JP2001252572A - ポリマー担持ランタノイドアルコキシド触媒及びその用途 - Google Patents
ポリマー担持ランタノイドアルコキシド触媒及びその用途Info
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Abstract
イドアルコキシド触媒を提供する。 【解決手段】 ヘキサエチレングリコール誘導体を導入
したスチレン系ポリマーにランタノイドとりアルコキシ
ドを反応させ、次いでアルカリ金属水酸化物水溶液で処
理することにより、耐水性が高く、再使用可能な固体塩
基触媒を得る。
Description
持ランタノイドアルコキシド触媒及びその用途に関す
る。本発明の触媒は、固体塩基性触媒として工業的に有
用な触媒である。
コキシド触媒は従来知られておらず、新規な化合物であ
る。
いたエノン類とケトン類の環化反応としては、カルコン
とメチルエチルケトンを20mol%のランタントリイ
ソプロポキシド及びモレキュラーシーブ4A存在下、ト
ルエン溶媒中、50℃で2時間の反応させ3,5−ジフ
ェニル−6−メチル−2−シクロへキセン−1−オンを
77%収率で得る方法等が知られている(T.Okan
o,et.al.,Chem.Lett.1996,1
041)。
られている触媒はその全てが溶剤に溶解するタイプで、
工業的には触媒の回収、再使用が困難であった。
を触媒として用いた場合には、反応によっては、用いる
溶剤中に溶存する水又は反応により副生する水により触
媒が失活し収率が低下する。このため、反応系内にモレ
キュラーシーブス等の脱水剤を添加する必要があった。
題を解決するため、溶剤中に溶存する水又は副生する水
に安定でかつより実用性の高い触媒の設計を目指し鋭意
検討した結果、(A1)ヘキサエチレングリコールを反
応させた架橋クロロメチル化ポリスチレン樹脂、(B)
ランタノイドトリアルコキシド、及び(C)アルカリ金
属水酸化物水溶液からなるポリマー担持ランタノイドア
ルコキシド触媒、(A2)下記式(1)
び/又はジビニルベンゼンとの共重合体の脱アセタール
化物、(B)ランタノイドトリアルコシド、並びに
(C)アルカリ金属水酸化物水溶液からなるポリマー担
持ランタノイドアルコキシド触媒を見出し、本発明を完
成させるに至った。
タノイドアルコキシド触媒及びそれらの製造方法、並び
にそれらの用途である。
レングリコールを反応させた架橋クロロメチル化ポリス
チレン樹脂、(B)ランタノイドトリアルコキシド、及
び(C)アルカリ金属水酸化物水溶液からなるポリマー
担持ランタノイドアルコキシド触媒(以下、触媒1と称
する)は、下記一般式(5)
樹脂、Lnはランタノイド金属元素、Mはアルカリ金属
元素、nはスチレンユニットに対して0.01〜100
0モル比を示す。]に示される構造を形成しているもの
と推定される。
式(1)で示されるスチレン誘導体と、スチレン及び/
又はジビニルベンゼンとの共重合体の脱アセタール化
物、(B)ランタノイドトリアルコキシド、並びに
(C)アルカリ金属水酸化物水溶液からなるポリマー担
持ランタノイドアルコキシド触媒(以下、触媒2と称す
る)は、下記一般式(6)
樹脂、Lnはランタノイド金属元素、Mはアルカリ金属
元素、nはスチレンユニットに対して0.01〜100
0モル比を示す。]で示される構造を形成しているもの
と推定される。
しては、具体的には、スカンジウム、イットリウム、ラ
ンタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、サマリウ
ム、ユーロピウム、ガドリウム、テルビウム、ディスプ
ロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテ
ルビウム、ルテチウムから選択される元素が例示され、
また、アルコキシドとしては、具体的には、前記ランタ
ノイド金属元素のメトキシド、エトキシド、n−プロポ
キシド、イソプロポキシド、n−ブトキシド、tert
−ブトキシド等が例示される。
は、具体的には、リチウム、ナトリウム、カリウム、ル
ビウム、セシウムが例示され、また、アルカリ金属水酸
化物としては、前記アルカリ金属元素の水酸化物が例示
される。
ば、市販の架橋クロロメチル化ポリスチレン(メリフィ
ールド樹脂)にヘキサエチレングリコールを反応させた
後得られるヘキサエチレングリコール化架橋ポリスチレ
ンに、所定量のランタノイドトリアルコキシドを反応さ
せた後、所定量のアルカリ金属水酸化物を添加すること
により、触媒1が調製される。調製した触媒は単離、精
製することなく反応に用いることができる。
橋クロロメチル化ポリスチレンのクロロメチル化度に
は、特に規定はなく、あらゆるクロロメチル化度の架橋
ポリスチレンが本発明に適用可能である。
チレングリコールは、架橋ポリスチレンのクロロメチル
基含量に対して理論的には等モルの使用で充分である
が、反応を効率良く行うために10モル倍量程度使用す
ることが好ましい。反応に当たっては脱ハロゲン化水素
試剤として、n−ブチルリチウム、tert−ブチルリ
チウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カ
ルシウム、ナトリウム、リチウム等を用い、反応に具す
るヘキサエチレングリコールに対して当量程度使用する
ことが好ましい。
ロメチル化ポリスチレンとヘキサエチレングリコールの
反応に使用する溶剤としては、特に規定はないが、反応
効率を良くするために、ジメチルフォルムアミド(以
下、DMFと略す)、ジメチルアセトアミド、ジメチル
スルホキシド、N,N−ジメチルイミダゾリジノン等を
用いることが好ましい。
ロメチル化ポリスチレンとヘキサエチレングリコールの
反応温度及び時間は、通常、50〜200℃の温度範囲
で、1日〜20日程度である。
ロメチル化ポリスチレンとヘキサエチレングリコールの
反応生成物を、反応終了後、ろ過、テトラヒドロフラン
(以下、THFと略す)及び水で洗浄、次いで100℃
で24時間程度乾燥させることにより、架橋ヘキサエチ
レングリコール化架橋ポリスチレンが得られる。
テル系溶剤中、前記反応により得られた架橋ヘキサエチ
レングリコール化ポリスチレンと、該架橋ポリスチレン
の水酸基に対して等モル量のランタノイドトリアルコキ
シドを反応させた後、ランタノイドトリアルコキシドに
対して3モル倍量の3Nアルカリ金属水酸化物水溶液を
添加し触媒を形成させる。得られた触媒は単離精製する
ことなく反応に用いられる。
例えば、脱ハロゲン化水素試剤存在下、ヘキサエチレン
グリコールと文献既知のソルケタールトシレートを反応
させ、次いでp−クロロスチレンと反応させることによ
り上記式(1)の化合物を得、次いで上記式(1)の化
合物とスチレン及び/又はジビニルベンゼンを共重合し
た後、アセタール保護基を加水分解することにより架橋
(2,3−ジヒドロキシプロピルオキシ)ヘキサエチレ
ングリコール化ポリスチレンを得、さらに触媒1の調製
と同様に、ランタノイドトリアルコキシド及び水酸化ナ
トリウム水溶液と反応させることにより、触媒2が調製
される。調製した触媒は単離、精製することなく反応に
用いることができる。
チルグリコールとソルケタールの反応においては、溶剤
としてエーテル系溶剤を用い、ヘキサエチレングリコー
ルとソルケタールを等量程度使用し、脱ハロゲン化水素
試剤としてn−ブチルリチウム、tert−ブチルリチ
ウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カル
シウム、ナトリウム、リチウム等を用い、反応に具する
ヘキサエチレングリコールに対して当量程度使用するこ
とが好ましい。また反応を効率能く進行させるためには
18−クラウン−6−エーテル等のクラウンエーテルを
用いることが好ましい。
チルグリコールとソルケタールの反応においての反応温
度及び時間は、20〜100℃の温度範囲、10時間〜
5日程度で反応は完結する。
応系に、ヘキサエチレングリコールに対して、当量の脱
ハロゲン化水素試剤及び当量p−クロロメチルスチレン
を添加し、0℃〜50℃で1〜10日間程度反応を行う
ことにより上記式(1)で示される化合物を得る。得ら
れた上記式(1)の化合物は単離精製することなく次工
程の共重合に用いる。
(1)の化合物とスチレン及び/又はジビニルベンゼン
の共重合においては、各化合物の量比に特に制限はない
が、通常上記式(1)の化合物に対してスチレンを0.
1〜200モル倍量、ジビニルベンゼンを0〜10モル
倍量程度使用する。
(1)の化合物とスチレン及び/又はジビニルベンゼン
の共重合において使用する反応触媒としては、アゾイソ
ブチロ二トリル(以下、AIBNと略す)、過酸化ベン
ゾイル、ジクミルパーオキサイド等のラジカル開始剤及
び過酸化物が挙げられ、反応に具する上記式(1)の化
合物に対して、通常0.1〜50モル%程度使用する。
(1)の化合物とスチレン及びジビニルベンゼンの共重
合において使用する反応溶剤としては、特に規定はない
が、水−THF混合溶剤、エチレングリコール−トルエ
ン混合溶剤等の混合溶剤を用い、反応温度及び時間とし
ては50〜200℃の温度範囲、1〜20日程度であ
る。
(1)の化合物とスチレン及び/又はジビニルベンゼン
の共重合において、反応終了後、上記式(1)の化合物
に対して0.1〜50モル%の塩酸、硫酸又はp−トル
エンスルフォン酸等を添加し、20〜100℃の温度範
囲で1〜10日間反応を行うことにより脱アセタール反
応を行い、次いでろ過、水−THFで洗浄、100℃で
24時間程度乾燥させることにより共重合体を得る。
中、得られた共重合体のジオールに対して等モル量のラ
ンタノイドトリアルコキシドを0〜50℃で1〜10時
間程度反応させた後、次いで共重合体のジオールに対し
て3モル倍量の3N水酸化ナトリウム水溶液を添加し、
0〜100℃で0.5〜10時間程度反応させることに
より、触媒が形成される。得られた触媒は単離精製する
ことなく反応に用いられる。
用いた反応液よりろ集後、THF等で洗浄し、室温で減
圧下乾燥させることによりアルカリ金属イオンが脱離し
た状態で容易に回収でき、さらに、回収した触媒をエー
テル系溶剤中に懸濁させランタノイドに対して等量のア
ルカリ金属水酸化物を添加することにより再生可能であ
る。
とケトン類の環化反応について説明する。
しては、特に規定はないが、具体的には、メチルビニル
ケトン、trans−3−ペンテン−2−オン、tra
ns−3−ヘキセン−2−オン、trans−3−ヘプ
テン−2−オン、trans−3−オクテン−2−オ
ン、trans−3−ノネン−2−オン、エチルビニル
ケトン、trans−4−ヘキセン−3−オン、tra
ns−4−へプテン−3−オン、trans−4−オク
テン−3−オン、trans−4−ノネン−3−オン、
イソプロピルビニルケトン、trans−2−メチル−
4−ヘキセン−3−オン、trans−2−メチル−4
−へプテン−3−オン、trans−2−メチル−4−
オクテン−3−オン、trans−2−メチル−4−ノ
ネン−3−オン、trans−1,3−ジフェニル−2
−プロピレン−1−オン(カルコン)、trans−2
−メチル−5−フェニル−4−ペンテン−3−オン、4
−メチル−1−フェニル−3−ペンテン−2−オン、4
−フェニル−3−ブチレン−2−オン、6−フェニル−
3−へキセン−2−オン、5−フェニル−3−ヘキセン
−2−オン等が挙げられる。
しては、特に規定はないが、具体的には、アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチル
イソブチルケトン、ジエチルケトン、エチルイソプロピ
ルケトン、エチルイソブチルケトン、ジ−n−プロピル
ケトン、n−プロピル−i−プロピルケトン、n−プロ
ピル−i−ブチルケトン、ジイソプロピルケトン、ベン
ジルメチルケトン、ベンジルエチルケトン、ベンジルイ
ソプロピルケトン、(シクロヘキシルメチル)メチルケ
トン、(シクロヘキシルメチル)イソプロピルケトン等
が挙げられる。
用量は通常、エノン類に対して2モル倍量以上使用し、
また10倍量以上使用し反応溶剤として兼ねても良い。
用量としては、反応に具するエノン類に対して、0.1
〜50モル%程度使用する。
記触媒を調製した溶剤をそのまま用いても良いし、触媒
を単離後、他の溶剤を使用しても良い。
温度範囲で10〜200時間程度反応を行うことにより
環化生成物を得る。
性の高い固体塩基性触媒が提供される。本発明の触媒を
用いることにより各種、塩基を必要とする反応の工業的
規模での適用が期待される。
が、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではな
い。
JMS−HX110を使用。
依頼。
に、ヘキサエチレングリコール2.5ml(10mmo
l)及びDMF10mlを仕込み、攪拌しながら氷浴上
で0℃に冷却した後、これに水素化ナトリウム400m
g(10mmol,60%オイル分散品)を添加、同温
度で24時間反応を行った。
(L=2.0mmol/g)を添加し、100℃で7日
間反応を行った。
0ml×4回)、水洗(50ml×4回)、次いで、減
圧下、100℃で24時間乾燥させることによりヘキサ
エチレングリコール化メリフィールド樹脂554mgを
得た(収率74%)。
得られたヘキサエチレングリコール化メリフィールド樹
脂14.9mg(0.02mmol−OH基)、ランタ
ントリイソプロポキシド6.3mg(0.02mmo
l)及びTHF1mlを仕込み、室温下、3時間反応を
行った後、3N水酸化ナトリウム水溶液20μl(0.
06mmol)を添加し50℃で2時間攪拌することに
より目的物の(A1)ヘキサエチレングリコールを反応
させた架橋クロロメチル化ポリスチレン樹脂、(B)ラ
ンタントリアルコキシド及び(C)アルカリ金属水酸化
物水溶液からなる触媒を調製した。
ヘキサエチレングリコール3.1ml(12.1mmo
l)及びTHF18mlを仕込み攪拌しながら氷浴上で
冷却し0℃とした後、これに水素化カリウム1.4g
(12mmol,30%オイル分散品)及び18−クラ
ウン−6−エーテル3.2g(12.1mmol)を添
加し、室温下5時間攪拌、次いでソルケタール3.4g
(12.2mmol)を添加し50℃で48時間反応を
行った。
却、次いでこれに水素化カリウム1.4g(12mmo
l)及び18−クラウン−6−エーテル3.2g(1
2.1mmol)を添加し、室温下で5時間攪拌、次い
でp−クロロメチルスチレンを842μl(6.0mm
ol)を添加し、室温下で3日間反応を行った。
ーとして6分割(vol)し、次反応に用いた。
型フラスコに、スチレン1.15ml(10mmo
l)、前記反応で得られたヘキサエチレングリコール、
ソルケタール及びp−クロロメチルスチレン反応生成物
のスラリー1/6(vol)、水15ml、THF3m
l及びアゾイソブチロ二トリル50mg(0.3mmo
l)を添加し、100℃で10日間反応を行った。
ン酸95mg(0.5mmol)を添加し、60℃で3
日間反応を行った。
(50ml×4回)、水洗(50ml×4回)、減圧
下、100℃で24時間乾燥することにより、2,3−
ジヒドロキシプロポキシへキサエチレングリコール化ス
チレン樹脂457mgを得た(収率:30%)。
得られた2,3−ジヒドロキシプロポキシへキサエチレ
ングリコール化スチレン樹脂30.3mg(0.02m
ol(−OH)2基)、ランタントリイソプロポキシド
6.3mg(0.02mmol)及びTHF1mlを仕
込み、室温下、3時間反応を行った後3N水酸化ナトリ
ウム水溶液20μl(0.06mmol)を添加し50
℃で2時間攪拌することにより、目的物の(A2)上記
式(1)で示されるスチレン誘導体とスチレンとの共重
合体の脱アセタール化物、(B)ランタントリイソプロ
ポキシド、及び(C)アルカリ金属水酸化物水溶液から
なるポリマー担持ランタノイドアルコキシド触媒を調製
した。
キサエチレングリコール、ソルケタール及びp−クロロ
メチルスチレン反応生成物のスラリー1/6(vo
l)、スチレン1.14ml(10mmol)、1,4
−ジビニルベンゼン15.7μl(0.11mmo
l)、AIBN50mg(0.3mmol)、水15m
l及びTHF6mlを用いた以外、実施例2と同じ条件
及び操作で2,3−ジヒドロキシプロポキシへキサエチ
レングリコール化スチレン−ジビニルベンゼン共重合樹
脂926mgを得た(収率:61%)。
得られた2,3−ジヒドロキシプロポキシへキサエチレ
ングリコール化スチレン−ジビニルベンゼン樹脂30.
3mg(0.02mol(−OH)2基)、ランタント
リイソプロポキシド6.3mg(0.02mmol)及
びTHF1mlを仕込み、室温下、3時間反応を行った
後3N水酸化ナトリウム水溶液20μl(0.06mm
ol)を添加し50℃で2時間攪拌することにより、目
的物の(A2)上記式(1)で示されるスチレン誘導
体、スチレン及びジビニルベンゼンの共重合体の脱アセ
タール化物、(B)ランタントリイソプロポキシド、並
びに(C)アルカリ金属水酸化物水溶液からなるポリマ
ー担持ランタノイドアルコキシド触媒を調製した。
キサエチレングリコール、ソルケタール及びp−クロロ
メチルスチレン反応生成物のスラリー2/6(vo
l)、スチレン1.14ml(10mmol)、AIB
N50mg(0.3mmol)、水15ml及びTHF
6mlを用いた以外、実施例2と同じ条件及び操作で
2,3−ジヒドロキシプロポキシへキサエチレングリコ
ール化スチレン−スチレン共重合樹脂408mgを得た
(収率:21%)。
得られた2,3−ジヒドロキシプロポキシへキサエチレ
ングリコール化スチレン−スチレン共重合樹脂15.2
mg(0.02mol(−OH)2基)、ランタントリ
イソプロポキシド6.3mg(0.02mmol)及び
THF1mlを仕込み、室温下、3時間反応を行った後
3N水酸化ナトリウム水溶液20μl(0.06mmo
l)を添加し50℃で2時間攪拌することにより、目的
物の(A2)上記式(1)で示されるスチレン誘導体、
スチレン及びジビニルベンゼンの共重合体の脱アセター
ル化物、(B)ランタントリイソプロポキシド、並びに
(C)アルカリ金属水酸化物水溶液からなるポリマー担
持ランタノイドアルコキシド触媒を調製した。
キサエチレングリコール、ソルケタール及びp−クロロ
メチルスチレン反応生成物の溶液2/6(vol)、ス
チレン1.14ml(10mmol)、1,4−ジビニ
ルベンゼン17.1μl(0.12mmol)、AIB
N50mg(0.3mmol)、水15ml及びTHF
6mlを用いた以外、実施例2と同じ条件及び操作で
2,3−ジヒドロキシプロポキシへキサエチレングリコ
ール化スチレン、スチレン及びジビニルベンゼン共重合
樹脂1182mgを得た(収率:60%)。
得られた2,3−ジヒドロキシプロポキシへキサエチレ
ングリコール化スチレン−スチレン共重合樹脂15.2
mg(0.02mol(−OH)2基)、ランタントリ
イソプロポキシド6.3mg(0.02mmol)及び
THF1mlを仕込み、室温下、3時間反応を行った後
3N水酸化ナトリウム水溶液20μl(0.06mmo
l)を添加し50℃で2時間攪拌することにより、目的
物の(A2)上記式(1)で示されるスチレン誘導体、
スチレン及びジビニルベンゼンの共重合体の脱アセター
ル化物、(B)ランタントリイソプロポキシド、並びに
(C)アルカリ金属水酸化物水溶液からなるポリマー担
持ランタノイドアルコキシド触媒を調製した。
にカルコン41.6mg、メチルイソプロピルケトン4
28μl(4.0mmol)及びTHF1mlを仕込
み、攪拌しながら油浴上、50℃で48時間反応を行っ
た。
5回)、次いでろ液をシリカゲルショートカラムを通し
た。
マトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=10/1(v
ol/vol),2回展開)することにより生成物の
3,5−ジフェニル−6,6−ジメチル−2−シクロへ
キセン−1−オンを白色結晶として得た。結果を表1中
に示した。
した触媒を減圧下、室温で12時間乾燥させた後、マグ
ネット攪拌子を備えた10mlの丸底フラスコに入れ、
THF1mlを添加し3時間攪拌した。次いで、3Nの
水酸化ナトリウム水溶液20μl(0.06mmol)
を添加し、50℃で2時間攪拌した。
じ操作でメチルイソプロピルケトンとカルコンの反応を
行い、同じ後処理で3,5−ジフェニル6,6−ジメチ
ル−2−シクロへキセン−1−オンを得た。結果を表2
中に示した。
度同じ操作で再生し反応に使用した。結果を表2中に示
した。
触媒に変更し、触媒に対して600mol%の水及びT
HF1mlを添加し、実施例6と同じ反応を行った。結
果を表3に示した。
Claims (8)
- 【請求項1】 (A1)ヘキサエチレングリコールを反
応させた架橋クロロメチル化ポリスチレン樹脂、(B)
ランタノイドトリアルコキシド、及び(C)アルカリ金
属水酸化物水溶液からなるポリマー担持ランタノイドア
ルコキシド触媒。 - 【請求項2】 (A1)ヘキサエチレングリコールを反
応させた架橋クロロメチル化ポリスチレン樹脂に、
(B)ランタノイドトリアルコキシドを反応させ、次い
で(C)アルカリ金属水酸化物水溶液を添加することを
特徴とする請求項1に記載のポリマー担持ランタノイド
アルコキシド触媒の製造方法。 - 【請求項3】 (A1)ヘキサエチレングリコールを反
応させた架橋クロロメチル化ポリスチレン樹脂が、架橋
クロロメチル化ポリスチレン樹脂にヘキサエチレングリ
コールを反応させた後、ランタノイドトリアルコキシド
を反応させて得られるものであることを特徴とする請求
項2に記載のポリマー担持ランタノイドアルコキシド触
媒の製造方法。 - 【請求項4】 (A2)下記式(1) 【化1】 で示されるスチレン誘導体と、スチレン及び/又はジビ
ニルベンゼンとの共重合体の脱アセタール化物、(B)
ランタノイドトリアルコキシド、並びに(C)アルカリ
金属水酸化物水溶液からなるポリマー担持ランタノイド
アルコキシド触媒。 - 【請求項5】 (A2)下記式(1) 【化2】 で示されるスチレン誘導体と、スチレン及び/又はジビ
ニルベンゼンとの共重合体の脱アセタール化物に、
(B)ランタノイドアルコキシドを反応させ、次いで
(C)アルカリ金属水酸化物水溶液を添加することを特
徴とする請求項4に記載のポリマー担持ランタノイドア
ルコキシド触媒の製造方法。 - 【請求項6】 (A2)下記式(1) 【化3】 で示されるスチレン誘導体と、スチレン及び/又はジビ
ニルベンゼンとの共重合体の脱アセタール化物が、上記
式(1)で示されるスチレン誘導体と、スチレン及び/
又はジビニルベンゼンを共重合させた後、加水分解し脱
アセタール化して得られるものであることを特徴とする
請求項5に記載のポリマー担持ランタノイドアルコキシ
ド触媒の製造方法。 - 【請求項7】 請求項1又は請求項4に記載のポリマー
担持ランタノイドアルコキシド触媒からなる固体塩基性
触媒。 - 【請求項8】 請求項1又は請求項4に記載のポリマー
担持ランタノイドアルコキシド触媒存在下、下記一般式
(2) 【化4】 [一般式(2)中、R1、R2は各々独立して、水素、炭
素数1〜20の直鎖の若しくは分岐したアルキル基、炭
素数2〜20の直鎖の若しくは分岐したアルケニル基、
炭素数2〜20の直鎖の若しくは分岐したアルキニル
基、炭素数1〜20のアルコキシ基で1〜2置換された
炭素数2〜20の直鎖若しは分岐したアルキル基、フェ
ニル基、炭素数1〜10の分岐した若しくは直鎖のアル
キル基で核が1〜4置換されたフェニル基、炭素数1〜
10の分岐した若しくは直鎖のアルケニル基で核が1〜
4置換されたフェニル基、炭素数1〜10の分岐した若
しくは直鎖にアルキニル基で核が1〜4置換されたフェ
ニル基、炭素数1〜10の分岐した若しくは直鎖のアル
コキシ基で核が1〜4置換されたフェニル基、ナフチル
基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、フェニル基を有
する炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10の分
岐した若しくは直鎖のアルキル基で核が1〜4置換され
たフェニル基を有するアルキル基を表す。]で示される
エノン類と下記一般式(3) 【化5】 [一般式(3)中、R3、R4、R5は各々独立して、水
素、炭素数1〜20の直鎖の若しくは分岐したアルキル
基、炭素数2〜20の直鎖の若しくは分岐したアルケニ
ル基、炭素数2〜20の直鎖の若しくは分岐したアルキ
ニル基、炭素数1〜20のアルコキシ基で1〜2置換さ
れた炭素数2〜20の直鎖若しは分岐したアルキル基、
フェニル基、炭素数1〜10の分岐した若しくは直鎖の
アルキル基で核が1〜4置換されたフェニル基、炭素数
1〜10の分岐した若しくは直鎖のアルケニル基で核が
1〜4置換されたフェニル基、炭素数1〜10の分岐し
た若しくは直鎖にアルキニル基で核が1〜4置換された
フェニル基、炭素数1〜10の分岐した若しくは直鎖の
アルコキシ基で核が1〜4置換されたフェニル基、ナフ
チル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、フェニル基
を有する炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10
の分岐した若しくは直鎖のアルキル基で核が1〜4置換
されたフェニル基を有するアルキル基を表す。]で示さ
れるケトン類を反応させることを特徴とする下記一般式
(4) 【化6】 [一般式(4)中、R1、R2、R3、R4、R5は前記に
同じ定義である。]で示される環式エノン類の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000073998A JP2001252572A (ja) | 2000-03-13 | 2000-03-13 | ポリマー担持ランタノイドアルコキシド触媒及びその用途 |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
JP2000073998A JP2001252572A (ja) | 2000-03-13 | 2000-03-13 | ポリマー担持ランタノイドアルコキシド触媒及びその用途 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001252572A true JP2001252572A (ja) | 2001-09-18 |
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ID=18592122
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000073998A Withdrawn JP2001252572A (ja) | 2000-03-13 | 2000-03-13 | ポリマー担持ランタノイドアルコキシド触媒及びその用途 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001252572A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6677412B2 (en) * | 2001-07-09 | 2004-01-13 | Korea Advanced Institute Of Science And Technology | Process for preparing a highly active metallocene catalyst supported on polymer bead for olefin polymerization |
-
2000
- 2000-03-13 JP JP2000073998A patent/JP2001252572A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
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US6677412B2 (en) * | 2001-07-09 | 2004-01-13 | Korea Advanced Institute Of Science And Technology | Process for preparing a highly active metallocene catalyst supported on polymer bead for olefin polymerization |
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