JP2001228096A

JP2001228096A - 欠陥検査装置

Info

Publication number: JP2001228096A
Application number: JP2000036395A
Authority: JP
Inventors: Koichiro Komatsu; 宏一郎小松
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 2000-02-15
Filing date: 2000-02-15
Publication date: 2001-08-24

Abstract

(57)【要約】【課題】基板上の繰り返しパターンの線幅が従来装置
における下限値（照明光源の波長に基づく下限値）を超
えて微細な場合でも、照明光源の波長を短くすることな
く基板の欠陥検査を行える簡易な欠陥検査装置を提供す
る。【解決手段】基板１１を照明する照明光学系１３と、
基板１１からの回折光を受光する受光光学系１４とを備
え、受光光学系１４により得られた基板１１の像に基づ
いて基板１１の欠陥を検査する欠陥検査装置１０であっ
て、液体１９を保持する容器１６を備えたものである。
液体１９は、基板１１の少なくとも受光光学系１４が配
置された側の所定面１１ａに付着した状態で容器１６に
保持される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板の欠陥検査装
置に関し、特に、基板上のむらや傷などを検査する欠陥
検査装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、半導体ウエハや液晶基板（総
じて「基板」という）の表面に形成された繰り返しパタ
ーンからの回折光を利用し、表面のむらや傷などの欠陥
を自動検査する装置が提案されている（例えば特開平１
０-２３２１２２号公報）。基板表面の欠陥箇所と正常
箇所とでは回折効率が異なるため、繰り返しパターンか
らの回折光に基づく画像には明るさの相違が現れ、画像
の明暗により欠陥箇所を特定できる。欠陥箇所は、例え
ば、露光機のディフォーカスによって繰り返しパターン
の断面形状が変化した箇所や、レジストの膜厚が変化し
た箇所である。

【０００３】図３は、従来装置の一例を示す側面図であ
る。検査対象の基板５１は、検査時、ステージ５２上に
載置され、照明光学系５３からの平行な照明光Ｌ１１に
よって照明される。そして、照明光Ｌ１１によって照明
された基板５１からは、繰り返しパターンの箇所が欠陥
か正常かに応じた回折効率で回折光Ｌ１２が発生する。

【０００４】回折光Ｌ１２を受光する受光光学系５４は
固定されているため、ステージ５２をＸ方向に沿った軸
まわりにチルトさせることで、回折光Ｌ１２を受光光学
系５４に導くことができる。ステージ５２のチルト角
は、回折の条件にしたがって予め求められる。回折の条
件は、照明光Ｌ１１の波長λおよび入射角θi、回折光
Ｌ１２の回折角θkおよび回折次数ｋ、繰り返しパター
ンのピッチｐを用いると、次式(１)で表すことができ
る。

【数１】式(１)において、入射角θiは、基板５１の法線を基準
として入射側に見込む角度方向をプラス、反射側に見込
む角度方向をマイナスとする。回折角θkは、基板５１
の法線を基準として入射側に見込む角度方向をマイナ
ス、反射側に見込む角度方向をプラスとする。回折次数
ｋは、ｋ＝０の０次回折光（正反射光）を基準として入
射側に見込む角度方向をプラス、反射側に見込む角度方
向をマイナスとする。

【０００５】回折の条件（式(１)）にしたがうステージ
５２のチルトによって受光光学系５４に導かれた回折光
Ｌ１２は、受光光学系５４の撮像素子５５にて受光さ
れ、基板５１の像に基づく信号が画像処理部５６に出力
される。そして、この画像処理部５６において基板５１
の欠陥箇所が特定される。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記式
(１)において基板５１に形成された繰り返しパターンの
ピッチが小さくなると、同じ回折次数ｋの回折光におい
ては式(１)の右辺が大きくなるため、回折角θｋは大き
くなってしまう。

【０００７】ところが、ｓｉｎ関数は上限値が１である
ため、｜sinθｋ｜＞１となる場合には回折光を生じな
い（｜｜は絶対値を示す）。１次および−１次の回折光
について｜sinθ₁｜＞１かつ｜sinθ_-1｜＞１となる場
合には、回折光を生じなくなってしまい検査を行うこと
ができない。また、入射角θiを大きくすることによっ
て回折光の生じるピッチを大きくすることができるが、
式(１)において、左辺の取り得る最大値は２である。よ
って、原理的に検査可能なピッチは、照明光源５７の波
長λの１／２以上ということになる。

【０００８】例えば、照明光源５７の波長λが可視域
（０.４μｍ〜０.７μｍ）内である０．４μｍの場合に
は、０.２μｍの繰り返しパターンのピッチまで原理的
に検査可能となる。これより小さいピッチの繰り返しパ
ターンを検査するには、より波長の短い紫外線を用いる
必要がある。ところが、紫外線を用いる場合には、紫外
光源の種類が限定されること、さらに、そのランニング
コストが増大すること、光学素子の材料も限定されてし
まい、装置の構成に大きな障害となる。

【０００９】本発明の目的は、基板上の繰り返しパター
ンのピッチが従来装置における下限値（照明光源の波長
に基づく下限値）を超えて微細な場合でも、照明光源の
波長を短くすることなく基板の欠陥検査を行える簡易な
欠陥検査装置を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は、基板を照明す
る照明光学系と、基板からの回折光を受光する受光光学
系とを備え、受光光学系により得られた基板の像に基づ
いて基板の欠陥を検査する欠陥検査装置であって、液体
を保持する容器を備えたものである。液体は、基板の少
なくとも受光光学系が配置された側の所定面に付着した
状態で容器に保持される。

【００１１】このため、基板の所定面に繰り返しパター
ンが形成されている場合には、液体の中に発生した回折
光が受光光学系に導かれて受光される。液体中は空気中
よりも屈折率が大きく、液体中での実質的な光の波長は
照明光源の波長よりも短いため、繰り返しパターンのピ
ッチが従来装置（空気中での検査）における下限値（照
明光源の波長に基づく下限値）を超えて微細な場合で
も、回折光が得られる。

【００１２】また、繰り返しパターンが所定面とは反対
側の面に形成されている場合には、透明な基板の内部に
発生した回折光が、所定面を介して液体の中に導かれ、
受光光学系で受光される。基板中は空気中よりも屈折率
が大きく、基板中での実質的な光の波長は照明光源の波
長よりも短いため、繰り返しパターンのピッチが従来装
置における下限値を超えて微細な場合でも、回折光が得
られる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の実施
形態を詳細に説明する。（第１実施形態）本発明の第１実施形態は、請求項１〜
請求項３に対応する。第１実施形態の欠陥検査装置１０
は、図１に示すように、ウエハ１１を載置する検査ステ
ージ１２と、検査ステージ１２上のウエハ１１を照明す
る照明光学系１３と、照明光学系１３によって照明され
たウエハ１１からの回折光を受光する受光光学系１４
と、受光光学系１４により得られたウエハ１１の像に基
づいて欠陥の有無を検出する画像処理装置１５と、液体
容器１６とで構成されている。

【００１４】このうち、検査ステージ１２は、Ｘ方向に
沿った軸まわりにチルト可能である。この検査ステージ
１２は、液体容器１６の内部に配置されている。照明光
学系１３は、光源２１と凹面反射鏡２２とで構成された
偏心光学系である。光源２１は、可視域（０.４μｍ〜
０.７μｍ）の光束Ｌ１を射出する。光源２１の射出面
は、凹面反射鏡２２の焦点面に配置される。凹面反射鏡
２２は、球面の内側を反射面とした反射鏡であり、検査
ステージ１２の斜め上方に配置される。照明光学系１３
の光軸Ｏ１はＺＹ面に平行である。

【００１５】受光光学系１４は、凹面反射鏡２３と、絞
り２４と、レンズ２５と、ＣＣＤ撮像素子２６とで構成
された偏心光学系である。凹面反射鏡２３は、上記の凹
面反射鏡２２と同様の反射鏡であり、検査ステージ１２
の斜め上方に配置される。絞り２４は、凹面反射鏡２３
の焦点面に配置される。絞り２４の位置は、上記した光
源２１の射出面と共役である。レンズ２５の焦点面に
は、ＣＣＤ撮像素子２６の撮像面が配置される。なお、
受光光学系１４の光軸Ｏ２はＺＹ面に平行である。

【００１６】画像処理装置１５は、ＣＣＤ撮像素子２６
で取り込んだ画像の画像処理を行う他に、画像の光量を
モニタする。また、画像処理装置１５は、検査中のウエ
ハ１１の像と予め記憶させておいた良品ウエハの像との
パターンマッチングを行い、良品ウエハの像の特徴と異
なる部分があるかどうかを判断する。回折画像に明暗の
ムラがある場合は、その部分の明暗差や特徴の違いから
欠陥箇所を特定する。

【００１７】さて、液体容器１６には、照明光学系１３
の光軸Ｏ１に対し垂直な平行平板ガラス（照明窓）１７
と、受光光学系１４の光軸Ｏ２に対し垂直な平行平板ガ
ラス（受光窓）１８とが設けられている。そして、液体
容器１６と照明窓１７と受光窓１８とで囲まれた空間
は、液体１９（例えば水）で満たされる。したがって、
液体容器１６の内部に配置された検査ステージ１２上の
ウエハ１１は、その表面１１ａに液体１９が付着した状
態となる。ウエハ１１の表面１１ａは、請求項１の「所
定面」に対応する。

【００１８】なお、液体１９中は空気中よりも屈折率ｎ
１が大きく(ｎ１＞１)、液体１９中での実質的な光の波
長λ１は光源２１の波長λよりも短くなる。例えば、液
体１９が水の場合、屈折率ｎ１は１.３３である。さら
に、光源２１の波長λが０．４μｍの場合、液体１９中
での波長λ１は０.３μｍとなる。

【００１９】上記のように構成された欠陥検査装置１０
において、光源２１から射出された光束Ｌ１（波長λ）
は、凹面反射鏡２２で反射したのち略平行な光束（照明
光Ｌ２）となって照明窓１７に入射する。照明光Ｌ２は
照明窓１７に垂直入射するため、屈折によって進行方向
が変化することはない。照明窓１７を通過した照明光Ｌ
２は、液体１９の中を進行し、検査ステージ１２に載置
されたウエハ１１の表面１１ａに照射される。この照明
光Ｌ２によって、ウエハ１１の全面が照明される。ウエ
ハ１１の表面１１ａには、繰り返しパターンが形成され
ている。

【００２０】そして、ウエハ１１の表面１１ａに形成さ
れた繰り返しパターンからは、液体１９中に回折光Ｌ３
が発生する。液体１９中での光の波長λ１は光源２１の
波長λよりも短いため、繰り返しパターンのピッチが従
来装置における下限値（光源２１の波長λに基づく下限
値）を超えて微細な場合でも、回折光Ｌ３が得られる。
回折光Ｌ３を受光する受光光学系１４は固定されている
ため、以下の回折の条件（式(２)）にしたがって検査ス
テージ１２をチルトさせることで、回折光Ｌ３を受光光
学系１４に導くことができる。

【００２１】この場合の回折の条件は、光源２１の真空
中での波長λ、照明光Ｌ２の入射角θi、回折光Ｌ１２
の回折角θkおよび回折次数ｋ、繰り返しパターンのピ
ッチｐ、液体１９の屈折率ｎ１を用いると、次式(２)で
表すことができる。なお、式(２)における入射角θi，
回折角θk，回折次数ｋの基準および符号は、上記式
(１)と同じである。

【数２】ウエハ１１上の繰り返しパターンから発生した回折光Ｌ
３は、液体１９の中を進行し、受光窓１８に垂直入射す
る。回折光Ｌ３は受光窓１８に垂直入射するため、屈折
によって進行方向が変化することはない。これにより、
回折光Ｌ３を空気中に取り出すことができる。

【００２２】受光窓１８を通過した回折光Ｌ３は、凹面
反射鏡２３で反射したのち略平行な光束Ｌ４となって絞
り２４に到達する。そして、絞り２４を通過した回折光
Ｌ５が、レンズ２５によってＣＣＤ撮像素子２６の撮像
面上に集光される。ＣＣＤ撮像素子２６の撮像面上に
は、回折光Ｌ５によるウエハ１１の像が形成される。Ｃ
ＣＤ撮像素子２６はウエハ１１の像に基づく信号を画像
処理装置１５に対し出力する。そして、画像処理装置１
５においてウエハ１１の表面１１ａの欠陥箇所が特定さ
れる。

【００２３】上記のように、第１実施形態の欠陥検査装
置１０では、液体容器１６内に液体１９が満たされ、ウ
エハ１１の表面１１ａに液体１９が付着しているため、
表面１１ａに入射する照明光Ｌ２および表面１１ａから
発生した回折光Ｌ３の波長λ１が光源２１の波長λより
も短くなる。その結果、表面１１ａに形成された繰り返
しパターンのピッチが従来装置における下限値（光源２
１の波長λに基づく下限値）を超えて微細な場合でも、
ウエハ１１の表面１１ａの欠陥検査を行うことができ
る。

【００２４】例えば、光源２１の波長λが０．４μｍ
（可視域）の場合、従来装置では繰り返しパターンのピ
ッチが約０．２μｍ以下になるとウエハ１１の表面１１
ａの欠陥検査を行うことができなかったが、第１実施形
態の欠陥検査装置１０によれば、従来装置における下限
値（０．２μｍ）を超えて微細な０．１５μｍの繰り返
しパターンであっても欠陥検査を行うことができる（液
体１９が水の場合）。なお、光源２１の波長λが０．４
μｍのときに従来装置で検査可能な最小ピッチを０．２
μｍと説明したが、この値はあくまでも理論限界であ
り、実際には受光光学系１４で被検面を検査するために
ある程度角度が必要なことから、実質的な最小ピッチは
０．３μｍ程度となる。

【００２５】また、水よりも屈折率の高い油（例えばイ
マージョンオイルやシリコンオイルなど）を液体１９と
して用いることにより、液体１９が水の場合と比較して
さらに繰り返しパターンが微細な場合でも、ウエハ１１
の表面１１ａの欠陥を検査できる。一般に、従来装置に
おける下限値に液体１９の屈折率ｎ１の逆数を掛けたピ
ッチの繰り返しパターンまで検査を行うことができる。

【００２６】さらに、ウエハ１１の表面１１ａに入射す
る照明光Ｌ２および表面１１ａから発生する回折光Ｌ３
の波長λ１が液体１９中(ｎ１＞１)で光源２１の波長λ
よりも短くなるため、光源２１の波長λ自体の短波長化
（光源２１の交換など）が不要となり、上記の微細パタ
ーンによる欠陥検査が簡易な装置構成で実現する。な
お、照明光学系１３および受光光学系１４を液体１９中
に配置することも可能である。しかし、屈折光学系では
ガラスと液体との屈折率差がガラスと空気との屈折率差
よりも小さくなるよう構成することが難しいため、本実
施形態のように、照明光学系１３，受光光学系１４を空
気中に配置し、照明窓１７，受光窓１８を介して光を出
し入れする方が望ましい。

【００２７】また、ウエハ１１の繰り返しパターンから
発生する回折光Ｌ３は、パターン断面形状の影響を強く
受けるので、本発明を現像装置に組み込み、液体１９と
して現像液を使用し、所定の回折光の光量をモニターす
ることにより、現像の進行状態をモニターでき、終点検
出に用いることができる。さらに、この方法では、ウエ
ハ全面をリアルタイムでモニターできるので、現像液の
撹拌の状態を必要に応じて変化させ、現像むらの発生を
抑えることも可能となる。

【００２８】（第２実施形態）本発明の第２実施形態
は、請求項１，請求項２に対応する。第２実施形態で
は、ディスプレイとして用いられる液晶基板の欠陥検査
に好適な装置を説明する。液晶基板は、ガラスに多数の
画素や駆動回路が形成されたものであり、駆動回路の部
分が繰り返しパターンに相当する。液晶基板は透明なた
め、繰り返しパターンからの回折光が液晶基板の内部に
も発生する。液晶基板（ガラス）の屈折率は１.５〜１.
７程度である。第２実施形態の欠陥検査装置３０は、液
晶基板の内部に発生した回折光を利用し、欠陥検査を行
うものである。

【００２９】欠陥検査装置３０は、図２に示すように、
液晶基板３１を照明する光源３２（照明光学系）と、液
晶基板３１からの回折光Ｌ６を受光する受光光学系３３
と、液晶基板３１の透過光Ｌ７を受光する受光光学系３
４と、得られた液晶基板３１の像に基づいて欠陥の有無
を検出する画像処理装置３５と、液体容器３６とで構成
されている。なお、液晶基板３１は不図示のステージに
より支持され、Ｙ方向に沿って移動可能である。

【００３０】光源３２は、液体容器３６の上方に配置さ
れ、可視域（０.４μｍ〜０.７μｍ）の光束（照明光Ｌ
５）を斜め下方に向けて射出する。照明光Ｌ５は、Ｘ方
向に沿ったライン状である。受光光学系３３は、レンズ
４１と一次元撮像素子４２とで構成されており、液体容
器３６の斜め下方に配置される。レンズ４１の焦点面に
は、一次元撮像素子４２の撮像面が配置される。

【００３１】受光光学系３４は、レンズ４３と一次元撮
像素子４４とで構成されており、液体容器３６の斜め下
方に配置される。レンズ４３の焦点面には、一次元撮像
素子４４の撮像面が配置される。画像処理装置３５は、
一次元撮像素子４２，４４で取り込んだ画像の画像処理
を行う他に、画像の光量をモニタする。また、画像処理
装置３５は、検査中の液晶基板３１の像と予め記憶させ
ておいた良品像とのパターンマッチングを行い、回折画
像に明暗のムラがある場合は、その部分の明暗差や特徴
の違いから欠陥箇所を特定する。

【００３２】さて、液体容器３６には、受光光学系３
３，３４の光軸Ｏ３，Ｏ４に対し垂直な平行平板ガラス
（受光窓）３７，３８が底部付近に設けられている。そ
して、この液体容器３６には、液体３９（例えば水）が
入っている。液体３９の液面３９ａは、不図示のステー
ジにより支持された液晶基板３１の裏面３１ｂにほぼ一
致する高さとなっている。したがって、液晶基板３１の
裏面３１ｂに液体３９が付着した状態となる。液晶基板
３１の裏面３１ｂは、請求項１の「所定面」に対応す
る。

【００３３】なお、液晶基板３１の繰り返しパターン
は、裏面３１ｂとは反対側の表面３１ａに形成されてい
る。この表面３１ａは、空気中にある。上記のように構
成された欠陥検査装置３０において、光源３２からの照
明光Ｌ５（波長λ）は、液晶基板３１の繰り返しパター
ンが形成された表面３１ａに照射される。この照明光Ｌ
５によって、液晶基板３１の表面３１ａの１ラインが照
明される。

【００３４】そして、表面３１ａ上の繰り返しパターン
からは、液晶基板３１の内部に回折光Ｌ６が発生する。
液晶基板３１中での光の波長λ２は光源３２の波長λよ
りも短いため、繰り返しパターンのピッチが従来装置に
おける下限値（光源３２の波長λに基づく下限値）を超
えて微細な場合でも、回折光Ｌ６が得られる。繰り返し
パターンからの回折光Ｌ６は、液晶基板３１の内部を進
行し、液晶基板３１の裏面３１ｂに到達する。裏面３１
ｂには液体３９が付着しているため、回折光Ｌ６が裏面
３１ｂで全反射することはない。したがって、回折光Ｌ
６は裏面３１ｂを通過して液体３９中に導かれる。

【００３５】裏面３１ｂを通過した回折光Ｌ６は、液体
３９の中を進行して、受光窓３７に垂直入射する。この
ため、回折光Ｌ６は、受光窓３７を通過して空気中に導
かれ、レンズ４１によって一次元撮像素子４２の撮像面
上に集光される。一次元撮像素子４２の撮像面上には、
回折光Ｌ６による液晶基板３１の回折像が形成される。
一次元撮像素子４２は液晶基板３１の回折像に基づく信
号を画像処理装置３５に対し出力する。

【００３６】一方、液晶基板３１からの透過光Ｌ７は、
上記の回折光Ｌ６と同様、裏面３１ｂを通過して液体３
９中を進行し、受光窓３８に垂直入射する。このため、
透過光Ｌ７は、受光窓３８を通過して空気中に導かれ、
レンズ４３によって一次元撮像素子４４の撮像面上に集
光される。一次元撮像素子４４の撮像面上には、透過光
Ｌ７による液晶基板３１の透過像が形成される。一次元
撮像素子４４は液晶基板３１の透過像に基づく信号を画
像処理装置３５に対し出力する。

【００３７】このような一次元撮像素子４２，４４から
の１ライン出力は、液晶基板３１を液面３９ａに沿って
Ｙ方向に移動させながら行われる。そして、画像処理装
置３５では、一次元撮像素子４２からの回折像の信号に
基づいて液晶基板３１の表面３１ａの欠陥箇所が特定さ
れる。なお、一次元撮像素子４４からの透過像の信号
は、表面３１ａの欠陥箇所の特定に当たって適宜利用さ
れる。

【００３８】上記のように、第２実施形態の欠陥検査装
置３０では、液晶基板３１の内部に発生し、光源３２の
波長λ（例えば０．４μｍ）よりも短い波長λ１（例え
ば０．２５μｍ）の回折光Ｌ６を利用する。さらに、液
体容器３６内に液体３９が満たされ、液晶基板３１の裏
面３１ｂに液体３９を付着させたため、液晶基板３１の
内部に発生した回折光Ｌ６が裏面３１ｂを介して液体３
９中に導かれる。その結果、表面３１ａに形成された繰
り返しパターンのピッチが従来装置における下限値（光
源３２の波長λに基づく下限値）を超えて微細な場合で
も、液晶基板３１の表面３１ａの欠陥検査を行うことが
できる。

【００３９】例えば、光源３２の波長λが０．４μｍ
（可視域）の場合、従来装置では繰り返しパターンのピ
ッチが約０．２μｍ以下になると欠陥検査を行うことが
できなかったが、第２実施形態の欠陥検査装置３０によ
れば、従来装置における下限値（０．２μｍ）を超えて
微細な０．１３μｍの繰り返しパターンであっても表面
３１ａの欠陥検査を行うことができる。

【００４０】また、液晶基板３１の内部(ｎ２＞１)に発
生した回折光Ｌ６の波長λ２が光源３２の波長λよりも
短いため、光源３２の波長λ自体の短波長化（光源３２
の交換など）が不要となり、また、液晶基板３１の裏面
３１ｂに液体３９を付着させるだけで回折光Ｌ６を取り
出すことができ、上記の微細パターンによる欠陥検査が
簡易な装置構成で実現する。

【００４１】さらに、第２実施形態の欠陥検査装置３０
では、液晶基板３１の表面３１ａが空気中にあり、表面
３１ａに形成された繰り返しパターンが水没しないた
め、検査後の表面３１ａを良好な状態に維持できる。な
お、液体３９には、液晶基板３１（ガラス）と屈折率が
近い物質を用いることが好ましい。

【００４２】上記した第２実施形態では、液晶基板３１
の表面３１を濡らすことなくチルトさせることは難しい
ため、チルトが必要な場合には、受光光学系３３と受光
窓３７とを一体でＸ方向の軸まわりに回転させればよ
い。また、受光光学系３３を液体３９中に配置し、この
受光光学系３３の光軸Ｏ３をＸ方向に沿った軸まわりに
回転させてもよい。

【００４３】また、第２実施形態では、液晶基板３１を
不図示のステージにより支持する例を説明したが、液晶
基板３１を液体３９に浮かせた状態で欠陥検査すること
もできる。さらに、第２実施形態では、液晶基板３１の
繰り返しパターンが形成された表面３１ａを空気中に向
けたが、表面３１ａを液体３９側に向けた場合でも同様
に、微細な繰り返しパターンを利用した欠陥検査を行え
る。

【００４４】また、上述した実施形態では、光源２１，
３２の波長λが可視域の例を説明したが、本発明は、光
源２１，３２の波長λが紫外域（例えば０．１９μｍ）
の場合にも適用できる。この場合、従来装置におけるピ
ッチの下限値（光源２１，３２の波長λに基づく下限
値）は約０．１μｍとなるが、本発明によれば、従来の
下限値（０．１μｍ）を超えて微細な繰り返しパターン
でも欠陥検査を行うことができる。なお、液体１９，３
９として紫外光を透過する物質を選択することが好まし
い。照明窓や受光窓は、石英の平行平板ガラスで構成す
ることが好ましい。

【００４５】また、上記した実施形態では、受光光学系
を受光窓の外に配置する装置の例を説明したが、受光光
学系を配置せず、基板の繰り返しパターンからの回折光
を受光窓を介して目視観察してもよい。

【００４６】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
基板上の繰り返しパターンのピッチが従来装置（空気中
での検査）における下限値（照明光源の波長に基づく下
限値）を超えて微細な場合でも、照明光源の波長を短く
することなく基板の欠陥検査を行える簡易な欠陥検査装
置を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１実施形態の欠陥検査装置１０の構成図であ
る。

【図２】第２実施形態の欠陥検査装置３０の構成図であ
る。

【図３】従来装置の構成図である。

【符号の説明】

１０，３０欠陥検査装置１１ウエハ１２検査ステージ１３照明光学系１４，３３，３４受光光学系１５，３５画像処理装置１６，３６液体容器１７照明窓１８，３７，３８受光窓１９，３９液体２１，３２光源２２，２３凹面反射鏡２４絞り２５，４１，４３レンズ２６ＣＣＤ撮像素子３１液晶基板４２，４４一次元撮像素子

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板を照明する照明光学系と、前記基板
からの回折光を受光する受光光学系とを備え、前記受光
光学系により得られた前記基板の像に基づいて前記基板
の欠陥を検査する欠陥検査装置であって、液体を前記基板の少なくとも前記受光光学系が配置され
た側の所定面に付着させた状態で保持する容器を備えた
ことを特徴とする欠陥検査装置。
【請求項２】請求項１に記載の欠陥検査装置におい
て、前記容器は、前記受光光学系の光軸に対しほぼ垂直な平
板からなる受光窓を有し、該受光窓と前記基板の前記所
定面との間が前記液体で満たされることを特徴とする欠
陥検査装置。
【請求項３】請求項２に記載の欠陥検査装置におい
て、前記照明光学系は、前記基板の前記所定面側に配置さ
れ、前記容器は、前記照明光学系の光軸に対しほぼ垂直な平
板からなる照明窓を有し、該照明窓と前記所定面との間
が前記液体で満たされることを特徴とする欠陥検査装
置。