JP2001247690A - 高分子フィルムシートの製造方法及びこれを用いた高分子フィルムシート - Google Patents
高分子フィルムシートの製造方法及びこれを用いた高分子フィルムシートInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 表面平滑性に優れた高分子フィルムシートの
連続製造法、及びこれを用いた高耐熱性高分子シートを
提供すること。 【解決手段】 高分子フィルムシートの片面または両面
に、高分子フィルムシートを溶解する成分を含む液体を
供給しながら、連続的に研磨して平滑化する高分子フィ
ルムシートの製造方法。
連続製造法、及びこれを用いた高耐熱性高分子シートを
提供すること。 【解決手段】 高分子フィルムシートの片面または両面
に、高分子フィルムシートを溶解する成分を含む液体を
供給しながら、連続的に研磨して平滑化する高分子フィ
ルムシートの製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高分子フィルムシ
ートの製造において、平滑性に優れた高耐熱性高分子シ
ートを効率良く製造する方法、及びこれを用いて製造し
た高分子フィルムシートに関するものである。
ートの製造において、平滑性に優れた高耐熱性高分子シ
ートを効率良く製造する方法、及びこれを用いて製造し
た高分子フィルムシートに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、電子工業用途等にガラス転移温度
（Ｔｇ）が２００℃以上であるような高耐熱性高分子の
フィルムシートが種々利用されている。これらの用途の
うち、ガラス板代替や金属板代替の用途で用いられるも
のについては、例えば液晶表示素子用基板のように極め
て平滑性が良好である即ち表面粗さが極めて小さいこと
が要求される用途が有る。従来、平滑性が良好である高
耐熱性高分子フィルムを製造する場合には、高耐熱性高
分子の溶液を研磨ガラス基板や研磨スチールベルト上に
キャストし、溶剤を揮発させてフィルムを得るキャスト
法が広く用いられている。しかし、キャスト法では、２
００μｍを越える厚さを得ることが困難であるという問
題点がある。
（Ｔｇ）が２００℃以上であるような高耐熱性高分子の
フィルムシートが種々利用されている。これらの用途の
うち、ガラス板代替や金属板代替の用途で用いられるも
のについては、例えば液晶表示素子用基板のように極め
て平滑性が良好である即ち表面粗さが極めて小さいこと
が要求される用途が有る。従来、平滑性が良好である高
耐熱性高分子フィルムを製造する場合には、高耐熱性高
分子の溶液を研磨ガラス基板や研磨スチールベルト上に
キャストし、溶剤を揮発させてフィルムを得るキャスト
法が広く用いられている。しかし、キャスト法では、２
００μｍを越える厚さを得ることが困難であるという問
題点がある。
【０００３】一方、耐熱性があまり高くないＴｇが２０
０℃以下であるような高分子フィルムシートに於いて
は、Ｔダイやコートハンガーダイを用いた押出法による
製造が行われている。一般に、ダイから押し出された高
分子をそのまま引取ロールで引き取ると、高分子がロー
ルの接線方向に引かれるためにダイスからロールに接触
するまでの間隔（エアギャップ）が大きくなってしま
い、温度が下がってしまうために引取ロールの面を充分
に転写できず、平滑面を得ることが難しい。そのため、
押出された高分子がＴｇ以上の温度である状態で、フッ
素化ゴム等の表面エネルギーが低い弾性材質のロールを
用いて表面粗さの小さい引取ロールに押し当てること
で、引取ロール面を転写して平滑な表面を持つシートを
製造することが行われている。しかし、Ｔｇが２００℃
以上の高耐熱性高分子の場合、２００℃以上の連続使用
温度を有する表面エネルギーが低い弾性材質のロールが
無いためにこのような方法を取ることができない。
０℃以下であるような高分子フィルムシートに於いて
は、Ｔダイやコートハンガーダイを用いた押出法による
製造が行われている。一般に、ダイから押し出された高
分子をそのまま引取ロールで引き取ると、高分子がロー
ルの接線方向に引かれるためにダイスからロールに接触
するまでの間隔（エアギャップ）が大きくなってしま
い、温度が下がってしまうために引取ロールの面を充分
に転写できず、平滑面を得ることが難しい。そのため、
押出された高分子がＴｇ以上の温度である状態で、フッ
素化ゴム等の表面エネルギーが低い弾性材質のロールを
用いて表面粗さの小さい引取ロールに押し当てること
で、引取ロール面を転写して平滑な表面を持つシートを
製造することが行われている。しかし、Ｔｇが２００℃
以上の高耐熱性高分子の場合、２００℃以上の連続使用
温度を有する表面エネルギーが低い弾性材質のロールが
無いためにこのような方法を取ることができない。
【０００４】このような問題に対して、突起を有する金
属ロールを水などの液体（高分子フィルムシートの貧溶
媒）を介して高分子フィルムシートに接触して回転さ
せ、液体によって保たれるごく薄い膜厚より高い突起部
を削り取るという研磨方法が提案されている。しかし、
この方法は削り取られた突起部の角の部分が鋭い形状の
まま残ること及び凹部に対して有効でないという問題点
がある。
属ロールを水などの液体（高分子フィルムシートの貧溶
媒）を介して高分子フィルムシートに接触して回転さ
せ、液体によって保たれるごく薄い膜厚より高い突起部
を削り取るという研磨方法が提案されている。しかし、
この方法は削り取られた突起部の角の部分が鋭い形状の
まま残ること及び凹部に対して有効でないという問題点
がある。
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的とすると
ころは、高分子シートの製造に於いて、平滑性に優れた
高分子シートを効率よく製造する手法を提供するもので
あり、さらに詳しくは高耐熱性高分子の平滑性良好なシ
ートを効率良く製造し提供することにある。
ころは、高分子シートの製造に於いて、平滑性に優れた
高分子シートを効率よく製造する手法を提供するもので
あり、さらに詳しくは高耐熱性高分子の平滑性良好なシ
ートを効率良く製造し提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、 １．高分子フィルムシートの片面または両面に、高分子
フィルムシートを溶解する成分を含む液体を供給しなが
ら、連続的に研磨して平滑化することを特徴とする高分
子フィルムシートの製造方法であり、 ２．高分子フィルムシートを溶解する成分を含む液体
が、研磨材を含むものである前記１記載の高分子フィル
ムシートの製造方法であり、 ３．回転ロールを用いて研磨を行うものである前記１又
は２記載の高分子フィルムシートの製造方法であり、 ４．前記１〜３記載の製造方法を用いて製造された、任
意の２ｍｍの間隔での表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）が
０．１μｍ以下である高分子フィルムシート である。
フィルムシートを溶解する成分を含む液体を供給しなが
ら、連続的に研磨して平滑化することを特徴とする高分
子フィルムシートの製造方法であり、 ２．高分子フィルムシートを溶解する成分を含む液体
が、研磨材を含むものである前記１記載の高分子フィル
ムシートの製造方法であり、 ３．回転ロールを用いて研磨を行うものである前記１又
は２記載の高分子フィルムシートの製造方法であり、 ４．前記１〜３記載の製造方法を用いて製造された、任
意の２ｍｍの間隔での表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）が
０．１μｍ以下である高分子フィルムシート である。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明の高分子フィルムシートと
して使用される高分子の例を挙げると、ポリエステル、
ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケ
トン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリイミド、ポリ
アミドイミド、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、アク
リル樹脂、ノルボルネン系高分子及びこれをブレンドし
た樹脂等をあげることができるがこれらに限定されるも
のではない。中でも液晶表示素子製造上、透明性、耐熱
性、加工性、耐衝撃性のバランスの良いポリエーテルス
ルホンが好ましい。高分子フィルムシート原反の厚み
は、１０μｍ以上５００μｍ以下が好ましく、更に好ま
しくは５０μｍ以上４００μｍ以下である。高分子フィ
ルムシートの厚みが１０μｍ未満であると切れやすく取
り扱いが困難であり、又、液晶表示素子の基板間隔の保
持が難しく、５００μｍを越えると剛性が高くなりロー
ルでの連続加工が困難となる。
して使用される高分子の例を挙げると、ポリエステル、
ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケ
トン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリイミド、ポリ
アミドイミド、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、アク
リル樹脂、ノルボルネン系高分子及びこれをブレンドし
た樹脂等をあげることができるがこれらに限定されるも
のではない。中でも液晶表示素子製造上、透明性、耐熱
性、加工性、耐衝撃性のバランスの良いポリエーテルス
ルホンが好ましい。高分子フィルムシート原反の厚み
は、１０μｍ以上５００μｍ以下が好ましく、更に好ま
しくは５０μｍ以上４００μｍ以下である。高分子フィ
ルムシートの厚みが１０μｍ未満であると切れやすく取
り扱いが困難であり、又、液晶表示素子の基板間隔の保
持が難しく、５００μｍを越えると剛性が高くなりロー
ルでの連続加工が困難となる。
【０００７】本発明において用いられる高分子フィルム
シートを溶解する成分は、使用する高分子によって異な
るが、例えばポリエステルやポリイミドにはアルカリ水
溶液等を、ポリエーテルスルホンにはメチルエチルケト
ンやジメチルホルムアミド等を、ポリアミドイミドには
N-メチル-2-ピロリドン等を用いることができる。高分
子フィルムシートの溶解性が高すぎると、フィルムとし
て連続処理する際の搬送時の張力で切れてしまうことが
あるため、高分子フィルムシートを溶解しない成分と混
合して溶解性を調節して用いてもかまわない。
シートを溶解する成分は、使用する高分子によって異な
るが、例えばポリエステルやポリイミドにはアルカリ水
溶液等を、ポリエーテルスルホンにはメチルエチルケト
ンやジメチルホルムアミド等を、ポリアミドイミドには
N-メチル-2-ピロリドン等を用いることができる。高分
子フィルムシートの溶解性が高すぎると、フィルムとし
て連続処理する際の搬送時の張力で切れてしまうことが
あるため、高分子フィルムシートを溶解しない成分と混
合して溶解性を調節して用いてもかまわない。
【０００８】本発明中の高分子フィルムシートを溶解す
る成分を含む液体（以下、研磨液と記す）は、研磨材を
含むものであることが好ましい。このような研磨液は、
研磨材を含まない研磨液より研磨を速やかに行うとこが
できる。このような研磨材の例としては酸化アルミニウ
ム、水酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化亜鉛、酸化チ
タン等の微粉末が挙げられるがこれらに限定されるもの
ではない。微粉末の粒子の粒径は、０．３μｍ以下であ
ることが好ましく、さらに０．１μｍ以下であることが
より好ましい。
る成分を含む液体（以下、研磨液と記す）は、研磨材を
含むものであることが好ましい。このような研磨液は、
研磨材を含まない研磨液より研磨を速やかに行うとこが
できる。このような研磨材の例としては酸化アルミニウ
ム、水酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化亜鉛、酸化チ
タン等の微粉末が挙げられるがこれらに限定されるもの
ではない。微粉末の粒子の粒径は、０．３μｍ以下であ
ることが好ましく、さらに０．１μｍ以下であることが
より好ましい。
【０００９】本発明においては連続的に研磨を行うこと
を特徴とするが、これは、ロール状の原反から高分子フ
ィルムシートを巻き出して研磨部に通し、研磨後に水ま
たは高分子フィルムシートを溶解・膨潤しない有機溶剤
等で洗浄した後にロールとして巻き取る、または枚葉シ
ートに切断して回収することにより行うことができる。
ロールからの巻き出しではなく、連続キャストや溶融押
出等により製造される高分子フィルムシートを連続的に
供給してもかまわない。
を特徴とするが、これは、ロール状の原反から高分子フ
ィルムシートを巻き出して研磨部に通し、研磨後に水ま
たは高分子フィルムシートを溶解・膨潤しない有機溶剤
等で洗浄した後にロールとして巻き取る、または枚葉シ
ートに切断して回収することにより行うことができる。
ロールからの巻き出しではなく、連続キャストや溶融押
出等により製造される高分子フィルムシートを連続的に
供給してもかまわない。
【００１０】本発明において研磨を行う際には、平面な
台の上に高分子フィルムシートを通し、研磨液を供給し
ながら平板の研磨パッドで研磨するか、平面な台又はバ
ックロールと、研磨を行う回転ロール（以下、研磨ロー
ルと記す）との間に高分子フィルムシートを通し、研磨
液を供給しながら研磨ロールで研磨を行うことができ
る。また研磨ロールとバックロールとで挟むのではな
く、フィルムを張っているところへ研磨ロールを当てる
キスロール方式でも行うことができる。これらのうち、
高分子フィルムシートを連続的に加工することから、研
磨ロールを用いる方式が特に特に好ましい。研磨ロール
は、凹凸を刻印した金属ロール、鏡面仕上げの金属ロー
ル、グラスファイバー等のバフを巻いたロールを用いる
ことができる。
台の上に高分子フィルムシートを通し、研磨液を供給し
ながら平板の研磨パッドで研磨するか、平面な台又はバ
ックロールと、研磨を行う回転ロール（以下、研磨ロー
ルと記す）との間に高分子フィルムシートを通し、研磨
液を供給しながら研磨ロールで研磨を行うことができ
る。また研磨ロールとバックロールとで挟むのではな
く、フィルムを張っているところへ研磨ロールを当てる
キスロール方式でも行うことができる。これらのうち、
高分子フィルムシートを連続的に加工することから、研
磨ロールを用いる方式が特に特に好ましい。研磨ロール
は、凹凸を刻印した金属ロール、鏡面仕上げの金属ロー
ル、グラスファイバー等のバフを巻いたロールを用いる
ことができる。
【００１１】本発明の方法で製造できる高分子フィルム
シートは平滑性が良好であることを特徴とするが、その
中でも液晶表示素子用基板などの光学用途としてはＲｍ
ａｘが０．１μｍであるものが好ましい。
シートは平滑性が良好であることを特徴とするが、その
中でも液晶表示素子用基板などの光学用途としてはＲｍ
ａｘが０．１μｍであるものが好ましい。
【実施例】以下本発明を実施例、比較例、図面によって
説明するが、本発明は実施例により何ら限定されるもの
ではない。シートの光学的物性は次の方法により測定し
た。 （１）シート厚み 接触式ダイヤルゲージで高分子シートの幅方向に２０ｍ
ｍ間隔で測定した平均値。 （２）高分子フィルムシートの表面粗さの最大（Ｒｍａ
ｘ） 接触式の精密段差計（TENCOR INSTRUMENTS製、ALPHA-ST
EP200）により、高分子シートの幅方向に１ｍｍのスキ
ャン幅にて全幅を測定した凹凸の最大値。
説明するが、本発明は実施例により何ら限定されるもの
ではない。シートの光学的物性は次の方法により測定し
た。 （１）シート厚み 接触式ダイヤルゲージで高分子シートの幅方向に２０ｍ
ｍ間隔で測定した平均値。 （２）高分子フィルムシートの表面粗さの最大（Ｒｍａ
ｘ） 接触式の精密段差計（TENCOR INSTRUMENTS製、ALPHA-ST
EP200）により、高分子シートの幅方向に１ｍｍのスキ
ャン幅にて全幅を測定した凹凸の最大値。
【００１２】《実施例１》 （１−１）研磨液の配合 メチルエチルケトン１２ｋｇとプロピレングリコールモ
ノ−ｎ−ブチルエーテル８ｋｇを混合、撹拌して研磨液
とした。 （１−２）研磨の実施 厚さ２００μｍ、表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）が０．３
μｍのポリエーテルスルホン（以下、ＰＥＳと記す）の
幅５００ｍｍ長さ５００ｍのロール原反を用い、巻出装
置、図１に示す研磨装置および温水シャワー洗浄ゾー
ン、熱風乾燥ゾーン、蛇行調整装置および巻取装置を有
する製造装置を用いて次の加工を行った。まず、巻出装
置からラインスピード２ｍ／ｍｉｎでＰＥＳフィルムシ
ート（８）を巻き出し研磨装置へ搬送した。研磨装置で
は、（１−１）で配合した研磨液（３）をバット（４）
に供給しながら、直径３０ｃｍ平均表面粗さＲａ＝０．
０５μｍの研磨ロール（１）とバックロール（２）との
間にシートを挟み、研磨ロール（１）を４０ｒｐｍでＰ
ＥＳの走行方向と逆方向に回転させながらの研磨を行っ
た。続いて温水シャワー（５）の洗浄により研磨液を除
去し、長さ３ｍ温度１２０℃の乾燥ゾーンを３ゾーン通
して乾燥した後に巻取機で巻き取った。 （１−３）評価 得られたＰＥＳを５００ｍｍ角のシートに切り出しのＲ
ｍａｘを測定したところ、０．０３μｍであった。次
に、この高分子シート上に、ＤＣマグネトロン法によ
り、初期真空度３×１０-4Ｐａの状態から酸素／アルゴ
ンガス９％の混合ガスを導入して３×１０-1Ｐａの条件
下においてスパッタリングを行い５００Å厚のＳｉＯ2
を得た。続いて、透明導電膜として、同じくＤＣマグネ
トロン法により初期真空度３×１０-4Ｐａの状態から酸
素／アルゴンガス４％の混合ガスを導入して１×１０-1
Ｐａの条件下においてスパッタリングを行いＩｎ／(Ｉ
ｎ＋Ｓｎ)の原子比が０．９８である酸化インジウム錫
（ＩＴＯ）からなる透明導電膜を得た。測定の結果、膜
厚は１６００Å、比抵抗は４×１０-4Ω−ｃｍであっ
た。ＩＴＯを成膜後、レジストを塗布して現像し、エッ
チング液として１０ｖｏｌ％ＨＣｌ、液温４０℃中でパ
ターンエッチングし、対角長さ３インチ、Ｌ／Ｓ＝１５
０／５０μｍの表示パターンを形成した。パターン形成
後、ＳＴＮ用配向膜を塗布し、１５０℃２ｈｒの焼成処
理を行った後、２４０度ツイストの配向となるようラビ
ング処理を行った。ラビング処理後、スペーサーを散布
し、シール剤を塗布し、１３０℃でシール硬化させてセ
ル化し、ＳＴＮ用液晶組成物を注入した。偏光板をコン
トラストの最大となる位置に貼り合わせて液晶表示素子
を作製した。この液晶表示素子を駆動電圧０Ｖから±５
Ｖで点灯試験を行ったところ、液晶のセルギャップ異常
による表示ムラは見られず良好な表示を示した。
ノ−ｎ−ブチルエーテル８ｋｇを混合、撹拌して研磨液
とした。 （１−２）研磨の実施 厚さ２００μｍ、表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）が０．３
μｍのポリエーテルスルホン（以下、ＰＥＳと記す）の
幅５００ｍｍ長さ５００ｍのロール原反を用い、巻出装
置、図１に示す研磨装置および温水シャワー洗浄ゾー
ン、熱風乾燥ゾーン、蛇行調整装置および巻取装置を有
する製造装置を用いて次の加工を行った。まず、巻出装
置からラインスピード２ｍ／ｍｉｎでＰＥＳフィルムシ
ート（８）を巻き出し研磨装置へ搬送した。研磨装置で
は、（１−１）で配合した研磨液（３）をバット（４）
に供給しながら、直径３０ｃｍ平均表面粗さＲａ＝０．
０５μｍの研磨ロール（１）とバックロール（２）との
間にシートを挟み、研磨ロール（１）を４０ｒｐｍでＰ
ＥＳの走行方向と逆方向に回転させながらの研磨を行っ
た。続いて温水シャワー（５）の洗浄により研磨液を除
去し、長さ３ｍ温度１２０℃の乾燥ゾーンを３ゾーン通
して乾燥した後に巻取機で巻き取った。 （１−３）評価 得られたＰＥＳを５００ｍｍ角のシートに切り出しのＲ
ｍａｘを測定したところ、０．０３μｍであった。次
に、この高分子シート上に、ＤＣマグネトロン法によ
り、初期真空度３×１０-4Ｐａの状態から酸素／アルゴ
ンガス９％の混合ガスを導入して３×１０-1Ｐａの条件
下においてスパッタリングを行い５００Å厚のＳｉＯ2
を得た。続いて、透明導電膜として、同じくＤＣマグネ
トロン法により初期真空度３×１０-4Ｐａの状態から酸
素／アルゴンガス４％の混合ガスを導入して１×１０-1
Ｐａの条件下においてスパッタリングを行いＩｎ／(Ｉ
ｎ＋Ｓｎ)の原子比が０．９８である酸化インジウム錫
（ＩＴＯ）からなる透明導電膜を得た。測定の結果、膜
厚は１６００Å、比抵抗は４×１０-4Ω−ｃｍであっ
た。ＩＴＯを成膜後、レジストを塗布して現像し、エッ
チング液として１０ｖｏｌ％ＨＣｌ、液温４０℃中でパ
ターンエッチングし、対角長さ３インチ、Ｌ／Ｓ＝１５
０／５０μｍの表示パターンを形成した。パターン形成
後、ＳＴＮ用配向膜を塗布し、１５０℃２ｈｒの焼成処
理を行った後、２４０度ツイストの配向となるようラビ
ング処理を行った。ラビング処理後、スペーサーを散布
し、シール剤を塗布し、１３０℃でシール硬化させてセ
ル化し、ＳＴＮ用液晶組成物を注入した。偏光板をコン
トラストの最大となる位置に貼り合わせて液晶表示素子
を作製した。この液晶表示素子を駆動電圧０Ｖから±５
Ｖで点灯試験を行ったところ、液晶のセルギャップ異常
による表示ムラは見られず良好な表示を示した。
【００１３】《実施例２》 （２−１）研磨液の配合 メチルエチルケトン７ｋｇ、プロピレングリコールモノ
−ｎ−ブチルエーテル８ｋｇ、最大粒径０．０４μｍの
酸化珪素を３０重量％分散したメチルエチルケトン分散
液５ｋｇを混合、撹拌して研磨液とした。 （２−２）研磨の実施 研磨液に（２−１）で配合したものを用い、ラインスピ
ードを５ｍ／ｍｉｎとした以外は実施例１の（１−２）
と同様にして行った。 （２−３）評価 得られたＰＥＳを５００ｍｍ角のシートに切り出しのＲ
ｍａｘを測定したところ、０．０４μｍであった。次
に、実施例１と同様にして液晶表示素子を作製した。こ
の液晶表示素子を駆動電圧０Ｖから±５Ｖで点灯試験を
行ったところ、液晶のセルギャップ異常による表示ムラ
は見られず良好な表示を示した。
−ｎ−ブチルエーテル８ｋｇ、最大粒径０．０４μｍの
酸化珪素を３０重量％分散したメチルエチルケトン分散
液５ｋｇを混合、撹拌して研磨液とした。 （２−２）研磨の実施 研磨液に（２−１）で配合したものを用い、ラインスピ
ードを５ｍ／ｍｉｎとした以外は実施例１の（１−２）
と同様にして行った。 （２−３）評価 得られたＰＥＳを５００ｍｍ角のシートに切り出しのＲ
ｍａｘを測定したところ、０．０４μｍであった。次
に、実施例１と同様にして液晶表示素子を作製した。こ
の液晶表示素子を駆動電圧０Ｖから±５Ｖで点灯試験を
行ったところ、液晶のセルギャップ異常による表示ムラ
は見られず良好な表示を示した。
【００１４】《比較例》厚さ２００μｍ、表面粗さの最
大（Ｒｍａｘ）が０．３μｍのＰＥＳを、研磨を行わず
に用いて実施例１と同様にして液晶表示素子を作製し
た。この液晶表示素子を駆動電圧０Ｖから±５Ｖで点灯
試験を行ったところ、液晶のセルギャップ異常による表
示ムラが観られ、表示素子としては不適格であった。
大（Ｒｍａｘ）が０．３μｍのＰＥＳを、研磨を行わず
に用いて実施例１と同様にして液晶表示素子を作製し
た。この液晶表示素子を駆動電圧０Ｖから±５Ｖで点灯
試験を行ったところ、液晶のセルギャップ異常による表
示ムラが観られ、表示素子としては不適格であった。
【００１５】
【発明の効果】本発明の製造方法を用いることにより、
表面平滑性が良好な高耐熱性高分子フィルムシートを安
定して、効率よく連続製造することができる。又本発明
により得られたフィルムシートは表面粗さの最大値が小
さく良好なものであり、光学基板として液晶表示素子に
使用した場合にも良好なものであった。
表面平滑性が良好な高耐熱性高分子フィルムシートを安
定して、効率よく連続製造することができる。又本発明
により得られたフィルムシートは表面粗さの最大値が小
さく良好なものであり、光学基板として液晶表示素子に
使用した場合にも良好なものであった。
【図１】実施例で用いた研磨装置および温水シャワーゾ
ーンの概略断面図。
ーンの概略断面図。
１．・・・研磨ロール ２．・・・バックロール ３．・・・研磨液 ４．・・・バット ５．・・・温水シャワー ６．・・・張力検出ロール ７．・・・ニップロール ８．・・・高分子シート
Claims (4)
- 【請求項１】高分子フィルムシートの片面または両面
に、高分子フィルムシートを溶解する成分を含む液体を
供給しながら、連続的に研磨して平滑化することを特徴
とする高分子フィルムシートの製造方法。 - 【請求項２】高分子フィルムシートを溶解する成分を含
む液体が、研磨材を含むものである請求項１記載の高分
子フィルムシートの製造方法。 - 【請求項３】回転ロールを用いて研磨を行うものである
請求項１又は２記載の高分子フィルムシートの製造方
法。 - 【請求項４】請求項１〜３の製造方法を用いて製造され
た、任意の２ｍｍの間隔での表面粗さの最大（Ｒｍａ
ｘ）が０．１μｍ以下である高分子フィルムシート。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000060032A JP2001247690A (ja) | 2000-03-06 | 2000-03-06 | 高分子フィルムシートの製造方法及びこれを用いた高分子フィルムシート |
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| JP2000060032A JP2001247690A (ja) | 2000-03-06 | 2000-03-06 | 高分子フィルムシートの製造方法及びこれを用いた高分子フィルムシート |
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|---|---|
| JP2001247690A true JP2001247690A (ja) | 2001-09-11 |
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|---|---|---|---|
| JP2000060032A Pending JP2001247690A (ja) | 2000-03-06 | 2000-03-06 | 高分子フィルムシートの製造方法及びこれを用いた高分子フィルムシート |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001247690A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004160897A (ja) * | 2002-11-14 | 2004-06-10 | Du Pont Toray Co Ltd | ポリイミドフイルム |
| JP2007016076A (ja) * | 2005-07-05 | 2007-01-25 | Lintec Corp | 高平滑フィルムおよびその製造方法、ならびに光記録媒体用保護層形成シートおよび光記録媒体 |
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2000
- 2000-03-06 JP JP2000060032A patent/JP2001247690A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004160897A (ja) * | 2002-11-14 | 2004-06-10 | Du Pont Toray Co Ltd | ポリイミドフイルム |
| JP4521683B2 (ja) * | 2002-11-14 | 2010-08-11 | 東レ・デュポン株式会社 | ポリイミドフイルム |
| JP2007016076A (ja) * | 2005-07-05 | 2007-01-25 | Lintec Corp | 高平滑フィルムおよびその製造方法、ならびに光記録媒体用保護層形成シートおよび光記録媒体 |
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