JP6685766B2 - 圧力変化測定装置、高度測定装置、及び圧力変化測定方法 - Google Patents
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Description
[第1の実施形態]
図1は、第1の実施形態による圧力変化測定装置1の一例を示す機能ブロック図である。
図1に示すように、圧力変化測定装置1は、差圧センサ110と、温度センサ120と、基準値設定部60と、演算処理部70とを備えている。
ホイートストンブリッジ回路41は、後述する差圧センサ部111が有する抵抗R1(検出抵抗Rsen)と、後述するレファレンス部112が有する抵抗R2(参照抵抗Rref)と、抵抗R3と、抵抗R4とを備えている。
抵抗R1(検出抵抗Rsen)は、第1端が電源線Vccに、第2端がノードN1に接続されており、キャビティ10内外の差圧に応じて抵抗が変化する。抵抗R2(参照抵抗Rref)は、第1端がノードN1に、第2端が電源線GNDに接続されており、差圧検出値の温度依存及び抵抗値バラツキによる検出誤差を低減するための参照抵抗である。
また、抵抗R3は、第1端が電源線Vccに、第2端がノードN2に接続され、抵抗R4は、第1端がノードN2に、第2端が電源線GNDに接続されている。抵抗R1及びR2は、後述するセンサチップ100内に構成されており、抵抗R3及び抵抗R4は、センサチップ100の外部に備えられた外付け抵抗である。
温度検出回路部50は、ホイートストンブリッジ回路51と、差動増幅回路52とを備えている。
ホイートストンブリッジ回路51は、後述する温度センサ部121が有する抵抗R5(検出抵抗Rtmp)と、抵抗R6と、抵抗R7と、抵抗R8とを備えている。
抵抗R5(検出抵抗Rtmp)は、第1端が電源線Vccに、第2端がノードN3に接続されており、差圧センサ110の温度に応じて抵抗値が変化する。抵抗R6は、第1端がノードN3に、第2端が電源線GNDに接続されている。
また、抵抗R7は、第1端が電源線Vccに、第2端がノードN4に接続され、抵抗R8は、第1端がノードN4に、第2端が電源線GNDに接続されている。抵抗R5は、後述するセンサチップ100内に構成されており、抵抗R6、抵抗R7、及びR8は、センサチップ100の外部に備えられた外付け抵抗である。
なお、センサチップ100は、差圧センサ110、差圧センサ部111、及びレファレンス部112を備えており、抵抗R1、抵抗R2、及び抵抗R5は、センサチップ100内の同一の半導体基板上に構成されている。また、センサチップ100の構成の詳細については、後述する。
また、基準値設定部60は、温度特性記憶部61と、基準値生成部62とを備えている。
なお、本実施形態では、温度特性記憶部61は、検出基準値の温度特性の一例として、差圧センサ110の温度を変化させて、当該温度値と、検出基準値とを対応付けた温度特性データ(基準値変換テーブル)を記憶する。また、温度特性記憶部61は、温度検出値の温度特性の一例として、温度センサ120の温度を変化させて、当該温度値と、温度検出値とを対応付けた温度特性データ(温度変換テーブル)を記憶する。
また、演算処理部70は、テーブル記憶部71と、内圧値記憶部72と、圧力算出部73とを備えている。
内圧値記憶部72は、次回の測定時の推定値である内圧値Pinを記憶する。
圧力算出部73は、算出した次回の測定時の内圧値Pin(i+1)を内圧値記憶部72に記憶させる。
図2は、本実施形態におけるセンサチップ100の一例を示す平面図である。また、図3は、図2に示すA−A線に沿ったセンサチップ100の断面図である。また、図4は、図2に示すB−B線に沿ったセンサチップ100の断面図である。
図1〜3に示すように、本実施形態のセンサチップ100は、SOI基板5を利用して形成された直方体状の外形を有するセンサ本体2を備え、差圧センサ部111と、レファレンス部112と、温度センサ部121とを備えている。
また、SOI基板5は、図3に示すように、シリコン支持層5a、シリコン酸化膜等の電気的絶縁性を有する絶縁層5b、及びシリコン活性層5cを熱的に張り合わせた基板とされている。
具体的には、センサ本体2は底壁部2a及び周壁部2bを有し、上方に開口する中空の有底筒状に形成されている。センサ本体2の内部空間は、キャビティ(空気室)10として機能し、上方に開口した部分がキャビティ10の内部と外部とを連通する連通開口11として機能する。すなわち、中空のセンサ本体2は、内部にキャビティ10が形成され、キャビティ10の内部と外部とを連通する連通開口11を有する。
シリコン活性層5cは、センサ本体2を上方から塞ぐように絶縁層5b上に形成されている。このシリコン活性層5cには、該シリコン活性層5cを厚さ方向(Z軸方向)に貫通する平面視コ形状(C形状)のギャップG1(区画溝)が形成されている。これにより、シリコン活性層5cには、環状の枠部13とカンチレバー3とが形成されている。
ギャップG1は、平面視で連通開口11の内側に位置する領域内(キャビティ10の内部に連通する領域内)に形成され、圧力伝達媒体をキャビティ10の内外に流通させる連通孔として機能する。
なお、2つのレバー支持部21の短手方向(Y軸方向)に沿った支持幅は、同等とされている。従って、カンチレバー3が撓み変形した際、一方のレバー支持部21に作用する単位面積当たりの応力と、他方のレバー支持部21に作用する単位面積当たりの応力とは同等とされている。
また、ドープ層6の上面には、ドープ層6よりも電気抵抗率が小さい導電性材料(例えば、Au(金)等)からなる電極(D1、D2)が形成されている。この電極(D1、D2)は、平面視でカンチレバー3を囲む枠状に形成され、ギャップG1及びギャップG5によって、電極D1と、電極D2に分離されている。なお、電極D1は、抵抗R1(検出抵抗Rsen)の第1端として機能し、電源線Vccが接続され、電極D2は、抵抗R1(検出抵抗Rsen)の第2端として機能し、差動増幅回路42の反転入力端子(−端子)が接続される。
なお、レファレンス部112において、電極(D2、D3)は、ギャップG2及びギャップG5によって、電極D2と、電極D3に分離されている。なお、電極D2は、抵抗R2(参照抵抗Rsen)の第1端として機能し、差動増幅回路42の非反転入力端子(+端子)が接続され、電極D2は、抵抗R1(参照抵抗Rsen)の第2端として機能し、電源線GNDが接続される。
まず、図5及び図6を参照して、本実施形態による差圧センサ110の動作について説明する。
図5は、本実施形態による差圧センサ110の出力信号の一例を示す図である。また、図6は、本実施形態による差圧センサ110の動作の一例を示す図である。
図5(a)は、外圧(Pout)及び内圧(Pin)の経時変化を示し、図5(b)は差圧センサ110の出力信号の経時変化を示している。
その結果、内圧(Pin)が外圧(Pout)に徐々に近づくので、カンチレバー3の撓みが徐々に小さくなり、差圧センサ110は、図5(b)に示すように、徐々に低下する出力信号を出力する(期間C)。
図7は、本実施形態における圧力変化測定装置1の動作の一例を示すフローチャートである。
図7に示すように、圧力変化測定装置1は、まず、温度センサ120及び差圧センサ110が検出値を検出する(S101)。すなわち、温度センサ120の温度検出回路部50が、差圧センサ110の温度に応じた検出値(温度検出値)を検出する。また、差圧センサ110の差圧検出回路部40が、キャビティ10の内圧と外圧との差圧に応じた検出値(差圧検出値)を検出する。
なお、圧力変化測定装置1は、ステップS101〜ステップS104の処理を、所定の時間間隔ごとに、定期的に実行する。
図8は、本実施形態における基準値設定部60の動作の一例を説明する図である。
図8に示すグラフは、縦軸が、差圧センサ110及び温度センサ120の出力電圧[V](ボルト)を示し、横軸が温度T[℃]を示している。また、波形W1は、温度検出値の温度特性として、温度Tに対する温度センサ120の出力電圧の変化を示している。また、波形W2は、差圧検出値の温度特性として、温度Tに対する、差圧がない状態の差圧センサ110の出力電圧(検出基準値)の変化を示している。
次に、基準値生成部62は、波形W2に基づいて、差圧センサ110の温度(温度T1)に対応する検出基準値(Vref)を取得する。
このように、基準値設定部60は、温度検出値と、当該温度検出値の温度特性とに基づいて、差圧センサ110の温度を推定し、推定した差圧センサ110の温度と、検出基準値の温度特性とに基づいて、検出基準値を生成する。
図9に示す棒グラフ(BG0、BG1、BG2)は、縦軸が電圧[V]を示している。図9において、棒グラフBG0は、キャビティ10に差圧のない状態の温度T=T0である場合の差圧センサ110の差圧検出値(Vref0)を示している。
図10は、本実施形態における演算処理部70の動作の一例を示すフローチャートである。なお、この図に示すフローチャートの処理は、図7のステップS103に対応する。
図10に示すように、演算処理部70の圧力算出部73は、まず、差圧検出値と、検出基準値とに基づいて、検出変化量(ΔVp)を算出する(ステップS201)。圧力算出部73は、差圧センサ110によって検出された差圧検出値Vsenと、基準値設定部60によって設定された検出基準値Vrefとに基づいて、温度変動分を除外した正確な変動電圧ΔVpを算出する。例えば、圧力算出部73は、上述した式(1)を利用して、差圧に対応した変動電圧ΔVpを算出する。
図11において、縦軸は、圧力Pを示し、横軸は、測定を行ったサンプル番号を示している。また、波形W3は、測定対象圧力(Pout)の変化を示している。
図11に示す例では、i番目の測定では、差圧値ΔPがない初期状態であり、内圧値記憶部72には、内圧値Pinとして、内圧初期値である内圧値Pin(i)が記憶されている。ここで、圧力算出部73は、次回の測定時の内圧値Pin(i+1)として、内圧値Pin(i)を内圧値記憶部72に記憶させる。
なお、次の(i+3)番目の測定についても、演算処理部70は、同様の処理を行い、内圧値Pin(i+3)に差圧値ΔP(i+3)を加算した値を、外圧値Poutとして算出する。
これにより、本実施形態による圧力変化測定装置1では、カンチレバー3の撓み変形に応じた抵抗変化に基づいて、差圧センサ110が、キャビティ10の内部圧力と測定対象圧力との差圧をより正確に検出することができる。なお、半導体プロセス技術によりカンチレバー3を形成できるので、本実施形態による圧力変化測定装置1では、カンチレバー3を非常に薄型化(例えば数十から数百nm厚)することができる。よって、本実施形態による圧力変化測定装置1では、微小な圧力変動の検出を精度よく行うことができる。
これにより、本実施形態による圧力変化測定装置1では、差圧センサ110は、抵抗R1(検出抵抗Rsen)と、抵抗R2(参照抵抗Rref)とが同一材質及び同一形状になるため、外部からの電磁ノイズ(例えば、コモンノイズ)や温度変化の影響を低減することができる。よって、本実施形態による圧力変化測定装置1は、測定対象の圧力の経時的変化をさらに高精度に測定することができる。
これにより、本実施形態による圧力変化測定装置1では、不純物半導体層(ドープ層6)を形成することで、容易にカンチレバー3にピエゾ抵抗を付加することができる。
なお、本実施形態では、温度センサ120が備える抵抗R5も、不純物半導体層(ドープ層6)によって形成されたピエゾ抵抗である。これにより、差圧センサ110の温度特性と、温度センサ120の温度特性とを近づけることができるため、本実施形態による圧力変化測定装置1は、温度変動に応じた検出基準値をさらに正確に設定することができる。
これにより、本実施形態による圧力変化測定装置1は、簡易な手法により、温度変動に応じた検出基準値を正確に設定することができる。
これにより、温度センサ120によって、差圧センサ110の温度をより正確に検出することが可能になるため、本実施形態による圧力変化測定装置1は、簡易な手法により、温度変動に応じた検出基準値をさらに正確に設定することができる。また、温度センサ120は、差圧検出値を検出中の差圧センサ110の温度を正確に検出することができる。よって、本実施形態による圧力変化測定装置1は、測定対象の圧力を測定するごとに、検出基準値を設定し直すことが可能である。
これにより、本実施形態による圧力変化測定方法は、上述した圧力変化測定装置1と同様に、測定対象の圧力の経時的変化を高精度に測定することができる。
次に、第2の実施形態による圧力変化測定装置1について説明する。
上述した第1の実施形態では、基準値設定部60が、温度変換テーブル及び基準値変換テーブルに基づいて、検出基準値を設定する例を説明したが、本実施形態では、温度特性を示す演算式(演算モデル)に基づいて、検出基準値を設定する変形例を説明する。
なお、本実施形態による圧力変化測定装置1の構成は、基本的には、第1の実施形態の圧力変化測定装置1の構成と同様であるため、ここではその説明を省略する。本実施形態では、温度特性記憶部61が、温度変換テーブル及び基準値変換テーブルの代わりに、演算式の係数情報を記憶する点と、基準値設定部60の処理が異なる。
本実施形態の温度特性記憶部61は、温度変換テーブルの代わりに、式(4)の係数情報(係数a1及び係数b1)を記憶する。
また、図8に示す波形W2の検出基準値の温度特性は、以下の1次関数の式(5)により表すことができる。
本実施形態の温度特性記憶部61は、基準値変換テーブルの代わりに、式(5)の係数情報(係数a2及び係数b2)を記憶する。
これにより、本実施形態による圧力変化測定装置1は、さらに簡易な手法により、検出基準値を温度変動に応じた検出基準値を正確に設定することができる。
次に、図面を参照して、第3の実施形態による圧力変化測定装置1について説明する。
本実施形態では、基準値設定部60が、上述した温度検出値から検出基準値を算出する算出式(式(6))の代わりに、温度検出値から検出基準値に変換する変換テーブルに基づいて、検出基準値を設定する変形例を説明する。
図12は、本実施形態における変換テーブルの一例を示す図である。
この図に示すように、温度特性記憶部61は、「温度検出値」と、「検出基準値」とを対応付けた変換テーブルを記憶している。図12に示す例では、「温度検出値」が“Vtmp1”に対応する「検出基準値」が“Vref1”であることを示し、「温度検出値」が“Vtmp2”に対応する「検出基準値」が“Vref2”であることを示している。
本実施形態の基準値設定部60は、温度特性記憶部61が記憶する温度検出値から検出基準値に変換する変換テーブルに基づいて、温度検出値から検出基準値に変換する。
これにより、本実施形態による圧力変化測定装置1は、さらに簡易な手法により、検出基準値を温度変動に応じた検出基準値を正確に設定することができる。
次に、図面を参照して、本実施形態による圧力変化測定装置1について説明する。
本実施形態では、圧力変化測定装置1が、上述したセンサチップ100の代わりに、レファレンス部112と、温度センサ部121の構造が異なるセンサチップ100aを備える変形例について説明する。
図13は、本実施形態におけるセンサチップ100aの一例を示す平面図である。また、図14は、図13に示すA−A線に沿ったセンサチップ100aの断面図である。また、図15は、図13に示すB−B線に沿ったセンサチップ100aの断面図である。
図13〜図15において、図2〜図4と同一の構成については同一の符号を付し、その説明を省略する。
なお、温度センサ部121aは、レファレンス部112a又は差圧センサ部111と平面視で90度回転された向きで配置されている。
本実施形態では、温度センサ部121aは、キャビティ10bを備えることで、熱平衡状態の温度特性だけでなく、熱容量、及び過渡状態の温度特性についても、差圧センサ部111に近づけることができる。
これにより、本実施形態による圧力変化測定装置1は、温度センサ部121aの温度特性(抵抗R5aの温度特性)を、熱平衡状態の場合だけでなく、過渡状態の場合についても、差圧センサ110の温度特性(抵抗R1の温度特性)に近づけることができるため、さらに精度よく設定基準値を設定することができる。そのため、本実施形態による圧力変化測定装置1は、温度変動のある場合であっても、測定対象の圧力の経時的変化を高精度に測定することができる。
これにより、センサチップ100aは、製造装置の向き依存の製造バラツキによる抵抗R1、抵抗R2、及び抵抗R5aのバラツキを低減することができる。
次に、図面を参照して、第5の実施形態による圧力変化測定装置1について説明する。
本実施形態では、圧力変化測定装置1が、上述したセンサチップ100の代わりに、温度センサ部121の構造が異なるセンサチップ100bを備える変形例について説明する。
図16は、本実施形態におけるセンサチップ100bの一例を示す平面図である。また、図17は、図16に示すB−B線に沿ったセンサチップ100bの断面図である。
図16及び図17において、図2及び図4と同一の構成については同一の符号を付し、その説明を省略する。
温度センサ部121bでは、図17に示すように、ドープ層6の上面には、温度センサ120に用いるセンサ抵抗としての特性がピエゾ抵抗よりも良い白金膜7が形成されている。なお、白金膜7は、このまた、本実施形態では、ギャップG5及びギャップG6が、白金膜7による抵抗R5bを形成するように配置されている。白金膜7は、長手方向(Y軸方向)に長い長方形になるように形成されている。
これにより、温度センサ120は、より正確に差圧センサ110の温度を測定することができる。よって、本実施形態による圧力変化測定装置1は、測定対象の圧力の経時的変化をさらに高精度に測定することができる。
次に、図面を参照して、第6の実施形態による圧力変化測定装置1aについて説明する。
図18は、本実施形態による圧力変化測定装置1aの一例を示す機能ブロック図である。
図18に示すように、圧力変化測定装置1aは、差圧センサ110と、温度センサ120と、基準値設定部60aと、演算処理部70とを備えている。
この図において、図1と同一の構成については同一の符号を付し、その説明を省略する。
本実施形態では、基準値設定部60aが、特性測定部63を備えている点が、第1の実施形態と異なる。
これにより、本実施形態による圧力変化測定装置1aは、経年変化(経時変化)などにより、差圧センサ110又は温度センサ120の温度特性が変化した場合であっても、測定対象の圧力の経時的変化をさらに高精度に測定することができる。
次に、図面を参照して、第7の実施形態による高度測定装置200について説明する。
図19は、本実施形態による高度測定装置200の一例を示す機能ブロック図である。
図19に示すように、高度測定装置200は、上述した圧力変化測定装置1(1a)と、高度変換部210とを備えている。
このように、本実施形態による高度測定装置200は、上述した測定対象の圧力の経時的変化を高精度に測定することができる圧力変化測定装置1(1a)を備えているため、高度情報の経時的変化を高精度に測定することができる。
例えば、上記の第1の実施形態において、差圧センサ110は、レファレンス部112を備える例を説明したが、レファレンス部112を備えずに、抵抗R2を外付け抵抗により構成してもよい。
また、上記の各実施形態において、基準値設定部60は、測定のたびに毎回、設定基準値を設定する例を説明したが、所定の期間ごとに設定基準値を設定するようにしてもよいし、差圧検出値が所定の範囲から外れた場合に、設定基準値を設定するようにしてもよい。
上記の第2の実施形態において、基準値設定部60が、1次関数を利用して、設定基準値を算出する例を説明したが、2次関数などの他の関数を利用してもよい。
また、上記の各実施形態において、温度センサ120は、差圧センサ110と同様の検出信号(温度に応じて変化する検出値)を出力する例を説明したが、直接、温度を示す情報を出力するようにしてもよい。この場合、温度特性記憶部61は、温度検出値の温度特性を記憶する必要がなくなる。
また、上記の各実施形態において、差圧センサ110と温度センサ120とは、同一の電源電圧(電源線Vccの電圧)を供給する例を説明したが、差圧センサ110と温度センサ120とのそれぞれの特性により、異なる電源電圧を供給するようにしてもよい。例えば、温度センサ120に供給する電源電圧を、差圧センサ110より低くして、圧力変化測定装置1(1a)の消費電力を低減するようにしてもよい。
また、「コンピュータシステム」は、インターネットやWAN、LAN、専用回線等の通信回線を含むネットワークを介して接続された複数のコンピュータ装置を含んでもよい。また、「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、フレキシブルディスク、光磁気ディスク、ROM、CD−ROM等の可搬媒体、コンピュータシステムに内蔵されるハードディスク等の記憶装置のことをいう。このように、プログラムを記憶した記録媒体は、CD−ROM等の非一過性の記録媒体であってもよい。
2…センサ本体
2a…底壁部
2b…周壁部
3…カンチレバー
3a…先端部
3b…基端部
4、4a…レバー部
5…SOI基板
5a…シリコン支持層
5b…絶縁層
5c…シリコン活性層
6‥ドープ層(ピエゾ抵抗)
7…白金膜
10、10a、10b…キャビティ
11、11a、11b…連通開口
13…枠部
20…レバー本体
21…レバー支持部
40…差圧検出回路部
41、51…ホイートストンブリッジ回路
42、52…差動増幅回路
50…温度検出回路部
60、60a…基準値設定部
61…温度特性記憶部
62…基準値生成部
63…特性測定部
70…演算処理部
71…テーブル記憶部
72…内圧値記憶部
73…圧力算出部
100、100a、100b…センサチップ
110…差圧センサ
111…差圧センサ部
112、112a…レファレンス部
120…温度センサ
121、121a、121b…温度センサ部
200…高度測定装置
210…高度変換部
D1、D2、D3、D4、D5…電極
R1、R2、R3、R4、R5、R5a、R5b、R6、R7、R8…抵抗
G1、G2、G3、G4、G5、G6、G7…ギャップ
Claims (9)
- 測定対象圧力を伝達する圧力伝達媒体が流入するキャビティと、前記圧力伝達媒体を前記キャビティの内外に流通させる連通孔と、を有し、前記キャビティの内部圧力と前記測定対象圧力との差圧に応じた差圧検出値を検出する差圧センサと、
前記差圧センサの温度に応じた温度検出値を検出する温度センサと、
前記温度センサによって検出された前記温度検出値と、前記差圧のない状態における前記差圧センサの検出値を示す検出基準値の温度特性とに基づいて、前記検出基準値を設定する基準値設定部と、
前記基準値設定部によって設定された前記検出基準値と、前記差圧センサによって検出された前記差圧検出値とに基づいて、前記測定対象圧力の変化を示す情報を生成する演算処理部と
を備え、
前記差圧センサは、
前記キャビティを有するセンサ本体と、
前記連通孔を除く前記キャビティの開口面を塞ぐように基端部から先端部に向けて一方向に延びる板状であり、前記キャビティの内部と外部との圧力差に応じて撓み変形するカンチレバーと、
前記カンチレバーの撓み変形に応じた前記基端部の抵抗変化に基づいて、前記差圧検出値を検出する差圧検出回路部と、
前記カンチレバーと同一材質及び同一形状になるように構成されたレバー部を有するレファレンス部と
を備え、
前記差圧検出回路部は、
前記カンチレバーの基端部の抵抗を含む検出抵抗と、前記レバー部の基端部の抵抗を含む参照抵抗とを有するホイートストンブリッジ回路を備え、
前記温度センサは、
前記カンチレバーと同一材質で、前記カンチレバー及び前記レバー部と同一の基板上に構成された温度検出抵抗部と、
前記温度検出抵抗部の抵抗変化に基づいて、前記温度検出値を検出する温度検出回路部と
を備え、
前記演算処理部は、前記温度センサを用いて設定された前記検出基準値と、前記カンチレバーと前記レファレンス部のレバー部とを用いることで温度変化の影響を低減した前記差圧検出値とに基づいて、前記測定対象圧力の変化を示す情報を生成する
ことを特徴とする圧力変化測定装置。 - 測定対象圧力を伝達する圧力伝達媒体が流入するキャビティと、前記圧力伝達媒体を前記キャビティの内外に流通させる連通孔と、を有し、前記キャビティの内部圧力と前記測定対象圧力との差圧に応じた差圧検出値を検出する差圧センサと、
前記差圧センサの温度に応じた温度検出値を検出する温度センサと、
前記温度センサによって検出された前記温度検出値と、前記差圧のない状態における前記差圧センサの検出値を示す検出基準値の温度特性とに基づいて、前記検出基準値を設定する基準値設定部と、
前記基準値設定部によって設定された前記検出基準値と、前記差圧センサによって検出された前記差圧検出値とに基づいて、前記測定対象圧力の変化を示す情報を生成する演算処理部と
を備え、
前記差圧センサは、
前記キャビティを有するセンサ本体と、
前記連通孔を除く前記キャビティの開口面を塞ぐように基端部から先端部に向けて一方向に延びる板状であり、前記キャビティの内部と外部との圧力差に応じて撓み変形するカンチレバーと、
前記カンチレバーの撓み変形に応じた前記基端部の抵抗変化に基づいて、前記差圧検出値を検出する差圧検出回路部と
を備え、
前記温度センサは、
キャビティを有する本体部と、
前記カンチレバーと同一材質及び同一形状になるように、且つ、前記本体部のキャビティを覆うように構成された温度検出抵抗部と、
前記温度検出抵抗部の抵抗変化に基づいて、前記温度検出値を検出する温度検出回路部と
を備えることを特徴とする圧力変化測定装置。 - 前記カンチレバーは、不純物半導体層で構成されるピエゾ抵抗を、少なくとも前記基端部に備える
ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の圧力変化測定装置。 - 前記基準値設定部は、
前記温度検出値と、前記温度検出値の温度特性と、前記検出基準値の温度特性とに基づいて、前記検出基準値を設定する
ことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の圧力変化測定装置。 - 前記基準値設定部は、
前記温度検出値と、前記温度検出値の温度特性とに基づいて、前記差圧センサの温度を推定し、推定した前記差圧センサの温度と、前記検出基準値の温度特性とに基づいて、前記検出基準値を設定する
ことを特徴とする請求項4に記載の圧力変化測定装置。 - 前記基準値設定部は、
前記温度検出値の温度特性と、前記検出基準値の温度特性とに基づいて生成された、前記温度検出値から前記検出基準値を算出する算出式と、前記温度検出値とに基づいて、前記検出基準値を算出する
ことを特徴とする請求項4に記載の圧力変化測定装置。 - 前記基準値設定部は、
前記温度検出値の温度特性と、前記検出基準値の温度特性とに基づいて生成された、前記温度検出値と前記検出基準値とを対応づける変換テーブルと、前記温度検出値とに基づいて、前記検出基準値を生成する
ことを特徴とする請求項4に記載の圧力変化測定装置。 - 請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の圧力変化測定装置と、
前記圧力変化測定装置から得られた前記測定対象圧力の変化を高度情報に変換する高度変換部と
を備えることを特徴とする高度測定装置。 - 測定対象圧力を伝達する圧力伝達媒体が流入するキャビティと、前記圧力伝達媒体を前記キャビティの内外に流通させる連通孔と、を有し、前記キャビティの内部圧力と前記測定対象圧力との差圧に応じた差圧検出値を検出する差圧センサと、前記差圧センサの温度に応じた温度検出値を検出する温度センサとを利用した圧力変化測定方法であって、
前記差圧センサは、
前記キャビティを有するセンサ本体と、
前記連通孔を除く前記キャビティの開口面を塞ぐように基端部から先端部に向けて一方向に延びる板状であり、前記キャビティの内部と外部との圧力差に応じて撓み変形するカンチレバーと、
前記カンチレバーの撓み変形に応じた前記基端部の抵抗変化に基づいて、前記差圧検出値を検出する差圧検出回路部と、
前記カンチレバーと同一材質及び同一形状になるように構成されたレバー部を有するレファレンス部と
を備えており、
前記差圧検出回路部は、
前記カンチレバーの基端部の抵抗を含む検出抵抗と、前記レバー部の基端部の抵抗を含む参照抵抗とを有するホイートストンブリッジ回路を備えており、
前記温度センサは、
前記カンチレバーと同一材質で、前記カンチレバー及び前記レバー部と同一の基板上に構成された温度検出抵抗部と、
前記温度検出抵抗部の抵抗変化に基づいて、前記温度検出値を検出する温度検出回路部と
を備えており、
基準値設定部が、前記温度センサによって検出された前記温度検出値と、前記差圧のない状態における前記差圧センサの検出値を示す検出基準値の温度特性とに基づいて、前記検出基準値を設定する基準値設定ステップと、
演算処理部が、前記基準値設定ステップによって設定された前記検出基準値と、前記差圧センサによって検出された前記差圧検出値とに基づいて、前記測定対象圧力の変化を示す情報を生成する演算処理ステップと
を含み、
前記演算処理ステップにおいて、前記演算処理部は、前記温度センサを用いて設定された前記検出基準値と、前記カンチレバーと前記レファレンス部のレバー部とを用いることで温度変化の影響を低減した前記差圧検出値とに基づいて、前記測定対象圧力の変化を示す情報を生成する
ことを特徴とする圧力変化測定方法。
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