JP2001328213A - 平滑性を有するプラスチックシート及びに光学用シート - Google Patents
平滑性を有するプラスチックシート及びに光学用シートInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 表面平滑性に優れたプラスチックシート 及
び これを用いた光学用シートを提供する。 【解決手段】 プラスチックシート上にそのプラスチッ
クシート組成の樹脂を溶解した溶液を塗布した後、乾燥
処理するプラスチックシート。
び これを用いた光学用シートを提供する。 【解決手段】 プラスチックシート上にそのプラスチッ
クシート組成の樹脂を溶解した溶液を塗布した後、乾燥
処理するプラスチックシート。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、平面平滑性に優
れ、リタデーションの小さいプラスチックシート及び
これを用いて製造した光学用シートに関するものであ
る。
れ、リタデーションの小さいプラスチックシート及び
これを用いて製造した光学用シートに関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、液晶表示素子用透明電極基板には
ガラス基板が採用されてきたが、ガラス基板を用いた液
晶表示素子においては、ガラス基板自体が厚いため液晶
表示素子自体の薄型化が困難であると共に、軽量化しに
くいという欠点があり、更に耐衝撃性の点で問題があっ
た。このガラス基板液晶表示素子のもつ欠点を改善する
方法として、光学用シートを用いて液晶表示素子を作製
することにより、軽量化、耐衝撃性の向上が検討されて
いる。例えば、特開昭５３−６８０９９号公報及び特開
昭５４−１２６５５９号公報には、ガラス基板の代わり
に導電性酸化金属物質を蒸着した長尺のポリエステルフ
ィルムを用いて液晶表示素子を連続して製造することが
示されているが、研磨により極めて良好な平滑性が得ら
れるガラス基板と異なり、プラスチックシートの場合に
は表面の平滑性に優れているとは言い難いものであっ
た。特に、高精細な表示を得るためにＳＴＮ（Super Tw
isted Nematic）型液晶表示素子とした場合には、間隔
を0.1μm単位で制御された基板間の液晶の複屈折性を利
用して表示を行うために前記のプラスチックシートの表
面平滑性が極めて重要になっている。
ガラス基板が採用されてきたが、ガラス基板を用いた液
晶表示素子においては、ガラス基板自体が厚いため液晶
表示素子自体の薄型化が困難であると共に、軽量化しに
くいという欠点があり、更に耐衝撃性の点で問題があっ
た。このガラス基板液晶表示素子のもつ欠点を改善する
方法として、光学用シートを用いて液晶表示素子を作製
することにより、軽量化、耐衝撃性の向上が検討されて
いる。例えば、特開昭５３−６８０９９号公報及び特開
昭５４−１２６５５９号公報には、ガラス基板の代わり
に導電性酸化金属物質を蒸着した長尺のポリエステルフ
ィルムを用いて液晶表示素子を連続して製造することが
示されているが、研磨により極めて良好な平滑性が得ら
れるガラス基板と異なり、プラスチックシートの場合に
は表面の平滑性に優れているとは言い難いものであっ
た。特に、高精細な表示を得るためにＳＴＮ（Super Tw
isted Nematic）型液晶表示素子とした場合には、間隔
を0.1μm単位で制御された基板間の液晶の複屈折性を利
用して表示を行うために前記のプラスチックシートの表
面平滑性が極めて重要になっている。
【０００３】表面平滑性を解決する方法として、液状の
紫外線硬化性樹脂組成物または熱硬化性樹脂組成物を研
磨ガラス面上等に流し込み、これを硬化してシートを得
る方法が提案されている。しかし、この方法では、得ら
れるシートが脆く取り扱い時に割れたり欠けるという問
題が起こっており、ガラス基板に対してプラスチックシ
ートを用いる優位性が十分発揮されていない。さらに、
この方法は生産性が低く、結果として基板が高価になっ
てしまう。
紫外線硬化性樹脂組成物または熱硬化性樹脂組成物を研
磨ガラス面上等に流し込み、これを硬化してシートを得
る方法が提案されている。しかし、この方法では、得ら
れるシートが脆く取り扱い時に割れたり欠けるという問
題が起こっており、ガラス基板に対してプラスチックシ
ートを用いる優位性が十分発揮されていない。さらに、
この方法は生産性が低く、結果として基板が高価になっ
てしまう。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的とすると
ころは、プラスチックシートの表面平滑性が優れ、液晶
表示素子用基板等の光学用シート用として優れた特性を
持つプラスチックシートをと良好な光学用シートを提供
することにある。
ころは、プラスチックシートの表面平滑性が優れ、液晶
表示素子用基板等の光学用シート用として優れた特性を
持つプラスチックシートをと良好な光学用シートを提供
することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明の第一の発
明はプラスチックシート上にそのプラスチックシート組
成の樹脂を溶解した溶液を塗布した後、乾燥処理をする
ことを特徴とする平滑性を有するプラスチックシートで
あり、さらに第二の発明は第一のプラスチックシートを
用いて製造した光学用シートである。
明はプラスチックシート上にそのプラスチックシート組
成の樹脂を溶解した溶液を塗布した後、乾燥処理をする
ことを特徴とする平滑性を有するプラスチックシートで
あり、さらに第二の発明は第一のプラスチックシートを
用いて製造した光学用シートである。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明中のプラスチックシートと
して使用されるプラスチックの例を挙げると、ポリエス
テル、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリエー
テルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリイミ
ド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、エポキシ樹
脂、アクリル樹脂、ノルボルネン系樹脂等及びこれら混
合物をあげることができる。中でも液晶表示素子製造
上、透明性、耐熱性、加工性、耐衝撃性のバランスの良
いポリエーテルサルホンが特に好ましい。プラスチック
シート原反の厚みは、１０〜５００μｍ以下が好まし
く、更に好ましくは５０〜４００μｍ以下である。プラ
スチックシートの厚みが１０μｍ未満であると切れやす
く取り扱いが困難であり、又、液晶表示素子の基板間隔
の保持が難しく、５００μｍを越えるとロールへの密着
が困難となる。
して使用されるプラスチックの例を挙げると、ポリエス
テル、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリエー
テルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリイミ
ド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、エポキシ樹
脂、アクリル樹脂、ノルボルネン系樹脂等及びこれら混
合物をあげることができる。中でも液晶表示素子製造
上、透明性、耐熱性、加工性、耐衝撃性のバランスの良
いポリエーテルサルホンが特に好ましい。プラスチック
シート原反の厚みは、１０〜５００μｍ以下が好まし
く、更に好ましくは５０〜４００μｍ以下である。プラ
スチックシートの厚みが１０μｍ未満であると切れやす
く取り扱いが困難であり、又、液晶表示素子の基板間隔
の保持が難しく、５００μｍを越えるとロールへの密着
が困難となる。
【０００７】本発明で用いられる溶剤は、プラスチック
シートとして使用するプラスチック組成の樹脂を溶解す
るものであれば構わない。液晶表示素子製造上、透明
性、耐熱性、加工性、耐衝撃性のバランスの良いポリエ
ーテルサルホンに用いられる溶剤の例を挙げると １−
メチル−２−ピロリドン，ジクロロメタン，Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド，シクロヘキサノン，γ−ブチロラ
クトン等を挙げることができるがこれらに限定されるも
のではない。また、これら溶剤は、２種以上の混合した
ものであっても構わない。
シートとして使用するプラスチック組成の樹脂を溶解す
るものであれば構わない。液晶表示素子製造上、透明
性、耐熱性、加工性、耐衝撃性のバランスの良いポリエ
ーテルサルホンに用いられる溶剤の例を挙げると １−
メチル−２−ピロリドン，ジクロロメタン，Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド，シクロヘキサノン，γ−ブチロラ
クトン等を挙げることができるがこれらに限定されるも
のではない。また、これら溶剤は、２種以上の混合した
ものであっても構わない。
【０００８】本発明において、プラスチックシート上に
塗布するそのプラスチックシート組成の樹脂を溶解した
溶液の粘度は４０００（ポイズ／３０℃）以下が好まし
い。さらに好ましくは１０００（ポアズ／３０℃）以下
である。プラスチックシート組成の樹脂を溶解した溶液
の粘度が４０００（ポアズ／３０℃）を超えると この
溶液をプラスチックシート上に塗布した時、プラスチッ
クシート上への均一な溶液の塗布が難しく、プラスチッ
クシート表面上の凹凸が平滑にならない。また、溶液の
取り扱いも困難になり、効率よく連続生産することが難
しい。
塗布するそのプラスチックシート組成の樹脂を溶解した
溶液の粘度は４０００（ポイズ／３０℃）以下が好まし
い。さらに好ましくは１０００（ポアズ／３０℃）以下
である。プラスチックシート組成の樹脂を溶解した溶液
の粘度が４０００（ポアズ／３０℃）を超えると この
溶液をプラスチックシート上に塗布した時、プラスチッ
クシート上への均一な溶液の塗布が難しく、プラスチッ
クシート表面上の凹凸が平滑にならない。また、溶液の
取り扱いも困難になり、効率よく連続生産することが難
しい。
【０００９】本発明において プラスチックシートに塗
布するプラスチックシート組成の樹脂を溶解した溶液
は、レベリング剤を必要に応じて添加することができ
る。レベリング剤の例としてパーフルオロアルキルスル
ホン酸カルシウム塩・パーフルオロアルキルスルホン酸
カリウム塩・パーフルオロアルキルスルホン酸アンモニ
ウム塩・パーフルオロアルキルエチレノキシド・パーフ
ルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩・フッ素化ア
ルキルエステル等を挙げることができる。
布するプラスチックシート組成の樹脂を溶解した溶液
は、レベリング剤を必要に応じて添加することができ
る。レベリング剤の例としてパーフルオロアルキルスル
ホン酸カルシウム塩・パーフルオロアルキルスルホン酸
カリウム塩・パーフルオロアルキルスルホン酸アンモニ
ウム塩・パーフルオロアルキルエチレノキシド・パーフ
ルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩・フッ素化ア
ルキルエステル等を挙げることができる。
【００１０】本発明におけるプラスチックシートは、プ
ラスチックシート上にそのプラスチックシート組成の樹
脂を溶解した溶液を塗布した後、乾燥処理を行うことに
より、表面が平滑なプラスチックシートを製造すること
ができる。これら溶液をプラスチックシート表面上に塗
布する方法としてはロールコーティング・スプレーコー
ティング・ダイコーティング・ナイフコーティング法等
が挙げられる。さらに、これら溶液をプラスチックシー
ト表面上に塗布する時の溶液温度は、生産コスト上２０
〜５０℃が好ましい。また、、乾燥処理はプラスチック
シートの変形を防ぐため、プラスチックシートのガラス
転移温度以下で行うことが好ましい。
ラスチックシート上にそのプラスチックシート組成の樹
脂を溶解した溶液を塗布した後、乾燥処理を行うことに
より、表面が平滑なプラスチックシートを製造すること
ができる。これら溶液をプラスチックシート表面上に塗
布する方法としてはロールコーティング・スプレーコー
ティング・ダイコーティング・ナイフコーティング法等
が挙げられる。さらに、これら溶液をプラスチックシー
ト表面上に塗布する時の溶液温度は、生産コスト上２０
〜５０℃が好ましい。また、、乾燥処理はプラスチック
シートの変形を防ぐため、プラスチックシートのガラス
転移温度以下で行うことが好ましい。
【００１１】
【実施例】以下本発明を実施例、比較例を示すことでさ
らに詳細に説明する。シートの光学的物性は次の方法に
より測定した。 （１）シート厚み 接触式ダイヤルゲージでプラスチックシートの幅方向に
２０ｍｍ間隔で測定した平均値。 （２）プラスチックシートの表面粗さの最大（Ｒｍａ
ｘ） 接触式の精密段差計（TENCOR INSTRUMENTS製、AlPHA-ST
EP200）により、プラスチックシートの幅方向に２ｍｍ
のスキャン幅にて全幅を測定した凹凸の最大値。
らに詳細に説明する。シートの光学的物性は次の方法に
より測定した。 （１）シート厚み 接触式ダイヤルゲージでプラスチックシートの幅方向に
２０ｍｍ間隔で測定した平均値。 （２）プラスチックシートの表面粗さの最大（Ｒｍａ
ｘ） 接触式の精密段差計（TENCOR INSTRUMENTS製、AlPHA-ST
EP200）により、プラスチックシートの幅方向に２ｍｍ
のスキャン幅にて全幅を測定した凹凸の最大値。
【００１２】《実施例１》厚さ２００μｍ、表面粗さの
最大（Ｒｍａｘ）が０．３μｍのポリエーテルサルホン
をプラスチックシートとして用い、巻出装置、コーター
部、加熱乾燥ゾーン、巻取装置を有する製造装置を用い
て次の加工を行った。まず、ポリエーテルサルホンを溶
剤として１−メチル−２−ピロリドンに溶解して
１０ポアズの溶液を作製する。この溶液を３０℃にて撹
拌したしながらコーター部のグラビヤロールコーターで
乾燥前膜厚１０μｍで塗布し、加熱乾燥ゾーン中１００
℃で５分間加熱して溶媒を除去したのち プラスチック
シートの巻き取りを行った。得られたプラスチックシー
トの溶剤塗布面のＲｍａｘを測定したところ０．０２μ
ｍであった。次に、このプラスチックシート上に、ＤＣ
マグネトロン法により、初期真空度３×１０-4Ｐａの状
態から酸素／アルゴンガス９％の混合ガスを導入して３
×１０-1Ｐａの条件下においてスパッタリングを行い５
００Å厚のＳｉＯ2を得た。続いて、透明導電膜とし
て、同じくＤＣマグネトロン法により初期真空度３×１
０-4Ｐａの状態から酸素／アルゴンガス４％の混合ガス
を導入して１×１０-1Ｐａの条件下においてスパッタリ
ングを行いＩｎ／Ｉｎ＋Ｓｎの原子比が０．９８である
酸化インジウム錫（ＩＴＯ）からなる透明導電膜を得
た。測定の結果、膜厚は１６００Å、非抵抗は４×１０
-4Ω−ｃｍであった。ＩＴＯを成膜後、レジストを塗布
して現像し、エッチング液として１０ｖｏｌ％ＨＣＬ、
液温４０℃中でパターンエッチングし、対角長さ３イン
チ、Ｌ／Ｓ＝１５０／５０μｍの表示パターンを形成し
た。パターン形成後、ＳＴＮ用配向膜を塗布し、１５０
℃２ｈｒの焼成処理を行った後、２４０度ツイストの配
向となるようラビング処理を行った。ラビング処理後、
スペーサーを散布し、シール剤を塗布し、１３０℃でシ
ール硬化させてセル化し、ＳＴＮ用液晶組成物を注入し
た。偏光板をコントラストの最大となる位置に貼り合わ
せて液晶表示素子を作製した。この液晶表示素子を駆動
電圧０Ｖから±５Ｖで点灯試験を行ったところ、液晶の
セルギャップ異常による表示ムラは見られず良好な表示
を示した。
最大（Ｒｍａｘ）が０．３μｍのポリエーテルサルホン
をプラスチックシートとして用い、巻出装置、コーター
部、加熱乾燥ゾーン、巻取装置を有する製造装置を用い
て次の加工を行った。まず、ポリエーテルサルホンを溶
剤として１−メチル−２−ピロリドンに溶解して
１０ポアズの溶液を作製する。この溶液を３０℃にて撹
拌したしながらコーター部のグラビヤロールコーターで
乾燥前膜厚１０μｍで塗布し、加熱乾燥ゾーン中１００
℃で５分間加熱して溶媒を除去したのち プラスチック
シートの巻き取りを行った。得られたプラスチックシー
トの溶剤塗布面のＲｍａｘを測定したところ０．０２μ
ｍであった。次に、このプラスチックシート上に、ＤＣ
マグネトロン法により、初期真空度３×１０-4Ｐａの状
態から酸素／アルゴンガス９％の混合ガスを導入して３
×１０-1Ｐａの条件下においてスパッタリングを行い５
００Å厚のＳｉＯ2を得た。続いて、透明導電膜とし
て、同じくＤＣマグネトロン法により初期真空度３×１
０-4Ｐａの状態から酸素／アルゴンガス４％の混合ガス
を導入して１×１０-1Ｐａの条件下においてスパッタリ
ングを行いＩｎ／Ｉｎ＋Ｓｎの原子比が０．９８である
酸化インジウム錫（ＩＴＯ）からなる透明導電膜を得
た。測定の結果、膜厚は１６００Å、非抵抗は４×１０
-4Ω−ｃｍであった。ＩＴＯを成膜後、レジストを塗布
して現像し、エッチング液として１０ｖｏｌ％ＨＣＬ、
液温４０℃中でパターンエッチングし、対角長さ３イン
チ、Ｌ／Ｓ＝１５０／５０μｍの表示パターンを形成し
た。パターン形成後、ＳＴＮ用配向膜を塗布し、１５０
℃２ｈｒの焼成処理を行った後、２４０度ツイストの配
向となるようラビング処理を行った。ラビング処理後、
スペーサーを散布し、シール剤を塗布し、１３０℃でシ
ール硬化させてセル化し、ＳＴＮ用液晶組成物を注入し
た。偏光板をコントラストの最大となる位置に貼り合わ
せて液晶表示素子を作製した。この液晶表示素子を駆動
電圧０Ｖから±５Ｖで点灯試験を行ったところ、液晶の
セルギャップ異常による表示ムラは見られず良好な表示
を示した。
【００１３】《実施例２》厚さ２００μｍ、表面粗さの
最大（Ｒｍａｘ）が０．３μｍのポリエーテルサルホン
をプラスチックシートとして用い、実施例１ 同様の製
造装置を用いて次の加工を行った。まず、まず、ポリエ
ーテルサルホンを溶剤として１−メチル−２−ピロリド
ンに溶解して ５０ポイスの溶液を作製する。この溶液
をを３０℃にて撹拌したしながらコーター部のグラビヤ
ロールコーターで乾燥前膜厚１０μｍで塗布し、加熱乾
燥ゾーン中１００℃で５分間加熱して溶剤を除去したの
ちプラスチックシートの巻き取りを行った。得られたプ
ラスチックシートの溶剤塗布面のＲｍａｘを測定したと
ころ０．０４μｍであった。以下実施例１と同様にして
液晶表示素子を作成した。この液晶表示素子を駆動電圧
０Ｖから±５Ｖで点灯試験を行ったところ、液晶のセル
ギャップ異常による表示ムラは見られず良好な表示を示
した。
最大（Ｒｍａｘ）が０．３μｍのポリエーテルサルホン
をプラスチックシートとして用い、実施例１ 同様の製
造装置を用いて次の加工を行った。まず、まず、ポリエ
ーテルサルホンを溶剤として１−メチル−２−ピロリド
ンに溶解して ５０ポイスの溶液を作製する。この溶液
をを３０℃にて撹拌したしながらコーター部のグラビヤ
ロールコーターで乾燥前膜厚１０μｍで塗布し、加熱乾
燥ゾーン中１００℃で５分間加熱して溶剤を除去したの
ちプラスチックシートの巻き取りを行った。得られたプ
ラスチックシートの溶剤塗布面のＲｍａｘを測定したと
ころ０．０４μｍであった。以下実施例１と同様にして
液晶表示素子を作成した。この液晶表示素子を駆動電圧
０Ｖから±５Ｖで点灯試験を行ったところ、液晶のセル
ギャップ異常による表示ムラは見られず良好な表示を示
した。
【００１４】《比較例１》厚さ２００μｍ、表面粗さの
最大（Ｒｍａｘ）が０．３μｍのポリエーテルサルホン
をプラスチックシートとして用い、実施例１ 同様の製
造装置を用いて次の加工を行った。まず、まず、ポリエ
ーテルサルホンを溶剤として１−メチル−２−ピロリド
ンに溶解して５０００ポイスの溶液を作製する。この溶
液をを３０℃にて撹拌したしながらコーター部のグラビ
ヤロールコーターで乾燥前膜厚１０μｍで塗布し、加熱
乾燥ゾーン中１００℃で５分間加熱して溶剤を除去した
のちプラスチックシートの巻き取りを行った。得られた
プラスチックシートの溶剤塗布面のＲｍａｘを測定した
ところ０．２０μｍであった。以下実施例１と同様にし
て液晶表示素子を作成した。この液晶表示素子を駆動電
圧０Ｖから±５Ｖで点灯試験を行ったところ、液晶のセ
ルギャップ異常による表示ムラが発生した。
最大（Ｒｍａｘ）が０．３μｍのポリエーテルサルホン
をプラスチックシートとして用い、実施例１ 同様の製
造装置を用いて次の加工を行った。まず、まず、ポリエ
ーテルサルホンを溶剤として１−メチル−２−ピロリド
ンに溶解して５０００ポイスの溶液を作製する。この溶
液をを３０℃にて撹拌したしながらコーター部のグラビ
ヤロールコーターで乾燥前膜厚１０μｍで塗布し、加熱
乾燥ゾーン中１００℃で５分間加熱して溶剤を除去した
のちプラスチックシートの巻き取りを行った。得られた
プラスチックシートの溶剤塗布面のＲｍａｘを測定した
ところ０．２０μｍであった。以下実施例１と同様にし
て液晶表示素子を作成した。この液晶表示素子を駆動電
圧０Ｖから±５Ｖで点灯試験を行ったところ、液晶のセ
ルギャップ異常による表示ムラが発生した。
【００１５】
【発明の効果】本発明により得られたシートは透明性
及び 表面平滑性が良好であり、光学用シートとして最
適で、液晶表示素子用透明電極基板として液晶表示素子
を作製した場合、ガラス基板に比べて軽く割れにくいだ
けでなく、表示ムラのない良好な表示を示した。以上の
ようにして製造される光学用シートは、産業上極めて有
用なものであり、液晶表示素子用透明基板用や光学ミラ
ー用基板等として有用なものである。
及び 表面平滑性が良好であり、光学用シートとして最
適で、液晶表示素子用透明電極基板として液晶表示素子
を作製した場合、ガラス基板に比べて軽く割れにくいだ
けでなく、表示ムラのない良好な表示を示した。以上の
ようにして製造される光学用シートは、産業上極めて有
用なものであり、液晶表示素子用透明基板用や光学ミラ
ー用基板等として有用なものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H090 JB03 JB13 KA08 LA02 MB01 4F006 AA12 AA22 AA32 AA34 AA35 AA36 AA39 AA40 AB13 AB24 AB32 AB33 AB34 AB35 AB38 BA09 CA08 DA04 4F100 AK01A AK01B AK55A AK55B BA02 EH46B EJ86B GB41 JA06B JK15 YY00B
Claims (4)
- 【請求項１】 プラスチックシート上にそのプラスチッ
クシート組成の樹脂を溶解した溶液を塗布した後、乾燥
処理をすることを特徴とする平滑性を有するプラスチッ
クシート。 - 【請求項２】 プラスチックシート組成の樹脂を溶解し
た溶液の粘度が４０００（ポアズ／３０℃）以下である
請求項１記載の平滑性を有するプラスチックシート。 - 【請求項３】 請求項１又は２記載のプラスチックシー
トを用いた光学用シート。 - 【請求項４】 プラスチックがポリエーテルサルホンで
ある請求項３記載の光学用シート。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000149939A JP2001328213A (ja) | 2000-05-22 | 2000-05-22 | 平滑性を有するプラスチックシート及びに光学用シート |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000149939A JP2001328213A (ja) | 2000-05-22 | 2000-05-22 | 平滑性を有するプラスチックシート及びに光学用シート |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001328213A true JP2001328213A (ja) | 2001-11-27 |
Family
ID=18655721
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000149939A Pending JP2001328213A (ja) | 2000-05-22 | 2000-05-22 | 平滑性を有するプラスチックシート及びに光学用シート |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001328213A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002098830A (ja) * | 2000-09-21 | 2002-04-05 | Nitto Denko Corp | 光学フィルム素材の製造方法およびそれにより得られる光学フィルム素材 |
| WO2005021258A1 (ja) * | 2003-09-01 | 2005-03-10 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | 表面保護フィルム及びその製造方法 |
-
2000
- 2000-05-22 JP JP2000149939A patent/JP2001328213A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002098830A (ja) * | 2000-09-21 | 2002-04-05 | Nitto Denko Corp | 光学フィルム素材の製造方法およびそれにより得られる光学フィルム素材 |
| WO2005021258A1 (ja) * | 2003-09-01 | 2005-03-10 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | 表面保護フィルム及びその製造方法 |
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