JP2001246242A - 放電処理装置 - Google Patents

放電処理装置

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JP2001246242A
JP2001246242A JP2000064044A JP2000064044A JP2001246242A JP 2001246242 A JP2001246242 A JP 2001246242A JP 2000064044 A JP2000064044 A JP 2000064044A JP 2000064044 A JP2000064044 A JP 2000064044A JP 2001246242 A JP2001246242 A JP 2001246242A
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敏雄 鈴木
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 酸素がフィルム等の処理対象物に随伴して処
理室内に入り込むのを抑止して、処理効果を向上させ
る。 【解決手段】 処理室８内の入口付近に酸素抑止用ノズ
ル１７を設け、このノズル１７からフィルム１へ向かっ
て窒素ガスをナイフ状に噴射してフィルム１に随伴する
酸素の浸入を抑止する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フィルム等を表面
改質する放電処理装置、特に、改質による接着性を向上
させるため、酸素濃度を希釈化したガス雰囲気中で放電
処理する放電処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】この種の放電処理装置として、特開平６
−１０７８２８号公報には、処理室内に酸素濃度希釈化
のために希ガスを吹き込みながら、希ガス雰囲気中で放
電電極と対向電極との間に放電を生じさせ、処理室のエ
アーシール壁と対向電極との間の隙間である入口から同
様の隙間である出口へと、フッ素フィルムをロール状の
対向電極で案内しながら走行させて、フッ素フィルムの
表面を改質する方法が開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、処理室
内に希ガスを吹き込んで、処理室内を希ガス雰囲気とし
たとしても、酸素が、エアーシール壁との間の隙間であ
る入口からフィルムに随伴して入り込むことは避けられ
ないが、従来はこれを防止する手段がなかった。
【０００４】そこで、本発明の目的は、酸素がフィルム
等の処理対象物に随伴して処理室内に入り込むのを簡単
に抑止できて、処理効果を向上させることができる放電
処理装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、処理室内の入
口付近に酸素抑止用ノズルを設け、このノズルから処理
対象物へ向かって酸素濃度希釈化のためのガスをナイフ
状に噴射して処理対象物に随伴する酸素の浸入を抑止す
るようにしたものである。
【０００６】酸素濃度希釈化のために処理室内に吹き込
むガスが窒素ガスである場合、酸素抑止用ノズルから噴
射するガスも窒素ガスとする。
【０００７】放電電極と対向電極との間の放電領域にお
けるガス雰囲気を安定にするため、酸素抑止用ノズルと
放電電極との間に仕切板を配置する。
【０００８】処理室内の酸素濃度を酸素濃度測定器で測
定すれば、酸素濃度に応じた制御ができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。
【００１０】図１及び図２において、本放電処理装置
は、処理するフィルム１の幅員に合わせて全体として横
長であり、電極カバーである本体２の複数箇所が水平な
フレーム３に取付ボルト４にて高さ調整可能に垂設され
ていることにより、全体の高さを調整できるようになっ
ている。
【００１１】本体２内には、高電圧を印加される横長の
放電電極５が碍子６を介して垂設され、アースされたロ
ール状の対向電極７の真上でこれと対向していて、本体
２の内部空間は、本体２自体と対向電極７とで囲まれた
処理室８となっている。放電電極５は、フレーム３に垂
直に装着された高さ調整用ねじ棒９により、対向電極７
との間の隙間を例えば０．５〜８ｍｍの範囲に調整でき
るようになっている。
【００１２】処理するフィルム１は、ロール状の対向電
極７の矢印方向の回転により、対向電極７の円弧面に沿
って同方向に案内されて走行する。この走行するフィル
ム１との接触を避けながら本体２の下周縁と対向電極７
の表面との隙間を出来るだけ小さくしてエアーシールす
るため、本体２の前後には、エアーシール壁となる前後
のエアーシール板１０・１１が傾斜させて垂設されてい
る。その傾斜は、ロール状の対向電極７の中心部へ指向
する向きとなっている。
【００１３】従って、フィルム１は、後側のエアーシー
ル板１１と対向電極７との隙間である入口１２から処理
室８内に入り、処理室８内で放電電極５と対向電極７と
の間の放電領域を通り過ぎてから、前側のエアーシール
板１０と対向電極７との隙間である出口１３より再び処
理室８外へ出る。後側のエアーシール板１１と対向電極
７との隙間（入口１２）及び前側のエアーシール板１０
と対向電極７との隙間（出口１３）は、エアーシール板
１０・１１により例えば０．５〜３ｍｍに調整できるよ
うになっている。
【００１４】処理室８内の上部には、多数の噴射孔１４
を有するガス吹き込み管１５が架設されている。このガ
ス吹き込み管１５は、放電処理によるフィルム１の改質
性を向上させるため、希ガスや不活性ガス、本例の場合
には窒素ガスを処理室８内に吹き込んで処理室８内の酸
素濃度を所定値以下に保つためのもので、多数の噴射孔
１４からの窒素ガスの噴射方向を変えられる構造になっ
ている。
【００１５】また、処理室８内には、ガス吹き込み管１
５の下側に、放電電極５と後側のエアーシール板１１と
の間を仕切る仕切板１６が垂設され、更にこの仕切板１
６と後側のエアーシール板１１との間に酸素抑止用ノズ
ル１７が架設されている。この酸素抑止用ノズル１７は
その噴射方向が可変となっていて、フィルム１の速度等
に応じて窒素ガスの噴射方向を調整する。
【００１６】酸素抑止用ノズル１７は、ガス吹き込み管
１５と同じガス、つまり窒素ガスを入口１２に向けてナ
イフ状に噴射して、フィルム１に随伴して浸入してくる
酸素を抑止する。
【００１７】更に、処理室８内には、放電電極５と前側
のエアーシール板１０との間の上方において、酸素濃度
を測定する酸素濃度測定器１８が配設されている。
【００１８】本放電処理装置は上記のように構成されて
いるので、走行するフィルム１は、放電電極５と対向電
極７との間の放電により窒素ガス雰囲気中において表面
処理される。フィルム１には、入口１２に付近で酸素抑
止用ノズル１７から窒素ガスがナイフ状に吹き付けられ
ているので、フィルム１に随伴して入口１２から入り込
んでくる酸素は、フィルム１上から切り取るようして処
理室８外へ返され、処理室８内への浸入を抑止される。
【００１９】放電電極５側に仕切板１６があるため、酸
素抑止用ノズル１７から窒素ガスを噴射しても、放電電
極５と対向電極７との間の放電環境を安定に保つことが
できる。処理室８内の酸素濃度を酸素濃度測定器１８に
て測定するので、その測定した濃度に応じてガス吹き込
み管１５からの吹き込み量及び酸素抑止用ノズル１７か
らの噴射量を自動調整することが可能である。
【００２０】
【発明の効果】本発明によれば、酸素がフィルム等の処
理対象物に随伴して処理室内に入り込むのを抑止して、
処理効果を向上させることができる。
【００２１】請求項３によれば、酸素抑止用ノズルと放
電電極との間に仕切板を配置したので、酸素抑止用ノズ
ルからガスを噴射しても、放電電極と対向電極との間の
放電環境を安定に保てる。
【００２２】請求項４によれば、処理室内の酸素濃度を
測定するので、その測定した濃度に応じてガス吹き込み
管からの吹き込み量及び酸素抑止用ノズルからの噴射量
を自動調整することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例の断面図である。
【図２】同上の一部省略正面図である。
【符号の説明】
１ フィルム ２ 本体 ３ フレーム ４ 取付ボルト ５ 放電電極 ６ 碍子 ７ 対向電極 ８ 処理室 ９ 高さ調整用ねじ棒 １０・１１ エアーシール板 １２ 入口 １３ 出口 １４ 噴射孔 １５ ガス吹き込み管 １６ 仕切板 １７ 酸素抑止用ノズル １８ 酸素濃度測定器

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】処理室内に酸素濃度希釈化のためのガスを
    吹き込みながら、そのガス雰囲気中で放電電極と対向電
    極との間に放電を生じさせ、処理室のエアーシール壁と
    対向電極との間の隙間である入口から同様の隙間である
    出口へとフィルム等の処理対象物を走行させて、処理対
    象物の表面を改質する放電処理装置において、前記処理
    室内の前記入口付近に、処理対象物へ向かって酸素濃度
    希釈化のためのガスをナイフ状に噴射して処理対象物に
    随伴する酸素の浸入を抑止する酸素抑止用ノズルを設け
    たことを特徴とする放電処理装置。
  2. 【請求項２】酸素濃度希釈化のためのガスが窒素ガスで
    あることを特徴とする請求項１に記載の放電処理装置。
  3. 【請求項３】酸素抑止用ノズルと放電電極との間に仕切
    板を配置したことを特徴とする請求項１又は２に記載の
    放電処理装置。
  4. 【請求項４】処理室内に、酸素濃度を測定する酸素濃度
    測定器を配設したことを特徴とする請求項１、２又は３
    に記載の放電処理装置。
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JP2020172063A (ja) * 2019-04-10 2020-10-22 春日電機株式会社 表面改質方法及び表面改質装置

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