JP2001272287A - 歪み検出センサ - Google Patents
歪み検出センサInfo
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Abstract
検出が行える歪み検出センサを提供する。 【解決手段】 歪みを検出するための歪み検出素子20
と、歪み検出素子20を支持すると共に、検出すべき歪
みを歪み検出素子20に伝える台座10とを備える。歪
み検出素子20は、シリコンチップで構成される。台座
10は、熱膨張係数がシリコンの熱膨張係数(2.33
×10-6)の±50%の範囲に入る材料で形成される。
歪み検出素子20は、ガラス系固定材を加熱溶融して台
座10に固定されている。
Description
センサに係り、特に、物体の重量、歪みを測定するため
に用いられる歪み検出センサに関する。
するセンサとして歪み検出センサがある。このセンサ
は、歪み自体の検出、歪みを生じさせている応力の検
出、さらには、応力が物体の質量に応じて生じている場
合には、その物体の重量の検出等に用いられている。
みによって抵抗値が変化する箔型の歪みゲージが知られ
ている。この箔型の歪みゲージを接着剤を用いて対象物
に貼り付けて、対象物に加わる応力によって生ずる歪み
を歪みゲージで検出する。
は、接着剤によって対象物に貼り付けている。ところ
が、接着剤が周囲温度の変化に応じて、出力電圧の変化
が生じるという問題がある。すなわち、従来の歪みゲー
ジには、温度変化に伴って出力電圧が変化する温度ドリ
フトがあるという問題がある。
め、増幅器によって増幅される。このため、温度ドリフ
トが大きいと、増幅後の出力電圧の変動も大きくなると
いう問題がある。
れずに安定して歪み検出が行える歪み検出センサを提供
することにある。
め、本発明によれば、歪みを検出するための歪み検出素
子と、前記歪み検出素子を支持すると共に、検出すべき
歪みを前記歪み検出素子に伝える台座とを備え、前記歪
み検出素子は、シリコンチップで構成され、前記台座
は、熱膨張係数がシリコンの熱膨張係数(2.33×1
0-6)の±50%の範囲に入る材料で形成し、前記歪み
検出素子は、ガラス系固定材を加熱溶融して前記台座に
固定されていることを特徴とする歪み検出センサが提供
される。
て、それぞれ図面を参照して説明する。図1に、本発明
の第1の実施形態に係る歪み検出センサの一例を示す。
本発明の第1の実施形態は、図1に示すように、歪み検
出素子20と、これを支持する台座10とを有する。
成される。大きさは、用途によって異なるが、例えば、
縦1mm〜10mm、横1mm〜20mm、厚さ0.1
mm〜1mm程度の大きさとすることができる。もちろ
ん、これに限定されない。本実施の形態では、歪み検出
素子20搭載面が正方形状に構成されているがこれに限
定されない。例えば、長方形状、円形状等種々の形状と
することができる。
材料と熱膨張係数の差が小さいものが用いられる。本発
明では、後述するように、歪み検出素子20がシリコン
半導体により構成される。従って、例えば、熱膨張係数
がシリコンの熱膨張係数(2.33×10-6)の±50
%の範囲に入る材料を選択して形成する。具体的には、
例えば、シリコン、シリコンと熱膨張係数が近いものが
得られるガラス等により形成することができる。ガラス
としては、例えば、パイレックス(登録商標)ガラス、
コバールガラス、コーニング社製7059ガラス等が挙
げられる。これらを、コストおよび熱膨張係数を考慮し
て、適宜選択する。このような材料を選択することで、
台座10と歪み検出素子20との熱膨張係数の差による
影響を小さくすることができる。
に、複数の抵抗体を拡散技術を用いて形成して構成され
る。具体的には、4個の抵抗体を所定の配置で形成し、
それらをフルブリッジ接続するよう金属電極で接続し、
これにリード線を接続するための入力端部と出力端部と
がさらに形成される。一般的には、このようなチップ
を、シリコンウエファ上に多数形成して、それらを切断
してチップ型の歪み検出素子20を形成する。この歪み
検出素子20は、圧力を受けて歪みを生じると、4個抵
抗体の抵抗値が変化し、ブリッジのバランスが崩れるこ
とで、圧力に比例した信号電圧を出力する。チップの大
きさの一例を挙げると、0.5mm×0.5mm程度と
することができる。このような歪み検出素子20は、I
C生産技術により、容易に大量生産することができる。
従って、極めて安価に製作することができる。従来のダ
イヤフラムと共に形成する構造の素子では、ダイヤフラ
ムを形成することから大きな面積とならざるを得ず、1
素子当たりのコストが増大する。この点、本発明で使用
する歪み検出素子20は、1素子当たりのコストを大幅
に低減することができる。
される。固着は、例えば、台座10がガラス製である場
合、熱膨張係数が近いガラス系の固定材30を介在して
行われる。すなわち、歪み検出素子20と固定材30、
および、固定材30と台座10とが、それぞれ固定材3
0を加熱溶融して固着される。
素子20と台座10とを固定する。このため、両者の熱
膨張係数に近いものが選ばれる。本実施の形態では、加
熱すると溶融して、歪み検出素子20を構成するシリコ
ンと、台座10を構成するガラスとに、一部がそれぞれ
固溶されて固着する。固定材30としては、例えば、例
えば、日本電気硝子株式会社製エレクトロニクス用ガラ
スペースト“PLS−3602/SM−36A”が挙げ
られる。
み検出素子20と台座10とが固定材30を介して強固
に固着し、温度変化があっても、熱膨張係数が近いこと
のため、固着部分に生じる歪みが小さくなり、固着状態
が安定に維持される。また、歪み検出素子20および台
座10に対する熱膨張係数の差が、樹脂系の接着剤を用
いる場合と比べて小さいため、温度変化によって受ける
歪みが小さくてすむ。そのため、測定値に含まれる温度
ドリフトを小さくすることができる。
よび出力端部にそれぞれ図示していないリード線が接続
される。このリード線を台座10の外に引き出して、電
圧の印加および出力信号の取り出しを行う。電圧の印加
および出力信号の取り出しは、ブリッジ回路を駆動する
回路(図示せず)を用いて行う。なお、台座に薄膜によ
りリード線を形成して、ワイヤボンディングにより歪み
検出素子20と台座10上のリード線と接続するように
してもよい。
素子および台座の上に保護層を塗布する構成とすること
ができる。このようにすることで、防湿性を向上させる
と共に、歪み検出素子をそれに加わる機械的応力から保
護することができる。
(a)および図2(b)を参照して説明する。図2
(a)および図2(b)に示す歪み検出センサは、第1
の実施形態と同様の構造の歪み検出センサの台座10の
四隅に、取付孔11を設けたものである。他の構造は、
第1の実施形態のセンサと同じである。このような形態
とすることで、熱膨張による影響を受ける接着剤を使用
せずに、台座10を他の部材に取り付けることができ
る。
照して説明する。図3に示す歪み検出センサは、第1の
実施形態と同様の構造の歪み検出センサを、さらに第2
の台座10aに載せる構造としたものである。すなわ
ち、台座10aおよび10によって歪み検出素子20が
支持される。台座10と台座10aとは、本実施の形態
では、同一形状台座を重ねている。台座10と台座10
aとは、固定材30を介して固着される。固定材30
は、前述したものと同様にガラス系の材料である。
例であるが、二重化に限らず、三重化以上の多重化構造
とすることもできる。また、本実施の形態では、重ねる
台座の形状を同一にしたが、異なる形状としてもよい。
台座の多重化により、大きな熱応力に耐えることができ
る。また、薄い台座を製造し、これを必要に応じて多重
化して必要な厚さを確保することが可能となる。
(a)および図4(b)を参照して説明する。本実施の
形態は、第3の実施形態と同様に、台座10を二重化し
た例である。ただし、本実施の形態では、歪み検出素子
20を、固定材30を介して長方形の台座10に固着し
た歪み検出センサを、さらに、台座10a上に、固定材
30を介して固着したものである。ここで、台座10a
は、前記台座10より大きい長方形のものである。それ
ぞれの材料は、第1の実施形態および第3の実施形態に
おいて説明したものと同じである。
照して説明する。本実施の形態は、第4の実施形態と同
様に、台座10を二重化した例である。ただし、本実施
の形態では、台座10aの四隅に、上述した図2に示す
例と同様に貫通孔11を設けたものである。このように
することで、台座10aを他の部材に取り付けることが
容易となる。
検出センサにより、本発明の歪み検出センサの特性につ
いて説明する。
測定するための装置の概要を示す。図6に示す装置は、
測定に用いる歪み検出センサSを固定して、センサSに
歪みを与える支持板111と、これを支持する支持台1
12と、前記支持板111に載せられて前記支持板11
1に歪みを与える標準分銅113と、前記歪み検出セン
サSに電圧を印加する安定化電源装置121と、電圧
計、例えば、ディジタルボルトメータ122とを有す
る。
g、20g、40g、60g、80gおよび100gの
各分銅が用意される。なお、10gの分銅2個と、20
gの分銅4個とを用意し、追加して載せる構成としても
よい。
メータ122とは、図7に示すように、センサSと接続
される。ここで、本測定例で用いる歪み検出センサS
は、第1の実施形態に係るセンサであって、歪みを受け
ることで抵抗が変化する抵抗素子をフルブリッジ接続し
た構造を有する。他の実施形態の歪み検出センサSにつ
いても、同様の構造を有するセンサを用いることができ
る。もちろん、本発明はこれに限定されない。安定化電
源装置121は、例えば、直流電圧で2.5V〜15V
の範囲で任意の電圧を出力できる。ここでは、5Vを出
力して、前記歪み検出センサSに印加するものとする。
板で形成される。大きさは、例えば、直径30〜40m
mで、厚さ0.2mmのものが用いられる。支持板の下
面側に歪み検出センサSが接着剤等で固定される。支持
部112は、前記支持板の外周に合わせた筒型構造、本
例では、円筒形状に形成される。材料としては、例え
ば、アルミニウムが用いられる。
0gまで、10g、20g、40g、60g、80g、
100gの順に支持板111上に置いて、それぞれの重
量の分銅が載せられているときの歪み検出センサSの出
力電圧をディジタルボルトメータ122で測定する。図
8に、測定結果として、歪み検出センサ出力電圧特性の
グラフを示す。図8に示すように、印加重量の増加に対
して、0.12mV〜1.22mVの範囲で、直線的に
出力電圧が変化していることが分かる。従って、極めて
直線性のよいセンサということができる。
9を参照して説明する。本実施形態に係る歪み検出セン
サは、歪み検出素子20を台座15の基端側に寄せて配
置し、固定材30で固着した構造となっている。そし
て、台座15の基端を固定部材16に固定する。その他
の基本的な構成は、前述した実施の形態と同様である。
なお、台座15は、固定部材16に固定されている基端
側から先端側にかけて長い厚さが薄い直方体形状とする
ことができる。すなわち、長さと断面形状とにより、撓
み量を変えて、感度を適宜設定することができる。
それぞれ、前述した台座10と同様に、例えば、シリコ
ン、シリコンと熱膨張係数が近いものが得られるガラス
等により形成することができる。ガラスとしては、例え
ば、パイレックスガラス、コバールガラス、コーニング
社製7059ガラス等が挙げられる。
片持ち梁構造となる。そのため、台座15が微少応力に
対して大きく変位するため、歪み検出素子20が高感度
で微小圧力を測定することが可能となる。
10(a)および図10(b)、ならびに、第8の実施
形態について図11(a)および図11(b)を参照し
てそれぞれ説明する。これらの実施形態に係る歪み検出
センサは、筒型の台座の側部に歪み検出素子20を1以
上取り付けたものである。すなわち、図10(a)およ
び図10(b)に示す第7の実施形態は、四角筒形状の
台座51の外側面の一つの面のほぼ中央部に、歪み検出
素子20を固定材302より固定したものである。ま
た、図11(a)および図11(b)に示す第8の実施
形態は、円筒の台座52の外周の一部に面取り加工を行
って、その面に歪み検出素子20を固定材30により固
定したものである。
れ、前述した台座10と同様に、例えば、シリコン、シ
リコンと熱膨張係数が近いものが得られるガラス等によ
り形成することができる。ガラスとしては、例えば、パ
イレックスガラス、コバールガラス、コーニング社製7
059ガラス等が挙げられる。
示したが、本発明はこれに限られない。例えば、六角
筒、八角筒等の多角筒に歪み検出素子を固定する構成と
してもよい。
検出素子を固定してもよい。また、前述した例では、一
つの台座に1個の歪み検出素子を固定した例を示した
が、本発明はこれに限定されない。例えば、四角筒の4
面にそれぞれ歪み検出素子を固定する構造としてもよ
い。また、円筒の外周面に一定角度間隔で複数個の歪み
検出素子を配置してもよい。
センサに、さらに荷重をかけるための受け台を追加した
高耐圧型の歪み検出センサの実施形態について、図12
〜図16を参照して説明する。
る歪み検出センサは、図10(a)および図10(b)
に示す第7の実施形態に係る歪み検出センサの台座51
に対して、角筒軸方向に荷重を受けるための受け台61
を両端に固定したものである。受け台61は、台座51
と同様に、例えば、シリコン、シリコンと熱膨張係数が
近いものが得られるガラス等により形成することができ
る。ガラスとしては、例えば、パイレックスガラス、コ
バールガラス、コーニング社製7059ガラス等が挙げ
られる。
は、前述した図12に示す実施形態の受け台61に、そ
れぞれ第2の受け台61aを固定材30を介して固定し
たものである。これにより、受け台61aにより外部か
らの熱の伝導を抑えることができるため、耐力が向上す
る。受け台61aについても、受け台61と同様の材料
で形成することができる。
は、前述した図12に示す第9の実施形態における受け
台61の一方、すなわち、下部側をより大きな受け台6
2としたものである。これにより、受け台62の下方か
らの熱伝導を抑制することができる。受け台62につい
ても、受け台61と同様の材料で形成することができ
る。
は、前述した図14に示す実施形態に係る歪み検出セン
サを用いて構成した例である。すなわち、同図に示す実
施形態は、受け台62の四隅に貫通孔63を設けて、こ
こに取付用ねじ64を挿通して固定台71のねじ孔72
に固定する構造となっている。また、受け台61に、ス
テンレススチール、チタン等の金属製のカバー75を受
け台61に上方から装着してある。カバー75は、受け
台61を保護するためのものである。固定台71は、セ
ンサ設置環境における機械的応力からセンサを保護す
る。
発明の第13の実施形態は、図1に示す実施形態に係る
歪み検出センサSを複数個、この例では5個を受け台6
1と62との間に配置して固定材30で固定したもので
ある。この例は、大きな荷重がかかる場合に好適であ
る。
第11の実施形態に係る歪み検出センサにより、本発明
の歪み検出センサの特性について説明する。
力電圧特性を測定するための装置の概要を示す。図17
に示す装置は、測定に用いる歪み検出センサSに荷重を
与えるトルク印加装置200と、前記歪み検出センサS
に電圧を印加する安定化電源装置121と、電圧計、例
えば、ディジタルボルトメータ122とを有する。
/cm2の範囲で任意の荷重を歪み検出センサに印加す
ることができる。
ては、図7に示すものと同じである。従って、説明を繰
り返さない。
1に当接して、1kgf/cm2〜10kgf/cm2ま
で、1kgf/cm2、2kgf/cm2、4kgf/c
m2、6kgf/cm2、80kgf/cm2、10kg
f/cm2の順に荷重を変えて、それぞれの荷重が印加
されているときの歪み検出センサSの出力電圧をディジ
タルボルトメータ122で測定する。図18に、測定結
果として、歪み検出センサ出力電圧特性のグラフを示
す。図18に示すように、印加荷重の増加に対して、
0.35mV〜35mVの範囲で、直線的に出力電圧が
変化していることが分かる。従って、極めて直線性のよ
いセンサということができる。
けた構造の歪み検出センサに関する実施形態を、図19
〜図21を参照して説明する。
12の実施形態に係る歪み検出センサ80は、シリコン
半導体にダイヤフラム部81と、センサ部82とを設け
たものである。このセンサ80のダイヤフラム部81
に、応力を伝達する応力検出棒90の一端を固定材30
で固定したものである。
の熱膨張係数(2.33×10-6)の±50%の範囲に
入る材料で形成される。そして、その一端が、ガラス系
固定材30を加熱溶融してダイヤフラム部81に固定さ
れる。
検出センサは、前述した第12の実施形態に係る歪み検
出センサの応力検出棒90を、三分割した応力検出棒9
1、92および93を、固定材30で固定したものであ
る。このようにすることで、熱応力の影響を低減するこ
とができる。
検出センサは、前述した第13の歪み検出センサを、エ
ア導入孔67を有する固定台65に固定したものであ
る。この固定はシリコン半導体の下端部を固定材30で
固定台65に固定することによって行われる。この際、
固定材30による固定は、気密状態となるように行われ
る。
検出センサは、図19に示す第12の実施形態に係る歪
み検出センサに、荷重を伝達する応力伝達部95を、応
力検出棒90の一端に当接させたものである。応力伝達
部95は、例えば、黄銅等の金属で構成される。また、
応力伝達部95は、これを案内すると共に、支持する支
持部96を有する。この支持部96は、例えば、ステン
レススチール、チタン等の金属で形成される。このよう
な構造とすることで、微小な歪みを高感度の検出するこ
とができる。
形態に係る歪み検出センサにより、本発明の歪み検出セ
ンサの特性について説明する。
出センサの出力電圧特性を測定するための装置の概要を
示す。図23に示す装置は、測定に用いる歪み検出セン
サSに荷重を与える応力伝達部材97と、この応力伝達
部材97と、分銅113と、前記歪み検出センサSに電
圧を印加する安定化電源装置121と、電圧計、例え
ば、ディジタルボルトメータ122とを有する。
2g、4g、6g、8gおよび10gの各分銅が用意さ
れる。なお、1gの分銅2個と、2gの分銅4個とを用
意し、追加して載せる構成としてもよい。
のと同じであり、重複した説明は省略する。
属で形成される個の応力伝達部材97は、支持部97に
より、軸方向に案内される。
まで、1g、2g、4g、6g、8g、10gの順に応
力伝達部材97の支持板98上に置いて、それぞれの重
量の分銅が載せられているときの歪み検出センサSの出
力電圧をディジタルボルトメータ122で測定する。図
24に、測定結果として、歪み検出センサ出力電圧特性
のグラフを示す。図24に示すように、印加重量の増加
に対して、0.8mV〜7.9mVの範囲で、直線的に
出力電圧が変化していることが分かる。従って、極めて
直線性のよいセンサということができる。
単な構造で構成することができると共に、精度よく歪み
の検出が行える。しかも、荷重に対する出力特性の直線
性がよいセンサが実現できる。
な構造とすることができる。その結果、安価に製作でき
る。
の第1の実施形態の構成の概要を示す平面図、図1
(b)は、その正面図。
の第2の実施形態の構成の概要を示す平面図、図2
(b)は、その正面図。
の実施形態の構成の概要を示す正面図。
の第4の実施形態の構成の概要を示す平面図、図4
(b)は、その正面図。
の実施形態の構成の概要を示す平面図。
定するための装置の概要を示す説明図。
路図。
すグラフ。
の実施形態の構成の概要を示す側面図。
ンサの第7の実施形態の構成の概要を示す平面図、図1
0(b)は、その側面図。
ンサの第8の実施形態の構成の概要を示す平面図、図1
1(b)は、その側面図。
第9の実施形態の構成の概要を示す側面図。
第10の実施形態の構成の概要を示す側面図。
第11の実施形態の構成の概要を示す側面図。
第12の実施形態の構成の概要を示す側面図。
ンサの第13の実施形態の構成の概要を示す平面図、図
16(b)は、その正面図。
力電圧特性を測定するための装置の概要を示す説明図。
を示すグラフ。
ンサの第12の実施形態の概要を示す平面図、図9
(b)は、その正面図。
第13の実施形態の概要を示す正面図。
第14の実施形態の概要を示す正面図。
第15の実施形態の概要を示す正面図。
力電圧特性を測定するための装置の概要を示す説明図。
を示すグラフ。
…固定材。
Claims (7)
- 【請求項1】 歪みを検出するための歪み検出素子と、 前記歪み検出素子を支持すると共に、検出すべき歪みを
前記歪み検出素子に伝える台座とを備え、 前記歪み検出素子は、シリコンチップで構成され、 前記台座は、熱膨張係数がシリコンの熱膨張係数(2.
33×10-6)の±50%の範囲に入る材料で形成し、 前記歪み検出素子は、ガラス系固定材を加熱溶融して前
記台座に固定されていることを特徴とする歪み検出セン
サ。 - 【請求項2】 請求項1に記載の歪み検出センサにおい
て、 前記台座を、さらに他の台座上に固着することを特徴と
する歪み検出センサ。 - 【請求項3】 請求項2に記載の歪み検出センサにおい
て、 前記他の台座に、取付用の貫通孔が設けられることを特
徴とする歪み検出センサ。 - 【請求項4】 請求項1に記載の歪み検出センサにおい
て、 前記台座は、筒型形状を有し、その外面に前記歪み検出
素子が1個以上固定されていることを特徴とする歪み検
出センサ。 - 【請求項5】 請求項4に記載の歪み検出センサにおい
て、前記筒型の台座の両端に受け台を固定したことを特
徴とする歪み検出素子。 - 【請求項6】 請求項1に記載の歪み検出センサにおい
て、 台座は、片持ち梁状に固定部材に固定されることを特徴
とする歪み検出センサ。 - 【請求項7】 歪みを検出するための歪み検出素子と、 前記歪み検出素子に応力を伝達する応力伝達棒とを有
し、 前記歪み検出素子は、シリコン半導体に、ダイヤフラム
部と、センサ部とを有し、 前記応力伝達棒は、熱膨張係数がシリコンの熱膨張係数
(2.33×10-6)の±50%の範囲に入る材料で形
成され、その一端がガラス系固定材を加熱溶融して前記
ダイヤフラム部に固定されることを特徴とする歪み検出
素子。
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---|---|---|---|
JP2000086743A JP2001272287A (ja) | 2000-03-27 | 2000-03-27 | 歪み検出センサ |
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JP2000086743A JP2001272287A (ja) | 2000-03-27 | 2000-03-27 | 歪み検出センサ |
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Cited By (11)
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