JP2001223157A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2001223157A5 JP2001223157A5 JP2000305411A JP2000305411A JP2001223157A5 JP 2001223157 A5 JP2001223157 A5 JP 2001223157A5 JP 2000305411 A JP2000305411 A JP 2000305411A JP 2000305411 A JP2000305411 A JP 2000305411A JP 2001223157 A5 JP2001223157 A5 JP 2001223157A5
- Authority
- JP
- Japan
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000305411A JP2001223157A (ja) | 1999-11-30 | 2000-10-04 | 投影露光装置、投影露光方法、及び半導体装置の製造方法 |
| US09/942,667 US6573976B2 (en) | 2000-10-04 | 2001-08-31 | Exposure apparatus, exposure method, and semiconductor device manufacturing method |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11-340779 | 1999-11-30 | ||
| JP34077999 | 1999-11-30 | ||
| JP2000305411A JP2001223157A (ja) | 1999-11-30 | 2000-10-04 | 投影露光装置、投影露光方法、及び半導体装置の製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010277361A Division JP5002704B2 (ja) | 1999-11-30 | 2010-12-13 | 投影露光装置、投影露光方法、及び半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001223157A JP2001223157A (ja) | 2001-08-17 |
| JP2001223157A5 true JP2001223157A5 (enExample) | 2007-11-22 |
Family
ID=26576796
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000305411A Pending JP2001223157A (ja) | 1999-11-30 | 2000-10-04 | 投影露光装置、投影露光方法、及び半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001223157A (enExample) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4840958B2 (ja) * | 2003-10-21 | 2011-12-21 | キヤノン株式会社 | 走査露光装置及びデバイス製造方法 |
| WO2005096354A1 (ja) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Nikon Corporation | 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法、並びに面形状検出装置 |
| US7136148B2 (en) * | 2004-12-23 | 2006-11-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| JP4794882B2 (ja) * | 2005-03-25 | 2011-10-19 | キヤノン株式会社 | 走査型露光装置、走査型露光方法 |
| JP4869425B2 (ja) * | 2010-06-21 | 2012-02-08 | キヤノン株式会社 | 走査型露光装置及びデバイス製造方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0652707B2 (ja) * | 1988-10-11 | 1994-07-06 | キヤノン株式会社 | 面位置検出方法 |
| JP3255299B2 (ja) * | 1992-06-19 | 2002-02-12 | 株式会社ニコン | 位置検出方法及び装置、並びに露光方法及び装置 |
| JP3309927B2 (ja) * | 1993-03-03 | 2002-07-29 | 株式会社ニコン | 露光方法、走査型露光装置、及びデバイス製造方法 |
| JP3376179B2 (ja) * | 1995-08-03 | 2003-02-10 | キヤノン株式会社 | 面位置検出方法 |
| JP3918200B2 (ja) * | 1995-11-16 | 2007-05-23 | 株式会社ニコン | リソグラフィ装置の製造方法及びリソグラフィ装置 |
| JPH10270343A (ja) * | 1997-03-24 | 1998-10-09 | Nikon Corp | ステージ制御方法及び走査型露光装置 |
| JPH10284367A (ja) * | 1997-04-02 | 1998-10-23 | Nikon Corp | 投影露光装置および方法 |
| JPH1167655A (ja) * | 1997-08-11 | 1999-03-09 | Nikon Corp | 走査型露光装置及び同期誤差解析方法 |
| JPH11186129A (ja) * | 1997-12-19 | 1999-07-09 | Nikon Corp | 走査型露光方法及び装置 |
| JPH11219897A (ja) * | 1998-01-30 | 1999-08-10 | Nikon Corp | 検出方法、走査露光方法、走査型露光装置、及びデバイス製造方法 |
| JP2000252192A (ja) * | 1999-02-26 | 2000-09-14 | Nikon Corp | 投影露光方法および投影露光装置 |
| JP3316844B2 (ja) * | 1999-06-14 | 2002-08-19 | 株式会社ニコン | 投影露光装置、投影露光方法、及びデバイス製造方法 |
-
2000
- 2000-10-04 JP JP2000305411A patent/JP2001223157A/ja active Pending