JP2001264169A - 分光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高い分解能と大きな信号雑音比（Ｓ／Ｎ）で
入射光のスペクトル測定を行うことができる分光装置を
提供する。 【解決手段】 スリット１１を通過した単色光線を平行
光線にするコリメータレンズ１２と、この平行光線を所
定の方向に回折するエシェルグレーティング１３と、エ
シェルグレーティング１３から出射する平行光線をエシ
ェルグレーティング１３に向けて全反射して、エシェル
グレーティング１３との間で２往復させるミラー１４と
を具備し、エシェルグレーティング１３との間を２往復
した平行光線をコリメータレンズ１２を介してラインセ
ンサ１５のチャンネル上に結像するように構成されてい
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光源から供給され
る光に含まれる特定の波長成分のスペクトルを測定する
ために用いられる分光装置に関し、高い分解能と大きな
信号雑音比（Ｓ／Ｎ）で入射光のスペクトル測定を行う
ことができる分光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】光源から供給される光に含まれる特定の
波長成分のスペクトルを測定するために用いられる光学
機器として、日本国特許出願公開公報（特開）平１１−
１３２８４８号に開示された分光装置が知られている。
図１６は、この分光装置の概略構成を示す側面図であ
る。

【０００３】図１６に示すように、この分光装置１００
は、スリット１０１、コリメータレンズ１０２、ビーム
スプリッタ１０３、グレーティング１０４、ミラー１０
５、拡大レンズ１０６、ラインセンサ１０７を備えてい
る。

【０００４】この分光装置１００においては、光源から
供給される光線がスリット１０１を通過した後に、コリ
メータレンズ１０２により平行光線とされる。この平行
光線は、ビームスプリッタ１０３に至ると、コリメータ
レンズ１０２に向かう反射光線とグレーティング１０４
に向かう透過光線とに分けられる。この透過光線はグレ
ーティング１０４に入射し、その一部が１回目の回折光
線（シングルパス）としてビームスプリッタ１０３に向
けて回折される。

【０００５】このシングルパスの一部は、ビームスプリ
ッタ１０３によりコリメータレンズ１０２の光軸から微
小角度ずれた方向に向けて反射される。一方、残り全部
は、ビームスプリッタ１０３を透過した後にコリメータ
レンズ１０２、ミラー１０５、拡大レンズ１０６を経
て、そのスペクトルをラインセンサ１０７の所定範囲の
チャンネル上に結像する。

【０００６】ビームスプリッタ１０３から反射されたシ
ングルパスは、再びグレーティング１０４に入射し、そ
の一部が２回目の回折光線（ダブルパス）としてグレー
ティング１０４からビームスプリッタ１０３に向けて回
折される。

【０００７】そして、このダブルパスの一部がビームス
プリッタ１０３によりコリメータレンズ１０２の光軸か
ら微小角度ずれた方向に反射される一方、残り全部がビ
ームスプリッタ１０３を透過した後にコリメータレンズ
１０２、ミラー１０５、拡大レンズ１０６を経て、その
スペクトルをラインセンサ１０７の所定範囲のチャンネ
ル上（シングルパスが結像した範囲のチャンネルと一致
しない）に結像する。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記公
報に開示された分光装置においては、ビームスプリッタ
１０３の透過時やビームスプリッタ１０３からの反射
時、グレーティング１０４からの回折時に、光線の強度
が低下する。

【０００９】即ち、例えば、図１７に示すように、ビー
ムスプリッタ１０３の反射効率が３０％であり、グレー
ティング１０４の回折効率が５０％である場合、光線の
強度は、ビームスプリッタ１０３の透過時には３０％低
下し、ビームスプリッタ１０３からの反射時には７０％
低下し、グレーティング１０４からの回折時には５０％
低下する。このため、コリメータレンズ１０２からビー
ムスプリッタ１０３に入射される平行光線の強度をＩ₀
と表わすとき、ビームスプリッタ１０３を通過したシン
グルパスやダブルパスの各強度Ｉ_S、Ｉ_Dは、以下の値と
なる。 Ｉ_S＝０．７×０．５×０．７×Ｉ₀＝０．２４５Ｉ₀…（１） Ｉ_D＝０．７×０．５×０．３×０．５×０．７×Ｉ₀ ＝０．０３６７５Ｉ₀…（２） 尚、図１７においては、光線が２往復する間の光路が幾
分ずれて描かれている。

【００１０】これらの値（１）、（２）から、図１８に
示すように、ビームスプリッタ１０３を通過したダブル
パスは、ビームスプリッタ１０３を通過したシングルパ
スの強度の約１５％程度の強度しか有していない。従っ
て、上記公報に開示された分光装置においては、特定の
波長成分から成る平行光線がビームスプリッタ１０３と
グレーティング１０４との間を２往復する間に強度を著
しく低下させてしまうので、高い分解能であっても信号
雑音比（Ｓ／Ｎ）の小さいダブルパスしか得ることがで
きなかった。上記事情に鑑みて、本発明は、高い分解能
と大きな信号雑音比で入射光のスペクトル測定を行うこ
とができる分光装置を提供することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の第１の観点による分光装置は、光源から供
給される光に含まれる特定の波長成分のスペクトルを測
定するために用いられる分光装置であって、光を平行光
線にするコリメート手段と、平行光線に含まれる特定の
波長成分を所定の方向に回折する回折手段と、回折手段
から出射された特定の波長成分から成る平行光線を回折
手段に向けて全反射して、回折手段との間で所定の回数
往復させる全反射手段とを具備しており、回折手段と全
反射手段との間を所定の回数往復した平行光線をコリメ
ート手段を介して光度検出手段に結像するように構成さ
れている。

【００１２】ここで、コリメート手段がコリメータレン
ズを含み、回折手段と反射手段との間を２往復して得ら
れる平行光線（ダブルパス）又は３往復して得られる平
行光線（トリプルパス）を光度検出手段に結像するよう
に構成されていることが好ましい。

【００１３】また、本発明の第２の観点による分光装置
は、光源から供給される光に含まれる特定の波長成分の
スペクトルを測定するために用いられる分光装置であっ
て、光を平行光線にするコリメート手段と、平行光線に
含まれる特定の波長成分を所定の方向に回折する回折手
段と、回折手段から出射された特定の波長成分から成る
平行光線を回折手段に向けて全反射して、回折手段との
間で所定の回数往復させる全反射手段と、回折手段と全
反射手段との間を所定の回数往復した平行光線を光度検
出手段に結像する結像手段とを具備する。

【００１４】ここで、コリメート手段又は結像手段が凹
面鏡を含み、回折手段と反射手段との間を２往復して得
られる平行光線（ダブルパス）又は３往復して得られる
平行光線（トリプルパス）を光度検出手段に結像するよ
うに構成されていることが好ましい。以上において、回
折手段は、エシェルグレーティングであることが好まし
い。

【００１５】上記のように構成した分光装置によれば、
特定の波長成分から成る平行光線が回折手段と全反射手
段との間を往復する間に、回折手段における回折時にの
み光線の強度が低下する。このため、光度検出手段に結
像されるダブルパスやトリプルパスの各強度は、コリメ
ート手段から回折手段に入射される平行光線の強度に比
べて、回折手段による２回若しくは３回の回折によるエ
ネルギー損失分のみ低いだけである。従って、ダブルパ
スやトリプルパス等の高い分解能を有する光線を大きな
信号雑音比（Ｓ／Ｎ）で取り出してスペクトル測定を行
うことができる。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照しつつ、本
発明の実施形態について説明する。先ず、図１乃至図６
を参照しつつ本発明の第１の実施形態について説明す
る。この分光装置１０は、図１に示すように、光源１７
から光ファイバー１８を介して供給される単色光線のス
ペクトルを測定するために用いられる光学機器であり、
スリット１１と、コリメータレンズ１２と、エシェルグ
レーティング１３と、ミラー１４と、ラインセンサ１５
とを備えている。

【００１７】スリット１１は、光源１７から光ファイバ
ー１８を介して供給される単色光線の回折格子への入射
角度を設定するための光学素子である。このスリット１
１を通過した単色光線は、コリメータレンズ１２に入射
する。

【００１８】コリメータレンズ１２は光線をコリメート
するための光学素子の一種である。このコリメータレン
ズ１２により、スリット１１を通過した単色光線が平行
光線とされる。コリメータレンズ１２から出射された平
行光線は、エシェルグレーティング１３に入射する。

【００１９】エシェルグレーティング１３は、出射角の
大きい回折光線を得るのに適した分散光学素子の一種で
あり、その上面には、ｘ軸方向に延びる多数の溝線１６
が刻まれている。このエシェルグレーティング１３は、
コリメータレンズ１２から入射される平行光線の一部を
１回目の回折光線（シングルパス）としてミラー１４に
向けて回折すると共に、ミラー１４から入射される平行
光線の一部を２回目の回折光線（ダブルパス）としてラ
インセンサ１５に向けて回折するように配置されてい
る。

【００２０】そのため、エシェルグレーティング１３
は、コリメータレンズ１２やミラー１４から入射する各
平行光線の光路がｙ軸方向（溝線１６から垂直に延びる
破線方向）から微小角度ずれるように配置されている。
即ち、シングルパス及びダブルパスの各回折角が一致す
るように、エシェルグレーティング１３の配置が決めら
れている。

【００２１】ミラー１４は、コリメータレンズ１２を通
過したシングルパスが焦点を結像する位置に配置されて
いる。従って、ミラー１４としてサイズの小さなものを
利用することができる。このミラー１４により、シング
ルパスがエシェルグレーティング１３に向けて全反射さ
れ、再びコリメータレンズ１２により平行光線とされた
後にエシェルグレーティング１３に入射する。

【００２２】ラインセンサ１５は、１次元のイメージセ
ンサやダイオードアレイ等を用いて構成される光学素子
である。詳細には、このラインセンサ１５は、１次元的
に配列された複数のチャンネルを備えており、各チャン
ネルは受光した光の強度に応じた応答を出力するように
なっている。尚、チャンネルを２次元的に配列し、各列
において複数行のチャンネル出力を足し合わせても良
い。

【００２３】ラインセンサ１５は、コリメータレンズ１
２を通過したダブルパスが焦点を結像する位置に配置さ
れている。このため、ラインセンサ１５の各チャンネル
からの出力応答に基づいて、光源１９から供給される単
色光線のスペクトルを得ることができる。

【００２４】尚、本実施形態においては、図２に最も分
かり易く示すように、スリット１１やミラー１４、ライ
ンセンサ１５の各配置位置が装置の側面方向に向けて一
列に並ぶようになっている。このため、図３に示すよう
に、装置の側面側から見ると、スリット１１、ミラー１
４、ラインセンサ１５が互いに重なり合うこととなる。

【００２５】次に、図４及び図５を参照しつつ、分光装
置１０により実現されるシングルパス及びダブルパスに
ついて説明する。尚、図４においては、スリット１１及
びラインセンサ１５が省略されていると共に、光線が２
往復する間の光路が幾分ずれて描かれている。また、本
実施形態においては、以下の説明において、エシェルグ
レーティング１３の回折効率が５０％であるとする。

【００２６】分光装置１０においては、エシェルグレー
ティング１３からの回折時にのみ、光線の強度が低下す
る。即ち、図４に示すように、光線の強度は、エシェル
グレーティング１３からの回折時には５０％低下する一
方、ミラー１４からの反射時には保たれる。このため、
コリメータレンズ１２からエシェルグレーティング１３
に入射される平行光線の強度をｉ₀と表わすとき、コリ
メータレンズ１２を通過したシングルパスやダブルパス
の各強度ｉ_S、ｉ_Dは、以下の値となる。 ｉ_S＝０．５×ｉ₀＝０．５ｉ₀…（３） ｉ_D＝０．５×１．０×０．５×ｉ₀＝０．２５ｉ₀…（４）

【００２７】図５に示すように、これらの値（３）、
（４）から、コリメータレンズ１２を通過したダブルパ
スは、コリメータレンズ１２を通過したシングルパスの
強度の５０％もの強度を有している。このため、コリメ
ータレンズ１２からエシェルグレーティング１３に入射
される平行光線は、エシェルグレーティング１３とミラ
ー１４との間を２往復する間に強度をあまり低下するこ
となく、ラインセンサ１５のチャンネル上に結像する。
従って、高い分解能を有するダブルパスを大きな信号雑
音比（Ｓ／Ｎ）で得ることができ、スペクトルの測定に
利用することができる。

【００２８】尚、エシェルグレーティング１３やミラー
１４等の各配置位置を適当に調整することにより、図６
に示すように、コリメータレンズ１２からエシェルグレ
ーティング１３に入射される平行光線をエシェルグレー
ティング１３とミラー１４との間で３往復させることも
可能である。この場合には、エシェルグレーティング１
３から３回目に出射される回折光線（トリプルパス）を
十分な強度で得ることができ、ダブルパスよりも高い分
解能と大きい信号雑音比（Ｓ／Ｎ）とを有するトリプル
パスをスペクトルの測定に利用することができる。

【００２９】次に、図７を参照しつつ、本発明の第２の
実施形態について説明する。尚、第１の実施形態と共通
する要素に同じ符号を付すことにより、本実施形態以降
では共通要素の説明を省略する。図７に示すように、本
実施形態の分光装置２０は、図１に示した分光装置１０
の構成において、ミラー１４をコリメータレンズ１２に
関してエシェルグレーティング１３側に配置変更した構
成となっている。

【００３０】この分光装置２０の最も顕著な特徴は、ミ
ラー１４をコリメータレンズ１２に関してエシェルグレ
ーティング１３側に配置している点である。このため、
１回目の回折光線（シングルパス）がミラー１４により
直ちにエシェルグレーティング１３に向けて全反射され
る。従って、本実施形態により第１の実施形態と同様の
効果を得ることができると共に、ミラーに入射する光は
平行光であるため、ミラー１４の光軸方向の位置アライ
メントは不要となる。

【００３１】次に、図８及び図９を参照しつつ、本発明
の第３の実施形態について説明する。図８に最も分かり
易く示すように、本実施形態の分光装置３０は、図１に
示した分光装置１０の構成において、装置の上方から見
てミラー１４がスリット１１やラインセンサ１５の各々
の一部と重なり合うように配置された構成となってい
る。

【００３２】この分光装置３０の最も顕著な特徴は、図
９に最も分かり易く示すように、ミラー１４がスリット
１１やラインセンサ１５の上方に位置するように立体的
に配置されている点であリ、ミラー１４から反射される
１回目の回折光線（シングルパス）がエシェルグレーテ
ィング１３からの入射時よりも斜め上方向へ出射され
る。このため、装置の側面方向に対してミラー１４の配
置に要するスペースが節約される。従って、本実施形態
により第１の実施形態と同様の効果を得ることができる
と共に、装置のコンパクト化を図ることができる。

【００３３】次に、図１０及び図１１を参照しつつ、本
発明の第４の実施形態について説明する。図１０に示す
ように、本実施形態の分光装置４０は、図１に示した分
光装置１０の構成において、ミラー１４の配置位置をレ
ンズ１２とグレーティング１３との間から外した追加し
た構成となっている。

【００３４】エシェルグレーティング１３は、コリメー
タレンズ１２から入射する平行光線をミラー１４に向け
て回折すると共に、ミラー１４から入射する平行光線を
ミラー４１に向けて回折するように配置調整されてい
る。即ち、本実施形態においては、１回目の回折光線
（シングルパス）及び２回目の回折光線（ダブルパス）
の各回折次数が異なるように、エシェルグレーティング
１３の配置が調整されている。

【００３５】ミラー１４は、エシェルグレーティング１
３から入射するシングルパスをエシェルグレーティング
１３に向けて全反射するように配置調整されている。こ
のミラー１４により、シングルパスが強度を保たれつつ
エシェルグレーティング１３に向けて全反射される。ミ
ラー４１は、エシェルグレーティング１３から入射する
ダブルパスをラインセンサ１５に向けて全反射するよう
に配置されている。

【００３６】この分光装置４０の最も顕著な特徴は、第
２の実施形態に比べ、レンズ１２でコリメートされた光
がミラー１４で妨げられないように配置されている点で
ある。従って、本実施形態により第１の実施形態と同様
の効果を得ることができると共に、第２の実施形態より
も光の利用効率が高い。

【００３７】尚、エシェルグレーティング１３やミラー
１４等の各配置位置を適当に調整することにより、図１
１に示すように、コリメータレンズ１２からエシェルグ
レーティング１３に入射される平行光線をエシェルグレ
ーティング１３とミラー１４との間で２往復させた後
に、ラインセンサ１５に向けて回折することも可能であ
る。この場合には、エシェルグレーティング１３から３
回目に出射される回折光線（トリプルパス）を十分な強
度で得ることができ、ダブルパスよりも高い分解能と大
きい信号雑音比（Ｓ／Ｎ）とを有するトリプルパスをス
ペクトルの測定に利用することができる。

【００３８】次に、図１２及び図１３を参照しつつ、本
発明の第５の実施形態について説明する。図１２に示す
ように、本実施形態の分光装置５０は、図１に示した分
光装置１０の構成において、コリメータレンズ１２を削
除する代わりに凹面鏡５１、５２を追加した構成となっ
ている。

【００３９】凹面鏡５１は、スリット１１を通過した単
色光線をエシェルグレーティング１３に向けて反射する
ように配置されている。この凹面鏡５１により、スリッ
ト１１を通過した単色光線が平行光線とされ、強度を保
たれつつエシェルグレーティング１３に向けて全反射さ
れる。

【００４０】エシェルグレーティング１３は、凹面鏡５
１から全反射された平行光線をミラー１４に向けて回折
すると共に、ミラー１４から全反射された平行光線を凹
面鏡５２に向けて回折するように配置調整されている。
即ち、本実施形態においては、１回目の回折光線（シン
グルパス）がエシェルグレーティング１３からミラー１
４に向けて出射されると共に、２回目の回折光線（ダブ
ルパス）がエシェルグレーティング１３から凹面鏡５２
に向けて出射されるように、エシェルグレーティング１
３の配置が調整されている。

【００４１】ミラー１４は、エシェルグレーティング１
３から入射されるシングルパスをエシェルグレーティン
グ１３に向けて全反射するように配置調整されている。
このミラー１４により、シングルパスが強度を保たれつ
つエシェルグレーティング１３に向けて全反射される。

【００４２】凹面鏡５２は、エシェルグレーティング１
３から入射されるダブルパスをラインセンサ１５に向け
て全反射するように配置されている。このミラー４１に
より、ダブルパスが強度を保たれつつラインセンサ１５
に向けて全反射され、ラインセンサ１５の所定範囲のチ
ャンネル上に結像される。

【００４３】この分光装置５０の最も顕著な特徴は、コ
リメータレンズの代わりに凹面鏡５１、５２を利用して
いる点である。これらの凹面鏡５１、５２は共に、コリ
メータレンズと異なり色収差がないという特性を有して
いる。従って、本実施形態により第１の実施形態と同様
の効果を得ることができると共に、凹面鏡５１、５２が
互いの収差をキャンセルし合い第１の実施形態よりも高
い分解能と、異なる波長に対応できる多様性とを実現す
ることができる。

【００４４】尚、エシェルグレーティング１３やミラー
１４等の各配置位置を適当に調整することにより、図１
３に示すように、凹面鏡５１からエシェルグレーティン
グ１３に入射される平行光線をエシェルグレーティング
１３とミラー１４との間で２往復させることも可能であ
る。即ち、光源から供給される単色光線は、凹面鏡５１
からエシェルグレーティング１３に入射する際に１回目
の回折を受け、エシェルグレーティング１３とミラー１
４との間を２往復する間に２回目及び３回目の回折を受
ける。この場合には、エシェルグレーティング１３から
３回目に出射される回折光線（トリプルパス）を十分な
強度で得ることができ、ダブルパスよりも高い分解能と
大きい信号雑音比（Ｓ／Ｎ）とを有するトリプルパスを
スペクトルの測定に利用することができる。

【００４５】次に、図１４及び図１５を参照しつつ、本
発明の第６の実施形態について説明する。図１４に示す
ように、本実施形態の分光装置６０は、図１に示した分
光装置１０の構成において、エシェルグレーティング１
６を削除する代わりにプリズム６１とミラー６２を追加
した構成となっている。尚、図１４においては、スリッ
ト１１及びラインセンサ１５が省略されている。

【００４６】プリズム６１は、コリマータレンズ１２か
ら入射される平行光線を面６１Ａ及び面６１Ｂにより屈
折することにより、ミラー６２に向けて伝播するように
配置されている。一方、ミラー６２は、プリズム６１か
ら入射される平行光線をその光路に向けて反射するよう
に配置されている。

【００４７】即ち、本実施形態においては、コリメータ
レンズ１２から出射された平行光線は、プリズム６１を
介してミラー６２とミラー１４との間を２往復し、ダブ
ルパスとしてコリメータレンズ１２に向けて出射され
る。

【００４８】この分光装置６０の最も顕著な特徴は、プ
リズム６１及びミラー６２がエシェルグレーティングの
代用品の役目を果たしている点であり、プリズムは、グ
レーティングよりも光量損失が小さい。従って、本実施
形態により、高い分解能を有する光線を第１の実施形態
よりも大きい信号雑音比（Ｓ／Ｎ）で実現しスペクトル
の測定に利用することができる。

【００４９】尚、図１５（スリット１１及びラインセン
サ１５が省略されている）に示すように、プリズム６１
の面６１Ｂに反射膜６３（ミラー６２と同じ役目を果た
す）を貼り付け、プリズム６１の内部を伝播中の屈折光
線が常に反射膜６３に対して垂直に入射するように装置
を構成することにより、本実施形態と同様の効果を得る
ことができる。

【００５０】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ダブルパスやトリプルパス等の高い分解能を有する光線
を大きな信号雑音比（Ｓ／Ｎ）で取り出してスペクトル
測定を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施形態の分光装置（ダブルパ
ス用）の概略構成を示す平面図である。

【図２】図１に示す分光装置の斜視図である。

【図３】図１に示す分光装置の側面図である。

【図４】図１に示す分光装置において、シングルパスや
ダブルパスを得るまでに光線強度が低下していく過程を
説明する図である。

【図５】図１に示す分光装置により得られるシングルパ
スやダブルパスの各スペクトルを示す図である。

【図６】本発明の第１の実施形態の分光装置（トリプル
パス用）の概略構成を示す平面図である。

【図７】本発明の第２の実施形態の分光装置（ダブルパ
ス用）の概略構成を示す平面図である。

【図８】本発明の第３の実施形態の分光装置（ダブルパ
ス用）の概略構成を示す平面図である。

【図９】図８に示す分光装置の側面図である。

【図１０】本発明の第４の実施形態の分光装置（ダブル
パス用）の概略構成を示す平面図である。

【図１１】本発明の第４の実施形態の分光装置（トリプ
ルパス用）の概略構成を示す平面図である。

【図１２】本発明の第５の実施形態の分光装置（ダブル
パス用）の概略構成を示す平面図である。

【図１３】本発明の第５の実施形態の分光装置（トリプ
ルパス用）の概略構成を示す平面図である。

【図１４】本発明の第６の実施形態の分光装置（ダブル
パス用）の概略構成を示す平面図である。

【図１５】本発明の第７の実施形態の分光装置（ダブル
パス用）の概略構成を示す平面図である。

【図１６】従来の分光装置（ダブルパス用）の概略構成
を示す側面図である。

【図１７】図１５に示す分光装置において、シングルパ
スやダブルパスを得るまでに光線強度が低下していく過
程を説明する図である。

【図１８】図１５に示す分光装置により得られるシング
ルパスやダブルパスの各スペクトルを示す図である。

【符号の説明】

１０、２０、３０、４０、５０、６０ 分光装置 １１ スリット １２ コリメータレンズ １３ エシェルグレーティング １４、６２ ミラー １５ ラインセンサ １６ 溝線 １７ 光源 １８ 光ファイバー ５１、５２ 凹面鏡 ６１ プリズム ６３ 反射膜

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光源から供給される光に含まれる特定の
   波長成分のスペクトルを測定するために用いられる分光
   装置であって、 前記光を平行光線にするコリメート手段と、 前記平行光線に含まれる特定の波長成分を所定の方向に
   回折する回折手段と、前記回折手段から出射された前記
   特定の波長成分から成る平行光線を前記回折手段に向け
   て全反射して、前記回折手段との間で所定の回数往復さ
   せる全反射手段と、を具備しており、前記回折手段と前
   記全反射手段との間を所定の回数往復した平行光線を前
   記コリメート手段を介して光度検出手段に結像するよう
   に構成したことを特徴とする分光装置。
2. 【請求項２】 前記コリメート手段がコリメータレンズ
   を含んでおり、前記回折手段と前記反射手段との間を２
   往復して得られる平行光線（ダブルパス）又は３往復し
   て得られる平行光線（トリプルパス）を前記光度検出手
   段に結像するように構成したことを特徴とする請求項１
   記載の分光装置。
3. 【請求項３】 光源から供給される光に含まれる特定の
   波長成分のスペクトルを測定するために用いられる分光
   装置であって、 前記光を平行光線にするコリメート手段と、 前記平行光線に含まれる特定の波長成分を所定の方向に
   回折する回折手段と、 前記回折手段から出射された前記特定の波長成分から成
   る平行光線を前記回折手段に向けて全反射して、前記回
   折手段との間で所定の回数往復させる全反射手段と、 前記回折手段と前記全反射手段との間を所定の回数往復
   した平行光線を光度検出手段に結像する結像手段と、を
   具備することを特徴とする分光装置。
4. 【請求項４】 前記コリメート手段又は前記結像手段が
   凹面鏡を含んでおり、前記回折手段と前記反射手段との
   間を２往復して得られる平行光線（ダブルパス）又は３
   往復して得られる平行光線（トリプルパス）を前記光度
   検出手段に結像するように構成したことを特徴とする請
   求項３記載の分光装置。
5. 【請求項５】 前記回折手段がエシェルグレーティング
   であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項記
   載の分光装置。