JP2001260357A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2001260357A5
JP2001260357A5 JP2000079008A JP2000079008A JP2001260357A5 JP 2001260357 A5 JP2001260357 A5 JP 2001260357A5 JP 2000079008 A JP2000079008 A JP 2000079008A JP 2000079008 A JP2000079008 A JP 2000079008A JP 2001260357 A5 JP2001260357 A5 JP 2001260357A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
recording head
ink jet
piezoelectric element
jet recording
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000079008A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2001260357A (ja
JP4068784B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2000079008A priority Critical patent/JP4068784B2/ja
Priority claimed from JP2000079008A external-priority patent/JP4068784B2/ja
Publication of JP2001260357A publication Critical patent/JP2001260357A/ja
Publication of JP2001260357A5 publication Critical patent/JP2001260357A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4068784B2 publication Critical patent/JP4068784B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Description

【0010】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決する本発明の第1の態様は、ノズル開口に連通する圧力発生室と、この圧力発生室に対応する領域に振動板を介して設けられた下電極、圧電体層及び上電極からなる圧電素子とを備えるインクジェット式記録ヘッドにおいて、前記圧電素子の外周面に酸化膜又は窒化膜からなる保護膜を有し、且つ該保護膜は、前記圧電素子の上面の主要部に対向する領域に他の領域よりも膜厚の薄い薄膜部を有することを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。
【0012】
本発明の第2の態様は、第1の態様において、前記保護膜は、前記圧力発生室に対向する領域で前記圧電素子の幅方向外側の前記振動板上まで延設され、この領域の膜厚が前記薄膜部の膜厚よりも厚いことを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。
【0022】
本発明の第の態様は、第1〜の何れかの態様のインクジェット式記録ヘッドを具備することを特徴とするインクジェット式記録装置にある。
【0023】
かかる第の態様では、ヘッドの信頼性を向上したインクジェット式記録装置を実現することができる。
【0056】
また、圧電素子300(圧電体能動部320)の表面には、酸化膜又は窒化膜からなる保護膜100が設けられ、且つこの保護膜100の圧電体能動部320の上面の主要部を覆う領域は、他の領域の膜厚の膜厚よりも薄い薄膜部100aとなっている。なお、薄膜部100aの膜厚は、特に限定されないが、圧電体能動部320の駆動による振動板の変形を妨げない程度の薄さであればよい。
【0076】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明では、圧電素子の外周面が酸化膜又は窒化膜からなる保護膜によって完全に覆われているため、大気中の水分等の外部環境に起因する圧電素子の圧電体層の絶縁破壊を防止することができる。

Claims (5)

  1. ノズル開口に連通する圧力発生室と、この圧力発生室に対応する領域に振動板を介して設けられた下電極、圧電体層及び上電極からなる圧電素子とを備えるインクジェット式記録ヘッドにおいて、
    前記圧電素子の外周面に酸化膜又は窒化膜からなる保護膜を有し、且つ該保護膜は、前記圧電素子の上面の主要部に対向する領域に他の領域よりも膜厚の薄い薄膜部を有することを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
  2. 請求項1において、前記保護膜は、前記圧力発生室に対向する領域で前記圧電素子の幅方向外側の前記振動板上まで延設され、この領域の膜厚が前記薄膜部の膜厚よりも厚いことを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
  3. 請求項1又は2において、前記圧電素子はその幅が前記上電極側に向かって徐々に狭くなるようにパターニングされて、当該圧電素子の外周面が傾斜面となっていることを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
  4. 請求項3において、前記保護膜がスパッタリング法によって形成されていることを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
  5. 請求項1〜4の何れかのインクジェット式記録ヘッドを具備することを特徴とするインクジェット式記録装置。
JP2000079008A 2000-03-21 2000-03-21 インクジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置 Expired - Fee Related JP4068784B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000079008A JP4068784B2 (ja) 2000-03-21 2000-03-21 インクジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000079008A JP4068784B2 (ja) 2000-03-21 2000-03-21 インクジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007280890A Division JP4117504B2 (ja) 2007-10-29 2007-10-29 インクジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2001260357A JP2001260357A (ja) 2001-09-25
JP2001260357A5 true JP2001260357A5 (ja) 2004-11-11
JP4068784B2 JP4068784B2 (ja) 2008-03-26

Family

ID=18596327

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000079008A Expired - Fee Related JP4068784B2 (ja) 2000-03-21 2000-03-21 インクジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4068784B2 (ja)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4259158B2 (ja) 2003-03-26 2009-04-30 ブラザー工業株式会社 インクジェットプリンタ
JP4868118B2 (ja) 2005-10-24 2012-02-01 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置
JP4848919B2 (ja) * 2005-11-07 2011-12-28 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置
JP4844717B2 (ja) * 2005-12-27 2011-12-28 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッドの製造方法
JP2007261216A (ja) * 2006-03-29 2007-10-11 Seiko Epson Corp アクチュエータ装置及び液体噴射ヘッド並びに液体噴射装置
JP2009196163A (ja) 2008-02-20 2009-09-03 Fuji Xerox Co Ltd 圧電素子基板、液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置、及び、圧電素子基板の製造方法
JP5768393B2 (ja) * 2011-02-10 2015-08-26 株式会社リコー インクジェットヘッド及び画像形成装置
JP2014175577A (ja) * 2013-03-12 2014-09-22 Seiko Epson Corp 圧電素子、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、超音波トランデューサー及び超音波デバイス
JP6233164B2 (ja) 2014-04-15 2017-11-22 株式会社デンソー 圧電素子、及び、光走査装置
JP6410027B2 (ja) * 2014-09-04 2018-10-24 ローム株式会社 圧電素子利用装置の製造方法
JP6460514B2 (ja) * 2014-09-04 2019-01-30 ローム株式会社 圧電素子利用装置の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101399310B (zh) 压电器件及液体喷头
JP2001260357A5 (ja)
WO2005037558A3 (en) Print head with thin membrane
JP5440192B2 (ja) 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置
JPH10211701A (ja) 圧電体素子を備えたアクチュエータ及びインクジェット式記録ヘッド、並びにこれらの製造方法
EP1367658A4 (en) PIEZOELECTRIC ELEMENT, INKJET PRINT HEAD, ANGULAR SPEED SENSOR, MANUFACTURING METHOD, AND INKJET RECORDING APPARATUS
CA2370076A1 (en) Ultrasonic transducer with improved compressive loading
JPH06260694A (ja) 圧電/電歪膜型素子
EP0930165A4 (en) INK BEAM HEAD
JP2007329285A (ja) アクチュエータ装置及び液体噴射ヘッド
JP2008508850A5 (ja)
EP1199172A3 (en) Ink-jet recording head and ink-jet recording apparatus
JP2017157691A (ja) 圧電デバイス、memsデバイス、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置
EP0911891A3 (en) Piezoelectric thin film fabrication method,and ink jet recording head using saidfilm
EP1199171A3 (en) Ink-jet recording head and ink-jet recording apparatus
CN110091603A (zh) 压电器件、液体喷射头以及液体喷射装置
EP0886328A3 (en) Piezoelectric film element and manufacturing method thereof, and ink jet recording head
JP4844717B2 (ja) 液体噴射ヘッドの製造方法
JP2015041650A (ja) 圧電素子の製造方法、液体噴射ヘッドの製造方法及び超音波トランスデューサーの製造方法
JP4068784B2 (ja) インクジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置
EP0835756A3 (en) Actuator for ink jet printer
EP0838338A3 (en) Ink jet recording head and process of manufacturing said ink jet recording head
US20100123761A1 (en) Liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus, actuator device, and method for manufacturing the liquid ejecting head
JP4442486B2 (ja) 液体噴射ヘッドの製造方法
JP2013078877A (ja) シリコン装置