JP2002311442A - Method for assembling liquid crystal substrate, its assembling device and liquid crystal supplying device - Google Patents

Method for assembling liquid crystal substrate, its assembling device and liquid crystal supplying device

Info

Publication number
JP2002311442A
JP2002311442A JP2001118362A JP2001118362A JP2002311442A JP 2002311442 A JP2002311442 A JP 2002311442A JP 2001118362 A JP2001118362 A JP 2001118362A JP 2001118362 A JP2001118362 A JP 2001118362A JP 2002311442 A JP2002311442 A JP 2002311442A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
substrate
agent
supplied
substrates
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001118362A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3557472B2 (en
Inventor
Yukihiro Kawasumi
幸宏 川隅
Shigeru Ishida
茂 石田
Satoshi Hachiman
聡 八幡
Takao Murayama
孝夫 村山
Akira Hirai
明 平井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Plant Technologies Ltd
Original Assignee
Hitachi Industries Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Industries Co Ltd filed Critical Hitachi Industries Co Ltd
Priority to JP2001118362A priority Critical patent/JP3557472B2/en
Publication of JP2002311442A publication Critical patent/JP2002311442A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3557472B2 publication Critical patent/JP3557472B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To produce a liquid crystal panel without irregularity of display. SOLUTION: One of two substrates 1a, 1b as sticking objects is held on a lower surface of a pressurizing plate 27, the other substrate is held on a table 9, a supply route of a liquid crystal agent to be supplied on the other substrate is made into inactive gas atmosphere and the liquid crystal agent is supplied there. And an interval of the respective faced substrates 1a, 1b is narrowed down and stuck together by an adhesive provided on either one of the respective substrates 1a, 1b.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶剤を介在させ
た貼り合わせ対象物たる基板同士を対向させて保持し、
その各基板の間隔を狭めて貼合せる液晶基板の組立方法
及びその組立装置及び液晶供給装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for holding substrates to be bonded together with a liquid crystal agent therebetween,
The present invention relates to a method of assembling a liquid crystal substrate that is bonded to a substrate while reducing the distance between the substrates, an assembling apparatus thereof, and a liquid crystal supply apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示パネルの製造には、透明電極や
薄膜トランジスタアレイが設けられた二枚のガラス基板
を、基板の周縁部に口字状に設けたシール剤や基板の外
周部の適宜な位置に塗布した接着剤で数μm程度の極め
て接近した間隔をもって貼り合わせ、その各基板と接着
剤(以下、「シール剤」ともいう。)で形成される空間
に液晶を封止するという工程がある。
2. Description of the Related Art In manufacturing a liquid crystal display panel, two glass substrates provided with a transparent electrode and a thin film transistor array are provided with a sealant provided in a square shape on the peripheral portion of the substrate or an appropriate outer peripheral portion of the substrate. A process of bonding the substrates with an adhesive applied to the positions at an extremely close interval of about several μm and sealing the liquid crystal in a space formed by each substrate and an adhesive (hereinafter, also referred to as a “sealant”). is there.

【0003】従来、その液晶の封止を行う際の基板貼り
合わせ方法としては、注入口を設けないようにシール剤
をクローズしたパターン(口字形)に描画した一方の基
板上に液晶を滴下しておく。そして、真空チャンバ内に
て他方の基板を一方の基板の上方に配置し、真空状態で
その他方の基板と一方の基板との間隔を狭めて加圧して
上下の基板を貼り合わせる、という特開昭62−890
25号公報に開示された方法がある。
[0003] Conventionally, as a method of bonding the substrates when sealing the liquid crystal, the liquid crystal is dropped on one of the substrates in which a sealing agent is drawn in a closed pattern (braille) so as not to provide an injection port. Keep it. Then, the other substrate is placed above the one substrate in a vacuum chamber, and the distance between the other substrate and the one substrate is reduced in a vacuum state and pressure is applied to bond the upper and lower substrates together. 62-890
There is a method disclosed in Japanese Patent Application Publication No. 25-255.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記特
開昭62−89025号公報に開示された方法では、液
晶剤を滴下する際の空気の巻き込みにより、空気中の水
分や不純物が貼り合わされた基板と液晶剤との間に閉じ
込められ、それが基板上に滴下痕として残ってしまう、
という不都合があった。また、その水分や不純物によっ
て、滴下した液晶剤の表面が酸化して滴下痕として残っ
てしまう、という不都合があった。そして、その滴下痕
によって、組み立てられた液晶パネルに色ムラの不良が
生じる、という不都合があった。
However, according to the method disclosed in the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-89025, the entrainment of air when the liquid crystal agent is dropped causes the substrate on which moisture and impurities in the air are bonded to each other. Between the liquid crystal agent and the liquid crystal agent, it remains as a drop mark on the substrate,
There was an inconvenience. In addition, there has been a disadvantage that the surface of the dropped liquid crystal agent is oxidized by the moisture and impurities and remains as a drop mark. Then, there is an inconvenience that a defect of color unevenness occurs in the assembled liquid crystal panel due to the dripping mark.

【0005】本発明は、かかる従来例の有する不都合を
改善し、液晶滴下時に滴下痕の発生を抑制することによ
って、表示ムラの無い液晶パネルが生産できる液晶基板
の組立方法及びその組立装置及び液晶供給装置を提供す
ることを、その目的とする。
The present invention solves the disadvantages of the prior art and suppresses the occurrence of drop marks when dropping liquid crystal, thereby assembling a liquid crystal substrate capable of producing a liquid crystal panel with no display unevenness, and an apparatus and an apparatus therefor. It is an object to provide a supply device.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成する為、
請求項1記載の発明では、貼り合わせ対象物たる二枚の
基板の内の一方の基板を加圧板の下面に保持すると共に
他方の基板をテーブル上に保持し、その他方の基板上に
液晶剤を供給した後、対向した各基板を各々の間隔を狭
めてその各基板の内の何れか一方に設けた接着剤で貼り
合わせる液晶基板の組立方法において、他方の基板上に
液晶剤を供給する際、この供給される液晶剤の供給経路
を不活性ガス雰囲気にした後で供給している。
In order to achieve the above object,
According to the first aspect of the present invention, one of the two substrates to be bonded is held on the lower surface of the pressing plate, the other substrate is held on the table, and the liquid crystal agent is placed on the other substrate. Is supplied, the liquid crystal agent is supplied onto the other substrate in the method of assembling a liquid crystal substrate in which the distance between the opposing substrates is reduced and the substrates are attached to one of the substrates with an adhesive. At this time, the liquid crystal agent is supplied after the supply path of the supplied liquid crystal agent is in an inert gas atmosphere.

【0007】請求項2記載の発明では、貼り合わせ対象
物たる二枚の基板の内の一方の基板を加圧板の下面に保
持すると共に他方の基板をテーブル上に保持し、その他
方の基板上に液晶剤を供給した後、対向した各基板を各
々の間隔を狭めてその各基板の内の何れか一方に設けた
接着剤で貼り合わせる液晶基板の組立方法において、他
方の基板上に液晶剤を供給する際、この供給される液晶
剤の供給経路を真空雰囲気にした後で供給している。
According to the second aspect of the present invention, one of the two substrates to be bonded is held on the lower surface of the pressing plate, the other substrate is held on the table, and the other substrate is held on the other substrate. After the liquid crystal agent is supplied to the liquid crystal substrate, the opposing substrates are narrowed to each other, and the substrates are bonded with an adhesive provided on one of the substrates. Is supplied after the supply path of the supplied liquid crystal agent is set in a vacuum atmosphere.

【0008】請求項3記載の発明では、貼り合わせ対象
物たる二枚の基板の内の一方の基板を加圧板の下面に保
持すると共に他方の基板をテーブル上に保持し、その他
方の基板上に液晶剤を供給した後、対向した各基板を各
々の間隔を狭めてその各基板の内の何れか一方に設けた
接着剤で貼り合わせる液晶基板の組立方法において、他
方の基板上に液晶剤を供給する際、この液晶剤を噴霧し
ている。
According to the third aspect of the invention, one of the two substrates to be bonded is held on the lower surface of the pressing plate, the other substrate is held on the table, and the other substrate is held on the other substrate. After the liquid crystal agent is supplied to the liquid crystal substrate, the opposing substrates are narrowed to each other, and the substrates are bonded with an adhesive provided on one of the substrates. When the liquid crystal is supplied, the liquid crystal agent is sprayed.

【0009】ここで、請求項4記載の発明では、前述し
た請求項3記載の液晶基板の組立方法において、液晶剤
の噴霧を、2流体ノズルから不活性ガスを他方の基板上
に吹き付けた後、その2流体ノズルから不活性ガスと液
晶剤を圧送して行っている。
According to a fourth aspect of the present invention, in the above-described method of assembling a liquid crystal substrate according to the third aspect, the spraying of the liquid crystal agent is performed after the inert gas is blown onto the other substrate from the two-fluid nozzle. The inert gas and the liquid crystal agent are pressure-fed from the two-fluid nozzle.

【0010】また、請求項5記載の発明では、前述した
請求項3又は4の内の何れか一つに記載の液晶基板の組
立方法において、液晶剤の供給後、2流体ノズルから不
活性ガスを噴霧して他方の基板上の液晶剤をその他方の
基板上の主面の広がり方向に拡散させている。
According to a fifth aspect of the present invention, in the method for assembling a liquid crystal substrate according to any one of the third or fourth aspects, the inert gas is supplied from the two-fluid nozzle after the liquid crystal agent is supplied. To diffuse the liquid crystal agent on the other substrate in the spreading direction of the main surface on the other substrate.

【0011】請求項6記載の発明では、貼り合わせ対象
物たる二枚の基板の内の一方の基板を保持する加圧板
と、各基板の内の他方の基板を保持し且つその他方の基
板を一方の基板に対向配置可能なテーブルと、他方の基
板上に液晶剤を供給する液晶供給機構とを備えた液晶基
板の組立装置において、液晶供給機構は、他方の基板上
に液晶剤を供給する液晶供給部と、この液晶供給部近傍
に配設した他方の基板までの間の供給される液晶剤の周
囲を不活性ガス雰囲気にする不活性ガスを供給する不活
性ガス供給部とを備えている。
In the invention according to claim 6, a pressure plate for holding one of the two substrates to be bonded, a holding plate for holding the other of the substrates, and a pressing plate for holding the other substrate are provided. In an apparatus for assembling a liquid crystal substrate including a table that can be arranged to face one substrate and a liquid crystal supply mechanism that supplies a liquid crystal agent to the other substrate, the liquid crystal supply mechanism supplies the liquid crystal agent to the other substrate A liquid crystal supply unit; and an inert gas supply unit that supplies an inert gas that makes an area around the liquid crystal agent supplied to the other substrate disposed near the liquid crystal supply unit an inert gas atmosphere. I have.

【0012】請求項7記載の発明では、液晶基板を製造
する際、液晶剤を基板上に供給する液晶供給装置におい
て、供給する液晶剤を内蔵するシリンジと、このシリン
ジ内の液晶剤を基板上に供給する液晶供給部と、この液
晶供給部の周囲に覆設するカバーと、このカバーの内側
に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部とを備えてい
る。
According to the present invention, in manufacturing a liquid crystal substrate, in a liquid crystal supply device for supplying a liquid crystal agent onto the substrate, a syringe containing the liquid crystal agent to be supplied and a liquid crystal agent in the syringe are supplied onto the substrate. A liquid crystal supply unit for supplying the liquid crystal, a cover covering the liquid crystal supply unit, and an inert gas supply unit for supplying an inert gas to the inside of the cover.

【0013】請求項8記載の発明では、液晶基板を製造
する際、液晶剤を基板上に供給する液晶供給装置におい
て、供給する液晶剤を内蔵するシリンジと、このシリン
ジ内に連通するマニホールドと、このマニホールド内に
連通する2流体ノズルと、そのマニホールド内に不活性
ガスを供給する不活性ガス供給部とを備えている。
According to the present invention, in manufacturing a liquid crystal substrate, in a liquid crystal supply apparatus for supplying a liquid crystal agent onto the substrate, a syringe containing the liquid crystal agent to be supplied, a manifold communicating with the syringe, A two-fluid nozzle communicating with the inside of the manifold and an inert gas supply unit for supplying an inert gas into the manifold are provided.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】本発明に係る液晶基板の組立装置
の第一実施形態について図1から図3に基づいて説明す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A first embodiment of an apparatus for assembling a liquid crystal substrate according to the present invention will be described with reference to FIGS.

【0015】本実施形態の液晶基板の組立装置の構成を
図1に示す。この液晶基板の組立装置は、大別すると、
液晶供給装置たる液晶滴下部S1と、上基板1bを保持
する加圧板27を備えると共にその上基板1bを下基板
1aに加圧する基板貼合部S2と、下基板1aを載置保
持するテーブル9を備えるXYθステージT1とから構
成される。ここで、液晶滴下部S1及び基板貼合部S2
は、架台2上に立設された複数の支持柱と各支持柱間を
横架する横架材とから成るフレーム3に支持されると共
に隣接して配置され、XYθステージT1は液晶滴下部
S1及び基板貼合部S2と架台2との間に移動自在に配
置される。以下、これら各構成について詳述する。
FIG. 1 shows the configuration of an apparatus for assembling a liquid crystal substrate according to this embodiment. This liquid crystal substrate assembling device can be roughly classified into
A liquid crystal dropping unit S1 as a liquid crystal supply device, a pressing plate 27 for holding the upper substrate 1b, a substrate bonding unit S2 for pressing the upper substrate 1b against the lower substrate 1a, and a table 9 for placing and holding the lower substrate 1a And an XYθ stage T1 having Here, the liquid crystal dropping part S1 and the substrate bonding part S2
Is supported by a frame 3 composed of a plurality of support columns erected on the gantry 2 and a horizontal member that bridges between the support columns, and is disposed adjacent to the frame 3. The XYθ stage T1 is a liquid crystal dropping unit S1 And it is movably arranged between the substrate bonding part S2 and the gantry 2. Hereinafter, each of these components will be described in detail.

【0016】液晶滴下部S1は、後述するテーブル9に
載置保持された下基板1a上(下基板1aの主面)に所
望量の液晶剤を滴下するディスペンサ17と、このディ
スペンサ17を保持すると共に上下方向(図1に示すZ
軸方向)に移動させるZ軸ステージ15と、このZ軸ス
テージ15の上下移動を付勢するモータ16とで構成さ
れる。このように構成された液晶滴下部S1は、基板貼
合部S2を支持する後述するフレーム3から突設された
ブラケット14でZ軸ステージ15を保持して支持され
る。
The liquid crystal dropping section S1 holds a dispenser 17 for dropping a desired amount of liquid crystal agent on a lower substrate 1a (main surface of the lower substrate 1a) mounted and held on a table 9 described later. Together with the vertical direction (Z shown in FIG. 1).
(Axial direction) and a motor 16 for urging the Z-axis stage 15 to move up and down. The liquid crystal dropping portion S1 configured as described above is supported while holding the Z-axis stage 15 by a bracket 14 protruding from a frame 3 described later that supports the substrate bonding portion S2.

【0017】ここで、そのディスペンサ17について図
3を用いて説明する。このディスペンサ17には、滴下
部周囲を覆うカバー17kと、このカバー17k内に不
活性ガス(例えば、窒素やアルゴンガス等)等を導入す
る為の配管(ホース)17hとが設けられている。ここ
で、このディスペンサ17には、図示しない圧力源(例
えばポンプ)とエアフィルタが接続されており、その圧
力源から送出された不活性ガスをエアフィルタを通すこ
とによって、ゴミ等の不純物を含まない不活性ガスが送
り込まれる。この送り込まれた不活性ガスは、流量調整
器17mにより流量調整され、制御部17iからの信号
により動作する電磁弁17nを介して配管17hを通
り、カバー17k内部に供給される。
Here, the dispenser 17 will be described with reference to FIG. The dispenser 17 is provided with a cover 17k that covers the periphery of the drip portion, and a pipe (hose) 17h for introducing an inert gas (for example, nitrogen or argon gas) into the cover 17k. Here, a pressure source (for example, a pump) and an air filter (not shown) are connected to the dispenser 17, and an inert gas sent from the pressure source is passed through the air filter to contain impurities such as dust. No inert gas is sent. The flow rate of the sent inert gas is adjusted by the flow rate adjuster 17m, and the inert gas is supplied to the inside of the cover 17k through the pipe 17h through the electromagnetic valve 17n operated by a signal from the control unit 17i.

【0018】一方、シリンジ17e内には液晶剤が納め
られている。ここで、この液晶剤に滴下用の圧力を加え
る為に、上記送り込まれた不活性ガスが圧力調整器17
bにて加圧調整されて所定の圧力でシリンジ17eに送
られている。その液晶剤の滴下は、プランジャ式(例え
ば、ノードソン社製のアキュラジェッターSシリーズ)
で行われる。具体的には、制御部17iからの信号によ
り動作する電磁弁17dが動作する間だけシリンジ17
e内の図示しないニードルが開くと共に、不活性ガスが
シリンジ17e内に送られて液晶剤の定量滴下が行われ
る。
On the other hand, a liquid crystal agent is contained in the syringe 17e. Here, in order to apply a dropping pressure to the liquid crystal agent, the sent inert gas is supplied to the pressure regulator 17.
The pressure is adjusted at b and sent to the syringe 17e at a predetermined pressure. The liquid crystal agent is dropped by a plunger type (for example, Acura Jetter S series manufactured by Nordson)
Done in Specifically, the syringe 17 only operates while the solenoid valve 17d operated by a signal from the control unit 17i operates.
When the needle (not shown) in e is opened, an inert gas is sent into the syringe 17e, and a fixed amount of the liquid crystal agent is dropped.

【0019】ここで、図1には示していないが、その液
晶剤滴下用のディスペンサ17の近くにはシール剤を吐
出する為のディスペンサが配設されている。このシール
剤吐出用のディスペンサは、液晶剤滴下用のディスペン
サ17と同様に図示しないブラケットを介してフレーム
3に固定されている。
Although not shown in FIG. 1, a dispenser for discharging a sealant is disposed near the dispenser 17 for dropping the liquid crystal agent. The dispenser for discharging the sealing agent is fixed to the frame 3 via a bracket (not shown), like the dispenser 17 for dropping the liquid crystal agent.

【0020】基板貼合部S2は、後述する下チャンバユ
ニット10と共に減圧チャンバを成す下方が開口した上
チャンバユニット21と、この上チャンバユニット21
内にシャフト29を介して配設され且つ吸引吸着機構及
び静電吸着機構を備えた加圧板27とから成り、それぞ
れが独立して上下動できる構造になっている。
The substrate bonding portion S2 includes an upper chamber unit 21 which forms a decompression chamber together with a lower chamber unit 10 which will be described later, and which has an open lower portion.
And a pressure plate 27 provided with a suction and suction mechanism and an electrostatic suction mechanism therein via a shaft 29, each of which is capable of independently moving up and down.

【0021】具体的に、上チャンバユニット21には複
数のシャフト29を挿通する図示しない貫通孔が各々形
成されている。そして、上チャンバユニット21の上部
には、その貫通孔とシャフト29との間の間隙を覆うと
共にそのシャフト29に覆設するリニアブッシュ及び真
空シールを内蔵したハウジング30と、本体をフレーム
3の横架材に固定すると共にその本体内にて上下方向に
往復移動する部材を上チャンバユニット21の上部に固
定するシリンダ22とが備えられる。このように構成す
ることで、上チャンバユニット21がシャフト29をガ
イドとしてシリンダ22により上下方向に移動する。
More specifically, the upper chamber unit 21 has through holes (not shown) through which a plurality of shafts 29 are inserted. On the upper part of the upper chamber unit 21, a housing 30 which covers a gap between the through hole and the shaft 29 and has a built-in linear bush and a vacuum seal which cover the shaft 29, And a cylinder 22 for fixing a member which is fixed to the frame and reciprocates vertically in the main body thereof to an upper portion of the upper chamber unit 21. With this configuration, the upper chamber unit 21 is moved up and down by the cylinder 22 using the shaft 29 as a guide.

【0022】上述したハウジング30の真空シールは、
上チャンバユニット21と下チャンバユニット10とが
合体して減圧チャンバを形成し、その際にハウジング3
0が変形しても貫通孔とシャフト29との間の間隙から
真空漏れを起こさないように内蔵される。これが為、減
圧チャンバの変形によってシャフト29に負荷が掛かっ
ても、その力を吸収することができる。また、シャフト
29の一端に固定された加圧板27の変形を防止でき、
後述するが如き各基板1a,1bの貼り合わせの際に、
加圧板27に保持された上基板1bとテーブル9に保持
された下基板1aとの平行を保って貼り合わせを行うこ
とができる。
The vacuum seal of the housing 30 described above
The upper chamber unit 21 and the lower chamber unit 10 are united to form a decompression chamber.
Even if 0 is deformed, it is built in so as not to cause a vacuum leak from the gap between the through hole and the shaft 29. Therefore, even if a load is applied to the shaft 29 due to the deformation of the decompression chamber, the force can be absorbed. Further, deformation of the pressure plate 27 fixed to one end of the shaft 29 can be prevented,
At the time of bonding the substrates 1a and 1b as described later,
The upper substrate 1b held by the pressure plate 27 and the lower substrate 1a held by the table 9 can be bonded while maintaining the parallelism.

【0023】ここで、上チャンバユニット21の下端部
(開口の周縁部)には、下チャンバユニット10と共に
減圧チャンバを形成した際にその減圧チャンバ内を気密
する為のフランジ21aが設けられている。
At the lower end (peripheral edge of the opening) of the upper chamber unit 21, there is provided a flange 21a for hermetically sealing the inside of the decompression chamber when the decompression chamber is formed together with the lower chamber unit 10. .

【0024】また、上チャンバユニット21の一方の側
部には、減圧チャンバ内を減圧する為に、減圧チャンバ
内に連通する配管ホース24と、この配管ホース24の
途中に配設された真空バルブ23と、配管ホース24に
接続された図示しない真空ポンプとが備えられる。
Further, on one side of the upper chamber unit 21, there is provided a piping hose 24 communicating with the pressure reducing chamber for reducing the pressure in the pressure reducing chamber, and a vacuum valve disposed in the middle of the piping hose 24. 23 and a vacuum pump (not shown) connected to the piping hose 24.

【0025】更に又、上チャンバユニット21の他方の
側部には、減圧された減圧チャンバ内を大気圧に戻す為
に、減圧チャンバ内に連通するガスパージバルブ25
と、このガスパージバルブ25に一端が接続されたガス
チューブ26と、このガスチューブ26の他端に接続さ
れた窒素やクリーンドライエアー等を送出する加圧ポン
プとが備えられる。
Further, on the other side of the upper chamber unit 21, a gas purge valve 25 communicating with the reduced pressure chamber is provided to return the reduced pressure inside the reduced pressure chamber to the atmospheric pressure.
And a gas tube 26 having one end connected to the gas purge valve 25 and a pressurizing pump connected to the other end of the gas tube 26 for sending out nitrogen or clean dry air.

【0026】ここで、上チャンバユニット21の上部に
は加圧板27に形成された図示しないマーク認識用孔を
通して各基板1a,1bの位置合わせマークを観測する
為の窓が複数設けられる。この場合、その位置合わせマ
ークの観測には、上チャンバユニット21の窓の上方に
配設された図示しない画像認識カメラが用いられ、この
画像認識カメラによって各基板1a,1bの位置合わせ
マークのずれを測定する。
Here, a plurality of windows are provided above the upper chamber unit 21 for observing alignment marks of the substrates 1a and 1b through mark recognition holes (not shown) formed in the pressure plate 27. In this case, an image recognition camera (not shown) disposed above the window of the upper chamber unit 21 is used to observe the alignment mark, and the image recognition camera shifts the alignment mark of each of the substrates 1a and 1b. Is measured.

【0027】続いて、加圧板27は、前述したが如くシ
ャフト29の一端に固定されている。ここで、このシャ
フト29の他端はハウジング31に固定されており、こ
のハウジング31の両側部に配設されたリニアガイド3
4とそのリニアガイド34に係合するフレーム3に設け
られたガイド部3aとによって、加圧板27の上下動が
可能な構造になっている。より具体的には、ハウジング
31の上部に配設されたハウジング32と、このハウジ
ング32の上面に配設された荷重計33と、上下方向に
螺刻された雌螺子部を有し且つその荷重計33の上部に
配設されたナットハウジング37と、このナットハウジ
ング37の雌螺子部にて回動自在に螺合するボールねじ
36と、このボールねじ36をその軸中心で回動する出
力軸を備えたモータ40とを有し、このモータ40を駆
動することによって加圧板27の上下動を行う。この場
合、モータ40は、フレーム3の上部に配設されたフレ
ーム35上のブラケット38に固定される。
Subsequently, the pressure plate 27 is fixed to one end of the shaft 29 as described above. Here, the other end of the shaft 29 is fixed to the housing 31, and the linear guides 3 arranged on both sides of the housing 31 are provided.
The pressing plate 27 can be moved up and down by the guide 4 and the guide portion 3a provided on the frame 3 that engages with the linear guide 34. More specifically, the housing 32 includes a housing 32 disposed on an upper portion of the housing 31, a load meter 33 disposed on an upper surface of the housing 32, and a female screw portion threaded in a vertical direction. A nut housing 37 disposed at the top of the total 33; a ball screw 36 rotatably screwed with a female thread portion of the nut housing 37; and an output shaft for rotating the ball screw 36 about its axis. And the motor 40 is provided, and the pressure plate 27 is moved up and down by driving the motor 40. In this case, the motor 40 is fixed to a bracket 38 on a frame 35 disposed above the frame 3.

【0028】このように構成することで、モータ40の
駆動によって上基板1bを保持した加圧板27を下降さ
せ、その上基板1bをテーブル9上の下基板1aに密着
させて貼り合わせに必要な加圧力を与えることができ
る。ここで、上述した荷重計33は加圧力センサとして
働き、逐次フィードバックされた信号に基づいてモータ
40を制御することで、各基板1a,1bに所望の加圧
力を与えることが可能になっている。
With this configuration, the pressure plate 27 holding the upper substrate 1b is lowered by driving the motor 40, and the upper substrate 1b is brought into close contact with the lower substrate 1a on the table 9 to perform the bonding required. Pressure can be applied. Here, the load meter 33 functions as a pressure sensor, and controls the motor 40 based on the sequentially fed-back signal, so that a desired pressure can be applied to each of the substrates 1a and 1b. .

【0029】以上の如く上下動する加圧板27には、前
述したように吸引吸着機構及び静電吸着機構が備えられ
る。この吸引吸着機構は、加圧板27の下面から形成さ
れた複数の図示しない吸引孔と、これら各吸引孔に連通
すると共に上チャンバユニット21に配設された吸引吸
着用継手41と、この吸引吸着用継手41に連通する吸
引チューブ42と、この吸引チューブ42に接続する図
示しない真空ポンプとで構成される。このように構成し
た吸引吸着機構は、大気下にあっては真空ポンプを駆動
して上基板1bを加圧板27の下面に真空吸着(或いは
吸引吸着)で密着保持する。
As described above, the pressure plate 27 that moves up and down is provided with the suction suction mechanism and the electrostatic suction mechanism as described above. The suction / suction mechanism includes a plurality of suction holes (not shown) formed from the lower surface of the pressure plate 27, a suction / suction joint 41 communicating with the suction holes, and provided in the upper chamber unit 21. The suction tube 42 is connected to the suction joint 41 and a vacuum pump (not shown) connected to the suction tube 42. The suction suction mechanism configured as described above drives the vacuum pump to hold the upper substrate 1b in close contact with the lower surface of the pressure plate 27 by vacuum suction (or suction suction) under the atmosphere.

【0030】続いて、静電吸着機構について説明する。
この静電吸着機構は、本実施形態にあっては略矩形の平
板電極から成り、加圧板27の下面の両端側に形成され
た二つの略矩形の凹部に各々嵌着される。また、その平
板電極は、その表面(加圧板27の下面側)が誘電体で
覆われており、この誘電体の主面が加圧板27の下面と
面一になるよう設けられる。このように加圧板27に配
設された平板電極は、夫々正負の直流電源に適宜なスイ
ッチを介して接続されている。これが為、各平板電極に
正或いは負の電圧が印加されると、上記誘電体の主面に
負或いは正の電荷が誘起される。そして、その電荷によ
って上基板1bに形成されている透明電極膜との間に発
生するクーロン力で上基板1bが加圧板27に静電吸着
される。ここで、各平板電極に印加する電圧は、同極で
もよいし、夫々異なる双極でもよい。
Next, the electrostatic attraction mechanism will be described.
In the present embodiment, the electrostatic attraction mechanism comprises a substantially rectangular flat plate electrode, and is fitted into two substantially rectangular recesses formed on both ends of the lower surface of the pressing plate 27. Further, the surface (the lower surface side of the pressing plate 27) of the plate electrode is covered with a dielectric, and the main surface of the dielectric is provided so as to be flush with the lower surface of the pressing plate 27. The plate electrodes provided on the pressing plate 27 in this manner are connected to positive and negative DC power supplies via appropriate switches. Therefore, when a positive or negative voltage is applied to each plate electrode, a negative or positive charge is induced on the main surface of the dielectric. The upper substrate 1b is electrostatically attracted to the pressing plate 27 by Coulomb force generated between the upper substrate 1b and the transparent electrode film formed on the upper substrate 1b by the electric charge. Here, the voltage applied to each plate electrode may be the same, or may be different from each other.

【0031】尚、その周囲が大気の場合は、前述した吸
引孔による吸引吸着を行った方がよい。その理由は、静
電吸着を行う場合、上基板1bと加圧板27の間に空気
層があると、静電気による放電現象が発生して上基板1
bや加圧板27を損傷してしまう。これが為、例えば上
基板1bを加圧板27に最初に密着保持するときは周囲
が大気下にあるので、先ず吸引吸着機構で吸着し、減圧
チャンバ内を減圧していって放電現象が発生しない程度
まで減圧されてから静電吸着を行うことが望ましい。
When the surrounding area is the atmosphere, it is better to perform the suction and suction by the suction hole described above. The reason is that, when performing electrostatic adsorption, if there is an air layer between the upper substrate 1b and the pressure plate 27, a discharge phenomenon due to static electricity occurs and the upper substrate 1b
b and the pressure plate 27 will be damaged. For this reason, for example, when the upper substrate 1b is first held in close contact with the pressurizing plate 27, the surroundings are under the atmosphere. It is desirable to perform the electrostatic adsorption after the pressure has been reduced to that level.

【0032】ここで、後述するが如く加圧板27にて上
基板1bを吸引吸着している状態で減圧チャンバ内を減
圧していくと、その吸着力が小さくなり上基板1bが落
下する虞がある。これが為、上チャンバユニット21に
は、加圧板27の僅か下の位置で上基板1bを受け止め
る受止爪60が設けられている。この受止爪60は、図
2に示すように、上基板1bの対角位置たる二つの角部
に対応して配設されており、上チャンバユニット21か
ら下方に向けて延設したシャフト59で釣り下げ保持さ
れる。
As will be described later, when the pressure in the decompression chamber is reduced while the upper substrate 1b is being suctioned and adsorbed by the pressure plate 27, the adsorbing force is reduced and the upper substrate 1b may fall. is there. For this reason, the upper chamber unit 21 is provided with a receiving claw 60 for receiving the upper substrate 1b at a position slightly below the pressing plate 27. As shown in FIG. 2, the receiving claws 60 are arranged corresponding to two diagonally opposite corners of the upper substrate 1 b, and a shaft 59 extending downward from the upper chamber unit 21. Is held down by

【0033】具体的には、図示しないが、上チャンバユ
ニット21に形成された貫通孔にシャフト59が挿通さ
れており、このシャフト59がその軸中心で回転し且つ
上下移動できるように構成されている。この場合、減圧
チャンバ内が真空漏れを起こさないようにシャフト59
に真空シールが覆設されている。上記回転はシャフト5
9の端部に接続された図示しない回転アクチェータによ
って、上下移動は同様にシャフト59の端部に接続され
た図示しない昇降アクチェータによって行われる。この
ようにシャフト59を回転又は上下移動させることによ
って、各基板1a,1bの貼り合わせを行ない、下基板
1a上に滴下された液晶剤を各基板1a,1bの主面の
広がり方向に拡張させる場合に邪魔にならぬように受止
爪60を退避させることができる。
More specifically, although not shown, a shaft 59 is inserted into a through hole formed in the upper chamber unit 21, and the shaft 59 is configured to rotate around its axis and move up and down. I have. In this case, the shaft 59 is prevented from causing a vacuum leak in the decompression chamber.
Is covered with a vacuum seal. The rotation is shaft 5
The up-and-down movement is performed by a not-shown elevating actuator similarly connected to the end of the shaft 59 by a rotary actuator (not shown) connected to the end of the shaft 9. By rotating or vertically moving the shaft 59 in this manner, the substrates 1a and 1b are attached to each other, and the liquid crystal agent dropped on the lower substrate 1a is expanded in the direction in which the main surfaces of the substrates 1a and 1b spread. In this case, the receiving claw 60 can be retracted so as not to be in the way.

【0034】次に、XYθステージT1について説明す
る。このXYθステージT1は、架台2上に配設された
Xステージ4aと、このXステージ4a上に配設された
Yステージ4bと、このYステージ4b上に配設された
θステージ4cと、このθステージ4c上に配設され且
つ下基板1aを載置保持するテーブル9と、Yステージ
4b上にプレート13を介して固定され且つ上チャンバ
ユニット21と共に減圧チャンバを成す上方が開口した
下チャンバユニット10とを有する。
Next, the XYθ stage T1 will be described. The XYθ stage T1 includes an X stage 4a disposed on the gantry 2, a Y stage 4b disposed on the X stage 4a, a θ stage 4c disposed on the Y stage 4b, a table 9 disposed on the θ stage 4c and holding and holding the lower substrate 1a, and a lower chamber unit fixed on the Y stage 4b via the plate 13 and having an open upper side forming a decompression chamber together with the upper chamber unit 21 And 10.

【0035】本実施形態のXステージ4aは、駆動モー
タ5によってYステージ4b,θステージ4c,テーブ
ル9並びに下チャンバユニット10を左右方向(図1中
のX軸方向)に、即ち液晶滴下部S1と基板貼合部S2
の下方にて往復移動できるよう構成される。また、Yス
テージ4bは、駆動モータ6によってθステージ4c,
テーブル9並びに下チャンバユニット10を前後方向
(図1中のY軸方向)に移動できるよう構成される。更
に又、θステージ4cは、回転ベアリング7を介し駆動
モータ8によってYステージ4bに対して図1に示すθ
方向に回転するよう構成される。ここで、θステージ4
cは、下チャンバユニット10に対し回転ベアリング1
1と真空シール12を介して回転自在に取付けられてお
り、これによりθステージ4cが回転しても下チャンバ
ユニット10がつられて回転しない構造となっている。
In the X stage 4a of this embodiment, the drive stage 5 drives the Y stage 4b, the .theta. Stage 4c, the table 9, and the lower chamber unit 10 in the left-right direction (X-axis direction in FIG. 1), that is, the liquid crystal dropping portion S1. And substrate bonding part S2
It is configured to be able to reciprocate below. The Y stage 4b is driven by the drive motor 6 to drive the θ stage 4c,
The table 9 and the lower chamber unit 10 are configured to be movable in the front-rear direction (the Y-axis direction in FIG. 1). Further, the .theta. Stage 4c is moved relative to the Y stage 4b by a drive motor 8 via a rotary bearing 7 as shown in FIG.
It is configured to rotate in a direction. Here, θ stage 4
c is the rotation bearing 1 for the lower chamber unit 10.
1 and a vacuum seal 12 so as to be rotatable, so that even when the θ stage 4c rotates, the lower chamber unit 10 is suspended and does not rotate.

【0036】ここで、下基板1aはテーブル9上で重力
方向に載置されているので、その下基板1aの位置決め
を図る為に、テーブル9には、図2に示すように、下基
板1aの隣り合う二つの周縁部に対応して各々配設され
た複数の位置決め部材81と、下基板1aの残りの二つ
の周縁部に対応して各々配設された複数の押付ローラ8
2とを有する位置決め機構が備えられる。この押付ロー
ラ82は、例えば図2に示す矢印方向にテーブル9上を
移動できるよう構成されており、各押付ローラ82で下
基板1aを位置決め部材81に押付けることによって、
その下基板1aの水平方向(テーブル9の面方向)の位
置決めを行うと共にテーブル9上での保持を行う。
Here, since the lower substrate 1a is placed on the table 9 in the direction of gravity, in order to position the lower substrate 1a, as shown in FIG. And a plurality of pressing rollers 8 respectively provided corresponding to the remaining two peripheral portions of the lower substrate 1a.
2 is provided. The pressing roller 82 is configured to be able to move on the table 9 in the direction of an arrow shown in FIG. 2, for example, and by pressing the lower substrate 1 a against the positioning member 81 with each pressing roller 82.
The lower substrate 1a is positioned in the horizontal direction (the surface direction of the table 9) and is held on the table 9.

【0037】しかしながら、各基板1a,1bを貼り合
わせる直前の微小位置決めの際に、上基板1bが下基板
1a上のシール剤や液晶剤と接触した影響で下基板1a
がずれたり持上がる虞がある。又は、減圧チャンバ内を
減圧する際に、その減圧過程で下基板1aとテーブル9
との間に入り込んでいる空気が逃げ、これにより下基板
1aが踊ってずれてしまう虞がある。これが為、そのテ
ーブル9にあっても、前述した加圧板27と同様に構成
された吸引吸着機構及び静電吸着機構が備えられてお
り、これによりテーブル9上に下基板1aが密着保持さ
れる。
However, at the time of fine positioning immediately before bonding the substrates 1a and 1b, the lower substrate 1a is brought into contact with the sealant or liquid crystal agent on the lower substrate 1a due to the influence of the upper substrate 1b.
There is a possibility that it will shift or lift. Alternatively, when the pressure inside the decompression chamber is reduced, the lower substrate 1a and the table
There is a possibility that the air that has entered between them escapes, and this causes the lower substrate 1a to dance and shift. For this reason, the table 9 is also provided with a suction suction mechanism and an electrostatic suction mechanism configured in the same manner as the above-described pressure plate 27, whereby the lower substrate 1a is closely held on the table 9. .

【0038】ここで、そのテーブル9には、下基板1a
の載置面から突出可能であり且つ上下方向に移動自在な
図示しないピンが複数配設される。このようにピンを設
けることによって、各ピンを上昇させて貼り合わせ後の
基板を押し上げることができ、これによりテーブル9か
らの取り出しを容易にしている。また、例えば各ピンを
上昇させた際にテーブル9に当接させることで接地状態
にし、貼り合わせ後の基板の除電を行なうことができ
る。
Here, the table 9 includes the lower substrate 1a.
A plurality of pins (not shown) that can protrude from the mounting surface and are movable in the vertical direction are provided. By providing the pins in this manner, each pin can be raised to push up the bonded substrate, thereby facilitating removal from the table 9. In addition, for example, when each pin is raised, the pin is brought into contact with the table 9 so as to be in a ground state, and the substrate after the bonding can be neutralized.

【0039】続いて、下チャンバユニット10には、上
端部(開口の周縁部)に配設されたOリング44と、こ
のOリング44の外側に配設されたボールベアリング8
7とが備えられる。このようにOリング44を設けてい
るので、後述するが如く上チャンバユニット21を下降
させてそのフランジ21aをOリング44に当接させた
際に、各チャンバユニット10,21が一体となり、減
圧チャンバとして機能させることができる。また、ボー
ルベアリング87は、減圧チャンバを減圧した際のOリ
ング44のつぶれ量を調整する為に、上下方向の任意の
位置に設定できるよう構成される。このようにボールベ
アリング87の位置を適宜調整することによって、減圧
により掛かる大きな力を、ボールベアリング87を介し
て下チャンバユニット10で受けることができる。そし
て、このようなボールベアリング87が配設されること
によってOリング44の弾性変形が可能となるので、後
述する貼り合わせ時に、XYθステージT1をOリング
44の弾性範囲内で容易に微動させ精密に位置決めする
ことができる。
Subsequently, the lower chamber unit 10 has an O-ring 44 provided at the upper end (peripheral edge of the opening) and a ball bearing 8 provided outside the O-ring 44.
7 is provided. Since the O-ring 44 is provided in this manner, when the upper chamber unit 21 is lowered and the flange 21a is brought into contact with the O-ring 44 as described later, the chamber units 10 and 21 are integrated, and the pressure is reduced. It can function as a chamber. Further, the ball bearing 87 is configured to be able to be set at an arbitrary position in the vertical direction in order to adjust the amount of collapse of the O-ring 44 when the pressure in the pressure reducing chamber is reduced. By appropriately adjusting the position of the ball bearing 87 in this manner, a large force applied by decompression can be received by the lower chamber unit 10 via the ball bearing 87. Since the O-ring 44 can be elastically deformed by disposing such a ball bearing 87, the XYθ stage T1 can be easily finely moved within the elastic range of the O-ring 44 during bonding, which will be described later. Can be positioned.

【0040】次に、本実施形態の液晶基板の組立装置の
動作を説明する。
Next, the operation of the liquid crystal substrate assembling apparatus of this embodiment will be described.

【0041】先ず、テーブル9に上基板1bを保持した
治具を図示しない移載機のハンドを用いて載置した後、
駆動モータ5を駆動してXステージ4aを動かし、XY
θステージT1を基板貼合部S2の下に移動させる。そ
して、モータ40を駆動して加圧板27を下降させ、テ
ーブル9上の上基板1bを加圧板27に吸引吸着する。
しかる後、モータ40を駆動して加圧板27を上昇さ
せ、その加圧板27に上基板1bを保持した状態で待機
させる。
First, a jig holding the upper substrate 1b is placed on the table 9 by using a hand of a transfer machine (not shown).
By driving the drive motor 5 to move the X stage 4a,
stage θ1 is moved below the substrate bonding portion S2. Then, the motor 40 is driven to lower the pressure plate 27, and the upper substrate 1 b on the table 9 is suction-adsorbed to the pressure plate 27.
Thereafter, the motor 40 is driven to raise the pressure plate 27, and the pressure plate 27 is kept on standby while holding the upper substrate 1b.

【0042】上基板1bの加圧板27への保持が終了す
ると、駆動モータ5を駆動してXYθステージT1を液
晶滴下部S1の下に移動する。そして、テーブル9から
空になった治具を外してそのテーブル9上に移載機のハ
ンドを用いて下基板1aを載置し、この下基板1aを前
述した図2に示す位置決め部材81と押付ローラ82で
位置決めして保持する。
When the holding of the upper substrate 1b on the pressure plate 27 is completed, the drive motor 5 is driven to move the XYθ stage T1 below the liquid crystal dropping portion S1. Then, the vacant jig is removed from the table 9 and the lower substrate 1a is placed on the table 9 using the hand of the transfer machine, and the lower substrate 1a is connected to the positioning member 81 shown in FIG. It is positioned and held by the pressing roller 82.

【0043】テーブル9上に下基板1aが保持される
と、各駆動モータ5,6を駆動し、Xステージ4aとY
ステージ4bを動かしてXYθステージT1をX軸,Y
軸方向に移動させながらシール剤吐出用のディスペンサ
から下基板1a上にシール剤を吐出する。その際、下基
板1a上にはクローズしたパターン(例えば口字形)で
シール剤が塗布される。このようにしてシール剤を塗布
した後、そのシール剤から成る枠内にディスペンサ17
から液晶剤を必要量だけ滴下する。この場合、Xステー
ジ4aとYステージ4bを動かしてXYθステージT1
をX軸,Y軸方向に移動させながら、ディスペンサ17
のカバー17k内に不活性ガスを供給して下基板1a上
の任意の複数箇所に所望量の液晶剤を滴下する。
When the lower substrate 1a is held on the table 9, the drive motors 5 and 6 are driven, and the X stage 4a and the Y stage
Move the stage 4b to move the XYθ stage T1 to the X axis, Y
The sealant is discharged onto the lower substrate 1a from the sealant discharge dispenser while moving in the axial direction. At this time, a sealant is applied on the lower substrate 1a in a closed pattern (for example, a square shape). After applying the sealant in this manner, the dispenser 17 is placed in a frame made of the sealant.
The required amount of the liquid crystal agent is dropped. In this case, the X stage 4a and the Y stage 4b are moved to move the XYθ stage T1.
Is moved in the X-axis and Y-axis directions,
An inert gas is supplied into the cover 17k, and a desired amount of the liquid crystal agent is dropped on a plurality of arbitrary locations on the lower substrate 1a.

【0044】ここで、説明を省略したが、上基板1b又
は下基板1aには予めスペーサが散布され,若しくは貼
付けられている。この場合のスペーサとは、各基板1
a,1bを貼り合わせる際に、その各基板1a,1b間
の隙間が所定量以下とならないようにするものである。
尚、そのスペーサを液晶剤に混入しておき、液晶塗布と
共にスペーサの散布を行ってもよい。
Here, although the description is omitted, spacers are previously scattered or attached to the upper substrate 1b or the lower substrate 1a. In this case, the spacer means each substrate 1
When the substrates 1a and 1b are bonded together, the gap between the substrates 1a and 1b is prevented from being smaller than a predetermined amount.
The spacers may be mixed in a liquid crystal agent, and the spacers may be sprayed together with the liquid crystal application.

【0045】前述したが如く液晶剤が必要量だけ滴下さ
れた後、駆動モータ5を駆動してXYθステージT1を
基板貼合せ部S2の下の所定位置に移動する。そして、
XYθステージT1が停止すると、シリンダ22を作動
させて上チャンバユニット21を下降させ、そのフラン
ジ部21aをOリング44に当接させる。これにより、
下チャンバユニット10と上チャンバユニット21とか
ら成る減圧チャンバが形成される。
After the required amount of the liquid crystal agent has been dropped as described above, the drive motor 5 is driven to move the XYθ stage T1 to a predetermined position below the substrate bonding section S2. And
When the XYθ stage T1 is stopped, the cylinder 22 is operated to lower the upper chamber unit 21, and the flange portion 21a is brought into contact with the O-ring 44. This allows
A decompression chamber including the lower chamber unit 10 and the upper chamber unit 21 is formed.

【0046】減圧チャンバが形成された後、真空バルブ
23を開放して減圧チャンバ内を減圧していく。その
際、前述したが如く上基板1bは加圧板27に吸引吸着
された状態である為、減圧チャンバ内の減圧が進み真空
化していくと上基板1bに作用していた吸引吸着力が徐
々に小さくなってその上基板1bを保持できなくなり、
上基板1bが自重で落下する。これが為、前述した回転
アクチェータや昇降アクチェータによって図2に示す受
止爪60を動かし、上基板1bを受止爪60で受け止め
て加圧板27の僅かに下の位置に保持する。
After the decompression chamber is formed, the pressure in the decompression chamber is reduced by opening the vacuum valve 23. At this time, as described above, since the upper substrate 1b is in a state of being suction-adsorbed to the pressure plate 27, as the pressure in the decompression chamber advances and the pressure is reduced, the suction-adsorption force acting on the upper substrate 1b gradually increases. Becomes too small to hold the substrate 1b,
The upper substrate 1b falls under its own weight. For this reason, the receiving claw 60 shown in FIG. 2 is moved by the above-described rotary actuator or the lifting / lowering actuator, and the upper substrate 1b is received by the receiving claw 60 and held at a position slightly below the pressing plate 27.

【0047】減圧チャンバ内が充分減圧された時点で、
加圧板27に設けた静電吸着機構に電圧を印加し、受止
爪60上にある上基板1bを加圧板27にクーロン力で
保持する。その際、減圧チャンバ内は既にかなり減圧さ
れており、加圧板27と上基板1bの間に空気が残って
いないので、静電気による放電が発生しない。また、空
気が逃げるときに発生する上基板1bの踊りもない。
When the pressure in the decompression chamber is sufficiently reduced,
A voltage is applied to the electrostatic attraction mechanism provided on the pressing plate 27, and the upper substrate 1 b on the receiving claw 60 is held on the pressing plate 27 by Coulomb force. At this time, the inside of the decompression chamber has been considerably depressurized, and no air remains between the pressurizing plate 27 and the upper substrate 1b, so that no discharge due to static electricity occurs. Also, there is no dancing of the upper substrate 1b which occurs when air escapes.

【0048】上基板1bが静電吸着されると、シャフト
59を昇降アクチェータで下降させ且つ回転アクチェー
タで回転させて、受止爪60を各基板1a,1bの貼り
合わせの邪魔にならぬように待避させる。そして、モー
タ40を駆動して加圧板27を下降させ、上基板1bを
下基板1aに接近させる。しかる後、画像認識カメラを
用いて各基板1a,1bに設けた位置合わせマークを読
み取って画像処理で位置ずれの測定を行い、この測定値
に基づきXステージ4a,Yステージ4b並びにθステ
ージ4cの動作制御を行ってテーブル9を微動させ、下
基板1aと上基板1bとの高精度な位置合わせを行う。
ここで、下チャンバユニット10には前述したが如きボ
ールベアリング87が配設されているので、その微動の
際にボールベアリング87が各チャンバユニット10、
21の間隔を維持でき、Oリング44を極端に変形させ
ないで真空状態(減圧状態)を維持することができる。
When the upper substrate 1b is electrostatically attracted, the shaft 59 is lowered by the lifting actuator and rotated by the rotating actuator so that the receiving claw 60 does not hinder the bonding of the substrates 1a and 1b. Evacuate. Then, the motor 40 is driven to lower the pressure plate 27 to bring the upper substrate 1b closer to the lower substrate 1a. Thereafter, the alignment marks provided on each of the substrates 1a and 1b are read by using an image recognition camera, and the positional deviation is measured by image processing. Based on the measured values, the X stage 4a, the Y stage 4b, and the θ stage 4c are measured. The operation control is performed to finely move the table 9, and the lower substrate 1a and the upper substrate 1b are aligned with high accuracy.
Here, since the lower chamber unit 10 is provided with the ball bearing 87 as described above, the ball bearing 87 is attached to each of the chamber units 10,
21 can be maintained, and the vacuum state (decompressed state) can be maintained without excessively deforming the O-ring 44.

【0049】その位置合わせが終了すると、加圧板27
を更に下降させ、上基板1bの下面を下基板1a上のシ
ール剤に接触させる。その際、荷重計33でシール剤に
掛かる加圧力を計測しながらモータ40の駆動力を制御
して各基板1a,1bを所望間隔に貼り合わせる。この
場合、上基板1bは加圧板27に静電吸着力により密着
している為その中央部が垂れ下がることはない。従っ
て、液晶剤中のスペーサに悪影響を与えたり、基板1
a,1b同士の位置合せ不良が生じることはない。
When the positioning is completed, the pressing plate 27
Is further lowered to bring the lower surface of the upper substrate 1b into contact with the sealant on the lower substrate 1a. At this time, the driving force of the motor 40 is controlled while measuring the pressing force applied to the sealant by the load meter 33, and the substrates 1a and 1b are bonded at desired intervals. In this case, since the upper substrate 1b is in close contact with the pressing plate 27 by the electrostatic attraction force, the central portion does not hang down. Therefore, the spacers in the liquid crystal agent are adversely affected, or the substrate 1
A misalignment between a and 1b does not occur.

【0050】ここで、貼り合わせる基板の面積が大きく
なると、前述した加圧力による貼り合わせだけでは十分
にシール剤を潰すことができない。これが為、その加圧
力による貼り合わせ(予備加圧)が終了すると、加圧板
27の静電吸着を解除し、シリンダ22を動作して上チ
ャンバユニット21を上昇させる。そして、真空バルブ
23を締めてガスパージバルブ25を開き、真空チャン
バ内に窒素ガスやクリーンドライエアーを供給して大気
圧に戻す。このように真空チャンバ内を大気圧に戻すこ
とによって液晶基板面に圧力を加え、所望の厚みに確実
に貼り合わせる(本加圧)。
Here, when the area of the substrates to be bonded becomes large, the sealing agent cannot be sufficiently crushed only by the above-mentioned bonding by the pressing force. Therefore, when bonding (preliminary pressurization) by the pressurizing force is completed, the electrostatic attraction of the pressurizing plate 27 is released, and the cylinder 22 is operated to raise the upper chamber unit 21. Then, the vacuum valve 23 is closed, the gas purge valve 25 is opened, and nitrogen gas or clean dry air is supplied into the vacuum chamber to return to the atmospheric pressure. By returning the pressure in the vacuum chamber to the atmospheric pressure, pressure is applied to the liquid crystal substrate surface, and the liquid crystal substrate is securely bonded to a desired thickness (main pressure).

【0051】ここで、真空チャンバ内圧力を真空状態か
ら大気圧へと変化させた際に、基板1a,1b間におけ
る液晶剤間の空間部分が真空状態である為、各基板1
a,1bには略均一にその外部から大きな圧力が加わ
る。例えば各基板1a,1b間の空間部分が真空状態の
ときに大気圧を加えると121.6kNの力を掛けるこ
とができる。上記本加圧は、その各基板1a,1bに掛
かる圧力を利用して貼り合わせを行うものである。
Here, when the pressure in the vacuum chamber is changed from the vacuum state to the atmospheric pressure, the space between the liquid crystal agents between the substrates 1a and 1b is in a vacuum state.
A large pressure is applied to a and 1b almost uniformly from the outside. For example, when atmospheric pressure is applied when the space between the substrates 1a and 1b is in a vacuum state, a force of 121.6 kN can be applied. The main pressing is performed by using the pressure applied to each of the substrates 1a and 1b.

【0052】貼り合わせが終了すると、ガスパージバル
ブ25を閉じ、XYθステージT1を液晶滴下部S1の
下に戻してテーブル9から貼り合わせた基板を移載機の
ハンドで取り出し、次の基板の貼り合わせに備える。そ
の取り出された貼り合わせ後の基板は、下流のUV光照
射装置や加熱装置等に送られてシール剤の硬化が行われ
る。
When the bonding is completed, the gas purge valve 25 is closed, the XYθ stage T1 is returned below the liquid crystal dropping portion S1, and the bonded substrate is taken out of the table 9 with the hand of the transfer machine, and the next substrate is bonded. Prepare for. The removed substrate after bonding is sent to a downstream UV light irradiation device, a heating device, or the like, where the sealing agent is cured.

【0053】以上示したが如く、本実施形態にあっては
シール剤を塗布し、更に不活性ガス雰囲気又は真空雰囲
気中で液晶剤を滴下した後直ちに貼り合わせ工程に移行
することができるので、貼り合わせ前の基板に塵埃が付
着し難い。そしてこれが為、貼り合わせ後の基板にて前
述した従来例の如き滴下痕等に起因する不良品が発生し
難く、生産時の歩留まり向上を図ることができる。ま
た、下基板1aを保持したままXYθステージT1を移
動し、その下基板1aを上基板1bに加圧することで基
板面全体に液晶剤を広げるので、下基板1aへの液晶剤
の供給箇所を減らすことができ且つ供給量のばらつきを
小さくすることができる。即ち、液晶剤の拡張を貼り合
わせる基板同士で行うので、短時間で液晶剤供給工程か
ら貼り合わせ工程に進むことができ、生産性が向上す
る。
As described above, in the present embodiment, the sealing agent is applied, and the liquid crystal agent is dropped in an inert gas atmosphere or a vacuum atmosphere. Dust hardly adheres to the substrate before bonding. As a result, defective products due to drop marks and the like as in the above-described conventional example are unlikely to occur on the bonded substrate, and the yield during production can be improved. The XYθ stage T1 is moved while holding the lower substrate 1a, and the lower substrate 1a is pressed against the upper substrate 1b to spread the liquid crystal agent over the entire substrate surface. It is possible to reduce the supply amount and to reduce the variation in the supply amount. That is, since the expansion of the liquid crystal agent is performed between the substrates to be bonded, it is possible to proceed from the liquid crystal agent supply step to the bonding step in a short time, and the productivity is improved.

【0054】また、液晶剤の供給量のばらつきを小さく
することができる,即ちディスペンサ17から不活性ガ
スを供給して正確な量の液晶剤を供給することができる
ので、液晶剤の無駄な消費を無くすことができ、且つ液
晶剤がシール剤のパターンの外側に溢れて基板を汚染す
る虞がなくなる。この場合、汚染された基板の洗浄工程
が不要となるので、更なる生産性の向上を図ることがで
きる。
Further, the variation in the supply amount of the liquid crystal agent can be reduced. That is, since an accurate amount of the liquid crystal agent can be supplied by supplying the inert gas from the dispenser 17, wasteful consumption of the liquid crystal agent can be achieved. And there is no possibility that the liquid crystal agent overflows outside the pattern of the sealant and contaminates the substrate. In this case, the step of cleaning the contaminated substrate becomes unnecessary, so that the productivity can be further improved.

【0055】更に又、下基板1aを載置保持するXYθ
ステージT1を上基板1bの上チャンバユニット21へ
の搬送に利用できるので、上基板1b搬送用の他の機構
を設けなくてもよく、組立装置の小型化を図ることがで
きる。
Further, XYθ for placing and holding the lower substrate 1a
Since the stage T1 can be used for transporting the upper substrate 1b to the upper chamber unit 21, another mechanism for transporting the upper substrate 1b does not need to be provided, and the size of the assembling apparatus can be reduced.

【0056】尚、本発明は、必ずしも上記実施形態の態
様に限定するものではなく、以下の如く実施してもよ
い。 (1)下基板1bに滴下された液晶剤は、本実施形態の
如き点状以外の形状,例えば線状等であってもよい。 (2)液晶剤を拡張させる基板同士の相対的移動方向
は、液晶剤がシール剤のパターンを超えて外部に漏れな
い範囲であれば、円形や渦巻き型等の如何様なものであ
ってもよい。 (3)上基板1bは、XYθステージT1に搭載せず
に、本実施形態にてXYθステージT1に搭載する為に
使用される移載機のハンドから直接加圧板27に搬送し
て吸引吸着させてよい。 (4)本実施形態にあっては、ディスペンサ17の周囲
をカバー17kで囲い、局所的に不活性ガスを供給する
方式を例示したが、組立装置全体を不活性ガス雰囲気の
チャンバー内に配設したり、減圧チャンバー内に配設し
たりすることで、液晶剤滴下雰囲気を不活性ガスや真空
(減圧)状態にしてもよい。 (5)本実施形態にあっては、下基板1aにシール剤を
塗布する場合について例示したが、上基板1bに塗布し
てもよい。但し、この場合は、上基板1bにシール剤を
塗布した後、上基板1bを反転させる工程が必要となる
ので、どちらの基板にシール剤を塗布するかについて適
宜選択することが望ましい。
It should be noted that the present invention is not necessarily limited to the mode of the above embodiment, but may be implemented as follows. (1) The liquid crystal agent dropped on the lower substrate 1b may have a shape other than the dot shape as in the present embodiment, for example, a linear shape. (2) The relative movement direction of the substrates for expanding the liquid crystal agent is not limited to a circular or spiral type as long as the liquid crystal agent does not leak outside beyond the pattern of the sealant. Good. (3) The upper substrate 1b is not directly mounted on the XYθ stage T1, but is directly conveyed to the pressing plate 27 from the hand of the transfer machine used for mounting on the XYθ stage T1 in this embodiment, and is suction-adsorbed. May be. (4) In the present embodiment, a system in which the periphery of the dispenser 17 is surrounded by the cover 17k and the inert gas is locally supplied is exemplified. However, the entire assembling apparatus is disposed in a chamber in an inert gas atmosphere. Alternatively, the liquid crystal agent dropping atmosphere may be set to an inert gas or a vacuum (reduced pressure) state by disposing in a decompression chamber. (5) In the present embodiment, the case where the sealant is applied to the lower substrate 1a is described as an example, but the sealant may be applied to the upper substrate 1b. However, in this case, since a step of inverting the upper substrate 1b after applying the sealant to the upper substrate 1b is required, it is desirable to appropriately select which substrate is to be applied with the sealant.

【0057】次に、本発明に係る液晶基板の組立装置の
第二実施形態について説明する。ここで、以下に示す符
号の内の前述した第一実施形態と同一の符号は、その第
一実施形態の構成と同一のものを示す。
Next, a second embodiment of the liquid crystal substrate assembling apparatus according to the present invention will be described. Here, among the reference numerals shown below, the same reference numerals as those of the above-described first embodiment indicate the same components as those of the first embodiment.

【0058】本実施形態と第一実施形態とで異なる点
は、その第一実施形態にあっては液晶剤の滴下を不活性
ガス又は真空雰囲気中で行うようにしたが、本実施形態
にあっては下基板1aの液晶滴下面における滴下痕を更
に少なくする為、液晶剤を噴霧するようにした点にあ
る。そして、これによりその滴下痕が液晶パネルの表示
に影響を及ぼさなくなる。また、第一実施形態にあって
は基板貼り合わせ時に液晶剤を広げる方式であったが、
本実施形態にあっては貼り合わせ前に液晶剤を広げる方
式としている点も異なる。
The difference between the present embodiment and the first embodiment is that in the first embodiment, the liquid crystal agent is dropped in an inert gas or a vacuum atmosphere. In other words, the liquid crystal agent is sprayed in order to further reduce the trace of dropping on the liquid crystal dropping surface of the lower substrate 1a. As a result, the drop marks do not affect the display on the liquid crystal panel. Further, in the first embodiment, the liquid crystal agent is spread at the time of bonding the substrates.
The present embodiment is also different in that the liquid crystal agent is spread before bonding.

【0059】本実施形態に係る組立装置の構成は、以下
の点を除いて第一実施形態の構成と同一である。その異
なる点とは、第一実施形態のディスペンサ17に替えて
図4に示す他のディスペンサ47を設け、液晶剤や不活
性ガスを後述する2流体ノズル47a(例えば、霧のい
けうち社製、2流体ノズルBIMV4502)から噴霧するよう
にした点にある。例えば、本実施形態にあっては粒子が
10μm程度の噴霧を行う。
The configuration of the assembling apparatus according to this embodiment is the same as that of the first embodiment except for the following points. The difference is that another dispenser 47 shown in FIG. 4 is provided in place of the dispenser 17 of the first embodiment, and a liquid-liquid agent and an inert gas are supplied to a two-fluid nozzle 47a described later (for example, The point is that the fluid is sprayed from the fluid nozzle BIMV4502). For example, in the present embodiment, spraying of particles having a size of about 10 μm is performed.

【0060】このディスペンサ47は、第一実施形態の
ディスペンサ17と同様に、液晶剤が納められたシリン
ジ47eと、後述するが如く送り込まれた不活性ガスの
圧力を加圧調整する第一圧力調整器47bと、この第一
圧力調整器47bから送出された不活性ガスをシリンジ
47e内に導く配管47hと、制御部47iからの信
号により動作する第一電磁弁47dとを有する。
Like the dispenser 17 of the first embodiment, the dispenser 47 includes a syringe 47e containing a liquid crystal agent and a first pressure adjusting device for increasing the pressure of the inert gas fed thereto as described later. It has a vessel 47b, a pipe 47h 1 for guiding the inert gas delivered from the first pressure regulator 47b into the syringe 47e, and a first solenoid valve 47d which is operated by a signal from the control unit 47i.

【0061】また、このディスペンサ47には、シリン
ジ47eの先端部に配設されたそのシリンジ47eの内
部と連通する接続部材47fと、この接続部材47fを
介してシリンジ47eの内部と連通するマニホールド4
7gと、後述するが如く送り込まれた不活性ガスの流量
調整を行う第二圧力調整器47mと、この第二圧力調整
器47mから送出された不活性ガスを制御部47iから
の信号により動作する第二電磁弁47nを介してマニホ
ールド47g内に供給する配管47hと、マニホール
ド47gに供給された液晶剤及び不活性ガスを吐出する
2流体ノズル47aとが設けられている。この場合、第
一電磁弁47dと第二電磁弁47nは、制御部47iに
よって個別に動作制御が可能である。
The dispenser 47 has a connecting member 47f provided at the distal end of the syringe 47e and communicating with the inside of the syringe 47e, and a manifold 4 communicating with the inside of the syringe 47e via the connecting member 47f.
7g, a second pressure regulator 47m for adjusting the flow rate of the inert gas sent as described later, and the inert gas sent from the second pressure regulator 47m operated by a signal from the control unit 47i. a pipe 47h 1 supplied into the manifold 47g through the second solenoid valve 47n, the two-fluid nozzle 47a for discharging a liquid crystal material and an inert gas supplied to the manifold 47g are provided. In this case, the operation of the first solenoid valve 47d and the second solenoid valve 47n can be individually controlled by the control unit 47i.

【0062】ここで、このディスペンサ47には、第一
実施形態のディスペンサ17と同様に図示しない圧力源
(例えばポンプ)とエアフィルタが接続されており、そ
の圧力源から送出された不活性ガスをエアフィルタを通
すことによって、ゴミ等の不純物を含まない不活性ガス
が送り込まれる。その送り込まれた不活性ガスは、第二
圧力調整器47mにより所定圧(本実施形態にあっては
0.1MPa)に加圧調整され、第二電磁弁47nを動
作させることでマニホールド47gに供給される。ま
た、その送り込まれた不活性ガスは、第一圧力調整器4
7bにより所定圧(本実施形態にあっては0.3MP
a)に加圧調整され、その所定圧を加圧調整された不活
性ガスによってシリンジ47e内に常時掛けている。
Here, similarly to the dispenser 17 of the first embodiment, a pressure source (for example, a pump) (not shown) and an air filter are connected to the dispenser 47, and an inert gas sent from the pressure source is supplied to the dispenser 47. By passing through an air filter, an inert gas containing no impurities such as dust is sent. The fed inert gas is pressurized and adjusted to a predetermined pressure (0.1 MPa in this embodiment) by the second pressure regulator 47m, and supplied to the manifold 47g by operating the second solenoid valve 47n. Is done. In addition, the sent inert gas is supplied to the first pressure regulator 4.
7b to a predetermined pressure (0.3MP in this embodiment)
The pressure is adjusted to a), and the predetermined pressure is always applied to the inside of the syringe 47e by the inert gas whose pressure has been adjusted.

【0063】液晶剤の吐出はプランジャ式で行われる。
具体的には、第一電磁弁47dが動作する間だけシリン
ジ47e内の図示しないニードルが開くと共に、シリン
ジ17e内に掛けられた不活性ガスの圧力によってマニ
ホールド47gに液晶剤が圧送される。そして、2流体
ノズル47aにより霧化された液晶剤47jが定量噴霧
される。
The discharge of the liquid crystal agent is performed by a plunger method.
Specifically, the needle (not shown) in the syringe 47e is opened only while the first solenoid valve 47d is operating, and the liquid crystal agent is pressure-fed to the manifold 47g by the pressure of the inert gas applied in the syringe 17e. Then, the liquid crystal agent 47j atomized by the two-fluid nozzle 47a is sprayed in a fixed amount.

【0064】次に、本実施形態の組立装置の動作を説明
する。
Next, the operation of the assembling apparatus of this embodiment will be described.

【0065】ここで、本実施形態における液晶剤を下基
板1aに供給するまでの工程と、その供給後の貼り合わ
せ工程は第一実施形態と同様である為、以下においては
液晶剤の供給工程のみを説明する。
Here, the steps up to the supply of the liquid crystal agent to the lower substrate 1a and the bonding step after the supply are the same as those in the first embodiment. Only the explanation will be given.

【0066】液晶剤を下基板1aに供給する際は、先ず
第二電磁弁47nを動作し、第二圧力調整器47mで
0.1MPaに加圧調整された不活性ガスをマニホール
ド47gに供給する。そして、2流体ノズル47aから
不活性ガスのみを噴霧して、テーブル9上に載置された
下基板1aの周囲を予め不活性ガス雰囲気にしておく。
しかる後、第一電磁弁47dを動作してマニホールド4
7gに液晶剤47jの供給を行う。この場合、大気中の
水分や不純物を巻き込むことなく液晶剤47jが噴霧さ
れて下基板1a上に予め設定された量が供給される。
When supplying the liquid crystal agent to the lower substrate 1a, first, the second solenoid valve 47n is operated, and an inert gas pressurized and adjusted to 0.1 MPa by the second pressure regulator 47m is supplied to the manifold 47g. . Then, only the inert gas is sprayed from the two-fluid nozzle 47a, and the periphery of the lower substrate 1a placed on the table 9 is set in an inert gas atmosphere in advance.
Thereafter, the first solenoid valve 47d is operated to operate the manifold 4
The liquid crystal agent 47j is supplied to 7 g. In this case, the liquid crystal agent 47j is sprayed without involving moisture or impurities in the atmosphere, and a predetermined amount is supplied onto the lower substrate 1a.

【0067】次に、第一電磁弁47dを閉じて液晶剤の
供給を停止する。ここで、第二電磁弁47nは動作状態
を保っており、不活性ガスが連続して噴霧されるように
する。これにより、下基板1a上に噴霧された液晶剤が
その不活性ガスによって拡散するので、下基板1a上に
滴下痕をつけることが無くなる。このようにして液晶剤
をシール剤のパターンの内側に十分に行き渡らせた後、
第一実施形態と同様にして基板の貼り合わせを行う。
Next, the supply of the liquid crystal agent is stopped by closing the first solenoid valve 47d. Here, the second solenoid valve 47n is kept in the operating state so that the inert gas is continuously sprayed. As a result, the liquid crystal agent sprayed on the lower substrate 1a is diffused by the inert gas, so that there is no drip mark on the lower substrate 1a. After the liquid crystal agent has been sufficiently spread inside the pattern of the sealant in this manner,
The substrates are bonded in the same manner as in the first embodiment.

【0068】以上示したが如く、本実施形態にあって
は、シール剤を塗布した後で下基板1aの周囲を不活性
ガス雰囲気とし、その不活性ガス雰囲気中で液晶剤を下
基板1aに噴霧して供給し、直ちに貼り合わせ工程に移
行することができるので、貼り合わせ前の基板に塵埃が
付着し難い。そしてこれが為、貼り合わせ後の基板にて
前述した従来例の如き滴下痕等に起因する不良品が発生
し難く、生産時の歩留まり向上を図ることができる。ま
た、液晶剤を噴霧することによって貼り合わせ工程の前
に予め液晶剤が基板面全体に広げられるので、下基板1
aへの液晶剤の供給箇所を減らすことができ且つ供給量
のばらつきを小さくすることができる。そして、これに
より短時間で液晶剤供給工程から貼り合わせ工程に進む
ことができ、生産性が向上する。
As described above, in the present embodiment, the periphery of the lower substrate 1a is set to an inert gas atmosphere after applying the sealant, and the liquid crystal agent is applied to the lower substrate 1a in the inert gas atmosphere. Since it can be supplied by spraying and immediately proceed to the bonding step, dust hardly adheres to the substrate before bonding. As a result, defective products due to drop marks and the like as in the above-described conventional example are unlikely to occur on the bonded substrate, and the yield during production can be improved. Further, by spraying the liquid crystal agent, the liquid crystal agent is preliminarily spread over the entire surface of the substrate before the bonding step.
The number of supply points of the liquid crystal agent to a can be reduced, and the variation in the supply amount can be reduced. Thus, the process can proceed from the liquid crystal agent supply process to the bonding process in a short time, and the productivity is improved.

【0069】また、液晶剤の供給量のばらつきを小さく
することができる,即ちディスペンサ47から正確な量
の液晶剤を供給することができるので、液晶剤の無駄な
消費を無くすことができ、且つ液晶剤がシール剤のパタ
ーンの外側に溢れて基板を汚染する虞がなくなる。この
場合、汚染された基板の洗浄工程が不要となるので、更
なる生産性の向上を図ることができる。
Further, since the variation in the supply amount of the liquid crystal agent can be reduced, that is, since the correct amount of the liquid crystal agent can be supplied from the dispenser 47, unnecessary consumption of the liquid crystal agent can be eliminated, and There is no possibility that the liquid crystal agent overflows outside the pattern of the sealant and contaminates the substrate. In this case, the step of cleaning the contaminated substrate becomes unnecessary, so that the productivity can be further improved.

【0070】更に又、下基板1aを載置保持するXYθ
ステージT1を上基板1bの上チャンバユニット21へ
の搬送に利用できるので、上基板1b搬送用の他の機構
を設けなくてもよく、組立装置の小型化を図ることがで
きる。
Further, XYθ for placing and holding the lower substrate 1a
Since the stage T1 can be used for transporting the upper substrate 1b to the upper chamber unit 21, another mechanism for transporting the upper substrate 1b does not need to be provided, and the size of the assembling apparatus can be reduced.

【0071】尚、本発明は、必ずしも上記実施形態の態
様に限定するものではなく、以下の如く実施してもよ
い。
The present invention is not necessarily limited to the above embodiment, but may be implemented as follows.

【0072】(1)液晶剤を噴霧する2流体ノズル47
aは、噴霧粒径,噴霧範囲や液晶剤の粘度等に応じて適
宜変更してもよい。 (2)液晶剤を定量供給するプランジャ式のディスペン
サ47は、その方式を問わず、定量供給できるものであ
れば如何なるディスペンサでもよい。 (3)第一及び第二の圧力調整器17b,17mで調節
される圧力は、液晶剤の噴霧粒径,噴霧範囲や液晶剤の
粘度等に応じ適宜調節してもよい。 (4)液晶剤の噴霧中は下基板1aがテーブル9上に固
定され且つXYθステージT1を固定しているが、この
状態でテーブル9をXY方向に移動させて噴霧範囲を変
更してもよい。
(1) Two-fluid nozzle 47 for spraying a liquid crystal agent
a may be appropriately changed according to the spray particle size, the spray range, the viscosity of the liquid crystal agent, and the like. (2) The plunger-type dispenser 47 for supplying a liquid crystal agent in a fixed amount may be any dispenser capable of supplying a fixed amount of liquid crystal regardless of the method. (3) The pressures adjusted by the first and second pressure regulators 17b and 17m may be appropriately adjusted according to the spray particle size of the liquid crystal agent, the spray range, the viscosity of the liquid crystal agent, and the like. (4) While the liquid crystal agent is being sprayed, the lower substrate 1a is fixed on the table 9 and the XYθ stage T1 is fixed. In this state, the spray range may be changed by moving the table 9 in the XY directions. .

【0073】尚、前述した各実施形態にあっては、液晶
供給部分と貼り合わせ部分とが一体となったものを例示
しているが、必ずしもこれに限定するものではなく、別
々の装置で構成してもよい。
In each of the embodiments described above, the liquid crystal supply portion and the bonding portion are integrated, but the present invention is not limited to this. May be.

【0074】[0074]

【発明の効果】本発明によれば、基板への液晶剤の供給
時に、空気中の水分や不純物の巻き込みが無くなり、更
には液晶剤を酸化させることなくなるので、液晶剤の滴
下痕の発生を抑制することができ、これにより表示ムラ
の無い液晶パネルが生産できるという、従来にない優れ
た液晶基板の組立方法及びその組立装置及び液晶供給装
置を得ることが可能となる。
According to the present invention, when the liquid crystal agent is supplied to the substrate, the incorporation of moisture and impurities in the air is eliminated, and the liquid crystal agent is not oxidized. Thus, it is possible to obtain a liquid crystal substrate assembling method, an assembling apparatus, and a liquid crystal supply apparatus, which are excellent in the related art, whereby a liquid crystal panel without display unevenness can be produced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る基板貼り合わせ装置の第一実施形
態の構成を示す部分断面図である。
FIG. 1 is a partial cross-sectional view illustrating a configuration of a first embodiment of a substrate bonding apparatus according to the present invention.

【図2】本実施形態に係る上基板の受止爪や下基板の位
置決め機構を説明する斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view illustrating a receiving claw of an upper substrate and a positioning mechanism of a lower substrate according to the embodiment.

【図3】本実施形態に係る液晶剤供給用のディスペンサ
の構成を説明する説明図である。
FIG. 3 is an explanatory view illustrating a configuration of a liquid crystal agent supply dispenser according to the embodiment.

【図4】本発明に係る基板貼り合わせ装置の第二実施形
態に用いられるディスペンサの構成を説明する説明図で
ある。
FIG. 4 is an explanatory diagram illustrating a configuration of a dispenser used in a second embodiment of the substrate bonding apparatus according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1a,1b 基板 9 テーブル 17 ディスペンサ(液晶供給機構,液晶供給装置) 17e シリンジ 17k カバー 17m 流量調整器(不活性ガス供給部) 17n 電磁弁(不活性ガス供給部) 27 加圧板 47 ディスペンサ(液晶供給機構,液晶供給装置) 47a 2流体ノズル 47e シリンジ 47g マニホールド 47m 第二圧力調整器(不活性ガス供給部) 47n 第二電磁弁(不活性ガス供給部) 1a, 1b substrate 9 table 17 dispenser (liquid crystal supply mechanism, liquid crystal supply device) 17e syringe 17k cover 17m flow controller (inert gas supply unit) 17n solenoid valve (inert gas supply unit) 27 pressurizing plate 47 dispenser (liquid crystal supply) 47a Two-fluid nozzle 47e Syringe 47g Manifold 47m Second pressure regulator (inert gas supply) 47n Second solenoid valve (inert gas supply)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石田 茂 茨城県竜ケ崎市向陽台5丁目2番 日立テ クノエンジニアリング株式会社開発研究所 内 (72)発明者 八幡 聡 茨城県竜ケ崎市向陽台5丁目2番 日立テ クノエンジニアリング株式会社竜ケ崎工場 内 (72)発明者 村山 孝夫 茨城県竜ケ崎市向陽台5丁目2番 日立テ クノエンジニアリング株式会社竜ケ崎工場 内 (72)発明者 平井 明 茨城県竜ケ崎市向陽台5丁目2番 日立テ クノエンジニアリング株式会社竜ケ崎工場 内 Fターム(参考) 2H088 FA01 FA09 FA16 FA20 FA30 MA04 MA18 MA20 2H089 NA22 NA33 NA38 NA39 NA49 NA60 QA08 QA12 QA15  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Inventor Shigeru Ishida 5-2-2 Koyodai, Ryugasaki-shi, Ibaraki Pref. Hitachi Techno Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Satoshi Yawata 5-2-2 Koyodai, Ryugasaki-shi, Ibaraki Hitachi (72) Inventor Takao Murayama 5-2-2 Koyodai, Ryugasaki-shi, Ibaraki Pref. Hitachi Tech-Engineering Co., Ltd. 5-72 Koyodai, Ryugasaki-shi, Ibaraki 5-2 Hitachi, Japan Techno Engineering Co., Ltd. Ryugasaki Factory F-term (reference) 2H088 FA01 FA09 FA16 FA20 FA30 MA04 MA18 MA20 2H089 NA22 NA33 NA38 NA39 NA49 NA60 QA08 QA12 QA15

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 貼り合わせ対象物たる二枚の基板の内の
一方の基板を加圧板の下面に保持すると共に他方の基板
をテーブル上に保持し、該他方の基板上に液晶剤を供給
した後、対向した前記各基板を各々の間隔を狭めて当該
各基板の内の何れか一方に設けた接着剤で貼り合わせる
液晶基板の組立方法であって、 前記他方の基板上に液晶剤を供給する際、該供給される
液晶剤の供給経路を不活性ガス雰囲気にした後で供給す
ることを特徴とした液晶基板の組立方法。
1. A liquid crystal material is supplied onto one of two substrates to be bonded, which is held on the lower surface of a pressure plate and the other substrate is held on a table. Thereafter, a method of assembling a liquid crystal substrate in which the opposing substrates are narrowed to each other and bonded with an adhesive provided on one of the substrates, and a liquid crystal agent is supplied on the other substrate. The method for assembling a liquid crystal substrate, wherein the liquid crystal agent is supplied after the supply path of the supplied liquid crystal agent is made into an inert gas atmosphere.
【請求項2】 貼り合わせ対象物たる二枚の基板の内の
一方の基板を加圧板の下面に保持すると共に他方の基板
をテーブル上に保持し、該他方の基板上に液晶剤を供給
した後、対向した前記各基板を各々の間隔を狭めて当該
各基板の内の何れか一方に設けた接着剤で貼り合わせる
液晶基板の組立方法であって、 前記他方の基板上に液晶剤を供給する際、該供給される
液晶剤の供給経路を真空雰囲気にした後で供給すること
を特徴とした液晶基板の組立方法。
2. A liquid crystal material is supplied onto one of the two substrates to be bonded while holding one substrate on the lower surface of the pressing plate and holding the other substrate on a table. Thereafter, a method of assembling a liquid crystal substrate in which the opposing substrates are narrowed to each other and bonded with an adhesive provided on one of the substrates, and a liquid crystal agent is supplied on the other substrate. A method of assembling a liquid crystal substrate, wherein the liquid crystal agent is supplied after the supply path of the supplied liquid crystal agent is set in a vacuum atmosphere.
【請求項3】 貼り合わせ対象物たる二枚の基板の内の
一方の基板を加圧板の下面に保持すると共に他方の基板
をテーブル上に保持し、該他方の基板上に液晶剤を供給
した後、対向した前記各基板を各々の間隔を狭めて当該
各基板の内の何れか一方に設けた接着剤で貼り合わせる
液晶基板の組立方法であって、 前記他方の基板上に液晶剤を供給する際、該液晶剤を噴
霧することを特徴とした液晶基板の組立方法。
3. One of the two substrates to be bonded is held on the lower surface of the pressing plate, the other substrate is held on a table, and a liquid crystal agent is supplied on the other substrate. Thereafter, a method of assembling a liquid crystal substrate in which the opposing substrates are narrowed to each other and bonded with an adhesive provided on one of the substrates, and a liquid crystal agent is supplied on the other substrate. A method of assembling a liquid crystal substrate, which comprises spraying the liquid crystal agent.
【請求項4】 前記液晶剤の噴霧を、2流体ノズルから
不活性ガスを前記他方の基板上に吹き付けた後、前記2
流体ノズルから不活性ガスと液晶剤を圧送して行うこと
を特徴とした請求項3に記載の液晶基板の組立方法。
4. The method according to claim 1, wherein the spraying of the liquid crystal agent is performed by blowing an inert gas onto the other substrate from a two-fluid nozzle.
4. The method according to claim 3, wherein the inert gas and the liquid crystal agent are pressure-fed from the fluid nozzle.
【請求項5】 前記液晶剤の供給後、前記2流体ノズル
から不活性ガスを噴霧して前記他方の基板上の液晶剤を
該他方の基板上の主面の広がり方向に拡散させることを
特徴とした請求項3又は4の内の何れか一つに記載の液
晶基板の組立方法。
5. The method according to claim 5, wherein after supplying the liquid crystal agent, an inert gas is sprayed from the two-fluid nozzle to diffuse the liquid crystal agent on the other substrate in a direction in which the main surface on the other substrate spreads. The method for assembling a liquid crystal substrate according to any one of claims 3 and 4.
【請求項6】 貼り合わせ対象物たる二枚の基板の内の
一方の基板を保持する加圧板と、前記各基板の内の他方
の基板を保持し且つ当該他方の基板を前記一方の基板に
対向配置可能なテーブルと、前記他方の基板上に液晶剤
を供給する液晶供給機構とを備えた液晶基板の組立装置
であって、 前記液晶供給機構は、前記他方の基板上に液晶剤を供給
する液晶供給部と、該液晶供給部近傍に配設した前記他
方の基板までの間の供給される液晶剤の周囲を不活性ガ
ス雰囲気にする不活性ガスを供給する不活性ガス供給部
とを備えることを特徴とした液晶基板の組立装置。
6. A pressing plate for holding one of the two substrates to be bonded, a holding plate for holding the other of the substrates, and attaching the other substrate to the one of the substrates. What is claimed is: 1. An apparatus for assembling a liquid crystal substrate, comprising: a table that can be arranged to face and a liquid crystal supply mechanism that supplies a liquid crystal agent onto the other substrate, wherein the liquid crystal supply mechanism supplies a liquid crystal agent onto the other substrate. A liquid crystal supply unit, and an inert gas supply unit that supplies an inert gas that causes an atmosphere around the liquid crystal agent supplied to the other substrate disposed near the liquid crystal supply unit to be an inert gas atmosphere. An assembling apparatus for a liquid crystal substrate, comprising:
【請求項7】 液晶基板を製造する際、液晶剤を基板上
に供給する液晶供給装置であって、 供給する液晶剤を内蔵するシリンジと、該シリンジ内の
液晶剤を前記基板上に供給する液晶供給部と、該液晶供
給部の周囲に覆設するカバーと、該カバーの内側に不活
性ガスを供給する不活性ガス供給部とを備えることを特
徴とした液晶供給装置。
7. A liquid crystal supply device for supplying a liquid crystal agent onto a substrate when a liquid crystal substrate is manufactured, comprising: a syringe having a liquid crystal agent to be supplied; and a liquid crystal agent in the syringe being supplied onto the substrate. A liquid crystal supply device comprising: a liquid crystal supply unit; a cover that covers the liquid crystal supply unit; and an inert gas supply unit that supplies an inert gas to the inside of the cover.
【請求項8】 液晶基板を製造する際、液晶剤を基板上
に供給する液晶供給装置であって、 供給する液晶剤を内蔵するシリンジと、該シリンジ内に
連通するマニホールドと、該マニホールド内に連通する
2流体ノズルと、前記マニホールド内に不活性ガスを供
給する不活性ガス供給部とを備えることを特徴とした液
晶供給装置。
8. A liquid crystal supply device for supplying a liquid crystal agent onto a substrate when manufacturing a liquid crystal substrate, comprising: a syringe having a built-in liquid crystal agent to be supplied; a manifold communicating with the syringe; A liquid crystal supply device comprising: a two-fluid nozzle communicating with the manifold; and an inert gas supply unit that supplies an inert gas into the manifold.
JP2001118362A 2001-04-17 2001-04-17 Liquid crystal substrate assembling method, assembling apparatus and liquid crystal supply apparatus Expired - Fee Related JP3557472B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001118362A JP3557472B2 (en) 2001-04-17 2001-04-17 Liquid crystal substrate assembling method, assembling apparatus and liquid crystal supply apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001118362A JP3557472B2 (en) 2001-04-17 2001-04-17 Liquid crystal substrate assembling method, assembling apparatus and liquid crystal supply apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002311442A true JP2002311442A (en) 2002-10-23
JP3557472B2 JP3557472B2 (en) 2004-08-25

Family

ID=18968766

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001118362A Expired - Fee Related JP3557472B2 (en) 2001-04-17 2001-04-17 Liquid crystal substrate assembling method, assembling apparatus and liquid crystal supply apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3557472B2 (en)

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2006064600A1 (en) * 2004-12-17 2008-06-12 シャープ株式会社 Manufacturing method and manufacturing apparatus for organic electroluminescence display
US7692756B2 (en) 2001-12-21 2010-04-06 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal display device and method of fabricating the same
US7785655B2 (en) 2003-05-09 2010-08-31 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal dispensing system and method of dispensing liquid crystal material using same
WO2011043224A1 (en) * 2009-10-09 2011-04-14 東京エレクトロン株式会社 Pressure sensor element and sheet-like pressure sensor
US7950345B2 (en) 2002-12-20 2011-05-31 Lg Display Co., Ltd. Dispenser for liquid crystal display panel and dispensing method using the same
JP2013501957A (en) * 2009-08-10 2013-01-17 コリア インスティチュート オブ インダストリアル テクノロジー Liquid crystal dropping device using ultrasonic waves
US8368867B2 (en) 2004-12-31 2013-02-05 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal spraying apparatus with ultrasonic converter within nozzle and method for manufacturing of liquid crystal display device using the same
KR101252856B1 (en) * 2004-12-31 2013-04-09 엘지디스플레이 주식회사 liquid crystal dispensing apparatus
WO2014027719A1 (en) * 2012-08-13 2014-02-20 Han Dong Hee Panel bonding device
US8899175B2 (en) 2002-03-23 2014-12-02 Lg Display Co., Ltd. Apparatus and method for dispensing liquid crystal material
WO2014200179A1 (en) * 2013-06-13 2014-12-18 Han Dong Hee Device for attaching panels
USRE46146E1 (en) 2002-02-20 2016-09-13 Lg Display Co., Ltd Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
CN114887794A (en) * 2022-04-25 2022-08-12 厦门强力巨彩光电科技有限公司 Deposition coating device and deposition coating method for LED display screen

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7692756B2 (en) 2001-12-21 2010-04-06 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal display device and method of fabricating the same
USRE46146E1 (en) 2002-02-20 2016-09-13 Lg Display Co., Ltd Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
US8899175B2 (en) 2002-03-23 2014-12-02 Lg Display Co., Ltd. Apparatus and method for dispensing liquid crystal material
US7950345B2 (en) 2002-12-20 2011-05-31 Lg Display Co., Ltd. Dispenser for liquid crystal display panel and dispensing method using the same
US9285614B2 (en) 2003-04-24 2016-03-15 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal dispensing system and method of dispensing liquid crystal material using same
US7785655B2 (en) 2003-05-09 2010-08-31 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal dispensing system and method of dispensing liquid crystal material using same
JPWO2006064600A1 (en) * 2004-12-17 2008-06-12 シャープ株式会社 Manufacturing method and manufacturing apparatus for organic electroluminescence display
US8368867B2 (en) 2004-12-31 2013-02-05 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal spraying apparatus with ultrasonic converter within nozzle and method for manufacturing of liquid crystal display device using the same
KR101252856B1 (en) * 2004-12-31 2013-04-09 엘지디스플레이 주식회사 liquid crystal dispensing apparatus
JP2013501957A (en) * 2009-08-10 2013-01-17 コリア インスティチュート オブ インダストリアル テクノロジー Liquid crystal dropping device using ultrasonic waves
WO2011043224A1 (en) * 2009-10-09 2011-04-14 東京エレクトロン株式会社 Pressure sensor element and sheet-like pressure sensor
WO2014027719A1 (en) * 2012-08-13 2014-02-20 Han Dong Hee Panel bonding device
WO2014200179A1 (en) * 2013-06-13 2014-12-18 Han Dong Hee Device for attaching panels
CN114887794A (en) * 2022-04-25 2022-08-12 厦门强力巨彩光电科技有限公司 Deposition coating device and deposition coating method for LED display screen

Also Published As

Publication number Publication date
JP3557472B2 (en) 2004-08-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100817650B1 (en) Apparatus for fabricating bonded substrate
JP3707990B2 (en) Board assembly equipment
JP3411023B2 (en) Board assembly equipment
JP3486862B2 (en) Substrate assembly method and apparatus
KR100362721B1 (en) Substrate bonding apparatus
JP3410983B2 (en) Substrate assembly method and apparatus
JP3987442B2 (en) Bonding device for liquid crystal display elements
JP3422291B2 (en) How to assemble a liquid crystal substrate
JP3557472B2 (en) Liquid crystal substrate assembling method, assembling apparatus and liquid crystal supply apparatus
JP2001005405A (en) Method for assembling substrate and apparatus therefor
JP4244529B2 (en) Method and apparatus for assembling liquid crystal substrate
JP4150042B2 (en) Bonded substrate manufacturing apparatus and bonded substrate manufacturing method
JP4224959B2 (en) Liquid crystal substrate assembly equipment
JP3773866B2 (en) Substrate assembly method and apparatus
KR100643504B1 (en) Apparatus for attaching LCD glass and method thereof
JP3817461B2 (en) Assembling method of liquid crystal substrate
JP3022809B2 (en) Method and apparatus for sealing liquid crystal display cell
KR20040041517A (en) Method of assembling substrates, apparatus for assembling substrates, method of dropping liquid material, and apparatus for dropping liquid material
JPH04271320A (en) Apparatus for producing liquid crystal display
JP2003057664A (en) Method and device for sticking substrates

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20040127

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20040223

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20040423

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090528

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090528

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100528

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100528

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110528

Year of fee payment: 7

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees