JP2001252610A - Coating method, coating device, and method and device for manufacturing color filter - Google Patents

Coating method, coating device, and method and device for manufacturing color filter

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JP2001252610A
JP2001252610A JP2000065455A JP2000065455A JP2001252610A JP 2001252610 A JP2001252610 A JP 2001252610A JP 2000065455 A JP2000065455 A JP 2000065455A JP 2000065455 A JP2000065455 A JP 2000065455A JP 2001252610 A JP2001252610 A JP 2001252610A
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義之 北村
Kiyoshi Minoura
潔 箕浦
Hiromitsu Kanamori
浩充 金森
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a coating method and coating device capable of improving the productivity in a die coater and reducing cost by shortening a time necessary for the positioning of a substrate before coating on an attracting plate and for the attaching and detaching of the substrate after coating to and from the upper surface of the attracting panel in a die coater to shorter the tact time, and also provide a method and device for manufacturing a color filter using the same. SOLUTION: In the coating method of forming a coating film on a member to be coated by relatively moving at least one of the coater and the member to be coated while discharging a coating liquid from a discharge port of the coater to the member-to-be coated sucked and held by sucking disk, and operation to reduce the sucking force for detaching the member to be coated from the sucking disk is executed several times after the coating film is formed on the member to be coated. The method and device of manufacturing the color filter uses the above coating method and coating device.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、例えばカラー液
晶ディスプレイ用カラーフィルタ、プラズマディスプレ
イ、光学フィルタ、プリント基板、集積回路、半導体等
の製造分野に適用されるものであり、特にカラーフィル
タのガラス基板などの被塗布部材に対して、その表面に
塗布液を吐出しながら塗膜を形成する塗布方法および塗
布装置並びにこれら方法および装置を使用したカラーフ
ィルタの製造方法および製造装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is applied to, for example, the field of manufacturing color filters for color liquid crystal displays, plasma displays, optical filters, printed boards, integrated circuits, semiconductors, and the like. TECHNICAL FIELD The present invention relates to a coating method and a coating apparatus for forming a coating film on a member to be coated while discharging a coating liquid on the surface thereof, and a method and a manufacturing apparatus for manufacturing a color filter using these methods and apparatuses.

【0002】[0002]

【従来の技術】カラー液晶ディスプレイ用のカラーフィ
ルタは、ガラス基板上に3原色の細かな格子模様を有し
ており、このような格子模様はガラス基板上に黒色の塗
膜を形成した後に、赤、青、緑の塗膜を順次形成してい
き、これにより、ガラス基板上を3原色に塗り分けて得
られる。
2. Description of the Related Art A color filter for a color liquid crystal display has a fine lattice pattern of three primary colors on a glass substrate. Such a lattice pattern is formed after a black coating film is formed on a glass substrate. The red, blue, and green coating films are sequentially formed, whereby the three primary colors are separately applied on the glass substrate.

【0003】それゆえ、カラーフィルタの製造には、ガ
ラス基板上に黒、赤(R)、青(B)、緑(G)の塗布
液を順次塗布して、その塗膜を形成していく形成工程が
必要不可欠となる。この塗膜形成のための塗布装置とし
ては、従来スピナー、バーコータあるいはロールコータ
などが使用されていたが、塗布液の消費を削減し、塗膜
の物性向上を図るために、近年に至ってはダイコータが
使用されるようになってきている。
Therefore, in the production of a color filter, a coating liquid of black, red (R), blue (B), and green (G) is sequentially applied on a glass substrate to form a coating film. The formation process becomes indispensable. Conventionally, a spinner, a bar coater, a roll coater, or the like has been used as a coating device for forming the coating film. However, in order to reduce the consumption of the coating solution and improve the physical properties of the coating film, a die coater has recently been used. Is being used.

【0004】この種のダイコータは、その一例がたとえ
ば特開平9−173939号公報等に開示されている。
この公知のダイコータは、往復動可能な吸着盤(テーブ
ル)と、下向きの吐出口を有した塗布ヘッドとを揃え、
吸着盤の上面はサクション面として構成されている。し
たがって、塗膜を形成すべきガラス基板は吸着盤上に吸
着保持可能となっている。そして、吸着盤上にガラス基
板が吸着保持された後、吸着盤とともにガラス基板が塗
布ヘッドの直下を移動するに伴い、塗布ヘッドの吐出口
から塗布液を吐出させて、ガラス基板上に塗膜を連続し
て形成することができる。塗布によって塗膜の形成が完
了した基板は、終点位置で停止後、吸着を解除されて吸
着盤上面から剥離されて脱着され、次の工程に移送され
る。そして以上の工程では、基板上の塗布される領域が
常に同じになるように、ガラス基板と塗布器の吐出口の
相対位置関係を同一にすることが必要となるが、そのた
めにガラス基板を吸着保持する前に、位置決め装置によ
り吸着盤上での基板の位置決めを行っている。
An example of this type of die coater is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-173939.
This known die coater includes a reciprocating suction plate (table) and a coating head having a downward discharge port.
The upper surface of the suction disk is configured as a suction surface. Therefore, the glass substrate on which the coating film is to be formed can be suction-held on the suction board. Then, after the glass substrate is sucked and held on the suction plate, the coating liquid is discharged from the discharge port of the coating head as the glass substrate moves directly below the coating head together with the suction plate, and the coating film is formed on the glass substrate. Can be continuously formed. After the substrate on which the coating film has been formed by the application is stopped at the end point position, the suction is released, the substrate is peeled off from the upper surface of the suction disk, desorbed, and transferred to the next step. In the above process, it is necessary to make the relative positional relationship between the glass substrate and the discharge port of the applicator the same so that the area to be coated on the substrate is always the same. Before holding, the positioning device positions the substrate on the suction disk.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上述したダイコータ
を、カラーフィルター等、ガラス基板に塗布を行う実際
の生産工程に適用するにあたっては、一枚の基板に塗布
するタクトタイムを短くして生産性を上げ、コストを低
減することが強く望まれている。
When the above-mentioned die coater is applied to an actual production process of coating a glass substrate such as a color filter, the tact time for coating a single substrate is shortened to improve productivity. It is strongly desired to increase the cost and reduce the cost.

【0006】タクトタイムを短くするには、塗布速度を
向上させるのが最も効果的であるが、塗布液の種類や塗
布厚さ等の塗布条件から自ずと限界が定まるので、これ
以外の部分での時間短縮を図ることが必要となる。
In order to shorten the tact time, it is most effective to increase the coating speed. However, the limit is naturally determined by the coating conditions such as the type of the coating solution and the coating thickness. It is necessary to shorten the time.

【0007】作業分析を行ってみると、思いの外に時間
を要しているのが、塗布前の基板の位置決め工程と、塗
布後の吸着した基板を脱着する工程である。
When performing work analysis, unexpectedly long time is required for the step of positioning the substrate before application and the step of desorbing the adsorbed substrate after application.

【0008】基板の位置決めは、特開平9−17393
9号公報等に示されているように、基板の4辺に位置決
め部材を接触させて行うが、この方法では位置決め部材
が基板に干渉しない位置までに水平移動して退避するま
で、基板を移動させられないことになり、タクトタイム
短縮化の障害となる。
The positioning of the substrate is described in JP-A-9-17393.
As disclosed in Japanese Patent Application Publication No. 9-205, etc., the positioning is performed by bringing a positioning member into contact with four sides of the substrate. In this method, the substrate is moved horizontally until the positioning member does not interfere with the substrate and retreats. It is not possible to prevent the tact time from being shortened.

【0009】さらに塗布した基板の吸着を解除して、吸
着盤上面から脱着することについては、特開平9−19
2567号公報等に示されているように、基板吸着のた
めに負圧となっている部分に圧縮空気を導入して大気圧
以上の圧力にすることで、吸着が解除されるとともに、
吸着孔から基板に正圧が付加されて、吸着力の他に静電
気によっても吸着盤面に付着していた基板が剥離する。
基板が吸引力によってのみ吸着盤に吸着されているのな
ら、吸引圧を大気圧にした段階で基板は吸着盤から剥離
できるはずであるが、実際には静電気力によっても基板
は吸着盤に密着しており、吸着からの正圧付加がないと
基板の剥離は行えない。ここで基板の剥離による脱着に
要する時間を短くするには、負圧を正圧に戻す時間を短
くすることと、同時に静電気力による密着力より高い力
を短時間で発生させることが必要となるが、そのために
は、導入する圧縮空気の圧力を高くすればよい。確かに
圧力が高いほど剥離時間は短くなるが、剥離と同時に基
板が吸着盤上面で任意の方向に移動してしまい、後の基
板移送に支障をきたしたり、はなはだしい場合には吸着
盤面から落下することがある。したがって、剥離時に基
板の自由な移動を規制するために、圧縮空気の圧力を高
くしないで、基板を剥離するための時間を短くする技術
が必要とされる。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-19 / 1991 discloses that the suction of the coated substrate is released and the substrate is detached from the upper surface of the suction disk.
No. 2567, etc., the suction is released by introducing compressed air into a portion that is at a negative pressure for substrate suction to a pressure higher than the atmospheric pressure,
Positive pressure is applied to the substrate from the suction hole, and the substrate that has adhered to the suction plate surface is peeled off due to static electricity as well as suction force.
If the substrate is attracted to the suction plate only by the suction force, the substrate should be able to be peeled from the suction plate at the stage when the suction pressure is set to the atmospheric pressure. The substrate cannot be peeled off without the application of a positive pressure from the suction. Here, in order to shorten the time required for desorption by peeling of the substrate, it is necessary to shorten the time for returning the negative pressure to the positive pressure and at the same time, to generate a force higher than the adhesion force due to the electrostatic force in a short time. However, this can be achieved by increasing the pressure of the compressed air to be introduced. Certainly, the higher the pressure, the shorter the peeling time, but at the same time as the peeling, the substrate moves in an arbitrary direction on the upper surface of the suction plate, hindering the subsequent transfer of the substrate, or falling off from the surface of the suction plate in extreme cases Sometimes. Therefore, in order to regulate the free movement of the substrate at the time of peeling, a technique for shortening the time for peeling the substrate without increasing the pressure of the compressed air is required.

【0010】この発明は、上述の事情に基づいてなされ
たもので、その目的とするところは、ダイコータで、塗
布前の基板の吸着盤上での位置決めや、塗布後の基板の
吸着盤上面からの脱着に要する時間を短くすることで、
タクトタイムを短縮し、ダイコータでの生産性を向上さ
せて、コスト低減化が可能な塗布方法及び塗布装置、並
びにこれら装置及び方法を使用したカラーフィルタの製
造方法および製造装置を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to position a substrate on a suction plate before coating by using a die coater and to measure the position of the substrate after coating from the upper surface of the suction plate. By shortening the time required for desorption of
An object of the present invention is to provide a coating method and a coating apparatus capable of shortening a tact time, improving productivity in a die coater and reducing costs, and a method and a manufacturing apparatus for manufacturing a color filter using these apparatuses and methods. .

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記の目的はこの発明に
よって達成される。請求項1に係る塗布方法は、塗布器
の吐出口から塗布液を吸着盤に吸着保持された被塗布部
材に吐出しながら、前記塗布器および被塗布部材の少な
くとも一方を相対的に移動させて前記被塗布部材に塗膜
を形成する塗布方法において、被塗布部材を吸着盤から
脱着するための吸着力減少操作を、前記被塗布部材への
塗膜塗形成後、複数回行なうことを特徴とする方法から
なる。
The above objects are achieved by the present invention. The coating method according to claim 1, wherein at least one of the coating device and the coating member is relatively moved while discharging the coating liquid from the discharge port of the coating device to the coating member sucked and held by the suction board. In the coating method of forming a coating film on the member to be coated, the operation of reducing the suction force for detaching the member to be coated from the suction plate is performed a plurality of times after forming the coating film on the member to be coated. The method consists of:

【0012】請求項2に係る塗布方法は、塗布器の吐出
口から塗布液を吸着盤に吸着保持された被塗布部材に吐
出しながら、前記塗布器および被塗布部材の少なくとも
一方を相対的に移動させて前記被塗布部材に塗膜を形成
した後に、前記被塗布部材の吸着盤よりの離間動作を行
うことで、被塗布部材を吸着盤から脱着する塗布方法に
おいて、最終離間位置までの途中位置で一時停止を行な
うことを特徴とする方法からなる。
According to a second aspect of the present invention, in the coating method, at least one of the applicator and the member to be coated is relatively discharged while the coating liquid is discharged from a discharge port of the applicator to the member to be coated held by the suction disk. After moving to form a coating film on the member to be coated, by performing a separating operation of the member to be coated from the suction plate, in the coating method of detaching the member to be coated from the suction plate, the coating member is moved halfway to the final separation position. A pause at the position.

【0013】請求項3に係る塗布方法は、塗布器の吐出
口から塗布液を吸着盤に吸着保持された被塗布部材に吐
出しながら、前記塗布器および被塗布部材の少なくとも
一方を相対的に移動させて前記被塗布部材に塗膜を形成
する塗布方法において、前記被塗布部材を吸着面に溝を
設けた吸着盤に吸着保持させることを特徴とする方法か
らなる。
According to a third aspect of the present invention, in the coating method, at least one of the coating device and the member to be coated is relatively discharged while discharging the coating liquid from the discharge port of the coating device to the member to be coated held by the suction disk. The coating method of forming a coating film on the member to be coated by moving the member to be coated is characterized in that the member to be coated is sucked and held on an suction disk provided with a groove on a suction surface.

【0014】請求項4に係る塗布方法は、塗布液を吐出
する塗布器の吐出口と、被塗布部材との相対位置を位置
決めした後、前記塗布器より塗布液を被塗布部材上に吐
出しながら、塗布器または被塗布部材の少なくとも一方
を相対的に移動させて被塗布部材上に塗膜を形成する塗
布方法であって、前記相対位置の位置決めを、被塗布部
材の外縁に接する部材を上下方向に移動させて行なうこ
とを特徴とする方法からなる。
According to a fourth aspect of the present invention, in the coating method, after the relative position between the discharge port of the coating device for discharging the coating liquid and the member to be coated is determined, the coating liquid is discharged from the coating device onto the member to be coated. While applying at least one of the applicator and the member to be coated is a coating method to form a coating film on the member to be coated, the relative position is determined by contacting the member in contact with the outer edge of the member to be coated. The method is characterized in that the moving is performed in the up-down direction.

【0015】本発明に係るカラーフィルタの製造方法
は、上記のような塗布方法を使用してカラーフィルタを
製造する方法からなる。
The method for manufacturing a color filter according to the present invention comprises a method for manufacturing a color filter using the above-described coating method.

【0016】請求項6に係る塗布装置は、塗布液を供給
する供給手段と、供給手段から供給された塗布液を吐出
するための吐出口を有する塗布器と、被塗布部材を吸着
保持する吸着盤と、塗布器または被塗布部材の少なくと
も一方を相対的に移動させる移動手段とを備えた塗布装
置において、被塗布部材の吸着盤からの脱着を吸着力減
少によって行なう被塗布部材脱着装置と、該被塗布部材
脱着装置による被塗布部材の脱着動作を、被塗布部材へ
の塗膜塗形成後から複数回行なわせる脱着制御手段を有
することを特徴とするものからなる。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a coating apparatus for supplying a coating liquid, a coating apparatus having a discharge port for discharging the coating liquid supplied from the supply means, and a suction unit for suction-holding a member to be coated. In a coating apparatus provided with a board and a moving means for relatively moving at least one of an applicator and a member to be coated, a member to be coated and removed by removing the member to be coated from the suction disk by reducing the suction force, The apparatus is characterized in that the apparatus further comprises a detachment control means for performing the detachment operation of the member to be applied by the member-to-be-attached / removed device a plurality of times after forming the coating film on the member to be applied.

【0017】請求項7に係る塗布装置は、塗布液を供給
する供給手段と、供給手段から供給された塗布液を吐出
するための吐出口を有する塗布器と、被塗布部材を吸着
保持する吸着盤と、塗布器または被塗布部材の少なくと
も一方を相対的に移動させる移動手段、被塗布部材を吸
着盤から離間して脱着する離間手段とを備えた塗布装置
において、さらに離間手段による被塗布部材の吸着盤か
らの脱着時に、最終離間位置までの途中位置で一時停止
を行なわせる離間制御手段を有することを特徴とするも
のからなる。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a coating apparatus for supplying a coating liquid, a coating apparatus having a discharge port for discharging the coating liquid supplied from the supply means, and a suction unit for suction-holding a member to be coated. A coating device including a disc, a moving unit for relatively moving at least one of an applicator and a member to be coated, and a separating unit for separating and detaching the member to be coated from the suction disk; And a separation control means for temporarily stopping at a position halfway to the final separation position when the device is detached from the suction disk.

【0018】請求項8に係る塗布装置は、塗布液を供給
する供給手段と、供給手段から供給された塗布液を吐出
するための吐出口を有する塗布器と、被塗布部材を吸着
保持する吸着盤と、塗布器または被塗布部材の少なくと
も一方を相対的に移動させる移動手段とを備えた塗布装
置において、前記吸着盤の被塗布部材吸着面には溝が配
せられていることを特徴とするものからなる。ここで、
溝の吸着面に占める面積比率は3〜50%であることが
好ましい。
According to another aspect of the present invention, there is provided a coating apparatus for supplying a coating liquid, a coating apparatus having a discharge port for discharging the coating liquid supplied from the supply means, and a suction unit for suction-holding a member to be coated. In a coating apparatus including a plate and a moving unit for relatively moving at least one of a coating device and a member to be coated, a groove is provided on a surface of the suction member to be coated on the member to be coated. What you do. here,
The area ratio of the groove to the suction surface is preferably 3 to 50%.

【0019】請求項10に係る塗布装置は、塗布液を供
給する供給手段と、供給手段から供給された塗布液を吐
出するための吐出口を有する塗布器と、塗布器または被
塗布部材の少なくとも一方を相対的に移動させる移動手
段と、塗布器と被塗布部材を近接する前に、被塗布部材
の位置決めをする位置決め手段とを備えた塗布装置にお
いて、前記位置決め手段は被塗布部材の外縁に接する部
材が上下方向に移動可能である構成を有することを特徴
とするものからなる。
According to a tenth aspect of the present invention, there is provided a coating device for supplying a coating liquid, an application device having a discharge port for discharging the coating liquid supplied from the supply device, and at least one of the coating device and the member to be coated. In a coating apparatus including a moving unit that relatively moves one of the members and a positioning unit that positions the member to be coated before the coating device and the member to be coated are brought close to each other, the positioning unit is attached to an outer edge of the member to be coated. The contact member is configured to be movable in the vertical direction.

【0020】本発明に係るカラーフィルタの製造装置
は、上記のような塗布装置を使用してカラーフィルタを
製造するものからなる。
An apparatus for manufacturing a color filter according to the present invention includes an apparatus for manufacturing a color filter using the above-described coating apparatus.

【0021】請求項1、6に係る塗布方法、塗布装置に
よれば、基板の剥離による脱着のための吸着解除動作
を、塗布終了直後から開始するのであるから、基板が停
止してから基板を吸着盤上面から剥離するまでの時間が
短くなって、タクトタイムを短縮できる。
According to the coating method and the coating apparatus according to the first and sixth aspects, the suction releasing operation for desorption by peeling the substrate is started immediately after the completion of the coating. The time required for peeling off from the upper surface of the suction disk is shortened, and the tact time can be reduced.

【0022】請求項2、7に係る塗布方法、塗布装置に
よれば、基板の吸着盤からの剥離による脱着のための離
間動作を、最終位置までの途中位置で一時停止して段階
的に行うのであるから、離間動作が緩やかに行われて、
基板の割れをおこすことなくしかも早く行えるので、基
板を吸着盤上面から剥離するまでの時間が短くなって、
タクトタイムを短縮できる。
According to the coating method and the coating apparatus according to the second and seventh aspects, the separating operation for detachment of the substrate by peeling from the suction plate is temporarily stopped at a halfway position to the final position and is performed stepwise. Therefore, the separating operation is performed slowly,
Since it can be performed quickly without causing cracking of the substrate, the time until the substrate is peeled off from the upper surface of the suction plate is shortened,
Tact time can be reduced.

【0023】請求項3、8に係る塗布方法、塗布装置に
よれば、吸着盤の基板吸着を行う面に溝が適切に設けら
れているのであるから、基板吸着時に発生する静電気力
を減少させ、基板吸着力の静電気分を大幅に小さくでき
るので、基板吸引のための負圧を正圧に戻した段階での
基板剥離が可能となり、基板剥離時間が大幅に短くなっ
て、これもタクトタイムの短縮に貢献できる。
According to the coating method and the coating apparatus according to the third and eighth aspects, since the groove is appropriately provided on the surface of the suction plate on which the substrate is sucked, the electrostatic force generated at the time of sucking the substrate can be reduced. Since the static electricity component of the substrate attraction force can be greatly reduced, the substrate can be peeled at the stage when the negative pressure for sucking the substrate is returned to the positive pressure, and the substrate peeling time is greatly reduced, which also reduces the tact time. Can be reduced.

【0024】請求項4、10に係る塗布方法、塗布装置
によれば、基板の吸着盤面での位置決めを行う位置決め
部材を上下方向に移動する構造としたので、位置決め後
の位置決め部材の退避距離が大きく減少し、これによっ
て退避時間を短くできるので、基板の位置決めに要する
時間を、大幅に短縮して、タクトタイムの短縮化が可能
となる。
According to the coating method and the coating apparatus according to the fourth and tenth aspects, the positioning member for positioning the substrate on the suction plate surface is vertically moved, so that the retreat distance of the positioning member after the positioning is reduced. Since the retraction time can be greatly reduced and the retraction time can be shortened, the time required for positioning the substrate can be greatly reduced, and the tact time can be reduced.

【0025】請求項5、11に係るカラーフィルタの製
造方法、製造装置によれば、上記の優れた塗布方法、塗
布装置でカラーフィルターを製造するのであるから、タ
クトタイムを短くして高い生産性を実現することができ
る。
According to the method and the apparatus for manufacturing a color filter according to the fifth and eleventh aspects, the color filter is manufactured by the above-mentioned excellent coating method and the coating apparatus. Can be realized.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】以下、この発明の好ましい実施の
形態を、図面に基づいて説明する。図1は、この発明の
一実施態様に係る塗布装置の全体概略斜視図、図2は図
1の吸着盤6とスリットダイ40周りの構成図、図3は
本発明におけるセンタリング装置の概要を示す平面図、
図4は図3の部分正面断面図、図5は本発明における吸
着盤の一例を示す全体概略斜視図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is an overall schematic perspective view of a coating apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a configuration diagram around the suction plate 6 and the slit die 40 in FIG. 1, and FIG. 3 shows an outline of a centering apparatus in the present invention. Plan view,
FIG. 4 is a partial front sectional view of FIG. 3, and FIG. 5 is an overall schematic perspective view showing an example of the suction cup according to the present invention.

【0027】図1を参照すると、カラー液晶ディスプレ
イ用カラーフィルタの製造に適用される塗布装置、いわ
ゆるダイコータ1が示されており、このダイコータ1は
基台2を備えている。この基台2上には一対のガイド溝
レール4が設けられており、これらガイド溝レール4上
方には、一対のスライド脚8を介してガイド溝レール4
上を水平方向に往復動自在となっている吸着盤6が配置
されている。この吸着盤6は基板Aを吸着により保持す
るものである。その詳細な構造は図5に示すようになっ
ており、その上面102には吸着孔104と、図示しな
い吸着盤からの基板Aの離間手段としてのリフトピンが
出入するリフトピン穴110が設けられとともに、縦溝
108が吸着盤6の走行方向に平行に、横溝106が吸
着盤6の走行方向に直角方向に配されている。これらの
溝は、吸着孔104と穴リフトピン110の間をぬうよ
うに縦横に配されていて、上面102の基板Aとの接触
面積を減少させて、静電気による密着力を低減してい
る。また、吸着孔104は図示しない真空源に接続され
ており、その吸引作用により基板Aを上面102にしっ
かり密着保持できるようにしている。
Referring to FIG. 1, there is shown a coating apparatus applied to manufacture a color filter for a color liquid crystal display, a so-called die coater 1, which has a base 2. A pair of guide groove rails 4 are provided on the base 2, and the guide groove rails 4 are provided above the guide groove rails 4 via a pair of slide legs 8.
An adsorber 6 that can freely reciprocate horizontally in the upper direction is arranged. The suction disk 6 holds the substrate A by suction. The detailed structure is as shown in FIG. 5, and the upper surface 102 is provided with a suction hole 104 and a lift pin hole 110 through which a lift pin as a means for separating the substrate A from a suction plate (not shown) enters and exits. The vertical groove 108 is arranged parallel to the traveling direction of the suction cup 6, and the horizontal groove 106 is arranged perpendicular to the traveling direction of the suction cup 6. These grooves are arranged vertically and horizontally so as to cover between the suction holes 104 and the hole lift pins 110, and reduce the contact area between the upper surface 102 and the substrate A to reduce the adhesion force due to static electricity. Further, the suction hole 104 is connected to a vacuum source (not shown) so that the substrate A can be firmly held on the upper surface 102 by the suction action.

【0028】再び図1を参照すると、一対のガイド溝レ
ール4間には、図2に示す送りねじ機構を構成する1
4、16、18とこれを内蔵するケーシング12が配置
されており、ケーシング12はガイド溝レール4に沿っ
て延びている。送りねじ機構は、図2に示されているよ
ボールねじからなるフィードスクリュー14が吸着盤6
の下面に固定されたナット状のコネクタ16にねじ込ま
れ、さらにこのコネクタ16を貫通して延びてその両端
部が図示しない軸受に回転自在に支持され、その一端に
はACサーボモータ18が連結されている。なお、ケー
シング12の上面にはコネクタ16の移動を妨げないよ
うに開口部が形成されているが、図1にはその開口部が
省略されている。
Referring again to FIG. 1, between the pair of guide groove rails 4, a feed screw mechanism 1 shown in FIG.
4, 16, 18 and a casing 12 containing the same are arranged, and the casing 12 extends along the guide groove rail 4. As shown in FIG. 2, the feed screw mechanism comprises a feed screw 14 composed of a ball screw and a suction disk 6.
The connector is screwed into a nut-shaped connector 16 fixed to the lower surface of the connector, further extends through the connector 16, and both ends thereof are rotatably supported by bearings (not shown), and an AC servomotor 18 is connected to one end thereof. ing. An opening is formed on the upper surface of the casing 12 so as not to hinder the movement of the connector 16, but the opening is omitted in FIG.

【0029】さらに図1を見るとに、基台2の上面には
ほぼ中央に逆L字形をなすダイ支柱24が配置されてい
る。ダイ支柱24の先端は吸着盤6の往復動経路の上方
に位置付けられており、その先端には昇降機構26が取
り付けられている。昇降機構26は昇降可能な昇降ブラ
ケット(図示しない)を備えており、この昇降ブラケッ
トはケーシング28内の一対のガイドロッドに昇降自在
に取り付けられている。また、ケーシング内にはガイド
ロッド間に位置してボールねじからなるフィードスクリ
ュー(図示しない)もまた回転自在にして配置されてお
り、このフィードスクリューに対してナット型のコネク
タを介して昇降ブラケットが連結されている。フィード
スクリューの上端にはACサーボモータ30が接続され
ており、このACサーボモータ30はケーシング28の
上面に取り付けられている。昇降ブラケットには支持軸
(図示しない)を介してダイホルダ32が取り付けられ
ており、このダイホルダ32はコの字形をなしかつ一対
のガイド溝レール4の上方をこれらレール4間に亘って
水平に延びている。ダイホルダ32の支持軸は昇降ブラ
ケット内にて回転自在に支持されており、これにより、
ダイホルダ32は支持軸とともに垂直面内で回転するこ
とができる。
Referring further to FIG. 1, on the upper surface of the base 2, a die support 24 having an inverted L-shape is disposed substantially at the center. The tip of the die column 24 is positioned above the reciprocating path of the suction disk 6, and the lifting mechanism 26 is attached to the tip. The elevating mechanism 26 includes an elevating bracket (not shown) that can be moved up and down. The elevating bracket is attached to a pair of guide rods in a casing 28 so as to be able to move up and down. In the casing, a feed screw (not shown) formed of a ball screw is also rotatably disposed between the guide rods, and a lifting bracket is connected to the feed screw via a nut-type connector. Are linked. An AC servomotor 30 is connected to the upper end of the feed screw, and the AC servomotor 30 is mounted on the upper surface of the casing 28. A die holder 32 is attached to the lifting bracket via a support shaft (not shown). The die holder 32 has a U-shape and extends horizontally over a pair of guide groove rails 4 between the rails 4. ing. The support shaft of the die holder 32 is rotatably supported in the elevating bracket.
The die holder 32 can rotate in a vertical plane together with the support shaft.

【0030】昇降ブラケットには、ダイホルダ32の上
方に位置して水平バー36が固定されており、この水平
バー36はダイホルダ32に沿って延びている。水平バ
ー36の両端部には、電磁作動型のリニアアクチュエー
タ38がそれぞれ取り付けられている。これらリニアア
クチュエータ38は水平バー36の下面から突出する伸
縮ロッドを有しており、これら伸縮ロッドがダイホルダ
32の両端にそれぞれ当接されている。
A horizontal bar 36 is fixed to the elevating bracket above the die holder 32, and the horizontal bar 36 extends along the die holder 32. At both ends of the horizontal bar 36, electromagnetically actuated linear actuators 38 are respectively attached. These linear actuators 38 have telescopic rods projecting from the lower surface of the horizontal bar 36, and these telescopic rods are in contact with both ends of the die holder 32, respectively.

【0031】ダイホルダ32内には塗布器としてのスリ
ットダイ40が取り付けられている。図1から明らかな
ようにスリットダイ40は吸着盤6の往復動方向と直交
する方向、つまり、ダイホルダ32の長手方向に水平に
延びており、そして、その両端にてダイホルダ32に支
持されている。
In the die holder 32, a slit die 40 as an applicator is mounted. As is clear from FIG. 1, the slit die 40 extends horizontally in the direction perpendicular to the reciprocating direction of the suction plate 6, that is, in the longitudinal direction of the die holder 32, and is supported by the die holder 32 at both ends. .

【0032】スリットダイ40は、図2に概略的に示さ
れているように、長尺なブロック形状のフロントリップ
66およびリアリップ60を有している。これらリップ
66、60は吸着盤6の往復動方向でみて前後に張り合
わされ、図示しない複数の連結ボルトにより相互に一体
的に結合されている。両リップ66、60を図示しない
シムを介して張り合わせることにより、スリットダイ4
0の下面74には塗液を吐出する吐出口72が形成され
る。
The slit die 40 has an elongated block-shaped front lip 66 and a rear lip 60 as schematically shown in FIG. The lips 66, 60 are attached to each other back and forth as viewed in the reciprocating direction of the suction plate 6, and are integrally connected to each other by a plurality of connecting bolts (not shown). By bonding both lips 66, 60 via a shim (not shown), the slit die 4
A discharge port 72 for discharging the coating liquid is formed on the lower surface 74 of the “0”.

【0033】スリットダイ40内部ではその中央部分に
位置してマニホールド62が形成されており、このマニ
ホールド62はスリットダイ40の幅方向、すなわち、
吸着盤6の往復動方向と直交する方向に水平に延びてい
る。マニホールド62は前述した塗布液の供給ホース4
2に内部通路(図示しない)を介して常時接続されてお
り、これにより、マニホールド62は塗布液の供給を受
けることができる。スリットダイ40の内部には上端が
マニホールド62に連通したスリット64が形成されて
おり、このスリット64の下端が下面74にて開口し
て、吐出口72となる。スリット64は上記したよう
に、フロントリップ66とリアリップ60との間に図示
しないシムを挟み込むことによってその間隙が確保され
ている。
Inside the slit die 40, a manifold 62 is formed at a central portion thereof, and the manifold 62 is formed in the width direction of the slit die 40, that is,
It extends horizontally in a direction orthogonal to the reciprocating direction of the suction disk 6. The manifold 62 is provided with the supply hose 4 for the coating liquid described above.
2 is always connected via an internal passage (not shown), whereby the manifold 62 can receive the supply of the coating liquid. A slit 64 whose upper end communicates with the manifold 62 is formed inside the slit die 40, and the lower end of the slit 64 opens at the lower surface 74 to serve as a discharge port 72. As described above, a gap is secured between the front lip 66 and the rear lip 60 by sandwiching a shim (not shown) between the slits 64.

【0034】さて、スリットダイ40からは図2に示さ
れているように塗布液の供給ホース42が延びており、
この供給ホース42の先端はシリンジポンプ44の電磁
切換え弁46の供給ポートに接続されている。電磁切換
え弁46の吸引ポートからは吸引ホース48が延びてお
り、この吸引ホース48の先端部はタンク50内に挿入
されている。なお、タンク50には塗布液70が蓄えら
れている。
A supply hose 42 for the coating liquid extends from the slit die 40 as shown in FIG.
The distal end of the supply hose 42 is connected to a supply port of an electromagnetic switching valve 46 of the syringe pump 44. A suction hose 48 extends from a suction port of the electromagnetic switching valve 46, and the tip of the suction hose 48 is inserted into the tank 50. Note that a coating liquid 70 is stored in the tank 50.

【0035】シリンジポンプ44のポンプ部はピストン
型のポンプの形態をとっており、塗液を貯蔵するシリン
ジ80とその貯蔵した塗液を押し出したり、逆に塗液を
貯蔵/排出するために吸引/吐出動作をするピストン5
2より構成される。そして電磁切換え弁46の切換え作
動により、シリンジ80内の塗液は供給ホース42およ
び吸引ホース48の一方に選択的に流体的に接続可能と
なっている。そして、これら電磁切換え弁46およびピ
ストン52の図示しない直線駆動機構はコンピュータ5
4に電気的に接続されており、このコンピュータ54か
らの制御信号を受けて、電磁切換え弁46の切換方向、
ならびにピストン52の移動速度や移動位置が制御され
るようになっている。
The pump section of the syringe pump 44 is in the form of a piston type pump. A syringe 80 for storing the coating liquid and a pump for extruding the stored coating liquid and conversely storing and discharging the coating liquid. / Piston 5 that performs discharge operation
It consists of two. By the switching operation of the electromagnetic switching valve 46, the coating liquid in the syringe 80 can be selectively fluidly connected to one of the supply hose 42 and the suction hose 48. A linear drive mechanism (not shown) of the electromagnetic switching valve 46 and the piston 52 is
4 in response to a control signal from the computer 54, the switching direction of the electromagnetic switching valve 46,
In addition, the moving speed and moving position of the piston 52 are controlled.

【0036】さらに、シリンジポンプ44の作動制御の
他、吸着盤6上での基板Aの吸着と吸着解除の制御、な
らびにセンタリング装置200(後出)の作動制御や離
間手段としてのリフトピンの作動制御を行うため、コン
ピュータ54はシーケンサ56、吸着/解除制御装置2
50、センタリング装置200、図示していないリフト
ピン動作制御装置にもまた電気的に接続されている。こ
のなかでシーケンサ56は、吸着盤6側のフィードスク
リュー14のACサーボモータ18や、昇降機構26側
のACサーボモータ30やリニアアクチュエータ38の
作動をシーケンス制御するものであり、そのシーケンス
制御のために、シーケンサ56にはACサーボモータ1
8、30の作動状態を示す信号、吸着盤6の移動位置を
検出する位置センサ58からの信号、スリットダイ40
の作動状態を検出するセンサ(図示しない)からの信号
などが入力され、一方、シーケンサ56からはシーケン
ス動作を示す信号がコンピュータ54に出力されるよう
になっている。なお、シーケンサ56にコンピュータ5
4による制御を組み込むことも可能である。
Further, in addition to the operation control of the syringe pump 44, the control of the suction and release of the substrate A on the suction disk 6, the operation control of the centering device 200 (described later), and the operation control of the lift pin as the separating means. Is performed by the computer 54 with the sequencer 56 and the suction / release control device 2
50, a centering device 200, and a lift pin operation control device (not shown) are also electrically connected. Among them, the sequencer 56 controls the sequence of the operation of the AC servomotor 18 of the feed screw 14 on the suction disk 6 side and the operation of the AC servomotor 30 and the linear actuator 38 on the lifting mechanism 26 side. The sequencer 56 has an AC servo motor 1
8 and 30, a signal from a position sensor 58 that detects the moving position of the suction plate 6, a slit die 40
A signal from a sensor (not shown) for detecting the operation state of the device is input, and a signal indicating a sequence operation is output from the sequencer 56 to the computer 54. Note that the computer 5 is connected to the sequencer 56.
4 can also be incorporated.

【0037】再度図1を参照すると、基台2の上面には
ダイ支柱24よりも手前側に逆逆L字形をなすセンサ柱
20が配置されている。このセンサ支柱20の先端は吸
着盤6の往復動経路の上方に位置付けられており、その
先端にはブラケット21を介して厚みセンサ22が取り
付けられている。
Referring to FIG. 1 again, a sensor column 20 having an inverted L-shape is disposed on the upper surface of the base 2 on the front side of the die column 24. The tip of the sensor support 20 is positioned above the reciprocating path of the suction plate 6, and a thickness sensor 22 is attached to the tip via a bracket 21.

【0038】さらに、ダイコータ1には、吸着盤6上で
の基板Aの幅方向と走行方向の位置決めをするセンタリ
ング装置200が設けられている。このセンタリング装
置200は、基板Aの幅方向(移動方向に直交する方
向)側面に接する接触片240と、これを先端部に保持
し、ガイド204に沿って上下方向に自在に昇降可能な
昇降部材202と、昇降部材202の下面に接触してそ
の下降停止位置を調整できるストッパー206と、昇降
部材202を自在に往復動させる図示しないエアーシリ
ンダー等の駆動源とガイド204を保持して、基台2と
連結、固定するブラケット208と、より構成され、こ
れを1対、基板Aの幅方向の両側に配置している。
Further, the die coater 1 is provided with a centering device 200 for positioning the substrate A on the suction plate 6 in the width direction and the running direction. The centering device 200 includes a contact piece 240 in contact with a side surface of a substrate A in a width direction (a direction perpendicular to the moving direction), and a lifting member capable of holding the contact piece at a leading end thereof and freely moving up and down along a guide 204 in a vertical direction. 202, a stopper 206 that can contact the lower surface of the elevating member 202 to adjust the descent stop position, and a driving source such as an air cylinder (not shown) that freely reciprocates the elevating member 202 and a guide 204, and 2 and a bracket 208 to be connected and fixed, and a pair of the brackets 208 is arranged on both sides of the board A in the width direction.

【0039】次にセンタリング装置200の別の実施態
様であるセンタリング装置B201の詳細を、図3を用
いて説明する。センタリング装置B201は、基板幅方
向の両側に配置される1対のユニットA210Aとユニ
ットB210Bより構成される。これらのユニットは、
全く同じ構造で基板の移動方向で対称形となっている。
ここでユニットA210Aは、ガラス基板の移動方向と
幅方向(移動方向に直交する方向)側面に接する横辺2
16A、Bと縦辺214A、Bを先端部に有する位置決
め片212A、Bと、位置決め片212A、Bを保持す
る保持材230を、センタリング装置200の接触片2
40と入れ替えたものである。したがって位置決め片2
12A、Bは昇降部材202と接続されることとなるの
で、ガイド204に沿って上下方向に自在に昇降可能と
なり、ブラケット208によって基台2と連結、固定さ
れる。また、位置決め片212A、Bの下降限度は、ス
トッパー206で昇降部材202の下降位置を調整する
ことで、変えることができる。
Next, the details of a centering device B201, which is another embodiment of the centering device 200, will be described with reference to FIG. The centering device B201 includes a pair of units A210A and B210B arranged on both sides in the substrate width direction. These units are
They have exactly the same structure and are symmetrical in the moving direction of the substrate.
Here, the unit A210A has a lateral side 2 that is in contact with a side surface in the moving direction and the width direction (a direction orthogonal to the moving direction) of the glass substrate.
The positioning pieces 212A and B having the tip portions 16A and 16B and the vertical sides 214A and 214B, and the holding member 230 holding the positioning pieces 212A and 212B are attached to the contact piece 2 of the centering device 200.
It is replaced with 40. Therefore, positioning piece 2
Since 12A and 12B are connected to the elevating member 202, they can be freely moved up and down along the guide 204, and are connected and fixed to the base 2 by the bracket 208. Further, the lowering limit of the positioning pieces 212A and 212B can be changed by adjusting the lowering position of the elevating member 202 with the stopper 206.

【0040】一方ユニットB210Bも、ユニットA2
10Aに対して基板をはさんで対応する位置に横辺22
6A、Bと縦辺224A、Bを先端部に有する位置決め
片222A、Bを備えており、ユニットA210Aとで
基板Aを囲んで、基板Aの位置決めを行わせることがで
きる。そして、基板Aの側面と接触する横辺216A、
B、226A、Bと縦辺214A、B、224A、Bの
側面断面形状を見ると、図4に示すようになっており、
それぞれ基板を案内する斜面部218と基板の位置決め
を行う垂直面部220より構成される。斜面部218の
水平に対する角度Θは30〜85、より好ましくは60
〜80度、垂直面部220の長さLは1〜20mm、よ
り好ましくは2〜10mmである。
On the other hand, the unit B210B is also the unit A2
The side 22 is located at the corresponding position with the substrate
It has positioning pieces 222A, B having 6A, B and vertical sides 224A, B at its distal end. The substrate A can be positioned by surrounding the substrate A with the unit A 210A. Then, the side 216A that contacts the side surface of the substrate A,
B, 226A, B and the side cross-sectional shapes of the vertical sides 214A, B, 224A, B are as shown in FIG.
Each is composed of an inclined surface portion 218 for guiding the substrate and a vertical surface portion 220 for positioning the substrate. The angle Θ of the slope 218 with respect to the horizontal is 30 to 85, more preferably 60.
The vertical plane portion 220 has a length L of 1 to 20 mm, more preferably 2 to 10 mm.

【0041】また位置決め片212A、Bおよび222
A、Bで基板Aを挟み込んだ時、横辺216Aと216
B間、および横辺226Aと226B間の距離であるL
Aは基板Aの移動方向の寸法L1よりも0.05〜3m
m広くすることが好ましく、縦辺214Aと224A
間、および縦辺214Bと224B間の距離であるLB
は、基板Aの幅方向の寸法L2より0.05〜3mm大
きくなるように寸法設定することが好ましい。以上のす
きまができるように、位置決め片212A、B、222
A、Bと基板Aをセットした状態で、基板Aを上から降
ろし、下降に伴って基板Aの側面を位置決め片212
A、B、222A、Bの先端部にある各斜面部218に
案内させた後、垂直面部220より内側に基板をはまり
こませて位置決めを行うのであるから、基板Aと位置決
め片212A、B、222A、Bとのすきまを0.05
mmより小さくするのは基板が位置決め片212A、
B、222A、B上に乗り上げやすく、3mm以上だと
位置ずれが大きく、位置決めによる効果がない。さらに
位置決め片212A、B、222A、Bは下降したとき
に、基板Aと当接するが位置決め片212A、B、22
2A、Bの下面と吸着盤6が衝突しないように、その下
面と吸着盤6の間にわずかなすきまができるようにスト
ッパー206を調整することが好ましい。以上の動作で
基板Aの吸着盤6上での位置決め完了後は、位置決め片
212A、B、222A、Bを上昇させて、基板Aが走
行できるようにする。
The positioning pieces 212A, B and 222
When the substrate A is sandwiched between A and B, the horizontal sides 216A and 216A
L, which is the distance between B and the horizontal sides 226A and 226B
A is 0.05 to 3 m larger than the dimension L1 of the substrate A in the moving direction.
m is preferred, and the vertical sides 214A and 224A
LB which is the distance between the vertical sides 214B and 224B
Is preferably set to be 0.05 to 3 mm larger than the dimension L2 in the width direction of the substrate A. The positioning pieces 212A, B, 222
In a state where the substrates A and B are set, the substrate A is lowered from above, and the side surfaces of the substrate A are positioned with
After being guided by the slopes 218 at the tips of A, B, 222A, and B, the board is fitted inside the vertical face 220 to perform positioning, so that the board A and the positioning pieces 212A, B, 0.05 clearance between 222A and B
mm is smaller than the positioning piece 212A,
B, 222A and B, it is easy to ride on B, and if it is 3 mm or more, the positional deviation is large and there is no effect of positioning. Further, when the positioning pieces 212A, B, 222A, and B descend, they come into contact with the substrate A, but the positioning pieces 212A, B, and 22
It is preferable to adjust the stopper 206 such that a slight clearance is formed between the lower surface of the suction plate 6 and the lower surface of the suction plate 6 so that the lower surface of the suction plate 6 does not collide with the lower surface of the suction plate 6. After the positioning of the substrate A on the suction disk 6 is completed by the above operation, the positioning pieces 212A, B, 222A, and B are raised so that the substrate A can travel.

【0042】次にこの塗布装置を使った塗布方法につい
て説明する。まず、塗布装置における各作動部の原点復
帰が行われると、吸着盤6、スリットダイ40はスタン
バイの位置に移動する。この時、タンク50〜スリット
ダイ40まで塗布液70はすでに充満されており、ダイ
を上向きにして塗布液を吐出してダイ内部の残留エアー
を排出するという、いわゆるエアー抜き作業も既に終了
しているとともに、シリンジポンプ44もすでにタンク
50から所定量の塗液を吸引して貯蔵して、いつでも塗
液を吐出できる状態で待機している。そして、吸着盤6
の表面には穴110から図示しないリフトピンが上昇す
るとともに、センタリング装置B201の位置決め片2
12A、B、222A、Bが下降して、吸着盤6の上面
とわずかなすきまだけ離れた位置で停止し、基板Aが載
置されるのを待つ。ここで、リフトピンの基板を支持す
る先端面は、所定位置で停止している位置決め片212
A、B、222A、Bの上面より高い位置にあって、基
板Aの下面はリフトピンだけが支えるように構成されて
いる。
Next, a coating method using this coating apparatus will be described. First, when return to the origin of each operation unit in the coating apparatus is performed, the suction plate 6 and the slit die 40 move to the standby position. At this time, the coating liquid 70 has already been filled from the tank 50 to the slit die 40, and the so-called air bleeding operation of discharging the coating liquid with the die facing upward to discharge the residual air inside the die has already been completed. At the same time, the syringe pump 44 has already aspirated and stored a predetermined amount of the coating liquid from the tank 50, and is on standby in a state where the coating liquid can be discharged at any time. And suction cup 6
A lift pin (not shown) rises from the hole 110 on the surface of the positioning member 2 and the positioning piece 2 of the centering device B201.
12A, B, 222A, and B descend, stop at a position slightly apart from the upper surface of the suction disk 6, and wait for the substrate A to be placed. Here, the end surface of the lift pin supporting the substrate is positioned at the positioning piece 212 stopped at a predetermined position.
At a position higher than the upper surfaces of A, B, 222A, and B, the lower surface of substrate A is configured to be supported only by the lift pins.

【0043】次に、図示しないローダから基板Aがリフ
トピンの先端面に載置されると、リフトピンを下降させ
る。この動作により基板Aが下降するとともに、その側
面が位置決め片212A、B、222A、Bの横辺21
6A、B、226A、Bと縦辺214A、B、224
A、Bのそれぞれの斜面部218と垂直面部220に案
内されて、吸着盤6上に一定の許容値にて位置決めされ
る。
Next, when the substrate A is placed on the tip surface of the lift pins from a loader (not shown), the lift pins are lowered. By this operation, the substrate A is lowered, and the side surface of the substrate A is positioned on the side 21 of the positioning pieces 212A, B, 222A, and B.
6A, B, 226A, B and vertical sides 214A, B, 224
It is guided by the slope portions 218 and the vertical surface portions 220 of A and B, and is positioned on the suction cup 6 at a certain allowable value.

【0044】基板Aが吸着盤6の上面102に載置され
たら、コンピュータ54から吸着/解除制御装置250
に指令を出して吸着孔104から吸引を開始して基板A
を上面102に吸着固定する。一方吸着と同時に厚みセ
ンサ22で基板Aの基板厚みを測定し、その厚さに基づ
き、基板A〜スリットダイ40の下面74間のクリアラ
ンスがあらかじめ与えた値になるように、スリットダイ
40を下降する。そして、基板Aの吸着が完了した段階
で、センタリング装置B201の位置決め片212A、
B、222A、Bを基板Aの端面と干渉しない位置まで
上昇させた後、吸着盤6を駆動して、基板Aを一定速度
で移動させる。そして、基板Aの塗布開始部がスリット
ダイ40の吐出口72のちょうど真下に来たときに、コ
ンピュータ54からシリンジポンプ54に指令を出し
て、シリンジポンプ44の動作を開始してスリットダイ
40の吐出口72から塗布液を吐出し、スリットダイ4
0の下面74と基板A間に塗布液ビードCが形成され
て、基板Aへの塗布が開始される。そして、基板Aの塗
布終了位置がスリットダイ40の吐出口72の真下にき
たら、シリンジポンプ44に対してコンピュータ54か
ら停止指令を出してスリットダイ40からの塗布液の吐
出を停止するとともに、スリットダイ40を上昇させて
完全に塗布液ビードCをたちきる。
When the substrate A is placed on the upper surface 102 of the suction plate 6, the suction / release control device 250 is sent from the computer 54.
To start suction from the suction hole 104 and
Is fixed to the upper surface 102 by suction. On the other hand, at the same time as the suction, the thickness of the substrate A is measured by the thickness sensor 22 and the slit die 40 is lowered based on the thickness so that the clearance between the substrate A and the lower surface 74 of the slit die 40 becomes a predetermined value. I do. Then, when the suction of the substrate A is completed, the positioning pieces 212A of the centering device B201,
After raising B, 222A and B to a position where they do not interfere with the end face of the substrate A, the suction plate 6 is driven to move the substrate A at a constant speed. Then, when the application start portion of the substrate A comes just below the discharge port 72 of the slit die 40, a command is issued from the computer 54 to the syringe pump 54, and the operation of the syringe pump 44 is started to start the operation of the slit die 40. The application liquid is discharged from the discharge port 72 and the slit die 4
The application liquid bead C is formed between the lower surface 74 of the substrate 0 and the substrate A, and the application to the substrate A is started. When the application end position of the substrate A is just below the discharge port 72 of the slit die 40, a stop command is issued from the computer 54 to the syringe pump 44 to stop the discharge of the coating liquid from the slit die 40 and the slit pump. By raising the die 40, the coating liquid bead C is completely discharged.

【0045】これらの動作中吸着盤6は動きつづけ、基
板Aが終点位置にきたら停止し、コンピュータ54から
吸着/解除制御装置250に指令を出して基板Aの吸着
を解除する。吸着の解除方法としては、基板吸着のため
の吸引動作を停止するとともに、吸着孔に圧縮空気を所
定時間送り込む。そして離間手段としてのリフトピンを
上昇させて基板Aを持ち上げて吸着盤6から剥離し、図
示されないアンローダによってリフトピン上の基板Aを
次の工程に搬送する。この後吸着盤6はリフトピンを突
きだしたまま原点位置に復帰する。一方シリンジポンプ
44は、基板Aが終点位置で停止した時から吸引動作を
行ってタンク50から新たに塗布液70を充満させる。
ついで次の基板Aが来るのを待ち、同じ動作をくりかえ
す。
During these operations, the suction disk 6 continues to move, stops when the substrate A reaches the end point position, and issues a command to the suction / release control device 250 from the computer 54 to release the suction of the substrate A. As a method for releasing the suction, the suction operation for sucking the substrate is stopped, and compressed air is sent into the suction hole for a predetermined time. Then, the lift pins serving as the separating means are lifted to lift the substrate A to be separated from the suction plate 6, and the substrate A on the lift pins is transported to the next step by an unloader (not shown). Thereafter, the suction disk 6 returns to the origin position with the lift pins protruding. On the other hand, the syringe pump 44 performs a suction operation from when the substrate A stops at the end point position, and fills the tank 50 with the coating liquid 70 anew.
Next, the same operation is repeated until the next substrate A comes.

【0046】以上の基板Aへの塗布動作を繰り返すと
き、その一周期の時間となるタクトタイムは、従来のも
のより、基板Aのセンタリング装置B201による位置
決め時間と基板Aの吸着盤6からの剥離、脱着時間が短
くなる分だけ短縮される。
When the above-described coating operation on the substrate A is repeated, the tact time, which is one cycle time, is longer than the conventional one in the positioning time of the substrate A by the centering device B201 and the separation time of the substrate A from the suction disk 6. , And the desorption time is shortened.

【0047】センタリング装置B201による位置決め
は、位置決め片212A、B、222A、Bが位置決め
後、従来は基板幅方向に水平移動して退避していたのに
対し、本発明では上昇して退避している。退避量は従来
は位置決め片212A、B、222A、Bの横辺216
A、B、226A、Bが基板Aの側面と水平方向に接触
する長さが最低必要であるのに対し、本発明では基板厚
さ分だけ必要となる。安定して位置決めを行うには横辺
216A、B、226A、Bと基板との接触長さは最低
でも10mmは必要であるが、それに対して基板厚さは
最大でも1.1mmしかならないので、本発明の方がは
るかに退避量を小さくでき、その分だけ基板の位置決め
に要する時間を短くできる。
In the positioning by the centering device B201, the positioning pieces 212A, B, 222A and B are positioned horizontally after the positioning pieces 212A, B and 222A and B are moved in the width direction of the substrate. I have. Conventionally, the retreat amount is determined by the side 216 of the positioning pieces 212A, B, 222A, and B.
A, B, and 226A and B need a minimum length for contacting the side surface of the substrate A in the horizontal direction, whereas the present invention requires a length corresponding to the thickness of the substrate. In order to perform stable positioning, the contact length between the horizontal sides 216A, B, 226A, B and the substrate needs to be at least 10 mm, whereas the substrate thickness is only 1.1 mm at the maximum. According to the present invention, the retreat amount can be made much smaller, and the time required for positioning the substrate can be shortened accordingly.

【0048】また、基板Aの吸着盤6からの剥離時間
(脱着時間)については、本発明では吸着盤6に横溝1
06と縦溝108を設け、上面102の基板Aとの接触
面積を低減して、静電気による密着力を低減しているた
め、このような溝がなく静電気による密着が大きい従来
のものより、基板Aの剥離のために要する時間を短くで
きている。
In the present invention, the substrate A is peeled off from the suction disk 6 (desorption time).
06 and the vertical groove 108 to reduce the contact area of the upper surface 102 with the substrate A to reduce the adhesion due to static electricity. The time required for peeling A can be shortened.

【0049】この基板Aの吸着盤6からの剥離時間をさ
らに短くするための方法について、図6を参照しながら
説明する。図6は本発明になる剥離方法を適用した塗布
方法のタイムチャート図である。
A method for further shortening the time for separating the substrate A from the suction disk 6 will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a time chart of a coating method to which the peeling method according to the present invention is applied.

【0050】図6を参照すると、塗布開始にあたるポン
プ吐出開始までは、上記した塗布方法のそのままの手順
を、スリットダイ40の位置、吸着盤6の走行状況、厚
みセンサ22による基板厚さの測定、シリンジポンプ4
4の動作状況、吸着、吸着解除の作動状況、基板Aに作
用する圧力、リフトピン位置、センタリング装置B20
1の作動状況(位置決め片212A、B、222A、B
が下降停止位置で「ON」、上昇停止位置で「OFF」
を意味する)についての各時間における状態という形で
示している。
Referring to FIG. 6, until the start of the pump discharge, which is the start of coating, the above-described procedure of the coating method is directly performed by measuring the position of the slit die 40, the running state of the suction plate 6, and the thickness of the substrate by the thickness sensor 22. , Syringe pump 4
4, operation of suction and release of suction, pressure acting on substrate A, lift pin position, centering device B20
1 (positioning pieces 212A, B, 222A, B
Is "ON" at the descent stop position, "OFF" at the ascent stop position
) In the form of a state at each time.

【0051】そして、シリンジポンプ44の吐出動作が
終わって塗布が完了すると、まだ吸着盤6が移動してい
る最中ではあるが、吸着を切り、吸着解除のために圧縮
空気を吸着盤6の吸着孔104に導入し、基板Aに作用
する圧力が吸着中の負圧から大気圧にもどった段階で、
圧縮空気の導入を停止する。この状態では基板Aに作用
する圧力はゼロであるが、吸着時に発生した静電気によ
り基板Aはまだ吸着盤6に密着している。つづいて、吸
着盤6が終点位置に到達して停止したら、再び吸着解除
用の圧縮空気を吸着孔104に導入して基板Aに一定の
正圧を付加し、それからはやや遅れるタイミングでリフ
トピンを上昇させる。リフトピンも一気に上点まで上昇
させてもよいが、基板が大きい場合、特に対角が500
mm以上の場合には、吸着盤6の上面102よりやや高
い位置、好ましくは0.5〜5mmの位置(剥離点)に
一度上昇させて、0.1〜2秒程度停止しておいてか
ら、上点まで上昇させる方が、基板Aの吸着盤6からの
離間が緩やかに行われるため、基板の割れなくスムーズ
な基板剥離ができ、好ましい。これ以降は塗布した基板
Aをアンローダで次の工程に搬送した後、吸着盤6を原
点位置に戻し、同じ工程を繰り返す。
When the application is completed after the discharge operation of the syringe pump 44 is completed, the suction disk 6 is still moving, but the suction is turned off and compressed air is released from the suction disk 6 to release the suction. When the pressure applied to the substrate A is returned to the atmospheric pressure from the negative pressure during suction,
Stop the introduction of compressed air. In this state, the pressure acting on the substrate A is zero, but the substrate A is still in close contact with the suction disk 6 due to static electricity generated at the time of suction. Subsequently, when the suction disk 6 reaches the end point position and stops, compressed air for suction release is again introduced into the suction hole 104 to apply a constant positive pressure to the substrate A, and then the lift pin is slightly delayed. To raise. The lift pins may also be raised to the upper point at once, but when the substrate is large, the diagonal is particularly 500 mm.
mm or more, it is raised once to a position slightly higher than the upper surface 102 of the suction disk 6, preferably to a position (peeling point) of 0.5 to 5 mm, and stopped for about 0.1 to 2 seconds. It is preferable to raise the temperature to the upper point because the substrate A is slowly separated from the suction plate 6 so that the substrate can be smoothly peeled without breaking the substrate. After that, the coated substrate A is transported to the next process by the unloader, and then the suction disk 6 is returned to the origin position, and the same process is repeated.

【0052】以上の工程では、塗布終了直後のまだ吸着
盤6が移動中に吸着解除を開始し、基板Aへの吸着圧力
を基板がまだ剥離しない大気圧までまずもどし、そして
吸着盤6が停止してからさらに圧縮空気を送り込んで吸
着解除をして基板剥離をしており、吸着盤6停止前の先
行および2段階の吸着解除動作を行っているのが特徴で
ある。従来は吸着盤6終了位置で停止してから吸着解除
を開始しているので、基板Aへの負圧が作用している状
態で吸着解除を開始することになるのに対し、本発明で
は吸着盤6が終了位置で停止してからは、基板Aへの吸
着力が大気圧の状態から吸着解除を開始できるので、基
板を吸着盤6の上面102から剥離する時間を大幅に短
くすることができ、その結果、塗布のタクトタイムも大
幅に短くすることができる。以上の効果は吸着盤6に溝
があるなしにかかわらず発揮できる。
In the above steps, the suction release is started immediately after the end of coating while the suction plate 6 is still moving, the suction pressure on the substrate A is returned to the atmospheric pressure at which the substrate is not yet separated, and the suction plate 6 is stopped. Thereafter, compressed air is further fed to release the suction to release the substrate, and the feature is that the preceding and two-stage suction releasing operations before stopping the suction disk 6 are performed. Conventionally, the suction release is started after stopping at the end position of the suction disk 6, so that the suction release is started in a state where the negative pressure is applied to the substrate A, whereas in the present invention, the suction release is started. After the board 6 is stopped at the end position, the suction release from the state where the suction force to the substrate A is the atmospheric pressure can be started, so that the time for peeling the substrate from the upper surface 102 of the suction board 6 can be greatly shortened. As a result, the tact time of coating can be significantly reduced. The above effects can be exerted regardless of whether or not the suction cup 6 has a groove.

【0053】なお本発明が適用できる塗液としては粘度
が1cps〜100000cps、望ましくは10cp
s〜50000cpsであり、ニュートニアンが塗布性
から好ましいが、チキソ性を有する塗液にも適用でき
る。また塗布液の乾燥速度にも特に依存せず、RGB色
用の塗液の他、レジスト、O/C材に対しても、ダイコ
ータで塗布するときのタクトタイム短縮に本発明を適用
できる。基板である被塗布部材としてはガラスの他にア
ルミ等の金属板、セラミック板、シリコンウェハー等を
用いてもよい。さらに使用する塗布状態としては、クリ
アランスが40〜500μm、より好ましくは80〜3
00μm、塗布速度が0.1m/分〜10m/分、より
好ましくは0.5m/分〜6m/分、ダイのリップ間隙
は50〜1000μm、より好ましくは100〜600
μm、塗布厚さが5〜400μm、より好ましくは20
〜250μmである。
The coating liquid to which the present invention can be applied has a viscosity of 1 cps to 100,000 cps, preferably 10 cp.
s to 50,000 cps, and Newtonian is preferable from the viewpoint of applicability, but can also be applied to a coating liquid having thixotropic properties. The present invention can be applied not only to the drying speed of the coating liquid but also to the reduction of the tact time when coating with a die coater, in addition to the coating liquid for RGB color, the resist and the O / C material. As a member to be coated as a substrate, a metal plate such as aluminum, a ceramic plate, a silicon wafer, or the like may be used in addition to glass. Further, as a coating state to be used, the clearance is 40 to 500 μm, more preferably 80 to 3 μm.
00 m, coating speed 0.1 m / min to 10 m / min, more preferably 0.5 m / min to 6 m / min, die lip gap 50 to 1000 m, more preferably 100 to 600
μm, coating thickness 5 to 400 μm, more preferably 20
250250 μm.

【0054】また、本発明においては、対角の長さが5
00mm以上のサイズの基板でその効果をよく発揮する
ことができる。
In the present invention, the diagonal length is 5
The effect can be exhibited well with a substrate having a size of 00 mm or more.

【0055】さらに本発明における基板センタリング装
置の対象としては、位置決め後基板に接する位置決め片
が上下方向に退避するものなら全て含まれ、例えば基板
の4辺を囲むようにして基板端面にリフトピンを接触さ
せて位置決めする方式も含まれる。この場合は、位置決
め後リフトピンは吸着盤内に下降して退避することとな
る。さらに退避する方向も、鉛直線上を上下するだけで
はなく、斜め上方、あるいは斜め下方に上下してもよ
い。またセンタリング装置の基板側面と接触する部分の
材質はいかなるものでもよいが、基板に損傷を与えない
ために高分子樹脂やゴム等であることが好ましい。
Further, the object of the substrate centering device of the present invention includes any device in which the positioning pieces that come into contact with the substrate after positioning are retracted in the vertical direction. For example, lift pins are brought into contact with the substrate end surface so as to surround four sides of the substrate. The positioning method is also included. In this case, after the positioning, the lift pins descend into the suction disk and retreat. Further, the retracting direction may be not only vertically moving up and down, but also vertically upward or downward. The material of the portion of the centering device that contacts the side surface of the substrate may be any material, but is preferably a polymer resin, rubber, or the like so as not to damage the substrate.

【0056】また、吸着盤6での横溝106、縦溝10
8の溝形状については特に限定はないが、溝は幅0.5
〜20mm、深さ0.5〜30mm程度であることが好
ましい。幅が狭いと接触面積減少が小さすぎ、逆に広す
ぎると基板が変形して割れをおこしやすくなる。また溝
の本数については、基板Aの吸着面である上面102で
溝が占める面積が上面102全体の3〜50%であるこ
とが望ましい。これより小さいと吸着面と基板Aとの接
触面積が大きすぎて静電気力の減少に効果がなく、逆に
その範囲より大きすぎると、吸着時に基板が溝の中に落
ち込んで基板の平面度が損なわれる。さらにまた吸着孔
104と溝との位置関係についても特に限定はなく、溝
の中に吸着孔を設けてもよい。このような溝を設けた吸
着盤の材質としては、形状保持できるならいかなるもの
でもよいが、ステンレス、アルミ等の金属、高分子樹
脂、グラナイト等の石材等が好ましい。金属の場合はさ
らに表面にカニゼンメッキ、カニフロン、テフロンコー
ティング等、静電気力を減じさせる表面処理を施されて
いることが好ましい。
The horizontal groove 106 and the vertical groove 10 of the suction disk 6
The groove shape of No. 8 is not particularly limited, but the groove has a width of 0.5
It is preferably about 20 to 20 mm and a depth of about 0.5 to 30 mm. If the width is small, the decrease in the contact area is too small, and if it is too large, the substrate is easily deformed and cracked. Regarding the number of grooves, it is desirable that the area occupied by the grooves on the upper surface 102, which is the suction surface of the substrate A, is 3 to 50% of the entire upper surface 102. If it is smaller than this, the contact area between the suction surface and the substrate A is too large to reduce the electrostatic force, and if it is too large, on the other hand, the substrate falls into the groove at the time of suction and the flatness of the substrate is reduced. Be impaired. Furthermore, the positional relationship between the suction holes 104 and the grooves is not particularly limited, and suction holes may be provided in the grooves. The material of the suction cup provided with such grooves may be any material as long as the shape can be maintained, but metals such as stainless steel and aluminum, polymer resins, and stone materials such as granite are preferable. In the case of metal, it is preferable that the surface is further subjected to a surface treatment for reducing electrostatic force, such as Kanigen plating, Caniflon, or Teflon coating.

【0057】[0057]

【実施例】360×465mmで厚さ0.7mmの無ア
ルカリガラス基板上に、基板の幅方向にピッチが254
μm、基板の長手方向にピッチが85μm、線幅が20
μm、RGB画素数が4800(基板長手方向)×12
00(基板幅方向)、対角の長さが20インチ(基板幅
方向に305mm、基板長手方向に406mm)となる
格子形状で、厚さが1μmとなるブラックマトリックス
膜を作成した。ブラックマトリックス膜は、チタン酸窒
化物を遮光材、ポリアミック酸をバインダーとして用い
たものであった。
EXAMPLE On a non-alkali glass substrate of 360 × 465 mm and thickness of 0.7 mm, a pitch of 254 was set in the width direction of the substrate.
μm, pitch 85 μm in the longitudinal direction of the substrate, line width 20
μm, number of RGB pixels is 4800 (longitudinal direction of substrate) × 12
A black matrix film having a lattice shape of 00 (substrate width direction) and a diagonal length of 20 inches (substrate width direction 305 mm, substrate longitudinal direction 406 mm) and a thickness of 1 μm was prepared. The black matrix film used titanium oxynitride as a light-shielding material and polyamic acid as a binder.

【0058】続いてウェット洗浄によって基板上のパー
ティクルを除去後、ポリアミック酸をバインダー、γ−
ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロリドンと3−メ
チル−3−メトキシブタノールの混合物を溶媒、ピグメ
ントレッド177を顔料にして固形分濃度10%で混合
し、さらに粘度を50cpsに調整したR色の塗液を、
20μmの厚さで速度3m/分にて、ダイコータで全面
均一に塗布した。ここで、ダイコータのスリットダイは
スリットの間隙が100μm、スリットの幅が305m
m、スリットダイの下面と基板とのクリアランスは10
0μmであった。ここで基板の吸着盤上の位置決めには
図3の上下方向に退避するセンタリング装置を用い、基
板と位置決め片212A、B、222A、Bとのすきま
を0.5mmに、位置決め片212A、B、222A、
Bの下面と吸着盤6の上面とのすきまを0.2mmに、
して基板の位置決めを行った。さらに基板の吸着盤への
吸着圧力は100hPaにし、吸着の解除は図6に示す
方法に従って、塗布直後(大気圧まで解除)と基板停止
後の2回にわたって行った。吸着解除のために送り込む
圧縮空気の圧力は0.2MPaに設定した。以上のよう
にして行ったR色塗膜用の塗布のタクトタイムは28.
5秒であった。
Subsequently, after removing particles on the substrate by wet cleaning, a polyamic acid is used as a binder and γ-
A mixture of butyrolactone, N-methyl-2-pyrrolidone and 3-methyl-3-methoxybutanol was mixed at a solid content of 10% using a solvent, Pigment Red 177 as a pigment, and the viscosity was adjusted to 50 cps. Liquid
The entire surface was uniformly coated with a die coater at a speed of 3 m / min at a thickness of 20 μm. Here, the slit die of the die coater has a slit gap of 100 μm and a slit width of 305 m.
m, the clearance between the lower surface of the slit die and the substrate is 10
It was 0 μm. Here, the centering device for retracting the substrate in the vertical direction in FIG. 3 is used for positioning the substrate on the suction plate, the gap between the substrate and the positioning pieces 212A, B, 222A, B is set to 0.5 mm, and the positioning pieces 212A, B, 222A,
The clearance between the lower surface of B and the upper surface of the suction disk 6 is set to 0.2 mm,
Then, the substrate was positioned. Further, the suction pressure of the substrate on the suction disk was set to 100 hPa, and the suction was released twice immediately after coating (release to atmospheric pressure) and after the substrate was stopped, according to the method shown in FIG. The pressure of the compressed air sent for releasing the adsorption was set to 0.2 MPa. The tact time of the application for the R color coating film performed as described above is 28.
5 seconds.

【0059】ちなみに、センタリング装置に水平方向に
30mm退避するものを用い、さらに吸着解除は塗布終
了後の吸着盤停止後に0.2MPaの圧縮空気を送り込
んで行った場合のタクトタイムは30秒であった。
By the way, when a centering device which retreats 30 mm in the horizontal direction is used, and the suction is released by stopping the suction plate after the coating is completed and then feeding compressed air of 0.2 MPa, the tact time is 30 seconds. Was.

【0060】さてダイコータで塗布後はホットプレート
を使用した乾燥装置で100℃で20分乾燥し、固形分
濃度10%、粘度8%のレジスト液を10μm塗布し、
90℃のホットプレートで10分乾燥後、露光・現像・
剥離を行って、R画素部にのみ色塗膜を残し、260度
のホットプレートで30分加熱して、キュアを行った。
After coating with a die coater, the coating liquid was dried at 100 ° C. for 20 minutes in a drying apparatus using a hot plate, and a resist solution having a solid concentration of 10% and a viscosity of 8% was coated at 10 μm.
After drying on a hot plate at 90 ° C for 10 minutes,
Peeling was performed to leave a color coating film only on the R pixel portion, and heating was performed on a hot plate at 260 ° C. for 30 minutes to cure.

【0061】同様の色塗膜の形成をG、B色について
も、R色と同様のダイコータと塗布条件、その他同じ工
程を用いて、それぞれの色塗膜を形成した。ここでG色
の塗液には、R色の塗液で顔料をピグメントグリーン3
6にして固形分濃度10%で粘度を40cpsに調整し
たもの、B色の塗液には、R色の塗液で顔料をピグメン
トブルー15にして固形分濃度10%で粘度を50cp
sに調整したものを用いた。
The same color coating film was formed for the G and B colors by using the same die coater and application conditions as for the R color, and other same processes. Here, for the G color coating solution, the pigment is pigment color 3 with the R color coating solution.
6, the viscosity is adjusted to 40 cps at a solid content concentration of 10%, and for the B color coating solution, the pigment is changed to Pigment Blue 15 with the R color coating solution, and the viscosity is 50 cp at a solid content concentration of 10%.
Those adjusted to s were used.

【0062】そして最後にITOをスパッタリングで付
着させ、カラーフィルターを作成した。えられたカラー
フィルターは、顔料の凝集物や摩耗粉等の異物もなく、
色度も基板全面にわたって均一で、品質的に申し分ない
ものであった。
Finally, ITO was deposited by sputtering to form a color filter. The obtained color filter has no foreign matters such as pigment aggregates and abrasion powder,
The chromaticity was uniform over the entire surface of the substrate, and the quality was satisfactory.

【0063】[0063]

【発明の効果】本発明に係る塗布方法、塗布装置によれ
ば、まず基板の剥離のための吸着解除動作を、塗布終了
直後から開始し、基板停止後もふくめて多段階で行なう
ようにしたことと、基板の吸着盤からの剥離のための離
間動作を最終位置までの途中位置で一時停止して段階的
に行うようにしたことのために、基板停止後に吸着盤か
ら基板を剥離するまでの時間を短くして、塗布のための
タクトタイムを短くすることができる。
According to the coating method and the coating apparatus of the present invention, the suction releasing operation for peeling the substrate is first started immediately after the completion of the coating, and is performed in multiple stages including after the substrate is stopped. And that the separating operation for separating the substrate from the suction disk is temporarily stopped at a position halfway to the final position and is performed stepwise, so that the substrate is separated from the suction disk after the substrate is stopped. And the tact time for coating can be shortened.

【0064】さらに本発明に係る別の塗布方法、塗布装
置によれば、吸着盤の基板吸着を行う面に溝が適切に設
けられているのであるから、基板吸着時に発生する静電
気力を減少させ、基板吸着力の静電気分を大幅に小さく
できるので、基板剥離のために要する力が小さくなり、
基板剥離時間を大幅に短くし、これもまた塗布のための
タクトタイムを短くすることができる。
Further, according to another coating method and coating apparatus according to the present invention, the grooves are appropriately provided on the surface of the suction plate on which the substrate is sucked, so that the electrostatic force generated at the time of sucking the substrate can be reduced. Since the static electricity component of the substrate attraction force can be significantly reduced, the force required for peeling the substrate is reduced,
Substrate stripping time can be greatly reduced, which can also reduce tact time for application.

【0065】さらにまた本発明に係る別の塗布方法、塗
布装置によれば、基板の吸着盤面での位置決めを行う位
置決め部材を上下方向に移動する構造としたので、位置
決め後の位置決め部材の退避距離が大きく減少し、これ
によって退避時間を短くできるので、基板の位置決めに
要する時間を、大幅に短縮し、その結果塗布のためのタ
クトタイムを短くすることができる。
Further, according to another coating method and coating apparatus according to the present invention, since the positioning member for positioning the substrate on the suction plate surface is moved in the vertical direction, the retracting distance of the positioning member after the positioning is achieved. Is greatly reduced, and the evacuation time can be shortened, so that the time required for positioning the substrate can be greatly reduced, and as a result, the tact time for coating can be shortened.

【0066】以上の本発明に係る別の塗布方法、塗布装
置を使用した本発明のカラーフィルターの製造方法、製
造装置によれば、上記のタクトタイムが短縮できる優れ
た塗布方法、塗布装置でカラーフィルターを製造するの
であるから、高い品質のカラーフィルターを高い生産性
で製造することが可能となる。
According to the color filter manufacturing method and the manufacturing apparatus of the present invention using the above-mentioned other coating method and the coating apparatus according to the present invention, the above-mentioned excellent coating method capable of shortening the tact time and the color apparatus can be used. Since the filter is manufactured, a high quality color filter can be manufactured with high productivity.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施態様に係るダイコータの概略斜
視図である。
FIG. 1 is a schematic perspective view of a die coater according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1のダイコータを塗布液の供給系をも含めて
示した概略構成図である。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing the die coater of FIG. 1 including a coating liquid supply system.

【図3】本発明に係るセンタリング装置の一実施態様を
示す平面図である。
FIG. 3 is a plan view showing an embodiment of a centering device according to the present invention.

【図4】図3の装置の部分正面断面図である。FIG. 4 is a partial front sectional view of the apparatus of FIG. 3;

【図5】本発明に係る吸着盤の一実施態様を示す全体概
略斜視図である。
FIG. 5 is an overall schematic perspective view showing one embodiment of a suction disk according to the present invention.

【図6】本発明に係る剥離方法を適用した塗布方法のタ
イムチャートである。
FIG. 6 is a time chart of a coating method to which the peeling method according to the present invention is applied.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ダイコータ 2 基台 6 吸着盤 14 フィードスクリュー 18 ACサーボモータ 22 厚みセンサ 40 スリットダイ(塗布器) 44 シリンジポンプ 50 タンク 54 コンピュータ 62 マニホールド 64 スリット 72 吐出口 102 上面 104 吸着孔 106 横溝 108 縦溝 110 リフトピン穴 200 センタリング装置 201 センタリング装置B 202 昇降部材 204 ガイド 206 ストッパー 208 ブラケット 210A、210B ユニットA、B 212A、212B 位置決め片 214A、214B 縦辺 216A、216B 横辺 218 斜面部 220 垂直面部 222A、222B 位置決め片 224A、224B 縦辺 226A、226B 横辺 A 基板(被塗布部材) C 塗布液ビード Reference Signs List 1 die coater 2 base 6 suction disk 14 feed screw 18 AC servomotor 22 thickness sensor 40 slit die (applicator) 44 syringe pump 50 tank 54 computer 62 manifold 64 slit 72 discharge port 102 upper surface 104 suction hole 106 horizontal groove 108 vertical groove 110 Lift pin hole 200 Centering device 201 Centering device B 202 Elevating member 204 Guide 206 Stopper 208 Bracket 210A, 210B Unit A, B 212A, 212B Positioning piece 214A, 214B Vertical side 216A, 216B Horizontal side 218 Slope 220 Vertical plane 222A, 222B Piece 224A, 224B Vertical side 226A, 226B Horizontal side A Substrate (member to be coated) C Coating liquid bead

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03F 7/16 501 G03F 7/16 501 (72)発明者 金森 浩充 滋賀県大津市園山1丁目1番1号 東レ株 式会社滋賀事業場内 Fターム(参考) 2H025 AB13 DA19 EA04 2H048 BA02 BA11 BA16 BA17 BA28 BA29 BB02 BB14 BB44 4D075 AC04 AC73 AC78 DC21 DC22 4F041 AA06 AB02 CA02 CA11 CA18 CA22 4F042 AA07 BA25 CB12 DF04 DF15 DF24 DF34 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G03F 7/16 501 G03F 7/16 501 (72) Inventor Hiromitsu Kanamori 1-1-1 Sonoyama, Otsu City, Shiga Prefecture No.F-term (reference) in the Shiga Plant of Toray Industries, Inc. (reference)

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 塗布器の吐出口から塗布液を吸着盤に吸
着保持された被塗布部材に吐出しながら、前記塗布器お
よび被塗布部材の少なくとも一方を相対的に移動させて
前記被塗布部材に塗膜を形成する塗布方法において、被
塗布部材を吸着盤から脱着するための吸着力減少操作
を、前記被塗布部材への塗膜塗形成後、複数回行なうこ
とを特徴とする塗布方法。
1. An apparatus according to claim 1, wherein at least one of the applicator and the member to be coated is relatively moved while discharging the application liquid from a discharge port of the applicator to the member to be coated held by the suction board. A coating method for forming a coating film on a member to be coated, wherein the operation of reducing the attraction force for detaching the member to be coated from the suction disk is performed a plurality of times after forming the coating film on the member to be coated.
【請求項2】 塗布器の吐出口から塗布液を吸着盤に吸
着保持された被塗布部材に吐出しながら、前記塗布器お
よび被塗布部材の少なくとも一方を相対的に移動させて
前記被塗布部材に塗膜を形成した後に、前記被塗布部材
の吸着盤よりの離間動作を行うことで、被塗布部材を吸
着盤から脱着する塗布方法において、最終離間位置まで
の途中位置で一時停止を行なうことを特徴とする塗布方
法。
2. The method according to claim 1, wherein at least one of the applicator and the member to be coated is relatively moved while discharging the coating liquid from a discharge port of the coating device to the member to be coated held by the suction disk. After the coating film is formed, by performing the separating operation of the member to be coated from the suction plate, in the coating method of detaching the member to be coated from the suction plate, temporarily stopping at a position halfway to the final separation position. A coating method characterized by the above-mentioned.
【請求項3】 塗布器の吐出口から塗布液を吸着盤に吸
着保持された被塗布部材に吐出しながら、前記塗布器お
よび被塗布部材の少なくとも一方を相対的に移動させて
前記被塗布部材に塗膜を形成する塗布方法において、前
記被塗布部材を吸着面に溝を設けた吸着盤に吸着保持さ
せることを特徴とする塗布方法。
3. The member to be coated by moving at least one of the applicator and the member to be coated while discharging the coating liquid from a discharge port of the coating device to the member to be coated held by the suction board. A coating method for forming a coating film on a substrate, wherein the member to be coated is suction-held on a suction disk provided with a groove on a suction surface.
【請求項4】 塗布液を吐出する塗布器の吐出口と、被
塗布部材との相対位置を位置決めした後、前記塗布器よ
り塗布液を被塗布部材上に吐出しながら、塗布器または
被塗布部材の少なくとも一方を相対的に移動させて被塗
布部材上に塗膜を形成する塗布方法であって、前記相対
位置の位置決めを、被塗布部材の外縁に接する部材を上
下方向に移動させて行なうことを特徴とする塗布方法。
4. After positioning a relative position between a discharge port of an applicator that discharges a coating liquid and a member to be coated, the coating apparatus discharges the coating liquid onto the member to be coated while discharging the coating liquid onto the member to be coated. A coating method for forming a coating film on a member to be coated by relatively moving at least one of the members, wherein the relative position is determined by moving a member in contact with an outer edge of the member to be coated in a vertical direction. A coating method characterized by the above-mentioned.
【請求項5】 請求項1〜4のいずれかに記載の塗布方
法を用いて、カラーフィルターを製造することを特徴と
するカラーフィルターの製造方法。
5. A method for producing a color filter, comprising producing a color filter using the coating method according to claim 1. Description:
【請求項6】 塗布液を供給する供給手段と、供給手段
から供給された塗布液を吐出するための吐出口を有する
塗布器と、被塗布部材を吸着保持する吸着盤と、塗布器
または被塗布部材の少なくとも一方を相対的に移動させ
る移動手段とを備えた塗布装置において、被塗布部材の
吸着盤からの脱着を吸着力減少によって行なう被塗布部
材脱着装置と、該被塗布部材脱着装置による被塗布部材
の脱着動作を、被塗布部材への塗膜塗形成後から複数回
行なわせる脱着制御手段を有することを特徴とする塗布
装置。
6. A supply unit for supplying a coating liquid, a coating device having a discharge port for discharging the coating liquid supplied from the supply unit, a suction disk for suction-holding a member to be coated, a coating device or a coating device. A coating device having moving means for relatively moving at least one of the coating members, wherein the coating member is attached to and detached from the suction disk by reducing the suction force; An application device, comprising: an attachment / detachment control unit for performing an attachment / detachment operation of a member to be applied a plurality of times after forming a coating film on the member to be applied.
【請求項7】 塗布液を供給する供給手段と、供給手段
から供給された塗布液を吐出するための吐出口を有する
塗布器と、被塗布部材を吸着保持する吸着盤と、塗布器
または被塗布部材の少なくとも一方を相対的に移動させ
る移動手段と、被塗布部材を吸着盤から離間して脱着す
る離間手段とを備えた塗布装置において、さらに離間手
段による被塗布部材の吸着盤からの脱着時に、最終離間
位置までの途中位置で一時停止を行なわせる離間制御手
段を有することを特徴とする塗布装置。
7. A supply device for supplying a coating liquid, a coating device having a discharge port for discharging the coating liquid supplied from the supply device, a suction plate for suction-holding a member to be coated, a coating device or a coating device. In a coating apparatus provided with a moving unit for relatively moving at least one of the coating members and a separating unit for separating and attaching the member to be applied to and from the suction disk, further detaching the member to be coated from the suction plate by the separation unit. A coating apparatus characterized in that the coating apparatus has separation control means for temporarily stopping at a position halfway to the final separation position.
【請求項8】 塗布液を供給する供給手段と、供給手段
から供給された塗布液を吐出するための吐出口を有する
塗布器と、被塗布部材を吸着保持する吸着盤と、塗布器
または被塗布部材の少なくとも一方を相対的に移動させ
る移動手段とを備えた塗布装置において、前記吸着盤の
被塗布部材吸着面には溝が配せられていることを特徴と
する塗布装置。
8. A supply device for supplying a coating liquid, an application device having a discharge port for discharging the application liquid supplied from the supply device, a suction plate for suction-holding a member to be coated, a coating device or a coating device. A coating device, comprising: a moving unit for relatively moving at least one of the coating members, wherein a groove is provided on a suction surface of the member to be coated of the suction disk.
【請求項9】 溝の吸着面に占める面積比率は3〜50
%の範囲にあることを特徴とする、請求項8に記載の塗
布装置
9. The area ratio of the groove to the suction surface is 3 to 50.
The coating device according to claim 8, wherein the coating ratio is in the range of%.
【請求項10】 塗布液を供給する供給手段と、供給手
段から供給された塗布液を吐出するための吐出口を有す
る塗布器と、塗布器または被塗布部材の少なくとも一方
を相対的に移動させる移動手段と、塗布器と被塗布部材
を近接する前に、被塗布部材の位置決めをする位置決め
手段とを備えた塗布装置において、前記位置決め手段は
被塗布部材の外縁に接する部材が上下方向に移動可能で
ある構成を有することを特徴とする塗布装置。
10. A supply unit for supplying a coating liquid, an applicator having a discharge port for discharging the coating liquid supplied from the supply unit, and at least one of the applicator and the member to be applied are relatively moved. In a coating apparatus including a moving unit and a positioning unit that positions the member to be coated before the coating device and the member to be coated are brought closer to each other, the positioning unit moves a member in contact with an outer edge of the member to be coated in a vertical direction. A coating apparatus having a configuration capable of being performed.
【請求項11】 請求項6〜10のいずれかに記載の塗
布装置を用いてカラーフィルターを製造することを特徴
とするカラーフィルターの製造装置。
11. A color filter manufacturing apparatus for manufacturing a color filter using the coating apparatus according to claim 6. Description:
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