JP2001247567A - ３−（２−置換インドール−１−イル）スルホニル−１，２，４−トリアゾール誘導体及び製造法 - Google Patents
３−（２−置換インドール−１−イル）スルホニル−１，２，４−トリアゾール誘導体及び製造法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】国際出願公開第ＷＯ９９／２１８５１号公報記
載の殺菌剤の有利な製造法およびその中間体の提供。 【解決手段】 【化１】 化合物（１）［Ｒ3はＣ1-4アルキル基等を表し、Ｒ4は
Ｈまたはハロゲン原子を表し、ＺはＨ、アルカリ金属等
を表し、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8はそれぞれ独立して、
Ｈ等を表し、ＹはＨ等を表す。］を、化合物（２）［Ｒ
1及びＲ2はそれぞれ独立してＣ1-4アルキル基等を表
す。］と反応させることによる化合物（３）の製造法、
化合物（４）［Ｒ4がＨ］と化合物（５）とを反応させ
ることによる化合物（１）［Ｒ4がＨ］の製造法、化合
物（１）［ＺおよびＲ4がＨ］または化合物（３）［Ｒ4
がＨ］のハロゲン化による化合物（１）［ＺがＨ、Ｒ4
がハロゲン原子］または化合物（３）［Ｒ4がハロゲン
原子］の製造法ならびに化合物（１）。
載の殺菌剤の有利な製造法およびその中間体の提供。 【解決手段】 【化１】 化合物（１）［Ｒ3はＣ1-4アルキル基等を表し、Ｒ4は
Ｈまたはハロゲン原子を表し、ＺはＨ、アルカリ金属等
を表し、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8はそれぞれ独立して、
Ｈ等を表し、ＹはＨ等を表す。］を、化合物（２）［Ｒ
1及びＲ2はそれぞれ独立してＣ1-4アルキル基等を表
す。］と反応させることによる化合物（３）の製造法、
化合物（４）［Ｒ4がＨ］と化合物（５）とを反応させ
ることによる化合物（１）［Ｒ4がＨ］の製造法、化合
物（１）［ＺおよびＲ4がＨ］または化合物（３）［Ｒ4
がＨ］のハロゲン化による化合物（１）［ＺがＨ、Ｒ4
がハロゲン原子］または化合物（３）［Ｒ4がハロゲン
原子］の製造法ならびに化合物（１）。
Description
【発明の属する技術分野】本発明は、農薬、特に優れた
殺菌活性を有する化合物を製造するための中間体とこれ
らの製法に関するものである。
殺菌活性を有する化合物を製造するための中間体とこれ
らの製法に関するものである。
【従来の技術】国際出願公開第ＷＯ９９／２１８５１号
公報および日本特許出願平１１−１１４７０６号に、殺
菌活性有するインドール誘導体の製法として、１Ｈ−イ
ンドール誘導体と３−クロロスルホニル−１−（Ｎ，Ｎ
−ジメチルスルファモイル）−１，２，４−トリアゾー
ルの縮合が記載されている。インドール環の３位にハロ
ゲン原子が導入された１Ｈ−インドール誘導体は３位無
置体に比べ不安定であることから、インドール環を安定
に保ちながら最終化合物へと導く製法が求められてき
た。
公報および日本特許出願平１１−１１４７０６号に、殺
菌活性有するインドール誘導体の製法として、１Ｈ−イ
ンドール誘導体と３−クロロスルホニル−１−（Ｎ，Ｎ
−ジメチルスルファモイル）−１，２，４−トリアゾー
ルの縮合が記載されている。インドール環の３位にハロ
ゲン原子が導入された１Ｈ−インドール誘導体は３位無
置体に比べ不安定であることから、インドール環を安定
に保ちながら最終化合物へと導く製法が求められてき
た。
【発明が解決しようとする課題】本願発明者らは上記の
課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、以下の中間体
及び製法を見い出し、本発明を完成させた。すなわち、
本発明は下記［１］から［１０］に関するものである。
課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、以下の中間体
及び製法を見い出し、本発明を完成させた。すなわち、
本発明は下記［１］から［１０］に関するものである。
【課題を解決するための手段】［１］ 式（１）
【化６】 ［式中、Ｒ3はＣ1-4アルキル基、Ｃ3-6シクロアルキル
基、ハロゲン原子、Ｃ1-4ハロアルキル基、ニトロ基、
シアノ基またはＣ1-4アルコキシカルボニル基を表し、
Ｒ4はＨまたはハロゲン原子を表し、ＺはＨ、アルカリ
金属またはアルカリ土類金属を表し、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7お
よびＲ8はそれぞれ独立して、Ｈ、ハロゲン原子、Ｃ1-4
アルキル基、Ｃ1-4ハロアルキル基、Ｃ1-4アルコキシ
基、Ｃ1-4ハロアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基
を表し、ＹはＨ、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、
Ｃ1-4 アルキルスルホニル基、Ｃ1-4ハロアルキル基、
Ｃ1-4アルキル基またはＣ1-4アルコキシ基を表す。］で
表されるインドール誘導体を、塩基無し、或いは塩基存
在下、式（２）
基、ハロゲン原子、Ｃ1-4ハロアルキル基、ニトロ基、
シアノ基またはＣ1-4アルコキシカルボニル基を表し、
Ｒ4はＨまたはハロゲン原子を表し、ＺはＨ、アルカリ
金属またはアルカリ土類金属を表し、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7お
よびＲ8はそれぞれ独立して、Ｈ、ハロゲン原子、Ｃ1-4
アルキル基、Ｃ1-4ハロアルキル基、Ｃ1-4アルコキシ
基、Ｃ1-4ハロアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基
を表し、ＹはＨ、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、
Ｃ1-4 アルキルスルホニル基、Ｃ1-4ハロアルキル基、
Ｃ1-4アルキル基またはＣ1-4アルコキシ基を表す。］で
表されるインドール誘導体を、塩基無し、或いは塩基存
在下、式（２）
【化７】 ［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立してＣ1-4アルキル
基であるか、またはＲ1とＲ2とが一緒になって形成する
Ｃ4-6アルキレンもしくはＣ4-6アルキレンオキシを表
す。］で表される化合物と反応させることによる式
（３）
基であるか、またはＲ1とＲ2とが一緒になって形成する
Ｃ4-6アルキレンもしくはＣ4-6アルキレンオキシを表
す。］で表される化合物と反応させることによる式
（３）
【化８】 ［式中、Ｙ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およ
びＲ8は前記と同様の意味を表す。］で表されるインド
ール誘導体の製造法。 ［２］ 式（４）
びＲ8は前記と同様の意味を表す。］で表されるインド
ール誘導体の製造法。 ［２］ 式（４）
【化９】 ［式中、Ｒ3、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8は前記と同様の
意味を表す。］で表されるインドール誘導体と式（５）
意味を表す。］で表されるインドール誘導体と式（５）
【化１０】 ［式中、ＹおよびＺは前記と同様の意味を表す。］で表
されるクロロスルホニルトリアゾール誘導体とを塩基存
在下で反応させることによる、［１］記載の式（１）
［式中、Ｙ、Ｚ、Ｒ3、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8は前記
と同様の意味を表し、Ｒ4はＨを表す。］で表されるイ
ンドール誘導体の製造法。 ［３］ 請求項１記載の式（１）［式中、Ｙ、Ｒ3、
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ 8は前記と同様の意味を表し、Ｚ
およびＲ4はＨを表す。］で表されるインドール誘導体
をハロゲン化することによる、［１］記載の式（１）
［式中、Ｙ、Ｒ3、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8は前記と同
様の意味を表し、ＺはＨを表し、Ｒ4はハロゲン原子を
表す。］で表されるインドール誘導体の製造法。 ［４］ ［１］記載の式（３）［式中、Ｙ、Ｒ1、Ｒ2、
Ｒ3、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8は前記と同様の意味を表
し、Ｒ4はＨを表す。］で表されるインドール誘導体を
ハロゲン化することによる、［１］記載の式（３）［式
中、Ｙ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8は前
記と同様の意味を表し、Ｒ4はハロゲン原子を表す。］
で表されるインドール誘導体の製造法。 ［５］ ＹがＨである場合の［１］、［２］、［３］お
よび［４］記載の製造法。 ［６］ Ｒ1およびＲ2がメチル基である場合の、［１］
および［４］記載の製造法。 ［７］ Ｒ3がメチル基である場合の、［１］、
［２］、［３］および［４］記載の製造法。 ［８］ ［１］記載の式（１）で表されるインドール誘
導体。 ［９］ ＹがＨである、［１］記載の式（１）で表され
るインドール誘導体。 ［１０］ Ｒ3がメチルである、［１］記載の式（１）
で表されるインドール誘導体（以下、本発明化合物と表
記する。）。 なお、本願記載のインドール誘導体に以下のような互変
異性体が存在する場合は、本願はその全てを包含する。
されるクロロスルホニルトリアゾール誘導体とを塩基存
在下で反応させることによる、［１］記載の式（１）
［式中、Ｙ、Ｚ、Ｒ3、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8は前記
と同様の意味を表し、Ｒ4はＨを表す。］で表されるイ
ンドール誘導体の製造法。 ［３］ 請求項１記載の式（１）［式中、Ｙ、Ｒ3、
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ 8は前記と同様の意味を表し、Ｚ
およびＲ4はＨを表す。］で表されるインドール誘導体
をハロゲン化することによる、［１］記載の式（１）
［式中、Ｙ、Ｒ3、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8は前記と同
様の意味を表し、ＺはＨを表し、Ｒ4はハロゲン原子を
表す。］で表されるインドール誘導体の製造法。 ［４］ ［１］記載の式（３）［式中、Ｙ、Ｒ1、Ｒ2、
Ｒ3、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8は前記と同様の意味を表
し、Ｒ4はＨを表す。］で表されるインドール誘導体を
ハロゲン化することによる、［１］記載の式（３）［式
中、Ｙ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8は前
記と同様の意味を表し、Ｒ4はハロゲン原子を表す。］
で表されるインドール誘導体の製造法。 ［５］ ＹがＨである場合の［１］、［２］、［３］お
よび［４］記載の製造法。 ［６］ Ｒ1およびＲ2がメチル基である場合の、［１］
および［４］記載の製造法。 ［７］ Ｒ3がメチル基である場合の、［１］、
［２］、［３］および［４］記載の製造法。 ［８］ ［１］記載の式（１）で表されるインドール誘
導体。 ［９］ ＹがＨである、［１］記載の式（１）で表され
るインドール誘導体。 ［１０］ Ｒ3がメチルである、［１］記載の式（１）
で表されるインドール誘導体（以下、本発明化合物と表
記する。）。 なお、本願記載のインドール誘導体に以下のような互変
異性体が存在する場合は、本願はその全てを包含する。
【０００１】
【化１１】
【発明の実施の形態】本発明化合物（１）並びに一般式
（２）、（３）、（４）、および（５）で表される化合
物において、Ｚとしては水素原子、ナトリウム、カリウ
ム、リチウム等が挙げられる。Ｙとしては、水素原子、
塩素原子、弗素原子、臭素原子、シアノ基、ニトロ基、
メタンスルホニル基、トリフルオロメチル基、メチル
基、エチル基、プロピル基、メトキシ基等が挙げられ
る。Ｒ1およびＲ2としては、それぞれ独立して、メチル
基またはエチル基が挙げられる。また、Ｒ1とＲ2とが一
緒になって形成するＣ4-6アルキレンもしくはＣ4-6アル
キレンオキシとしてはピロリジン、ピペリジンまたはモ
ルホリン環を形成する例が挙げられる。Ｒ3としてはメ
チル基、エチル基、プロピル基、シクロプロピル基、塩
素原子、弗素原子、臭素原子、トリフルオロメチル基、
ニトロ基、シアノ基、メトキシカルボニル基、エトキシ
カルボニル基等が挙げられる。Ｒ4としてはＨ、弗素原
子、塩素原子、臭素原子、沃素原子が挙げられる。
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8としてはそれぞれ独立して、水素原
子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、トリフ
ルオロメチル基、メトキシ基、トリフルオロメトキシ
基、ジフルオロメチル基、ジフルオロメトキシ基、シア
ノ基、ニトロ基等が挙げられる。次に本発明化合物
（１）の例を第１表に具体的に示す。但し、本発明化合
物はこれらのみに限定されるものではない。また、例示
の化合物群に互変異性体が存在する場合は、本願はその
全てを包含する。なお、表中のＭｅはメチル基を、Ｅｔ
はエチル基を表す。第１表
（２）、（３）、（４）、および（５）で表される化合
物において、Ｚとしては水素原子、ナトリウム、カリウ
ム、リチウム等が挙げられる。Ｙとしては、水素原子、
塩素原子、弗素原子、臭素原子、シアノ基、ニトロ基、
メタンスルホニル基、トリフルオロメチル基、メチル
基、エチル基、プロピル基、メトキシ基等が挙げられ
る。Ｒ1およびＲ2としては、それぞれ独立して、メチル
基またはエチル基が挙げられる。また、Ｒ1とＲ2とが一
緒になって形成するＣ4-6アルキレンもしくはＣ4-6アル
キレンオキシとしてはピロリジン、ピペリジンまたはモ
ルホリン環を形成する例が挙げられる。Ｒ3としてはメ
チル基、エチル基、プロピル基、シクロプロピル基、塩
素原子、弗素原子、臭素原子、トリフルオロメチル基、
ニトロ基、シアノ基、メトキシカルボニル基、エトキシ
カルボニル基等が挙げられる。Ｒ4としてはＨ、弗素原
子、塩素原子、臭素原子、沃素原子が挙げられる。
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8としてはそれぞれ独立して、水素原
子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、トリフ
ルオロメチル基、メトキシ基、トリフルオロメトキシ
基、ジフルオロメチル基、ジフルオロメトキシ基、シア
ノ基、ニトロ基等が挙げられる。次に本発明化合物
（１）の例を第１表に具体的に示す。但し、本発明化合
物はこれらのみに限定されるものではない。また、例示
の化合物群に互変異性体が存在する場合は、本願はその
全てを包含する。なお、表中のＭｅはメチル基を、Ｅｔ
はエチル基を表す。第１表
【０００２】
【化１２】
【０００３】
【表１】 ――――――――――――――――――――――――――――――――――― Ｒ3 Ｒ5 Ｒ6 Ｒ7 Ｒ8 Ｒ４ Ｙ Ｚ ――――――――――――――――――――――――――――――――――― Me H H H H H H H Me F H F H H H H Me F H F H H H K Me F H F H H H Na Me H F F H H H H Me H F F H H H K Me H F F H H H Na Me H H F H H H H Me H H F H H H K Me H H F H H H Na CF3 H H H H H H H CF3 H H F H H H H CF3 F H F H H H H CF3 F H H H H H H CN H H H H H H H CN H H F H H H H CN F H F H H H H Cl H H H H H H H Cl H H F H H H H Cl F H F H H H H CO2Me H H H H H H H CO2Me H H F H H H H CO2Me F H F H H H H CO2Et H H H H H H H Me H H H H Cl H H Me F H F H Cl H H Me F H F H Cl H K Me F H F H Cl H Na Me H F F H Cl H H Me H F F H Cl H K Me H F F H Cl H Na Me H H F H Cl H H Me H H F H Cl H K Me H H F H Cl H Na CF3 H H H H Cl H H CF3 H H F H Cl H H CF3 F H F H Cl H H CF3 F H H H Cl H H CN H H H H Cl H H CN H H F H Cl H H CN F H F H Cl H H Cl H H H H Cl H H Cl H H F H Cl H H Cl F H F H Cl H H CO2Me H H H H Cl H H CO2Me H H F H Cl H H CO2Me F H F H Cl H H CO2Et H H H H Cl H H Me H H H H Br H H Me F H F H Br H H Me F H F H Br H K Me F H F H Br H Na Me H F F H Br H H Me H F F H Br H K Me H F F H Br H Na Me H H F H Br H H Me H H F H Br H K Me H H F H Br H Na CF3 H H H H Br H H CF3 H H F H Br H H CF3 F H F H Br H H CF3 F H H H Br H H CN H H H H Br H H CN H H F H Br H H CN F H F H Br H H Cl H H H H Br H H Cl H H F H Br H H Cl F H F H Br H H CO2Me H H H H Br H H CO2Me H H F H Br H H CO2Me F H F H Br H H CO2Et H H H H Br H H Me H H H H F H H Me F H F H F H H Me F H F H F H K Me F H F H F H Na Me H F F H F H H Me H F F H F H K Me H F F H F H Na Me H H F H F H H Me H H F H F H K Me H H F H F H Na CF3 H H H H F H H CF3 H H F H F H H CF3 F H F H F H H CF3 F H H H F H H CN H H H H F H H CN H H F H F H H CN F H F H F H H Cl H H H H F H H Cl H H F H F H H Cl F H F H F H H CO2Me H H H H F H H CO2Me H H F H F H H CO2Me F H F H F H H CO2Et H H H H F H H ――――――――――――――――――――――――――――――――――― 次に本発明化合物の製造法について反応スキームで示
し、以下に説明する。但し、式中、Ｙ、Ｚ、Ｒ1、Ｒ2、
Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8は前記と同様の意味
を表し、Ｈａｌはハロゲン原子を表す。
し、以下に説明する。但し、式中、Ｙ、Ｚ、Ｒ1、Ｒ2、
Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8は前記と同様の意味
を表し、Ｈａｌはハロゲン原子を表す。
【化１３】
【化１４】 （反応式Ａ）で表される反応において、インドール誘導
体（４：Ｒ4＝Ｈ）に対して溶媒中、０．５〜４倍モ
ル、好ましくは０．８〜２倍モルのクロロスルホニルト
リアゾール誘導体（５）および０．５〜１２当量、好ま
しくは１．３〜６当量の塩基存在下、−７８℃から溶媒
の沸点の間で、好ましくは、−２０〜１３０℃の反応温
度で、３０分〜７２時間、好ましくは１〜２４時間反応
させることにより、本発明化合物（１：Ｒ4＝Ｈ）を製
造することができる。溶媒は反応に対して不活性であれ
ばよく、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメ
トキシエタン等のエーテル類、アセトニトリル等のニト
リル類、キシレン、トルエン、クロロベンゼン等の芳香
族炭化水素類、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン等の
ケトン類、ピリジン、トリエチルアミン等の第３級アミ
ン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド、
スルホラン等の硫黄化合物、ニトロエタン、ニトロベン
ゼン等のニトロ化合物、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエ
ステル類、あるいはそれらの混合物が用いられる。塩基
としては例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシド、カリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド等の金属ア
ルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等の有機金
属アミド、ｎ−ブチルリチウム等の有機金属化合物、ピ
リジン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルアニリン、トリブチルアミン、トリエチルアミン、ジ
エチルイソプロピルアミン等の有機塩基、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸水素カリウム等の無機塩基、水素化ナトリウ
ム、水素化カリウム等の金属水素化物を用いることがで
きる。尚、本法の出発原料である化合物（４：Ｒ4＝
Ｈ）および（５）は、それぞれ公知の方法、例えばＡｌ
ａｎ Ｒ.Ｋａｔｒｉｔｚｋｙ “Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎ
ｓｉｖｅ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔ
ｒｙ”，Ｖｏｌｕｍｅ４， Ｐａｒｔ ３， ｐｐ３１
３−３７６（１９８４）に記載の方法、また３−メルカ
プト−１，２，４−トリアゾールの塩素酸化反応、例え
ば、オーストリア特許Ｎｒ．３３１０７２に記載の方
法、あるいはそれに準じた方法により合成することがで
きる。（反応式Ｂ）で表される反応において、本発明化
合物（１：Ｒ4＝Ｈ）に対して溶媒中、０．５〜２０倍
モル、好ましくは０．８〜１０倍モルのハロゲン化剤と
必要に応じて塩基を共存させ、−３０℃から溶媒の沸点
の間で、好ましくは、−１０〜１３０℃の反応温度で、
３０分〜４８時間、好ましくは１〜２４時間反応させる
ことにより、本発明化合物（１：Ｒ4＝Ｈａｌ）を製造
することができる。ハロゲン化剤としては例えば、塩
素、臭素、塩化スルフリル、Ｎ−クロロコハク酸イミ
ド、ｔｅｒｔ−ブチルハイポクロライド、Ｎ−ブロモコ
ハク酸イミド、塩化ヨウ素、トリフルオロメチルスルホ
ニルクロライド、Ｎ−フルオロ−４，６−ジメチルピリ
ジニウム−２−スルホネートなどが挙げられる。溶媒は
反応に対して不活性であればよく、例えばジクロロエタ
ン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、酢酸、プ
ロピオン酸等の有機酸類、水、キシレン、トルエン、ク
ロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等
のニトリル類、ニトロエタン、ニトロベンゼン等のニト
ロ化合物、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキ
シエタン等のエーテル類、あるいはそれらの混合物が用
いられる。塩基としては例えば、ピリジン、４−ジメチ
ルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリブ
チルアミン、トリエチルアミン、ジエチルイソプロピル
アミン等の有機塩基、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウ
ム等の無機塩基などが挙げられる。（反応式Ｃ）で表さ
れる反応において、本発明化合物（１）に対して、溶媒
中、０．５〜５倍モル、好ましくは０．８〜２倍モルの
スルファモイルクロライド誘導体（２）および本発明化
合物（１）のＺがＨの場合に限り（２）に対して１．０
〜４．０当量、好ましくは１．０〜１．５当量の塩基を
共存させ、−７８℃から溶媒の沸点の間で、好ましくは
−１０〜１３０℃の反応温度で、３０分〜７２時間、好
ましくは１〜４８時間反応させることにより、化合物
（３）を製造することができる。溶媒は反応に対して不
活性であればよく、例えばテトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジメトキシエタン等のエーテル類、アセトニトリ
ル等のニトリル類、キシレン、トルエン、クロロベンゼ
ン等の芳香族炭化水素類、ジクロロエタン、クロロホル
ム等のハロゲン化炭化水素類、アセトン、メチルエチル
ケトン等のケトン類、ピリジン、トリエチルアミン等の
第３級アミン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスル
ホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、ニトロエタン、
ニトロベンゼン等のニトロ化合物、酢酸エチル、酢酸ブ
チル等のエステル類、あるいはそれらの混合物が用いら
れる。塩基としては例えば、ナトリウムメトキシド、ナ
トリウムエトキシド、カリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド
等の金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド
等の有機金属アミド、ｎ−ブチルリチウム等の有機金属
化合物、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，
Ｎ−ジエチルアニリン、トリブチルアミン、トリエチル
アミン、ジエチルイソプロピルアミン等の有機塩基、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、酢酸ナトリウム、酢
酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭
酸カリウム、炭酸水素カリウム等の無機塩基、水素化ナ
トリウム、水素化カリウム等の金属水素化物を用いるこ
とができる。（反応式Ｄ）で表される反応において、イ
ンドール誘導体（３：Ｒ4＝Ｈ）に対して溶媒中、０．
５〜２０倍モル、好ましくは０．８〜１０倍モルのハロ
ゲン化剤と必要に応じて塩基を共存させ、−３０℃から
溶媒の沸点の間で、好ましくは、−１０〜１３０℃の反
応温度で、３０分〜４８時間、好ましくは１〜２４時間
反応させることにより、化合物（３：Ｒ4＝Ｈａｌ）を
製造することができる。ハロゲン化剤としては、例え
ば、塩素、臭素、塩化スルフリル、Ｎ−クロロコハク酸
イミド、ｔｅｒｔ−ブチルハイポクロライド、Ｎ−ブロ
モコハク酸イミド、塩化ヨウ素、トリフルオロメチルス
ルホニルクロライド、Ｎ−フルオロ−４，６−ジメチル
ピリジニウム−２−スルホネートなどが挙げられる。溶
媒は反応に対して不活性であればよく、例えばジクロロ
エタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、酢
酸、プロピオン酸等の有機酸類、水、キシレン、トルエ
ン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトニト
リル等のニトリル類、ニトロエタン、ニトロベンゼン等
のニトロ化合物、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
メトキシエタン等のエーテル類、あるいはそれらの混合
物が用いられる。塩基としては例えば、ピリジン、４−
ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、
トリブチルアミン、トリエチルアミン、ジエチルイソプ
ロピルアミン等の有機塩基、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム、炭酸水素ナ
トリウム等の無機塩基などが挙げられる。次に実施例に
より、本発明の内容を具体的に説明するが、本発明はこ
れらのみに限定されるべきものではない。 ［実施例−１］ ３−（６−フルオロ−２−メチルインドール−１−イ
ル）スルホニル−１，２，４−トリアゾールの製造 ３−クロロスルホニル−１，２，４−トリアゾール５０
６ｍｇとアセトニトリル２０ｍｌの混合物を氷冷し、そ
の中へ６−フルオロ−２−メチルインドール４５０ｍ
ｇ、カリウムｔｅｒｔ−ブトキサイド７００ｍｇそして
アセトニトリル２０ｍｌの懸濁溶液を滴下した。０℃で
１時間撹拌した後、室温迄一夜、放冷撹拌した。反応液
をロ過し不溶物を除去した後、ロ液を減圧下溶媒留去し
た。得られた茶色固体にクロロホルムを入れ１時間撹拌
した。混合物をロ過し、ロ液を減圧下、クロロホルムを
留去し、６−フルオロ−２−メチルインドール４００ｍ
ｇを淡橙固体として回収した。クロロホルム不溶物を乾
燥後、水を入れ撹拌し、不溶物をロ別した後、得られた
水溶液の中へ少量の氷を入れ、酢酸で酸沈した。析出し
た固体をロ取し、水洗後、ポンプで乾燥し標題化合物５
４ｍｇをベージュ色固体として得た。 融点２１５−２１８℃ ［実施例−２］ ３−（３−ブロモ−６−フルオロ−２−メチルインドー
ル−１−イル）スルホニル−１，２，４−トリアゾール
の製造 ３−（６−フルオロ−２−メチルインドール−１−イ
ル）スルホニル−１，２，４−トリアゾール３００ｍ
ｇ、ピリジン１００ｍｇそしてアセトニトリル１０ｍｌ
の混合溶液の中へ、室温で臭素１８９ｍｇ、アセトニト
リル２ｍｌの溶液を添加した。１晩撹拌後、チオ硫酸ナ
トリウム水溶液を入れ３０分撹拌後、減圧下、アセトニ
トリルを留去した。残渣に酢酸エチルと水を加え抽出
し、希塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩
水の順に洗浄し、酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで
乾燥した。酢酸エチルを減圧下、留去した後、残渣にｉ
ｓｏ−プロピルエーテルを加え還流し、熱時ロ過し不溶
物を除去した。ｉｓｏ−プロピルエーテルを減圧下留去
しポンプで乾燥し標題化合物２６０ｍｇを薄茶紫色結晶
として得た。 融点２１７−２１８℃ ［実施例−３］ ３−（３−ブロモ−６−フルオロ−２−メチルインドー
ル−１−イル）スルホニル−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルス
ルファモイル）−１，２，４−トリアゾールの製造 ３−（３−ブロモ−６−フルオロ−２−メチルインドー
ル−１−イル）スルホニル−１，２，４−トリアゾール
２４０ｍｇ、炭酸カリウム９７ｍｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチル
スルファモイルクロライド１２４ｍｇそしてＮ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド９ｍｌの混合物を室温で２日間撹拌
した。反応終了後、反応溶液に水を加え、酢酸エチルで
抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で
洗浄後、有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水した。酢酸
エチルを減圧下留去し、標題化合物３００ｍｇを薄茶紫
色結晶として得た。 融点１２３−１２４℃ この化合物は国際出願公開第ＷＯ９９／２１８５１号公
報記載の殺菌剤である。 ［実施例−４］ ３−（６−フルオロ−２−メチルインドール−１−イ
ル）スルホニル−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイ
ル）−１，２，４−トリアゾールの製造 ３−（６−フルオロ−２−メチルインドール−１−イ
ル）スルホニル−１，２，４−トリアゾール３００ｍ
ｇ、炭酸カリウム１５５ｍｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルフ
ァモイルクロライド１８７ｍｇそしてＮ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド１０ｍｌの混合物を室温で２日間撹拌し
た。反応終了後、反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽
出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗
浄後、有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水した。酢酸エ
チルを減圧下留去し、得られた粗物をシリカゲル分取薄
層クロマト（展開液：酢酸エチル／ヘキサン＝１／１）
で精製分離し標題化合物２００ｍｇを白色結晶として得
た。 融点１１８．５−１２０．５℃ ［実施例−５］ ３−（３−ブロモ−６−フルオロ−２−メチルインドー
ル−１−イル）スルホニル−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルス
ルファモイル）−１，２，４−トリアゾールの製造 ３−（６−フルオロ−２−メチルインドール−１−イ
ル）スルホニル−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイ
ル）−１，２，４−トリアゾール３８７ｍｇと塩化メチ
レン３ｍｌの混合溶液に氷冷下、臭素１６０ｍｇと塩化
メチレン２ｍｌの溶液を添加した。３０分撹拌後、反応
混合物をクロロホルムで抽出し、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナト
リウムで脱水した。減圧下、溶媒を留去し、得られた残
渣をシリカゲルカラム（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル
＝２／１）で分離精製し、標題化合物３６０ｍｇを白色
結晶とした得た。 融点１２３−１２４℃ この化合物は国際出願公開第ＷＯ９９／２１８５１号公
報記載の殺菌剤である。
体（４：Ｒ4＝Ｈ）に対して溶媒中、０．５〜４倍モ
ル、好ましくは０．８〜２倍モルのクロロスルホニルト
リアゾール誘導体（５）および０．５〜１２当量、好ま
しくは１．３〜６当量の塩基存在下、−７８℃から溶媒
の沸点の間で、好ましくは、−２０〜１３０℃の反応温
度で、３０分〜７２時間、好ましくは１〜２４時間反応
させることにより、本発明化合物（１：Ｒ4＝Ｈ）を製
造することができる。溶媒は反応に対して不活性であれ
ばよく、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメ
トキシエタン等のエーテル類、アセトニトリル等のニト
リル類、キシレン、トルエン、クロロベンゼン等の芳香
族炭化水素類、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン等の
ケトン類、ピリジン、トリエチルアミン等の第３級アミ
ン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド、
スルホラン等の硫黄化合物、ニトロエタン、ニトロベン
ゼン等のニトロ化合物、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエ
ステル類、あるいはそれらの混合物が用いられる。塩基
としては例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシド、カリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド等の金属ア
ルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等の有機金
属アミド、ｎ−ブチルリチウム等の有機金属化合物、ピ
リジン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルアニリン、トリブチルアミン、トリエチルアミン、ジ
エチルイソプロピルアミン等の有機塩基、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸水素カリウム等の無機塩基、水素化ナトリウ
ム、水素化カリウム等の金属水素化物を用いることがで
きる。尚、本法の出発原料である化合物（４：Ｒ4＝
Ｈ）および（５）は、それぞれ公知の方法、例えばＡｌ
ａｎ Ｒ.Ｋａｔｒｉｔｚｋｙ “Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎ
ｓｉｖｅ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔ
ｒｙ”，Ｖｏｌｕｍｅ４， Ｐａｒｔ ３， ｐｐ３１
３−３７６（１９８４）に記載の方法、また３−メルカ
プト−１，２，４−トリアゾールの塩素酸化反応、例え
ば、オーストリア特許Ｎｒ．３３１０７２に記載の方
法、あるいはそれに準じた方法により合成することがで
きる。（反応式Ｂ）で表される反応において、本発明化
合物（１：Ｒ4＝Ｈ）に対して溶媒中、０．５〜２０倍
モル、好ましくは０．８〜１０倍モルのハロゲン化剤と
必要に応じて塩基を共存させ、−３０℃から溶媒の沸点
の間で、好ましくは、−１０〜１３０℃の反応温度で、
３０分〜４８時間、好ましくは１〜２４時間反応させる
ことにより、本発明化合物（１：Ｒ4＝Ｈａｌ）を製造
することができる。ハロゲン化剤としては例えば、塩
素、臭素、塩化スルフリル、Ｎ−クロロコハク酸イミ
ド、ｔｅｒｔ−ブチルハイポクロライド、Ｎ−ブロモコ
ハク酸イミド、塩化ヨウ素、トリフルオロメチルスルホ
ニルクロライド、Ｎ−フルオロ−４，６−ジメチルピリ
ジニウム−２−スルホネートなどが挙げられる。溶媒は
反応に対して不活性であればよく、例えばジクロロエタ
ン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、酢酸、プ
ロピオン酸等の有機酸類、水、キシレン、トルエン、ク
ロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等
のニトリル類、ニトロエタン、ニトロベンゼン等のニト
ロ化合物、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキ
シエタン等のエーテル類、あるいはそれらの混合物が用
いられる。塩基としては例えば、ピリジン、４−ジメチ
ルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリブ
チルアミン、トリエチルアミン、ジエチルイソプロピル
アミン等の有機塩基、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウ
ム等の無機塩基などが挙げられる。（反応式Ｃ）で表さ
れる反応において、本発明化合物（１）に対して、溶媒
中、０．５〜５倍モル、好ましくは０．８〜２倍モルの
スルファモイルクロライド誘導体（２）および本発明化
合物（１）のＺがＨの場合に限り（２）に対して１．０
〜４．０当量、好ましくは１．０〜１．５当量の塩基を
共存させ、−７８℃から溶媒の沸点の間で、好ましくは
−１０〜１３０℃の反応温度で、３０分〜７２時間、好
ましくは１〜４８時間反応させることにより、化合物
（３）を製造することができる。溶媒は反応に対して不
活性であればよく、例えばテトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジメトキシエタン等のエーテル類、アセトニトリ
ル等のニトリル類、キシレン、トルエン、クロロベンゼ
ン等の芳香族炭化水素類、ジクロロエタン、クロロホル
ム等のハロゲン化炭化水素類、アセトン、メチルエチル
ケトン等のケトン類、ピリジン、トリエチルアミン等の
第３級アミン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスル
ホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、ニトロエタン、
ニトロベンゼン等のニトロ化合物、酢酸エチル、酢酸ブ
チル等のエステル類、あるいはそれらの混合物が用いら
れる。塩基としては例えば、ナトリウムメトキシド、ナ
トリウムエトキシド、カリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド
等の金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド
等の有機金属アミド、ｎ−ブチルリチウム等の有機金属
化合物、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，
Ｎ−ジエチルアニリン、トリブチルアミン、トリエチル
アミン、ジエチルイソプロピルアミン等の有機塩基、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、酢酸ナトリウム、酢
酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭
酸カリウム、炭酸水素カリウム等の無機塩基、水素化ナ
トリウム、水素化カリウム等の金属水素化物を用いるこ
とができる。（反応式Ｄ）で表される反応において、イ
ンドール誘導体（３：Ｒ4＝Ｈ）に対して溶媒中、０．
５〜２０倍モル、好ましくは０．８〜１０倍モルのハロ
ゲン化剤と必要に応じて塩基を共存させ、−３０℃から
溶媒の沸点の間で、好ましくは、−１０〜１３０℃の反
応温度で、３０分〜４８時間、好ましくは１〜２４時間
反応させることにより、化合物（３：Ｒ4＝Ｈａｌ）を
製造することができる。ハロゲン化剤としては、例え
ば、塩素、臭素、塩化スルフリル、Ｎ−クロロコハク酸
イミド、ｔｅｒｔ−ブチルハイポクロライド、Ｎ−ブロ
モコハク酸イミド、塩化ヨウ素、トリフルオロメチルス
ルホニルクロライド、Ｎ−フルオロ−４，６−ジメチル
ピリジニウム−２−スルホネートなどが挙げられる。溶
媒は反応に対して不活性であればよく、例えばジクロロ
エタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、酢
酸、プロピオン酸等の有機酸類、水、キシレン、トルエ
ン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトニト
リル等のニトリル類、ニトロエタン、ニトロベンゼン等
のニトロ化合物、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
メトキシエタン等のエーテル類、あるいはそれらの混合
物が用いられる。塩基としては例えば、ピリジン、４−
ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、
トリブチルアミン、トリエチルアミン、ジエチルイソプ
ロピルアミン等の有機塩基、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム、炭酸水素ナ
トリウム等の無機塩基などが挙げられる。次に実施例に
より、本発明の内容を具体的に説明するが、本発明はこ
れらのみに限定されるべきものではない。 ［実施例−１］ ３−（６−フルオロ−２−メチルインドール−１−イ
ル）スルホニル−１，２，４−トリアゾールの製造 ３−クロロスルホニル−１，２，４−トリアゾール５０
６ｍｇとアセトニトリル２０ｍｌの混合物を氷冷し、そ
の中へ６−フルオロ−２−メチルインドール４５０ｍ
ｇ、カリウムｔｅｒｔ−ブトキサイド７００ｍｇそして
アセトニトリル２０ｍｌの懸濁溶液を滴下した。０℃で
１時間撹拌した後、室温迄一夜、放冷撹拌した。反応液
をロ過し不溶物を除去した後、ロ液を減圧下溶媒留去し
た。得られた茶色固体にクロロホルムを入れ１時間撹拌
した。混合物をロ過し、ロ液を減圧下、クロロホルムを
留去し、６−フルオロ−２−メチルインドール４００ｍ
ｇを淡橙固体として回収した。クロロホルム不溶物を乾
燥後、水を入れ撹拌し、不溶物をロ別した後、得られた
水溶液の中へ少量の氷を入れ、酢酸で酸沈した。析出し
た固体をロ取し、水洗後、ポンプで乾燥し標題化合物５
４ｍｇをベージュ色固体として得た。 融点２１５−２１８℃ ［実施例−２］ ３−（３−ブロモ−６−フルオロ−２−メチルインドー
ル−１−イル）スルホニル−１，２，４−トリアゾール
の製造 ３−（６−フルオロ−２−メチルインドール−１−イ
ル）スルホニル−１，２，４−トリアゾール３００ｍ
ｇ、ピリジン１００ｍｇそしてアセトニトリル１０ｍｌ
の混合溶液の中へ、室温で臭素１８９ｍｇ、アセトニト
リル２ｍｌの溶液を添加した。１晩撹拌後、チオ硫酸ナ
トリウム水溶液を入れ３０分撹拌後、減圧下、アセトニ
トリルを留去した。残渣に酢酸エチルと水を加え抽出
し、希塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩
水の順に洗浄し、酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで
乾燥した。酢酸エチルを減圧下、留去した後、残渣にｉ
ｓｏ−プロピルエーテルを加え還流し、熱時ロ過し不溶
物を除去した。ｉｓｏ−プロピルエーテルを減圧下留去
しポンプで乾燥し標題化合物２６０ｍｇを薄茶紫色結晶
として得た。 融点２１７−２１８℃ ［実施例−３］ ３−（３−ブロモ−６−フルオロ−２−メチルインドー
ル−１−イル）スルホニル−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルス
ルファモイル）−１，２，４−トリアゾールの製造 ３−（３−ブロモ−６−フルオロ−２−メチルインドー
ル−１−イル）スルホニル−１，２，４−トリアゾール
２４０ｍｇ、炭酸カリウム９７ｍｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチル
スルファモイルクロライド１２４ｍｇそしてＮ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド９ｍｌの混合物を室温で２日間撹拌
した。反応終了後、反応溶液に水を加え、酢酸エチルで
抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で
洗浄後、有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水した。酢酸
エチルを減圧下留去し、標題化合物３００ｍｇを薄茶紫
色結晶として得た。 融点１２３−１２４℃ この化合物は国際出願公開第ＷＯ９９／２１８５１号公
報記載の殺菌剤である。 ［実施例−４］ ３−（６−フルオロ−２−メチルインドール−１−イ
ル）スルホニル−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイ
ル）−１，２，４−トリアゾールの製造 ３−（６−フルオロ−２−メチルインドール−１−イ
ル）スルホニル−１，２，４−トリアゾール３００ｍ
ｇ、炭酸カリウム１５５ｍｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルフ
ァモイルクロライド１８７ｍｇそしてＮ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド１０ｍｌの混合物を室温で２日間撹拌し
た。反応終了後、反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽
出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗
浄後、有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水した。酢酸エ
チルを減圧下留去し、得られた粗物をシリカゲル分取薄
層クロマト（展開液：酢酸エチル／ヘキサン＝１／１）
で精製分離し標題化合物２００ｍｇを白色結晶として得
た。 融点１１８．５−１２０．５℃ ［実施例−５］ ３−（３−ブロモ−６−フルオロ−２−メチルインドー
ル−１−イル）スルホニル−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルス
ルファモイル）−１，２，４−トリアゾールの製造 ３−（６−フルオロ−２−メチルインドール−１−イ
ル）スルホニル−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイ
ル）−１，２，４−トリアゾール３８７ｍｇと塩化メチ
レン３ｍｌの混合溶液に氷冷下、臭素１６０ｍｇと塩化
メチレン２ｍｌの溶液を添加した。３０分撹拌後、反応
混合物をクロロホルムで抽出し、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナト
リウムで脱水した。減圧下、溶媒を留去し、得られた残
渣をシリカゲルカラム（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル
＝２／１）で分離精製し、標題化合物３６０ｍｇを白色
結晶とした得た。 融点１２３−１２４℃ この化合物は国際出願公開第ＷＯ９９／２１８５１号公
報記載の殺菌剤である。
【発明の効果】本発明の化合物および製造法は、農薬、
特に優れた殺菌作用を示す化合物を製造するための中間
体およびその製造法として有用である。
特に優れた殺菌作用を示す化合物を製造するための中間
体およびその製造法として有用である。
Claims (10)
- 【請求項１】 式（１） 【化１】 ［式中、Ｒ3はＣ1-4アルキル基、Ｃ3-6シクロアルキル
基、ハロゲン原子、Ｃ1-4ハロアルキル基、ニトロ基、
シアノ基またはＣ1-4アルコキシカルボニル基を表し、
Ｒ4はＨまたはハロゲン原子を表し、ＺはＨ、アルカリ
金属またはアルカリ土類金属を表し、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7お
よびＲ8はそれぞれ独立して、Ｈ、ハロゲン原子、Ｃ1-4
アルキル基、Ｃ1-4ハロアルキル基、Ｃ1-4アルコキシ
基、Ｃ1-4ハロアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基
を表し、ＹはＨ、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、
Ｃ1-4 アルキルスルホニル基、Ｃ1-4ハロアルキル基、
Ｃ1-4アルキル基またはＣ1-4アルコキシ基を表す。］で
表されるインドール誘導体を、塩基無し、或いは塩基存
在下、式（２） 【化２】 ［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立してＣ1-4アルキル
基であるか、またはＲ1とＲ2とが一緒になって形成する
Ｃ4-6アルキレンもしくはＣ4-6アルキレンオキシを表
す。］で表される化合物と反応させることによる式
（３） 【化３】 ［式中、Ｙ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およ
びＲ8は前記と同様の意味を表す。］で表されるインド
ール誘導体の製造法。 - 【請求項２】 式（４） 【化４】 ［式中、Ｒ3、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8は前記と同様の
意味を表す。］で表されるインドール誘導体と式（５） 【化５】 ［式中、ＹおよびＺは前記と同様の意味を表す。］で表
されるクロロスルホニルトリアゾール誘導体とを塩基存
在下で反応させることによる、請求項１記載の式（１）
［式中、Ｙ、Ｚ、Ｒ3、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8は前記
と同様の意味を表し、Ｒ4はＨを表す。］で表されるイ
ンドール誘導体の製造法。 - 【請求項３】請求項１記載の式（１）［式中、Ｙ、
Ｒ3、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8は前記と同様の意味を表
し、ＺおよびＲ4はＨを表す。］で表されるインドール
誘導体をハロゲン化することによる、請求項１記載の式
（１）［式中、Ｙ、Ｒ3、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8は前
記と同様の意味を表し、ＺはＨを表し、Ｒ4はハロゲン
原子を表す。］で表されるインドール誘導体の製造法。 - 【請求項４】請求項１記載の式（３）［式中、Ｙ、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5、Ｒ 6、Ｒ7およびＲ8は前記と同様
の意味を表し、Ｒ4はＨを表す。］で表されるインドー
ル誘導体をハロゲン化することによる、請求項１記載の
式（３）［式中、Ｙ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7お
よびＲ8は前記と同様の意味を表し、Ｒ4はハロゲン原子
を表す。］で表されるインドール誘導体の製造法。 - 【請求項５】 ＹがＨである場合の、請求項１、２、３
および４記載の製造法。 - 【請求項６】 Ｒ1およびＲ2がメチル基である場合の、
請求項１および４記載の製造法。 - 【請求項７】 Ｒ3がメチル基である場合の、請求項
１、２、３および４記載の製造法。 - 【請求項８】 請求項１記載の式（１）で表されるイン
ドール誘導体。 - 【請求項９】 ＹがＨである、請求項１記載の式（１）
で表されるインドール誘導体。 - 【請求項１０】 Ｒ3がメチルである、請求項１記載の
式（１）で表されるインドール誘導体。
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|---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000059356A JP2001247567A (ja) | 2000-03-03 | 2000-03-03 | ３−（２−置換インドール−１−イル）スルホニル−１，２，４−トリアゾール誘導体及び製造法 |
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|---|---|
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000059356A Pending JP2001247567A (ja) | 2000-03-03 | 2000-03-03 | ３−（２−置換インドール−１−イル）スルホニル−１，２，４−トリアゾール誘導体及び製造法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001247567A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104215730A (zh) * | 2014-09-16 | 2014-12-17 | 中国农业科学院烟草研究所 | 一种吲唑磺菌胺及其代谢物it-4残留量的检测方法 |
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2000
- 2000-03-03 JP JP2000059356A patent/JP2001247567A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104215730A (zh) * | 2014-09-16 | 2014-12-17 | 中国农业科学院烟草研究所 | 一种吲唑磺菌胺及其代谢物it-4残留量的检测方法 |
| CN104215730B (zh) * | 2014-09-16 | 2015-12-09 | 中国农业科学院烟草研究所 | 一种吲唑磺菌胺及其代谢物it-4残留量的检测方法 |
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