JP2001276727A - 高分子フィルムシートの製造装置及びこれを用いて製造した高分子フィルムシート - Google Patents
高分子フィルムシートの製造装置及びこれを用いて製造した高分子フィルムシートInfo
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- JP2001276727A JP2001276727A JP2000089803A JP2000089803A JP2001276727A JP 2001276727 A JP2001276727 A JP 2001276727A JP 2000089803 A JP2000089803 A JP 2000089803A JP 2000089803 A JP2000089803 A JP 2000089803A JP 2001276727 A JP2001276727 A JP 2001276727A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 表面平滑性に優れた高分子フィルムシートの
連続製造装置、及びこれを用いた高耐熱性高分子シート
を提供すること。 【解決手段】 高分子フィルムシートの製造装置におい
て、高分子フィルムシートを搬送させるために設けられ
た回転物の表面に、静電塗装により表面エネルギーが４
００μＮ／ｃｍ以下となるようにコーティング処理が施
された高分子フィルムシートの製造装置。
連続製造装置、及びこれを用いた高耐熱性高分子シート
を提供すること。 【解決手段】 高分子フィルムシートの製造装置におい
て、高分子フィルムシートを搬送させるために設けられ
た回転物の表面に、静電塗装により表面エネルギーが４
００μＮ／ｃｍ以下となるようにコーティング処理が施
された高分子フィルムシートの製造装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高分子フィルムシ
ートの製造において、平滑性に優れた高耐熱性高分子シ
ートを効率良く製造する装置、及びこれを用いて製造し
た高分子フィルムシートに関するものである。
ートの製造において、平滑性に優れた高耐熱性高分子シ
ートを効率良く製造する装置、及びこれを用いて製造し
た高分子フィルムシートに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、電子工業用途等にガラス転移温度
（Ｔｇ）が２００℃以上であるような高耐熱性高分子の
フィルムシートが種々利用されている。これらの用途の
うち、ガラス板代替や金属板代替の用途で用いられるも
のについては、例えば液晶表示素子用基板のように極め
て平滑性が良好である即ち表面粗さが極めて小さいこと
が要求される用途が有る。従来、平滑性が良好である高
耐熱性高分子フィルムを製造する場合には、高耐熱性高
分子の溶液を研磨ガラス基板や研磨スチールベルト上に
キャストし、溶剤を揮発させてフィルムを得るキャスト
法が広く用いられている。しかし、キャスト法では、２
００μｍを越える厚さを得ることが困難であるという問
題点がある。
（Ｔｇ）が２００℃以上であるような高耐熱性高分子の
フィルムシートが種々利用されている。これらの用途の
うち、ガラス板代替や金属板代替の用途で用いられるも
のについては、例えば液晶表示素子用基板のように極め
て平滑性が良好である即ち表面粗さが極めて小さいこと
が要求される用途が有る。従来、平滑性が良好である高
耐熱性高分子フィルムを製造する場合には、高耐熱性高
分子の溶液を研磨ガラス基板や研磨スチールベルト上に
キャストし、溶剤を揮発させてフィルムを得るキャスト
法が広く用いられている。しかし、キャスト法では、２
００μｍを越える厚さを得ることが困難であるという問
題点がある。
【０００３】一方、耐熱性があまり高くないＴｇが２０
０℃以下であるような高分子フィルムシートに於いて
は、Ｔダイやコートハンガーダイを用いた押出法による
製造が行われている。一般に、ダイから押し出された高
分子をそのまま引取ロールで引き取ると、高分子がロー
ルの接線方向に引かれるためにダイスからロールに接触
するまでの間隔（エアギャップ）が大きくなってしま
い、温度が下がってしまうために引取ロールの面を充分
に転写できず、平滑面を得ることが難しい。そのため、
押出された高分子がＴｇ以上の温度である状態で、フッ
素化ゴム等の表面エネルギーが低い弾性材質のロールを
用いて表面粗さの小さい引取ロールに押し当てること
で、引取ロール面を転写して平滑な表面を持つシートを
製造することが行われている。この場合、高分子が引き
取りロール面の平滑な面と同等の転写面を得るために
は、樹脂の温度を上げて樹脂の溶融粘度が充分に低下し
ている必要がある。しかしこの様な温度条件で生産を行
う場合、引き取りロールとして一般に用いられている金
属ロールを用いると、ロールの表面エネルギーが大きい
ために高分子との離型性が悪く、連続的に生産すること
ができない問題があった。このような問題に対して、高
分子シート原反上に紫外線硬化性樹脂組成物を塗布また
はラミネートし、該紫外線硬化性樹脂組成物が軟化した
状態で表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）がＲｍａｘ≦０．１
μｍの平滑面を有するロールに密着させて紫外線を照射
し、ロールの平滑面を転写、成形する方法が提案されて
いる。しかしこの場合も金属ロールの表面エネルギーが
大きいと紫外線硬化樹脂組成物が硬化した後の離型性が
悪く生産性が低下する問題があった。
０℃以下であるような高分子フィルムシートに於いて
は、Ｔダイやコートハンガーダイを用いた押出法による
製造が行われている。一般に、ダイから押し出された高
分子をそのまま引取ロールで引き取ると、高分子がロー
ルの接線方向に引かれるためにダイスからロールに接触
するまでの間隔（エアギャップ）が大きくなってしま
い、温度が下がってしまうために引取ロールの面を充分
に転写できず、平滑面を得ることが難しい。そのため、
押出された高分子がＴｇ以上の温度である状態で、フッ
素化ゴム等の表面エネルギーが低い弾性材質のロールを
用いて表面粗さの小さい引取ロールに押し当てること
で、引取ロール面を転写して平滑な表面を持つシートを
製造することが行われている。この場合、高分子が引き
取りロール面の平滑な面と同等の転写面を得るために
は、樹脂の温度を上げて樹脂の溶融粘度が充分に低下し
ている必要がある。しかしこの様な温度条件で生産を行
う場合、引き取りロールとして一般に用いられている金
属ロールを用いると、ロールの表面エネルギーが大きい
ために高分子との離型性が悪く、連続的に生産すること
ができない問題があった。このような問題に対して、高
分子シート原反上に紫外線硬化性樹脂組成物を塗布また
はラミネートし、該紫外線硬化性樹脂組成物が軟化した
状態で表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）がＲｍａｘ≦０．１
μｍの平滑面を有するロールに密着させて紫外線を照射
し、ロールの平滑面を転写、成形する方法が提案されて
いる。しかしこの場合も金属ロールの表面エネルギーが
大きいと紫外線硬化樹脂組成物が硬化した後の離型性が
悪く生産性が低下する問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的とすると
ころは、高分子シートの製造において、平滑性に優れた
高分子シートを効率よく製造する装置を提供するもので
あり、さらに詳しくは高耐熱性高分子の平滑性良好なシ
ートを効率良く製造し提供することにある。
ころは、高分子シートの製造において、平滑性に優れた
高分子シートを効率よく製造する装置を提供するもので
あり、さらに詳しくは高耐熱性高分子の平滑性良好なシ
ートを効率良く製造し提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、 １．高分子フィルムシートの製造装置において、高分子
フィルムシートを搬送させるために設けられた回転物の
表面に、静電塗装により表面エネルギーが４００μＮ／
ｃｍ以下となるようにコーティング処理が施された高分
子フィルムシートの製造装置であり、 ２．高分子フィルムシートの製造装置が高分子フィルム
シートにコーティングする製造装置である第１項記載の
高分子フィルムシートの製造装置であり、 ３．回転物の表面が、研磨によって任意の２ｍｍ間隔で
の最大表面粗さが０．１μｍである第１項又は第２項記
載の高分子フィルムシートの製造装置であり、 ４．回転物の表面が、フッ素樹脂、ポリフェニレンサル
ファイド、ポリエーテルエーテルケトン、又はポリイミ
ドのいずれかで静電塗装した第１〜３項記載の高分子フ
ィルムシートの製造装置であり、 ５．第１〜４項記載の高分子フィルムシートの製造装置
を用いて製造された高分子フィルムシートである。
フィルムシートを搬送させるために設けられた回転物の
表面に、静電塗装により表面エネルギーが４００μＮ／
ｃｍ以下となるようにコーティング処理が施された高分
子フィルムシートの製造装置であり、 ２．高分子フィルムシートの製造装置が高分子フィルム
シートにコーティングする製造装置である第１項記載の
高分子フィルムシートの製造装置であり、 ３．回転物の表面が、研磨によって任意の２ｍｍ間隔で
の最大表面粗さが０．１μｍである第１項又は第２項記
載の高分子フィルムシートの製造装置であり、 ４．回転物の表面が、フッ素樹脂、ポリフェニレンサル
ファイド、ポリエーテルエーテルケトン、又はポリイミ
ドのいずれかで静電塗装した第１〜３項記載の高分子フ
ィルムシートの製造装置であり、 ５．第１〜４項記載の高分子フィルムシートの製造装置
を用いて製造された高分子フィルムシートである。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明の高分子フィルムシートと
して使用される高分子の例を挙げると、ポリエステル、
ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケ
トン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリイミド、ポリ
アミドイミド、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、アク
リル樹脂、ノルボルネン系高分子及びこれをブレンドし
た樹脂等をあげることができるがこれらに限定されるも
のではない。中でも液晶表示素子製造上、透明性、耐熱
性、加工性、耐衝撃性のバランスの良いポリエーテルス
ルホンが好ましい。高分子フィルムシート原反の厚み
は、１０μｍ以上５００μｍ以下が好ましく、更に好ま
しくは５０μｍ以上４００μｍ以下である。高分子フィ
ルムシートの厚みが１０μｍ未満であると切れやすく取
り扱いが困難であり、又、液晶表示素子の基板間隔の保
持が難しく、５００μｍを越えると剛性が高くなりロー
ルでの連続加工が困難となる。
して使用される高分子の例を挙げると、ポリエステル、
ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケ
トン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリイミド、ポリ
アミドイミド、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、アク
リル樹脂、ノルボルネン系高分子及びこれをブレンドし
た樹脂等をあげることができるがこれらに限定されるも
のではない。中でも液晶表示素子製造上、透明性、耐熱
性、加工性、耐衝撃性のバランスの良いポリエーテルス
ルホンが好ましい。高分子フィルムシート原反の厚み
は、１０μｍ以上５００μｍ以下が好ましく、更に好ま
しくは５０μｍ以上４００μｍ以下である。高分子フィ
ルムシートの厚みが１０μｍ未満であると切れやすく取
り扱いが困難であり、又、液晶表示素子の基板間隔の保
持が難しく、５００μｍを越えると剛性が高くなりロー
ルでの連続加工が困難となる。
【０００７】ロールの表面エネルギーは４００μｎ／ｃ
ｍ以下、好ましくは３５０μｎ／ｃｍ以下である必要が
ある。これは、溶融した樹脂や粘着性のあるコーティン
グ面が接触するロールで特に重要である。表面エネルギ
ーが４００μｎ／ｃｍを超えると、ロールと接触したフ
ィルムとの離型性が悪く、連続的に生産できなかった
り、離型性を確保するために著しく生産性が低下する問
題が生じる。
ｍ以下、好ましくは３５０μｎ／ｃｍ以下である必要が
ある。これは、溶融した樹脂や粘着性のあるコーティン
グ面が接触するロールで特に重要である。表面エネルギ
ーが４００μｎ／ｃｍを超えると、ロールと接触したフ
ィルムとの離型性が悪く、連続的に生産できなかった
り、離型性を確保するために著しく生産性が低下する問
題が生じる。
【０００８】本発明において用いられるロールの表面処
理するのに用いられる材質は、たとえば、三フッ化エチ
レン、四フッ化エチレン、、六フッ化プロピレン、パー
フルオロアルキルビニルエーテルなどのフッ素樹脂やこ
れらの共重合物、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰ
Ｓ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリ
イミド（ＰＩ）などのエンジニアリングプラスチック、
またこれらの高分子材料を無機物と混合したものなどが
挙げられる。無機物との混合物や、ＰＩ、ＰＥＥＫなど
耐熱性が良好な材質は樹脂の溶融押し出し製造装置の引
き取りロールとして、フッ素樹脂のような耐光性が良好
な材質は、紫外線硬化樹脂をコーティングする装置に設
置されるロールとして適用できる。
理するのに用いられる材質は、たとえば、三フッ化エチ
レン、四フッ化エチレン、、六フッ化プロピレン、パー
フルオロアルキルビニルエーテルなどのフッ素樹脂やこ
れらの共重合物、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰ
Ｓ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリ
イミド（ＰＩ）などのエンジニアリングプラスチック、
またこれらの高分子材料を無機物と混合したものなどが
挙げられる。無機物との混合物や、ＰＩ、ＰＥＥＫなど
耐熱性が良好な材質は樹脂の溶融押し出し製造装置の引
き取りロールとして、フッ素樹脂のような耐光性が良好
な材質は、紫外線硬化樹脂をコーティングする装置に設
置されるロールとして適用できる。
【０００９】ロール表面にコーティング処理する方法と
しては、静電塗装法が好ましい。静電塗装は静電気のク
ーロン力を利用しているため塗装品質が良好であり、良
好な表面が得られやすい。静電塗装は、ロール面を洗浄
した後必要に応じてプライマーコートやブラスト処理な
どの前処理を施し、静電粉体を吹き付け、焼成させて行
う。
しては、静電塗装法が好ましい。静電塗装は静電気のク
ーロン力を利用しているため塗装品質が良好であり、良
好な表面が得られやすい。静電塗装は、ロール面を洗浄
した後必要に応じてプライマーコートやブラスト処理な
どの前処理を施し、静電粉体を吹き付け、焼成させて行
う。
【００１０】ロール表面は研磨する必要がある。溶融押
し出しでダイスリップ口から樹脂を引き取る場合や、粘
着性のあるコーティング面が接触する場合は、ロールの
表面形状が製造されるフィルムもしくはコーティングの
表面に転写されるためである。したがってロールの表面
形状は、製品の表面形状を決定する重要な要因となる。
本発明の方法で製造できる高分子フィルムシートは平滑
性が良好であることを特徴とするが、その中でも液晶表
示素子用基板などの光学用途としてはＲｍａｘが０．１
μｍであるものが好ましいため、ロールの表面もＲｍａ
ｘが０.１μｍ以下である必要がある。
し出しでダイスリップ口から樹脂を引き取る場合や、粘
着性のあるコーティング面が接触する場合は、ロールの
表面形状が製造されるフィルムもしくはコーティングの
表面に転写されるためである。したがってロールの表面
形状は、製品の表面形状を決定する重要な要因となる。
本発明の方法で製造できる高分子フィルムシートは平滑
性が良好であることを特徴とするが、その中でも液晶表
示素子用基板などの光学用途としてはＲｍａｘが０．１
μｍであるものが好ましいため、ロールの表面もＲｍａ
ｘが０.１μｍ以下である必要がある。
【００１１】
【実施例】以下本発明を実施例、比較例、図面によって
説明するが、本発明は実施例により何ら限定されるもの
ではない。シートの物性は次の方法により測定した。 （１）表面エネルギー 和光純薬製、濡れ性指示薬により表面濡れ性から表面エ
ネルギーを測定した。 （２）シート厚み 接触式ダイヤルゲージで高分子シートの幅方向に２０ｍ
ｍ間隔で測定した平均値。 （３）高分子フィルムシートの表面粗さの最大（Ｒｍａ
ｘ） 接触式の精密段差計（TENCOR INSTRUMENTS製、ALPHA-ST
EP200）により、高分子シートの幅方向に１ｍｍのスキ
ャン幅にて全幅を測定した凹凸の最大値。
説明するが、本発明は実施例により何ら限定されるもの
ではない。シートの物性は次の方法により測定した。 （１）表面エネルギー 和光純薬製、濡れ性指示薬により表面濡れ性から表面エ
ネルギーを測定した。 （２）シート厚み 接触式ダイヤルゲージで高分子シートの幅方向に２０ｍ
ｍ間隔で測定した平均値。 （３）高分子フィルムシートの表面粗さの最大（Ｒｍａ
ｘ） 接触式の精密段差計（TENCOR INSTRUMENTS製、ALPHA-ST
EP200）により、高分子シートの幅方向に１ｍｍのスキ
ャン幅にて全幅を測定した凹凸の最大値。
【００１２】《実施例１》 （１−１）鏡面ロールの処理 １００ｍｍφの金属ロールの表面に、静電塗装法にてＰ
ＥＥＫを厚さ３００μｍとなるようにコーティング処理
した。つづいて熱処理して発生ガスを取り除いた後、表
面をＲｍａｘ＝０．０６μｍとなるように研磨した。得
られたロール面の表面エネルギーは３２０μｎ／ｃｍ以
下であった。 （１−２）試験方法 厚さ２００μｍ、表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）が０．３
μｍのポリエーテルサルホンを高分子シート原反として
用い、巻出装置、コーター部、加熱乾燥ゾーン、鏡面ロ
ール、ニップロール、高圧水銀灯、巻取装置を有する製
造装置を用いて次の加工を行った。まず、紫外線硬化性
樹脂組成物として分子量１５４０融点７０℃のエポキシ
アクリレートプレポリマー（昭和高分子製、ＶＲ−６
０）１００重量部、酢酸ブチル３００重量部，セロソル
ブアセテート１００重量部，ベンゾインエチルエーテル
２重量部を５０℃にて撹拌、溶解して均一な溶液とした
ものをコーター部のグラビヤロールコーターで乾燥前膜
厚５μｍで塗布し、加熱乾燥ゾーン中１００℃で５分間
加熱して溶媒を除去した。溶媒除去後の紫外線硬化性樹
脂組成物はペースト状の軟化状態であった。続いてニッ
プロールを用いて、Ｒｍａｘ＝０．０６μｍである鏡面
ロールに密着させて８０ｗ／ｃｍの紫外線を照射して紫
外線硬化性樹脂組成物を硬化させ、巻取装置で巻き取っ
て高分子シートを連続的に得た。紫外線の照射時間は５
秒間であった。得られた高分子シートのラミネート原反
面に接した面のＲｍａｘを測定したところ０．０６μｍ
であった。 （１−３）評価 この高分子シート上に、ＤＣマグネトロン法により、初
期真空度３×１０-4Ｐａの状態から酸素／アルゴンガス
９％の混合ガスを導入して３×１０-1Ｐａの条件下にお
いてスパッタリングを行い５００Å厚のＳｉＯ2を得
た。続いて、透明導電膜として、同じくＤＣマグネトロ
ン法により初期真空度３×１０-4Ｐａの状態から酸素／
アルゴンガス４％の混合ガスを導入して１×１０-1Ｐａ
の条件下においてスパッタリングを行いＩｎ／(Ｉｎ＋
Ｓｎ)の原子比が０．９８である酸化インジウム錫（Ｉ
ＴＯ）からなる透明導電膜を得た。測定の結果、膜厚は
１６００Å、比抵抗は４×１０-4Ω−ｃｍであった。Ｉ
ＴＯを成膜後、レジストを塗布して現像し、エッチング
液として１０ｖｏｌ％ＨＣｌ、液温４０℃中でパターン
エッチングし、対角長さ３インチ、Ｌ／Ｓ＝１５０／５
０μｍの表示パターンを形成した。パターン形成後、Ｓ
ＴＮ用配向膜を塗布し、１５０℃２ｈｒの焼成処理を行
った後、２４０度ツイストの配向となるようラビング処
理を行った。ラビング処理後、スペーサーを散布し、シ
ール剤を塗布し、１３０℃でシール硬化させてセル化
し、ＳＴＮ用液晶組成物を注入した。偏光板をコントラ
ストの最大となる位置に貼り合わせて液晶表示素子を作
製した。この液晶表示素子を駆動電圧０Ｖから±５Ｖで
点灯試験を行ったところ、液晶のセルギャップ異常によ
る表示ムラは見られず良好な表示を示した。
ＥＥＫを厚さ３００μｍとなるようにコーティング処理
した。つづいて熱処理して発生ガスを取り除いた後、表
面をＲｍａｘ＝０．０６μｍとなるように研磨した。得
られたロール面の表面エネルギーは３２０μｎ／ｃｍ以
下であった。 （１−２）試験方法 厚さ２００μｍ、表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）が０．３
μｍのポリエーテルサルホンを高分子シート原反として
用い、巻出装置、コーター部、加熱乾燥ゾーン、鏡面ロ
ール、ニップロール、高圧水銀灯、巻取装置を有する製
造装置を用いて次の加工を行った。まず、紫外線硬化性
樹脂組成物として分子量１５４０融点７０℃のエポキシ
アクリレートプレポリマー（昭和高分子製、ＶＲ−６
０）１００重量部、酢酸ブチル３００重量部，セロソル
ブアセテート１００重量部，ベンゾインエチルエーテル
２重量部を５０℃にて撹拌、溶解して均一な溶液とした
ものをコーター部のグラビヤロールコーターで乾燥前膜
厚５μｍで塗布し、加熱乾燥ゾーン中１００℃で５分間
加熱して溶媒を除去した。溶媒除去後の紫外線硬化性樹
脂組成物はペースト状の軟化状態であった。続いてニッ
プロールを用いて、Ｒｍａｘ＝０．０６μｍである鏡面
ロールに密着させて８０ｗ／ｃｍの紫外線を照射して紫
外線硬化性樹脂組成物を硬化させ、巻取装置で巻き取っ
て高分子シートを連続的に得た。紫外線の照射時間は５
秒間であった。得られた高分子シートのラミネート原反
面に接した面のＲｍａｘを測定したところ０．０６μｍ
であった。 （１−３）評価 この高分子シート上に、ＤＣマグネトロン法により、初
期真空度３×１０-4Ｐａの状態から酸素／アルゴンガス
９％の混合ガスを導入して３×１０-1Ｐａの条件下にお
いてスパッタリングを行い５００Å厚のＳｉＯ2を得
た。続いて、透明導電膜として、同じくＤＣマグネトロ
ン法により初期真空度３×１０-4Ｐａの状態から酸素／
アルゴンガス４％の混合ガスを導入して１×１０-1Ｐａ
の条件下においてスパッタリングを行いＩｎ／(Ｉｎ＋
Ｓｎ)の原子比が０．９８である酸化インジウム錫（Ｉ
ＴＯ）からなる透明導電膜を得た。測定の結果、膜厚は
１６００Å、比抵抗は４×１０-4Ω−ｃｍであった。Ｉ
ＴＯを成膜後、レジストを塗布して現像し、エッチング
液として１０ｖｏｌ％ＨＣｌ、液温４０℃中でパターン
エッチングし、対角長さ３インチ、Ｌ／Ｓ＝１５０／５
０μｍの表示パターンを形成した。パターン形成後、Ｓ
ＴＮ用配向膜を塗布し、１５０℃２ｈｒの焼成処理を行
った後、２４０度ツイストの配向となるようラビング処
理を行った。ラビング処理後、スペーサーを散布し、シ
ール剤を塗布し、１３０℃でシール硬化させてセル化
し、ＳＴＮ用液晶組成物を注入した。偏光板をコントラ
ストの最大となる位置に貼り合わせて液晶表示素子を作
製した。この液晶表示素子を駆動電圧０Ｖから±５Ｖで
点灯試験を行ったところ、液晶のセルギャップ異常によ
る表示ムラは見られず良好な表示を示した。
【００１３】《実施例２》１００ｍｍφの金属ロールに
静電塗装法にてポリ四フッ化エチレンを厚さ３０μｍと
なるようにコーティング処理した。つづいて熱処理して
発生ガスを取り除いた後、表面をＲｍａｘ＝０．０６μ
ｍとなるように研磨した。得られた鏡面ロールの表面エ
ネルギーは、３２０μｎ／ｃｍ以下であった。次に、実
施例１と同様にして液晶表示素子を作製した。この液晶
表示素子を駆動電圧０Ｖから±５Ｖで点灯試験を行った
ところ、液晶のセルギャップ異常による表示ムラは見ら
れず良好な表示を示した。
静電塗装法にてポリ四フッ化エチレンを厚さ３０μｍと
なるようにコーティング処理した。つづいて熱処理して
発生ガスを取り除いた後、表面をＲｍａｘ＝０．０６μ
ｍとなるように研磨した。得られた鏡面ロールの表面エ
ネルギーは、３２０μｎ／ｃｍ以下であった。次に、実
施例１と同様にして液晶表示素子を作製した。この液晶
表示素子を駆動電圧０Ｖから±５Ｖで点灯試験を行った
ところ、液晶のセルギャップ異常による表示ムラは見ら
れず良好な表示を示した。
【００１４】《比較例１》鏡面ロールの表面をＣｒメッ
キ面とした。鏡面ロール面の表面エネルギーは５００μ
ｎ／ｃｍであった。実施例１と同様にして高分子フィル
ムおよびこれを用いて液晶表示素子を作製した。フィル
ム製造時に、鏡面ロールとフィルムの離型性が悪く、紫
外線硬化樹脂が鏡面ロールにのこる不具合が発生した。
得られたフィルムを用いてこの液晶表示素子を作成し、
駆動電圧０Ｖから±５Ｖで点灯試験を行ったところ、紫
外線硬化樹脂層が鏡面ロールに残った部分で、液晶のセ
ルギャップ異常による表示ムラが観られ、表示素子とし
ては不適格であった。
キ面とした。鏡面ロール面の表面エネルギーは５００μ
ｎ／ｃｍであった。実施例１と同様にして高分子フィル
ムおよびこれを用いて液晶表示素子を作製した。フィル
ム製造時に、鏡面ロールとフィルムの離型性が悪く、紫
外線硬化樹脂が鏡面ロールにのこる不具合が発生した。
得られたフィルムを用いてこの液晶表示素子を作成し、
駆動電圧０Ｖから±５Ｖで点灯試験を行ったところ、紫
外線硬化樹脂層が鏡面ロールに残った部分で、液晶のセ
ルギャップ異常による表示ムラが観られ、表示素子とし
ては不適格であった。
【００１５】
【発明の効果】本発明の製造装置を用いることにより、
表面平滑性が良好な高耐熱性高分子フィルムシートを安
定して、効率よく連続製造することができる。又本発明
により得られたフィルムシートは表面粗さの最大値が小
さく良好なものであり、光学基板として液晶表示素子に
使用した場合にも良好なものであった。
表面平滑性が良好な高耐熱性高分子フィルムシートを安
定して、効率よく連続製造することができる。又本発明
により得られたフィルムシートは表面粗さの最大値が小
さく良好なものであり、光学基板として液晶表示素子に
使用した場合にも良好なものであった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｊ 5/18 ＣＥＺ Ｃ０８Ｊ 5/18 ＣＥＺ Ｇ０２Ｆ 1/1333 ５００ Ｇ０２Ｆ 1/1333 ５００ // Ｃ０８Ｌ 101:00 Ｃ０８Ｌ 101:00 Ｆターム(参考） 2H090 JB03 JB06 JC07 JD14 JD17 4D075 AA09 AA81 BB02Z DA10 DB01 EB01 EB16 EB37 EB39 4F071 AA21 AA31 AA42 AA43 AA50 AA51 AA60 AA64 AF27 AF27Y AH12 AH16 BC01 BC12 BC16
Claims (5)
- 【請求項１】高分子フィルムシートの製造装置におい
て、高分子フィルムシートを搬送させるために設けられ
た回転物の表面に、静電塗装により表面エネルギーが４
００μＮ／ｃｍ以下となるようにコーティング処理が施
されたことを特徴とする高分子フィルムシートの製造装
置。 - 【請求項２】高分子フィルムシートの製造装置が高分子
フィルムシートにコーティングする製造装置である請求
項１記載の高分子フィルムシートの製造装置。 - 【請求項３】回転物の表面が、研磨によって任意の２ｍ
ｍ間隔での最大表面粗さが０．１μｍである請求項１又
は２記載の高分子フィルムシートの製造装置。 - 【請求項４】回転物の表面が、フッ素樹脂、ポリフェニ
レンサルファイド、ポリエーテルエーテルケトン、又は
ポリイミドのいずれかで静電塗装した請求項１〜３記載
の高分子フィルムシートの製造装置。 - 【請求項５】請求項１〜４記載のの高分子フィルムシー
トの製造装置を用いて製造された高分子フィルムシー
ト。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000089803A JP2001276727A (ja) | 2000-03-28 | 2000-03-28 | 高分子フィルムシートの製造装置及びこれを用いて製造した高分子フィルムシート |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000089803A JP2001276727A (ja) | 2000-03-28 | 2000-03-28 | 高分子フィルムシートの製造装置及びこれを用いて製造した高分子フィルムシート |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001276727A true JP2001276727A (ja) | 2001-10-09 |
Family
ID=18605507
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000089803A Pending JP2001276727A (ja) | 2000-03-28 | 2000-03-28 | 高分子フィルムシートの製造装置及びこれを用いて製造した高分子フィルムシート |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001276727A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011060001A1 (en) * | 2009-11-10 | 2011-05-19 | 3M Innovative Properties Company | Method for making polylactide films |
-
2000
- 2000-03-28 JP JP2000089803A patent/JP2001276727A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2011060001A1 (en) * | 2009-11-10 | 2011-05-19 | 3M Innovative Properties Company | Method for making polylactide films |
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