
【0170】本発明に使用できる可塑剤には、特に制限
はなく、添加した層の膜の脆化温度を低下させることが
できるものであればいずれでもよく、一般的には常圧で
の沸点が190℃以上となるような高沸点有機溶剤が好
ましく用いられる。そのような化合物としてはカルボン
酸エステル類、リン酸エステル類、カルボン酸アミド
類、エーテル類、フェノール類、アルコール類、置換炭
化水素類などが挙げられ、「高分子ラテックスの化学
(室井宗一著、高分子刊行会発行(1970))」などに記載さ
れている可塑剤も好ましく用いることができる。The plasticizer that can be used in the present invention is not particularly limited as long as it can lower the embrittlement temperature of the film of the layer to which the plasticizer has been added. Is a high-boiling organic solvent having a temperature of 190 ° C. or higher. Such compounds include carboxylic esters, phosphoric esters, carboxylic amides, ethers, phenols, alcohols, substituted hydrocarbons, and the like.
(Souichi Muroi, published by Kobunshi Kankokai (1970)) and the like can also be preferably used.
【0171】好ましく用いられる可塑剤の具体例として
は、フタル酸ジ−n−ブチル、フタル酸ジイソオクチ
ル、フタル酸ジシクロヘキシル、フタル酸ジメトキシエ
チル、アジピン酸ジ−n−ブチル、クエン酸トリ−n−
ブチル、セバシン酸ジ−n−ブチル、リン酸トリシクロ
ヘキシル、リン酸トリクレジル、リン酸トリ−n−ブチ
ル、リン酸トリイソオクチル、N,N−ジエチルカプリ
ル酸アミド、N,N−ジメチルパルミチン酸アミド、n
−ブチルー(m−ペンタデシル)フェニルエーテル、エ
チルー(2,4−ジーtert−ブチル)フェニルエー
テル、2,5−ジーtert−アミルフェノール、トリ
エチレングリコールジー2−エチルブチレート、CS−
12(チッソ(株)製)などが挙げられる。Specific examples of the plasticizer preferably used include di-n-butyl phthalate, diisooctyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, dimethoxyethyl phthalate, di-n-butyl adipate and tri-n-citrate.
Butyl, di-n-butyl sebacate, tricyclohexyl phosphate, tricresyl phosphate, tri-n-butyl phosphate, triisooctyl phosphate, N, N-diethylcaprylic amide, N, N-dimethylpalmitic amide , N
-Butyl- (m-pentadecyl) phenyl ether, ethyl- (2,4-di-tert-butyl) phenyl ether, 2,5-di-tert-amylphenol, triethylene glycol di-2-ethyl butyrate, CS-
12 (manufactured by Chisso Corporation) and the like.
【0172】可塑剤の好ましい使用量は添加層のバイン
ダー量の0.1〜50質量%であり、より好ましくは
0.5〜30質量%である。The amount of the plasticizer is preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.5 to 30% by mass, based on the amount of the binder in the additive layer.
【0173】本発明では、該画像記録媒体の保存安定性
を高める目的で少量の塩基を添加したり、感度を高める
目的で光または熱の作用によって酸を発生する化合物を
別途添加したり、必要に応じて顔料、酸化防止剤、ステ
ィッキング防止剤など種々の添加剤を添加することもで
きる。その他、感熱記録材料における種々の公知技術を
用いることもできる。In the present invention, a small amount of a base may be added for the purpose of enhancing the storage stability of the image recording medium, or a compound capable of generating an acid by the action of light or heat may be added for the purpose of enhancing the sensitivity. Various additives such as a pigment, an antioxidant, and an anti-sticking agent can be added according to the requirements. In addition, various known techniques for heat-sensitive recording materials can be used.
【0174】塩基を添加する場合には、有機塩基が好ま
しく、例えばグアニジン誘導体(例えば1,3−ジフェ
ニルグアニジン、1,3−ジメチルグアニジン、1,3
−ジブチルグアニジン、1ーベンジルグアニジン、1,
1,3,3−テトラメチルグアニジンなど)、アニリン
誘導体(例えばアニリン、p−t−ブチルアニリン、
N,N’−ジメチルアニリン、N,N’−ジブチルアニ
リン、トリフェニルアミンなど)、アルキルアミン誘導
体(例えばトリブチルアミン、オクチルアミン、ラウリ
ルアミン、ベンジルアミン、ジベンジルアミンなど)、
およびヘテロ環化合物(例えばN,N’−ジメチルアミ
ノピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−
7−ウンデセン、トリフェニルイミダゾール、ルチジ
ン、2ーピコリンなど)が好ましい例として挙げられ
る。これらの塩基は、酸発生に対して1〜50mol%
添加することが好ましく、特に好ましくは5〜20mo
l%添加される。When a base is added, an organic base is preferable, and for example, a guanidine derivative (for example, 1,3-diphenylguanidine, 1,3-dimethylguanidine, 1,3
-Dibutylguanidine, 1-benzylguanidine, 1,
1,3,3-tetramethylguanidine, etc.), aniline derivatives (for example, aniline, pt-butylaniline,
N, N′-dimethylaniline, N, N′-dibutylaniline, triphenylamine, etc.), alkylamine derivatives (eg, tributylamine, octylamine, laurylamine, benzylamine, dibenzylamine, etc.),
And heterocyclic compounds (for example, N, N'-dimethylaminopyridine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0]-
7-undecene, triphenylimidazole, lutidine, 2-picoline, etc.) are preferred examples. These bases are used in an amount of 1 to 50 mol% with respect to the acid generation.
It is preferred to add, particularly preferably 5 to 20 mo
1% is added.
【0175】顔料を添加する場合には、ケイソウ土、タ
ルク、カオリン、焼成カオリン、酸化チタン、酸化ケイ
素、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、水酸化アルミ
ニウム、尿素ーホルマリン樹脂などが例として挙げられ
る。When a pigment is added, examples include diatomaceous earth, talc, kaolin, calcined kaolin, titanium oxide, silicon oxide, magnesium carbonate, calcium carbonate, aluminum hydroxide, and urea-formalin resin.
【0176】その他の添加剤としては、ベンゾフェノン
構造、ベンゾトリアゾール構造などを分子中に含む紫外
線吸収剤、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム
などの高級脂肪酸金属塩からなるヘッド摩耗およびステ
ィッキング防止剤、パラフィン、酸化パラフィン、ポリ
エチレン、酸化ポリエチレン、カスターワックスなどの
ワックス類などが挙げられ、必要に応じて添加すること
ができる。Other additives include an ultraviolet absorber containing a benzophenone structure, a benzotriazole structure and the like in the molecule, a head wear and sticking inhibitor comprising a metal salt of a higher fatty acid such as zinc stearate and calcium stearate, paraffin, oxidizing agent and the like. Examples include waxes such as paraffin, polyethylene, polyethylene oxide, and caster wax, and these can be added as necessary.
【0177】本発明の画像記録媒体に用いられる支持体
としては、上質紙、バライタ紙、コート紙、キャストコ
ート紙、合成紙などの紙類、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−
2,6−ナフチレンジカルボキシレ−ト、ポリアリーレ
ン、ポリイミド、ポリカーボネート、トリアセチルセル
ロースなどのポリマーフィルム、ガラス、金属箔、不織
布などを挙げることができる。本発明の画像記録媒体を
利用して透過型の画像、例えばOHP用フィルムや製版
用フィルムなどの用途に供する場合には、透明な支持体
が用いられる。また、製版フィルム用には、熱膨張率が
小さく寸度安定性が良好で、かつ、PS版の感光域に吸
収を持たない支持体が選ばれる。このような支持体とし
て二軸延伸したポリエステル、特にポリエチレンテレフ
タレート(PET)は強度、寸法安定性、耐薬品性など
の観点から好ましい。支持体の厚みには特に制限はない
が、製版材料用UVマスクフィルムとして用いる場合、
80〜180μmが好ましい。As the support used in the image recording medium of the present invention, paper such as high quality paper, baryta paper, coated paper, cast coated paper, synthetic paper, polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, polyethylene
Examples thereof include polymer films such as 2,6-naphthylenedicarboxylate, polyarylene, polyimide, polycarbonate, and triacetylcellulose, glass, metal foil, and nonwoven fabric. When the image recording medium of the present invention is used for a transmission type image, for example, a film for OHP or a film for plate making, a transparent support is used. For a plate making film, a support having a small coefficient of thermal expansion and good dimensional stability and having no absorption in the photosensitive region of the PS plate is selected. As such a support, biaxially stretched polyester, particularly polyethylene terephthalate (PET), is preferable from the viewpoint of strength, dimensional stability, chemical resistance and the like. The thickness of the support is not particularly limited, but when used as a UV mask film for a plate making material,
80 to 180 μm is preferred.
【0178】本発明の画像記録媒体に用いる支持体は、
二軸延伸時にフィルム中に残存する内部歪みを緩和さ
せ、熱収縮歪みを無くすために、130〜210℃の温
度範囲で熱処理を必要に応じて施すことができる。この
場合、ポリエステル、特にポリエチレンテレフタレート
が好ましく用いられる。このような熱緩和処理は、上記
温度範囲内の一定温度で実施してもよく、昇温しながら
実施してもよい。The support used in the image recording medium of the present invention is
In order to alleviate the internal strain remaining in the film at the time of biaxial stretching and eliminate the heat shrinkage strain, heat treatment can be performed at a temperature in the range of 130 to 210 ° C. as necessary. In this case, polyester, especially polyethylene terephthalate is preferably used. Such a thermal relaxation treatment may be performed at a constant temperature within the above temperature range, or may be performed while raising the temperature.
【0179】支持体の熱処理はロール状で実施してもよ
く、ウエッブ状で搬送しながら実施してもよい。ウエッ
ブ状で搬送しながら実施する場合、熱処理時の支持体の
搬送張力を7kg/cm2以下、特に4.2kg/cm2以下にす
ることが好ましい。このときの搬送張力の下限には特に
制限はないが0.5kg/cm2程度である。The heat treatment of the support may be performed in the form of a roll, or may be performed while transporting the support in the form of a web. In the case where the transfer is carried out in the form of a web, the transfer tension of the support during the heat treatment is preferably 7 kg / cm 2 or less, particularly preferably 4.2 kg / cm 2 or less. The lower limit of the transport tension at this time is not particularly limited, but is about 0.5 kg / cm2.
【0180】このような熱処理は、支持体に対する画像
形成層やバック層の接着性を向上させるための処理、例
えば下塗り層の設層などを施した後に行うことが好まし
い。Such heat treatment is preferably performed after a treatment for improving the adhesiveness of the image forming layer and the back layer to the support, for example, after providing an undercoat layer.
【0181】このような熱処理後における支持体の12
0℃30秒加熱による熱収縮率は縦方向(MD)が−
0.03%〜+0.01%、横方向(TD)が0〜0.
04%であることが好ましい。After the heat treatment, the support 12
The heat shrinkage by heating at 0 ° C for 30 seconds is-
0.03% to + 0.01%, lateral direction (TD) is 0 to 0.
Preferably, it is 04%.
【0182】支持体は画像記録層の各構成層とよく接着
させるために表面処理を施したり、下塗り層を設けたり
することができる。表面処理の方法としては、薬品処
理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線処
理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、
レーザー処理、混酸処理、オゾン酸化処理、などの表面
活性化処理が挙げられる。表面処理の中でも好ましいの
は、紫外線照射処理、火焔処理、コロナ処理、グロー処
理である。下塗り層としては、特に制限はないがSB
R、塩化ビニリデン、ポリエステル、ゼラチンなどをバ
インダーとする下塗り層を好ましく用いることができ
る。下塗り層は多層構成としてもよく、また支持体に対
して片面または両面に設けてもよく、これら下塗り層の
少なくとも一層を導電層とすることができる。下塗り層
の一般的厚みは0.01〜5μm 、より好ましくは0.
05〜1μm であってよく、導電層とするときの厚みは
0.01〜1μm 、より好ましくは0.03〜0.8μ
m である。The support may be subjected to a surface treatment for providing good adhesion to the constituent layers of the image recording layer, or may be provided with an undercoat layer. Surface treatment methods include chemical treatment, mechanical treatment, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment,
Surface activation treatments such as laser treatment, mixed acid treatment, ozone oxidation treatment and the like can be mentioned. Among the surface treatments, ultraviolet irradiation treatment, flame treatment, corona treatment, and glow treatment are preferable. The undercoat layer is not particularly limited, but may be SB.
An undercoat layer using R, vinylidene chloride, polyester, gelatin or the like as a binder can be preferably used. The undercoat layer may have a multi-layer structure, or may be provided on one side or both sides of the support. At least one of these undercoat layers can be a conductive layer. The general thickness of the undercoat layer is 0.01 to 5 μm, more preferably 0.1 to 5 μm.
The conductive layer may have a thickness of 0.01 to 1 μm, more preferably 0.03 to 0.8 μm.
m.
【0183】以下に本発明の化合物の合成法を示すが、
本発明はこれらに限定されるものではない。 (合成例1) 例示化合物(A−1)の合成The method for synthesizing the compound of the present invention is shown below.
The present invention is not limited to these. (Synthesis Example 1) Synthesis of Exemplified Compound (A-1)
【0184】[0184]
【化 62】 [Formula 62]
【0185】1b(100mmol)をN、N−ジメチルア
セトアミド(50ml)中に溶かし、反応器を7℃に冷
却した。そこに1a(100mmol)を10分かけて滴下
し、その後6時間反応させた。酢酸エチル(200m
l)と水(200ml)を加えて攪拌した後、水層を分
離した。更に有機層を1mol/lの塩酸水(100m
l)で3回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥、濃縮し
た。得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(溶出液:酢酸エチル/ヘキサン=1/4→1/
1)にて精製し、1cを61%の収率で得た。次に1d
(50mmol)をピリジン(30ml)に溶かし、7℃に
冷却した。そこに1c(50mmol)を加え、8時間攪拌
した。その後、水(3ml)を加え30分攪拌した後、
酢酸エチル(100ml)と水(200ml)を加えて
攪拌、水層を分離した。更に有機層を1mol/lの塩酸
水(100ml)で3回洗浄し、硫酸マグネシウム上で
乾燥、濃縮した。得られた油状物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(溶出液:酢酸エチル/ヘキサン=1
/4→1/1)にて精製し、例示化合物(A−1)をci
s体とtrans体の混合物として72%の収率で得た。また
cis体とtrans体はシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(溶出液:酢酸エチル/ヘキサン=1/4→1/1)で
分離可能であり、それらを分離して各々の分解温度を調
べたところ、cis体は192℃、trans体は184℃であ
った。1b (100 mmol) was dissolved in N, N-dimethylacetamide (50 ml) and the reactor was cooled to 7 ° C. There, 1a (100 mmol) was added dropwise over 10 minutes, and the mixture was reacted for 6 hours. Ethyl acetate (200m
1) and water (200 ml) were added and stirred, and then the aqueous layer was separated. Further, the organic layer was washed with 1 mol / l hydrochloric acid aqueous solution (100 m
Washed 3 times with 1), dried over magnesium sulfate and concentrated. The obtained oil is subjected to silica gel column chromatography (eluent: ethyl acetate / hexane = 1/4 → 1 /
Purification was performed in 1) to obtain 1c in a yield of 61%. Then 1d
(50 mmol) was dissolved in pyridine (30 ml) and cooled to 7 ° C. 1c (50 mmol) was added thereto, and the mixture was stirred for 8 hours. Then, after adding water (3 ml) and stirring for 30 minutes,
Ethyl acetate (100 ml) and water (200 ml) were added and stirred, and the aqueous layer was separated. The organic layer was further washed three times with 1 mol / l aqueous hydrochloric acid (100 ml), dried over magnesium sulfate and concentrated. The obtained oil is subjected to silica gel column chromatography (eluent: ethyl acetate / hexane = 1).
/ 4 → 1/1), and the exemplary compound (A-1) is purified by ci.
A mixture of the s-isomer and the trans-isomer was obtained in a yield of 72%. Also
The cis form and the trans form can be separated by silica gel column chromatography (eluent: ethyl acetate / hexane = 1/4 → 1/1). The temperature was 192 ° C and the trans form was 184 ° C.
【0186】(合成例2) 例示化合物(A−2)の合
成(Synthesis Example 2) Synthesis of Exemplified Compound (A-2)
【0187】[0187]
【化 63】 [Formula 63]
【0188】2a(100mmol)をピリジン(40m
l)中に溶かし、反応器を7℃に冷却した。そこに2b
(100mmol)を10分かけて滴下し、その後2時間反
応させ、その後室温で更に5時間反応させた。その後、
水(4ml)を加え30分攪拌した後、酢酸エチル(1
50ml)と水(200ml)を加えて攪拌、水層を分
離した。更に有機層を1mol/lの塩酸水(100m
l)で3回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥、濃縮し
た。得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(溶出液:酢酸エチル/クロロホルム=1/8→1
/1)にて精製し、2cを76%の収率で得た。2a (100 mmol) was converted to pyridine (40 m
1) and cooled the reactor to 7 ° C. There 2b
(100 mmol) was added dropwise over 10 minutes, and then reacted for 2 hours, and then reacted at room temperature for another 5 hours. afterwards,
After adding water (4 ml) and stirring for 30 minutes, ethyl acetate (1 ml) was added.
(50 ml) and water (200 ml) were added and stirred, and the aqueous layer was separated. Further, the organic layer was washed with 1 mol / l hydrochloric acid aqueous solution (100 m
Washed 3 times with 1), dried over magnesium sulfate and concentrated. The obtained oil is subjected to silica gel column chromatography (eluent: ethyl acetate / chloroform = 1/8 → 1).
/ 1) to give 2c in a 76% yield.
【0189】次に2c(50mmol)をN、N−ジメチル
アセトアミド(60ml)中に溶かし、反応器を7℃に
冷却した。そこに2d(50mmol)を10分かけて滴下
し、その後室温で8時間反応させた。酢酸エチル(20
0ml)と水(200ml)を加えて攪拌した後、水層
を分離した。更に有機層を1mol/lの塩酸水(100
ml)で3回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥、濃縮
した。得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(溶出液:酢酸エチル/ヘキサン=1/4→1/
1)にて精製し、例示化合物(A−2)をcis体とtrans
体の混合物として78%の収率で得た。該化合物のtran
s体の分解温度は189℃であった。Next, 2c (50 mmol) was dissolved in N, N-dimethylacetamide (60 ml), and the reactor was cooled to 7 ° C. Thereto, 2d (50 mmol) was added dropwise over 10 minutes, and then reacted at room temperature for 8 hours. Ethyl acetate (20
0 ml) and water (200 ml) were added and stirred, and then the aqueous layer was separated. Further, the organic layer was washed with 1 mol / l hydrochloric acid aqueous solution (100
ml), dried over magnesium sulfate and concentrated. The obtained oil is subjected to silica gel column chromatography (eluent: ethyl acetate / hexane = 1/4 → 1 /
The compound (A-2) was purified with cis form and trans
Obtained in 78% yield as a mixture of products. Tran of the compound
The decomposition temperature of the s-isomer was 189 ° C.
【0190】(合成例3) 例示化合物(A−3)の合
成 例示化合物(A−2)と同様の反応にて合成し、cis体
とtrans体の混合物として得た。混合物の分解温度は1
81℃であった。(Synthesis Example 3) Synthesis of Exemplified Compound (A-3) The compound was synthesized by the same reaction as that of Exemplified Compound (A-2) to obtain a mixture of a cis form and a trans form. The decomposition temperature of the mixture is 1
It was 81 ° C.
【0191】(合成例4) 例示化合物(A−22)の
合成 例示化合物(A−2)と同様の反応にて合成し、cis体
とtrans体の混合物として得た。 cis体の分解温度は1
82℃、 trans体の分解温度は173℃であった。(Synthesis Example 4) Synthesis of Exemplified Compound (A-22) The compound was synthesized by the same reaction as that of Exemplified Compound (A-2), and was obtained as a mixture of a cis form and a trans form. The decomposition temperature of cis is 1
The decomposition temperature of the trans isomer was 173 ° C.
【0192】(合成例5) 例示化合物(A−13)の
合成 例示化合物(A−2)と同様の反応にて合成し、cis体
とtrans体の混合物として得た。混合物の分解温度を測
定したが、きれいな分解ピークは得られなかった。(Synthesis Example 5) Synthesis of Exemplified Compound (A-13) The compound was synthesized by the same reaction as that of Exemplified Compound (A-2) to obtain a mixture of a cis form and a trans form. The decomposition temperature of the mixture was measured, but no clean decomposition peak was obtained.
【0193】(合成例6) 例示化合物(A−29)の
合成Synthesis Example 6 Synthesis of Exemplified Compound (A-29)
【0194】[0194]
【化64】 Embedded image
【0195】29a(100mmol)をピリジン(50m
l)中に溶かし、反応器を7℃に冷却した。そこに29
b(100mmol)を10分間かけて添加し、更に室温で
6時間反応させた。その後、水(3ml)を加え30分
攪拌した後、酢酸エチル(100ml)と水(200m
l)を加えて攪拌、水層を分離した。更に有機層を1mo
l/lの塩酸水(100ml)で3回洗浄し、硫酸マグ
ネシウム上で乾燥、濃縮した。得られた油状物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:酢酸エチル/
ヘキサン=1/5)にて精製し、例示化合物( A−2
9)を異性体の混合物として78%の収率で得た。この
ものの分解温度は145℃であった。29a (100 mmol) was converted to pyridine (50 m
1) and cooled the reactor to 7 ° C. There 29
b (100 mmol) was added over 10 minutes, and further reacted at room temperature for 6 hours. Then, water (3 ml) was added and the mixture was stirred for 30 minutes, and then ethyl acetate (100 ml) and water (200 m
l) was added and stirred, and the aqueous layer was separated. 1mo organic layer
The extract was washed three times with 1 / l aqueous hydrochloric acid (100 ml), dried over magnesium sulfate and concentrated. The obtained oil is subjected to silica gel column chromatography (eluent: ethyl acetate /
Hexane = 1/5) to give the exemplified compound (A-2
9) was obtained as a mixture of isomers in 78% yield. Its decomposition temperature was 145 ° C.
【0196】(合成例7) 例示化合物(A−35)の
合成 例示化合物( A−29)と同様の反応にて例示化合物
( A−35)を合成した。該化合物の分解温度は14
2℃であった。(Synthesis Example 7) Synthesis of Exemplified Compound (A-35) Exemplified Compound (A-35) was synthesized by the same reaction as that of Exemplified Compound (A-29). The decomposition temperature of the compound is 14
2 ° C.
【0197】(合成例8) 例示化合物(P−1)の合
成 例示化合物(A−1)(50mmol)をトルエン(22m
l)に溶かし、窒素雰囲気下40℃に加熱した。そこに
2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチル
バレロニトリル)(0.125g)のメチルエチルケト
ン(3ml)溶液を加えて2時間反応させた後、さらに
2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチル
バレロニトリル)(0.125g)のメチルエチルケト
ン(3ml)溶液を加えた。2時間反応させた後、反応
液をヘキサン(1200ml)中にあけ、析出したもの
を濾取、乾燥することにより例示化合物(P−1)を8
9%の収率で得た。質量平均分子量8.5万、分解温度
は172℃であった。(Synthesis Example 8) Synthesis of Exemplified Compound (P-1) Exemplified Compound (A-1) (50 mmol) was added to toluene (22 m
1) and heated to 40 ° C. under a nitrogen atmosphere. A solution of 2,2′-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile) (0.125 g) in methyl ethyl ketone (3 ml) was added thereto and reacted for 2 hours. A solution of 4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile) (0.125 g) in methyl ethyl ketone (3 ml) was added. After reacting for 2 hours, the reaction mixture was poured into hexane (1200 ml), and the precipitate was collected by filtration and dried to give Exemplified Compound (P-1).
Obtained in 9% yield. The weight average molecular weight was 85,000 and the decomposition temperature was 172 ° C.
【0198】(合成例9) 例示化合物(P−2)の合
成 例示化合物(P−1)と同様の反応にて合成した。質量
平均分子量12万、分解温度は187℃であった。(Synthesis Example 9) Synthesis of Exemplified Compound (P-2) The compound was synthesized by the same reaction as that of Exemplified Compound (P-1). The weight average molecular weight was 120,000 and the decomposition temperature was 187 ° C.
【0199】(合成例10) 例示化合物(P−3)の
合成 例示化合物(P−1)と同様の反応にて合成した。質量
平均分子量10万、分解温度は174℃であった。(Synthesis Example 10) Synthesis of Exemplified Compound (P-3) The compound was synthesized by the same reaction as that of Exemplified Compound (P-1). The weight average molecular weight was 100,000, and the decomposition temperature was 174 ° C.
【0200】(合成例11) 例示化合物(P−6)の
合成 A−2(7.5mmol)とB−41(2.5mmol)をトル
エン(4.4ml)とメチルエチルケトン(2ml)、
塩化メチレン(4ml)中に溶かし、窒素雰囲気下40
℃に加熱した。そこに2,2’−アゾビス(4−メトキ
シ−2,4−ジメチルバレロニトリル)(0.025
g)のメチルエチルケトン(0.6ml)溶液を加えて
2時間反応させた後、さらに2,2’−アゾビス(4−
メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)(0.0
25g)のメチルエチルケトン(0.6ml)溶液と塩
化メチレン(2ml)を加えた。2時間反応させた後、
反応液をヘキサン(400ml)中にあけ、析出したも
のを濾取、乾燥することにより例示化合物(P−6)を
53%の収率で得た。質量平均分子量4.5万であっ
た。Synthesis Example 11 Synthesis of Exemplified Compound (P-6) A-2 (7.5 mmol) and B-41 (2.5 mmol) were prepared by dissolving toluene (4.4 ml), methyl ethyl ketone (2 ml),
Dissolve in methylene chloride (4 ml) and place in a nitrogen atmosphere
Heated to ° C. There, 2,2'-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile) (0.025
g) in methyl ethyl ketone (0.6 ml), and reacted for 2 hours, followed by 2,2′-azobis (4-
Methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile) (0.0
A solution of 25 g) in methyl ethyl ketone (0.6 ml) and methylene chloride (2 ml) were added. After reacting for 2 hours,
The reaction solution was poured into hexane (400 ml), and the precipitate was collected by filtration and dried to give Exemplified Compound (P-6) at a yield of 53%. The weight average molecular weight was 45,000.
【0201】[0201]
【実施例】以下に実施例を掲げ本発明の化合物の有用性
を更に詳しく説明するが、本発明はこれらに限定される
ものではない。 <画像記録層塗布液(G−1〜2)の調製>表2に示す
組成の画像記録層塗布液(G−1〜2)を作成した。な
お、架橋剤は武田薬品工業(株)製タケネートD110N
(75%酢酸エチル溶液)、界面活性剤は大日本インキ
化学工業製メガファックF176PF(フッ素系ポリマ
ー)を固形分質量濃度3%の2−プロパノール溶液とし
て使用した。また、赤外吸収色素としてIR−1を使用
した。The following examples illustrate the usefulness of the compounds of the present invention in more detail, but the present invention is not limited thereto. <Preparation of Image Recording Layer Coating Solutions (G-1 and G-2)> Image recording layer coating solutions (G-1 and G-2) having the compositions shown in Table 2 were prepared. The crosslinking agent was Takenate D110N manufactured by Takeda Pharmaceutical Company Limited.
(75% ethyl acetate solution), and a surfactant used was Megafac F176PF (fluoropolymer) manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Ltd. as a 2-propanol solution having a solid content of 3% by mass. In addition, IR-1 was used as an infrared absorbing dye.
【0202】[0202]
【化 65】 [Formula 65]
【0203】[0203]
【表2】 [Table 2]
【0204】<保護層塗布液(PC−1〜3)の調製>
表3に示す組成の保護層塗布液(PC−1〜3)を作成
した。なお、 PC−1、2はマット剤および滑り剤を
添加したのち、高速ホモジナイザーで分散し、塗布直前
までスターラーで攪拌を継続した。マット剤は綜研化学
(株)製SX−1101(平均粒子径11μm)、可塑剤
はチッソ(株)製CS−12を使用した。界面活性剤は
大日本インキ化学工業製メガファックF176PF(フ
ッ素系ポリマー)を固形分質量濃度3%の2−プロパノ
ール溶液として使用し、滑り剤は以下に示す滑り剤Aを
固形分質量濃度5%の2−プロパノール分散物として使
用した。<Preparation of Coating Solution for Protective Layer (PC-1 to 3)>
Protective layer coating solutions (PC-1 to 3) having the compositions shown in Table 3 were prepared. After adding the matting agent and the slipping agent, PC-1 and PC-2 were dispersed with a high-speed homogenizer, and stirring was continued with a stirrer until just before coating. Matting agent is Soken Chemical
SX-1101 (average particle diameter: 11 μm) manufactured by Chisso Corporation was used as a plasticizer. The surfactant used was Megafac F176PF (fluoropolymer) manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. as a 2-propanol solution having a solid content concentration of 3%, and the following slip agent A was used as a slip agent having a solid content concentration of 5%. Used as a 2-propanol dispersion.
【0205】[0205]
【化 66】 [Formula 66]
【0206】[0206]
【化 67】 [Formula 67]
【0207】[0207]
【表3】 [Table 3]
【0208】<比較保護層塗布液(PC−4〜6)の調
製>特願2000−91994号実施例記載の保護層塗
布液および特願2000−65238号実施例記載の保
護層塗布液PC−5を記載の方法に従い調製した。それ
ぞれを比較保護層塗布液PC−4およびPC−5とし
た。(PC−4の調製:特願2000−91994)ク
ラレ株式会社製のクラレポバールPVA−110を4重
量%、日本エマルジョン社製のエマレックス710を
0.1重量%含有する水溶液を調製し、保護層の固形分
量が1.0g/m2になるように塗布した。<Preparation of Comparative Protective Layer Coating Solution (PC-4 to 6)> The protective layer coating solution described in the example of Japanese Patent Application No. 2000-91994 and the protective layer coating solution PC-Example described in the example of Japanese Patent Application No. 2000-65238. 5 was prepared according to the method described. These were used as comparative protective layer coating solutions PC-4 and PC-5, respectively. (Preparation of PC-4: Japanese Patent Application No. 2000-91994) An aqueous solution containing 4% by weight of Kuraray Povar PVA-110 manufactured by Kuraray Co., Ltd. and 0.1% by weight of Emarex 710 manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd. was prepared and protected. The coating was performed so that the solid content of the layer was 1.0 g / m2.
【0209】(PC−5の調製:特願2000−652
38)以下に示す材料をイソプロパノール/メチルエチ
ルケトン混合溶媒(70/30(vol%))に溶解し
た後、マット剤および滑り剤を添加し、高速ホモジナイ
ザーで分散し、保護層塗布液(PC−5)を得た。マッ
ト剤は富士シリシア化学製サイシリア431(合成シリ
カ:平均粒子径2.5μm)、滑り剤は中京油脂製セロ
ゾール524(主成分:カルナバワックス)、塗布助剤
は大日本インキ化学工業製メガファックF176P(フ
ッ素系ポリマー)、可塑剤はチッソ(株)製CS−12
を使用した。(Preparation of PC-5: Japanese Patent Application No. 2000-652)
38) After dissolving the following materials in a mixed solvent of isopropanol / methyl ethyl ketone (70/30 (vol%)), a matting agent and a slipping agent were added, and the mixture was dispersed with a high-speed homogenizer. I got The matting agent is Sycilia 431 manufactured by Fuji Silysia Chemical (synthetic silica: average particle diameter 2.5 μm), the slip agent is Cellosol 524 (main component: carnauba wax) manufactured by Chukyo Yushi, and the coating aid is Megafac F176P manufactured by Dainippon Ink and Chemicals. (Fluoropolymer), plasticizer is CS-12 manufactured by Chisso Corporation
It was used.
【0210】 PC−5 バインダー(エチルメタクリレート/2−ヒドロキシエチルメタクリレート (6/4質量比)共重合体) 1.5g/m2 マット剤 60mg/m2 滑り剤 0.2g/m2 塗布助剤 6.9mg/m2 可塑剤 0.3g/m2 PC-5 binder (ethyl methacrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate (6/4 mass ratio) copolymer) 1.5 g / m 2 matting agent 60 mg / m 2 slipping agent 0.2 g / m 2 coating aid 6.9 mg / m 2 plasticizer 0.3 g / m 2
【0211】(PC−6の調製:特願2000−652
38)以下に示す材料を水分散液として調製後、30分
攪拌し、保護層塗布液(PC−6)を得た。ラテックス
はダイセル化学工業(株)製AS563A、含フッ素界
面活性剤は、大日本インキ化学工業製メガファックF1
20、マット剤は綜研化学(株)製SX−713、滑り
剤は中京油脂製セロゾール524(主成分:カルナバワ
ックス)、ポリビニルアルコールは、クラレ(株)製ク
ラレポバールPVA−235を使用した。(Preparation of PC-6: Japanese Patent Application No. 2000-652)
38) After preparing the following materials as an aqueous dispersion, the mixture was stirred for 30 minutes to obtain a protective layer coating liquid (PC-6). The latex is AS563A manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. The fluorine-containing surfactant is Megafac F1 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.
20, matting agent used was SX-713 manufactured by Soken Chemical Co., Ltd .; slip agent used was Cellosol 524 (main component: carnauba wax) manufactured by Chukyo Yushi; polyvinyl alcohol was Kuraray Poval PVA-235 manufactured by Kuraray Co., Ltd.
【0212】 PC−6 ラテックス 2.5g/m2 マット剤 60mg/m2 滑り剤 0.2g/m2 含フッ素界面活性剤 6.9mg/m2 ポリビニルアルコール 0.3g/m2 PC-6 latex 2.5 g / m 2 matting agent 60 mg / m 2 slipping agent 0.2 g / m 2 fluorinated surfactant 6.9 mg / m 2 polyvinyl alcohol 0.3 g / m 2
【0213】<画像記録媒体1〜4の作製>上記で調製
した画像記録層塗布液(G−1〜2)を表2中記載の塗
布量となるように厚み100μmの2軸延伸PET上に
スロットコーティング法により塗布した。これを30
℃、30分乾燥後、上記で調製した保護層塗布液(PC
−1〜2)を表4中の組み合わせで画像記録層上に同じ
くスロットコーティング法にて表3に記載の塗布量とな
るように塗布し、40℃で30分乾燥後、画像記録媒体
1〜4を得た。<Preparation of Image Recording Media 1-4> The image recording layer coating solutions (G-1 and G-2) prepared above were coated on a 100 μm-thick biaxially stretched PET so as to have the coating amount shown in Table 2. It was applied by a slot coating method. This is 30
After drying at 30 ° C. for 30 minutes, the coating solution for protective layer prepared above (PC
-1 to 2) were applied to the image recording layer in the combination shown in Table 4 by the same slot coating method so as to have the coating amount shown in Table 3, and dried at 40 ° C. for 30 minutes. 4 was obtained.
【0214】<画像記録媒体5〜6の作製>上記で調製
した画像記録層塗布液(G−1〜2)を表2に記載の塗
布量となるように厚み100μmの2軸延伸PET上に
スロットコーティング法により塗布した。これを30
℃、30分乾燥後、上記で調製した保護層塗布液(PC
−3)を第一保護層としてそれぞれの画像記録層上にス
ロットコーティング法にて表3中記載の塗布量となるよ
うに塗布した。40℃で30分乾燥後、さらに第二保護
層として保護層塗布液(PC−2)を第一保護層上にス
ロットコーティング法にて表3中記載の塗布量となるよ
うに塗布し、40℃で30分乾燥した。これを画像記録
媒体5、6とした。<Preparation of Image Recording Media 5-6> The image recording layer coating liquids (G-1 and G-2) prepared above were coated on a 100 μm-thick biaxially stretched PET so as to have the coating amounts shown in Table 2. It was applied by a slot coating method. This is 30
After drying at 30 ° C. for 30 minutes, the coating solution for protective layer prepared above (PC
-3) was applied as a first protective layer on each image recording layer by a slot coating method so as to have the coating amount shown in Table 3. After drying at 40 ° C. for 30 minutes, a protective layer coating solution (PC-2) was further applied as a second protective layer on the first protective layer by a slot coating method so as to have an application amount shown in Table 3; It dried at 30 degreeC for 30 minutes. These were designated as image recording media 5 and 6.
【0215】<画像記録媒体7〜8の作製>上記で調製
した画像記録層塗布液(G−1〜2)を表2に記載の塗
布量となるように厚み100μmの2軸延伸PET上に
スロットコーティング法により塗布した。これを30
℃、30分乾燥後、上記で調製した保護層塗布液(PC
−2)を表4に記載の組み合わせで画像記録層上にスロ
ットコーティング法にて、表4に記載のバインダー塗布
量となるように塗布した後、40℃で30分乾燥を行っ
て、画像記録媒体7〜8を得た。<Preparation of Image Recording Media 7 and 8> The image recording layer coating solutions (G-1 and G-2) prepared above were coated on a 100 μm-thick biaxially stretched PET so that the coating amounts shown in Table 2 were obtained. It was applied by a slot coating method. This is 30
After drying at 30 ° C. for 30 minutes, the coating solution for protective layer prepared above (PC
-2) was applied on the image recording layer in a combination shown in Table 4 by a slot coating method so as to have a binder coating amount shown in Table 4, and then dried at 40 ° C. for 30 minutes to perform image recording. Mediums 7 and 8 were obtained.
【0216】<比較画像記録媒体9〜11の作製>上記
で調製した画像記録層塗布液(G−1)を表2に記載の
塗布量となるように厚み100μmの2軸延伸PET上
にスロットコーティング法により塗布した。これを30
℃、30分乾燥後、上記で調製した比較保護層塗布液
(PC−4〜6)を表4に記載の組み合わせで画像記録
層上にスロットコーティング法にて、表4に記載のバイ
ンダー塗布量となるように塗布し、40℃で30分乾燥
を行って、比較画像記録媒体9〜11を得た。<Preparation of Comparative Image Recording Media 9 to 11> The image recording layer coating solution (G-1) prepared above was slotted onto a 100 μm-thick biaxially stretched PET so as to have the coating amount shown in Table 2. It was applied by a coating method. This is 30
After drying at 30 ° C. for 30 minutes, the coating amount of the comparative protective layer (PC-4 to 6) prepared above was applied to the image recording layer in the combination shown in Table 4 on the image recording layer by the slot coating method. And dried at 40 ° C. for 30 minutes to obtain comparative image recording media 9 to 11.
【0217】[0219]
【表4】 [Table 4]
【0218】<画像記録方法>半導体レーザー(Spectr
a Diode Labs No.SDL-2430、波長範囲:800〜830
nm)を2本合波して、140mWの出力にして、画像
書き込み用レーザーとした。このレーザーを用いて、ビ
ーム系20μm、試料上のレーザーエネルギー密度は5
50mJ/cm2に設定した。作成した画像記録媒体に
対して前記レーザー露光条件で保護層側から走査露光を
行なった。<Image recording method> Semiconductor laser (Spectr
a Diode Labs No.SDL-2430, wavelength range: 800-830
nm) were combined to give an output of 140 mW to provide an image writing laser. Using this laser, the beam system was 20 μm, and the laser energy density on the sample was 5
It was set to 50 mJ / cm 2 . Scanning exposure was performed on the produced image recording medium from the protective layer side under the above laser exposure conditions.
【0219】<発色濃度測定>画像記録媒体1〜11に
対してレーザー露光を行い、410nm、600nmに
おける発色濃度の測定を行った。なお、濃度の測定は島
津製作所製のUV-2500PCにより行った。未露光部の吸収
濃度とともに結果を表4に示す。<Measurement of Color Density> The image recording media 1 to 11 were exposed to a laser, and the color densities at 410 nm and 600 nm were measured. The concentration was measured with a UV-2500PC manufactured by Shimadzu Corporation. Table 4 shows the results together with the absorption density of the unexposed portion.
【0220】<保存性評価条件>画像記録媒体1〜11
のフレッシュサンプルを45℃、相対湿度40%RHの
条件下、3日間放置し、各サンプルの410nmでのかぶ
り濃度の変化(発色濃度の測定と同じ波長で測定)を調
べた。結果を表4に示す。<Conditions for evaluating storage stability> Image recording media 1 to 11
Of each sample was allowed to stand at 45 ° C. and a relative humidity of 40% RH for 3 days, and the change in the fog density of each sample at 410 nm (measured at the same wavelength as the color density measurement) was examined. Table 4 shows the results.
【0221】<ヘイズ評価条件>画像記録媒体1〜11
に対してレーザー露光を行い、未露光サンプルとともに
NIPPON DENSHOKU(株)製ヘイズ測定装置MODEL 1001DP
を用いてヘイズの測定を行った。得られた結果を表4に
示す。なお、ヘイズ値は拡散透過光量と全透過光量の比
を百分率でしめしている。<Haze evaluation conditions> Image recording media 1 to 11
Laser exposure on
NIPPON DENSHOKU Co., Ltd. haze measuring device MODEL 1001DP
Was used to measure the haze. Table 4 shows the obtained results. The haze value indicates the ratio of the amount of diffuse transmitted light to the total amount of transmitted light in percentage.
【0222】<引掻き強度評価条件>画像記録媒体1〜
8に対してレーザー露光を行い、未露光サンプルととも
に引掻き強度の測定を行った。装置として表面性測定器
Type−HEIDON14(新東科学株式会社製)を
使用し、太針(円錐頂角90度で先端直径が0.1mmのサフ
ァイヤ針)および細針(円錐頂角90度で先端直径が0.01
mmのダイヤ針)を用いて行った引掻き強度の結果を表4
に示す。なお、引掻き強度の値は、引っ掻き速度10m
m/秒で移動しながら、針の荷重を連続的に変化させて
(太針:0〜200g、細針:0〜50g)保護層の表
面を引掻き、画像記録層の傷跡が、目視で連続して認め
られた時の荷重(g)を示している。測定方法の詳細
は、ANSI SAE J1847に準拠した。<Scratch Strength Evaluation Conditions> Image Recording Media 1
8 was exposed to a laser, and the scratch strength was measured together with the unexposed sample. Using a surface property measuring instrument Type-HEIDON14 (manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd.) as a device, a thick needle (a sapphire needle with a cone apex angle of 90 ° and a tip diameter of 0.1 mm) and a fine needle (a cone apex angle of 90 ° with a tip of 90 °) Diameter 0.01
Table 4 shows the results of the scratching strength performed using a
Shown in In addition, the value of the scratching strength was determined by a scratching speed of 10 m.
While moving at a speed of m / sec, the load on the needle was continuously changed (thick needle: 0 to 200 g, fine needle: 0 to 50 g) to scratch the surface of the protective layer, and the scar of the image recording layer was continuously visually observed. The load (g) when it was recognized as a value is shown. The details of the measurement method conformed to ANSI SAE J1847.
【0223】表4より明らかなように本発明の画像記録
媒体はいずれも未露光部の濃度が低く保存性に優れてい
るとともに発色濃度も高い。更に比較サンプル9〜11
はヘイズ、引掻き強度ともに不十分なレベルであるのに
対し、本発明の画像記録媒体はいずれも十分なレベルの
ヘイズ値、引掻き強度を示し、本発明の有用性は明らか
であった。As is clear from Table 4, all the image recording media of the present invention have low densities in the unexposed areas, have excellent storage stability, and have high coloring densities. Further, comparative samples 9 to 11
Although the haze and the scratching strength were both at an insufficient level, the image recording media of the present invention all showed a sufficient level of the haze value and the scratching strength, and the usefulness of the present invention was apparent.
【0224】[0224]
【発明の効果】本発明によれば、未露光部の濃度が低く
保存性に優れているとともに発色濃度も高い画像記録媒
体が得られ、更に高出力レーザー露光によってもヘイズ
の発生レベルが低く、耐傷性に優れた画像記録媒体が得
られる。According to the present invention, it is possible to obtain an image recording medium having a low density of unexposed portions, excellent storage stability and a high coloring density, and a low haze generation level even by high-power laser exposure. An image recording medium having excellent scratch resistance can be obtained.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B41M 5/18 108 5/26 S (72)発明者 大川 敦裕 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真 フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H026 AA07 AA24 BB02 BB24 BB48 DD02 DD31 EE05 FF01 FF11 GG10 2H111 HA14 HA23 HA35 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) B41M 5/18 108 5/26 S (72) Inventor Atsuhiro Okawa 210 Nakanuma, Minamiashigara-shi, Kanagawa Prefecture Fuji Photo Film Co., Ltd. In-house F term (reference) 2H026 AA07 AA24 BB02 BB24 BB48 DD02 DD31 EE05 FF01 FF11 GG10 2H111 HA14 HA23 HA35
Claims (10)
酸の作用により360〜900nmの吸収域に濃度変化
を生じる化合物を含有し、かつ銀塩を含まない画像記録
層と、少なくとも1層の保護層とを有する画像記録媒体
であって、該保護層のハ゛インタ゛ー塗布量が1m2あたり3g
以上であることを特徴とする画像記録媒体。Claims: 1. An image recording layer containing at least one layer of a compound which causes a change in concentration in the absorption range of 360 to 900 nm by the action of heat or an acid and containing no silver salt, and at least one layer on a support. An image recording medium comprising: a protective layer having a coating amount of 3 g per 1 m 2.
An image recording medium characterized by the above.
ており、レーザー照射により発生した熱または酸の作用
により360〜900nmの吸収域に濃度変化を生じる
ことを特徴とする請求項1に記載の画像記録媒体。2. The method according to claim 1, wherein the composition contains at least one kind of infrared absorbing substance, and changes the concentration in the absorption range of 360 to 900 nm by the action of heat or acid generated by laser irradiation. The image recording medium described in the above.
ており、レーザー照射光によって発生した熱または酸の
作用により360〜900nmの吸収域の特定の波長で
濃度3.0以上の濃度変化を生じることを特徴とする請
求項1又は2に記載の画像記録媒体。3. A concentration change of not less than 3.0 at a specific wavelength in an absorption region of 360 to 900 nm due to the action of heat or acid generated by laser irradiation light, containing at least one kind of infrared absorbing substance. The image recording medium according to claim 1, wherein:
または酸の作用により360〜900nmの吸収域に濃
度変化を生じる前後とも、ヘイズ値が20%以下である
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の
画像記録媒体。4. The support is a permeable support, and has a haze value of not more than 20% before and after the concentration is changed in the absorption region of 360 to 900 nm by the action of heat or acid. The image recording medium according to claim 1.
nmの吸収域に濃度変化を生じる前後とも、保護層表面
の太針引掻き強度が30g以上であり、かつ細針引掻き
強度が10g以上であることを特徴とする請求項1〜4
のいずれか1項に記載の画像記録媒体。5. 360 to 900 by the action of heat or acid.
The scratch strength of the thick needle on the surface of the protective layer is 30 g or more, and the scratch strength of the fine needle is 10 g or more before and after the concentration change occurs in the absorption region of nm.
8. The image recording medium according to any one of the above.
と、酸の作用により分子内もしくは分子間反応を引き起
こして360〜900nmの吸収域に濃度変化を生じる
化合物とを含有することを特徴とする請求項1〜5のい
ずれか1項に記載の画像記録媒体。6. An acid generator which generates an acid by the action of heat and a compound which causes an intramolecular or intermolecular reaction by the action of an acid to cause a concentration change in an absorption region of 360 to 900 nm. The image recording medium according to claim 1.
化合物であることを特徴とする請求項6に記載の画像記
録媒体。 一般式(I) 【化 1】 (式中、R1 はアルキル基、アリール基もしくはヘテロ
環基を表わす。R2及びR3はそれぞれ独立にアルキル基
もしくはアリール基を表わすが、 R2とR3が同時にア
リール基であることはない。 またR2とR3が結合して
環を形成しても良い。)7. The image recording medium according to claim 6, wherein the acid generator is a compound represented by the following general formula (I). General formula (I) (In the formula, R 1 represents an alkyl group, represents a respectively .R 2 and R 3 represents an aryl group or a heterocyclic group independently represents an alkyl group or aryl group, R 2 and R 3 is an aryl group at the same time R 2 and R 3 may combine to form a ring.)
一般式(II)で表される化合物であることを特徴とする
請求項7に記載の画像記録媒体。 一般式(II) 【化 2】 (式中、R31 はアルキル基、アリール基もしくはヘテ
ロ環基を表わす。R32は置換基を表わす。 R33及びR
34はそれぞれ独立に水素原子もしくは置換基を表わす。
X1は環を形成するのに必要な原子団を表わす。 R32、
R33もしくはR 34はX1と結合して環を形成しても良
い。)8. An acid generator represented by the general formula (I):
Characterized by being a compound represented by the general formula (II)
The image recording medium according to claim 7. General formula (II)(Where R31 Is an alkyl group, an aryl group or
Represents a ring group. R32Represents a substituent. R33And R
34Each independently represents a hydrogen atom or a substituent.
X1Represents an atomic group necessary for forming a ring. R32,
R33Or R 34Is X1May be combined with to form a ring
No. )
応を引き起こして360〜900nmの吸収域に濃度変
化を生じる化合物が、下記一般式(III)〜(V)の少
なくともいずれか一つにより表わされる化合物であるこ
とを特徴とする請求項6〜8のいずれか1項に記載の画
像形成方法。 一般式(III) 【化 3】 (式中、X2はN(R58)、O、またはSを表し、Y1は N−
C−X2とともに環状構造を形成するのに必要な原子団を
表し、A1はC(R59)またはNを表し、R51〜R59は水素原
子または置換基を表し、それぞれ同じであっても異なっ
ていても良く、R54、R55、R56およびR57は互いに結合し
て縮合環を形成しても良く、 B1はアリール基、ヘテロ
環基、アルケニル基、アルキニル基、アリールアミノ基
またはヘテロ環アミノ基を表す。) 一般式(IV) 【化 4】 (式中、Ar1およびAr2はアリール基、ヘテロ環基、
アルケニル基またはアルキニル基を表し、同じであって
も異なっていても良く、R71は水素原子または置換基を
表し、Y2は芳香族炭化水素環あるいはヘテロ環を表
し、X3はO、SまたはN(R72)を表し、R72は水素
原子または置換基を表す。) 一般式(V) 【化 5】 ( 式中、Ar3およびAr4はアリール基、ヘテロ環
基、アルケニル基またはアルキニル基を表し、同じであ
っても異なっていても良く、Z1は芳香族炭化水素環あ
るいはヘテロ環を表し、 A2はO、SまたはN(R73)
を表し、R73は水素原子または置換基を表す。)9. A compound which causes an intramolecular or intermolecular reaction by the action of an acid to cause a concentration change in an absorption region of 360 to 900 nm, is represented by at least one of the following general formulas (III) to (V): The image forming method according to any one of claims 6 to 8, wherein the compound is a compound to be formed. General formula (III) (Wherein X 2 represents N (R 58 ), O or S, and Y 1 represents N-
With C-X 2 represents an atomic group necessary for forming a cyclic structure, A 1 represents C (R 59) or N, R 51 to R 59 represents a hydrogen atom or a substituent, were respectively the same R 54 , R 55 , R 56 and R 57 may combine with each other to form a condensed ring, and B 1 represents an aryl group, a heterocyclic group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group. Represents an amino group or a heterocyclic amino group. ) General formula (IV) (Wherein, Ar 1 and Ar 2 are an aryl group, a heterocyclic group,
Represents an alkenyl group or an alkynyl group, which may be the same or different, R 71 represents a hydrogen atom or a substituent, Y 2 represents an aromatic hydrocarbon ring or a hetero ring, and X 3 represents O, S Or N (R 72 ), wherein R 72 represents a hydrogen atom or a substituent. ) General formula (V) (Wherein, Ar 3 and Ar 4 represent an aryl group, a heterocyclic group, an alkenyl group or an alkynyl group, which may be the same or different, and Z 1 represents an aromatic hydrocarbon ring or a heterocyclic ring; A 2 is O, S or N (R 73 )
And R 73 represents a hydrogen atom or a substituent. )
を含有することを特徴とする請求項1〜9記載の画像形
成方法。 一般式(VI) −(A)x−(B)y−(C)z− (式中、Aは、酸発生剤モノマーの重合によって得られ
る繰り返し単位を表し、Bは酸の作用により360〜9
00nmの吸収域に濃度変化を生じる部分構造を有する
少なくとも1種類以上のビニルモノマーの重合によって
得られる繰り返し単位を表し、CはAおよびBと共重合
可能な少なくとも1種類以上のビニルモノマーの重合に
よって得られる繰り返し単位を表す。x、yおよびzは
モル%を表し、それぞれ1≦x≦100、0≦y≦9
9、0≦z≦99、x+y+z=100を表す。)10. The image forming method according to claim 1, further comprising a polymer represented by the following general formula (VI). Formula (VI)-(A) x- (B) y- (C) z- (wherein A represents a repeating unit obtained by polymerization of an acid generator monomer, and B represents 360 to 360 due to the action of an acid. 9
Represents a repeating unit obtained by the polymerization of at least one or more vinyl monomers having a partial structure that causes a change in concentration in the absorption region of 00 nm, and C represents a polymer obtained by polymerization of at least one or more vinyl monomers copolymerizable with A and B. Represents the obtained repeating unit. x, y and z represent mol%, and 1 ≦ x ≦ 100 and 0 ≦ y ≦ 9, respectively.
9, represents 0 ≦ z ≦ 99, x + y + z = 100. )
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000246412A JP2002059651A (en) | 2000-08-15 | 2000-08-15 | Image recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000246412A JP2002059651A (en) | 2000-08-15 | 2000-08-15 | Image recording medium |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002059651A true JP2002059651A (en) | 2002-02-26 |
Family
ID=18736729
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000246412A Pending JP2002059651A (en) | 2000-08-15 | 2000-08-15 | Image recording medium |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002059651A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1921125A2 (en) | 2006-11-10 | 2008-05-14 | Ricoh Company, Ltd. | Reversible recording material and displaying element |
JP2016539031A (en) * | 2013-12-19 | 2016-12-15 | アグフア−ゲヴエルト | Laser markable laminates and documents |
-
2000
- 2000-08-15 JP JP2000246412A patent/JP2002059651A/en active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1921125A2 (en) | 2006-11-10 | 2008-05-14 | Ricoh Company, Ltd. | Reversible recording material and displaying element |
EP1921125A3 (en) * | 2006-11-10 | 2008-06-04 | Ricoh Company, Ltd. | Reversible recording material and displaying element |
US7570412B2 (en) | 2006-11-10 | 2009-08-04 | Ricoh Company, Ltd. | Reversible recording material and displaying element |
JP2016539031A (en) * | 2013-12-19 | 2016-12-15 | アグフア−ゲヴエルト | Laser markable laminates and documents |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0909656B1 (en) | Image recording medium containing an acid-generating agent, image recording method and thermosensitive polymer | |
US6143480A (en) | Leuco dye and image recording medium containing the same | |
JP4295856B2 (en) | Image recording medium containing self-developed leuco dye | |
JP2002059651A (en) | Image recording medium | |
JP3807852B2 (en) | Thermochromic polymer, image recording medium using the same, and image recording method | |
JP2001246862A (en) | Image recording medium | |
US6562542B2 (en) | Image-forming material and novel sulfonic acid ester derivative | |
JP2000343837A (en) | Image recording medium | |
JP2000144004A (en) | Novel leuco dye and image recording medium containing the leuco dye | |
JP4213844B2 (en) | Image forming material | |
JP4262386B2 (en) | Image recording medium | |
JP4137362B2 (en) | Image forming material | |
JP2001277730A (en) | Image forming method and image forming material | |
JP2001249430A (en) | Image recording medium | |
JP2000343836A (en) | Image recording medium | |
JP2002046358A (en) | Image recording medium including leuco coloring matter | |
JP4048517B2 (en) | Image recording medium containing a compound that generates acid by the action of heat or light | |
JP2001088446A (en) | Image forming medium | |
JPH0784104B2 (en) | Recording material using thermo-decolorizable dye | |
JP2001246848A (en) | Nonsilver image recording material | |
JP2000006517A (en) | Thermal recording material | |
JPH10337954A (en) | Thermal recording material | |
JP2001162942A (en) | Image recording medium | |
JP2001088445A (en) | Image recording medium and image recording method | |
JP2000118147A (en) | Heat coloring polymer, image recording medium using the same, and image recording method |