JP2001264529A - カラーフィルターの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 背面露光法にてカラーフィルターの樹脂ブラ
ックマトリクスを形成するに際し、着色画素上に遮光性
成分の残渣が残ることを防ぎ、かつ充分な厚みの樹脂ブ
ラックマトリクスを形成する方法を提供する。 【解決手段】（１）透明基板上に１色または複数色の着
色画素を形成する工程、（２）上記透明基板及び着色画
素上の一部または全面に、遮光性感光性レジストを塗布
して遮光性感光性樹脂層を設ける工程、（３）透明基板
側から露光する工程、（４）該遮光性感光性樹脂層を現
像して、着色画素間にブラックマトリクスを形成する工
程、を含むカラーフィルター形成法において、工程
（１）と（２）の間に、該着色画素表面を液体または気
体と接触させることにより、接触後の、着色画素に対す
る遮光性感光性レジストの接触角が、上記液体または気
体の接触前よりも大きくなるようにする工程を含む、こ
とを特徴とするカラーフィルターの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示素子、固体
撮像素子、カメラ等に使用される光学的カラーフィルタ
ーの製造法に関わる。さらに詳しくは、表面平坦性、画
像特性、製造性に優れるカラーフィルターの製造法に関
する。

【０００２】

【従来の技術】現在用いられているカラーフィルターの
多くは、基板上に複数色の微細な着色画像のパターンを
配置し、これら着色画像の境界にブラックマトリックス
（ＢＭ）と呼ばれる遮光性層を設けることにより形成さ
れている。このような構成のカラーフィルターの製造方
法として最も一般的に用いられている方法としては、初
めに基板上にＢＭのパターンを形成した後に、染色法、
印刷法、顔料分散法等の様々な方法で着色画素を１色ず
つあるいは複数色を同時に形成する方法が挙げられる。

【０００３】これらの方法では、画像特性劣化の原因と
なる、白抜けなどと呼ばれる着色画素とＢＭの境界の隙
間を無くすために、着色画素形成の際には、着色画素の
幅をＢＭパターンの開口部の幅よりも幾分広くして、予
め形成されているＢＭの端に着色画素の端が重なる様に
パターニングされる。しかしこのＢＭと着色画素の重な
りにより生じる段差は、カラーフィルター上に形成され
る透明導電膜パターンの断線の原因になることがある。

【０００４】このような段差の発生を抑え、しかもＢＭ
と着色画素の間の白抜けも無いカラーフィルターの製造
法として、背面露光法と呼ばれる手法が知られている。
この方法ではＢＭ形成後に着色画素を形成する方法と、
着色画素形成後にＢＭを形成する方法のいずれも知られ
ているが、例えば着色画素形成後に背面露光法でＢＭを
形成する方法としては、特開昭６３−１２８３０２、特
開平１−２２１７５１、特開平５−３１３００７などに
開示されている方法が代表的なものである。すなわち、
いわゆる染色法、印刷法、顔料分散法と呼ばれる方法等
で透明基板上に着色画素を形成した後、黒色顔料分散ネ
ガ型レジストや黒色成分を含むネガ型樹脂フィルム等を
用いて遮光性の光硬化性膜（遮光性感光性樹脂層）を着
色画素全体を覆うように形成する。次に透明基板の、着
色画素および遮光性感光性樹脂層が形成されているのと
は反対の側（基板側）から、着色画素を遮光フィルター
として、黒色レジスト膜を硬化させるための光を照射
し、着色画素間の黒色レジスト膜のみを硬化させる。そ
の後、現像等の手段で、着色画素上の未硬化の遮光性光
硬化性膜を選択的に除去することにより、着色画素間に
ＢＭを形成する。

【０００５】この方法によれば、着色画素のパターン自
体をＢＭパターニング用のフォトマスクとして用いるた
め、着色画素の間隙とＢＭの幅とが全く等しくなり、従
って、着色画素とＢＭの隙間（白抜け）は生じず、また
着色画素とＢＭの膜厚を調節することによって、境界部
の段差を無くすか、あるいは小さくすることが可能であ
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
法では着色画素を光遮光用のフィルターとして用いるた
め、着色画素上の黒色レジスト膜は硬化させずに、しか
も着色画素間の黒色レジスト膜を十分に硬化させる必要
がある。このため、黒色レジスト膜中の光重合開始剤成
分と硬化用の光の波長の組み合わせが限られたり、ある
いは着色画素に特定の波長範囲の光の透過を防ぐ機能を
付与する工夫を要するという欠点がある。

【０００７】例えば、特開平３−４２６０２や特開平７
−２８２３６では、遮光性光硬化性膜の硬化の際に、光
源として用いるメタルハライドランプの４００ｎｍ以上
の光を除くため、ＵＶ透過フィルターを用いている。ま
た、特開平４−６９６０２では、詳細は開示されていな
いものの、着色画素を３００〜４００ｎｍの光を透過さ
せないように設定した上で、さらに約４００ｎｍ以下の
光に感光する黒色レジストを用いて、カラーレジストを
形成する方法が開示されている。さらに、特開平２−７
７０１４では着色画素形成後にＵＶ吸収剤を着色画素上
に固着させる工程を経た後にＢＭを形成しており、特開
平６−５９１１９では予め着色画素中に紫外線吸収剤と
して、クマリン化合物を含有させる方法が明らかにされ
ている。

【０００８】この様な工夫を行わず、一般的にカラーフ
ィルターのＢＭ形成で用いられている光重合開始剤成分
を含む黒色レジストと、該レジスト硬化に適した波長の
光を用いて、背面露光法にてＢＭを形成する場合、充分
にＢＭを硬化させようとすると、着色画素上に遮光性成
分の残さが残り、残さが残ることを防ごうとすると、光
を十分な強度で照射できないためにＢＭ部分の硬化が不
十分となり、現像後のＢＭの厚みが不十分であったり、
ＢＭの表面が荒れる、といった問題が生じる。

【０００９】また特開平５−１７３０１５では、背面露
光法ではないが、最後の着色画素の形成前に、既に形成
されている着色画素上にシラン化合物などの、最後の着
色画素用レジストをはじく物質による皮膜を形成した
り、あるいは予め最後に形成する着色画素以外の着色画
素中にシラン化合物を混合しておく、といった処理を行
うことが開示されている。これらの処理により、最後の
着色画素形成のためのカラーレジストを塗布した際に、
既に形成されている着色画素上からははじかれ、ＢＭ形
成予定部にのみ塗布されるため、着色画素とＢＭの重な
りを無くし、カラーフィルター表面を平坦化することが
できる。

【００１０】この方法は上述の、背面露光法でＢＭを形
成する際に、着色画素上に遮光性レジスト成分の残さが
残ることを防ぐ手法として有効であると考えられる。し
かしながら、ＢＭの色濃度、透過率、硬化性等、カラー
フィルター本来の性能の観点からは、これらの性能に直
接寄与することの無いシラン化合物等の成分の存在は、
無いことが望ましいのは言うまでもない。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明者らは上述の問題
点を解決し、背面露光法によっても厚みが十分にあり、
かつ表面荒れの少ないＢＭを形成でき、かつ着色画素上
に遮光性レジストの残さが残らない手段、および、この
手段によって形成されたカラーフィルターを提供するも
のである。

【００１２】すなわち本発明の第１は、（１）透明基板
上に１色または複数色の着色画素を形成する工程、
（２）上記透明基板及び着色画素上の一部または全面
に、遮光性感光性レジストを塗布して遮光性感光性樹脂
層を設ける工程、（３）透明基板側から露光する工程、
（４）該遮光性感光性樹脂層を現像して、着色画素間に
ブラックマトリクスを形成する工程、を含むカラーフィ
ルター形成法において、工程（１）と（２）の間に、該
着色画素表面を液体または気体と接触させることによ
り、接触後の、着色画素に対する遮光性感光性レジスト
の接触角が、上記液体または気体の接触前よりも大きく
なるようにする工程を含む、ことを特徴とするカラーフ
ィルターの製造方法に存する。

【００１３】本発明の第２は、（１）透明基板上に１色
または複数色の着色画素を形成する工程、（２）上記透
明基板及び着色画素上の一部または全面に、遮光性感光
性樹脂層を設ける工程、（３）透明基板側から露光する
工程、（４）該遮光性感光性樹脂層を現像して、着色画
素間にブラックマトリクスを形成する工程、を含むカラ
ーフィルター形成法において、工程（１）と（２）の間
に、該着色画素表面を水、アルコール、またはカルボン
酸と接触させる工程を含む、ことを特徴とするカラーフ
ィルターの製造方法に存する。

【００１４】本発明の第３は、（１）透明基板上に１色
または複数色の着色画素を形成する工程、（２）上記透
明基板及び着色画素上の一部または全面に、遮光性感光
性レジストを塗布して遮光性感光性樹脂層を設ける工
程、（３）透明基板側から露光する工程、（４）該遮光
性感光性樹脂層を現像して、着色画素間にブラックマト
リクスを形成する工程、を含むカラーフィルター形成法
において、工程（１）と（２）の間に、該着色画素表面
に、着色画素に対する接触角が遮光性感光性レジストよ
りも大きい液体またはこれが気化した気体を接触させる
工程を含む、ことを特徴とするカラーフィルターの製造
方法に存する。

【００１５】

【発明の実施の形態】本発明のポイントは、着色画素を
設けた基板上に遮光性感光性樹脂層を設ける前に、現像
工程後に該樹脂層が残ると好ましくない部分に、あらか
じめ液体または気体を接触させる（表面処理を施してお
く）とよいことを見出した点にある。表面処理を行うこ
とにより、背面露光とそれに続く遮光性感光性樹脂層の
現像の後に着色画素上の遮光性感光性樹脂層が残存しな
くなる理由は未だ明らかではないが、現在の所、以下の
様に推測している。

【００１６】すなわち着色画素を透過した基板背面から
の光によって着色画像上の遮光性感光性樹脂層が着色画
素上に付着するためには、着色画素の表面にも遮光性感
光性樹脂層との重合反応を起こし得る重合性の官能基が
存在するか、あるいは遮光性感光性レジストとの間で、
例えば疎水性相互作用の様な相互作用を起こす官能基が
存在することが必要であると考えられる。そして、着色
画素の表面処理により、着色画素表面近傍に存在する上
述の遮光性感光性樹脂層残の原因となる官能基が、表面
処理の液体あるいは気体との反発によって着色画素層の
内側に潜り込むか、または、上記官能基以外の着色画素
表面近傍に存在する官能基が、表面処理の液体あるいは
気体との親和性相互作用によって着色画素層最表面に移
動することにより、遮光性感光性樹脂層残の原因となる
官能基が着色画素層の内側に潜り込むため、表面処理に
より、遮光性感光性樹脂層残が抑えられるものと考えて
いる。

【００１７】また、そもそも露光は、透明基板上の遮光
性感光性樹脂層が光硬化するのに充分な波長および強度
で、透明基板側から行われるが、同露光条件が、透明基
板および着色画素を透過した光が、着色画素上の遮光性
感光性レジストをも光硬化しうる条件を満足する場合
に、着色画素上への遮光性感光性樹脂層残が生じる。こ
のため、着色画素上の遮光性感光性樹脂層の少なくとも
一部が、工程（３）の露光により硬化するものである場
合、特に本発明の表面処理の効果が発現される。

【００１８】なお着色画素上の遮光性感光性樹脂層の硬
化の有無は、透明基板、着色画素、およびレジストの種
類や厚さ、並びに露光光源波長とその強度に依存する。
以下、本発明を詳細に説明する。 １、透明基板 本発明で使用される透明基板としては、ポリエチレン、
ポリプロピレン等のポリオレフィンや、ポリエステル等
の透明樹脂シート、あるいは各種ガラス板等を挙げるこ
とができる。電着法でカラーフィルターを形成する場合
等には、予め透明電極パターンが形成された基板を用い
る。

【００１９】このような透明基板には、表面の接着性等
の物性を改良するために、必要に応じて、コロナ放電処
理、オゾン処理、シランカップリング剤やウレタンポリ
マー等の各種ポリマーの薄膜形成処理等を行ってもよ
い。これら透明基板の膜厚は、カラーフィルターの形成
が可能で、かつカラーフィルターとして機能するのに必
要な強度を有する限り制限は無いが、０．０１〜１０ｍ
ｍの範囲であることが好ましく、特に０．１〜７ｍｍの
範囲であることが好ましい。 ２、着色画素形成工程 本発明における着色画素形成工程に特に制限はなく、顔
料分散法、染色法、電着法、印刷法、転写法、といった
公知の全ての方法を用いることができる。また形成する
着色画素は、１色ずつであっても、複数色を同時に形成
しても良い。

【００２０】なお生産性、コスト、品質等を総合的に判
断すると、現状では顔料分散法が最も優れており、現在
のカラーフィルター製造において主流となっている。そ
の典型的な例としては、後述の遮光性レジストの項で挙
げるアクリル系樹脂、光重合性モノマー、光重合開始
剤、着色画素を形成するに所望の着色顔料、および溶媒
等を含む塗布液を、透明基板上に塗布・乾燥し、光硬化
に適した露光光源を用いて露光・現像することによりパ
ターン形成する。これを繰り返すことにより各色着色画
素が形成される。 ３、遮光性感光性樹脂層の形成 本発明における遮光性感光性樹脂層は、遮光性感光性レ
ジストの基板への塗布（塗布法）や、あらかじめ遮光性
感光性レジスト層をベースフィルムに設けておき、基板
上に転写する（転写法）方法など、種々の方法にて形成
できる。これらに使用する遮光性感光性レジストは、そ
の成分に特に制限はなく、例えば遮光性成分、光重合開
始剤、光重合性モノマー、およびバインダー樹脂などで
構成される。

【００２１】遮光性成分として通常、遮光性染料や、チ
タンブラックやカーボンブラックなどの遮光性顔料など
が用いられる。好ましくは遮光性顔料である。バインダ
ー樹脂としては通常、アクリル系樹脂やポリイミド系樹
脂等が用いられる。好ましくはアクリル樹脂である。ア
クリル系樹脂とは、（メタ）アクリル酸、またはその塩
やエステル由来の繰り返し単位を有する樹脂である。具
体的には、例えばアクリル酸、またはその塩やエステル
等の単独重合体や、これらと（メタ）アクリル酸にε−
カプロラクトン、β−プロピオラクトン、γ−ブチロラ
クトン、δ−バレロラクトン等のラクトン類を付加させ
たものである単量体；２−（メタ）アクリロイロキシエ
チルコハク酸、２−アクリロイロキシエチルアジピン
酸、２−（メタ）アクリロイロキシプロピフタル酸、２
−（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル
酸、２−（メタ）アクリロイロキシブチルマレイン酸な
どの、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートに（無
水）コハク酸、（無水）フタル酸、（無水）マレイン酸
などの酸（無水物）を付加させた単量体；スチレン、α
−メチル−スチレン、ビニルトルエン等のスチレン系モ
ノマー：桂皮酸、マレイン酸、フマル酸、無水マレイン
酸、イタコン酸等の不飽和基含有カルボン酸；アクリロ
ニトリル；酢酸ビニル、バーサチック酸ビニル、プロピ
オン酸ビニル、桂皮酸ビニル、ピバリン酸ビニル等の酸
ビニルなど、各種単量体を重合させることにより得られ
る樹脂が挙げられる。

【００２２】なお本明細書において、「（メタ）アクリ
ル酸」は「アクリル酸またはメタクリル酸」を表す。
「（メタ）アクリレート」なども同様である。アクリル
系樹脂は、（メタ）アクリル酸由来の繰り返し単位を含
む樹脂、つまり側鎖にカルボキシル基を有する樹脂であ
れば、水性現像液にて現像できるため好ましく、さらに
側鎖にエチレン性二重結合基を有していれば、露光工程
においてその部分で架橋反応が起こるため好ましい。側
鎖へのエチレン性二重結合基の導入は、例えば、側鎖に
カルボキシル基を有する樹脂に対し、該カルボキシル基
の少なくとも一部に、エチレン性不飽和二重結合基とエ
ポキシ基とを有する化合物を反応させることにより可能
である。

【００２３】光重合性モノマーとしては通常、不飽和カ
ルボン酸ヤ、（ポリ）ヒドロキシ化合物と不飽和カルボ
ン酸とのエステルなど、エチレン性二重結合を有する単
量体やオリゴマー等が用いられる。これら各成分の具体
的な例としては、特願平１１−１６７３２号中に記載さ
れたもの等が挙げられる。また光重合開始剤成分として
は通常、光照射によりラジカル重合やカチオン重合など
の重合を開始させる重合開始剤が用いられる。このよう
な光重合開始剤成分の非限定的な具体例としては、２−
（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロ
メチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシナフチ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（４−エトキシナフチル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エ
トキシカルボニルナフチル）−４，６−ビス（トリクロ
ロメチル）−ｓ−トリアジン、などのハロメチル化トリ
アジン誘導体、ハロメチル化オキサジアゾール誘導体、
２−（２’−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイ
ミダゾール２量体、２−（２’−クロロフェニル）−
４，５−ビス（３’−メトキシフェニル）イミダゾール
２量体、２−（２’−フルオロフェニル）−４，５−ジ
フェニルイミダゾール２量体、２−（２’−メトキシフ
ェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体、
（４’−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミ
ダゾール２量体などのイミダゾール誘導体、ベンゾイン
メチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベンゾ
インイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエー
テルなどのベンゾイン、ベンゾインアルキルエーテル
類、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキ
ノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、１−クロロアン
トラキノンなどのアントラキノン誘導体、ベンズアンス
ロン誘導体、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、２−メ
チルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−
メチルベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４
−ブロモベンゾフェノン、２−カルボキシベンゾフェノ
ンなどのベンゾフェノン誘導体、２，２−ジメトキシ−
２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセ
トフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ
トン、α−ヒドロキシ−２−メチルフェニルプロパノ
ン、１−ヒドロキシ−１−メチルエチル−（ｐ−イソプ
ロピルフェニル）ケトン、１−ヒドロキシ−１−（ｐ−
ドデシルフェニル）ケトン、２−メチル−（４’−メチ
ルチオフェニル）−２−モルホリノ−１−プロパノン、
１，１，１−トリクロロメチル−（ｐ−ブチルフェニ
ル）ケトンなどのアセトフェノン誘導体、チオキサント
ン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオ
キサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメ
チルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサント
ン、２，４−ジイソプロピルチオキサントンなどのチオ
キサントン誘導体、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチ
ル、ｐ−ジエチル安息香酸エチルなどの安息香酸エステ
ル誘導体、９−フェニルアクリジン、９−（ｐ−メトキ
シフェニル）アクリジンなどのアクリジン誘導体、９，
１０−ジメチルベンズフェナジンなどのフェナジン誘導
体、テトラメチルアンモニウムテトラフェニルボラー
ト、テトラメチルアンモニウムテトラメシチルボラー
ト、テトラブチルアンモニウムテトラキス（４ーフルオ
ロフェニル）ボラート、テトラブチルアンモニウムジフ
ェニルジブチルボラート、ベンジルトリメチルアンモニ
ウムテトラキス（トリメチルシリルメチル）ボラート、
などのボラート化合物、ジシクロペンタジエニルチタン
ジクロリド、ジシクロペンタジエニルチタンジフェニ
ル、ジシクロペンタジエニルチタンビス（１−（２，
３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル））、ジシク
ロペンタジエニルチタンビス（１−（２，３，５，６−
テトラフルオロフェニル））、ジシクロペンタジエニル
チタンビス（１−（２，４，６−トリフルオロフェニ
ル））、ジシクロペンタジエニルチタンビス（１−
（２，４−ジフルオロフェニル））、ビス（メチルシク
ロペンタジエニル）チタンビス（１−（２，３，４，
５，６−ペンタフルオロフェニル）、ビス（メチルシク
ロペンタジエニル）チタンビス（１−（２，６−ジフル
オロフェニル）、ビス（メチルシクロペンタジエニル）
チタンビス（１−（２，６−ジフルオロ−３−（１−ピ
ロリジル）フェニル））などのチタノセン誘導体、ある
いはそのジルコノセンおよびハフノセン誘導体等が挙げ
られる。これらの光重合開始剤は単独でまたは複数組み
合わせて使用される。

【００２４】本発明の製造方法によると、着色画素上に
塗布された遮光性光重合性レジスト（あるいは転写法等
で設けられた遮光性感光性樹脂層）が、露光工程にて画
素上で硬化してしまっても、その後に続く現像工程で画
素上から除去される。よって、画素を透過した光では作
用しない光重合開始剤を選択する必要がなく、例えば上
記の様な一般的な光重合開始剤を使用することができ
る。

【００２５】遮光性感光性レジストが、光重合性モノマ
ーを含有する場合、各成分の配合割合は、全固形分に対
してバインダー樹脂５〜４０重量部、光重合性モノマー
５〜４０重量部、光重合開始剤０．１〜２０重量部、遮
光性成分２０〜８０重量部程度である。本発明の遮光性
感光性レジストは、必要に応じて、更に光重合促進剤、
光増感剤、顔料分散剤、密着向上剤、塗布性向上剤、現
像改良剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を適宜添加する
ことができる。遮光性感光性レジストの成分は、有機溶
剤を用いる場合、固形分濃度が合計で５〜５０重量％、
好ましくは１０〜４０重量％の範囲となるように調液さ
れる。

【００２６】塗布法にて遮光性感光性樹脂層を形成する
場合は、通常、例えば遮光性顔料と、有機溶剤、分散機
能を有するバインダー樹脂、顔料分散剤等を分散処理す
ることによりインキを調製し、更にバインダー樹脂、エ
チレン性化合物および光重合開始剤等を配合、混合し、
均一な塗布液（感光性遮光性レジスト）を調製し、これ
を塗布する。

【００２７】有機溶剤としては前述の各成分を溶解・分
散することができ、取り扱い性が良いものであれば特に
限定されない。具体的にはメチルセロソルブ、エチルセ
ロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート（以下「ＰＧＭＡｃ」と略記す
る。）、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン、トルエン、クロロホルム、ジク
ロロメタン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、メ
タノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、テ
トラハイドロフラン等の各種有機溶剤が挙げられるが、
沸点が９０〜２５０℃の範囲が好ましく、より好ましく
は１１０〜２００℃の範囲のものである。

【００２８】分散処理においては、特に顔料分散剤とし
て高分子分散剤を用いると経時の分散安定性に優れるの
で好ましい。通常、遮光性顔料はあらかじめペイントコ
ンディショナー、サンドグラインダー、ボールミル、ロ
ールミル、ストーンミル、ジェットミル、ホモジナイザ
ー等を用いて分散処理するのが好ましい。分散処理によ
り顔料が微粒子化されるため、レジストの塗布特性の向
上が達成される。

【００２９】サンドグラインダーで分散される場合に
は、０．１から数ミリ径のガラスビーズ又はジルコニア
ビーズが好ましく用いられる。分散させる条件は、通
常、温度は０℃から１００℃であり、好ましくは、室温
から８０℃の範囲である。分散時間はインキの組成（黒
色色材、溶剤、分散剤）及びサンドグラインダーの装置
サイズ等により適正時間が異なるため適宜調節する。

【００３０】次に、上記分散処理により得られたインキ
にバインダー樹脂、エチレン性化合物、光重合開始剤、
有機溶剤を配合、混合し均一な塗布液とする。製造工程
においては微細なゴミがレジストに混じることが多いた
め、得られた遮光性感光性レジストはフィルター等によ
り濾過処理するのが望ましい。 ４、表面処理 本発明において、表面処理（着色画素表面に特定の液体
または気体を接触させる処理）は遮光性感光性樹脂層の
形成前に行えば良く、より具体的には、全ての着色画素
の形成後で、遮光性感光性レジストの塗布（又は転写）
の前に行う。また本発明の表面処理の効果を失わない限
りにおいて、全ての着色画素の形成終了から遮光性感光
性レジストの塗布（又は転写）までの間で、表面処理の
前か後、あるいは表面処理と同時に薬品や気体、光線、
熱などの他の手段による処理を行っても良い。

【００３１】なお、本発明の「表面処理」は、その目的
から着色画素上に行うことが必須だが、着色画素は基板
上に隙間無く設けられている訳ではなく、後にＢＭを設
ける部分以外に設けられているので、基板上の着色画素
非形成部分にも結果的に表面処理が行われることにな
る。本発明における表面処理に用いられる液体および気
体としては、処理後の着色画素に対する遮光性感光性レ
ジストの接触角が、処理前より大きくなるようなもので
あればよく、水などの無機溶剤、有機溶剤、それらの混
合物、あるいはこれらを溶媒とする溶液などから選択さ
れる。なお本発明の表面処理に使用する「気体」は、上
記「液体」が気化したものであり、上記「液体」が沸点
より低い温度で存在する場合の蒸気を含む。

【００３２】好ましくは、着色画素に対する接触角が、
遮光性感光性レジストの着色画像に対する接触角より大
きい液体、またはこれが気化した気体が用いられる。ま
た、具体的には水、アルコール、またはカルボン酸と接
触処理するのが好ましく、これらは液体状、気体状のい
ずれの状態で用いても良い。なおこれらは混合して使用
しても良く、また本発明の性能を損なわない範囲で、こ
れら以外の成分を含んでいても良い。特にこれらは、前
記「２、着色画素形成工程」の項で典型的な例として挙
げた、アクリル系樹脂を含む光重合性組成物を用いて形
成された画素と、前記「３、遮光性感光性レジスト」の
項で説明した、アクリル系樹脂（バインダー樹脂）と沸
点が９０〜２５０℃の溶媒を含む遮光性感光性レジスト
の組み合わせの場合には、表面処理に使用する液体また
は気体として好ましい。表面処理用の液体または気体と
してさらに好ましくは、水、炭素数１〜８の一価または
多価アルコール、炭素数１〜８の一価または多価カルボ
ン酸のいずれかである。

【００３３】なお、表面処理の温度は特に制限はなく、
０〜２５０℃の間であればよい。表面処理の具体的な方
法としては、液体の場合、例えば着色画素が設けられた
基板上に、シャワーにて液体を散布する方法や、液体を
満たした容器内に該基板を浸ける方法などが挙げられ
る。気体の場合、該気体雰囲気中を、着色画素形成後の
基板を通過させる方法などが挙げられる。

【００３４】尚、該表面処理は、着色画素自体の表面状
態を変化させる効果を有すると考えられるため、該表面
処理を液体で行なう場合、該液体は、着色画素上に保持
される必要はなく、該液体と接触後、遮光性レジスト塗
布に先立ち、風乾等により除去されるのが好ましい。 ５．遮光性感光性組成物の塗布工程 ３で得られた遮光性感光性レジストを、４で表面処理さ
れた画素および基板上に塗布し、遮光性光重合性樹脂層
を形成する場合について説明する。遮光性光重合性樹脂
層は、透明基板及び着色画素上の一部又は全面に形成さ
れる。即ち、ＢＭ形成の目的及び本発明の紫外線照射の
目的から、透明基板上の着色画素非形成部分に遮光性感
光性樹脂層が形成され、かつ、着色画素上の少なくとも
一部に遮光性感光性樹脂組成物層が形成されるのが好ま
しい。

【００３５】尚、遮光性感光性樹脂層形成処理の効率か
らして、透明基板及び着色画素の実質全面に遮光性感光
性樹脂層を形成するのが好ましい。塗布は、スピナー、
ワイヤーバー、フローコーター、ダイコーター、ロール
コーター、スプレー等の通常の塗布装置を用いて行われ
る。塗布膜厚は、通常０．１〜１０μｍである。

【００３６】塗布膜を乾燥した後、基板の画素を設けて
いない面（背面）から露光する。なお、ＢＭの硬化を確
実にするため、遮光性感光性樹脂層の上に、ポリビニル
アルコールなどの酸素遮断層を設けてもよい。 ６、遮光性感光性レジスト露光工程および現像工程 遮光性感光性樹脂層を基板裏側（背面）から露光する工
程では、ＢＭパターン形状に応じたフォトマスクを使用
しても良いし、使用しなくても良い。また、露光に用い
る光源は、遮光性感光性樹脂層に含有される光重合開始
剤に応じて適当なものが選ばれるが、例えば、キセノン
ランプ、ハロゲンランプ、タングステンランプ、高圧水
銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、中圧水銀
灯、低圧水銀灯等のランプ光源や、殺菌灯、蛍光灯など
の発光管光源や、アルゴンイオンレーザー、ＹＡＧレー
ザー、エキシマーレーザー、窒素レーザー等のレーザー
光源などが挙げられる。特定の照射光の波長のみを使用
する場合には光学フィルターを利用することもできる。

【００３７】本発明の製造方法によると、着色画素表面
に特定処理を行なっているため、着色画素上に塗布され
た遮光性感光性レジストが、露光工程において画素上で
硬化してしまっても、その後に続く現像工程で画素上か
ら除去される。よって、画素をＢＭパターニング時のフ
ォトマスクとして使用する場合にも、画素を通り抜けな
い波長や強度の露光源を選択する必要はなく、プロセス
上有利である。

【００３８】つまり本発明の製造方法においては、透明
基板の材質、着色画素の材質、遮光性感光性レジスト中
の成分、および露光のための照射光の波長と強度の組み
合わせが、これらの組み合わせで、表面処理を行わずに
背面露光を行った場合に、着色画素上の遮光性感光性レ
ジストを硬化させてしまうもの（つまり現像工程後、画
素上にＢＭ残さが残ってしまうもの）であってもかまわ
ない。なお、背面露光工程およびそれに続く現像工程の
前後における、同一色の着色画素の光学濃度（ＯＤ）の
差の、最も大きい値が０．０４以上である場合に、「該
画素上の遮光性感光性レジストが硬化している」と判断
する。

【００３９】上記露光後、遮光性感光性樹脂層の未露光
部分を、現像処理にて除去する。現像処理に使用する現
像液は、遮光性感光性樹脂層の未露光部分を溶解させる
能力のある溶剤であれば特に制限は受けないが、例えば
アセトン、塩化メチレン、トリクレン、シクロヘキサノ
ン等の有機溶剤では環境汚染、人体に対する有害性、火
災危険性などをもつため好ましくなく、アルカリ現像液
を使用するのが好ましい方法である。このようなアルカ
リ現像液として、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸カリウム、珪酸ナトリウム、珪酸カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機のアル
カリ剤、或いはジエタノールアミン、トリエチルアミ
ン、トリエタノールアミン、水酸化テトラアルキルアン
モニウム塩、テトラメチルアンモニウムヒドロサイド等
の有機のアルカリ剤を含有した水溶液が挙げられる。

【００４０】なおアルカリ現像液には、必要に応じ、界
面活性剤、水溶性の有機溶剤、湿潤剤、水酸基又はカル
ボン酸基を有する低分子化合物等を含有させることもで
きる。特に、界面活性剤は現像性、解像性、地汚れなど
に対して改良効果をもつものが多いため添加するのは好
ましい。例えば、現像液用の界面活性剤としては、スル
ホナトフェニル基含有化合物のナトリウム塩またはカリ
ウム塩、スルホナトナフチル基含有化合物のナトリウム
塩またはカリウム塩などを有するアニオン性界面活性
剤、ポリアルキレンオキシ基を有するノニオン性界面活
性剤、テトラアルキルアンモニウム基を有するカチオン
性界面活性剤等を挙げることができる。

【００４１】現像処理方法については特に制限は無い
が、通常、１０〜５０℃、好ましくは１５〜４５℃の現
像温度で、浸漬現像、スプレー現像、ブラシ現像、超音
波現像等の方法により行われる。更に、形成された樹脂
ＢＭおよび着色画素の膜強度、耐溶剤性および耐アルカ
リ性等の向上をはかるため、画像形成後に熱硬化処理を
行う事が好ましい。

【００４２】この熱硬化性処理は１５０℃以上３００℃
未満で行う事が好ましい。１５０℃以下では熱硬化が不
十分な為、膜強度、耐溶剤性および耐アルカリ性等に問
題が生じる場合があり、３００℃以上では過度の体積収
縮が起こり、基板に対する密着性や精度に問題が生じる
場合がある。なお、本発明においては、場合により前記
（１）〜（４）の各工程の前後又は途中に、前記（１）
〜（４）の各工程の目的を損わない範囲の適宜処理を行
ってもかまわない。

【００４３】

【実施例】次に実施例によって本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、これら
の実施例によって制約を受けるものではない。なお遮光
性光硬化性樹脂層の硬化には、光源として三共Ｇ１５Ｔ
８Ｅ蛍光管（輝線：強い順に３１０ｎｍ、４４０ｎｍ、
４１０ｎｍ、５４０ｎｍ、３８０ｎｍ）、およびウシオ
ＵＥＲ２０−３０８エキシマーランプ（輝線３０８ｎ
ｍ）を用いた。

【００４４】またＯＤ値の測定には透過濃度計Ｍａｃｂ
ｅｔｈ ＴＤ９０４を用いた。 ［製造例１］ 赤色画素、緑色画素、青色画素形成基板の製造 １）顔料分散インキの調製 １−１）赤色インキの調製 アントラキノンレッド（Ｃ．Ｉ．１７７）５０重量部、
ＢＹＫ−１６１（ビックケミー社製高分子分散剤）を固
形分で２５重量部、さらにプロピレングリコールメチル
エーテルアセタート（ＰＧＭＥＡ）を加えて固形分濃度
が３０ｗｔ％となるよう分散液を調製した。分散液を重
量で５０ｇ分取し、攪拌機によりよく攪拌しプレミキシ
ングをおこなった。次に、ペイントシェーカーにより２
５〜４５℃の範囲で６時間分散処理をおこなった。ビー
ズは０．５ｍｍφのジルコニアビーズを用い、分散液と
同じ重量を加えた。分散終了後、フィルターによりビー
ズと分散液を分離し、赤色分散インキを得た。 １−２）緑色インキの調製 アントラキノンレッドをフタロシアニングリーン（Ｃ．
Ｉ．３６）に変えた以外は赤色分散インキと同様にして
分散処理を行い緑色分散インキを得た。

【００４５】１−３）青色分散インキの調製 アントラキノンレッドをフタロシアニンブルー（Ｃ．
Ｉ．１５：６）に変えた以外は赤色分散インキと同様に
して分散処理を行い青色分散インキを得た。 ２）カーボンブラック分散インキの調製 カーボンブラックとして三菱化学社製ＭＡ−２２０を１
０重量部、高分子分散剤ＢＹＫ−１８２（ビックケミー
社製）２重量部をＰＧＭＥＡ３５重量部と混合し、ペイ
ントシェーカーにより２５〜４５℃の範囲で６時間分散
処理をおこなった。ビーズは０．５ｍｍφのジルコニア
ビーズ１８０重量部を用いた。分散終了後、フィルター
によりビーズと分散液を分離し、黒色分散インキを得
た。 ３）バインダー樹脂の合成 酸価２００、分子量５０００のスチレン・アクリル酸樹
脂２０ｇ、ｐ−メトキシフェノール０．２ｇ、ドデシル
トリメチルアンモニウムクロリド０．２ｇ、ＰＧＭＥＡ
４０ｇをフラスコに仕込み、（３，４−エポキシシクロ
ヘキシル）メチルアクリラート７．６ｇを滴下し１００
℃の温度で３０時間反応させた。反応液を水に再沈殿、
乾燥させて樹脂を得た。ＫＯＨによる中和滴定を行った
ところ、樹脂の酸価は８０であった。 ４）赤色レジスト、緑色レジスト、青色レジストの調製 赤色レジスト、緑色レジスト、青色レジストを、それぞ
れ表−１に記載の化合物、および割合で調製した。尚、
この場合、顔料重量が各２０ｇとなる様に前記赤、緑お
よび青色分散インキを使用した。

【００４６】

【表１】

【００４７】５）黒色レジスト（遮光性感光性レジス
ト）の調製 黒色レジストを、それぞれ表−２に記載の化合物、およ
び割合で調製した。尚、カーボンブラック重量が４５ｇ
となる様に前記カーボンブラック分散インキを使用し
た。

【００４８】

【表２】

【００４９】６）着色画素の形成 調製された赤色レジストを、乾燥膜厚が１．８ミクロン
になるようにガラス基板（旭硝子（株）製「ＡＮ１０
０」）にスピンコートし、乾燥温度７０℃で１５０秒間
乾燥した。次にフォトマスクを介して３ｋＷ超高圧水銀
灯により適正露光（２００ｍＪ／ｃｍ²）で露光した
後、０．２重量％の炭酸カリウムと０．４％のノニオン
性界面活性剤（花王（株）製「エマルゲンＡ−６０」）
を含有する水溶液よりなる現像液を用い、２３℃でシャ
ワー現像し、純水にて現像を停止した後、水洗スプレー
にてリンスした。その後、２３０℃で３０分間熱処理を
行い、赤色画素を形成した。赤色画素部のＯＤ値は０．
５９であった。

【００５０】同様に、緑色レジスト、および青色レジス
トを用いて、別々のガラス基板上に、乾燥膜厚１．５ミ
クロンの緑色画素、１．０ミクロンの青色画素をそれぞ
れ形成した。緑色画素部のＯＤ値は０．２２、青色画素
部のＯＤ値は０．９３であった。 ［実施例１］カラーフィルターの形成 ［製造例１］６）で作成した、赤色画素を形成したガラ
ス基板全面を、室温で純水に１０分間接触させた後、空
気を吹き付けて純水を完全に除去した。このガラス基板
全面に、［製造例１］５）で調製された黒色レジスト
を、ガラス基板上の乾燥膜厚が１．０ミクロンになるよ
うにスピンコートし、乾燥温度５０℃で１５０秒間乾燥
した。次にポリビニルアルコールの２０重量％水溶液
を、乾燥膜厚が５ミクロンになるように基板全面に塗布
し、５０℃で１５０秒間乾燥後、引き続き室温で３０分
間乾燥した。

【００５１】この基板の、赤色画素を形成した面とは反
対側（背面）から、蛍光ランプ（三共Ｇ１５Ｔ８Ｅ）を
用い、室温で５００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射した。
照射終了後、２３℃で水洗スプレーしてポリビニルアル
コール膜を除去した後、０．２重量％の炭酸カリウムと
０．４％のノニオン性界面活性剤（花王（株）「エマル
ゲンＡ−６０」）を含有する水溶液よりなる現像液を用
い、２３℃でシャワー現像し、純水にて現像を停止した
後、水洗スプレーにてリンスして、ＢＭを形成した。

【００５２】得られたカラーフィルターの赤色画素部に
は黒色レジストの残さは見られず、赤色画素部のＯＤ値
は、ＢＭ形成前と変わらず０．５９であった。一方赤色
画素とＢＭ部の境界には隙間は見られず、ＢＭの膜厚は
１．０ミクロンで、ＯＤ値は３．５であり、表面は平滑
だった。また、赤色画素上に対する黒色レジストの接触
角を、純水に１０分間接触させる前および接触して純水
を除去した直後に測定した。純水接触（表面処理）前の
接触角は１１．４°、純水接触後は１１．９°であり、
遮光性感光性レジストの着色画素に対する接触角は、表
面処理によって大きくなっていることが確認された。

【００５３】さらに、表面処理をしていない赤色画素に
対する純水の接触角を測定したところ、４１．５°であ
った。これは遮光性感光性レジストの、表面処理前の画
素に対する接触角（１１．４°）より大きいことから、
本実施例にて表面処理に使用した純水は、確かに遮光性
感光性レジストより、画素に対する接触角が大きいこと
が確認された。

【００５４】赤色画素を形成した基板の代わりに緑色、
青色画素を形成した基板を用いる以外は上記と同様にし
て緑色カラーフィルター、青色カラーフィルターを形成
した。得られたカラーフィルターの緑色画素部、青色画
素部には黒色レジストの残さは見られず、緑色画素部の
ＯＤ値は０．２２、青色画素部のＯＤ値は０．９３であ
り、いずれもＢＭ形成前と変わらなかった。

【００５５】また緑色画素とＢＭ部の境界、および青色
画素とＢＭ部の境界にはいずれも隙間は見られず、ＢＭ
の厚さはそれぞれ１．０ミクロン、１．０ミクロンで、
ＯＤ値はいずれも３．５であり、表面は平滑だった。緑
色画素および青色画素上に対する黒色レジストの接触角
を、純水に１０分間接触させる前および接触して純水を
除去した直後に測定した。純水接触前の接触角はそれぞ
れ８．４°、６．４°であり、純水接触後はそれぞれ
８．６°、６．８°であり、遮光性感光性レジストの着
色画素に対する接触角は、表面処理によって大きくなっ
ていることが確認された。

【００５６】さらに、純水接触処理をしていない緑色画
素および青色画素に対する、純水の接触角を測定したと
ころ、それぞれ４０．８°、３７．８°であった。これ
は遮光性感光性レジストの、表面処理前の緑色画素に対
する接触角（８．４）、および青色画素に対する接触角
（６．４）より各々大きいことから、本実施例にて表面
処理に使用した純水は、確かに遮光性感光性レジストよ
り、画素に対する接触角が大きいことが確認された。 ［比較例１］基板および画素表面に純水を接触させる工
程を行わないこと以外は、［実施例１］と同様にカラー
フィルターを形成した。得られたカラーフィルターの特
性を表−３に示す。表−３には、ＢＭ形成工程前後の各
色着色画素のＯＤ値が記されている。

【００５７】ＢＭ形成工程前後で着色画素のＯＤ値が上
昇している場合には、ＢＭ形成工程後、画素上に黒色レ
ジスト成分の残渣が残っていることを意味する。比較例
１で得られたカラーフィルターにおける着色画素上に
は、黒色レジスト成分の残渣が残っており、ＲＧＢいず
れのＯＤ値も増加している。 ［比較例２］基板および画素表面に純水を接触させる代
わりに、トルエンを接触させること以外は［実施例１］
と同様にカラーフィルターを形成した。得られたカラー
フィルターの特性を表−３に示す。

【００５８】表−３より、表面処理前の画素に対するト
ルエンの接触角は、それぞれ１１．４（対赤色画素）、
７．２（対緑色画素）、６．０（対青色画素）である。
これはいずれも、遮光性感光性レジストの着色画素に対
する接触角（１１．４（赤）、８．４（緑）、６．４
（青））の値以下である。表−３から明らかなように、
トルエンによる表面処理の前後における、遮光性感光性
レジストの画素に対する接触角は減少している。またＲ
ＧＢ各色画素のＯＤ値も、ＢＭ形成前後で上昇している
ことから、露光・現像工程を経た着色画素上には、黒色
レジスト成分の残さが残っていることが分かる。

【００５９】

【表３】

【００６０】［参考例１］ 着色画素上の黒色レジストの重合確認 １）光重合開始剤無添加赤色レジスト膜の形成 光重合開始剤を添加しない以外は、［製造例１］４）と
同様に赤色レジストを調製した。この赤色レジストを、
乾燥膜厚が１．８ミクロンになるようにガラス基板（旭
硝子（株）製「ＡＮ１００」）にスピンコートし、乾燥
温度７０℃で１５０秒間乾燥した。次に２３０℃で３０
分間熱処理を行い、赤色レジスト層を形成した。 ２）光重合開始剤無添加黒色レジストの調製 イルガキュア６５１（光重合開始剤）を添加しない以外
は［製造例１］５）と同様に黒色レジストを調製した。 ３）カラーフィルターの形成 赤色画素を形成したガラス基板として［参考例１］１）
で形成した赤色画素を有する基板を用い、［参考例１］
２）で調製した黒色レジストを用いる以外は、［比較例
１］（表面処理を行わない例）と同様の操作を行った。

【００６１】赤色画素上には黒色レジスト残さは残らな
かった。実施例１、比較例１、および参考例１を比較す
ると、下記表−４の通りである。

【００６２】

【表４】

【００６３】表面処理（純水接触処理）処理を行わなか
った場合、画素上には黒色レジストの残渣が残る（比較
例１）。 しかし表面処理が行われなくても、黒色レジ
スト中に光重合開始剤が含まれていない場合は、画素上
に黒色レジストの残渣は残らない（参考例１）。この結
果から、画素上に残った黒色レジスト残渣が、画素に付
着するかたちで重合するため、黒色レジスト残渣が残っ
てしまうことが分かる。

【００６４】しかし実施例１のように、黒色レジスト中
に光重合開始剤を含んでいても、予め画素に表面処理を
行っておけば、たとえ画素上で黒色レジスト残渣が重合
しても、画素上に残らず、現像工程で除去されているこ
とがわかる。つまり、実施例１と比較例１の黒色レジス
ト組成は同じであり、同じ光重合開始剤が使用されてい
るため、実施例１においても、画素上に残った黒色レジ
ストは、画素を通過して届く露光源からの照射光により
重合反応してはいる。しかし、表面処理により画素表面
が改質されているので、重合した黒色レジストは画素に
付着することなく、現像工程で除去されるのである。

【００６５】言い換えると、画素を通して届いた露光源
の照射光で黒色レジストが重合（光硬化）してもかまわ
ないため、本発明のカラーフィルター製造工程では、露
光源や光重合開始剤などの選択の幅が広く、製造プロセ
ス上極めて好ましい。

【００６６】

【発明の効果】本発明の背面露光工程を用いることによ
り、従来背面露光法では用いることの困難であった光源
や黒色レジスト成分を用いても、着色画素とＢＭの隙間
の無いカラーフィルターを、ＢＭのフォトリソ工程のマ
スクを用いずに製造することができる。さらに背面露光
法では困難な、ＢＭ厚が厚く、従ってコントラストに優
れたカラーフィルターを提供することが可能である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤原 英資 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学株式会社横浜総合研究所内 Ｆターム(参考） 2H025 AA03 AA04 AA18 AB11 AB13 AC01 AD01 BC14 BC34 BC43 BJ00 CB13 CC03 CC12 FA39 2H048 BA02 BA11 BA15 BA16 BA17 BA28 BA29 BA54 BA60 BB02 BB14 BB22 BB42 BB46 2H091 FA35Y FB02 FC05 FC06 FC10 FC23 FC25 FD04 2H096 AA27 BA05 CA16 EA02 GA08 HA02 HA30

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （１）透明基板上に１色または複数色の
   着色画素を形成する工程、 （２）上記透明基板及び着色画素上の一部または全面
   に、遮光性感光性レジストを塗布して遮光性感光性樹脂
   層を設ける工程、 （３）透明基板側から露光する工程、 （４）該遮光性感光性樹脂層を現像して、着色画素間に
   ブラックマトリクスを形成する工程、を含むカラーフィ
   ルター形成法において、工程（１）と（２）の間に、 該着色画素表面を液体または気体と接触させることによ
   り、接触後の、着色画素に対する遮光性感光性レジスト
   の接触角が、上記液体または気体の接触前よりも大きく
   なるようにする工程を含む、ことを特徴とするカラーフ
   ィルターの製造方法。
2. 【請求項２】 （１）透明基板上に１色または複数色の
   着色画素を形成する工程、 （２）上記透明基板及び着色画素上の一部または全面
   に、遮光性感光性樹脂層を設ける工程、 （３）透明基板側から露光する工程、 （４）該遮光性感光性樹脂層を現像して、着色画素間に
   ブラックマトリクスを形成する工程、を含むカラーフィ
   ルター形成法において、工程（１）と（２）の間に、 該着色画素表面を水、アルコール、またはカルボン酸と
   接触させる工程を含む、ことを特徴とするカラーフィル
   ターの製造方法。
3. 【請求項３】 （１）透明基板上に１色または複数色の
   着色画素を形成する工程、 （２）上記透明基板及び着色画素上の一部または全面
   に、遮光性感光性レジストを塗布して遮光性感光性樹脂
   層を設ける工程、 （３）透明基板側から露光する工程、 （４）該遮光性感光性樹脂層を現像して、着色画素間に
   ブラックマトリクスを形成する工程、を含むカラーフィ
   ルター形成法において、工程（１）と（２）の間に、 該着色画素表面に、着色画素に対する接触角が遮光性感
   光性レジストよりも大きい液体またはこれが気化した気
   体を接触させる工程を含む、ことを特徴とするカラーフ
   ィルターの製造方法。
4. 【請求項４】 遮光性感光性レジストがアクリル系樹脂
   と沸点９０〜２５０℃の有機溶剤を含有して成るもので
   あることを特徴とする、請求項１または請求項３に記載
   のカラーフィルターの製造方法。
5. 【請求項５】遮光性感光性樹脂層が、アクリル系樹脂と
   沸点９０〜２５０℃の有機溶剤を含有して成る遮光性感
   光性レジストの塗布、および該塗布膜からの有機溶剤の
   除去により形成されることを特徴とする、請求項２に記
   載のカラーフィルターの製造方法。
6. 【請求項６】着色画素が、アクリル系樹脂を含有して成
   るものであることを特徴とする、請求項１ないし請求項
   ５のいずれかに記載のカラーフィルターの製造方法。
7. 【請求項７】工程（１）と（２）の間に着色画素表面に
   接触させる液体を、接触後、該遮光性感光性レジストを
   塗布する前に除去することを特徴とする、請求項１ない
   し６のいずれかに記載のカラーフィルターの製造方法。
8. 【請求項８】 着色画素上の遮光性感光性樹脂層の少な
   くとも一部が、工程（３）の露光により硬化するもので
   あることを特徴とする、請求項１ないし７のいずれかに
   記載のカラーフィルターの製造方法。