JP2001235485A - 加速度センサ - Google Patents

加速度センサ

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JP2001235485A JP2000049049A JP2000049049A JP2001235485A JP 2001235485 A JP2001235485 A JP 2001235485A JP 2000049049 A JP2000049049 A JP 2000049049A JP 2000049049 A JP2000049049 A JP 2000049049A JP 2001235485 A JP2001235485 A JP 2001235485A
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chip
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Teruaki Nagahara
輝明 長原
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Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 加速度検出チップと信号処理チップとを備え
る加速度センサにおいて、両チップの配置を改善して加
速度センサの小型化を図る。 【解決手段】 加速度検出チップACaを、信号処理チ
ップSCaに設けられた貫通孔HL1の内部に配置す
る。また、キャップCPaを設けて樹脂封入パッケージ
を形成する際に加速度検出部ASに樹脂が流入しないよ
うにする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、自動車のエアバ
ッグシステムやアンチロックブレーキングシステム、ナ
ビゲーションシステム、またはその他の民生用機器等に
用いられる加速度センサに関する。
【0002】
【従来の技術】近年、例えば多くの自動車にエアバッグ
システムが搭載されるようになってきている。そして、
エアバッグシステムを構成する重要なデバイスの一つと
して、衝撃を検知するための加速度センサが挙げられ
る。加速度センサとは、物体に加わる加速度を電気信号
に変換して出力するセンサデバイスのことである。
【0003】加速度センサは近年では、フォトリソグラ
フィ技術やエッチング技術、マイクロマシン形成技術等
により加工された半導体基板を含む電子デバイスとして
形成されることが多い。そして、このような加速度セン
サは一般に、加速度を検出して電気信号として出力する
加速度検出チップと、加速度検出チップの出力信号を処
理して例えば加速度を数値化して出力する信号処理チッ
プとを備えていることが多い。
【0004】また、小型化・低コスト化への要求に答え
るために、加速度センサのパッケージも金属ケースから
樹脂封入したものへと置き換わりつつある。
【0005】図22および図23に加速度センサの備え
る加速度検出チップの一例を示す。なお、図22は上面
図であり、図23は図22中の切断線C−Cにおける断
面図を示している。この加速度検出チップACgは、表
面に加速度検出部ASが形成された半導体基板SBを備
えている。なお、半導体基板SBには例えばシリコン基
板等が採用される。
【0006】加速度検出部ASには、例えば、可動電極
MEと、可動電極MEを挟むようにして形成された二つ
の固定電極FE1,FE2とを備える構造が採用され
る。固定電極FE1,FE2はそれぞれ、加速度検出チ
ップACgが衝撃を受けても容易には揺れ動かないよ
う、その側面部及び底面部が半導体基板SBの表面に固
着されている。一方、可動電極MEは、その底面部の大
半は半導体基板SBとは固着されずにほとんど側面部の
みで半導体基板SBに固着され、図22に示す方向Pの
向きの衝撃に対し揺れ動きやすいように形成されてい
る。
【0007】半導体基板SBの表面には、固定電極FE
1に接続された配線ILc、固定電極FE2に接続され
た配線ILdおよび可動電極MEに接続された配線IL
eと、ワイヤボンディング用に各配線ILc〜ILeの
それぞれに接続されたパッド電極PDaとが形成されて
いる。
【0008】このような加速度検出チップACgによれ
ば、図22に示す方向Pの向きの衝撃を受けたときに、
可動電極MEと固定電極FE1,FE2のそれぞれとの
間の距離が増加あるいは減少する。よって、可動電極M
Eと固定電極FE1との間の静電容量の値および可動電
極MEと固定電極FE2との間の静電容量の値が変化す
るので、この容量値の変化量から加速度を検出すること
ができる。
【0009】図24は、加速度検出チップACgととも
に信号処理チップSCgが搭載されたダイパッド(チッ
プが搭載される台座)DPcを、リードLDとともに樹
脂パッケージPKに封入して形成した加速度センサを示
した図である。加速度検出チップACgおよび信号処理
チップSCgは、例えばシリコン樹脂やエポキシ樹脂、
低融点ガラス等の絶縁性の接着剤によりダイパッドDP
cに接着される。なお、信号処理チップSCgは、表面
に信号処理用の配線や回路素子等(図示せず)が形成さ
れた半導体基板を備えている。また、ここでは加速度セ
ンサがSOP(Small Outline Package)形である場合
を例示している。
【0010】信号処理チップSCgの表面には、加速度
検出チップACgのパッド電極PDaからの出力を受け
るためのパッド電極PDbと処理後の信号をリードLD
を介して外部に出力するためのパッド電極PDcとが形
成されている。なお、各パッド電極とリードLDとの間
および各パッド電極間はAu等からなるボンディングワ
イヤWRで接続されている。
【0011】また、加速度検出チップACg上には、樹
脂パッケージPKの封入時に可動電極MEの形成部分に
樹脂が入り込まないようにするための保護キャップCP
dが形成されている。この保護キャップCPdは導電性
であって、加速度検出チップACg上にさらに形成され
たパッド電極PDfを介して外部から接地電位を与えら
れ、加速度検出部ASをシールドする機能も有してい
る。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】図24に示した従来の
加速度センサの構造では、加速度検出チップACgと信
号処理チップSCgとをダイパッドDPc上に並べて配
置するために、面積の大きいダイパッドを用いざるを得
ず、その結果、加速度センサの小型化を図ることは困難
であった。
【0013】そこで、この発明の課題は、加速度検出チ
ップと信号処理チップとを備える加速度センサにおい
て、両チップの配置を改善して加速度センサの小型化を
図ることにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、加速度に応じて変位する可動部を含む加速度検出部
を有し、前記可動部の変位に応じた電気信号を出力する
加速度検出チップと、貫通孔を有し、前記加速度検出チ
ップの出力する前記電気信号を処理する回路が形成され
た信号処理チップと、前記加速度検出チップおよび前記
信号処理チップが接着されたダイパッドとを備え、前記
ダイパッド上において前記加速度検出チップは前記信号
処理チップの有する前記貫通孔内に配置された加速度セ
ンサである。
【0015】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の加速度センサであって、前記貫通孔を覆うよう前記信
号処理チップに接着されたキャップと、少なくとも前記
信号処理チップと前記キャップとの接着部を覆う樹脂封
入パッケージとをさらに備える加速度センサである。
【0016】請求項3に記載の発明は、請求項2に記載
の加速度センサであって、前記キャップは平板状であっ
て、その周縁に切れ込み部を有し、前記切れ込み部にお
いて前記加速度検出チップと前記信号処理チップとの間
の電気的接続がなされ、前記切れ込み部には絶縁材が充
填される加速度センサである。
【0017】請求項4に記載の発明は、請求項1に記載
の加速度センサであって、前記加速度検出チップの前記
加速度検出部を覆うよう前記加速度検出チップに接着さ
れたキャップと、少なくとも前記加速度検出チップと前
記キャップとの接着部を覆う樹脂封入パッケージとをさ
らに備える加速度センサである。
【0018】請求項5に記載の発明は、第1主面と、前
記第1主面に対向する第2主面とを有し、加速度に応じ
て変位する可動部を含む加速度検出部が前記第1主面に
形成され、前記可動部の変位に応じた電気信号を出力す
る加速度検出チップと、第1主面と、前記第1主面に対
向する第2主面と、前記加速度検出チップの出力する前
記電気信号を処理する回路とを有する信号処理チップ
と、前記加速度検出チップの前記第2主面が接着される
ダイパッドと、樹脂封入パッケージとを備え、前記信号
処理チップの前記第2主面が前記加速度検出部を覆いつ
つ前記加速度検出チップの前記第1主面に接着され、前
記樹脂封入パッケージは少なくとも前記加速度検出チッ
プおよび前記信号処理チップの接着部を覆う加速度セン
サである。
【0019】請求項6に記載の発明は、請求項5に記載
の加速度センサであって、前記信号処理チップの前記第
2主面に窪み部が形成され、前記加速度検出チップの前
記加速度検出部は前記信号処理チップの前記窪み部に収
まるよう形成された加速度センサである。
【0020】請求項7に記載の発明は、請求項5に記載
の加速度センサであって、前記加速度検出チップは、前
記電気信号を出力するための第1電極と、第2電極と、
前記第2電極に電気的に接続され、前記信号処理チップ
に覆われない第3電極とを前記第1主面上にさらに有
し、前記信号処理チップは、前記加速度検出チップの前
記第1電極に接続される第1電極と、前記加速度検出チ
ップの前記第2電極に接続される第2電極とを前記第2
主面上にさらに有し、少なくとも前記加速度検出部を囲
むよう前記加速度検出チップの前記第1主面上に枠状に
形成された接着剤により、前記信号処理チップの前記第
2主面が前記加速度検出チップの前記第1主面に接着さ
れた加速度センサである。
【0021】請求項8に記載の発明は、第1主面と、前
記第1主面に対向する第2主面とを有し、加速度に応じ
て変位する可動部を含む加速度検出部が前記第1主面に
形成され、前記可動部の変位に応じた電気信号を出力す
る加速度検出チップと、前記加速度検出チップの出力す
る前記電気信号を処理する回路を有する信号処理チップ
と、前記加速度検出チップの前記第1主面が接着される
第1主面と、前記第1主面に対向する第2主面とを有す
るダイパッドと、少なくとも前記加速度検出チップと前
記ダイパッドとの接着部を覆う樹脂封入パッケージとを
備える加速度センサである。
【0022】請求項9に記載の発明は、請求項8に記載
の加速度センサであって、前記信号処理チップは前記ダ
イパッドの前記第2主面に接着され、前記ダイパッドに
は貫通孔が形成され、前記加速度検出チップは、前記電
気信号を前記信号処理チップに出力するための電極を前
記ダイパッドの前記貫通孔に露出するように前記第1主
面上にさらに有する加速度センサである。
【0023】請求項10に記載の発明は、請求項8に記
載の加速度センサであって、前記加速度検出チップは前
記第1主面に窪み部を有し、前記加速度検出部は前記窪
み部に形成される加速度センサである。
【0024】請求項11に記載の発明は、請求項8に記
載の加速度センサであって、前記信号処理チップは前記
加速度検出チップの前記第2主面に接着される加速度セ
ンサである。
【0025】請求項12に記載の発明は、請求項8に記
載の加速度センサであって、少なくとも前記加速度検出
部を囲むよう前記加速度検出チップの前記第1主面上に
枠状に形成された接着剤により、前記加速度検出チップ
の前記第1主面が前記ダイパッドの前記第1主面に接着
された加速度センサである。
【0026】
【発明の実施の形態】<実施の形態1>図1ないし図3
はこの発明の実施の形態1に係る加速度センサを示す図
である。なお、図1は斜視図であり、図2は図1中の切
断線A1−A1における断面図を、図3は図1中の切断
線B1−B1における断面図をそれぞれ示している。
【0027】この加速度センサは、ダイパッドDPaと
リードLDとを備えている。また、ダイパッドDPa上
には、加速度検出チップACgと同様、加速度検出部A
Sを備える加速度検出チップACaと、信号処理チップ
SCaとが搭載されている。加速度検出チップACaお
よび信号処理チップSCaは、例えばシリコン樹脂やエ
ポキシ樹脂、低融点ガラス等の絶縁性の接着剤によりダ
イパッドDPaに接着される。そして、ダイパッドDP
a、リードLD、加速度検出チップACaおよび信号処
理チップSCaが樹脂封入パッケージPKにより封入さ
れている。
【0028】ただし、図1においては、表示が煩瑣にな
るのを避けるため、リードLD、リードLDに接続され
るボンディングワイヤWRおよび樹脂封入パッケージP
Kについては表示していない。なお、本実施の形態にお
いても、図24に示した従来の加速度センサと同様、加
速度センサがSOP形である場合を例示している。
【0029】加速度検出チップACaの表面には、加速
度検出部ASから出力される電気信号を出力するための
パッド電極PDaが設けられ、信号処理チップSCaの
表面には、加速度検出チップACaのパッド電極PDa
からの出力を受けるためのパッド電極PDbと処理後の
信号をリードLDを介して外部に出力するためのパッド
電極PDcとが形成されている。なお、信号処理チップ
SCaの表面には、信号処理チップSCgと同様、信号
処理のための配線や回路素子等(図示せず)が形成され
ている。そして、パッド電極PDaとパッド電極PDb
との間およびパッド電極PDcとリードLDとの間が、
Au等からなるボンディングワイヤWRで接続されてい
る。
【0030】さて、本実施の形態にかかる加速度センサ
においては、両チップの配置は図24に示した従来の加
速度センサの場合とは異なる。すなわち、加速度検出チ
ップACaは、信号処理チップSCaに設けられた貫通
孔HL1の内部に配置される。このように、信号処理チ
ップSCaに設けられた貫通孔HL1の内部に加速度検
出チップACaを配置すれば、加速度検出チップを信号
処理チップと並べてダイパッド上に配置する場合よりも
ダイパッドの面積を小さくできる。よって、加速度セン
サを小型化することができる。
【0031】なお、もちろん信号処理チップSCaの表
面のうち貫通孔HL1の存在するところには信号処理用
の回路は形成されていない。また、図1では加速度検出
チップACaと信号処理チップSCaとは、いくらかの
空間を隔てて設けられているが、両者が接触するように
配置されても、各チップに形成された回路間の絶縁性が
保たれておれば問題はない。
【0032】なお、貫通孔HL1は、例えば、信号処理
チップSCaの表面に信号処理用の回路を形成した後、
表面をフォトレジスト等で保護し、信号処理チップの裏
面からエッチングを行うことで形成される。このエッチ
ングを行う際には、フォトリソグラフィ技術が用いられ
る。すなわち、フォトレジストでエッチングマスクを形
成し、エッチングマスクにパターニングを行った後、エ
ッチャントに信号処理チップSCaを曝すことでエッチ
ングが行われる。
【0033】また、本実施の形態にかかる加速度センサ
は、樹脂封入パッケージPKの形成時に加速度検出部A
Sに樹脂が流入するのを防ぐために貫通孔HL1を覆う
キャップCPaをも有している。なお、図1では貫通孔
HL1内の様子を示すために、キャップCPaを破線で
表示している。
【0034】このキャップCPaは、信号処理チップS
Caの表面の配線や回路を短絡しないように絶縁性素材
で形成されており、信号処理チップSCaの表面のうち
貫通孔HL1付近にシリコン樹脂やエポキシ樹脂、低融
点ガラス等の絶縁性の接着剤で接着される。
【0035】なお、キャップCPaに加速度検出部AS
をシールドする機能を持たせたい場合には、信号処理チ
ップSCaに接する部分を除いてキャップCPaの表面
を金属メッキするなどして、キャップCPaに導電性材
料を形成すればよい。
【0036】本実施の形態にかかる加速度センサを用い
れば、加速度検出チップACaが信号処理チップSCa
の有する貫通孔HL1内に配置されるので、加速度検出
チップを信号処理チップと並べてダイパッド上に配置す
る場合よりも加速度センサを小型化することができる。
【0037】<実施の形態2>本実施の形態は、実施の
形態1にかかる加速度センサの変形例であり、具体的に
は、加速度検出チップおよび信号処理チップ上のパッド
電極の位置とキャップの形状とが実施の形態1とは異な
っている。
【0038】図4ないし図6はこの発明の実施の形態2
に係る加速度センサを示す図である。なお、図4は斜視
図であり、図5は図4中の切断線A2−A2における断
面図を、図6は図4中の切断線B2−B2における断面
図をそれぞれ示している。また、図4ないし図6では実
施の形態1にかかる加速度センサと同様の機能を有する
要素については同一符号を付している。
【0039】この加速度センサは、ダイパッドDPaと
リードLDとを備えている。また、ダイパッドDPa上
には、加速度検出チップACaと同様、加速度検出部A
Sを備える加速度検出チップACbと、信号処理チップ
SCbとが接着されている。加速度検出チップACbお
よび信号処理チップSCbは、例えばシリコン樹脂等の
接着剤によりダイパッドDPaに接着される。また、信
号処理チップSCbには貫通孔HL1が設けられ、貫通
孔HL1の内部に加速度検出チップACbが配置されて
いる。また、貫通孔HL1を覆うようにキャップCPb
が信号処理チップSCbの表面に設けられている。そし
て、ダイパッドDPa、リードLD、加速度検出チップ
ACb、信号処理チップSCbおよびキャップCPbが
樹脂封入パッケージPKにより封入されている。
【0040】ただし、図4においては、表示が煩瑣にな
るのを避けるため、リードLD、リードLDに接続され
るボンディングワイヤWRおよび樹脂封入パッケージP
Kについては表示していない。また、キャップCPbに
ついては破線で表示している。なお、本実施の形態にお
いても、実施の形態1にかかる加速度センサと同様、加
速度センサがSOP形である場合を例示している。
【0041】加速度検出チップACbの表面には、加速
度検出部ASから出力される電気信号を出力するための
パッド電極PDaが設けられ、信号処理チップSCbの
表面には、加速度検出チップACbのパッド電極PDa
からの出力を受けるためのパッド電極PDbと処理後の
信号をリードLDを介して外部に出力するためのパッド
電極PDcとが形成されている。なお、信号処理チップ
SCbの表面には、信号処理チップSCaと同様、信号
処理のための配線や回路素子等(図示せず)が形成され
ている。そして、パッド電極PDaとパッド電極PDb
との間およびパッド電極PDcとリードLDとの間が、
Au等からなるボンディングワイヤWRで接続されてい
る。
【0042】さて、本実施の形態における加速度センサ
においては、キャップCPbの形状が、実施の形態1に
かかる加速度センサにおいて示したキャップCPaの形
状と異なって平板状であり、その周縁に切れ込み部NT
が設けられている。そして、切れ込み部NTにおいてパ
ッド電極PDaとパッド電極PDbとの間のボンディン
グワイヤWRによる接続がなされ、切れ込み部NTを埋
めるように高粘性の絶縁材ISが設けられている。図4
ないし図6では例として、加速度検出チップACbの四
隅にパッド電極PDaが設けられ、パッド電極PDaに
接続される信号処理チップSCbのパッド電極PDbが
貫通孔HL1の四隅の近傍に設けられている。
【0043】このように、平板状であって、その周縁に
切れ込み部が設けられたキャップCPbを用いれば、実
施の形態1において用いられたキャップCPaよりもそ
の高さを低く抑えることができる。よって、厚みの少な
い加速度センサを実現することができる。また、切れ込
み部には絶縁材ISが充填されるので、樹脂封入してパ
ッケージ化する際に加速度検出チップの加速度検出部に
樹脂が流入することはない。なお、絶縁材ISは高粘性
であるので加速度検出部に到達することはない。
【0044】なお、このキャップCPbはキャップCP
aと同様、信号処理チップSCbの表面の配線や回路を
短絡しないように絶縁性素材で形成されており、信号処
理チップSCbの表面のうち貫通孔HL1付近にシリコ
ン樹脂等の接着剤で接着される。
【0045】なお、キャップCPbに加速度検出部AS
をシールドする機能を持たせたい場合には、キャップC
Paと同様、信号処理チップSCbに接する部分を除い
てキャップCPbの表面を金属メッキするなどして、キ
ャップCPbに導電性材料を形成すればよい。
【0046】その他の構成は実施の形態1にかかる加速
度センサと同様のため、説明を省略する。
【0047】<実施の形態3>本実施の形態は、実施の
形態1にかかる加速度センサの変形例であり、具体的に
は、貫通孔を覆うキャップの代わりに、加速度検出部の
みを覆うキャップを採用する点のみが異なっている。
【0048】図7ないし図9はこの発明の実施の形態3
に係る加速度センサを示す図である。なお、図7は斜視
図であり、図8は図7中の切断線A3−A3における断
面図を、図9は図7中の切断線B3−B3における断面
図をそれぞれ示している。また、図7ないし図9では実
施の形態1にかかる加速度センサと同様の機能を有する
要素については同一符号を付している。
【0049】さて、本実施の形態における加速度センサ
においては、キャップCPcが、実施の形態1にかかる
加速度センサにおいて示したキャップCPaと異なって
加速度検出部ASのみを覆うよう加速度検出チップAC
a上に設けられる。キャップがこのような構造であって
も、樹脂封入してパッケージ化する際に加速度検出チッ
プACaの加速度検出部ASに樹脂が流入することはな
い。
【0050】なお、このキャップCPcはキャップCP
aと同様、加速度検出チップACaの表面の配線を短絡
しないように絶縁性素材で形成されており、加速度検出
チップACaの表面のうち加速度検出部AS付近にシリ
コン樹脂等の接着剤で接着される。
【0051】また、キャップCPcに加速度検出部AS
をシールドする機能を持たせたい場合には、キャップC
Paと同様、加速度検出チップACaに接する部分を除
いてキャップCPcの表面を金属メッキするなどして、
キャップCPcに導電性材料を形成すればよい。
【0052】その他の構成は実施の形態1にかかる加速
度センサと同様のため、説明を省略する。
【0053】<実施の形態4>図10ないし図12はこ
の発明の実施の形態4に係る加速度センサを示す図であ
る。なお、図10は斜視図であり、図11は図10中の
切断線A4−A4における断面図を、図12は図10中
の切断線B4−B4における断面図をそれぞれ示してい
る。
【0054】この加速度センサは、ダイパッドDPaと
リードLDとを備えている。また、ダイパッドDPa上
には、加速度検出部ASを備える加速度検出チップAC
cが設けられている。そして、加速度検出チップACc
上に信号処理チップSCcが設けられている。加速度検
出チップACcおよび信号処理チップSCcは、例えば
シリコン樹脂等の絶縁性の接着剤によりダイパッドDP
aおよび加速度検出チップACcにそれぞれ接着され
る。そして、ダイパッドDPa、リードLD、加速度検
出チップACcおよび信号処理チップSCcが樹脂封入
パッケージPKにより封入されている。
【0055】ただし、図10においては、表示が煩瑣に
なるのを避けるため、リードLD、リードLDに接続さ
れるボンディングワイヤWRおよび樹脂封入パッケージ
PKについては表示していない。なお、本実施の形態に
おいても、実施の形態1にかかる加速度センサと同様、
加速度センサがSOP形である場合を例示している。な
お、図10においては、加速度検出部ASを示すために
信号処理チップSCcを破線で表示している。
【0056】加速度検出チップACcの上面には、加速
度検出部ASから出力される電気信号を出力するための
パッド電極PDaが設けられ、信号処理チップSCcの
上面には、加速度検出チップACcのパッド電極PDa
からの出力を受けるためのパッド電極PDbと処理後の
信号をリードLDを介して外部に出力するためのパッド
電極PDcとが形成されている。なお、信号処理チップ
SCcの上面には、信号処理チップSCaと同様、信号
処理のための配線や回路素子等(図示せず)が形成され
ている。そして、パッド電極PDaとパッド電極PDb
との間およびパッド電極PDcとリードLDとの間が、
Au等からなるボンディングワイヤWRで接続されてい
る。
【0057】さて、本実施の形態にかかる加速度センサ
においては、両チップの配置は実施の形態1にかかる加
速度センサの場合とは異なり、信号処理チップSCcは
加速度検出チップACcの上部に配置されている。この
ように、信号処理チップSCcを加速度検出チップAC
cの上部に配置すれば、加速度検出チップを信号処理チ
ップと並べてダイパッド上に配置する場合よりもダイパ
ッドの面積を小さくできる。よって、加速度センサを小
型化することができる。
【0058】なお、信号処理チップSCcは、絶縁性の
接着剤により加速度検出チップACcに接着されるの
で、加速度検出チップACcの上面のうち信号処理チッ
プSCcに覆われているところには、加速度検出部AS
からの電気信号の出力をパッド電極PDaに伝えるため
の配線(図示せず)が形成されていてもよい。
【0059】また、信号処理チップSCcの下面には窪
み部CVaが形成されている。そして、加速度検出チッ
プACcの上面のうち加速度検出部ASが形成された部
分が窪み部CVa内に収まるよう、窪み部CVaが配置
されている。このようにすれば、加速度検出部ASの可
動電極MEが信号処理チップSCcの下面と接触しない
ようにすることができる。
【0060】本実施の形態にかかる加速度センサを用い
れば、加速度検出チップACcの下面がダイパッドDP
aに接着され、信号処理チップSCcの下面が加速度検
出チップACcの上面に接着されるので、加速度検出チ
ップを信号処理チップと並べてダイパッド上に配置する
場合よりもダイパッドの面積を小さくできる。よって、
加速度センサを小型化することができる。また、樹脂封
入パッケージPKにより加速度検出チップACc、信号
処理チップSCcおよびダイパッドDPaが覆われるの
で、金属パッケージを用いる場合に比べ小型化が可能で
ある。
【0061】さらに、加速度検出チップACcの加速度
検出部ASは、加速度検出チップACcの上面に形成さ
れており、また、信号処理チップSCcの下面が加速度
検出チップACcの上面に接着されていることから、加
速度検出部ASが露出することはなく、樹脂封入してパ
ッケージ化する際に加速度検出部ASに樹脂が流入する
ことはない。よって、加速度検出部ASを覆うキャップ
を設ける必要がなく、部品点数が少なくなり、コストを
低く抑えることができる。また、加速度検出部ASが信
号処理チップSCcの下面の窪み部に収まるので、可動
電極MEが信号処理チップSCcの下面に接触しないよ
うにすることができる。
【0062】なお、本実施の形態にかかる加速度センサ
に類似する技術として、特開平6−242141号公報
に記載の技術や特開平8−15300号公報に記載の技
術が存在する。しかし、これらの技術はいずれも樹脂封
入パッケージを形成する際の加速度検出部ASへの樹脂
の流入防止という観点を有しておらず、本願発明とはこ
の点において相違する。
【0063】<実施の形態5>図13ないし図15はこ
の発明の実施の形態5に係る加速度センサを示す図であ
る。なお、図13は斜視図であり、図14は図13中の
切断線A5−A5における断面図を、図15は図13中
の切断線B5−B5における断面図をそれぞれ示してい
る。
【0064】この加速度センサは、ダイパッドDPaと
リードLDとを備えている。また、ダイパッドDPa上
には、加速度検出部ASを備える加速度検出チップAC
dが設けられている。そして、加速度検出チップACd
上に信号処理チップSCdが設けられている。加速度検
出チップACdは、例えばシリコン樹脂等の絶縁性の接
着剤によりダイパッドDPaに接着される。また、信号
処理チップSCdは、少なくとも加速度検出部ASを囲
むよう加速度検出チップACd上に枠状に形成された、
例えばシリコン樹脂等の絶縁性の接着剤BDにより加速
度検出チップACdに接着される。そして、ダイパッド
DPa、リードLD、加速度検出チップACdおよび信
号処理チップSCdが樹脂封入パッケージPKにより封
入されている。
【0065】ただし、図13においては、表示が煩瑣に
なるのを避けるため、リードLD、リードLDに接続さ
れるボンディングワイヤWRおよび樹脂封入パッケージ
PKについては表示していない。なお、本実施の形態に
おいても、実施の形態1にかかる加速度センサと同様、
加速度センサがSOP形である場合を例示している。な
お、図13においては、加速度検出部ASを示すために
信号処理チップSCdを破線で表示している。
【0066】加速度検出チップACdの上面には、加速
度検出部ASから出力される電気信号を出力するための
パッド電極PDaが設けられている。そしてさらに、信
号処理チップSCdからの出力を受けるパッド電極PD
dと、リードLDへの接続用のパッド電極PDeと、パ
ッド電極PDdとパッド電極PDeとを接続するための
配線ILaとが加速度検出チップACdの上面に設けら
れている。
【0067】一方、信号処理チップSCdの上面には、
実施の形態4と異なりパッド電極や信号処理のための配
線、回路素子等は設けられず、それらは信号処理チップ
SCdの下面に設けられる。すなわち、信号処理チップ
SCdの下面には、加速度検出チップACdのパッド電
極PDaからの出力を受けるためのパッド電極PDbと
処理後の信号を出力するためのパッド電極PDcと、信
号処理のための配線や回路素子等(図示せず)とが形成
されている。
【0068】そして、パッド電極PDaとパッド電極P
Dbとが、およびパッド電極PDcとパッド電極PDd
とが、それぞれ直接、接続されている。
【0069】本実施の形態にかかる加速度センサを用い
れば、実施の形態4にかかる加速度センサの場合と同
様、信号処理チップSCdが加速度検出チップACdの
上部に配置されている。よって、加速度検出チップを信
号処理チップと並べてダイパッド上に配置する場合より
もダイパッドの面積を小さくでき、加速度センサを小型
化することができる。また、樹脂封入パッケージPKに
より加速度検出チップACd、信号処理チップSCdお
よびダイパッドDPaが覆われるので、金属パッケージ
を用いる場合に比べ小型化が可能である。
【0070】さらに、本実施の形態にかかる加速度セン
サにおいては、信号処理チップSCdの上面にではなく
下面に、パッド電極PDb,PDcが設けられて、直
接、加速度検出チップACdのパッド電極PDa,PD
dと接続されるので、両チップ間での電気的接続にボン
ディングワイヤを用いる必要がない。よって、ボンディ
ングワイヤを用いる場合に発生しやすいワイヤ流れ(樹
脂封入してパッケージ化する際に樹脂の流動によってボ
ンディングワイヤが流れてしまう現象のこと)が起こら
ずに生産性を向上させることができる。
【0071】さらに、少なくとも加速度検出部ASを囲
むよう加速度検出チップACdの上面に枠状に形成され
た接着剤BDにより、信号処理チップSCdの下面が加
速度検出チップACdの上面に接着されることから、各
電極が存在するために両チップを密着させることができ
なくても、加速度検出部ASが露出することはなく、樹
脂封入してパッケージ化する際に加速度検出部ASに樹
脂が流入することはない。よって、加速度検出部ASを
覆うキャップを設ける必要がなく、部品点数が少なくな
り、コストを低く抑えることができる。
【0072】なお、本実施の形態にかかる加速度センサ
に類似する技術として、特開平11−94506号公報
に記載の技術が存在する。しかし、この技術も樹脂封入
パッケージを形成する際の加速度検出部ASへの樹脂の
流入防止という観点を有しておらず、本願発明とはこの
点において相違する。
【0073】<実施の形態6>図16ないし図18はこ
の発明の実施の形態6に係る加速度センサを示す図であ
る。なお、図16は斜視図であり、図17は図16中の
切断線A6−A6における断面図を、図18は図16中
の切断線B6−B6における断面図をそれぞれ示してい
る。
【0074】この加速度センサは、貫通孔HL2を有す
るダイパッドDPbとリードLDとを備えている。そし
て、ダイパッドDPbの下面には、加速度検出部ASを
上面に備える加速度検出チップACeの上面が接着され
ている。なお、加速度検出部ASは加速度検出チップA
Ceの上面に形成された窪み部CVb内に形成されてい
る。このように加速度検出部ASが窪み部CVbに形成
されるので、可動電極MEがダイパッドの下面に接触し
ないようにすることができる。
【0075】そして、ダイパッドDPbの上面に信号処
理チップSCeが設けられている。加速度検出チップA
Ceおよび信号処理チップSCeは、例えばシリコン樹
脂等の絶縁性の接着剤によりダイパッドDPbにそれぞ
れ接着される。そして、ダイパッドDPb、リードL
D、加速度検出チップACeおよび信号処理チップSC
eが樹脂封入パッケージPKにより封入されている。
【0076】ただし、図16においては、表示が煩瑣に
なるのを避けるため、リードLD、リードLDに接続さ
れるボンディングワイヤWRおよび樹脂封入パッケージ
PKについては表示していない。なお、本実施の形態に
おいても、実施の形態1にかかる加速度センサと同様、
加速度センサがSOP形である場合を例示している。な
お、図16においては、加速度検出部ASおよび窪み部
CVbを破線で表示している。
【0077】また、加速度検出チップACeの上面に
は、加速度検出部ASから出力される電気信号を出力す
るためのパッド電極PDaが設けられている。このパッ
ド電極PDaはダイパッドDPbの貫通孔HL2に露出
している。そして、信号処理チップSCeの上面には、
加速度検出チップACeのパッド電極PDaからの出力
を受けるためのパッド電極PDbと処理後の信号をリー
ドLDを介して外部に出力するためのパッド電極PDc
とが形成されている。パッド電極PDaがダイパッドD
Pbの貫通孔HL2に露出しているので、加速度検出チ
ップACeと信号処理チップSCeとの間で電気的に接
続をとることができる。なお、信号処理チップSCeの
上面には、信号処理チップSCaと同様、信号処理のた
めの配線や回路素子等(図示せず)が形成されている。
そして、パッド電極PDaとパッド電極PDbとの間お
よびパッド電極PDcとリードLDとの間が、Au等か
らなるボンディングワイヤWRで接続されている。
【0078】さて、本実施の形態にかかる加速度センサ
においては、両チップの配置は実施の形態1にかかる加
速度センサの場合とは異なり、信号処理チップSCeは
ダイパッドDPbの上面に、加速度検出チップACeは
ダイパッドDPbの下面にそれぞれ配置されている。こ
のように配置すれば、加速度検出チップを信号処理チッ
プと並べてダイパッド上に配置する場合よりもダイパッ
ドの面積を小さくできる。よって、加速度センサを小型
化することができる。
【0079】本実施の形態にかかる加速度センサを用い
れば、加速度検出チップACeの上面がダイパッドDP
bの下面に接着され、信号処理チップSCeの下面がダ
イパッドDPbの上面に接着されるので、加速度検出チ
ップを信号処理チップと並べてダイパッド上に配置する
場合よりもダイパッドの面積を小さくできる。よって、
加速度センサを小型化することができる。
【0080】また、樹脂封入パッケージPKにより加速
度検出チップACe、信号処理チップSCeおよびダイ
パッドDPbが覆われるので、金属パッケージを用いる
場合に比べ小型化が可能である。
【0081】さらに、加速度検出チップACeの加速度
検出部ASは、加速度検出チップACeの上面に形成さ
れており、また、加速度検出チップACeの上面がダイ
パッドDPbの下面に接着されていることから、加速度
検出部ASが露出することはなく、樹脂封入してパッケ
ージ化する際に加速度検出部ASに樹脂が流入すること
はない。よって、加速度検出部ASを覆うキャップを設
ける必要がなく、部品点数が少なくなり、コストを低く
抑えることができる。また、加速度検出部ASが加速度
検出チップACeの上面の窪み部に収まるので、可動電
極MEがダイパッドDPbの下面に接触しないようにす
ることができる。
【0082】<実施の形態7>図19ないし図21はこ
の発明の実施の形態7に係る加速度センサを示す図であ
る。なお、図19は斜視図であり、図20は図19中の
切断線A7−A7における断面図を、図21は図19中
の切断線B7−B7における断面図をそれぞれ示してい
る。
【0083】この加速度センサは、ダイパッドDPaと
リードLDとを備えている。そして、ダイパッドDPa
の上面には、加速度検出部ASを下面に備える加速度検
出チップACfの下面が接着剤BDを介して接着されて
いる。なお、接着剤BDは例えばシリコン樹脂等の絶縁
性の接着剤であり、少なくとも加速度検出部ASを囲む
よう加速度検出チップACfの下面に枠状に形成され
る。このように加速度検出チップACfの下面が接着剤
BDを介してダイパッドDPaの上面に接着されている
ので、接着剤BDの厚みの分だけ、加速度検出部ASの
可動電極MEがダイパッドDPaの上面に接触しないよ
うにすることができる。
【0084】そして、加速度検出チップACfの上面に
信号処理チップSCfが設けられている。信号処理チッ
プSCfは、例えばシリコン樹脂等の絶縁性の接着剤に
より加速度検出チップACfに接着される。そして、ダ
イパッドDPa、リードLD、加速度検出チップACf
および信号処理チップSCfが樹脂封入パッケージPK
により封入されている。
【0085】ただし、図19においては、表示が煩瑣に
なるのを避けるため、リードLD、リードLDに接続さ
れるボンディングワイヤWRおよび樹脂封入パッケージ
PKについては表示していない。なお、本実施の形態に
おいても、実施の形態1にかかる加速度センサと同様、
加速度センサがSOP形である場合を例示している。な
お、図19においては、加速度検出チップACfを破線
で表示している。
【0086】また、加速度検出チップACfの下面に
は、加速度検出部ASから出力される電気信号を出力す
るためのパッド電極PDaが設けられている。このパッ
ド電極PDaはダイパッドDPa上に設けられた配線I
Lbに接続されている。そして、信号処理チップSCf
の上面には、配線ILbに接続されたボンディングワイ
ヤWRが接続されるパッド電極PDbと、処理後の信号
をリードLDを介して外部に出力するためのパッド電極
PDcとが形成されている。パッド電極PDaがダイパ
ッドDPa上の配線ILbに接続されているので、加速
度検出チップACfと信号処理チップSCfとの間で電
気的に接続をとることができる。なお、信号処理チップ
SCfの上面には、信号処理チップSCaと同様、信号
処理のための配線や回路素子等(図示せず)が形成され
ている。そして、パッド電極PDcとリードLDとの間
が、Au等からなるボンディングワイヤWRで接続され
ている。
【0087】さて、本実施の形態にかかる加速度センサ
においては、両チップの配置は実施の形態1にかかる加
速度センサの場合とは異なり、信号処理チップSCfは
加速度検出チップACfの上面に、加速度検出チップA
CfはダイパッドDPaの上面にそれぞれ配置されてい
る。このように配置すれば、加速度検出チップを信号処
理チップと並べてダイパッド上に配置する場合よりもダ
イパッドの面積を小さくできる。よって、加速度センサ
を小型化することができる。
【0088】本実施の形態にかかる加速度センサを用い
れば、加速度検出チップACfの下面がダイパッドDP
aの上面に接着され、信号処理チップSCfの下面が加
速度検出チップACfの上面に接着されるので、加速度
検出チップを信号処理チップと並べてダイパッド上に配
置する場合よりもダイパッドの面積を小さくできる。よ
って、加速度センサを小型化することができる。
【0089】また、樹脂封入パッケージPKにより加速
度検出チップACf、信号処理チップSCfおよびダイ
パッドDPaが覆われるので、金属パッケージを用いる
場合に比べ小型化が可能である。
【0090】さらに、加速度検出チップACfの加速度
検出部ASは、加速度検出チップACfの下面に形成さ
れており、また、加速度検出チップACfの下面がダイ
パッドDPaの上面に接着されていることから、加速度
検出部ASが露出することはなく、樹脂封入してパッケ
ージ化する際に加速度検出部ASに樹脂が流入すること
はない。よって、加速度検出部ASを覆うキャップを設
ける必要がなく、部品点数が少なくなり、コストを低く
抑えることができる。また、少なくとも加速度検出部A
Sを囲むよう加速度検出チップACfの下面に枠状に形
成された接着剤BDにより、加速度検出チップACfの
下面がダイパッドDPaの上面に接着されるので、接着
剤BDの厚みの分だけ、加速度検出部ASの可動電極M
EがダイパッドDPaの上面に接触しないようにするこ
とができる。
【0091】
【発明の効果】請求項1に記載の発明によれば、加速度
検出チップが信号処理チップの有する貫通孔内に配置さ
れるので、加速度検出チップを信号処理チップと並べて
ダイパッド上に配置する場合よりもダイパッドの面積を
小さくできる。よって、加速度センサを小型化すること
ができる。
【0092】請求項2に記載の発明によれば、樹脂封入
パッケージを備えるので金属パッケージを用いる場合に
比べ、小型化及び低コスト化が可能である。また、キャ
ップを備えるので、樹脂封入パッケージを形成する際に
加速度検出チップの加速度検出部に樹脂が流入すること
はない。
【0093】請求項3に記載の発明によれば、キャップ
は平板状であって、その周縁に切れ込み部を有し、切れ
込み部において加速度検出チップと信号処理チップとの
間の電気的接続がなされるので、厚みの少ない加速度セ
ンサを実現することができる。また、切れ込み部には絶
縁材が充填されるので、樹脂封入パッケージを形成する
際に加速度検出チップの加速度検出部に樹脂が流入する
ことはない。
【0094】請求項4に記載の発明によれば、樹脂封入
パッケージを備えるので金属パッケージを用いる場合に
比べ、小型化及び低コスト化が可能である。また、キャ
ップを備えるので、樹脂封入パッケージを形成する際に
加速度検出チップの加速度検出部に樹脂が流入すること
はない。
【0095】請求項5に記載の発明によれば、加速度検
出チップがその第2主面においてダイパッドに接着さ
れ、信号処理チップの第2主面が加速度検出チップの第
1主面に接着されるので、加速度検出チップを信号処理
チップと並べてダイパッド上に配置する場合よりもダイ
パッドの面積を小さくできる。よって、加速度センサを
小型化することができる。また、樹脂封入パッケージを
備えるので、金属パッケージを用いる場合に比べ小型化
及び低コスト化が可能である。さらに、信号処理チップ
の第2主面が加速度検出部を覆いつつ加速度検出チップ
の第1主面に接着されるので、樹脂封入パッケージを形
成する際に加速度検出チップの加速度検出部に樹脂が流
入することはない。よって、加速度検出部を覆うキャッ
プを設ける必要がなく、部品点数が少なくなり、コスト
を低く抑えることができる。
【0096】請求項6に記載の発明によれば、加速度検
出部が信号処理チップの第2主面の窪み部に収まるの
で、可動部が信号処理チップの第2主面に接触しないよ
うにすることができる。
【0097】請求項7に記載の発明によれば、加速度検
出チップの第1電極に接続される第1電極と、加速度検
出チップの第2電極に接続される第2電極とを信号処理
チップがさらに有するので、両チップ間での電気的接続
にボンディングワイヤを用いる必要がない。よって、ボ
ンディングワイヤを用いる場合に発生しやすいワイヤ流
れが起こらずに生産性を向上させることができる。ま
た、少なくとも加速度検出部を囲むよう加速度検出チッ
プの第1主面上に枠状に形成された接着剤により、信号
処理チップの第2主面が加速度検出チップの第1主面に
接着されるので、各電極が存在するために両チップを密
着させることができなくても、樹脂封入パッケージを形
成する際に加速度検出チップの加速度検出部に樹脂が流
入することはない。よって、加速度検出部を覆うキャッ
プを設ける必要がなく、部品点数が少なくなり、コスト
を低く抑えることができる。
【0098】請求項8に記載の発明によれば、樹脂封入
パッケージを備えるので、金属パッケージを用いる場合
に比べ小型化及び低コスト化が可能である。さらに、加
速度検出チップがその第1主面においてダイパッドの第
1主面に接着されるので、樹脂封入パッケージを形成す
る際に加速度検出チップの加速度検出部に樹脂が流入す
ることはない。よって、加速度検出部を覆うキャップを
設ける必要がなく、部品点数が少なくなり、コストを低
く抑えることができる。
【0099】請求項9に記載の発明によれば、加速度検
出チップがその第1主面においてダイパッドの第1主面
に接着され、信号処理チップがダイパッドの第2主面に
接着されるので、加速度検出チップを信号処理チップと
並べてダイパッド上に配置する場合よりもダイパッドの
面積を小さくできる。よって、加速度センサを小型化す
ることができる。また、ダイパッドに貫通孔が形成さ
れ、加速度検出チップが、電気信号を出力するための電
極をダイパッドの貫通孔に露出するように第1主面上に
さらに有するので、加速度検出チップの電極を信号処理
チップに電気的に接続することができる。
【0100】請求項10に記載の発明によれば、加速度
検出部は前記窪み部に形成されるので、可動部がダイパ
ッドの第1主面に接触しないようにすることができる。
【0101】請求項11に記載の発明によれば、信号処
理チップが加速度検出チップの第2主面に接着されるの
で、加速度検出チップを信号処理チップと並べてダイパ
ッド上に配置する場合よりもダイパッドの面積を小さく
できる。よって、加速度センサを小型化することができ
る。
【0102】請求項12に記載の発明によれば、少なく
とも加速度検出部を囲むよう加速度検出チップの第1主
面上に枠状に形成された接着剤により、加速度検出チッ
プの第1主面がダイパッドの第1主面に接着されるの
で、接着剤の厚みの分だけ、加速度検出部の可動部がダ
イパッドの第1主面に接触しないようにすることができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 実施の形態1に係る加速度センサを示す斜視
図である。
【図2】 実施の形態1に係る加速度センサを示す断面
図である。
【図3】 実施の形態1に係る加速度センサを示す断面
図である。
【図4】 実施の形態2に係る加速度センサを示す斜視
図である。
【図5】 実施の形態2に係る加速度センサを示す断面
図である。
【図6】 実施の形態2に係る加速度センサを示す断面
図である。
【図7】 実施の形態3に係る加速度センサを示す斜視
図である。
【図8】 実施の形態3に係る加速度センサを示す断面
図である。
【図9】 実施の形態3に係る加速度センサを示す断面
図である。
【図10】 実施の形態4に係る加速度センサを示す斜
視図である。
【図11】 実施の形態4に係る加速度センサを示す断
面図である。
【図12】 実施の形態4に係る加速度センサを示す断
面図である。
【図13】 実施の形態5に係る加速度センサを示す斜
視図である。
【図14】 実施の形態5に係る加速度センサを示す断
面図である。
【図15】 実施の形態5に係る加速度センサを示す断
面図である。
【図16】 実施の形態6に係る加速度センサを示す斜
視図である。
【図17】 実施の形態6に係る加速度センサを示す断
面図である。
【図18】 実施の形態6に係る加速度センサを示す断
面図である。
【図19】 実施の形態7に係る加速度センサを示す斜
視図である。
【図20】 実施の形態7に係る加速度センサを示す断
面図である。
【図21】 実施の形態7に係る加速度センサを示す断
面図である。
【図22】 加速度検出チップを示す上面図である。
【図23】 加速度検出チップを示す断面図である。
【図24】 従来の加速度センサを示す上面図である。
【符号の説明】
ACa〜ACg 加速度検出チップ、SCa〜SCg
信号処理チップ、DPa,DPb ダイパッド、AS
加速度検出部、HL1,HL2 貫通孔、CPa〜CP
d キャップ、PK 樹脂封入パッケージ、NT 切れ
込み部、IS絶縁材、BD 接着剤、PDa〜PDe
電極パッド、CVa,CVb 窪み部。

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 加速度に応じて変位する可動部を含む加
    速度検出部を有し、前記可動部の変位に応じた電気信号
    を出力する加速度検出チップと、 貫通孔を有し、前記加速度検出チップの出力する前記電
    気信号を処理する回路が形成された信号処理チップと、 前記加速度検出チップおよび前記信号処理チップが接着
    されたダイパッドとを備え、 前記ダイパッド上において前記加速度検出チップは前記
    信号処理チップの有する前記貫通孔内に配置された加速
    度センサ。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の加速度センサであっ
    て、 前記貫通孔を覆うよう前記信号処理チップに接着された
    キャップと、 少なくとも前記信号処理チップと前記キャップとの接着
    部を覆う樹脂封入パッケージとをさらに備える加速度セ
    ンサ。
  3. 【請求項3】 請求項2に記載の加速度センサであっ
    て、 前記キャップは平板状であって、その周縁に切れ込み部
    を有し、 前記切れ込み部において前記加速度検出チップと前記信
    号処理チップとの間の電気的接続がなされ、 前記切れ込み部には絶縁材が充填される加速度センサ。
  4. 【請求項4】 請求項1に記載の加速度センサであっ
    て、 前記加速度検出チップの前記加速度検出部を覆うよう前
    記加速度検出チップに接着されたキャップと、 少なくとも前記加速度検出チップと前記キャップとの接
    着部を覆う樹脂封入パッケージとをさらに備える加速度
    センサ。
  5. 【請求項5】 第1主面と、前記第1主面に対向する第
    2主面とを有し、加速度に応じて変位する可動部を含む
    加速度検出部が前記第1主面に形成され、前記可動部の
    変位に応じた電気信号を出力する加速度検出チップと、 第1主面と、前記第1主面に対向する第2主面と、前記
    加速度検出チップの出力する前記電気信号を処理する回
    路とを有する信号処理チップと、 前記加速度検出チップの前記第2主面が接着されるダイ
    パッドと、 樹脂封入パッケージとを備え、 前記信号処理チップの前記第2主面が前記加速度検出部
    を覆いつつ前記加速度検出チップの前記第1主面に接着
    され、 前記樹脂封入パッケージは少なくとも前記加速度検出チ
    ップおよび前記信号処理チップの接着部を覆う加速度セ
    ンサ。
  6. 【請求項6】 請求項5に記載の加速度センサであっ
    て、 前記信号処理チップの前記第2主面に窪み部が形成さ
    れ、 前記加速度検出チップの前記加速度検出部は前記信号処
    理チップの前記窪み部に収まるよう形成された加速度セ
    ンサ。
  7. 【請求項7】 請求項5に記載の加速度センサであっ
    て、 前記加速度検出チップは、前記電気信号を出力するため
    の第1電極と、第2電極と、前記第2電極に電気的に接
    続され、前記信号処理チップに覆われない第3電極とを
    前記第1主面上にさらに有し、 前記信号処理チップは、前記加速度検出チップの前記第
    1電極に接続される第1電極と、前記加速度検出チップ
    の前記第2電極に接続される第2電極とを前記第2主面
    上にさらに有し、 少なくとも前記加速度検出部を囲むよう前記加速度検出
    チップの前記第1主面上に枠状に形成された接着剤によ
    り、前記信号処理チップの前記第2主面が前記加速度検
    出チップの前記第1主面に接着された加速度センサ。
  8. 【請求項8】 第1主面と、前記第1主面に対向する第
    2主面とを有し、加速度に応じて変位する可動部を含む
    加速度検出部が前記第1主面に形成され、前記可動部の
    変位に応じた電気信号を出力する加速度検出チップと、 前記加速度検出チップの出力する前記電気信号を処理す
    る回路を有する信号処理チップと、 前記加速度検出チップの前記第1主面が接着される第1
    主面と、前記第1主面に対向する第2主面とを有するダ
    イパッドと、 少なくとも前記加速度検出チップと前記ダイパッドとの
    接着部を覆う樹脂封入パッケージとを備える加速度セン
    サ。
  9. 【請求項9】 請求項8に記載の加速度センサであっ
    て、 前記信号処理チップは前記ダイパッドの前記第2主面に
    接着され、 前記ダイパッドには貫通孔が形成され、 前記加速度検出チップは、前記電気信号を前記信号処理
    チップに出力するための電極を前記ダイパッドの前記貫
    通孔に露出するように前記第1主面上にさらに有する加
    速度センサ。
  10. 【請求項10】 請求項8に記載の加速度センサであっ
    て、 前記加速度検出チップは前記第1主面に窪み部を有し、 前記加速度検出部は前記窪み部に形成される加速度セン
    サ。
  11. 【請求項11】 請求項8に記載の加速度センサであっ
    て、 前記信号処理チップは前記加速度検出チップの前記第2
    主面に接着される加速度センサ。
  12. 【請求項12】 請求項8に記載の加速度センサであっ
    て、 少なくとも前記加速度検出部を囲むよう前記加速度検出
    チップの前記第1主面上に枠状に形成された接着剤によ
    り、前記加速度検出チップの前記第1主面が前記ダイパ
    ッドの前記第1主面に接着された加速度センサ。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004304189A (ja) * 2003-03-31 2004-10-28 Robert Bosch Gmbh 積層パッケージングを使用して包囲されたセンサ構造体を保護する方法
JP2006060178A (ja) * 2004-08-24 2006-03-02 Dainippon Printing Co Ltd センサーパッケージ
WO2006123788A1 (ja) * 2005-05-19 2006-11-23 Rohm Co., Ltd. Mems素子、memsデバイス、およびmems素子の製造方法
JP2006321016A (ja) * 2005-05-19 2006-11-30 Rohm Co Ltd Memsパッケージ
JP2009063550A (ja) * 2007-09-10 2009-03-26 Rohm Co Ltd 半導体センサ装置
JP2009063551A (ja) * 2007-09-10 2009-03-26 Rohm Co Ltd 半導体センサ装置
JP2015052571A (ja) * 2013-09-09 2015-03-19 株式会社東芝 歪検知装置及びその製造方法

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040016995A1 (en) * 2002-07-25 2004-01-29 Kuo Shun Meen MEMS control chip integration
JP4165360B2 (ja) 2002-11-07 2008-10-15 株式会社デンソー 力学量センサ
JP4156946B2 (ja) * 2003-02-26 2008-09-24 三菱電機株式会社 加速度センサ
US20040226373A1 (en) * 2003-05-12 2004-11-18 Hitachi Metals, Ltd. Acceleration sensor device
US6995462B2 (en) 2003-09-17 2006-02-07 Micron Technology, Inc. Image sensor packages
JP4277079B2 (ja) * 2004-06-18 2009-06-10 Okiセミコンダクタ株式会社 半導体加速度センサ装置及びその製造方法
KR100823469B1 (ko) 2005-09-16 2008-04-21 히타치 긴조쿠 가부시키가이샤 변위 검출 장치
JP2007078641A (ja) * 2005-09-16 2007-03-29 Hitachi Metals Ltd 変位検出装置
FR2909656B1 (fr) * 2006-12-12 2009-12-04 Thales Sa Relais de cablage et boitier de protection de micro-systeme electromecanique.
DE202007014048U1 (de) 2007-10-08 2007-12-13 Nivag Handelsgesellschaft Mbh Nothammer mit weiteren Funktionen als Hülle eines Mehrzweckwerkzeugs
DE102007057441B4 (de) * 2007-11-29 2019-07-11 Robert Bosch Gmbh Verfahren zur Herstellung eines mikromechanischen Bauelements mit einem volumenelastischen Medium und mikromechanischen Bauelement
DE102012013096A1 (de) * 2012-06-30 2014-01-02 X-Fab Semiconductor Foundries Ag Verfahren zur Herstellung von komplexen mikroelektromechanischen Systemen
US9250262B1 (en) * 2013-02-01 2016-02-02 Maxim Integrated Products, Inc. Method and apparatus for an integrated isolation mechanical filter with substrate based package
WO2016121453A1 (ja) * 2015-01-26 2016-08-04 日立オートモティブシステムズ株式会社 半導体センサ装置
JP7010737B2 (ja) * 2018-03-15 2022-01-26 エイブリック株式会社 半導体装置およびその製造方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04332868A (ja) * 1991-05-08 1992-11-19 Nec Corp 半導体加速度センサ
JPH06242141A (ja) 1993-02-22 1994-09-02 Tokai Rika Co Ltd 半導体加速度センサ
FR2710741B1 (fr) * 1993-09-30 1995-10-27 Commissariat Energie Atomique Capteur électronique destiné à la caractérisation de grandeurs physiques et procédé de réalisation d'un tel capteur.
JPH0815300A (ja) 1994-06-29 1996-01-19 Takata Kk 衝突検出センサ
JP3278363B2 (ja) * 1996-11-18 2002-04-30 三菱電機株式会社 半導体加速度センサ
EP0886144B1 (en) * 1997-06-19 2006-09-06 STMicroelectronics S.r.l. A hermetically sealed sensor with a movable microstructure
JP3962499B2 (ja) * 1999-01-27 2007-08-22 三菱電機株式会社 半導体加速度センサ及びその製造方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004304189A (ja) * 2003-03-31 2004-10-28 Robert Bosch Gmbh 積層パッケージングを使用して包囲されたセンサ構造体を保護する方法
JP2006060178A (ja) * 2004-08-24 2006-03-02 Dainippon Printing Co Ltd センサーパッケージ
WO2006123788A1 (ja) * 2005-05-19 2006-11-23 Rohm Co., Ltd. Mems素子、memsデバイス、およびmems素子の製造方法
JP2006321016A (ja) * 2005-05-19 2006-11-30 Rohm Co Ltd Memsパッケージ
US7977757B2 (en) 2005-05-19 2011-07-12 Rohm Co., Ltd. MEMS element, MEMS device and MEMS element manufacturing method
JP2009063550A (ja) * 2007-09-10 2009-03-26 Rohm Co Ltd 半導体センサ装置
JP2009063551A (ja) * 2007-09-10 2009-03-26 Rohm Co Ltd 半導体センサ装置
JP2015052571A (ja) * 2013-09-09 2015-03-19 株式会社東芝 歪検知装置及びその製造方法

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